JP2003046020A - Wiring board - Google Patents

Wiring board

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JP2003046020A
JP2003046020A JP2001228018A JP2001228018A JP2003046020A JP 2003046020 A JP2003046020 A JP 2003046020A JP 2001228018 A JP2001228018 A JP 2001228018A JP 2001228018 A JP2001228018 A JP 2001228018A JP 2003046020 A JP2003046020 A JP 2003046020A
Authority
JP
Japan
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resistor
tcr
platinum
resistance
resistance value
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001228018A
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Japanese (ja)
Inventor
Koji Yamamoto
弘司 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent increase in TCR due to variation in resistance value caused by the diffusion of resistor components, when an insulating substrate consisting of glass ceramics and a resistor are sintered by simultaneous baking. SOLUTION: A wiring board comprises a insulating substrate 3, consisting of sintered glass ceramics, a wiring layer 2 and a resistor 1 formed within the inner part and/or on the surface thereof by simultaneous baking. The resistor consists of 40-70 wt.% tin oxide, 30-60 wt.% platinum, and added 1-4 wt.% manganese dioxide or molybdenum trioxide. Reaction and diffusion phenomena between the resistor constituent material and the glass ceramics can be suppressed, so that the resistance value of the resistor 3 is made stable, and the TCR value becomes smaller.

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明はガラスセラミックス
焼結体からなる絶縁基体の内部および/または表面に同
時焼成による配線層および抵抗体を備え、抵抗体の抵抗
値ばらつきおよびTCRを抑制した配線基板に関するも
のである。 【0002】 【従来の技術】従来のセラミック配線基板の回路中に抵
抗体を形成する方法としては、配線基板表面に実装する
方法が主であった。この表面実装の方法としては、チッ
プ抵抗の半田付け・薄膜抵抗の蒸着・厚膜抵抗ペースト
の塗布および焼成等がある。なお、薄膜および厚膜抵抗
については抵抗体を形成するだけでは抵抗値ばらつきが
大きいため、トリミングにより抵抗値の微調整を行なう
ことが一般的である。また、回路中に実装された抵抗体
は常に安定した抵抗値を示すことが要求されるため、温
度変化に対する抵抗値の安定性がTCR(Temperature
Coefficient of Resistor(抵抗体の温度係数)、単
位:ppm/℃)で示される。 【0003】しかし、近年、各種電子部品はICやLS
I等の半導体集積回路素子の利用によって急速に小型化
・高密度化されており、それに伴って半導体集積回路素
子を搭載するIC基板やICパッケージ用基板の多層回
路基板に対しての小型化・高密度化の要求が高まってい
る。この要求に応える方法の一つとして、従来は表面に
実装されていた抵抗体を内層化することが挙げられる。
この方法によれば、従来はビアホール等の貫通導体を通
して基板表面に引き出していた回路構造を単純化できる
ことと、表面実装面積を増加できることが見込まれる。 【0004】このような抵抗体を内層化する方法とし
て、セラミックグリーンシート上に厚膜抵抗体ペースト
を塗布し、その上にさらにセラミックグリーンシートを
積層して、セラミックと抵抗体の両方を同時に焼成する
方法がある。この同時焼成の方法によれば、工程を大幅
に増加させずに抵抗体を内層化できる。なお、抵抗体を
同時焼成する場合は、通常のRuO2やSnO2系抵抗体
の焼成温度が約800〜900℃であることから、絶縁基体に
はこの温度で同時焼成が可能なガラスセラミックスが用
いられる。 【0005】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような抵抗体の内層化においては、ガラスセラミックグ
リーンシート加工時に抵抗体ペーストを塗布しておく必
要があり、内層化された抵抗体をガラスセラミックスと
同時に焼結させる工程となってしまうので焼成後に抵抗
体のトリミングができず、抵抗値ばらつきが制御できな
いという問題点があった。 【0006】また、通常の抵抗体ペーストは、抵抗を示
すための抵抗材、焼結させるためのガラス材およびその
他の添加剤等から構成される。そのため、セラミック材
がガラスセラミックスの場合には、焼成時に抵抗体ペー
スト中のガラス成分がガラスセラミックス中のガラス成
分と反応し、相互拡散が生じて、焼成後の抵抗値が大幅
にずれてしまう、またはばらつきが大きくなってしまう
という問題点があった。 【0007】さらに、配線層として低抵抗のCuを用い
る場合には、焼成雰囲気が加湿窒素雰囲気となり、ガラ
スセラミックス焼結時に抵抗体成分が雰囲気中の水分と
反応し、またイオン化してガラスセラミックス中に拡散
する現象が生じる。このため、焼成後の抵抗値がばらつ
くことがあるという問題点もあった。 【0008】そして上記のような課題点を解決するため
に抵抗体材料を選定した場合、往々にしてTCRの値が
結果として非常に大きく、または小さくなる場合があ
り、その場合はTCRを0に近付けるための調整をしな
ければならないという問題点もあった。一般に回路基板
中の抵抗体に必要とされるTCRは±200ppm/℃程
度以内であり、これ以上の変化率の場合は温度変化に伴
う抵抗変化から回路の作動不具合を生じる危険がある。 【0009】なお、焼き上げたセラミック基板の表面に
抵抗体を焼き付け、これにトリミング加工を行なった後
にセラミック基板を貼り合せる方法もあるが、これは工
程が長くなるという問題点がある。 【0010】本発明は上記従来技術における問題点に鑑
みてなされたものであり、その目的は、ガラスセラミッ
クスからなる絶縁基体と同時焼成される抵抗体の抵抗値
ばらつきを抑制し、ばらつき範囲をトリミングによる調
整が不要な±15%とし、TCRを±200ppm/℃以内
とした配線基板を提供することにある。 【0011】 【課題を解決するための手段】本発明の配線基板は、ガ
ラスセラミックス焼結体からなる絶縁基体と、該絶縁基
体の内部および/または表面に絶縁基体と同時焼成によ
り形成された配線層および抵抗体とからなる配線基板で
あって、前記抵抗体が40〜70wt%の酸化錫および30〜
60wt%の白金と外添加で1〜4wt%の二酸化マンガ
ンまたは三酸化モリブデンとからなることを特徴とする
ものである。 【0012】本発明の配線基板によれば、抵抗体の組成
を化合物として安定な酸化錫および反応性の低い白金の
組成物としたことから、ガラスセラミックス焼結時の水
分との反応、およびガラスセラミックスへのイオン化し
た金属成分の拡散現象を抑えることが可能となる。 【0013】また、抵抗体組成中の酸化錫および白金を
それぞれ40〜70wt%および30〜60wt%の範囲にする
ことによって、抵抗体組成物を均一に焼結させることが
可能になり、抵抗値ばらつきを±15%以内、レンジで30
%以下の範囲に抑制することができる。 【0014】さらに上記組成系に二酸化マンガンまたは
三酸化モリブデンのいずれかを1〜4wt%添加するこ
とで、TCRを下降させる調整を加えることができる。
その結果、焼成雰囲気に影響されることなく、焼成後の
抵抗値のばらつきを抑制でき、TCRからみても安定な
配線基板とすることができる。 【0015】 【発明の実施の形態】次に、本発明を添付図面に基づい
て詳細に説明する。 【0016】図1は本発明の配線基板の実施の形態の一
例を示す断面図であり、1は内層された抵抗体、2は配
線層、3はガラスセラミックスからなる絶縁基体であ
る。 【0017】絶縁基体3は、複数のガラスセラミックス
層が積層されて構成されており、その内部および/また
は表面、この例では内部いわゆる内層に抵抗体1および
配線層2が配線の形状に形成されている。 【0018】ガラスセラミックスからなる絶縁基体3の
作製に当たっては、まず、ガラス粉末・フィラー粉末
(セラミック粉末)、さらに有機バインダ・可塑剤・有
機溶剤等を混合してスラリーを得て、これをドクターブ
レード法・圧延法・カレンダーロール法等によってガラ
スセラミックグリーンシートを製作する。 【0019】ガラス粉末としては、例えばSiO2−B2
3系・SiO2−B23−Al23系・SiO2−B2
3−Al23−MO系(但し、MはCa,Sr,Mg,
BaまたはZnを示す)・SiO2−Al23−M1O−
2O系(但し、M1およびM 2は同一または異なってC
a,Sr,Mg,BaまたはZnを示す)・SiO2
23−Al23−M1O−M2O系(但し、M1および
2は前記と同じである)・SiO2−B23−M3 2O系
(但し、M3はLi,NaまたはKを示す)・SiO2
23−Al23−M3 2O系(但し、M3は前記と同じ
である)・Pb系ガラス・Bi系ガラス等を用いること
ができる。 【0020】また、フィラー粉末としては、例えばAl
23,SiO2,ZrO2とアルカリ土類金属酸化物との
複合酸化物・TiO2とアルカリ土類金属酸化物との複
合酸化物・Al23およびSiO2から選ばれる少なく
とも1種を含む複合酸化物(例えばスピネル・ムライト
・コージェライト)等を用いることができる。 【0021】次に、配線層ペーストとしてCu・Ag・
Au・Ag合金等の金属粉末に、適当な有機バインダ・
溶剤を混練してペースト化したものを、スクリーン印刷
法やグラビア印刷法等によりガラスセラミックグリーン
シート表面に塗布する。 【0022】また同様に、抵抗体ペーストとして白金お
よび酸化錫ならびに二酸化マンガンまたは三酸化モリブ
デンの粉末に、適当な有機バインダ・溶剤を混練してペ
ースト化したものを、スクリーン印刷法やグラビア印刷
法等によりガラスセラミックグリーンシート表面に塗布
する。 【0023】抵抗体ペーストの白金および酸化錫ならび
に二酸化マンガンまたは三酸化モリブデンの粉末は、粒
径が均一で球形状に近い粒が望ましい。これは均一な焼
結状態を得るためのものであり、例えば白金粉末で部分
的に大きい粒径が存在した場合、その部分のみ局所的に
抵抗値が低下し抵抗値が安定しにくい傾向がある。同様
に、1〜4wt%しか添加されない二酸化マンガンまた
は三酸化モリブデンについては、抵抗体ペースト中に凝
集することなく均一に分散させるためである。 【0024】また、抵抗体中の酸化錫および白金は、そ
れぞれ40〜70wt%および30〜60wt%の範囲にするこ
とが好ましい。白金が60%を超えると、白金同士の焼結
により低抵抗パス(低抵抗経路)の形成が多くなりやす
く、抵抗値が1Ω以下になりばらつきが大きくなる傾向
がある。一方、白金が30%未満では白金同士の焼結によ
る低抵抗パスの形成が少なくなりやすく、抵抗値が10k
Ω以上になり抵抗値のばらつきが大きくなる傾向があ
る。 【0025】二酸化マンガンまたは三酸化モリブデン
は、本抵抗体の系に対してTCR降下作用を有する。そ
の添加量としては、酸化錫および白金に対して外添加で
1wt%未満ではTCRを+200ppm/℃以下に充分
降下させ得ず、また、4wt%以上では降下させ過ぎと
なって、TCRが−200ppmを下回ってしまう傾向が
ある。 【0026】このガラスセラミックグリーンシートを複
数枚積み重ね、50〜100℃の熱と3〜20MPaの圧力を
加えて熱圧着することによって、積層体を製作する。 【0027】この積層体を、温度約900℃・露点約50℃
の加湿窒素雰囲気にて焼成することにより、配線基板と
することができる。 【0028】 【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
る。 【0029】まず、抵抗体ペーストとして平均粒径1〜
1.5μmの白金および酸化錫ならびに二酸化マンガンの
粉末を表1に示す7種の組成で有機バインダ・溶剤と混
練してテスト抵抗ペーストを作製した。 【0030】 【表1】【0031】同様に、配線層ペーストとしてCu粉末と
有機バインダ・溶剤を混練してCuペーストを作製し
た。 【0032】次に、ガラスセラミックグリーンシートに
まず配線層となるCuペーストを塗布し乾燥させた。そ
の後、焼成後に抵抗体となるテスト抵抗体ペーストを所
定のテストパターンで塗布し、乾燥した。今回用いた抵
抗体のテストパターンはアスペクト比が1であり、膜厚
は20〜25μmであった。その後、ガラスセラミックグリ
ーンシートを積層して、温度910℃・露点50℃の加湿窒
素雰囲気にて焼成した。 【0033】このようにして作製した配線基板につき、
各テスト抵抗の抵抗値をデジタルマルチメータを用いて
測定した。測定結果について、白金(Pt)添加量に対
する平均の抵抗値の変化を図2に線図で示し、また抵抗
値ばらつきを表2に示す。 【0034】 【表2】 【0035】図2において、横軸は白金(Pt)添加量
(単位:重量%)を、縦軸は平均の抵抗値(単位:Ω/
□)を表わし、黒菱形および特性曲線は測定結果および
その変化を示している。図2により、白金添加量の調整
により抵抗値が10〜10kΩ間で制御可能であることが分
かる。また、表2より、抵抗値ばらつき(単位:%)が
30%以内に入っていることが分かる。なお、配線基板と
しての機能上、図2のグラフデータにおける抵抗値はシ
ート抵抗を示しているが、シート抵抗10〜10kΩは、体
積固有抵抗に換算すると2.3×10-4〜0.3Ω・mに相当す
る。 【0036】なお、表1に示した抵抗組成を外れた酸化
錫および白金の組成の場合は、抵抗値自体が大きく変動
し、抵抗値ばらつきも30%を超えてしまう結果であっ
た。酸化錫の組成が40%未満となり白金の組成が60%を
超える場合は、抵抗値は1Ωまたはそれ以下にまで急激
に低下し、同一の焼成ロット内においても十分な再現性
が得られない傾向があった。また、酸化錫の組成が70%
を超え白金の組成が30%未満となる場合は、抵抗値が数
10kΩで抵抗値ばらつきが100%以上にまで増加する傾
向があった。 【0037】さらにTCRの調整例として酸化錫40%・
白金60%の組成系に対して二酸化マンガンまたは三酸化
モリブデンを外添加した場合のTCRの変化を図3に線
図で示す。図3では低温側TCR(−55℃〜25℃(室
温))および高温側TCR(25℃(室温)〜125℃)に
ついての結果を示しており、いずれも横軸は二酸化マン
ガンまたは三酸化モリブデンの添加量(単位:wt%)
を、縦軸はTCR(単位:ppm/℃)を表わし、四角
の点および実線の特性曲線は二酸化マンガン(Mn
2)の場合の結果を、菱形の点および破線の特性曲線
は三酸化モリブデン(MoO3)の場合の結果を示して
いる。ここでは、TCRは室温から低温側(−55℃)、
高温側(125℃)でそれぞれ抵抗値変化をデジタルマル
チメータにて測定し、抵抗変化率に換算している。 【0038】図3に示す結果より、低温側および高温側
それぞれのTCRが二酸化マンガンまたは三酸化モリブ
デンを添加することで制御可能であると分かる。また、
高温側および低温側ともにTCRが±200ppm/℃以
内を満足する添加量は1〜4wt%であることが分か
る。 【0039】このように二酸化マンガンまたは三酸化モ
リブデンを添加することでTCRを制御可能であること
が分かったので、表3に示す様々の抵抗組成にて抵抗値
バラツキおよびTCRを測定した。 【0040】 【表3】【0041】表3に示す結果より、本発明の配線基板に
おける抵抗体によれば、抵抗値バラツキはレンジで30%
(±15%)、TCRは±200ppm/℃以内に制御できて
いることが分かる。 【0042】なお、本発明は上述の実施の形態の例に限
定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲
であれば種々の変更は可能である。例えば、上述の実施
の形態の例では配線層はCuペーストを塗布して形成し
たが、これをCu等の金属箔を転写して配線パターン化
することにより形成してもよい。 【0043】 【発明の効果】以上のように、本発明の配線基板によれ
ば、ガラスセラミックスから成る絶縁基体の内部および
/または表面に同時焼成により形成される抵抗体を酸化
錫および白金ならびに二酸化マンガンまたは三酸化モリ
ブデンからなるものとし、その組成を40〜70wt%の酸
化錫および30〜60wt%の白金と、外添加で1〜4wt
%の二酸化マンガンまたは三酸化モリブデンとすること
で、ガラスセラミックスからなる絶縁基体との同時焼成
時にガラスセラミックスとの反応または金属元素の拡散
現象を抑制することができ、その結果、抵抗値ばらつき
をトリミングによる調整が不要な±15%以内、レンジで
30%以内とし、TCRを±200ppm/℃以内とするこ
とができる配線基板を得ることができた。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to glass ceramics.
Same as the inside and / or surface of the insulating base made of sintered body
Includes wiring layer and resistor by firing
For wiring boards with reduced value variation and TCR
It is. [0002] 2. Description of the Related Art In a circuit of a conventional ceramic wiring board, a resistor is provided.
As a method of forming antibodies, mounting on the surface of the wiring board
The way was the main. As a method of this surface mounting,
Soldering of resistor, evaporation of thin film resistor, thick film resistor paste
And baking. Note that thin film and thick film resistors
As for, variation in resistance value can be caused only by forming a resistor.
Fine adjustment of resistance value by trimming
That is common. Also, the resistor mounted in the circuit
Is required to exhibit a stable resistance value at all times.
The stability of the resistance value with respect to the temperature change is TCR (Temperature)
Coefficient of Resistor, temperature coefficient
(Ppm: ° C.). However, in recent years, various electronic parts have been manufactured using ICs or LSs.
Rapid downsizing by using semiconductor integrated circuit devices such as I
・ Higher densities have been added to semiconductor integrated circuit devices.
IC board mounting IC chip and IC package board
Demand for miniaturization and high density of printed circuit boards is increasing
You. One way to meet this demand is to use
One example is to make the mounted resistor into an inner layer.
According to this method, a through conductor such as a via hole has conventionally been used.
To simplify the circuit structure that was pulled out on the board surface
In addition, it is expected that the surface mounting area can be increased. A method for forming such a resistor into an inner layer is as follows.
And paste thick film resistor on ceramic green sheet
And further apply a ceramic green sheet on it
Laminate and fire both ceramic and resistor simultaneously
There is a way. According to this simultaneous firing method, the process is greatly
The resistor can be formed as an inner layer without increasing the resistance. In addition, the resistor
When co-firing, ordinary RuOTwoAnd SnOTwoSystem resistor
Since the sintering temperature is about 800-900 ° C,
Uses glass ceramics that can be fired simultaneously at this temperature
You can. [0005] SUMMARY OF THE INVENTION
In the inner layer of such a resistor, a glass ceramic
It is necessary to apply resistor paste during lean sheet processing.
It is important to use a glass ceramic
Since it is a process of sintering at the same time, resistance after firing
The body cannot be trimmed and the variation in resistance cannot be controlled.
There was a problem. [0006] In addition, ordinary resistor paste shows resistance.
Material for sintering, glass material for sintering and its
It is composed of other additives and the like. Therefore, ceramic materials
When the glass is ceramic, the resistor
The glass component in the glass is the glass component in the glass ceramic.
Reacts with each other, causing interdiffusion and greatly increasing the resistance after firing.
Deviation or large variation
There was a problem. Further, low-resistance Cu is used as a wiring layer.
In this case, the firing atmosphere becomes a humidified nitrogen atmosphere,
During sintering of ceramics, the resistance component is
Reacts and ionizes and diffuses into glass ceramics
Phenomenon occurs. Therefore, the resistance value after firing varies.
There was also a problem that sometimes. In order to solve the above problems,
When a resistor material is selected, the TCR value is often
The result can be very large or small.
In that case, make no adjustment to bring the TCR close to zero.
There was also a problem that it had to be done. Generally a circuit board
TCR required for resistor inside is about ± 200ppm / ℃
Degrees, and if the rate of change is higher than
There is a danger that the circuit will malfunction due to the change in resistance. The surface of the baked ceramic substrate is
After baking the resistor and trimming it
There is also a method of bonding a ceramic substrate to
There is a problem that the process becomes longer. The present invention has been made in view of the above-mentioned problems in the prior art.
The purpose of the
Resistance of a resistor co-fired with an insulating substrate made of
Suppress variations and adjust the range by trimming
TCR is within ± 200ppm / ℃ within ± 15% which does not require adjustment
It is to provide a wiring board having the following characteristics. [0011] According to the present invention, there is provided a wiring board comprising:
An insulating substrate made of a ceramic sintered body;
By co-firing with an insulating substrate on the inside and / or surface of the body
Wiring board consisting of a wiring layer and a resistor
Wherein the resistor is 40-70 wt% tin oxide and 30-70 wt%;
60wt% platinum and 1-4wt% manganese dioxide by external addition
Or molybdenum trioxide
Things. According to the wiring substrate of the present invention, the composition of the resistor is
Of stable tin oxide and platinum with low reactivity as compounds
Because of the composition, water during sintering of glass ceramics
And ionization into glass ceramics
It is possible to suppress the diffusion phenomenon of the metal component. Further, tin oxide and platinum in the resistor composition are
Be within the range of 40-70wt% and 30-60wt% respectively
This allows the resistor composition to be sintered uniformly.
It is possible to make the resistance value variation within ± 15%
% Or less. Further, manganese dioxide or
Add 1 to 4 wt% of molybdenum trioxide
Thus, the adjustment for lowering the TCR can be added.
As a result, without being affected by the firing atmosphere,
Resistance variation can be suppressed and stable even from the viewpoint of TCR
It can be a wiring board. [0015] BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG.
This will be described in detail. FIG. 1 shows an embodiment of a wiring board according to the present invention.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example, where 1 is an internal resistor and 2 is
The wire layer 3 is an insulating base made of glass ceramic.
You. The insulating substrate 3 is made of a plurality of glass ceramics.
Layers are laminated, and the inside and / or
Denotes a resistor 1 and a resistor 1,
The wiring layer 2 is formed in the shape of a wiring. The insulating substrate 3 made of glass ceramic
In making, first, glass powder, filler powder
(Ceramic powder), organic binder, plasticizer, and
Solvent, etc. to obtain a slurry, which is then
Gala by the lade method, rolling method, calendar roll method, etc.
Produce a ceramic green sheet. As the glass powder, for example, SiO 2Two-BTwo
OThreeSystem / SiOTwo-BTwoOThree-AlTwoOThreeSystem / SiOTwo-BTwoO
Three-AlTwoOThree-MO system (where M is Ca, Sr, Mg,
Ba or Zn) · SiOTwo-AlTwoOThree-M1O-
MTwoO type (however, M1And M TwoAre the same or different C
a, Sr, Mg, Ba or Zn) ・ SiOTwo
BTwoOThree-AlTwoOThree-M1OMTwoO type (however, M1and
MTwoIs the same as above.) ・ SiOTwo-BTwoOThree-MThree TwoO system
(However, MThreeRepresents Li, Na or K) .SiOTwo
BTwoOThree-AlTwoOThree-MThree TwoO type (however, MThreeIs the same as above
Use of Pb-based glass, Bi-based glass, etc.
Can be. As the filler powder, for example, Al
TwoOThree, SiOTwo, ZrOTwoWith alkaline earth metal oxides
Composite oxide / TiOTwoAnd alkaline earth metal oxide
Composite oxide / AlTwoOThreeAnd SiOTwoLess to be chosen from
Complex oxides (eg, spinel mullite)
Cordierite) can be used. Next, Cu.Ag.
For metal powder such as Au / Ag alloy, suitable organic binder
Screen printing of paste made by kneading solvent
Glass ceramic green by the method or gravure printing method
Apply to the sheet surface. Similarly, platinum or platinum is used as the resistor paste.
And tin oxide and manganese dioxide or molybdenum trioxide
An appropriate organic binder and solvent are kneaded with the powder of
Screen printing and gravure printing
Apply to glass ceramic green sheet surface by method etc.
I do. Platinum and tin oxide as resistor pastes
Manganese dioxide or molybdenum trioxide powder
A particle having a uniform diameter and a shape close to a spherical shape is desirable. This is a uniform grill
To obtain a sintering state, for example, a part
If a large particle size exists, only that part is locally
The resistance value tends to decrease and the resistance value tends to be unstable. As well
Manganese dioxide to which only 1-4 wt% is added
For molybdenum trioxide in the resistor paste
This is for uniformly dispersing without collecting. Further, tin oxide and platinum in the resistor are not
Be within the range of 40 to 70 wt% and 30 to 60 wt%, respectively.
Is preferred. When platinum exceeds 60%, sintering of platinum
Tends to increase the formation of low resistance paths (low resistance paths)
And the resistance tends to be less than 1Ω and the variation becomes large.
There is. On the other hand, if platinum is less than 30%, sintering of platinum
Low resistance paths are easily formed, and the resistance value is 10k
Ω or more, and the variation in resistance value tends to increase.
You. Manganese dioxide or molybdenum trioxide
Has a TCR lowering effect on the resistor system. So
Is added externally to tin oxide and platinum.
If it is less than 1 wt%, the TCR is sufficiently lower than +200 ppm / ° C.
It is not possible to lower it.
And the tendency of TCR to fall below -200 ppm
is there. This glass ceramic green sheet is
Stack several pieces and apply heat of 50-100 ℃ and pressure of 3-20MPa
In addition, a laminate is manufactured by thermocompression bonding. This laminate is heated at a temperature of about 900 ° C. and a dew point of about 50 ° C.
Baking in a humidified nitrogen atmosphere
can do. [0028] The present invention will be described below in detail with reference to examples.
You. First, a resistor paste having an average particle size of 1 to
1.5 μm platinum and tin oxide and manganese dioxide
The powder was mixed with an organic binder and solvent in the seven compositions shown in Table 1.
It was kneaded to produce a test resistance paste. [0030] [Table 1]Similarly, Cu powder is used as a wiring layer paste.
Knead organic binder and solvent to make Cu paste
Was. Next, the glass ceramic green sheet
First, a Cu paste to be a wiring layer was applied and dried. So
After that, apply a test resistor paste to be a resistor after firing.
It was applied in a fixed test pattern and dried. This time
The antibody test pattern has an aspect ratio of 1 and a film thickness
Was 20 to 25 μm. Then the glass ceramic grid
910 ° C / 50 ° C dew point.
It was fired in an elementary atmosphere. With respect to the wiring board thus manufactured,
Use a digital multimeter to determine the resistance of each test resistor.
It was measured. Regarding the measurement results, the amount of platinum (Pt) added
The change of the average resistance value is shown in a diagram in FIG.
Table 2 shows the value variation. [0034] [Table 2] In FIG. 2, the horizontal axis represents the amount of platinum (Pt) added.
(Unit: weight%), the vertical axis represents the average resistance value (unit: Ω /
□), black diamonds and characteristic curves
This shows the change. Fig. 2 shows the adjustment of the amount of added platinum
The resistance value can be controlled between 10 and 10 kΩ.
Call Also, from Table 2, the resistance value variation (unit:%)
You can see that it is within 30%. In addition, with the wiring board
In terms of function, the resistance value in the graph data of FIG.
The sheet resistance is between 10 and 10 kΩ.
2.3 × 10 when converted to product specific resistance-FourEquivalent to ~ 0.3Ω · m
You. The oxidation outside the resistance composition shown in Table 1
In the case of tin and platinum compositions, the resistance value itself fluctuates greatly
However, the variation in resistance value exceeds 30%.
Was. Tin oxide composition is less than 40% and platinum composition is 60%
If it does, the resistance will drop sharply to 1Ω or less
And sufficient reproducibility even within the same firing lot
Tend not to be obtained. The composition of tin oxide is 70%
If the platinum composition is less than 30%, the resistance
Increasing the resistance variation to 100% or more at 10kΩ
There was a direction. Further, as an example of adjusting the TCR, tin oxide 40%
Manganese dioxide or trioxide for 60% platinum composition
The change in TCR when molybdenum is externally added is plotted in Fig. 3.
Shown in the figure. In FIG. 3, the low temperature side TCR (-55 ° C to 25 ° C (room
Temperature)) and high-temperature side TCR (25 ° C (room temperature) to 125 ° C)
The horizontal axis shows the results for manganese dioxide.
Addition amount of gun or molybdenum trioxide (unit: wt%)
, The vertical axis represents TCR (unit: ppm / ° C.),
And the characteristic curve of the solid line are manganese dioxide (Mn).
OTwo), The results are plotted with diamond-shaped points and dashed characteristic curves.
Is molybdenum trioxide (MoOThree)
I have. Here, TCR is from the room temperature to the low temperature side (-55 ° C),
Digital resistance change at high temperature (125 ° C)
It is measured with a chimeter and converted into a resistance change rate. From the results shown in FIG. 3, the low-temperature side and the high-temperature side
Each TCR is manganese dioxide or molybdenum trioxide
It can be seen that control is possible by adding den. Also,
TCR of ± 200ppm / ℃ or less on both high and low temperatures
It can be seen that the addition amount that satisfies the above is 1-4 wt%.
You. Thus, manganese dioxide or trioxide
TCR can be controlled by adding ribene
Was found, the resistance value was determined for various resistance compositions shown in Table 3.
Variation and TCR were measured. [0040] [Table 3]From the results shown in Table 3, the wiring board of the present invention
According to the resistor used, resistance value variation is 30% in the range
(± 15%), TCR can be controlled within ± 200ppm / ℃
I understand that there is. The present invention is limited to the above-described embodiment.
It is not specified and does not deviate from the gist of the present invention.
If so, various changes are possible. For example, the implementation above
In the example of the embodiment, the wiring layer is formed by applying Cu paste.
However, this is transferred to a metal foil such as Cu to form a wiring pattern.
It may be formed by doing. [0043] As described above, according to the wiring board of the present invention,
For example, the inside of an insulating base made of glass ceramics and
Oxidation of resistors formed on the surface by simultaneous firing
Tin and platinum and manganese dioxide or trioxide
Shall consist of butene and have a composition of 40-70 wt% acid
Tin oxide and 30-60 wt% platinum and 1-4 wt% by external addition
% Manganese dioxide or molybdenum trioxide
Simultaneous firing with an insulating substrate made of glass ceramic
Sometimes reaction with glass ceramics or diffusion of metal elements
The phenomenon can be suppressed, and as a result, the resistance value variation
Within ± 15%, no need for trimming adjustment
Within 30%, TCR within ± 200ppm / ℃
A wiring board which can be obtained was obtained.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の配線基板の実施の形態の一例を示す断
面図である。 【図2】本発明の配線基板に用いる抵抗体における白金
(Pt)添加量に対する平均の抵抗値の変化を示す線図
である。 【図3】酸化錫40%・白金60%の組成系に対して二酸化
マンガンまたは三酸化モリブデンを外添加した場合の低
温側TCRおよび高温側TCRについてのTCRの変化
を示す線図である 【符号の説明】 1:抵抗体 2:配線層 3:絶縁基体
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a sectional view showing an example of an embodiment of a wiring board of the present invention. FIG. 2 is a diagram showing a change in an average resistance value with respect to an added amount of platinum (Pt) in a resistor used for a wiring board of the present invention. FIG. 3 is a diagram showing changes in TCR of a low-temperature side TCR and a high-temperature side TCR when manganese dioxide or molybdenum trioxide is externally added to a composition system of 40% tin oxide and 60% platinum. Description: 1: Resistor 2: Wiring layer 3: Insulating base

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4E351 AA07 BB01 BB05 BB23 BB24 BB26 BB31 CC12 CC22 CC31 DD20 DD31 DD34 DD35 DD58 GG06 5E346 AA12 AA14 AA15 AA37 AA38 BB01 BB20 CC18 CC25 CC32 DD02 DD09 DD34 EE24 EE27 FF45 GG02 GG03 GG09 HH33   ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page    F term (reference) 4E351 AA07 BB01 BB05 BB23 BB24                       BB26 BB31 CC12 CC22 CC31                       DD20 DD31 DD34 DD35 DD58                       GG06                 5E346 AA12 AA14 AA15 AA37 AA38                       BB01 BB20 CC18 CC25 CC32                       DD02 DD09 DD34 EE24 EE27                       FF45 GG02 GG03 GG09 HH33

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 ガラスセラミックス焼結体からなる絶縁
基体と、該絶縁基体の内部および/または表面に絶縁基
体と同時焼成により形成された配線層および抵抗体とか
らなる配線基板であって、前記抵抗体が40〜70wt
%の酸化錫および30〜60wt%の白金と外添加で1
〜4wt%の二酸化マンガンまたは三酸化モリブデンと
からなることを特徴とする配線基板。
Claims: 1. A wiring comprising: an insulating base made of a glass ceramic sintered body; and a wiring layer and a resistor formed inside and / or on the surface of the insulating base by simultaneous firing with the insulating base. A substrate, wherein the resistor is 40 to 70 wt.
% Tin oxide and 30-60 wt% platinum and 1
A wiring board comprising -4% by weight of manganese dioxide or molybdenum trioxide.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011010662A1 (en) 2009-07-22 2011-01-27 株式会社ブリヂストン Tire
KR101403933B1 (en) 2013-05-07 2014-06-11 한국신발피혁연구원 Composition of processin aid for rubber composition, Preparing method thereof and Rubber composition having the same

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011010662A1 (en) 2009-07-22 2011-01-27 株式会社ブリヂストン Tire
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