JP2003043691A - Laminated polyester film for photoresist - Google Patents

Laminated polyester film for photoresist

Info

Publication number
JP2003043691A
JP2003043691A JP2001231174A JP2001231174A JP2003043691A JP 2003043691 A JP2003043691 A JP 2003043691A JP 2001231174 A JP2001231174 A JP 2001231174A JP 2001231174 A JP2001231174 A JP 2001231174A JP 2003043691 A JP2003043691 A JP 2003043691A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
film
particles
polyester
photoresist
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001231174A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4724975B2 (en
JP2003043691A5 (en
Inventor
Toshihiko Hiraoka
俊彦 平岡
Atsushi Matsunaga
篤 松永
Kunimitsu Shimizu
国光 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP2001231174A priority Critical patent/JP4724975B2/en
Publication of JP2003043691A publication Critical patent/JP2003043691A/en
Publication of JP2003043691A5 publication Critical patent/JP2003043691A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4724975B2 publication Critical patent/JP4724975B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminated polyester film for a photoresist as a base film having excellent winding property of the film and giving excellent resolution when used for a photoresist. SOLUTION: The laminated polyester film for a photoresist is composed of at least two layers and both layers of the top layer (A) and the back layer (B) contain inorganic particles having >=8 Mohs hardness and 0.001 to 0.5 μm average particle size. The proportion of the inorganic particles is 0.1 to 10 wt.% with respect to the polyester in each of the top and back layer. The average surface roughness Ra of the top layer (A) is >=0.005 μm, while the average surface roughness Ra of the back layer (B) is <=0.05 μm. The thickness of the layers shows the relation of (A)<(B). The haze of the film is <=2.0%.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はフォトレジスト用ポ
リエステルフィルムに関し、詳しくは、基材フィルムと
しての巻き性に優れ、フォトレジスト用途に使用したと
きに解像度に優れ、画像の欠陥発生を防止できるフォト
レジスト用積層ポリエステルフィルムに関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polyester film for photoresists, and more specifically, it has excellent winding properties as a base film, excellent resolution when used in photoresist applications, and can prevent image defects from occurring. The present invention relates to a laminated polyester film for resist.

【0002】[0002]

【従来の技術】フォトレジスト、とくにドライフイルム
フォトレジストは、一般的に、光透過性の基材フイルム
の片面に感光性樹脂組成物を積層し、その上にポリエチ
レン等からなるカバーフイルムが設けられている積層体
を使用している。フォトレジストの工程においては、該
積層体から先ずカバーフイルムが除去され、露出された
感光性樹脂組成物面が、プリント配線板作製用基体等の
対象物上に貼着される。この状態で、基材フイルム上に
ネガフイルムを密着させ、該ネガフイルム側から基材フ
イルムを透過させるように紫外線等の活性光線を照射
し、感光性樹脂組成物を所定のパターンに露光させる。
露光後に、ネガフイルムを除去するとともに、基材フイ
ルムを剥離除去する。こうして残った感光性樹脂組成物
から硬化していない未露光部分を溶剤等によって除去す
ることにより、基体上に目標とするパターンが形成され
る。
2. Description of the Related Art Photoresists, particularly dry film photoresists, are generally prepared by laminating a photosensitive resin composition on one side of a light-transmissive base film, on which a cover film made of polyethylene or the like is provided. I am using a laminated body. In the photoresist process, the cover film is first removed from the laminate, and the exposed surface of the photosensitive resin composition is attached to an object such as a substrate for producing a printed wiring board. In this state, a negative film is brought into close contact with the base film, and an actinic ray such as ultraviolet rays is irradiated from the side of the negative film so that the base film is transmitted, and the photosensitive resin composition is exposed in a predetermined pattern.
After the exposure, the negative film is removed and the base film is peeled off. By removing the uncured unexposed portion from the remaining photosensitive resin composition with a solvent or the like, a target pattern is formed on the substrate.

【0003】近年、フォトレジスト工程で形成する回路
が極めて複雑になり、かつ線が細く、その間隔も狭くな
ってきており、画像形成の再現性、解像度が高度である
ことが必要になってきた。このため、基材フィルムに対
しても、高度な品質が要求されるようになった。すなわ
ち透明性が高く、フィルムヘイズが低いことが、ますま
す必要となった。フォトレジストフィルムにおいて、フ
ォトレジスト層を露光する場合、光は支持体層を通るこ
とになる。従って、支持体の透明性が低いとフォトレジ
スト層が十分に露光されなかったり、また、光の散乱に
より解像度が悪化する等の問題が生ずることがある。
In recent years, circuits formed in the photoresist process have become extremely complicated, and the lines have become narrower and the intervals between them have become narrower, and it has become necessary to have high reproducibility of image formation and high resolution. . Therefore, high quality has come to be required for the base film as well. That is, high transparency and low film haze have become increasingly necessary. In the photoresist film, when exposing the photoresist layer, light will pass through the support layer. Therefore, if the transparency of the support is low, problems such as insufficient exposure of the photoresist layer and deterioration of resolution due to light scattering may occur.

【0004】フォトレジスト用の基材フィルムは、適度
な滑り性を有することも必要である。すなわち、フィル
ムにフォトレジスト層を形成させてフォトレジストフィ
ルムを製造する際の取扱い性を良好にするため、あるい
はフォトレジストフィルム自身の取り扱い性を良好とす
るためには、適度な滑り性が求められる。
The base film for photoresist must also have an appropriate slip property. That is, in order to improve the handleability when the photoresist film is formed by forming a photoresist layer on the film, or to improve the handleability of the photoresist film itself, appropriate slipperiness is required. .

【0005】通常、上記した透明性、滑り性を満足させ
るため、フィルム中に特定の粒子を含有させる方法が用
いられている。例えば、特開平7−333853号公報
には、特定の粒子を含有させたポリエステルフイルムを
積層して、表面粗さと透明性を適度な範囲に規定するこ
とが述べられている。
Usually, in order to satisfy the above-mentioned transparency and slipperiness, a method in which specific particles are contained in the film is used. For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-333853 describes that a polyester film containing specific particles is laminated to regulate surface roughness and transparency within appropriate ranges.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、特開平7−3
33853号公報の方法では、フイルムの滑り性が不足
し、フォトレジストフイルム加工時にシワが発生して加
工速度を上げられなかったり、露光時にフイルム中に含
有する粒子が陰となってパターンに欠陥がでるといった
問題が発生していた。
However, Japanese Patent Laid-Open No. 7-3
In the method of Japanese Patent No. 33853, the slipperiness of the film is insufficient, wrinkles are generated during the processing of the photoresist film, and the processing speed cannot be increased, or the particles contained in the film are shaded at the time of exposure to cause defects in the pattern. There was a problem such as going out.

【0007】本発明は、かかる課題の解決を目的とした
ものであり、具体的には、フィルムの巻き取り性に優
れ、フォトレジスト用途に使用したときに優れた解像度
を与える基材フィルムであるフォトレジスト用積層ポリ
エステルフイルムを提供することを目的とする。
The present invention is intended to solve such problems, and more specifically, it is a base film which is excellent in film winding property and gives excellent resolution when used for photoresist applications. An object of the present invention is to provide a laminated polyester film for photoresist.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題に
鑑み鋭意検討した結果、特定の構成を有するフィルムが
優れた特性を有することを見いだし、本発明を完成する
に至った。
As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventor has found that a film having a specific constitution has excellent characteristics, and has completed the present invention.

【0009】すなわち、本発明の要旨は、少なくとも2
層以上からなるポリエステルフイルムであり、表層(A
層)および裏層(B層)のいずれの層にも、モース硬度
が8以上かつ平均粒径が0.001〜0.5μmの無機
粒子を含有し、当該無機粒子の含有量は、表層および裏
層のポリエステルに対して各々0.1〜10重量%であ
り、表層(A層)表面の平均粗さRaが0.005μm
以上、裏層(B層)表面の平均粗さRaが0.05μm
以下であり、かつ厚み構成がA層<B層、フイルムヘイ
ズが2.0%以下であることを特徴とするフォトレジス
ト用積層ポリエステルフイルムである。
That is, the gist of the present invention is at least 2.
It is a polyester film composed of more than one layer and has a surface layer (A
Both the layer) and the back layer (layer B) contain inorganic particles having a Mohs hardness of 8 or more and an average particle size of 0.001 to 0.5 μm, and the content of the inorganic particles is not limited to the surface layer and 0.1 to 10% by weight based on the polyester of the back layer, and the average roughness Ra of the surface (A layer) surface is 0.005 μm.
As described above, the average roughness Ra of the surface of the back layer (layer B) is 0.05 μm.
The laminated polyester film for photoresist is characterized in that the thickness is A layer <B layer and the film haze is 2.0% or less.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に使用するポリエステルとは、二塩基酸とグリコ
ールを構成成分とするポリエステルであり、芳香族二塩
基酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル
酸、ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカ
ルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェノ
キシエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン
酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダン
ジカルボン酸、ナトリウムスルホイソフタル酸、ジブロ
モテレフタル酸などを用いることができる。脂環族二塩
基酸としては、シクロヘキサンジカルボン酸、デカリン
ジカルボン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸などを用いる
ことができる。また、脂肪族二塩基酸としては、シュウ
酸、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン
酸、ダイマー酸などを用いることができる。また、グリ
コールとしては、脂肪族ジオールとしてエチレングリコ
ール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコー
ル、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコー
ル、ジエチレングリコールなどを用いることができ、芳
香族ジオールとして、ナフタレンジオール、2,2−ビ
ス(4−ヒドロキシジフェニル)プロパン、2,2−ビ
ス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、ビス
(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ハイドロキノ
ン、テトラプロモビスフェノールAなどを用いることが
でき、脂環族ジオールとしては、シクロヘキサンジメタ
ノール、シクロヘキサンジオールなどを用いることがで
きる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below.
The polyester used in the present invention is a polyester having a dibasic acid and a glycol as constituent components, and as the aromatic dibasic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, naphthalene dicarboxylic acid, diphenyl sulfone dicarboxylic acid, diphenyl ether. Dicarboxylic acid, diphenoxyethanedicarboxylic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, diphenylketone dicarboxylic acid, phenylindanedicarboxylic acid, sodium sulfoisophthalic acid, dibromoterephthalic acid and the like can be used. As the alicyclic dibasic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, decalindicarboxylic acid, hexahydroterephthalic acid or the like can be used. As the aliphatic dibasic acid, oxalic acid, succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, dimer acid and the like can be used. As the glycol, ethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, hexamethylene glycol, neopentyl glycol, diethylene glycol or the like can be used as the aliphatic diol, and naphthalene diol or 2,2-bis (aromatic diol can be used. 4-hydroxydiphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyethoxyphenyl) propane, bis (4-hydroxyphenyl) sulfone, hydroquinone, tetrapromobisphenol A and the like can be used, and as the alicyclic diol, Cyclohexanedimethanol, cyclohexanediol and the like can be used.

【0011】さらに、ポリエステルが実質的に線状であ
る範囲内で、3官能以上の多官能化合物、例えばグリセ
リン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトー
ル、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸、
トリカルバリル酸、没食子酸などを共重合してもよく、
あるいは、単官能化合物、例えばo−ベンゾイル安息香
酸、ナフトエ酸等を添加反応させてもよい。また、ポリ
エチレングリコール、ポリテトラメチレングリコールな
どのポリエーテルやポリカプロラクトンに代表される脂
肪族ポリエステルなどを共重合してもよい。
Further, within the range in which the polyester is substantially linear, a trifunctional or higher functional compound such as glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, trimellitic acid, trimesic acid, pyromellitic acid,
You may copolymerize tricarballylic acid, gallic acid, etc.,
Alternatively, a monofunctional compound such as o-benzoylbenzoic acid or naphthoic acid may be added and reacted. Further, a polyether such as polyethylene glycol or polytetramethylene glycol, or an aliphatic polyester typified by polycaprolactone may be copolymerized.

【0012】ポリエステルは2種以上のものをブレンド
してもよく、本発明の効果を損なわない範囲で、例えば
50モル%以上がポリエステルであれば、ポリエステル
以外のものを共重合したりブレンドしてもよい。
Two or more kinds of polyester may be blended, and within the range that does not impair the effects of the present invention, for example, if 50 mol% or more is polyester, a polyester other than polyester may be copolymerized or blended. Good.

【0013】本発明で使用するポリエステルは、耐熱
性、製膜性の点から、融点が240℃以上280℃以下
であることが好ましい。
The polyester used in the present invention preferably has a melting point of 240 ° C. or more and 280 ° C. or less from the viewpoint of heat resistance and film forming property.

【0014】本発明に使用するポリエステルの固有粘度
(25℃オルソクロロフェノール中で測定)は、0.4
0〜1.20dl/gが好ましく、より好ましくは0.
50〜0.85dl/gの範囲にあるものが本発明に適
したものである。
The intrinsic viscosity of the polyester used in the present invention (measured in orthochlorophenol at 25 ° C.) is 0.4.
0 to 1.20 dl / g is preferable, and more preferably 0.
Those in the range of 50 to 0.85 dl / g are suitable for the present invention.

【0015】また、本発明に使用するポリエステルに
は、本発明の目的を阻害しない範囲内で、酸化防止剤、
熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機添加剤が通常
添加される程度添加されていてもよい。
The polyester used in the present invention contains an antioxidant within a range not impairing the object of the present invention,
Organic additives such as heat stabilizers, lubricants, and ultraviolet absorbers may be added to the extent that they are usually added.

【0016】本発明のポリエステルフィルム中に含有さ
れる粒子は、モース硬度が8以上かつ平均粒径が0.0
01〜0.5μmの無機粒子である。本発明において
は、表層と裏層にそれぞれモース硬度8以上の無機粒子
が存在することにより、フイルムの滑り性と耐擦性、耐
摩耗性を著しく高められるばかりでなく、フイルムの透
明性も向上させることができる。ここで、平均粒径が
0.5μmより大きい場合は、凝集による粗大突起が生
じ、露光時のパターン欠陥となりやすいため好ましくな
い。一方、平均粒径が0.001μm未満の場合は、滑
り性の改良効果が得られにくいため好ましくない。該無
機粒子の平均粒径は、好ましくは0.005〜0.3μ
m、更に好ましくは0.005〜0.1μmの範囲であ
る。
The particles contained in the polyester film of the present invention have a Mohs hardness of 8 or more and an average particle size of 0.0.
The inorganic particles are from 01 to 0.5 μm. In the present invention, the presence of inorganic particles having a Mohs hardness of 8 or more in the front layer and the back layer not only significantly enhances the slipperiness, abrasion resistance and abrasion resistance of the film, but also improves the transparency of the film. Can be made. Here, if the average particle size is larger than 0.5 μm, coarse protrusions are generated due to aggregation, and pattern defects are likely to occur during exposure, which is not preferable. On the other hand, when the average particle diameter is less than 0.001 μm, it is difficult to obtain the effect of improving the slipperiness, which is not preferable. The average particle size of the inorganic particles is preferably 0.005 to 0.3 μm.
m, more preferably 0.005 to 0.1 μm.

【0017】該無機粒子の含有量としては、表層(A
層)および裏層(B層)の各層のポリエステルに対して
0.1〜10重量%であり、好ましくは0.2〜5重量
%、更に好ましくは0.3〜3重量%である。含有量が
10重量%を越えると無機粒子が凝集しやすくなり粗大
突起の原因となるばかりか、フイルムの強度が低下する
ため好ましくない。また、含有量が0.1重量%未満で
は、滑り性等の効果が不十分となり好ましくない。
The content of the inorganic particles is as follows:
It is 0.1 to 10% by weight, preferably 0.2 to 5% by weight, and more preferably 0.3 to 3% by weight, based on the polyester of each of the layers) and the back layer (B layer). If the content exceeds 10% by weight, the inorganic particles tend to agglomerate and cause coarse projections, and the strength of the film decreases, which is not preferable. On the other hand, if the content is less than 0.1% by weight, effects such as slipperiness are insufficient, which is not preferable.

【0018】モース硬度8以上の無機粒子としては、具
体的には、アルミナ、シリコンカーバイド、バナジウム
カーバイド、チタンカーバイド、ボロンカーバイド、ほ
う化タングステン、ボロンナイトライド等を挙げること
ができる。そして、これらの中では、工業的に入手が容
易なアルミナ又はシリコンカーバイド、とりわけ、アル
ミナが好ましく用いられる。モース硬度8以上の無機粒
子は、必要に応じて2種以上併用してもよい。
Specific examples of the inorganic particles having a Mohs hardness of 8 or more include alumina, silicon carbide, vanadium carbide, titanium carbide, boron carbide, tungsten boride, boron nitride and the like. Of these, industrially easily available alumina or silicon carbide, especially alumina, is preferably used. Two or more kinds of inorganic particles having a Mohs hardness of 8 or more may be used in combination, if necessary.

【0019】アルミナとしては、例えば、熱分解法によ
り得られるアルミナを挙げることができる。当該アルミ
ナは、通常、無水塩化アルミニウム原料として火焔加水
分解によって製造され、その平均粒径は通常、0.01
〜0.1μm程度である。
Examples of alumina include alumina obtained by a thermal decomposition method. The alumina is usually produced by flame hydrolysis as an anhydrous aluminum chloride raw material, and its average particle size is usually 0.01
Is about 0.1 μm.

【0020】また、本発明においては、アルコキシドの
加水分解法によるアルミナ粒子も好適に使用し得る。当
該アルミナは、通常、Al(OC2 H7 )2 又はAl
(OC4 H9 )2 を出発原料として製造され、加水分解
の条件を適宜選択することにより、0.5μm以下の微
粒子として得ることができる。この場合、合成したスラ
リーに酸を添加して透明なゾルを得、次いで、このゾル
をゲル化した後、500℃以上に加熱することにより、
アルミナの焼結体とする方法を採用することもできる。
Further, in the present invention, alumina particles obtained by a hydrolysis method of alkoxide can also be preferably used. The alumina is usually Al (OC2 H7) 2 or Al.
It is produced using (OC4 H9) 2 as a starting material, and can be obtained as fine particles of 0.5 μm or less by appropriately selecting the hydrolysis conditions. In this case, an acid is added to the synthesized slurry to obtain a transparent sol, which is then gelled, and then heated to 500 ° C. or higher,
A method of using a sintered body of alumina can also be adopted.

【0021】また、本発明においては、撹拌下、アルミ
ン酸ナトリウム溶液に酢酸メチルや酢酸エチルを加えて
AlOOHを得、次いで、これを加熱することによって
得られるアルミナ微粉末を用いてもよい。いずれにして
も、本発明においては、平均粒径0.01〜0.1μm
のアルミナが特に好ましく用いられる。
In the present invention, alumina fine powder obtained by adding methyl acetate or ethyl acetate to a sodium aluminate solution under stirring to obtain AlOOH and then heating this may be used. In any case, in the present invention, the average particle size is 0.01 to 0.1 μm.
Alumina is particularly preferably used.

【0022】また、本発明に使用する無機粒子としての
アルミナ種としては、γ−アルミナ、δ−アルミナおよ
びθ−アルミナの群から選ばれた少なくとも1種の粒子
もしくはそれらの混合物であることが好ましい。
The type of alumina used as the inorganic particles in the present invention is preferably at least one type of particles selected from the group consisting of γ-alumina, δ-alumina and θ-alumina, or a mixture thereof. .

【0023】本発明においては、上記のようなアルミナ
粒子を1次粒子まで完全に分散させて使用することが好
ましいが、フィルムの表面状態に悪影響を及ぼさない限
り、2次粒子のまま使用してもよい。但し、この場合
も、見かけ上の平均粒径は0.001〜0.5μmであ
る必要があり、0.01〜0.1μmのものが好ましく
用いられる。なお、アルミナが凝集粒子である場合、ア
ルミナの一部、例えば、30重量%未満がSi,Ti,
Fe,Na,K等の酸化物で置換されていてもよい。
In the present invention, it is preferable to use the above alumina particles by completely dispersing them to the primary particles, but the secondary particles may be used as they are as long as the surface condition of the film is not adversely affected. Good. However, also in this case, the apparent average particle size needs to be 0.001 to 0.5 μm, and the average particle size of 0.01 to 0.1 μm is preferably used. When the alumina is agglomerated particles, a part of the alumina, for example, less than 30% by weight of Si, Ti,
It may be substituted with an oxide such as Fe, Na or K.

【0024】本発明においては、表層(A層)と裏層
(B層)にモース硬度が8以上で且つ平均粒径が0.0
01〜0.5μmの無機粒子を特定量含有させることに
より、フィルムの透明性を向上しつつ、フイルム表面の
滑り性、耐擦傷性、耐摩耗性が著しく高められる。
In the present invention, the surface layer (A layer) and the back layer (B layer) have a Mohs hardness of 8 or more and an average particle size of 0.0.
By including a specific amount of the inorganic particles of 01 to 0.5 μm, the transparency of the film is improved, and the slipperiness, scratch resistance, and abrasion resistance of the film surface are significantly improved.

【0025】ここで、さらにフィルムの走行性や巻き取
り性、作業性を向上させるために、表層(A層)および
裏層(B層)のいずれにも、モース硬度8未満かつ平均
粒径0.2〜3μmの不活性粒子を併用することが好ま
しい。該不活性粒子の平均粒径は、0.5〜2μmがさ
らに好ましい。
Here, in order to further improve the running property, winding property, and workability of the film, both the surface layer (A layer) and the back layer (B layer) have a Mohs hardness of less than 8 and an average particle size of 0. It is preferable to use inactive particles having a diameter of 2 to 3 μm in combination. The average particle size of the inert particles is more preferably 0.5 to 2 μm.

【0026】モース硬度が8未満の不活性粒子の一例と
しては、具体的には、カオリン、タルク、カーボン、硫
化モリブデン、石膏、岩塩、炭酸カルシウム、酸化ケイ
素、硫酸バリウム、フッ化リチウム、フッ化カルシウ
ム、ゼオライト、リン酸カルシウム等の無機粒子や架橋
高分子による粒子を挙げることができる。これらの中で
は、ポリエステルに対する分散性の点から、炭酸カルシ
ウム、酸化ケイ素、硫酸バリウム、ゼオライト、リン酸
カルシウム、架橋高分子(例えば架橋ポリスチレン)が
好ましく用いられ、とくに架橋高分子が好ましく用いら
れる。
Specific examples of the inert particles having a Mohs hardness of less than 8 include kaolin, talc, carbon, molybdenum sulfide, gypsum, rock salt, calcium carbonate, silicon oxide, barium sulfate, lithium fluoride and fluorinated. Examples thereof include inorganic particles such as calcium, zeolite, and calcium phosphate, and particles made of a crosslinked polymer. Among these, calcium carbonate, silicon oxide, barium sulfate, zeolite, calcium phosphate, and a crosslinked polymer (for example, crosslinked polystyrene) are preferably used from the viewpoint of dispersibility in polyester, and a crosslinked polymer is particularly preferably used.

【0027】本発明において好ましく使用できる架橋高
分子としては、例えば、分子中に唯一個の脂肪族の不飽
和結合を有するモノビニル化合物(a)の一種以上と、
架橋剤として分子中に二個以上の脂肪族の不飽和結合を
有する化合物(b)の一種以上とを特定の開始剤の存在
下、乳化重合法で共重合させることにより得ることがで
きる。ここで言う乳化重合法とは、シード乳化重合等の
概念も包括した広義の乳化重合法を指す。モノビニル化
合物(a)の例としては、アクリル酸、メタクリル酸お
よびこれらのアルキルまたはグリシジルエステル、無水
マレイン酸およびそのアルキル誘導体、ビニルグリシジ
ルエーテル、酢酸ビニル、スチレン、アルキル置換スチ
レン等を挙げることができる。また化合物(b)として
は、ジビニルベンゼン、ジビニルスルホン、エチレング
リコールジメタクリレート、1,4ブタンジオールジア
クリレート等を挙げることができる。化合物(a)およ
び(b)は各々一種類以上用いて共重合するが、窒素原
子を含有する化合物やエチレンを共重合させてもよい。
ここで、重合開始剤としては、例えば過硫酸カリウム、
過硫酸カリウム−チオ硫酸ナトリウム、過酸化水素等の
水溶性の重合開始剤を挙げることができるが、これらに
限定されない。
The cross-linking polymer preferably used in the present invention includes, for example, one or more monovinyl compounds (a) having only one aliphatic unsaturated bond in the molecule,
It can be obtained by copolymerizing, as a cross-linking agent, one or more compounds (b) having two or more aliphatic unsaturated bonds in the molecule in the presence of a specific initiator by an emulsion polymerization method. The emulsion polymerization method here refers to an emulsion polymerization method in a broad sense that also includes the concept of seed emulsion polymerization and the like. Examples of the monovinyl compound (a) include acrylic acid, methacrylic acid and their alkyl or glycidyl esters, maleic anhydride and its alkyl derivatives, vinyl glycidyl ether, vinyl acetate, styrene, and alkyl-substituted styrene. Examples of the compound (b) include divinylbenzene, divinyl sulfone, ethylene glycol dimethacrylate, 1,4 butanediol diacrylate and the like. The compounds (a) and (b) are copolymerized by using one kind or more, but a compound containing a nitrogen atom or ethylene may be copolymerized.
Here, as the polymerization initiator, for example, potassium persulfate,
Examples thereof include, but are not limited to, water-soluble polymerization initiators such as potassium persulfate-sodium thiosulfate and hydrogen peroxide.

【0028】該架橋高分子は、上記した化合物の組み合
わせ、あるいは粒子の合成条件によっては、凝集粒子が
生成する場合があるので、粒子の分散性を保持するた
め、分散安定剤を用いることが好ましい。分散安定剤と
しては、例えば脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸
塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキルジフェ
ニルエーテルジスルホン酸塩、アルキルリン酸塩、ポリ
オキシエチレンアルキルまたはアルキルアリル硫酸エス
テル塩等の陰イオン性界面活性剤やポリオキシエチレン
アルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリル
エーテル、ポリオキシエチレン誘導体、ポリオキシエチ
レンオキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン
脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸
エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エス
テル、グリセリン脂肪酸エステル等の非イオン性界面活
性剤やアルキルアミン塩、第4級アンモニウム塩等の陽
イオン界面活性剤およびアルキルベタイン、アミンオキ
サイド等の両性界面活性剤を用いることができる。その
中でも特に、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸
塩等で代表される陰イオン性界面活性剤が好適に用いら
れる。
The crosslinked polymer may form agglomerated particles depending on the combination of the above-mentioned compounds or the conditions for synthesizing the particles. Therefore, it is preferable to use a dispersion stabilizer in order to maintain the dispersibility of the particles. . Examples of dispersion stabilizers include fatty acid salts, alkyl sulfate ester salts, alkylbenzene sulfonates, alkylsulfosuccinates, alkylnaphthalene sulfonates, alkyldiphenyl ether disulfonates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl or alkyl allyl sulfates. Anionic surfactants such as ester salts, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl allyl ethers, polyoxyethylene derivatives, polyoxyethylene oxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, polyoxy Nonionic surfactants such as ethylene sorbitol fatty acid ester and glycerin fatty acid ester, and positive ions such as alkylamine salts and quaternary ammonium salts. Surfactants and alkyl betaines, can be used cationic surfactants such as amine oxides. Among these, anionic surfactants typified by alkyl diphenyl ether disulfonate are preferably used.

【0029】また、不活性粒子として用いられる架橋高
分子は、窒素ガス中300℃で2時間加熱後の重量減少
が20重量%以下、より好ましくは10重量%以下であ
る耐熱性の良いものが好ましい。この値が20重量%を
超えると、粒子同士が融着し凝集粒子となる傾向があ
る。
The cross-linked polymer used as the inert particles has a good heat resistance such that the weight loss after heating for 2 hours at 300 ° C. in nitrogen gas is 20% by weight or less, more preferably 10% by weight or less. preferable. If this value exceeds 20% by weight, the particles tend to fuse together to form agglomerated particles.

【0030】架橋高分子不活性粒子製造の好ましい一態
様を示すと次のとおりである。すなわち、水媒体中に過
硫酸カリウム等の水溶性の重合開始剤とアルキルジフェ
ニルエーテルジスルホン酸塩等の分散安定剤とを所定量
溶解した後、所定量の前記した化合物(a)および
(b)の混合溶液を添加する。しかる後、重合開始剤の
分解開始温度以上、好ましくは30〜90℃で攪拌下3
〜10時間程度の反応を行うことで架橋高分子からなる
不活性粒子が得られる。この場合、不活性粒子は均一に
分散した水スラリーとして得られる。
A preferred embodiment of the production of crosslinked polymer inactive particles is as follows. That is, after dissolving a predetermined amount of a water-soluble polymerization initiator such as potassium persulfate and a dispersion stabilizer such as alkyldiphenyl ether disulfonate in an aqueous medium, a predetermined amount of the above-mentioned compounds (a) and (b) Add the mixed solution. Thereafter, the temperature is not lower than the decomposition start temperature of the polymerization initiator, preferably 30 to 90 ° C. under stirring for 3
By carrying out the reaction for about 10 hours, inert particles composed of a crosslinked polymer can be obtained. In this case, the inert particles are obtained as a uniformly dispersed water slurry.

【0031】モース硬度8未満の不活性粒子は、表層
(A層)および裏層(B層)のいずれの層にも、0.0
05〜0.5重量%添加するのが好ましく、より好まし
くは0.005〜0.1重量%である。ここで、モース
硬度8未満の不活性粒子の添加はフィルム表面の滑り性
を向上させる効果があるが、同時に透明性を低下させる
傾向があるため、滑り性の効果がある範囲内で少量の添
加にとどめるのが好ましい。
The inert particles having a Mohs hardness of less than 8 are 0.0 or less in both the surface layer (A layer) and the back layer (B layer).
It is preferable to add 05 to 0.5% by weight, and more preferably 0.005 to 0.1% by weight. Here, the addition of inert particles having a Mohs hardness of less than 8 has the effect of improving the slipperiness of the film surface, but at the same time tends to reduce the transparency, so addition of a small amount within the range where there is the effect of slipperiness It is preferable to limit it to.

【0032】本発明のフォトレジスト用積層ポリエステ
ルフィルムにおいて、表層(A層)および裏層(B層)
はそれぞれ粒子を含有するが、A層は滑り性を付与する
層であり、B層は本発明のフィルムを使用する際、感光
性樹脂組成物を積層する層である。本発明のフイルムの
構成としては、A/Bの2層構造が好ましいが、A/C
/Bの3層構造でも、あるいはそれ以上の多層構造でも
よい。ここで、/は積層を表す。
In the laminated polyester film for photoresist of the present invention, the surface layer (A layer) and the back layer (B layer)
Each contain particles, the layer A is a layer that imparts slipperiness, and the layer B is a layer on which a photosensitive resin composition is laminated when the film of the present invention is used. The film of the present invention preferably has a two-layer structure of A / B,
It may have a three-layer structure of / B or a multi-layer structure having more layers. Here, / represents stacking.

【0033】A、B、Cの各層は、同種あるいは異種の
ポリエステルを用いても良く、同種あるいは異種の無機
粒子を添加してもよい。例えば同種の原料を用いて単に
A層とB層の厚み比を変えたものでもよい。すなわち、
例えば同じポリエステル組成物を原料として厚みを薄く
したA層をB層に積層することにより、A層表面にB層
よりも少ない数の突起を形成させる方法も用いることが
できる。
For each of the layers A, B and C, the same or different polyesters may be used, or the same or different inorganic particles may be added. For example, the same kind of raw material may be used and the thickness ratio of the A layer and the B layer may be simply changed. That is,
For example, a method of forming a smaller number of protrusions on the surface of the A layer than the B layer by laminating the A layer having a reduced thickness using the same polyester composition as the raw material on the B layer can also be used.

【0034】本発明のフィルムのA層の厚みは、B層よ
り薄いことが必要である。A層の厚みとしては好ましく
は0.05〜10μm、さらに好ましくは0.1〜3μ
m、とくに好ましくは0.1〜2μmである。A層厚み
が10μmを超えると、フィルムの透明性を高度に満足
することができなくなる恐れがある。一方、A層厚みが
0.05μm未満では、A層中に含有する粒子が脱落し
やすくなり、フィルムの耐摩耗性が悪化する恐れがあ
る。また、脱落粒子や摩耗粉が発生してフィルムとフォ
トレジスト層との間に入り込むと、感光性樹脂の反応性
に影響を与える可能性がある。
The thickness of the layer A of the film of the present invention must be smaller than that of the layer B. The thickness of the layer A is preferably 0.05 to 10 μm, more preferably 0.1 to 3 μm.
m, particularly preferably 0.1 to 2 μm. When the thickness of the layer A exceeds 10 μm, the transparency of the film may not be highly satisfied. On the other hand, when the thickness of the A layer is less than 0.05 μm, the particles contained in the A layer are likely to fall off, and the abrasion resistance of the film may be deteriorated. Further, if particles that fall off or abrasion powder are generated and enter between the film and the photoresist layer, the reactivity of the photosensitive resin may be affected.

【0035】また、B層の厚みとしては好ましくは1〜
200μm、さらに好ましくは3〜100μm、とくに
好ましくは5〜50μmである。
The thickness of layer B is preferably 1 to
The thickness is 200 μm, more preferably 3 to 100 μm, and particularly preferably 5 to 50 μm.

【0036】本発明のフィルムのフイルムヘイズは2.
0%以下である必要がある。フイルムヘイズは好ましく
は1.5%以下、さらに好ましくは1.1%以下であ
る。ヘイズが2.0%を越えると解像度が不十分になる
ため好ましくない。したがって、フイルムヘイズを2.
0%以下にするように、粒子の種類、粒径、添加量、あ
るいは積層厚み等を調整することが必要である。
The film haze of the film of the present invention is 2.
It should be 0% or less. The film haze is preferably 1.5% or less, more preferably 1.1% or less. If the haze exceeds 2.0%, the resolution becomes insufficient, which is not preferable. Therefore, the film haze is 2.
It is necessary to adjust the type of particles, the particle size, the addition amount, the laminated thickness, etc. so that the content is 0% or less.

【0037】本発明のフィルムの表面の平均粗さRa
は、A層表面で0.005μm以上である必要があり、
好ましくは0.01μm以上、更に好ましくは0.01
〜0.05μmである。A層表面の平均粗さRaが0.
005μm未満では、フィルムの取扱い性、巻き特性が
不十分となるため好ましくない。一方、0.05μmを
超えると解像度が低下することがある。
Average roughness Ra of the surface of the film of the present invention
Is required to be 0.005 μm or more on the surface of layer A,
Preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.01
Is about 0.05 μm. The average roughness Ra of the surface of the A layer is 0.
When the thickness is less than 005 μm, the handling property and winding property of the film become insufficient, which is not preferable. On the other hand, if the thickness exceeds 0.05 μm, the resolution may decrease.

【0038】また、B層表面の平均粗さRaは、0.0
5μm以下である必要があり、好ましくは0.001〜
0.03μm、更に好ましくは0.005〜0.02μ
mである。B層表面の平均粗さRaが0.05μmを越
えるとパターンの欠陥が生じ、解像度が低下してしまう
ため好ましくない。
The average roughness Ra of the surface of the B layer is 0.0
It is necessary to be 5 μm or less, preferably 0.001 to
0.03 μm, more preferably 0.005-0.02 μm
m. If the average roughness Ra of the surface of the B layer exceeds 0.05 μm, pattern defects occur and the resolution deteriorates, which is not preferable.

【0039】次に本発明のフィルムの好ましい製造方法
について説明する。
Next, a preferable method for producing the film of the present invention will be described.

【0040】まず、ポリエステルに不活性粒子を含有せ
しめる方法としては、ジオール成分であるエチレングリ
コール中に不活性粒子をスラリーの形で分散せしめ、こ
のエチレングリコールを所定のジカルボン酸成分と重合
せしめる方法が、延伸破れなく、好ましい配向状態のフ
ィルムを得るのに有効である。また、不活性粒子を含有
するポリエステルの溶融粘度、共重合成分などを調節し
て、その結晶化パラメータΔTcgを40〜65℃の範
囲にしておく方法は、延伸破れなく、フォトレジスト用
途に好適なフィルムを得るのに有効である。
First, as a method of incorporating the inert particles into the polyester, there is a method of dispersing the inert particles in the form of a slurry in ethylene glycol which is a diol component and polymerizing the ethylene glycol with a predetermined dicarboxylic acid component. It is effective for obtaining a film in a preferred orientation state without stretching breakage. Further, the method of adjusting the melt viscosity of the polyester containing the inert particles, the copolymerization component and the like to keep the crystallization parameter ΔTcg in the range of 40 to 65 ° C. is suitable for photoresist use without stretching breakage. It is effective in obtaining a film.

【0041】また、不活性粒子を含むエチレングリコー
ルのスラリー液を140〜200℃、特に180〜20
0℃の温度で30分〜5時間、特に1〜3時間熱処理す
る方法は、延伸破れなく、好ましい配向状態、表層粒子
濃度比のフィルムを得るのに有効である。
A slurry of ethylene glycol containing inert particles is heated to 140 to 200 ° C., particularly 180 to 20.
The method of heat treatment at a temperature of 0 ° C. for 30 minutes to 5 hours, particularly 1 to 3 hours is effective for obtaining a film having a preferable orientation state and a surface layer particle concentration ratio without stretching breakage.

【0042】また、ポリエステルに不活性粒子を含有せ
しめる別の方法として、不活性粒子をエチレングリコー
ル中で140〜200℃、特に180〜200℃の温度
で30分〜5時間、特に1〜3時間熱処理した後、溶媒
を水に置換したスラリーの形でポリエステルと混合し、
ベント方式の2軸押出機を用いて混練してポリエステル
に練り込む方法も好ましく用いられる。
As another method for incorporating the inert particles into the polyester, the inert particles are heated in ethylene glycol at a temperature of 140 to 200 ° C., particularly 180 to 200 ° C. for 30 minutes to 5 hours, particularly 1 to 3 hours. After heat treatment, mixed with polyester in the form of a slurry in which the solvent was replaced with water,
A method of kneading using a vent type twin-screw extruder and kneading into polyester is also preferably used.

【0043】不活性粒子の含有量を調節する方法として
は特に限定されないが、たとえば上記したいずれかの方
法で高濃度マスターを作っておき、それをフィルム製膜
時に不活性粒子を実質的に含有しないポリエステルで希
釈して粒子の含有量を調節する方法が有効であり、好ま
しく用いられる。
The method for adjusting the content of the inert particles is not particularly limited, but for example, a high-concentration master is prepared by any of the above-mentioned methods, and the inert particles are substantially contained during the film formation. A method of adjusting the content of particles by diluting with a non-useful polyester is effective and is preferably used.

【0044】表層(A層)と裏層(B層)を構成するフ
ィルムを積層する方法としては、次の方法が有効であ
る。すなわち、不活性粒子を所定量含有するポリエステ
ルペレットを必要に応じて乾燥したのち、A層を構成す
るポリエステルAとB層を構成するポリエステルB
(A、Bは同種、異種どちらでもよい)の所定量を公知
の溶融積層用押出機に供給し、ポリエステルの融点以
上、分解点以下でスリット状のダイからシート状に押出
し、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延伸
フィルムを作製する。より具体的には、2または3台の
押出機、2または3層のマニホールドまたは合流ブロッ
クを用いて、ポリエステルA、Bを積層し、口金から2
または3層のシートを押出し、キャスティングロールで
冷却して未延伸フィルムを作製する。この場合、ポリエ
ステルAのポリマ流路に、スタティックミキサー、ギヤ
ポンプを設置する方法は、延伸破れない良質のフィルム
を得るのに有効である。また、ポリエステルA側の押出
機の溶融温度を、ポリエステルB側より、10〜40℃
高くすることが、延伸破れない良質なフィルムを得るの
に有効である。
The following method is effective as a method for laminating the films constituting the surface layer (A layer) and the back layer (B layer). That is, a polyester pellet containing a predetermined amount of inert particles is dried as needed, and then a polyester A constituting the A layer and a polyester B constituting the B layer are formed.
A predetermined amount of (A and B may be the same or different) is supplied to a known extruder for melt lamination, and extruded into a sheet from a slit die at a melting point of polyester or more and a decomposition point or less, and then on a casting roll. It is cooled and solidified to prepare an unstretched film. More specifically, two or three extruders, two or three layer manifolds or confluent blocks are used to laminate polyesters A and B, and the two die
Alternatively, a three-layer sheet is extruded and cooled with a casting roll to produce an unstretched film. In this case, the method of installing a static mixer and a gear pump in the polymer channel of polyester A is effective for obtaining a good quality film that does not stretch and break. Further, the melting temperature of the extruder on the polyester A side is 10 to 40 ° C. from the polyester B side.
A higher value is effective for obtaining a good quality film that does not stretch and break.

【0045】この未延伸フィルムを二軸延伸し、二軸配
向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法または
同時二軸延伸法を用いることができる。同時二軸延伸法
を用いることにより、本発明のフィルムを生産性高く低
コストで製造することができる。ここで、縦延伸倍率は
3.5〜6.5倍、横方向の延伸倍率は、3.0〜5.
0倍の範囲が好ましい。
This unstretched film is biaxially stretched and biaxially oriented. As a stretching method, a sequential biaxial stretching method or a simultaneous biaxial stretching method can be used. By using the simultaneous biaxial stretching method, the film of the present invention can be produced with high productivity and at low cost. Here, the longitudinal stretching ratio is 3.5 to 6.5, and the transverse stretching ratio is 3.0 to 5.
A range of 0 times is preferable.

【0046】また、最初に縦(長手)方向、次に横
(幅)方向の延伸を行なう逐次二軸延伸法を用い、長手
方向の延伸を3段階以上に分けて、総縦延伸倍率を3.
5〜6.5倍で行なう方法も好ましく用いられる。本方
法は、延伸破れなく、好ましい配向状態、表層粒子濃度
比のフィルムを得るのに有効な方法である。その際、長
手方向延伸温度は、通常、その1段目を50〜130℃
とし、2段目以降はそれより高くすることが好ましい。
また、長手方向延伸速度は5000〜50000%/分
の範囲が好適である。一方、幅方向の延伸方法としては
ステンタを用いる方法が一般的である。また、幅方向の
延伸倍率は、3.0〜5.0倍の範囲が好ましい。幅方
向の延伸速度は、1000〜20000%/分、温度は
80〜160℃の範囲が好適である。
Further, a sequential biaxial stretching method in which stretching is first carried out in the longitudinal (longitudinal) direction and then in the transverse (width) direction, the longitudinal stretching is divided into three stages or more, and the total longitudinal stretching ratio is 3. .
A method of carrying out 5 to 6.5 times is also preferably used. This method is an effective method for obtaining a film having a preferable orientation state and surface layer particle concentration ratio without stretching breakage. At that time, the longitudinal stretching temperature is usually 50 to 130 ° C. in the first step.
However, it is preferable that the second and subsequent stages have higher heights.
Further, the longitudinal stretching speed is preferably in the range of 5,000 to 50,000% / min. On the other hand, as a stretching method in the width direction, a method using a stenter is generally used. Further, the stretching ratio in the width direction is preferably in the range of 3.0 to 5.0 times. The stretching speed in the width direction is preferably 1000 to 20000% / min, and the temperature is preferably 80 to 160 ° C.

【0047】次に、この延伸フィルムを熱処理する。こ
の場合の熱処理温度は、170〜250℃が好ましく、
さらに好ましくは180〜240℃、熱処理時間は0.
5〜60秒の範囲が好適である。
Next, this stretched film is heat-treated. In this case, the heat treatment temperature is preferably 170 to 250 ° C,
More preferably, it is 180 to 240 ° C., and the heat treatment time is 0.
A range of 5-60 seconds is preferred.

【0048】本発明のフイルムは、フォトレジスト用の
基材フイルムとして使用される。フォトレジスト用途で
あれば特に限定されないが、例えば高精細のドライフォ
トレジスト用に好適に使用される。また、本発明のフィ
ルムの特性から、、フォトレジスト用途以外、すなわち
透明性と滑り性が求められる窓貼り用フイルム、ラミネ
ート用フイルムとして用いてもよい。
The film of the present invention is used as a base film for photoresist. The photoresist is not particularly limited as long as it is used as a photoresist, but is preferably used for a high-definition dry photoresist, for example. Further, due to the characteristics of the film of the present invention, it may be used as a film for laminating windows and a film for laminating, which is required to have transparency and slipperiness, other than photoresist applications.

【0049】[0049]

【実施例】本発明に用いた物性の測定方法および効果の
評価方法を記載する。
EXAMPLES The methods for measuring physical properties and the methods for evaluating effects used in the present invention will be described.

【0050】(1)粒子の平均粒径:D フィルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法
(たとえばヤマト科学製PR−503型)で除去し粒子
を露出させる。処理条件はポリエステルは灰化されるが
粒子はダメージを受けない条件を選択する。これをSE
M(走査型電子顕微鏡)で観察し、粒子の画像(粒子に
よってできる光の濃淡)をイメージアナライザー(たと
えばケンブリッジインストルメント製QTM900)に
結び付け、観察箇所を変えて粒子数5000個以上で次
の数値処理を行ない、それによって求めた数平均径Dを
平均粒径とする。 D=ΣDi /N ここでDi は粒子の円相当径、Nは粒子の個数である。
(1) Average particle size of particles: D Polyester is removed from the film by a plasma low temperature ashing method (for example, PR-503 type manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) to expose the particles. The processing conditions are selected such that polyester is incinerated but particles are not damaged. This is SE
Observe with M (scanning electron microscope), connect the image of the particles (light and shade of light produced by the particles) to an image analyzer (for example, QTM900 made by Cambridge Instruments), change the observation point and the number of particles is 5000 or more. The number average diameter D obtained by the treatment is used as the average particle diameter. D = ΣDi / N Here, Di is the equivalent circle diameter of particles, and N is the number of particles.

【0051】(2)粒子の含有量 ポリエステルは溶解するが粒子は溶解させない溶媒を選
択し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体
重量に対する比率(重量%)をもって粒子含有量とし
た。
(2) Content of Particles A solvent in which the polyester is dissolved but the particles are not dissolved is selected, the particles are centrifuged from the polyester, and the ratio (% by weight) to the total weight of the particles is defined as the particle content.

【0052】(3)積層フィルム中のA層、B層の厚さ 2次イオン質量分析装置(SIMS)を用いて、フィル
ム中の粒子の内、最も高濃度の粒子に起因する元素M+
とポリエステルの炭素元素C+ の濃度比(M+/C+ )
を粒子濃度とし、A層の表面から深さ(厚さ)方向の分
析を行なう。A層の表面近くは粒子濃度は低く表面から
遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。本発明フィルム
の場合は、深さ[I]でいったん極大値となった粒子濃
度がまた減少し始める。この濃度分布曲線をもとに極大
値の粒子濃度の1/2になる深さ[II](ここでII
>I)をA層の厚さとした。B層の厚さは、本発明のフ
ィルム全体の厚さから[II]を引いた値とした。な
お、厚さ測定は任意の3箇所について行い、その平均値
を用いた。なお、フィルム中にもっとも多く含有する粒
子が有機高分子から成る粒子の場合はSIMSでは測定
が難しいので、表面からエッチングしながらXPS(X
線光電子分光法)を用い、その粒子濃度のデプスプロフ
ァイルを測定し、上記同様の手法から積層厚さを求め
た。
(3) Thickness of layers A and B in the laminated film Using a secondary ion mass spectrometer (SIMS), the element M + derived from the highest concentration of particles in the film
Ratio of carbon element C + of polyester and polyester (M + / C +)
Is set as the particle concentration and the analysis is performed in the depth (thickness) direction from the surface of the A layer. The particle concentration is low near the surface of the layer A and increases as it moves away from the surface. In the case of the film of the present invention, the particle concentration once reaching the maximum value at the depth [I] starts to decrease again. Based on this concentration distribution curve, the depth [II] (where II
> I) is the thickness of the A layer. The thickness of the B layer was a value obtained by subtracting [II] from the total thickness of the film of the present invention. The thickness was measured at three arbitrary points and the average value was used. If the most abundant particles in the film are particles of organic polymer, it is difficult to measure with SIMS, so XPS (X
Line photoelectron spectroscopy), the depth profile of the particle concentration was measured, and the laminated thickness was determined by the same method as above.

【0053】(4)フイルムヘイズ JIS−K−7105に準じてフイルムのヘイズを測定
した。
(4) Film haze The film haze was measured according to JIS-K-7105.

【0054】(5)表面の平均粗さ:Ra (株)小坂製作所製の高精度薄膜段差計ET−10を用
いて測定した。条件は、触針先端半径0.5μm、針圧
5mg、測定長1mm、カットオフ0.08mmであ
る。尚、Raの定義は例えば奈良治郎著「表面粗さ測定
法」(総合技術センター、1983年)に示されている
ものである。
(5) Average surface roughness: Ra was measured using a high precision thin film step gauge ET-10 manufactured by Kosaka Seisakusho. The conditions are a tip radius of the stylus of 0.5 μm, a needle pressure of 5 mg, a measurement length of 1 mm, and a cutoff of 0.08 mm. The definition of Ra is given, for example, in Jiro Nara "Surface Roughness Measuring Method" (General Technology Center, 1983).

【0055】(6)巻き性 幅1000mm、長さ4000mにフイルムをスリット
し、長さ1200mm、内径6インチ、肉厚12mmの
紙コアに巻き取り、巻き状態を観察し、次の基準で判定
した。○を合格とした。 しわ等の欠点の無い巻き姿のもの : ○ しわ等の欠点のあるもの : × (7)解像度 フィルムに公知の感光性樹脂を厚さ45μmに塗布した
後、該フイルムを銅貼り積層板にラミネート後、解像度
評価用のネガフイルム(STOUFFER GRAPH
IC ARTS EQUIPMENT社,21STE
P,SENSITIVITY GUIDE,#T211
5)を設けて露光しフイルムを除去した。次いで30
℃、1.0重量%炭酸ナトリウム水溶液を用いてスプレ
ー圧1.0kg/cm2 で60秒間スプレーして未露光
部分を除去し、銅貼り積層板上の光硬化膜のステップタ
ブレットの段数を測定し、次の基準で判定した。ここ
で、段数が大きい程、解像度に優れている。○を合格と
判定した。 段数8.0以上 : 解像度 ○ 段数8.0未満 : 解像度 × (8)固有粘度:[η] オルトクロロフェノール中、25℃で測定した溶液粘度
より、次式から計算される値を用いた。 ηsp/C=[η]+K[η]2・C ここで、ηsp=(溶液粘度/溶媒粘度)−1 C:溶媒100mlあたりの溶解ポリマー重量(g/1
00ml) K:ハギンス定数(0.343) なお、溶液粘度、溶媒粘度はオストワルド粘度計にて測
定した。
(6) Rollability A film was slit into a width of 1000 mm and a length of 4000 m, wound on a paper core having a length of 1200 mm, an inner diameter of 6 inches and a wall thickness of 12 mm, and the wound state was observed and judged according to the following criteria. . ○ was passed. Wound with no defects such as wrinkles: ○ Defects such as wrinkles: × (7) A known photosensitive resin was applied to a resolution film to a thickness of 45 μm, and then the film was laminated on a copper-clad laminate. Later, a negative film for resolution evaluation (STOUFFER GRAPH
IC ARTS EQUIPMENT, 21STE
P, SENSITIVITY GUIDE, # T211
5) was provided and exposed to remove the film. Then 30
The unexposed part is removed by spraying with a 1.0 wt% sodium carbonate aqueous solution at a spraying pressure of 1.0 kg / cm 2 for 60 seconds, and the number of step tablets of the photocured film on the copper-clad laminate is measured. Then, it was judged according to the following criteria. Here, the larger the number of steps, the better the resolution. ◯ was judged to be acceptable. Number of stages 8.0 or more: resolution ○ Number of stages less than 8.0: resolution × (8) Intrinsic viscosity: [η] The value calculated from the following formula was used from the solution viscosity measured in orthochlorophenol at 25 ° C. ηsp / C = [η] + K [η] 2 · C where ηsp = (solution viscosity / solvent viscosity) -1 C: weight of dissolved polymer per 100 ml of solvent (g / 1
00 ml) K: Huggins constant (0.343) The solution viscosity and the solvent viscosity were measured with an Ostwald viscometer.

【0056】(9)カルボキシル末端基量 ポリマをオルトクレゾール/クロロホルム(重量比7/
3)に90〜100℃で溶解し、アルカリで電位差測定
して求めた。
(9) Orthocresol / chloroform (weight ratio 7 /
3) was dissolved at 90 to 100 ° C., and the potential difference was measured with an alkali.

【0057】次に実施例に基づいて説明するが、本発明
はこれに限定されるものではない。
Next, the present invention will be described based on examples, but the present invention is not limited thereto.

【0058】実施例1 表層(A層)に使用するポリエステルAとして、平均粒
径0.05μmのδ−アルミナ粒子(モース硬度9)を
0.7重量%、平均粒径1.1μmの炭酸カルシウム粒
子(モース硬度3)を0.04重量%含有するポリエチ
レンテレフタレート(固有粘度0.63dl/g、カル
ボキシル末端基量38当量/トン)、裏層(B層)に使
用するポリエステルBとして平均粒径0.05μmのδ
−アルミナ粒子(モース硬度9)を0.1重量%含有す
るポリエチレンテレフタレート(固有粘度0.64dl
/g、カルボキシル末端基量38当量/トン)をそれぞ
れ水分率20ppmに真空乾燥した後、それぞれ別の押
出機に供給して、280℃で溶融し、A層/B層の2層
になるようにポリマーを合流させた後、T字型口金から
シート状に押出し、これを表面温度25℃の冷却ドラム
に静電密着法で冷却固化せしめた。このようにして得ら
れた積層未延伸フイルムを、90℃に加熱した後、長手
方向に105℃にて3.6倍延伸し、次いで108℃に
加熱しつつ幅方向に4.0倍延伸した。このフイルムを
220℃の熱風中に導き入れ、3秒間緊張熱処理した
後、同じ雰囲気温度内で横方向に元のフイルム幅の5%
リラックスを施し冷却することで、2軸延伸された積層
ポリエステルフィルムが得られた。このフィルムの厚み
はA層が2.0μm、B層が14μmの合計16μmで
あった。
Example 1 As polyester A used for the surface layer (A layer), 0.7% by weight of δ-alumina particles (Mohs hardness 9) having an average particle size of 0.05 μm and calcium carbonate having an average particle size of 1.1 μm were used. Polyethylene terephthalate containing 0.04% by weight of particles (Mohs hardness 3) (intrinsic viscosity 0.63 dl / g, carboxyl end group amount 38 equivalents / ton), average particle size as polyester B used for back layer (B layer) Δ of 0.05 μm
-Polyethylene terephthalate containing 0.1% by weight of alumina particles (Mohs hardness 9) (intrinsic viscosity 0.64 dl
/ G, the amount of carboxyl end groups is 38 equivalents / ton), respectively, are vacuum-dried to a water content of 20 ppm, then supplied to different extruders and melted at 280 ° C. so that two layers of A layer / B layer are formed. After merging the polymer with the above, it was extruded into a sheet form from a T-shaped die and cooled and solidified on a cooling drum having a surface temperature of 25 ° C. by an electrostatic adhesion method. The laminated unstretched film thus obtained was heated to 90 ° C., stretched in the longitudinal direction at 105 ° C. by 3.6 times, and then heated at 108 ° C. in the width direction by 4.0 times. . This film was introduced into hot air at 220 ° C. and subjected to tension heat treatment for 3 seconds, and then 5% of the original film width in the lateral direction within the same atmospheric temperature.
By relaxing and cooling, a biaxially stretched laminated polyester film was obtained. The thickness of this film was 16 μm, that is, the A layer was 2.0 μm and the B layer was 14 μm.

【0059】実施例2 ポリエステルBとして平均粒径0.05μmのδ−アル
ミナ粒子(モース硬度9)を0.1重量%、平均粒径
1.1μmの炭酸カルシウム粒子(モース硬度3)を
0.005重量%含有するポリエチレンテレフタレート
(固有粘度0.64dl/g、カルボキシル末端基量3
8当量/トン)を使用した以外は実施例1と同様に2軸
延伸された積層ポリエステルフィルムを製造し、最終的
にA層が1.0μm、B層が15μmの合計16μmの
フイルムを得た。
Example 2 As polyester B, δ-alumina particles having an average particle size of 0.05 μm (Mohs hardness 9) was 0.1% by weight, and calcium carbonate particles having an average particle size of 1.1 μm (Mohs hardness 3) was 0.1%. Polyethylene terephthalate containing 005% by weight (intrinsic viscosity 0.64 dl / g, carboxyl end group amount 3
A biaxially stretched laminated polyester film was produced in the same manner as in Example 1 except that 8 equivalents / ton) was used, and finally a film having a total thickness of 16 μm, in which the A layer was 1.0 μm and the B layer was 15 μm, was obtained. .

【0060】実施例3 ポリエステルAとして平均粒径0.05μmのδ−アル
ミナ粒子(モース硬度9)を0.7重量%、平均粒径
1.2μmの二酸化ケイ素粒子(モース硬度7)を0.
02重量%含有するポリエチレンテレフタレート(固有
粘度0.63dl/g、カルボキシル末端基量38当量
/トン)、ポリエステルBとして平均粒径0.05μm
のδ−アルミナ粒子(モース硬度9)を0.1重量%、
平均粒径1.2μmの二酸化ケイ素粒子(モース硬度
7)を0.005重量%含有含有するポリエチレンテレ
フタレート(固有粘度0.64dl/g、カルボキシル
末端基量38当量/トン)を使用した以外は実施例1と
同様に2軸延伸されたポリエステルフィルムを製造し、
最終的にA層が1.0μm、B層が15μmの合計16
μmのフイルムを得た。
Example 3 As polyester A, 0.7% by weight of δ-alumina particles (Mohs hardness 9) having an average particle diameter of 0.05 μm and silicon dioxide particles (Mohs hardness 7) having an average particle diameter of 1.2 μm were used.
Polyethylene terephthalate containing 02% by weight (intrinsic viscosity 0.63 dl / g, carboxyl end group amount 38 equivalent / ton), polyester B having an average particle diameter of 0.05 μm
0.1% by weight of δ-alumina particles (Mohs hardness 9) of
Except for using polyethylene terephthalate containing silicon dioxide particles having an average particle diameter of 1.2 μm (Mohs hardness 7) in an amount of 0.005% by weight (intrinsic viscosity 0.64 dl / g, carboxyl end group amount 38 equivalent / ton). A biaxially stretched polyester film was produced in the same manner as in Example 1,
Finally, the A layer is 1.0 μm and the B layer is 15 μm, for a total of 16
A film of μm was obtained.

【0061】実施例4 実施例2と同様のポリエステルを使用して積層した未延
伸フイルムを得た後、同時二軸延伸機を用いて、フイル
ムを90℃で2秒間加熱後、106℃で長手方向に3.
6倍、横方向に3.8倍同時二軸延伸を行った後、この
フイルムを220℃で3秒間緊張熱処理した後、同じ雰
囲気温度内で横方向に元のフイルム幅の5%、長手方向
に1%でリラックスを施し冷却した。最終的にA層が
1.0μm、B層が15μmの合計16μmのフイルム
を得た。
Example 4 After obtaining an unstretched film laminated by using the same polyester as in Example 2, the film was heated at 90 ° C. for 2 seconds using a simultaneous biaxial stretching machine, and then stretched at 106 ° C. Direction 3.
After the film was simultaneously biaxially stretched 6 times and 3.8 times in the transverse direction, this film was subjected to tension heat treatment at 220 ° C. for 3 seconds, and then 5% of the original film width in the transverse direction in the same atmosphere temperature in the longitudinal direction. 1% to relax and cool. Finally, a film having a total thickness of 16 μm, in which the A layer was 1.0 μm and the B layer was 15 μm, was obtained.

【0062】実施例1〜4で得られたフィルムを前述し
たフィルムの評価方法で評価した結果、巻き性および解
像度に優れていた。結果をまとめて表1に示す。
The films obtained in Examples 1 to 4 were evaluated by the above-mentioned film evaluation method, and as a result, they were excellent in winding property and resolution. The results are summarized in Table 1.

【0063】比較例1 平均粒径0.05μmのδ−アルミナ粒子(モース硬度
9)を0.5重量%、平均粒径1.1μmの炭酸カルシ
ウム粒子(モース硬度3)を0.04重量%含有するポ
リエチレンテレフタレート(固有粘度0.63dl/
g、カルボキシル末端基量38当量/トン)のみを使用
し、280℃で溶融し単層からなる未延伸フイルムを得
た後、実施例1と同様に延伸、熱処理を行い、16μm
のフイルムを得た。評価結果を表1に示す。単層からな
る本比較例のフイルムは解像度に劣っていた。
Comparative Example 1 0.5% by weight of δ-alumina particles having an average particle size of 0.05 μm (Mohs hardness 9) and 0.04% by weight of calcium carbonate particles having an average particle size of 1.1 μm (Mohs hardness 3). Polyethylene terephthalate contained (intrinsic viscosity 0.63 dl /
g, the amount of carboxyl end groups is 38 equivalents / ton), and melted at 280 ° C. to obtain an unstretched film consisting of a single layer. Then, stretching and heat treatment are performed in the same manner as in Example 1 to obtain 16 μm.
I got a film. The evaluation results are shown in Table 1. The film of this comparative example having a single layer was inferior in resolution.

【0064】比較例2 実施例2と同様にフイルムを製造し、最終的にA層が1
2μm、B層が4μmの合計16μmのフイルムを得
た。評価結果を表1に示す。A層の厚みが厚くヘイズの
大きな本比較例のフイルムは解像性に劣るものであっ
た。
Comparative Example 2 A film was produced in the same manner as in Example 2, and finally the A layer was 1
A film having a total thickness of 2 μm and a layer B of 4 μm and a total thickness of 16 μm was obtained. The evaluation results are shown in Table 1. The film of this comparative example, in which the thickness of the A layer was large and the haze was large, was inferior in resolution.

【0065】比較例3 ポリエステルAとして平均粒径0.05μmのδ−アル
ミナ粒子(モース硬度9)を0.7重量%、平均粒径
1.1μmの炭酸カルシウム粒子(モース硬度3)を
0.6重量%含有含有するポリエチレンテレフタレート
(固有粘度0.64dl/g、カルボキシル末端基量3
8当量/トン)を使用した以外は実施例2と同様に製造
し、最終的にA層が1.0μm、B層が15μmの合計
16μmのフイルムを得た。評価結果を表1に示す。ヘ
イズが本発明の範囲を外れる本比較例のフイルムは解像
性に劣るものであった。
Comparative Example 3 As polyester A, 0.7% by weight of δ-alumina particles having an average particle size of 0.05 μm (Mohs hardness 9) and calcium carbonate particles having an average particle size of 1.1 μm (Mohs hardness 3) of 0. Polyethylene terephthalate containing 6% by weight (intrinsic viscosity 0.64 dl / g, carboxyl end group amount 3
The film was produced in the same manner as in Example 2 except that 8 equivalents / ton) was used, and finally a film having a total thickness of 16 μm was obtained in which the A layer was 1.0 μm and the B layer was 15 μm. The evaluation results are shown in Table 1. The film of this comparative example having a haze outside the range of the present invention was inferior in resolution.

【0066】比較例4 ポリエステルBとして平均粒径1.1μmの炭酸カルシ
ウム粒子(モース硬度3)を0.005重量%含有含有
するポリエチレンテレフタレート(固有粘度0.64d
l/g、カルボキシル末端基量38当量/トン)を使用
した以外は実施例1と同様に製造し、最終的にA層が
1.0μm、B層が15μmの合計16μmのフイルム
を得た。評価結果を表1に示す。B層に無機粒子を含有
しない本比較例のフイルムは巻き性が悪く、また滑りが
悪いため加工性にも劣っていた。
Comparative Example 4 Polyethylene terephthalate (intrinsic viscosity 0.64d) containing 0.005% by weight of calcium carbonate particles (Mohs hardness 3) having an average particle size of 1.1 μm as polyester B
A film was produced in the same manner as in Example 1 except that 1 / g, the amount of carboxyl end groups was 38 equivalents / ton) was used, and finally a film having a total thickness of 16 μm was obtained, in which the A layer was 1.0 μm and the B layer was 15 μm. The evaluation results are shown in Table 1. The film of this comparative example, which did not contain inorganic particles in the B layer, had poor winding property and poor slipperiness, and thus was inferior in processability.

【0067】[0067]

【表1】 [Table 1]

【0068】[0068]

【発明の効果】本発明により、フィルムの巻き取り性に
優れ、フォトレジスト用途に使用したときに優れた解像
度を与える基材フィルムであるフォトレジスト用積層ポ
リエステルフイルムを提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a laminated polyester film for photoresist which is a base film which is excellent in film winding property and gives excellent resolution when used in photoresist applications.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA00 AA02 AB11 AB15 AC01 AD01 BC13 BC42 DA20 4F100 AA19A AA19B AK41A AK41B AK42 BA02 CA23A CA23B DD01A DD01B DD07A DD07B DE01A DE01B EH172 EJ38A EJ38B EJ382 EJ422 JK12A JK12B YY00A YY00B    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2H025 AA00 AA02 AB11 AB15 AC01                       AD01 BC13 BC42 DA20                 4F100 AA19A AA19B AK41A AK41B                       AK42 BA02 CA23A CA23B                       DD01A DD01B DD07A DD07B                       DE01A DE01B EH172 EJ38A                       EJ38B EJ382 EJ422 JK12A                       JK12B YY00A YY00B

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも2層以上からなるポリエステル
フイルムであり、表層(A層)および裏層(B層)のい
ずれの層にも、モース硬度が8以上かつ平均粒径が0.
001〜0.5μmの無機粒子を含有し、当該無機粒子
の含有量は、表層および裏層のポリエステルに対して各
々0.1〜10重量%であり、表層(A層)表面の平均
粗さRaが0.005μm以上、裏層(B層)表面の平
均粗さRaが0.05μm以下であり、かつ厚み構成が
A層<B層であり、フイルムヘイズが2.0%以下であ
ることを特徴とするフォトレジスト用積層ポリエステル
フイルム。
1. A polyester film comprising at least two layers, wherein both the surface layer (A layer) and the back layer (B layer) have a Mohs hardness of 8 or more and an average particle size of 0.1.
001 to 0.5 μm of inorganic particles, the content of the inorganic particles is 0.1 to 10% by weight with respect to the polyester of the surface layer and the back layer, and the average roughness of the surface (A layer) surface. Ra is 0.005 μm or more, the average roughness Ra of the surface of the back layer (B layer) is 0.05 μm or less, the thickness constitution is A layer <B layer, and the film haze is 2.0% or less. A laminated polyester film for photoresist, which is characterized by:
【請求項2】ポリエステルフイルムが表層(A層)およ
び裏層(B層)の2層構造であることを特徴とする請求
項1記載のフォトレジスト用積層ポリエステルフイル
ム。
2. The laminated polyester film for photoresist according to claim 1, wherein the polyester film has a two-layer structure of a surface layer (A layer) and a back layer (B layer).
【請求項3】無機粒子としてγ−アルミナ、δ−アルミ
ナおよびθ−アルミナの群から選ばれた少なくとも1種
の粒子を含有していることを特徴とする請求項1または
2記載のフォトレジスト用積層ポリエステルフイルム。
3. The photoresist according to claim 1, which contains at least one kind of particles selected from the group of γ-alumina, δ-alumina and θ-alumina as inorganic particles. Laminated polyester film.
【請求項4】無機粒子に加え、表層(A層)および裏層
(B層)のいずれの層にも、モース硬度8未満かつ平均
粒径0.2〜3μmの不活性粒子を含有させることを特
徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のフォトレジス
ト用積層ポリエステルフイルム。
4. In addition to the inorganic particles, both the surface layer (A layer) and the back layer (B layer) contain inert particles having a Mohs hardness of less than 8 and an average particle size of 0.2 to 3 μm. A laminated polyester film for photoresist according to any one of claims 1 to 3.
【請求項5】ポリエステルフイルムが同時二軸延伸によ
って製造されたものであることを特徴とする請求項1〜
4のいずれかに記載のフォトレジスト用積層ポリエステ
ルフイルム。
5. A polyester film produced by simultaneous biaxial stretching.
4. A laminated polyester film for photoresist according to any one of 4 above.
JP2001231174A 2001-07-31 2001-07-31 Laminated polyester film for photoresist Expired - Lifetime JP4724975B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001231174A JP4724975B2 (en) 2001-07-31 2001-07-31 Laminated polyester film for photoresist

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001231174A JP4724975B2 (en) 2001-07-31 2001-07-31 Laminated polyester film for photoresist

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2003043691A true JP2003043691A (en) 2003-02-13
JP2003043691A5 JP2003043691A5 (en) 2008-09-18
JP4724975B2 JP4724975B2 (en) 2011-07-13

Family

ID=19063261

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001231174A Expired - Lifetime JP4724975B2 (en) 2001-07-31 2001-07-31 Laminated polyester film for photoresist

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4724975B2 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016087854A (en) * 2014-10-31 2016-05-23 東レ株式会社 Biaxially oriented polyester film for dry film resist supporter
CN106918988A (en) * 2015-12-25 2017-07-04 太阳油墨(苏州)有限公司 Hardening resin composition and the reflectance coating and printed circuit board (PCB) of the hardening resin composition are used
WO2019203175A1 (en) * 2018-04-18 2019-10-24 三菱ケミカル株式会社 Polyester film for dry film resist
WO2022163652A1 (en) * 2021-01-29 2022-08-04 旭化成株式会社 Photosensitive element, and method for forming resist pattern

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09304937A (en) * 1996-05-20 1997-11-28 Teijin Ltd Polyester film
JP2000275860A (en) * 1999-01-21 2000-10-06 Teijin Ltd Biaxially oriented polyester film for photoresist
JP2002178475A (en) * 2000-12-14 2002-06-26 Teijin Ltd Biaxially oriented laminated polyester film

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09304937A (en) * 1996-05-20 1997-11-28 Teijin Ltd Polyester film
JP2000275860A (en) * 1999-01-21 2000-10-06 Teijin Ltd Biaxially oriented polyester film for photoresist
JP2002178475A (en) * 2000-12-14 2002-06-26 Teijin Ltd Biaxially oriented laminated polyester film

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016087854A (en) * 2014-10-31 2016-05-23 東レ株式会社 Biaxially oriented polyester film for dry film resist supporter
CN106918988A (en) * 2015-12-25 2017-07-04 太阳油墨(苏州)有限公司 Hardening resin composition and the reflectance coating and printed circuit board (PCB) of the hardening resin composition are used
WO2019203175A1 (en) * 2018-04-18 2019-10-24 三菱ケミカル株式会社 Polyester film for dry film resist
WO2022163652A1 (en) * 2021-01-29 2022-08-04 旭化成株式会社 Photosensitive element, and method for forming resist pattern

Also Published As

Publication number Publication date
JP4724975B2 (en) 2011-07-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3789144B2 (en) Laminated polyester film for photoresist
JP2010032609A (en) Polyester film for dry film photoresist
JP2016087854A (en) Biaxially oriented polyester film for dry film resist supporter
JP2002062661A (en) Polyester film for dry film resist
JP2018065250A (en) Biaxially oriented polyester film for dry film resist support and production method of the same
JP4724975B2 (en) Laminated polyester film for photoresist
JP4190978B2 (en) Laminated polyester film for dry film resist
TWI811302B (en) Polyester Film for Dry Film Resist Substrates
JP4186515B2 (en) Biaxially stretched polyester film for dry photoresist
JP2003200546A (en) Polyester film for vapor deposition and vapor-deposited polyester film
JP4769812B2 (en) Light reflector
JP4036068B2 (en) Dry film Photoresist film
JP2004115566A (en) Polyester film
KR100470446B1 (en) The processing method of polyester film
JP2000094507A (en) Polyester film
JP2004106322A (en) Laminated polyester film for dry-film photoresist
JP2002060598A (en) Polyester film for dry film resist
JP2009137221A (en) Film for transparent vapor deposition, and transparent vapor deposition film
JP2024009760A (en) Biaxially-oriented polyester film
WO2023153074A1 (en) Polyester resin composition, method for producing same, and laminated polyester film
JP3120651B2 (en) Laminated polyester film
JP2024086625A (en) Biaxially oriented polyester film
JP2017177426A (en) Release polyester film
JP4391859B2 (en) Release film for thin film green sheet molding
JP2024047656A (en) Biaxially oriented polyester film and its manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080730

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080730

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110315

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110328

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4724975

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140422

Year of fee payment: 3

EXPY Cancellation because of completion of term