JP2003047902A - スピンコート装置におけるスピンナーヘッド - Google Patents

スピンコート装置におけるスピンナーヘッド

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JP2003047902A
JP2003047902A JP2001239324A JP2001239324A JP2003047902A JP 2003047902 A JP2003047902 A JP 2003047902A JP 2001239324 A JP2001239324 A JP 2001239324A JP 2001239324 A JP2001239324 A JP 2001239324A JP 2003047902 A JP2003047902 A JP 2003047902A
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disk
spinner head
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coating
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JP2001239324A
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Hidenori Ishikawa
秀紀 石川
Maki Sunaga
眞樹 須永
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Canon Inc
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Canon Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来のスピンコート装置におけるスピンナー
ヘッドでは塗布液がディスク裏面に回り込んで付着し、
更には、ディスク裏面と接触して傷が付くことがある。 【解決手段】 台部3のディスク7の端部よりも内側に
塗布液の記録ディスク7の裏面への回り込みを阻止する
遮蔽壁5を周状に設け、台部3の略中央部には所定間隔
を置いて所定高さの第1、第2の保持壁41,42を周
状に設ける。また第1、第2の保持壁の間に吸引口45
を設け、ディスク7を遮蔽壁及び第1、第2の保持壁で
保持することによってディスクと台部の間に隙間を設け
て塗布液を塗布する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、非処理体表面に液
体を供給して被処理体に被膜を形成するスピンコート装
置におけるスピンナーヘッド、特に、記録ディスクに保
護膜を形成するのに好適なスピンナーヘッドに関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】従来、MO、MDのような円盤状記録メ
ディアにおいては磁性層等の保護を目的としてコート剤
をスピンコートにより塗布している。このようなコート
剤を塗布するには、製造工程に図4に示すスピンナーヘ
ッド11を設置し、これにディスク7を固定してコート
剤を塗布している。具体的には、スピンナーヘッド11
の内部に空気の流路46が形成されており、図4に示す
ようにディスク7をスピンナーヘッド11上に載置し、
図示しない吸引ポンプで吸引することによってディスク
7を真空吸着する。また、この状態で、スピンナーヘッ
ド7を矢印で示す方向に回転させてコート剤をディスク
面に供給することでコート剤をディスク面に塗布してい
る。従来のスピンナーヘッドは回転時の真空吸着のた
め、ディスク7の裏面と密着しているのが一般的であ
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のスピンナーヘッドではスピンナーヘッドの上面がデ
ィスクと密着しているために、スピンナーヘッドの最外
周径がディスクより大きい場合にはディスク外端部から
側面に付着する塗布材料が毛細管現象によってディスク
裏面に回り込むという問題があった。また、スピンナー
ヘッドの最外周径がディスクより小さい場合にはディス
ク外周側から遠心力により飛散した樹脂材料のミストが
ディスク裏面側に付着することがあった。更に、スピン
ナーヘッドとディスク7面が密着しているため、ディス
ク面に傷が付きやすく、特に、透過型の光磁気ディスク
のような媒体を製造する場合には、ディスク裏面の記録
領域部にスピンナーヘッドと接触することで傷をつける
ことがあるため、歩留まりの低下を招くという問題があ
った。
【0004】本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされ
たもので、その目的は、塗布液の裏面への回り込みを防
止し、安定して高い歩留まりの塗布を行うことが可能な
スピンコート装置におけるスピンナーヘッドを提供する
ことにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、吸引口
を有する台部を含み、前記台部上に載置された被処理体
を前記吸引口から吸引することにより前記台部上に吸着
固定すると共に、前記台部を回転させることによって供
給された塗布液を前記被処理体の表面に塗布するスピン
ナーヘッドにおいて、前記台部の被処理体の端部よりも
内側に前記塗布液の被処理体の裏面への回り込みを阻止
するための所定高さの遮蔽壁が周状に設けられ、前記台
部の略中央部には所定間隔を置いて所定高さの第1、第
2の保持壁が周状に設けられ、前記第1、第2の保持壁
の間には前記吸引口が設けられており、前記被処理体を
前記遮蔽壁及び第1、第2の保持壁で保持することによ
って、前記被処理体と台部の間に隙間を設けた状態で前
記塗布液を被処理体に塗布することを特徴とするスピン
コート装置におけるスピンナーヘッドによって達成され
る。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。なお、本実施形態では、スピンナー
ヘッドを光記録ディスクの記録層の保護コート剤を塗布
するスピンコート装置に適用した場合を例として説明す
る。図1は本発明のスピンコート装置におけるスピンナ
ーヘッドの一実施形態を示す縦断面図、図2は平面図で
ある。また、図3はスピンナーヘッドに記録層を有し、
中央に開口部を持つディスクをセットした状態を示す縦
断面図である。
【0007】図1において、3は被処理体である記録デ
ィスクを保持固定するための円盤状の台部であり、その
下部の基部2と一体に形成されている。また、台部3の
ほぼ中央部には、径が異なる第1、第2のディスク保持
壁41,42から成るディスク保持部4が周状に設けら
れ、その第1、第2の保持壁41,42の間に吸引口4
5が設けられている。吸引口45は台部3及び基部2内
に形成された流路46に繋がっており、図3に示すよう
に記録ディスク7をディスク保持部4に載置した状態で
吸引ポンプ6によって吸引することにより記録ディスク
7を台部3上に吸引固定する構造である。
【0008】また、台部3上には台部3の端部よりも内
側に円形状の遮蔽壁5が設けられている。これはスピン
コート時の飛散ミストのディスク裏面への回り込みを阻
止するために設けられている。このように飛散ミストの
ディスク裏面への回り込みを防止するためには、第1、
第2のディスク保持壁41,42と遮蔽壁5の高さは同
一とするのがよい。例えば、台部3の台部上面31から
第1、第2のディスク保持壁41,42及び遮蔽壁5の
高さを2mm以下とし、台部3の半径方向の径はディス
ク外周端から5〜10mm程度大きくするのが望まし
い。また、遮蔽壁5の半径方向の位置はスピンコート時
の塗布液がディスク裏面へ毛細管現象によって侵入する
ことを防ぐためにディスク外周端から0.5mm〜1.
0mm内側であることが望ましい。
【0009】更に、本実施形態では図3に示すように記
録ディスク7の記録層形成領域71のディスク裏面側が
スピンナーヘッドと非接触にするために遮蔽壁5の円周
方向の内端は記録層形成領域71の最外部より外側に形
成され、ディスク保持部4の半径方向の最外端は、記録
層形成領域71の最内部より内側に形成されている。ま
た、台部3の中心部におけるディスク保持部4の内側は
台部3の台上面31よりも低くなっており、記録ディス
ク7の中央開口よりも大きい範囲でディスク7とスピン
ナーヘッドの台部3の間に隙間を持つように掘り込み部
32が設けられている。この構造により、ディスク7の
ハンドリングをディスクの中央開口端部で行うことが容
易となり、塗布後の液体が付着するディスク外周部や記
録領域部に触れることなくディスクの取り外し作業を行
うことが可能である。
【0010】本実施形態では、図3に示すように記録デ
ィスク7を台部3上の遮蔽壁5及び第1、第2の保持壁
41,42から成るディスク保持部4上に載置し、吸引
ポンプによって吸引することによってディスク7を吸着
固定する。この状態で、台部3を矢印方向に回転するこ
とによってディスク7の表面に供給されたコート剤をデ
ィスク7の表面に塗布するものである。
【0011】
【実施例】次に、本発明の実施例及び比較例について説
明する。なお、比較例としては図4に示すスピンナーヘ
ッドを用いてコート剤の塗布実験を行い、実施例との比
較を行った。
【0012】(実施例)被処理体である記録ディスク7
としては、図3に示すように直径Φ50.8mmのポリ
カーボネート製で中心部にΦ9mmの開口部が設けら
れ、その半径方向の外側2mmとなるΦ9mmからΦ1
3mmの範囲の裏面には0.7mmの高さで凸部72が
形成され、表面の半径方向11mmから24mm、即
ち、Φ22mmからΦ48mmの範囲で記録層が形成さ
れたものを用いた。
【0013】また、本実施例のスピンナーヘッドとして
は、遮蔽壁5の高さをディスク保持部4と同面、且つ、
台部上面31から1mmとし、記録ディスク7の搭載時
のディスク裏面とスピンナーヘッドの台部3までの隙間
を1mmとした。台部3の直径は71mmとし、半径方
向にディスク最外周部よりも約5mmはみ出すようにし
た。
【0014】更に、遮蔽壁5の半径方向の幅を0.5m
m、位置をΦ48.8mmからΦ49.8mmの位置に
形成し、遮蔽壁5の半径方向の外周端はディスク7の最
外周部より0.5mm内側とし、内周端は記録層形成領
域71の最外部から0.4mm外側とした。また、ディ
スク保持部4の半径方向の形成領域はΦ13.04mm
からΦ21mmの範囲とし、その外周端は記録層形成領
域71の最内部より0.5mm内側とした。
【0015】次に、本実施例のスピンナーヘッドを用い
てディスクにコート剤を塗布する実験を行った。具体的
には、本実施例のスピンナーヘッドに記録ディスク7を
固定した状態でスピンナーヘッドを回転させながら粘度
50mPa・Sの紫外線硬化性樹脂をディスクに塗布
し、平均膜厚5μm、10μmの保護膜を形成した。ま
た、ディスクの内周側を保持したまま紫外線硬化装置に
移載して、硬化処理を行った後、ディスク裏面を観察し
たところ、遮蔽壁の内側に相当する部分には全く塗布液
の付着は見られず、ディスク7の外周端から0.5mm
の範囲においても遮蔽壁を取り除いたスピンナーヘッド
で塗布した場合のディスク裏面の外周端から0.5mm
の範囲に付着している塗布液のミストよりもはるかに少
ない量であった。また、塗布後の記録層形成領域の裏面
側には全く傷も発生せず、安定した記録データの読み取
りが可能となった。
【0016】(比較例)比較例として図4に示すスピン
ナーヘッドを用い、上記実施例と同一条件でディスクに
保護膜を形成したところ、スピンナーヘッドは全面接触
であるためスピンナーヘッドの最外周がディスク径より
小さい場合はディスクの裏面への飛散ミストの付着が著
しく、スピンナーヘッドの最外周がディスク径より大き
い場合には毛細管現象による塗布液の裏面回り込みが見
られた。また、いずれの場合もスピンナーヘッドとの接
触による傷の存在も確認された。
【0017】以上により本実施形態のスピンナーヘッド
はディスク裏面への塗布液の回り込みを防止でき、ディ
スク基板へのスピンコートにおいて安定した塗膜形成が
可能であることを確認できた。
【0018】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、台
部上に遮蔽壁及び第1、第2の保持壁を周状に設けてい
るので、塗布液の被処理体の裏面への回り込みを阻止で
き、被処理体の裏面に液剤が付着することを防止するこ
とができる。また、被処理体の裏面が台部に接触するこ
とがないため、被処理体の裏面、特にディスク状記録媒
体に保護膜を塗布するような場合、記録層に傷が付くこ
とがなく、歩留りの低下を防止できる。更に、台部の第
1、第2の保持壁の内側に掘り込み部を設けているの
で、被処理体のハンドリングを容易に行うことができ、
塗布後において塗布液に干渉することなく被処理体を移
載することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のスピンコート装置におけるスピンナー
ヘッドの一実施形態を示す縦断面図である。
【図2】図1の平面図である。
【図3】図1の実施形態のスピンナーヘッドにディスク
基板を搭載した状態を示す縦断面図である。
【図4】従来例のスピンナーヘッドを示す縦断面図であ
る。
【符号の説明】
2 基部 3 台部 31 台部上面 32 掘り込み部 4 ディスク保持部 41 第1のディスク保持部 42 第2のディスク保持部 45 吸引口 46 流路 5 遮蔽板 6 吸引ポンプ 7 記録ディスク 71 記録層形成領域 72 凸部

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 吸引口を有する台部を含み、前記台部上
    に載置された被処理体を前記吸引口から吸引することに
    より前記台部上に吸着固定すると共に、前記台部を回転
    させることによって供給された塗布液を前記被処理体の
    表面に塗布するスピンナーヘッドにおいて、前記台部の
    被処理体の端部よりも内側に前記塗布液の被処理体の裏
    面への回り込みを阻止するための所定高さの遮蔽壁が周
    状に設けられ、前記台部の略中央部には所定間隔を置い
    て所定高さの第1、第2の保持壁が周状に設けられ、前
    記第1、第2の保持壁の間には前記吸引口が設けられて
    おり、前記被処理体を前記遮蔽壁及び第1、第2の保持
    壁で保持することによって前記被処理体と台部の間に隙
    間を設けた状態で前記塗布液を被処理体に塗布すること
    を特徴とするスピンコート装置におけるスピンナーヘッ
    ド。
  2. 【請求項2】 前記台部の第1、第2の保持壁で囲まれ
    た内側の領域に台部の平面よりも深くなるように掘り込
    みが形成されていることを特徴とする請求項1に記載の
    スピンコート装置におけるスピンナーヘッド。
  3. 【請求項3】 前記被処理体は、ディスク状記録媒体で
    あり、前記遮蔽壁はディスク状記録媒体の記録層よりも
    外側に、前記第1、第2の保持壁は記録層よりも内側に
    配置されていることを特徴とする請求項1、2のいずれ
    か1項に記載のスピンコート装置におけるスピンナーヘ
    ッド。
JP2001239324A 2001-08-07 2001-08-07 スピンコート装置におけるスピンナーヘッド Pending JP2003047902A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005020225A1 (en) * 2003-08-22 2005-03-03 Lg Chem. Ltd. Spin coating apparatus and coated substrate manufactured using the same

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005020225A1 (en) * 2003-08-22 2005-03-03 Lg Chem. Ltd. Spin coating apparatus and coated substrate manufactured using the same

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