JP2003037341A - Conductive contact element, film type connector and its connection structure - Google Patents

Conductive contact element, film type connector and its connection structure

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JP2003037341A
JP2003037341A JP2001221807A JP2001221807A JP2003037341A JP 2003037341 A JP2003037341 A JP 2003037341A JP 2001221807 A JP2001221807 A JP 2001221807A JP 2001221807 A JP2001221807 A JP 2001221807A JP 2003037341 A JP2003037341 A JP 2003037341A
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JP
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weight
film
parts
conductive contact
contact element
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JP2001221807A
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Japanese (ja)
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Yoko Ushigoe
陽子 牛越
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Shin Etsu Polymer Co Ltd
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive contact element, a film type connector and its connection structure through which even a multi-electrode semiconductor package can be connected/disconnected correctly and easily while saving the space at the time of connection. SOLUTION: A thin film 5 is provided between the electrodes 2 and 4 of a circuit board 1, and a semiconductor package 3 and a plurality of resilient conductive contact elements 6 arranged in the XY direction are supported by the film 5 while penetrating it, wherein each conductive contact element 6 is a hardened silicon rubber composition comprising components (A), (B), (C) and (D). The components are; (A) organopolysiloxane having at least two aliphatic unsaturation group, (B) a conductive powder part produced by previously mixing powder selected from an inorganic filler and a spherical organic resin into silver powder, (C) spherical silicon elastomer particles having a mean particle size of 0.1-100 μm, and (D) a hardener of sufficient quantity for hardening the component (A).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電気電子機器の導
通接続、例えば回路基板に対する半導体パッケージ(例
えばBGA、LGA、QFP等)の実装、回路基板同士
の導通接続、携帯電話等に代表される携帯端末の液晶モ
ジュールや電気音響部品と回路基板との導通接続、検査
対象である回路基板や半導体パッケージの導通接続等に
使用される導電接点素子、フィルム型コネクタ及びその
接続構造に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is typified by conductive connection of electrical and electronic equipment, for example, mounting of a semiconductor package (for example, BGA, LGA, QFP, etc.) on a circuit board, conductive connection between circuit boards, and mobile phone. The present invention relates to a conductive contact element used for conductive connection between a liquid crystal module or an electro-acoustic component of a mobile terminal and a circuit board, conductive connection for a circuit board or a semiconductor package to be inspected, a film-type connector, and a connection structure thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、電気電子機器を導通接続する場合
には、図示しないが、半田付け、変換基板による導通接
続、コネクタによる導通接続、あるいはバネによる導通
接続法等が用いられる。例えば、回路基板に表面実装型
の半導体パッケージを実装する場合には、半田により直
接接続したり、あるいは回路基板にピンソケットを半田
接続し、このピンソケットに半導体パッケージを半田接
続するようにしている。また、半導体パッケージを検査
する場合には、半導体パッケージ専用のピンプローブを
備えた変換基板を作製し、この変換基板により検査基板
と半導体パッケージとを導通接続して半導体パッケージ
を検査する。
2. Description of the Related Art Heretofore, when electrically and electronically connecting electrical and electronic devices, although not shown, soldering, electrical connection by a conversion substrate, electrical connection by a connector, electrical connection by a spring, or the like is used. For example, when mounting a surface mount type semiconductor package on a circuit board, it is connected directly by soldering, or a pin socket is soldered on the circuit board and the semiconductor package is soldered on this pin socket. . When inspecting a semiconductor package, a conversion board provided with a pin probe dedicated to the semiconductor package is produced, and the inspection board and the semiconductor package are electrically connected by this conversion board to inspect the semiconductor package.

【0003】また、回路基板同士の導通接続の場合、リ
ード線により半田接続したり、あるいは雄雌による機械
式のコネクタを回路基板にそれぞれ半田付けし、その
後、雄雌を挿入固定するようにしている。さらに、液晶
モジュールと電気音響部品を回路基板に導通接続する場
合、リード線により半田接続したり、又は板バネやコイ
ルスプリングを使用して導通接続する。
Further, in the case of conductive connection between circuit boards, lead wires may be used for solder connection, or male and female mechanical connectors may be soldered to the circuit boards, and then male and female may be inserted and fixed. There is. Further, when the liquid crystal module and the electroacoustic component are conductively connected to the circuit board, they are conductively connected by a lead wire or by using a leaf spring or a coil spring.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、半導
体パッケージは、高密度化に伴い電極数が増加している
ので、2,000〜3,000個程度の電極を低ピッチ
で回路基板や検査基板に導通接続しなければならない。
このような多電極を半田付けで回路基板に接続する場合
には、隣り合う電極間に半田のブリッジが生じ、電極間
の絶縁性が確保できないおそれがある。また、半導体パ
ッケージや回路基板等の交換が必要になる場合には、そ
の都度電極を接続している半田を除去しなければならな
いので、作業が煩雑となり、しかも、半田除去の際、半
導体パッケージや回路基板等の微細なパターンが破損す
る等の二次不良も発生し易い。これらの半田による不良
は、回路基板に半導体パッケージを実装する場合だけで
はなく、回路基板同士の導通接続や電気音響部品の導通
接続の場合も同様である。
By the way, in recent years, the number of electrodes in semiconductor packages has been increasing with the increase in density. Therefore, about 2,000 to 3,000 electrodes are arranged on a circuit board or inspected at a low pitch. Must be conductively connected to the board.
When such a multi-electrode is connected to a circuit board by soldering, a solder bridge may occur between adjacent electrodes, and the insulation between the electrodes may not be ensured. Further, when the semiconductor package, the circuit board, or the like needs to be replaced, the solder connecting the electrodes must be removed each time, which complicates the work and, in addition, when removing the solder, the semiconductor package and Secondary defects such as breakage of fine patterns on a circuit board are also likely to occur. The defects due to these solders are the same not only when the semiconductor package is mounted on the circuit board but also when the circuit boards are electrically connected to each other or the electroacoustic components are electrically connected.

【0005】また、近年の電気電子機器は、薄型化が進
んでいるが、機械式のコネクタでは薄型化が実に困難で
あり、部品コストや製造コストも増大することとなる。
また、検査基板と半導体パッケージとを導通接続する場
合、ピンプローブから外部ノイズ等の影響を受けるた
め、半導体パッケージの正確な検査が困難になるという
問題がある。さらに、板バネやコイルスプリングを使用
して導通接続する場合、長期間の接続に伴い疲労して接
続不良が発生したり、振動等で相手電極の磨耗による導
通不良が生じることとなる。
[0005] Further, in recent years, the electric and electronic devices have been made thinner, but it is very difficult to make them thinner with a mechanical connector, and the component cost and the manufacturing cost are increased.
Further, when the inspection board and the semiconductor package are electrically connected, there is a problem that it is difficult to accurately inspect the semiconductor package because the pin probe is affected by external noise and the like. Furthermore, in the case of conducting connection by using a leaf spring or a coil spring, fatigue may occur due to long-term connection and a connection failure may occur, or a conduction failure may occur due to abrasion of a mating electrode due to vibration or the like.

【0006】本発明は、上記に鑑みなされたもので、電
気接合物が例え多電極の半導体パッケージ、回路基板、
電気音響部品等でも、正確かつ容易に接続したり、取り
外しすることができ、しかも、接続時の省スペース化が
可能な導電接点素子、フィルム型コネクタ及びその接続
構造を提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of the above, and has a multi-electrode semiconductor package, a circuit board, an electric junction, for example.
It is an object of the present invention to provide a conductive contact element, a film-type connector, and a connection structure thereof, which can accurately and easily connect and disconnect even electroacoustic parts and the like, and can save space at the time of connection. .

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明にお
いては、上記課題を達成するため、対向する第一、第二
の電気接合物の電極間に介在し、これら第一、第二の電
気接合物を電気的に導通させるものであって、下記の成
分(A)、(B)、(C)、(D)で構成されるシリコーンゴム
組成物の硬化物からなることを特徴としている。 (A) 下記一般式(I)で示され、脂肪族不飽和基を少な
くとも2個有するオルガノポリシロキサンを100重量
部 R1 nSiO(4-n)/2 …(I) [式(I)中、R1は同一又は異種の非置換又は置換の1価
炭化水素基、nは1.98〜2.02の正数である] (B) 予め銀粉末中に無機質充填剤及び球状有機樹脂か
ら選択される粉体を0.2〜1.0重量%混合してなる
導電性粉末を100〜800重量部 (C) 100重量部の成分(A)に対して平均粒子径が
0.1〜100μmの球状シリコーンエラストマー粒子
を2〜100重量部 (D) 成分(A)を硬化させ得る量の硬化剤
In order to achieve the above-mentioned object, the first and second electric contacts of the first and second electric junctions are opposed to each other. An electrically conducting material for an electrical joint, which is characterized by comprising a cured product of a silicone rubber composition comprising the following components (A), (B), (C) and (D). . (A) 100 parts by weight of an organopolysiloxane represented by the following general formula (I) and having at least two aliphatic unsaturated groups R 1 n SiO (4-n) / 2 (I) [Formula (I) R 1 is the same or different and is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and n is a positive number from 1.98 to 2.02] (B) An inorganic filler and a spherical organic resin are previously contained in the silver powder. 100 to 800 parts by weight (C) of conductive powder obtained by mixing 0.2 to 1.0% by weight of powder selected from the above, and 100 parts by weight of component (A) has an average particle diameter of 0.1. To 100 μm spherical silicone elastomer particles 2 to 100 parts by weight (D) Component (A)

【0008】請求項2記載の発明においては、上記課題
を達成するため、フィルムに弾性の導電接点素子を貫通
支持させたものであって、導電接点素子を、下記の成分
(A)、(B)、(C)、(D)で構成されるシリコーンゴム組
成物の硬化物としたことを特徴としている。 (A) 下記一般式(I)で示され、脂肪族不飽和基を少な
くとも2個有するオルガノポリシロキサンを100重量
部 R1 nSiO(4-n)/2 …(I) [式(I)中、R1は同一又は異種の非置換又は置換の1価
炭化水素基、nは1.98〜2.02の正数である] (B) 予め銀粉末中に無機質充填剤及び球状有機樹脂か
ら選択される粉体を0.2〜1.0重量%混合してなる
導電性粉末を100〜800重量部 (C) 100重量部の成分(A)に対して平均粒子径が
0.1〜100μmの球状シリコーンエラストマー粒子
を2〜100重量部 (D) 成分(A)を硬化させ得る量の硬化剤
According to the second aspect of the invention, in order to achieve the above object, an elastic conductive contact element is supported through a film, and the conductive contact element has the following components.
It is characterized by being a cured product of a silicone rubber composition comprising (A), (B), (C) and (D). (A) 100 parts by weight of an organopolysiloxane represented by the following general formula (I) and having at least two aliphatic unsaturated groups R 1 n SiO (4-n) / 2 (I) [Formula (I) R 1 is the same or different and is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and n is a positive number from 1.98 to 2.02] (B) An inorganic filler and a spherical organic resin are previously contained in the silver powder. 100 to 800 parts by weight (C) of conductive powder obtained by mixing 0.2 to 1.0% by weight of powder selected from the above, and 100 parts by weight of component (A) has an average particle diameter of 0.1. To 100 μm spherical silicone elastomer particles 2 to 100 parts by weight (D) Component (A)

【0009】なお、銀粉末に混合する粉体を微粉末シリ
カとし、この微粉末シリカの平均粒径を0.005〜5
0μm、比表面積を50m2/g以上とすることが好ま
しい。また、請求項4記載の発明においては、上記課題
を達成するため、対向する第一、第二の電気接合物の電
極間に請求項1又は2記載のフィルム型コネクタを介在
させ、このフィルム型コネクタにより第一、第二の電気
接合物を電気的に導通させるようにしたことを特徴とし
ている。
The powder to be mixed with the silver powder is fine silica powder, and the average particle size of the fine silica powder is 0.005-5.
It is preferable that the surface area is 0 μm and the specific surface area is 50 m 2 / g or more. In order to achieve the above object, in the invention of claim 4, the film-type connector according to claim 1 or 2 is interposed between the electrodes of the opposing first and second electrical joints. The connector is characterized in that the first and second electrical joints are electrically connected.

【0010】本発明者は、導電接点素子を形成するシリ
コーンゴム組成物の硬化物については、予め銀粉末に、
0.2〜10重量%の無機質充填剤及び球状有機樹脂か
ら選択される粉体(比表面積が50m2/g以上である微
粉末シリカ)を混合した導電性粉末を用いることによ
り、分散性の優れる銀粉末となることで、単なる銀粉末
を用いる場合と比較して安定した抵抗値を有することを
見出した。さらに、成分(A)100重量部に対して平均
粒子径が0.1〜100μm、好ましくは0.5〜40
μmの球状シリコーンエラストマー粒子を2〜100重
量部、好ましくは5〜80重量部混合することにより、
低抵抗化のために銀粉末を高充填しても、シリコーンゴ
ムとしてのゴム弾性を損なうことなく、繰り返し圧縮や
圧縮永久歪みを維持することができるのを見出した。
The inventor of the present invention has previously prepared a cured product of a silicone rubber composition for forming a conductive contact element into silver powder in advance.
By using a conductive powder in which a powder (fine powder silica having a specific surface area of 50 m 2 / g or more) selected from 0.2 to 10% by weight of an inorganic filler and a spherical organic resin is mixed, It has been found that the excellent silver powder has a stable resistance value as compared with the case of using a simple silver powder. Further, the average particle diameter is 0.1 to 100 μm, preferably 0.5 to 40 with respect to 100 parts by weight of the component (A).
By mixing 2 to 100 parts by weight, preferably 5 to 80 parts by weight of spherical silicone elastomer particles of μm,
It has been found that even if the silver powder is highly filled to reduce the resistance, repeated compression and compression set can be maintained without deteriorating the rubber elasticity as silicone rubber.

【0011】すなわち、下記一般式(I)で示されるオリ
ガノポリシロキサン100重量部に対し、予め銀粉末中
に0.2〜10重量%の無機質充填剤及び球状有機樹脂
から選択される粉体を混合してなる導電性粉末を100
〜800重量部配合し、さらに平均粒子径が0.1〜1
00μmの球状シリコーンエラストマー粒子を2〜10
0重量部配合することにより、銀粉末の経時的な凝集が
少なく、シリコーンゴム組成物に配合した場合の分散性
に優れるので、安定した体積抵抗率で繰り返し圧縮や圧
縮永久歪み等のゴム特性を損なうことのない組成物を得
ることができ、得られたシリコーンゴム組成物は有機過
酸化物とオルガノハイドロジェンポリシロキサン/白金
系触媒単独でも、又有機過酸化物とオルガノハイドロジ
ェンポリシロキサン/白金系触媒単独の併用系でも硬化
し、その組成物は安定な電気的抵抗の低い(高導電性)部
材となり、長期の圧縮状態での使用、繰り返し圧縮での
使用に十分耐え得ることから、導電接点素子に最適であ
るのを見出した。
That is, based on 100 parts by weight of the organopolysiloxane represented by the following general formula (I), 0.2 to 10% by weight of an inorganic filler and a spherical organic resin in silver powder are previously selected. 100 conductive powder prepared by mixing
˜800 parts by weight is added, and the average particle size is 0.1 to 1
2 to 10 parts of spherical silicone elastomer particles of 00 μm
By blending 0 parts by weight, aggregation of silver powder over time is small and the dispersibility when blended in a silicone rubber composition is excellent. Therefore, rubber properties such as repeated compression and compression set can be obtained with stable volume resistivity. It is possible to obtain a composition which does not deteriorate, and the obtained silicone rubber composition is a mixture of an organic peroxide and an organohydrogenpolysiloxane / platinum catalyst alone, or an organic peroxide and an organohydrogenpolysiloxane / platinum. Even when used in combination with a system catalyst alone, the composition becomes a stable, low electrical resistance (highly conductive) member that can withstand long-term compression and repeated compression. It has been found that it is most suitable for contact elements.

【0012】 R1 nSiO(4-n)/2 …(I) [式(I)中、R1は同一又は異種の非置換又は置換の1価
炭化水素基、nは1.98〜2.02の正数である]
R 1 n SiO (4-n) / 2 (I) [In the formula (I), R 1 is the same or different, unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and n is 1.98-2. .02 is a positive number]

【0013】シリコーン組成物の第一必須成分のオルガ
ノポリシロキサンは、下記一般式(I)で示される。 R1 nSiO(4-n)/2 …(I) [式(I)中、R1は同一又は異種の非置換又は置換の1価
炭化水素基、nは1.98〜2.02の正数である]
The organopolysiloxane which is the first essential component of the silicone composition is represented by the following general formula (I). R 1 n SiO (4-n) / 2 (I) [In the formula (I), R 1 is the same or different, unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and n is 1.98 to 2.02. Is a positive number]

【0014】式中、Rはメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等のアルキル
基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ビニル
基、アリル基、プロペニル基、ブチニル基、ヘキセニル
基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリー
ル基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基
等や、これらの基の炭素原子に結合した水素原子の一部
又は全部をハロゲン原子、シアノ基等で置換したクロロ
メチル基、トリフルオロプロピル基、シアノエチル基等
から選択される同一あるいは異種の、好ましくは炭素数
1〜10、より好ましくは炭素数1〜8の非置換又は置
換1価炭化水素基である。
In the formula, R is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group or another alkyl group, a cyclohexyl group or another cycloalkyl group, a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, a butynyl group, Alkenyl group such as hexenyl group, phenyl group, aryl group such as tolyl group, benzyl group, aralkyl group such as phenylethyl group, etc., or a part or all of hydrogen atoms bonded to carbon atoms of these groups are halogen atoms, An unsubstituted or substituted monovalent group having the same or different type selected from a chloromethyl group substituted with a cyano group or the like, a trifluoropropyl group, a cyanoethyl group or the like, preferably having 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms. It is a hydrocarbon group.

【0015】この場合、Rは脂肪族不飽和基(アルケニ
ル基)を少なくとも2個有していることが必要である
が、R中の脂肪族不飽和基の含有量は0.001〜20
モル%、特に0.025〜5モル%であることが好まし
い。また、nは1.98〜2.02の正数である。式
(I)のオルガノポリシロキサンは、基本的には直鎖状で
あることが好ましいが、分子構造の異なる1種又は2種
以上の混合物でも良い。さらに、オルガノポリシロキサ
ンは、平均重合度が100〜10,000であるのが好
ましい。
In this case, it is necessary that R has at least two aliphatic unsaturated groups (alkenyl groups), and the content of aliphatic unsaturated groups in R is 0.001 to 20.
It is preferably in the range of mol%, particularly 0.025 to 5 mol%. Further, n is a positive number of 1.98 to 2.02. formula
The organopolysiloxane (I) is basically preferably linear, but may be one kind or a mixture of two or more kinds having different molecular structures. Further, the organopolysiloxane preferably has an average degree of polymerization of 100 to 10,000.

【0016】銀粉末については、特に限定されるもので
はなく、例えば電解法、粉砕法、熱処理法、アトマイズ
法、化学的製法等で製造された粉状、樹枝状、フレーク
状等の粉末、又はこれらの形状を有する混合物でも良
い。銀粉末は、ガラスビーズやフェノール樹脂に銀メッ
キした材料でも良い。銀粉末の粒径は、特に限定される
ものではないが、0.05〜100μm、実用上好まし
くは0.1〜10μmの範囲が良い。さらに、低抵抗の
シリコーンゴムからなる導電接点素子を形成するために
は、完全に独立した分散でなく、銀粉末が部分的に連結
していることが好ましい。
The silver powder is not particularly limited, and for example, powder, dendritic, flakes and the like produced by an electrolytic method, a pulverizing method, a heat treatment method, an atomizing method, a chemical production method, or the like, or A mixture having these shapes may be used. The silver powder may be glass beads or a material obtained by plating phenol resin with silver. The particle size of the silver powder is not particularly limited, but is preferably 0.05 to 100 μm, and practically preferably 0.1 to 10 μm. Further, in order to form a conductive contact element made of low-resistance silicone rubber, it is preferable that silver powder is partially connected, not completely independent dispersion.

【0017】銀粉末を粉砕する装置については、特に限
定されるものではないが、例えばスタンプミル、ボール
ミル、振動ミル、ハンマーミル、圧延ローラ、乳鉢等の
公知の技術があげられる。また、還元銀、アルマイズ
銀、電解銀、又はこれら2種以上の混合物からなる銀粉
末を圧延する条件についても、特に限定されるものでは
なく、使用する銀粉末の粉径や形状により選択される。
なお、銀粉末と併用して公知の導電性カーボンブラッ
ク、導電性亜鉛華、導電性酸化チタン等の導電性無機物
等の導電材を添加することもできる。
The apparatus for pulverizing the silver powder is not particularly limited, and examples thereof include known techniques such as a stamp mill, a ball mill, a vibration mill, a hammer mill, a rolling roller and a mortar. The conditions for rolling the silver powder composed of reduced silver, anodized silver, electrolytic silver, or a mixture of two or more thereof are not particularly limited, and are selected depending on the diameter and shape of the silver powder used. .
It is also possible to add a known conductive material such as a conductive inorganic material such as conductive carbon black, conductive zinc white, and conductive titanium oxide in combination with the silver powder.

【0018】銀粉末は酸化物や硫化物を生成し易く、こ
れらは絶縁物質であるため、製造し易い銀粒子含有の導
電接点素子を空気中に放置しておくと、酸化又は硫化さ
れて抵抗値の上昇を招くおそれがある。また、導電接点
素子の形成のために利用されるフレーク状の銀粉末は、
粉砕法で得られたものが用いられる。一般的には、銀粉
末を粉砕する際、ラウリン銀、ミリスチン酸、パルミチ
ル酸、ステアリン酸、オレイン酸等の飽和又は不飽和の
高級脂肪酸、金属石鹸、高級脂肪族アミン、ポリエチレ
ンワックス等で処理する方法がある。
Since silver powder easily produces oxides and sulfides and these are insulating substances, if a conductive contact element containing silver particles, which is easy to manufacture, is left in the air, it will be oxidized or sulfided to cause resistance. There is a risk of increasing the value. Further, the flake-shaped silver powder used for forming the conductive contact element is
The one obtained by the pulverization method is used. Generally, when crushing silver powder, it is treated with saturated or unsaturated higher fatty acid such as silver laurin, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, oleic acid, metal soap, higher aliphatic amine, polyethylene wax and the like. There is a way.

【0019】これらの処理に使用される化合物は、シリ
コーンゴムに添加した際、加硫阻害を引き起こす可能性
がある。そこで、上記処理に用いられた化合物を洗浄、
除去後に導電性エラストマーと混練して導電接点素子と
し、その導電接点素子のコンタクト部分にメルカプト系
化合物を溶剤又は水に溶解し、これを塗布・コーティン
グすることにより、銀粉末の酸化、硫化を防止すること
が可能となり、安定した抵抗値を得ることができる。
The compounds used in these treatments may cause vulcanization inhibition when added to silicone rubber. Therefore, washing the compound used in the above treatment,
After removal, it is kneaded with a conductive elastomer to make a conductive contact element, and the mercapto-based compound is dissolved in a solvent or water at the contact portion of the conductive contact element, and by coating / coating this, oxidation and sulfurization of silver powder is prevented. It is possible to obtain a stable resistance value.

【0020】本発明においては、銀粉末中に無機質充填
剤及び球状有機樹脂から選択される粉体の1種又は2種
以上を予め混合してなる導電性充填剤をシリコーン組成
物に配合する。この場合、無機質充填剤としては、シリ
カ、アルミナ、二酸化チタン、マイカ、硫酸バリウム、
カーボンブラック等があげられる。これらの中では、シ
リカ、アルミナ、カーボンブラックが好ましく、特にシ
リカが最適である。このシリカとしては、微粉末シリカ
が好ましく、例えば煙霧質シリカや沈降シリカがあげら
れる。また、これらの表面に、クロロシランやヘキサメ
チルジシラザン、オルガノポリシロキサン、アルコキシ
リシラン等で疎水化したものも好適に使用される。ま
た、球状有機樹脂としては、ポリエチレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィ
ン、スチレン、アクリロニトリル共重合体、ポリメチル
メタクリレート等のアクリル系樹脂、アミノ樹脂、含フ
ッ素樹脂、ニトリル系樹脂があげられ、特にポリメチル
メタノールが最適である。
In the present invention, the silicone composition is blended with a conductive filler prepared by previously mixing one or more powders selected from an inorganic filler and a spherical organic resin in silver powder. In this case, as the inorganic filler, silica, alumina, titanium dioxide, mica, barium sulfate,
Examples include carbon black. Among these, silica, alumina and carbon black are preferable, and silica is most preferable. As the silica, fine powder silica is preferable, and examples thereof include fumed silica and precipitated silica. Further, those whose surfaces are hydrophobized with chlorosilane, hexamethyldisilazane, organopolysiloxane, alkoxyrisilane or the like are also suitably used. Examples of the spherical organic resin include polyolefins such as polyethylene, polyvinyl chloride, polypropylene and polystyrene, styrene, acrylonitrile copolymer, acrylic resins such as polymethylmethacrylate, amino resins, fluorine-containing resins and nitrile resins. , Especially polymethylmethanol is the most suitable.

【0021】無機質充填剤や球状有機樹脂は、銀粉末の
凝集防止が目的であり、平均粒径0.005〜50μ
m、好ましくは0.01〜30μmが良い。また、比表
面積(BET法)が50m2/g以上、特に100〜30
0m2/gであるのが好ましい。これらは、平均粒径が
0.005μm以下、50μm以上、比表面積が50m
2/gに満たないと、十分な凝集効果を得ることができ
ないおそれがあるからである。
The inorganic filler and the spherical organic resin are silver powders.
The purpose is to prevent aggregation, and the average particle size is 0.005 to 50μ.
m, preferably 0.01 to 30 μm. Also, the ratio table
Area (BET method) is 50m2/ G or more, particularly 100 to 30
0m2/ G is preferable. These have an average particle size
0.005 μm or less, 50 μm or more, specific surface area 50 m
2If it is less than / g, a sufficient aggregation effect can be obtained.
This is because there is a possibility that there will be no.

【0022】無機質充填剤や球状有機樹脂から選択され
る粉体は、銀粉末に対して0.2〜10重量%、好まし
くは0.5〜5重量%をターブラ攪拌機等を使用して5
分〜5時間程度混合することが推奨される。これは、粉
体の添加量が0.2重量%未満の場合には、凝集効果が
減少し、逆に10重量%を超える場合、電気抵抗値が高
くなるからである。なお、銀粉末に粉体を予め混合した
導電性粉体を使用するのではなく、組成物の調製時に銀
粉末と粉体とをオルガノポリシロキサンに混合しても、
本発明の効果を得ることができない。
A powder selected from an inorganic filler and a spherical organic resin is used in an amount of 0.2 to 10% by weight, preferably 0.5 to 5% by weight, based on the silver powder by using a Turbula stirrer or the like.
Mixing for about 5 minutes to 5 hours is recommended. This is because when the amount of powder added is less than 0.2% by weight, the agglomeration effect decreases, and when it exceeds 10% by weight, the electrical resistance value increases. It should be noted that, instead of using a conductive powder prepared by previously mixing a powder with a silver powder, even if the silver powder and the powder are mixed with the organopolysiloxane when preparing the composition,
The effect of the present invention cannot be obtained.

【0023】銀粉末の配合量は、オルガノポリシロキサ
ン重量部に対して100〜800重量部が好ましい。こ
れは、100重量部に満たない場合には、十分な導電性
を得ることができず、800重量部を超える場合、導電
接点素子の成形加工と配合性とに難が生じるからであ
る。
The amount of silver powder blended is preferably 100 to 800 parts by weight with respect to parts by weight of organopolysiloxane. This is because if it is less than 100 parts by weight, sufficient conductivity cannot be obtained, and if it exceeds 800 parts by weight, molding processing and compoundability of the conductive contact element become difficult.

【0024】球状シリコーンエラストマー粒子として
は、平均粒子径が0.1〜100μm、好ましくは0.
5〜40μmのものが使用される。これは、平均粒子径
が0.1μm未満の場合には、粒子の製造が困難である
とともに、十分な添加効果を期待することができないか
らである。逆に、平均粒子径が100μmを超える場
合、導電接点素子であるゴム硬化物の特性(機械的特
性、電気的特性)が損なわれ、安定して製造することが
できない。この球状シリコーンエラストマー粒子を配合
することにより、導電性粉末を高充填することによる成
形時、あるいは成形品の導電性の変動を防止することが
できる。さらに、高充填によるシリコーンゴムの圧縮永
久歪みの低下を改善することもできる。この球状シリコ
ーンエラストマー粒子を配合すれば、例えば約30〜3
5%もの圧縮永久歪みを改善することができる。
The spherical silicone elastomer particles have an average particle diameter of 0.1 to 100 μm, preferably 0.1.
Those having a thickness of 5 to 40 μm are used. This is because when the average particle diameter is less than 0.1 μm, it is difficult to produce particles and it is not possible to expect a sufficient addition effect. On the other hand, when the average particle diameter exceeds 100 μm, the properties (mechanical properties, electrical properties) of the rubber cured product that is the conductive contact element are impaired, and stable production cannot be achieved. By blending the spherical silicone elastomer particles, it is possible to prevent fluctuations in the conductivity of the molded product at the time of molding due to high filling of the conductive powder. Further, it is possible to improve the reduction in compression set of the silicone rubber due to high filling. If the spherical silicone elastomer particles are blended, for example, about 30 to 3
A compression set as high as 5% can be improved.

【0025】球状シリコーンエラストマー粒子は、平均
粒子径を有するオルガノハイドロポリシロキサンの硬化
物であれば、種類、グレード、製造方法になんら制限は
なく、自由に使用することができる。具体的には、球状
シリコーンエラストマー粒子として、硬化性オルガノハ
イドロポリシロキサン組成物を230〜300℃のスプ
レードライヤーの中で硬化させ、粒状のシリコーンエラ
ストマーを得る方法(特開昭59‐96122号公報)、
硬化性オルガノハイドロポリシロキサン組成物、例えば
ビニル基含有オルガノハイドロポリシロキサンとオルガ
ノハイドロジェンポリシロキサンとからなる付加反応型
のオルガノポリシロキサン組成物を水中に界面活性剤を
用いてエマルジョン粒子が粒径20μm以下となるよう
エマルジョン化し、付加反応用の白金系触媒を添加し、
スプレードライ前又はスプレードライ終了までにエマル
ジョン粒子中に含まれているオルガノポリシロキサンを
硬化させる方法(特開昭62‐257939号公報)等で
得られたものを使用できる。特に、ビニル基含有オルガ
ノハイドロポリシロキサンとオルガノハイドロジェンポ
リシロキサンとを界面活性剤を用いてエマルジョンと
し、白金系触媒により付加反応させ、硬化して製造する
のが好ましい。なお、エラストマー粒子として、その表
面を予め又はその製造途中にシラン、シロキサン等で処
理したものを使用することもできる。
The spherical silicone elastomer particles can be freely used as long as they are cured products of organohydropolysiloxane having an average particle diameter, without any limitation in kind, grade and manufacturing method. Specifically, a method of curing a curable organohydropolysiloxane composition as spherical silicone elastomer particles in a spray dryer at 230 to 300 ° C. to obtain a granular silicone elastomer (JP-A-59-96122). ,
A curable organohydropolysiloxane composition, for example, an addition reaction type organopolysiloxane composition composed of a vinyl group-containing organohydropolysiloxane and an organohydrogenpolysiloxane, is used in water with a surfactant to obtain emulsion particles having a particle size of 20 μm. Emulsify as shown below, add platinum-based catalyst for addition reaction,
Those obtained by a method of curing the organopolysiloxane contained in the emulsion particles before or after spray drying (Japanese Patent Laid-Open No. 62-257939) can be used. In particular, it is preferable that the vinyl group-containing organohydropolysiloxane and the organohydrogenpolysiloxane are made into an emulsion by using a surfactant, subjected to an addition reaction with a platinum-based catalyst, and cured to produce the emulsion. As the elastomer particles, those whose surface is treated with silane, siloxane or the like in advance or during the production thereof can be used.

【0026】球状シリコーンエラストマー粒子の使用量
は、一般式(I)のポリマー100重量部に対して球状シ
リコーンエラストマー粒子2〜100重量部、特に5〜
80重量部が好ましい。これは、球状シリコーンエラス
トマー粒子が2重量部未満の場合には、添加効果(特に
弾性特性、永久歪みの改善、繰り返し特性の改善)を得
ることができず、逆に球状シリコーンエラストマー粒子
が100重量部を超える場合、導電接点素子であるゴム
硬化物の特性(機械的特性、電気的特性)が損なわれ、安
定して製造することができない。
The spherical silicone elastomer particles are used in an amount of 2 to 100 parts by weight, particularly 5 to 100 parts by weight of the spherical silicone elastomer particles based on 100 parts by weight of the polymer of the general formula (I).
80 parts by weight is preferred. This is because when the amount of the spherical silicone elastomer particles is less than 2 parts by weight, it is impossible to obtain the effect of addition (in particular, the improvement of the elastic properties, the improvement of the permanent set, and the repetitive property), and conversely, the addition amount of the spherical silicone elastomer particles is 100 parts by weight. If the amount exceeds the limit, the properties (mechanical properties, electrical properties) of the rubber cured product that is the conductive contact element will be impaired, and stable manufacturing will not be possible.

【0027】銀粒子を大量に含有することにより、弾性
エラストマーの特性(硬度、繰り返し特性、弾性エラス
トマーの永久歪み等)が低下し、圧接接続時、長期間の
実装接続時、検査のような繰り返し圧接時において、接
続における不具合が生じ、安定性に欠ける等の問題を招
くが、球状シリコーンエラストマー粒子を配合すること
により、これらの問題を解消することができる。特に、
圧縮永久歪みが改善されることにより、実装や検査の用
途で信頼性や確実性を増大させることができる。
By including a large amount of silver particles, the properties of the elastic elastomer (hardness, repetitive properties, permanent set of the elastic elastomer, etc.) are deteriorated, and repeated during pressure contact connection, long-term mounting connection, and inspection. At the time of press contact, a problem occurs in connection, resulting in problems such as lack of stability. However, by blending the spherical silicone elastomer particles, these problems can be solved. In particular,
The improved compression set can increase reliability and certainty in packaging and inspection applications.

【0028】硬化剤としては、公知のオルガノハイドロ
ジェンポリシロキサン/白金系触媒(付加反応用硬化
剤)、あるいは有機過酸化物触媒を使用することができ
る。白金系触媒としては、白金元素単体、白金化合物、
白金複合体、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール化合
物、アルデヒド化合物、エーテル化合物、各種オレフィ
ン類とのコンプレックス等があげられる。白金系触媒の
添加量は、第一成分のオルガノポリシロキサンに対し、
白金原子として1〜2,000ppmの範囲が好まし
い。
As the curing agent, a known organohydrogenpolysiloxane / platinum-based catalyst (curing agent for addition reaction) or an organic peroxide catalyst can be used. Platinum-based catalysts include elemental platinum, platinum compounds,
Examples thereof include a platinum complex, chloroplatinic acid, an alcohol compound of chloroplatinic acid, an aldehyde compound, an ether compound, and a complex with various olefins. The amount of platinum-based catalyst added is based on the organopolysiloxane of the first component.
The platinum atom is preferably in the range of 1 to 2,000 ppm.

【0029】一方、オルガノハイドロジェンポリシロキ
サンは、ケイ素原子に直結した水素原子を少なくとも2
個以上有する物であれば、特に制限されるものではな
く、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでも良いが、R1 a
bSiO(4-a-b)/2(R1はRと同様の非置換又は置換1
価炭化水素で、好ましくは脂肪族不飽和結合を有さない
ものである。a、bは0≦a<3、0<b<3、0<a
+b<3の数である。)で表わされるのが好ましく、特
に重合度300以下が良い。
On the other hand, the organohydrogenpolysiloxane has at least 2 hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms.
It is not particularly limited as long as it has one or more, and it may be linear, branched or cyclic, but R 1 a
H b SiO (4-ab) / 2 (R 1 is the same unsubstituted or substituted 1 as R 1
It is a valent hydrocarbon and preferably does not have an aliphatic unsaturated bond. a and b are 0 ≦ a <3, 0 <b <3, 0 <a
It is a number of + b <3. It is preferable that the degree of polymerization is 300 or less.

【0030】具体的には、ジメチルハイドロジェンシリ
ル基で、末端が封鎖されたジオルガノポリシロキサン、
ジメチルシロキサン単位とメチルハイドロジェンポリシ
ロキサン単位、及び末端トリメチルシロキサン単位との
共重合体(H(CH2)2SiO0 .6単位)とSiO2単位とか
らなる低粘度流体、1,3,5,7‐テトラハイドロジ
ェン‐1,3,5,7‐テトラメチルシクロテトラシロ
キサン、1‐プロピル‐3,5,7‐トリハイドロジェ
ン‐1,3,5,7‐テトラメチルシクロテトラシロキ
サン、1,5‐ジハイドロジェン‐3,7‐ジヘキシル
‐1,3,5,7‐テトラメチルシクロテトラシロキサ
ン等が例示される。
Specifically, a diorganopolysiloxane whose end is blocked with a dimethylhydrogensilyl group,
Dimethylsiloxane units and methyl hydrogen polysiloxane units, and terminal copolymers of trimethylsiloxane units (H (CH 2) 2 SiO 0 .6 units) and a low viscosity fluid consisting of SiO 2 units, 1,3,5 , 7-Tetrahydrogen-1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 1-Propyl-3,5,7-trihydrogen-1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 1 , 5-dihydrogen-3,7-dihexyl-1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane and the like are exemplified.

【0031】オルガノハイドロジェンポリシロキサンの
添加量は、第一成分のオルガノポリシロキサンの脂肪族
不飽和量(アルケニア基)に対してケイ素原子に直結した
水素原子が50〜500モル%となる割合で使用するこ
とが望ましい。また、有機過酸化物触媒としては、例え
ばベンゾイルパーオキサイド、2,4‐ジクロロベンゾ
イルパーオキサイド、p‐メチルベンゾイルパーオキサ
イド、2,4‐ジクミルパーオキサイド、2,5‐ジメ
チル‐ビス(2,5‐t‐ブチルパーオキシ)ヘキサン、
ジ‐t‐ブチルパーオキサイド、t‐ブチルパーベンゾ
エート等があげられる。有機過酸化物触媒の添加量は、
第一成分のオルガノポリシロキサン100重量部に対し
て0.1〜5重量部が最適である。
The addition amount of the organohydrogenpolysiloxane is such that the hydrogen atom directly bonded to the silicon atom is 50 to 500 mol% with respect to the aliphatic unsaturation amount (alkenia group) of the organopolysiloxane as the first component. It is desirable to use. Examples of organic peroxide catalysts include benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, p-methylbenzoyl peroxide, 2,4-dicumyl peroxide, and 2,5-dimethyl-bis (2,2). 5-t-butylperoxy) hexane,
Examples thereof include di-t-butyl peroxide and t-butyl perbenzoate. The amount of organic peroxide catalyst added is
The optimum amount is 0.1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the first component organopolysiloxane.

【0032】[0032]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の好
ましい実施形態を説明すると、本実施形態における導電
接点素子、フィルム型コネクタ及びその接続構造は、図
1や図2に示すように、相対向する第一、第二の電気接
合物である回路基板1とLGAからなる表面実装型の半
導体パッケージ3との複数の電極2・4間に介在する薄
肉で矩形のフィルム5を備え、このフィルム5に弾性を
有する複数の導電接点素子6をXY方向に並べて貫通支
持させ、円柱形を呈した各導電接点素子6を、成分
(A)、(B)、(C)、(D)で構成されるシリコーンゴム組
成物の硬化物とする。 (A) 下記一般式(I)で示され、脂肪族不飽和基を少な
くとも2個有するオルガノポリシロキサンを100重量
部 R1 nSiO(4-n)/2 …(I) [式(I)中、R1は同一又は異種の非置換又は置換の1価
炭化水素基、nは1.98〜2.02の正数である] (B) 予め銀粉末中に無機質充填剤及び球状有機樹脂か
ら選択される粉体を0.2〜1.0重量%混合してなる
導電性粉末を100〜800重量部 (C) 100重量部の成分(A)に対して平均粒子径が
0.1〜100μmの球状シリコーンエラストマー粒子
を2〜100重量部 (D) 成分(A)を硬化させ得る量の硬化剤
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A preferred embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. A conductive contact element, a film type connector and a connection structure thereof in this embodiment are as shown in FIGS. 1 and 2. A thin and rectangular film 5 interposed between a plurality of electrodes 2 and 4 of the circuit board 1 which is the first and second electric junctions facing each other and the surface mounting type semiconductor package 3 made of LGA, A plurality of elastic conductive contact elements 6 are arranged in the XY direction on the film 5 and are supported through the conductive contact elements 6 in a cylindrical shape.
A cured product of a silicone rubber composition composed of (A), (B), (C), and (D). (A) 100 parts by weight of an organopolysiloxane represented by the following general formula (I) and having at least two aliphatic unsaturated groups R 1 n SiO (4-n) / 2 (I) [Formula (I) R 1 is the same or different and is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and n is a positive number from 1.98 to 2.02] (B) An inorganic filler and a spherical organic resin are previously contained in the silver powder. 100 to 800 parts by weight (C) of conductive powder obtained by mixing 0.2 to 1.0% by weight of powder selected from the above, and 100 parts by weight of component (A) has an average particle diameter of 0.1. To 100 μm spherical silicone elastomer particles 2 to 100 parts by weight (D) Component (A)

【0033】フィルム型コネクタは、公知のエンジニア
リングプラスチックフィルム(例えばPETやポリイミ
ドフィルム等が該当するが、耐熱性で成形時の温度変形
が少ないポリイミドが最適である)からなるフィルム5
と、このフィルム5に挿着される複数の導電接点素子6
とを備えている。フィルム5は、例えば厚さ50〜30
0μm、好ましくは50〜200μmの正方形に成形さ
れ、導電接点素子支持用の複数の孔がXY方向に1.0
〜1.27mmのピッチでマトリクスに並設して穿孔さ
れており、導通接続に支障を来さないよう四隅部等に位
置決め孔が選択的に穿孔される(2〜4個)。各孔は0.
5〜0.8mmの径に穿孔される。
The film-type connector is a film 5 made of a known engineering plastic film (for example, PET or polyimide film is applicable, but polyimide is most suitable because it is heat-resistant and has little temperature deformation during molding).
And a plurality of conductive contact elements 6 inserted into the film 5
It has and. The film 5 has, for example, a thickness of 50 to 30.
It is formed into a square of 0 μm, preferably 50 to 200 μm, and a plurality of holes for supporting the conductive contact element are 1.0 in the XY directions.
Perforations are arranged in parallel in a matrix at a pitch of ˜1.27 mm, and positioning holes are selectively perforated at the four corners (2-4 holes) so as not to hinder the conductive connection. Each hole is 0.
Perforated to a diameter of 5 to 0.8 mm.

【0034】導電接点素子6は、上記導電性シリコーン
組成物を金型で成形することにより製造される。この導
電接点素子6の硬度は、導電接点素子6を圧接して接続
することから、50〜80°H、好ましくは60〜80
°Hが良い。この範囲の硬度により、導通接続の際、圧
縮率が2〜10%ときわめて小さい値でも均一な接続が
可能となる。導電接点素子6の形状は、孔の径と同径の
円柱形、フィルム5を対称面としたフィルム5の孔径よ
りも大きい円錐形、半球形、樽形等、特に限定されるも
のではない。この導電接点素子6の形状は、半導体パッ
ケージ3の電極形状、回路基板1や検査基板の電極形
状、導通接続時の圧接力等により適宜選択される。
The conductive contact element 6 is manufactured by molding the above conductive silicone composition in a mold. The hardness of the conductive contact element 6 is 50 to 80 ° H, preferably 60 to 80, because the conductive contact element 6 is pressed to be connected.
° H is good. With the hardness in this range, it is possible to achieve a uniform connection even when the compression ratio is as small as 2 to 10% in the conductive connection. The shape of the conductive contact element 6 is not particularly limited, such as a cylindrical shape having the same diameter as the hole diameter, a conical shape having a symmetry plane of the film 5 and having a larger diameter than the hole diameter of the film 5, a hemispherical shape, or a barrel shape. The shape of the conductive contact element 6 is appropriately selected according to the electrode shape of the semiconductor package 3, the electrode shape of the circuit board 1 or the inspection board, the pressure contact force at the time of conductive connection, and the like.

【0035】フィルム型コネクタを製造する場合には、
先ず、半導体パッケージ3の複数の電極4に対応するよ
うフィルム5に複数の孔を穿孔し、このフィルム5を金
型にセットし、フィルム5に導電性シリコーン組成物を
導電接点素子6の成形に十分な量だけ配置し、その後、
金型で加圧加熱成形すれば、フィルム5の各孔に可撓性
の導電接点素子6が一体化したフィルム型コネクタを得
ることができる。なお、携帯電話に供される電気音響部
品の導通接続にフィルム型コネクタを使用する場合に
は、電気音響部品の複数の電極(マイク、スピーカ等は
2極)に対応するようフィルム5に複数の導電接点素子
6を成形し、電気音響部品の形状に打ち抜き、電気音響
部品の外周面を被覆するよう弾性エラストマーと一体成
形する。
When manufacturing a film type connector,
First, a plurality of holes are punched in the film 5 so as to correspond to the plurality of electrodes 4 of the semiconductor package 3, the film 5 is set in a mold, and the conductive silicone composition is formed on the film 5 to form the conductive contact element 6. Place enough, then
By pressurizing and heating with a die, a film type connector in which a flexible conductive contact element 6 is integrated in each hole of the film 5 can be obtained. When a film-type connector is used for conductive connection of electro-acoustic components used in a mobile phone, a plurality of films 5 are provided on the film 5 so as to correspond to a plurality of electrodes of the electro-acoustic components (microphone, speaker, etc. are two poles). The conductive contact element 6 is molded, punched into the shape of the electroacoustic component, and integrally molded with the elastic elastomer so as to cover the outer peripheral surface of the electroacoustic component.

【0036】また、液晶モジュールの導通接続の場合に
は、液晶モジュールのITO電極と回路基板1とを導電
接点素子6で導通接続するが、このときも液晶モジュー
ルのITO電極数をフィルム5に成形(1列ないし2列
に5〜10個)し、位置決め孔を穿孔しても良い。さら
に、液晶モジュールのITO電極にフィルム基板が接続
されている場合には、フィルム基板の電極と回路基板1
とを導電接点素子6で導通接続するが、導電接点素子6
についてはITO電極との接続と同様である。これらい
ずれの導通接続においても、導電接点素子6を圧縮して
接続する。
In the case of the conductive connection of the liquid crystal module, the ITO electrode of the liquid crystal module and the circuit board 1 are conductively connected by the conductive contact element 6. At this time, the number of ITO electrodes of the liquid crystal module is formed in the film 5. (5 to 10 pieces in one or two rows) may be provided to form the positioning holes. Further, when the film substrate is connected to the ITO electrode of the liquid crystal module, the electrode of the film substrate and the circuit board 1
And the conductive contact element 6 are electrically connected to each other.
Is the same as the connection with the ITO electrode. In any of these conductive connections, the conductive contact element 6 is compressed and connected.

【0037】上記構成によれば、体積抵抗率が低く、安
定した抵抗値を示し、しかも、銀粉末を使用するので、
多量の電流を流すことができる。また、抵抗値のバラツ
キが小さく、安定した接続状態が得られ、微小電流にも
きわめて容易に対応することができる。また、半導体パ
ッケージ3の実装、検査用途において低圧縮接続が可能
であることから、回路基板1、半導体パッケージ3、検
査基板等に与える負荷が実に少なく、半導体パッケージ
3の二次的不具合を起こすこともない。
According to the above structure, the volume resistivity is low, the resistance value is stable, and the silver powder is used.
A large amount of current can be passed. Further, the variation in resistance value is small, a stable connection state can be obtained, and a minute current can be coped with very easily. In addition, since low compression connection is possible for mounting and inspecting the semiconductor package 3, the load applied to the circuit board 1, the semiconductor package 3, the inspection board, etc. is extremely small, which causes a secondary failure of the semiconductor package 3. Nor.

【0038】また、確実な接続が得られ、外部ノイズの
影響も受けにくいことから、精密な検査が大いに期待で
きる。また、機械式のコネクタではないので、薄型化を
図ることができ、部品コストや製造コストを削減するこ
とが可能になる。さらに、板バネやコイルスプリングを
使用して導通接続するものではないから、長期間の接続
に伴い疲労して接続不良が発生したり、振動等で相手電
極の磨耗による導通不良が生じるおそれもない。
Further, since a reliable connection can be obtained and it is hardly affected by external noise, precise inspection can be greatly expected. Further, since it is not a mechanical connector, it can be made thin, and it is possible to reduce the component cost and the manufacturing cost. Further, since the conductive connection is not made by using the leaf spring or the coil spring, there is no possibility that the connection will occur due to fatigue due to long-term connection, or the conductive failure due to abrasion of the mating electrode due to vibration or the like. .

【0039】[0039]

【実施例】以下、本発明に係るフィルム型コネクタ及び
その接続構造の実施例を比較例と共に説明する。 実施例1 先ず、ジメチルシロキサン単位99.85モル%とメチ
ルビニルシロキサン単位0.15モル%とからなる平均
重合度が約8000のメチルビニルポリシロキサンに、
平均粒径1.5〜1.7μmの銀粉末に微粉末疎水性シ
リカ[日本アエロジル株式会社製 商品名R‐972
比表面積130m2/g]を0.5重量%添加し、ターブ
ラ攪拌機を使用して30分間銀粉末と微粉末疎水性シリ
カとを攪拌混合して導電性粉末を得た。こうして導電性
粉末を得たら、この導電性粉末に粒径3〜10μmの球
状シリコーンエラストマー粒子[信越化学工業株式会社
製商品名KMP594]を10重量部配合し、硬化剤と
してジクミルパーオキサイドを0.5重量部配合した。
EXAMPLES Examples of the film type connector and its connection structure according to the present invention will be described below together with comparative examples. Example 1 First, a methyl vinyl polysiloxane having an average degree of polymerization of about 8000 consisting of 99.85 mol% of dimethyl siloxane units and 0.15 mol% of methyl vinyl siloxane units was added,
Finely powdered hydrophobic silica on silver powder with an average particle size of 1.5 to 1.7 μm [trade name R-972 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.
0.5 wt% of specific surface area 130 m 2 / g] was added, and silver powder and fine powder hydrophobic silica were stirred and mixed for 30 minutes using a turbula stirrer to obtain conductive powder. When the conductive powder is obtained in this way, 10 parts by weight of spherical silicone elastomer particles having a particle size of 3 to 10 μm [trade name KMP594 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] are mixed with the conductive powder, and dicumyl peroxide as a curing agent is added to 0 parts. 0.5 parts by weight was compounded.

【0040】次いで、調製した導電性材料をポリイミド
フイルムからなる厚さ125μmのフィルムにおける複
数の孔の略中央に配置し、上下金型で170℃、10分
の成形条件で加圧加熱成形し、略円柱形を呈した導電接
点素子を2,000本作製し、フィルム型コネクタを得
た。複数の孔は、径が0.8mmの孔をピッチ1.27
mmで2,000個穿孔した。また、各導電接点素子に
ついては、高さ1mm、直径1.0mmの大きさとし、
フィルムの表裏面からそれぞれ0.45mm突出させ
た。
Next, the prepared conductive material is placed at approximately the center of a plurality of holes in a film made of a polyimide film having a thickness of 125 μm, and press-heated and molded under the molding conditions of 170 ° C. for 10 minutes with upper and lower molds, A total of 2,000 conductive contact elements having a substantially columnar shape were produced to obtain a film type connector. A plurality of holes have a diameter of 0.8 mm and a pitch of 1.27.
2,000 holes were punched in mm. Each conductive contact element has a height of 1 mm and a diameter of 1.0 mm,
0.45 mm was projected from each of the front and back surfaces of the film.

【0041】こうしてフィルム型コネクタを得たら、回
路基板とLGAからなる半導体パッケージとの複数の電
極(2,000個)間にフィルム型コネクタを挟持させ、
10%圧縮して電気的に導通させ、開放して再度10%
圧縮するという作業を100回繰り返した。その結果、
導通抵抗や導電接点素子の形状には何ら変化が見られな
かった。また、表1に示すように、体積抵抗値が低く、
圧縮永久歪み(JISK 6262による)は42%であ
った。また、導電接点素子で接続した電気音響部品や液
晶モジュールについて、振動試験と衝撃試験を実施した
ところ、各電極はなんら変化せず、初期状態と同じ接続
状態であった。
When the film type connector is obtained in this way, the film type connector is sandwiched between a plurality of electrodes (2,000 pieces) of the circuit board and the semiconductor package made of LGA,
Compress 10% to make it electrically conductive, then open it again 10%
The operation of compressing was repeated 100 times. as a result,
No change was observed in the conduction resistance or the shape of the conductive contact element. Further, as shown in Table 1, the volume resistance value is low,
The compression set (according to JIS K 6262) was 42%. Further, when an electroacoustic component or a liquid crystal module connected by a conductive contact element was subjected to a vibration test and a shock test, each electrode did not change at all and was in the same connection state as the initial state.

【0042】実施例2 基本的には実施例1と同様だが、微粉末疎水性シリカ
[日本アエロジル株式会社製 商品名R‐972 比表
面積130m2/g]を3.0重量%添加し、球状シリコ
ーンエラストマー粒子[信越化学工業株式会社製 商品
名KMP594]を20重量部配合した。上記作業を1
00回繰り返したところ、導通抵抗や導電接点素子の形
状には何ら変化が見られなかった。また、表1に示すよ
うに、体積抵抗値が低く、圧縮永久歪み(JIS K
6262による)は40%であった。
Example 2 Basically the same as Example 1, but finely divided hydrophobic silica
[Nippon Aerosil Co., Ltd., trade name R-972, specific surface area 130 m 2 / g] was added in an amount of 3.0 wt%, and 20 parts by weight of spherical silicone elastomer particles [Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. trade name, KMP594] were blended. The above work 1
When it was repeated 00 times, no change was observed in the conduction resistance or the shape of the conductive contact element. Further, as shown in Table 1, the volume resistance value is low, and the compression set (JIS K
(According to 6262) was 40%.

【0043】比較例1 基本的には実施例1と同様だが、球状シリコーンエラス
トマー粒子[信越化学工業株式会社製 商品名KMP5
94]を省略した。上記作業を100回繰り返したとこ
ろ、導通抵抗や導電接点素子の形状に変化が見られ、し
かも、表1に示すように、体積抵抗値が高く、圧縮永久
歪み(JIS K 6262による)も62%に達し、良
い結果を得ることができなかった。 比較例2 基本的には実施例1と同様だが、微粉末疎水性シリカ
[日本アエロジル株式会社製 商品名R‐972 比表
面積130m2/g]を省略した。上記作業を100回繰
り返したところ、表1に示すように体積抵抗値が実に高
く、好結果を得ることができなかった。
Comparative Example 1 Basically the same as in Example 1, except that spherical silicone elastomer particles [trade name KMP5 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
94] was omitted. When the above work was repeated 100 times, the conduction resistance and the shape of the conductive contact element changed, and as shown in Table 1, the volume resistance was high and the compression set (according to JIS K 6262) was 62%. And did not get good results. Comparative Example 2 Basically the same as in Example 1, but finely divided hydrophobic silica
[Product name R-972 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., specific surface area 130 m 2 / g] is omitted. When the above operation was repeated 100 times, as shown in Table 1, the volume resistance value was so high that good results could not be obtained.

【0044】[0044]

【表1】 [Table 1]

【0045】[0045]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、電気接合
物が例え多電極の半導体パッケージ、回路基板、電気音
響部品等でも、正確かつ容易に接続したり、取り外しす
ることができるという効果がある。また、電気接合物の
接続時の省スペース化を図ることができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to accurately and easily connect or disconnect even an electric joint, for example, a multi-electrode semiconductor package, a circuit board, an electroacoustic component, or the like. There is. In addition, it is possible to save space when connecting the electrical joint.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る導電接点素子、フィルム型コネク
タ及びその接続構造の実施形態を示す全体説明図であ
る。
FIG. 1 is an overall explanatory view showing an embodiment of a conductive contact element, a film type connector and a connection structure thereof according to the present invention.

【図2】本発明に係る導電接点素子、フィルム型コネク
タの実施形態を示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory view showing an embodiment of a conductive contact element and a film type connector according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 回路基板(電気接合物) 2 電極 3 半導体パッケージ(電気接合物) 4 電極 5 フィルム 6 導電接点素子 1 circuit board (electrical connection) 2 electrodes 3 Semiconductor package (electrical junction) 4 electrodes 5 films 6 Conductive contact element

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G01R 31/26 G01R 31/26 J H01R 11/01 501 H01R 11/01 501A 501C 501G H05K 3/32 H05K 3/32 B Fターム(参考) 2G003 AA07 AB01 AG03 AG07 AG12 2G011 AA16 AB08 AC14 AE22 4J002 BB023 BB113 BC023 BD033 CP032 CP131 DA037 DA076 DA118 DD048 DE137 DE147 DE168 DG047 DJ017 DJ057 EK038 EK048 EK058 FD116 GQ02 5E319 AA03 AB02 AC01 BB20 GG01 5E344 AA04 CD01 CD12 CD31 DD08 EE21 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G01R 31/26 G01R 31/26 J H01R 11/01 501 H01R 11/01 501A 501C 501G H05K 3/32 H05K 3 / 32 B F term (reference) 2G003 AA07 AB01 AG03 AG07 AG12 2G011 AA16 AB08 AC14 AE22 4J002 BB023 BB113 BC023 BD033 CP032 CP131 DA037 DA076 DA118 DD048 DE137 DE147 DE168 DG047 DJ017 DJ057 EK038 EK048 EK058 FD116 GQ02 5E319 AA03 AB02 AC01 BB20 GG01 5E344 AA04 CD01 CD12 CD31 DD08 EE21

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対向する第一、第二の電気接合物の電極
間に介在し、これら第一、第二の電気接合物を電気的に
導通させる導電接点素子であって、 下記の成分(A)、(B)、(C)、(D)で構成されるシリコ
ーンゴム組成物の硬化物からなることを特徴とする導電
接点素子。 (A) 下記一般式(I)で示され、脂肪族不飽和基を少な
くとも2個有するオルガノポリシロキサンを100重量
部 R1 nSiO(4-n)/2 …(I) [式(I)中、R1は同一又は異種の非置換又は置換の1価
炭化水素基、nは1.98〜2.02の正数である] (B) 予め銀粉末中に無機質充填剤及び球状有機樹脂か
ら選択される粉体を0.2〜1.0重量%混合してなる
導電性粉末を100〜800重量部 (C) 100重量部の成分(A)に対して平均粒子径が
0.1〜100μmの球状シリコーンエラストマー粒子
を2〜100重量部 (D) 成分(A)を硬化させ得る量の硬化剤
1. A conductive contact element interposed between electrodes of opposing first and second electrical joints for electrically conducting these first and second electrical joints, the component comprising: A conductive contact element comprising a cured product of a silicone rubber composition comprising A), (B), (C), and (D). (A) 100 parts by weight of an organopolysiloxane represented by the following general formula (I) and having at least two aliphatic unsaturated groups R 1 n SiO (4-n) / 2 (I) [Formula (I) R 1 is the same or different and is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and n is a positive number from 1.98 to 2.02] (B) An inorganic filler and a spherical organic resin are previously contained in the silver powder. 100 to 800 parts by weight (C) of conductive powder obtained by mixing 0.2 to 1.0% by weight of powder selected from the above, and 100 parts by weight of component (A) has an average particle diameter of 0.1. To 100 μm spherical silicone elastomer particles 2 to 100 parts by weight (D) Component (A)
【請求項2】 フィルムに弾性の導電接点素子を貫通支
持させたフィルム型コネクタであって、 導電接点素子を、下記の成分(A)、(B)、(C)、(D)で
構成されるシリコーンゴム組成物の硬化物としたことを
特徴とするフィルム型コネクタ。 (A) 下記一般式(I)で示され、脂肪族不飽和基を少な
くとも2個有するオルガノポリシロキサンを100重量
部 R1 nSiO(4-n)/2 …(I) [式(I)中、R1は同一又は異種の非置換又は置換の1価
炭化水素基、nは1.98〜2.02の正数である] (B) 予め銀粉末中に無機質充填剤及び球状有機樹脂か
ら選択される粉体を0.2〜1.0重量%混合してなる
導電性粉末を100〜800重量部 (C) 100重量部の成分(A)に対して平均粒子径が
0.1〜100μmの球状シリコーンエラストマー粒子
を2〜100重量部 (D) 成分(A)を硬化させ得る量の硬化剤
2. A film-type connector in which an elastic conductive contact element is supported through a film, wherein the conductive contact element is composed of the following components (A), (B), (C) and (D): A film-type connector characterized by being a cured product of a silicone rubber composition. (A) 100 parts by weight of an organopolysiloxane represented by the following general formula (I) and having at least two aliphatic unsaturated groups R 1 n SiO (4-n) / 2 (I) [Formula (I) R 1 is the same or different and is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and n is a positive number from 1.98 to 2.02] (B) An inorganic filler and a spherical organic resin are previously contained in the silver powder. 100 to 800 parts by weight (C) of conductive powder obtained by mixing 0.2 to 1.0% by weight of powder selected from the above, and 100 parts by weight of component (A) has an average particle diameter of 0.1. To 100 μm spherical silicone elastomer particles 2 to 100 parts by weight (D) Component (A)
【請求項3】 銀粉末に混合する粉体を微粉末シリカと
し、この微粉末シリカの平均粒径を0.005〜50μ
m、比表面積を50m2/g以上とした請求項2記載の
フィルム型コネクタ。
3. The powder mixed with the silver powder is fine powder silica, and the average particle diameter of the fine powder silica is 0.005 to 50 μm.
The film-type connector according to claim 2 , wherein m and the specific surface area are 50 m 2 / g or more.
【請求項4】 対向する第一、第二の電気接合物の電極
間に請求項2又は3記載のフィルム型コネクタを介在さ
せ、このフィルム型コネクタにより第一、第二の電気接
合物を電気的に導通させるようにしたことを特徴とする
フィルム型コネクタの接続構造。
4. The film-type connector according to claim 2 or 3 is interposed between opposing electrodes of the first and second electric joints, and the first and second electric joints are electrically connected by the film-type connector. A film-type connector connection structure, characterized in that it is electrically conducted.
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