JP2003037302A - Method for manufacturing thermoelectric material - Google Patents

Method for manufacturing thermoelectric material

Info

Publication number
JP2003037302A
JP2003037302A JP2001222029A JP2001222029A JP2003037302A JP 2003037302 A JP2003037302 A JP 2003037302A JP 2001222029 A JP2001222029 A JP 2001222029A JP 2001222029 A JP2001222029 A JP 2001222029A JP 2003037302 A JP2003037302 A JP 2003037302A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
foil
pressing
thermoelectric material
solidified
molding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001222029A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuuma Horio
裕磨 堀尾
Hiroyuki Yamashita
博之 山下
Takahiro Hayashi
林  高廣
Junya Suzuki
順也 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamaha Corp
Original Assignee
Yamaha Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yamaha Corp filed Critical Yamaha Corp
Priority to JP2001222029A priority Critical patent/JP2003037302A/en
Publication of JP2003037302A publication Critical patent/JP2003037302A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a thermoelectric material which can reduce power consumption at high temperature while maintaining a high performance index. SOLUTION: A quenched thin belt 14 obtained by a liquid quenching method is heat-treated (hydrogen reduction processing or annealing) in hydrogen gas or Ar gas. Before the heat treatment, namely, in the tissue solidified by the quenching, many chill crystals 52 are present on the surface of the quenched thin belt 14 in addition to crystal grains 51 extending along the thickness. Here, the chill crystals 52 disappear through the heat treatment. During the heat treatment, Te atoms and Se atoms are segregated on the surface by boundary diffusion.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は熱電発電及び熱電冷
却等に応用される熱電材料の製造方法に関し、特に、高
温下での性能指数を向上させることができる熱電材料の
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a thermoelectric material applied to thermoelectric power generation, thermoelectric cooling and the like, and more particularly to a method for producing a thermoelectric material capable of improving a figure of merit at high temperature.

【0002】[0002]

【従来の技術】熱電材料として、一方向凝固材と焼結材
とがある。一方向凝固材は、以下のようにして作製され
る。図13(a)乃至(c)は従来の一方向凝固材の作
製方法を工程順に示す模式図である。
2. Description of the Related Art Thermoelectric materials include unidirectionally solidified materials and sintered materials. The unidirectionally solidified material is produced as follows. 13A to 13C are schematic views showing a method of manufacturing a conventional unidirectionally solidified material in the order of steps.

【0003】先ず、図13(a)に示すように、石英管
102内に原料101を挿入し、石英管102の端部を
溶断して原料101を石英管102内に封入する。その
後、図13(b)に示すように、石英管102を管状炉
103内に入れて原料101を溶解し、スタンド104
に回転可能に支持された管状炉103を揺動して原料融
液を撹拌する。次いで、図13(c)に示すように、管
状炉103内に温度勾配を付け、結晶方位を配向させつ
つ融液を凝固させる。これにより、凝固組織が一方向に
延びた一方向凝固材が得られる。
First, as shown in FIG. 13 (a), a raw material 101 is inserted into a quartz tube 102, the end of the quartz tube 102 is melted and cut, and the raw material 101 is sealed in the quartz tube 102. After that, as shown in FIG. 13B, the quartz tube 102 is put into the tubular furnace 103 to melt the raw material 101, and the stand 104 is placed.
The raw material melt is agitated by swinging the tubular furnace 103 rotatably supported by. Next, as shown in FIG. 13C, a temperature gradient is applied in the tubular furnace 103 to solidify the melt while orienting the crystal orientation. Thereby, a unidirectionally solidified material having a solidified structure extending in one direction is obtained.

【0004】また、焼結材は、凝固した材料を粉砕し、
ホットプレス等により固化成形する。この場合に、ホッ
トプレスの圧力方向と垂直の方向に低抵抗の結晶方位
(a軸)が成長するため、このa軸方向に電流を流すよ
うに、電極付けして熱電素子及びこの複数の熱電素子か
らなる熱電モジュールを組み立てる。
The sintered material is obtained by crushing a solidified material,
Solidify by hot pressing or the like. In this case, since a low-resistance crystal orientation (a-axis) grows in a direction perpendicular to the pressure direction of the hot press, electrodes are attached to the thermoelectric element and the plurality of thermoelectric elements so that a current flows in the a-axis direction. Assemble the thermoelectric module consisting of elements.

【0005】図14は固化成形される熱電材料の結晶粒
とホットプレス方向を示す模式図である。熱電材料1は
ホットプレスにより固化成形された場合、ホットプレス
の方向に直交する方向に結晶粒2の結晶構造のa軸側が
成長し、ホットプレスの方向に平行な方向に結晶粒2の
結晶構造のc軸側が成長する。熱電材料は一般的に、構
造上異方性を有しているので、図14に示すように、ホ
ットプレスによって、結晶粒2のc軸方向よりもa軸方
向に成長が進行する。これにより、この結晶粒2の粒径
は数mm程度まで成長し、アスペクト比は5以上にな
る。このような熱電材料の製造方法は、例えば特開20
00−232243号公報に記載されている。
FIG. 14 is a schematic view showing the crystal grains of the thermoelectric material to be solidified and molded and the hot pressing direction. When the thermoelectric material 1 is solidified by hot pressing, the a-axis side of the crystal structure of the crystal grain 2 grows in the direction orthogonal to the hot pressing direction, and the crystal structure of the crystal grain 2 extends in the direction parallel to the hot pressing direction. Grows on the c-axis side. Since the thermoelectric material generally has structural anisotropy, as shown in FIG. 14, by hot pressing, the growth proceeds in the a-axis direction rather than the c-axis direction of the crystal grains 2. As a result, the grain size of the crystal grain 2 grows to about several mm, and the aspect ratio becomes 5 or more. A method for manufacturing such a thermoelectric material is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No.
No. 00-232243.

【0006】なお、このような熱電材料の結晶構造は、
図15に示すように、六方晶であると考えられる。この
図15において、ハッチングにて示した六角形の面がC
面である。
The crystal structure of such a thermoelectric material is
As shown in FIG. 15, it is considered to be a hexagonal crystal. In FIG. 15, the hexagonal surface shown by hatching is C
The surface.

【0007】これに対し、特開2001−53344号
公報には、熱電性能のより一層の向上を目的として積層
方向に対して直交する方向から積層体を加圧する方法が
記載されている。
On the other hand, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-53344 describes a method of pressurizing the laminate from a direction orthogonal to the laminating direction for the purpose of further improving thermoelectric performance.

【0008】また、特開平10−178218号公報及
び特開平11−261119号公報には、インゴットを
粉砕して得られた粉末を焼結し、その後その焼結体にす
え込み鍛造を行う方法が記載されている。
Further, JP-A-10-178218 and JP-A-11-261119 disclose a method in which powder obtained by crushing an ingot is sintered, and then the sintered body is swage-forged. Have been described.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
従来の熱電材料のうち一方向凝固材は、結晶粒径が数m
m以上になり、へき開性があるため、機械的な衝撃に対
して脆いという欠点がある。また、従来の熱電材料は、
熱伝導率が高い。熱電材料の性能指数Zは、そのゼーベ
ック係数をα(μ・V/K)、比抵抗をρ(Ω・m)、
熱伝導率をκ(W/m・K)としたとき、下記数式1に
示すように表される。
However, among the above-mentioned conventional thermoelectric materials, the unidirectionally solidified material has a crystal grain size of several meters.
Since it is more than m and is cleavable, it has the drawback of being brittle against mechanical impact. In addition, conventional thermoelectric materials are
High thermal conductivity. The figure of merit Z of a thermoelectric material is its Seebeck coefficient α (μ · V / K), specific resistance ρ (Ω · m),
When the thermal conductivity is κ (W / m · K), it is expressed as shown in the following mathematical formula 1.

【0010】[0010]

【数1】 Z=α/(ρ×κ)## EQU1 ## Z = α 2 / (ρ × κ)

【0011】この数式1から明らかなように、熱伝導率
κが高いと、性能指数Zが低くなる。従って、熱伝導率
κが高い場合は、性能の向上に限界がある。
As is clear from the mathematical formula 1, when the thermal conductivity κ is high, the figure of merit Z is low. Therefore, when the thermal conductivity κ is high, there is a limit to the improvement in performance.

【0012】また、従来の焼結法による熱電材料は、粉
末の大きさが結晶粒の大きさに等しい。一般的に、結晶
粒の粒径が大きくなるほど熱伝導率κは大きくなると共
に、比抵抗ρは小さくなり、粒径が小さくなるほど熱伝
導率κが小さくなると共に、比抵抗ρは大きくなる。し
かし、粒径の影響は熱伝導率よりも比抵抗の方が小さい
ため、熱伝導率κを小さくするために、結晶粒を微細化
することが性能指数Zの向上のために有効であるが、従
来、粉末粒径と結晶粒径とが同一であるので、結晶粒の
微細化には限界がある。しかも、粉砕時に、粉末表面の
酸化及び不純物の混入があり、これにより、比抵抗が増
大するため、性能指数が低下してしまう。
In the conventional thermoelectric material produced by the sintering method, the size of the powder is equal to the size of the crystal grain. Generally, the larger the grain size of the crystal grains, the larger the thermal conductivity κ and the smaller the specific resistance ρ, and the smaller the grain size, the smaller the thermal conductivity κ and the larger the specific resistance ρ. However, since the influence of the grain size is smaller in the specific resistance than the thermal conductivity, it is effective to refine the crystal grains in order to reduce the thermal conductivity κ for improving the performance index Z. Conventionally, since the powder grain size and the crystal grain size are the same, there is a limit to the refinement of the crystal grains. In addition, during pulverization, the powder surface is oxidized and impurities are mixed in, which increases the specific resistance, which lowers the figure of merit.

【0013】また、特開2001−53344号公報に
記載された製造方法では、焼結時の変形抵抗が大きい等
の理由により焼結性が低いと共に、結晶粒の配向性も十
分なものではないという問題点がある。
Further, in the manufacturing method described in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-53344, the sinterability is low and the orientation of the crystal grains is not sufficient because of the large deformation resistance during sintering. There is a problem.

【0014】更に、すえ込み鍛造を行う製造方法におい
ては、インゴットを粉砕して得られた粉末をそのまま焼
結しているので、粉末内部の配向性が低い。このため、
固化成形体の配向性が低く熱電性能も十分ではない。
Further, in the manufacturing method of upset forging, since the powder obtained by crushing the ingot is sintered as it is, the orientation inside the powder is low. For this reason,
The orientation of the solidified compact is low and the thermoelectric performance is not sufficient.

【0015】更にまた、特開2000−232243号
公報に記載の熱電材料の熱電性能に関しては、性能指数
Z自体は良好であるが、熱の影響を受けやすい比抵抗ρ
が比較的高いため、高温での使用に制限がある。即ち、
温度の上昇に連れて比抵抗ρが上昇するため、ジュール
発熱が大きくなる。また、熱電素子の使用メーカにおい
ては、その駆動電流が定められている。従って、熱電素
子(ペルチェ素子)としての吸熱量が低下して消費電力
が増加してしまう。このため、パッケージ内の温度が9
0℃に達するような高温環境下では、消費電力が高くな
ってしまう。
Furthermore, regarding the thermoelectric performance of the thermoelectric material disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-232232, although the figure of merit Z itself is good, the specific resistance ρ easily affected by heat.
Is relatively high, which limits its use at high temperatures. That is,
Since the specific resistance ρ increases as the temperature rises, Joule heat generation increases. Further, the driving current is set by the manufacturer of the thermoelectric element. Therefore, the amount of heat absorbed by the thermoelectric element (Peltier element) is reduced and power consumption is increased. Therefore, the temperature inside the package is 9
In a high temperature environment where the temperature reaches 0 ° C., power consumption becomes high.

【0016】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、高い性能指数を維持したまま高温下での消
費電力を低減することができる熱電材料の製造方法を提
供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a method for producing a thermoelectric material capable of reducing power consumption at high temperature while maintaining a high figure of merit. To do.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明に係る熱電材料の
製造方法は、Bi及びSbからなる群から選択された少
なくとも1種の元素並びにTe及びSeからなる群から
選択された少なくとも1種の元素からなる組成を有する
箔を液体急冷法により作製する工程と、前記箔を還元ガ
ス雰囲気又は不活性ガス雰囲気中で熱処理する工程と、
前記箔を積層してその厚さ方向に加圧することにより固
化成形する工程と、前記固化成形により得られた固化成
形体を前記箔の厚さ方向に対して垂直な方向に加圧する
か、前記固化成形体に前記箔の厚さ方向に対して垂直な
方向を加圧方向とするすえ込み鍛造を行うか、前記固化
成形体に前記箔の厚さ方向に対して垂直な方向を圧下方
向とする圧延を行うか、又は前記固化成形体に熱間静水
圧加圧を行う工程と、を有することを特徴とする。
The method for producing a thermoelectric material according to the present invention comprises at least one element selected from the group consisting of Bi and Sb and at least one element selected from the group consisting of Te and Se. A step of producing a foil having a composition comprising elements by a liquid quenching method, a step of heat-treating the foil in a reducing gas atmosphere or an inert gas atmosphere,
A step of solidifying and molding by laminating the foil and pressing in the thickness direction thereof, and pressing the solidified molded body obtained by the solidification molding in a direction perpendicular to the thickness direction of the foil, or The swaging forging is performed on the solidified compact with the direction perpendicular to the thickness direction of the foil as the pressing direction, or the direction perpendicular to the solidified compact with respect to the thickness direction of the foil is the pressing direction. Or a step of performing hot isostatic pressing on the solidified molded body.

【0018】本発明においては、箔の表面に、液体急冷
法により作製された直後においては、箔の表面近傍にチ
ル晶が多数存在しているが、その後の還元ガス雰囲気又
は不活性ガス雰囲気中で熱処理によりそのチル晶が消失
して、箔の厚さ方向に延びる結晶粒の配向性がより向上
する。従って、その後の固化成形の工程及び加圧等の工
程により、配向性が極めて高く比抵抗が低減された熱電
材料が得られる。また、熱処理により、箔の表面近傍に
Te原子及びSe原子が偏析し、その後の固化成形の際
に箔間で拡散しやすくなるため、焼結性及び機械的強度
が向上する。
In the present invention, a large number of chill crystals are present in the vicinity of the surface of the foil immediately after being produced by the liquid quenching method on the surface of the foil. However, in the subsequent reducing gas atmosphere or inert gas atmosphere. By the heat treatment, the chill crystals disappear, and the orientation of the crystal grains extending in the thickness direction of the foil is further improved. Therefore, a thermoelectric material having extremely high orientation and reduced specific resistance can be obtained by the subsequent steps of solidification molding and pressing. Further, Te atoms and Se atoms segregate in the vicinity of the surface of the foil due to the heat treatment and are easily diffused between the foils during the subsequent solidification molding, so that the sinterability and mechanical strength are improved.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明について更に詳細に
説明する。液体急冷法により熱電材料の箔を製造するこ
とができ、この作製した箔はそれ自体が粉末のように微
細である場合がある。このような微細でない場合は、得
られた箔を粉砕し、粉末とする。このようにして、液体
急冷法により得られた熱電材料の粉末は、その内部に高
密度の歪み及び欠陥が導入されている。この急冷箔にお
いては、水素ガスの還元雰囲気中で熱処理したり、ホッ
トプレス又は押出成形等の固化成形したりする際に、歪
み又は欠陥が核となって微細な再結晶粒が粉末(箔)の
内部に析出する。この結晶粒の粒界(界面)は、粉砕粉
末同士の界面に比べて不純物濃度が低いために、比抵抗
(ρ)を低く保持したまま、粒界によるフォノン散乱を
増加させて熱伝導率(κ)を低減することができる。こ
れにより、性能指数(Z)を著しく向上させることがで
きる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in more detail below. A foil of thermoelectric material can be produced by a liquid quenching method, and the produced foil itself may be fine like a powder. If it is not fine, the obtained foil is crushed into powder. In this way, the thermoelectric material powder obtained by the liquid quenching method has high-density strains and defects introduced therein. In this quenched foil, when heat treatment is performed in a reducing atmosphere of hydrogen gas, or during solidification molding such as hot pressing or extrusion molding, fine recrystallized grains become powder (foil) with nuclei of strain or defects. Is deposited inside. Since the grain boundary (interface) of the crystal grains has a lower impurity concentration than the interface between the pulverized powders, the phonon scattering due to the grain boundary is increased and the thermal conductivity (ratio) is increased while keeping the specific resistance (ρ) low. κ) can be reduced. Thereby, the figure of merit (Z) can be significantly improved.

【0020】更に、この急冷箔中の歪みを利用した結晶
は、固化成形時に加圧方向と平行の方向に長軸が偏倚
し、加圧方向と垂直の方向に短軸が偏倚して、アスペク
ト比が大きな結晶粒として成長し、又は再結晶する特徴
を有する。この場合に、長軸方向の比抵抗(ρ)値が短
軸方向の比抵抗(ρ)値よりも著しく低下するため、こ
の方向の性能指数が高くなる。また、押圧方向に平行に
C面を揃えると、更に比抵抗ρが低下し、性能指数Zが
高くなる。従って、熱電変換素子として、熱電モジュー
ルに組み立てる際には、最初の固化成形(1次固化成
形)時の加圧方向と平行の方向、即ち長軸方向に電流が
流れるように電極を取り付けることが必要である。
Further, in the crystal utilizing the strain in the quenched foil, the major axis is biased in the direction parallel to the pressing direction during the solidification forming, and the minor axis is biased in the direction perpendicular to the pressing direction. It has a characteristic that it grows as a crystal grain having a large ratio or recrystallizes. In this case, the resistivity (ρ) value in the major axis direction is significantly lower than the resistivity (ρ) value in the minor axis direction, so that the figure of merit in this direction is high. Further, if the C planes are aligned parallel to the pressing direction, the specific resistance ρ further decreases and the figure of merit Z increases. Therefore, when assembling a thermoelectric conversion element into a thermoelectric conversion element, it is necessary to attach electrodes so that a current flows in a direction parallel to the pressurizing direction at the first solidification molding (primary solidification molding), that is, the long axis direction. is necessary.

【0021】本実施例においては、Bi、Sb及びTe
からなる組成物にTeを添加して製造された熱電材料を
使用しているが、他の種々の組成を有する熱電材料を使
用しても、同様の効果を得ることができる。例えば、本
発明において、熱電材料としては、Bi及びSbのいず
れか一方又は両方と、Te及びSeのいずれか一方又は
両方とからなるものを使用することができる。また、熱
電材料としては、前記組成の他に、I、Cl、Hg、B
r、Ag及びCuからなる群から選択された少なくとも
1種の元素が添加されているものも使用することができ
る。
In this embodiment, Bi, Sb and Te are used.
Although the thermoelectric material manufactured by adding Te to the composition consisting of is used, the same effect can be obtained by using thermoelectric materials having other various compositions. For example, in the present invention, as the thermoelectric material, a material composed of either one or both of Bi and Sb and one or both of Te and Se can be used. As the thermoelectric material, in addition to the above composition, I, Cl, Hg, B
It is also possible to use those to which at least one element selected from the group consisting of r, Ag and Cu is added.

【0022】次に、本発明の実施例に係る熱電材料の製
造方法について説明する。図1は本発明の実施例に係る
熱電材料の製造方法を示すフローチャートである。
Next, a method of manufacturing a thermoelectric material according to an embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a flowchart showing a method for manufacturing a thermoelectric material according to an embodiment of the present invention.

【0023】本実施例においては、先ず、原料であるB
i、Sb、Te及びSeの秤量を行い(ステップS
1)、図2(a)に示すように、この原料41をアンプ
ル42に挿入する(ステップS2)。なお、この封入に
際しては、原料41をアンプル42内に入れた後、アン
プル42内を真空引きし、その内部が真空となったまま
か、又は不活性ガスを導入した状態として、図2(b)
に示すように、アンプル42の口を封じ切る。その後、
図2(c)に示すように、アンプル42を600乃至7
00℃の管状炉43内に入れて原料41を溶解し、管状
炉43をスタンド44に回転可能に支持させてゆりかご
のように揺動して原料融液を撹拌する。次いで、融液を
冷却して凝固させる。このようにして、インゴットを作
製する(ステップS3)。
In this embodiment, first, the raw material B
i, Sb, Te and Se are weighed (step S
1), as shown in FIG. 2A, this raw material 41 is inserted into the ampoule 42 (step S2). In addition, at the time of this encapsulation, after the raw material 41 is put into the ampoule 42, the inside of the ampoule 42 is evacuated, and the inside of the ampoule 42 is kept in a vacuum state or an inert gas is introduced. )
The mouth of the ampoule 42 is sealed off as shown in FIG. afterwards,
As shown in FIG. 2C, the ampoule 42 is placed at 600 to 7
The raw material 41 is melted by being placed in a tubular furnace 43 at 00 ° C., the tubular furnace 43 is rotatably supported by a stand 44, and is swung like a cradle to stir the raw material melt. Then, the melt is cooled and solidified. In this way, an ingot is manufactured (step S3).

【0024】図3は液体急冷法により熱電材料の粉末を
製造する方法を示す図である。銅製ロール12を回転さ
せつつ、その頂部15に、先端にスリット又は複数の孔
からなる射出口が設けられた石英ノズル11内に貯留し
た熱電材料の溶湯13をArガスにより加圧して供給す
る。これにより、溶湯13が銅製ロール12に接触して
急冷され、急冷薄帯14となってロール12の回転によ
り送り出される(ステップS4)。
FIG. 3 is a diagram showing a method for producing powder of thermoelectric material by the liquid quenching method. While rotating the copper roll 12, the molten metal 13 of thermoelectric material stored in a quartz nozzle 11 having a slit or a plurality of holes formed in the tip thereof at its tip 15 is pressurized by Ar gas and supplied. As a result, the molten metal 13 comes into contact with the copper roll 12 and is rapidly cooled, and becomes a quenched thin ribbon 14 which is sent out by the rotation of the roll 12 (step S4).

【0025】図4は急冷薄片における結晶粒の成長方向
を示す模式図である。冷却ロール30の表面に急冷薄片
31が形成され、結晶がロール表面から遠ざかる方向
(箔の厚さ方向)に成長し、この方向に長軸Dを有し、
ロール表面に平行の方向に短軸dを有する結晶構造32
が得られる。急冷薄片31内における結晶の形状及び配
向に関しては、元々長軸Dの方向とC面とが平行になっ
ている。そして、この急冷薄片31に対し、図5に示す
ように、長軸に平行の方向に応力を印加すると、六方晶
であって、そのC面が押圧方向に平行の結晶構造33が
得られる。
FIG. 4 is a schematic diagram showing the growth direction of crystal grains in a quenched thin piece. A quenching thin piece 31 is formed on the surface of the cooling roll 30, crystals grow in a direction away from the roll surface (thickness direction of foil), and have a major axis D in this direction,
Crystal structure 32 having a minor axis d in a direction parallel to the roll surface
Is obtained. Regarding the shape and orientation of the crystal in the quenched thin piece 31, the direction of the long axis D is originally parallel to the C plane. Then, when stress is applied to the quenched thin piece 31 in a direction parallel to the major axis, a crystal structure 33 which is a hexagonal crystal and whose C-plane is parallel to the pressing direction is obtained.

【0026】図3のような液体急冷法(単ロール法)の
場合を例にとると、熱電材料の溶湯が冷却ロールの表面
で冷却され、急冷薄帯が形成されるとき、溶湯は冷却ロ
ールの表面側の部分が先ず冷却され、その後順次冷却ロ
ールから離れる部分が冷却されていく。従って、ロール
表面側が低温でそれから離れるに従って高温になる温度
勾配が生じる。このため、結晶粒はロール方面から遠ざ
かる方向に成長し、この方向に長軸Dを有し、ロール表
面に平行の方向に短軸dを有するアスペクト比の大きな
結晶粒となる。急冷薄帯14中にはこのような厚さ方向
と平行に長軸が有する結晶粒が多数並ぶ。つまり、各結
晶粒のC面が急冷薄帯14の厚さ方向に平行になってお
り、急冷薄帯14の厚さ方向はこの材料における低抵抗
の方向となっている。
Taking the case of the liquid quenching method (single roll method) as shown in FIG. 3 as an example, when the molten metal of the thermoelectric material is cooled on the surface of the cooling roll and a quenched ribbon is formed, the molten metal is cooled. The part on the front surface side is first cooled, and then the part which is separated from the cooling roll is sequentially cooled. Therefore, a temperature gradient occurs in which the roll surface side is low in temperature and becomes higher in temperature as it moves away from it. Therefore, the crystal grains grow in a direction away from the roll surface, and have a long axis D in this direction and a short axis d in a direction parallel to the roll surface, and have a large aspect ratio. In the quenched ribbon 14, a large number of crystal grains having the major axis are arranged in parallel with the thickness direction. That is, the C plane of each crystal grain is parallel to the thickness direction of the quenched ribbon 14, and the thickness direction of the quenched ribbon 14 is the direction of low resistance in this material.

【0027】更に、この急冷時の溶湯の温度を制御する
と、熱電材料の結晶方位を制御することができ、図5の
ように急冷薄片31の厚さ方向と平行に六方晶のC面も
整列する。
Further, by controlling the temperature of the molten metal during the rapid cooling, the crystal orientation of the thermoelectric material can be controlled, and as shown in FIG. 5, the hexagonal C-planes are aligned in parallel with the thickness direction of the quenched thin piece 31. To do.

【0028】次に、図3に示す液体急冷法により急冷さ
れて得られた急冷薄帯14を水素ガス中又はArガス中
で熱処理(水素還元処理又はアニール処理:ステップS
5)する。この熱処理条件は、例えば、温度が400℃
で、時間が8時間である。図6(a)は熱処理前の急冷
薄帯14の組織を示す断面図、(b)は熱処理後の急冷
薄帯14の組織を示す断面図である。図6(a)に示す
ように、熱処理前、即ち急冷凝固ままの組織では、厚さ
方向に延びる結晶粒51の他に急冷薄帯14の表面に多
量のチル晶52が存在している。これに対し、熱処理を
施すことにより、図6(b)に示すように、チル晶52
が消失する。また、熱処理中には、急冷薄帯14中のT
e原子及びSe原子が粒界拡散によりその表面に偏析す
るようになる。
Next, the quenched ribbon 14 obtained by quenching by the liquid quenching method shown in FIG. 3 is heat-treated in hydrogen gas or Ar gas (hydrogen reduction treatment or annealing treatment: step S).
5) Do. This heat treatment condition is, for example, a temperature of 400 ° C.
And the time is 8 hours. FIG. 6A is a sectional view showing the structure of the quenched ribbon 14 before heat treatment, and FIG. 6B is a sectional view showing the structure of the quenched ribbon 14 after heat treatment. As shown in FIG. 6A, in the structure before the heat treatment, that is, in the structure as rapidly solidified, a large amount of chill crystals 52 are present on the surface of the quenched ribbon 14 in addition to the crystal grains 51 extending in the thickness direction. On the other hand, by performing heat treatment, as shown in FIG.
Disappears. Further, during the heat treatment, the T in the quenched ribbon 14 is
The e atoms and Se atoms become segregated on the surface due to grain boundary diffusion.

【0029】その後、薄帯14を必要に応じて粉砕し、
分級して粒度を揃える。そして、適度な粒度範囲の薄帯
(箔)14を角柱状の型(図示せず)内に積層しながら
装入し、加熱した熱間で側面を拘束した状態で軸方向に
圧力Pを印加し、ホットプレスする。これにより、図7
に示すように、プレス方向(押圧方向)に長軸が揃い、
押圧方向に直交する方向に短軸が揃った結晶粒を有する
結晶組織の角柱状の固化成形体61が得られる(1次固
化成形)される(ステップS6)。
Then, the thin strip 14 is crushed if necessary,
Classify and make the particle size uniform. Then, a thin strip (foil) 14 having an appropriate grain size range is loaded while being stacked in a prismatic mold (not shown), and a pressure P is applied in the axial direction in a state where the side surface is restrained by the heated heat. And hot press. As a result, FIG.
As shown in, the major axis is aligned in the pressing direction (pressing direction),
A prismatic solidified compact 61 having a crystal structure having crystal grains whose minor axes are aligned in the direction orthogonal to the pressing direction is obtained (primary solidification compaction) (step S6).

【0030】液体急冷法により製造した急冷薄片には歪
み及び欠陥が導入されている。急冷薄片を粉砕し、又は
粉砕せずにホットプレス等によって固化成形する際、結
晶粒の粒成長が起こるか、又はこの歪み又は欠陥が核と
なって再結晶粒が析出する。この再結晶粒は、固化成形
時のプレス方向と平行の方向に長軸を有し、プレス方向
と垂直の方向に短軸を有するアスペクト比の大きな結晶
粒とすることができる。
Strains and defects have been introduced into the quenched flakes produced by the liquid quenching method. When the rapidly cooled flakes are crushed or solidified by hot pressing or the like without crushing, grain growth of crystal grains occurs, or this strain or defect serves as nuclei to precipitate recrystallized grains. The recrystallized grains can be crystal grains with a large aspect ratio having a major axis in a direction parallel to the pressing direction during solidification molding and a minor axis in a direction perpendicular to the pressing direction.

【0031】従って、急冷薄片(粉)を固化成形する
際、急冷薄帯の厚さ方向と平行方向に、即ち急冷薄帯中
の結晶粒の長軸と平行の方向に押圧し、固化成形時に生
成する再結晶粒も長軸が押圧方向に揃うようにすると、
結果として、結晶粒の長軸方向が押圧方向に平行の方向
に揃った結晶組織を有する固化成形体が得られる。
Therefore, when solidifying the quenched thin piece (powder), it is pressed in the direction parallel to the thickness direction of the quenched ribbon, that is, in the direction parallel to the long axis of the crystal grains in the quenched ribbon, and at the time of solidification molding. If the long axes of the recrystallized grains that are generated are aligned in the pressing direction,
As a result, a solidified compact having a crystal structure in which the major axis direction of the crystal grains is aligned in the direction parallel to the pressing direction is obtained.

【0032】また、本実施例においては、前述のよう
に、熱処理により急冷薄帯14の表面にTe原子及びS
e原子が偏析しているので、急冷薄帯14間でこれらの
原子が互いに拡散し合いやすく、固化成形されやすい。
Further, in the present embodiment, as described above, Te atoms and S atoms are formed on the surface of the quenched ribbon 14 by the heat treatment.
Since the e-atoms are segregated, these atoms are easily diffused between the quenched ribbons 14 and are easily solidified and molded.

【0033】その後、固化成形体に対して、側面プレス
(ステップS7a)、すえ込み鍛造(ステップS7
b)、圧延加工(ステップS7c)又は熱間静水圧加圧
(ステップS7d)を行う。
Thereafter, the solidified compact is subjected to side surface pressing (step S7a) and upset forging (step S7).
b), rolling (step S7c) or hot isostatic pressing (step S7d).

【0034】図8は側面プレスの方法を示す模式図であ
る。側面プレスを行う際には、1次固化成形の際のホッ
トプレスの押圧方向に垂直な1方向又は2方向から固化
成形体61を温間又は熱間で加圧する。例えば、図8に
おいて、ポットプレス時の圧力をP1で表すと、P2及
び/又はP3で表す圧力を固化成形体に印加する。
FIG. 8 is a schematic view showing a method of side surface pressing. When the side surface pressing is performed, the solidified molded body 61 is warmly or hot pressed from one direction or two directions perpendicular to the pressing direction of the hot press at the time of primary solidification molding. For example, in FIG. 8, when the pressure at the time of pot pressing is represented by P1, the pressure represented by P2 and / or P3 is applied to the solidified molded body.

【0035】図9はすえ込み鍛造の方法を示す模式図で
ある。すえ込み鍛造を行う際には、先ず、図9(a)に
示すように、固化成形体61を90゜回転させてポット
プレスの押圧方向を水平方向とし、図9(b)に示すよ
うに、これを上下方向から平金敷62で挟み込み、圧力
(P4)をかける。この結果、図9(c)に示すよう
に、各結晶粒はホットプレスの押圧方向により一層伸び
て配向性が向上する。なお、圧力は、例えば0.5乃至
2.0t/cmであり、そのときの固化成形体61の
温度は、例えば350乃至500℃に保持する。
FIG. 9 is a schematic view showing a method of upsetting. When performing the swaging forging, first, as shown in FIG. 9 (a), the solidified molded body 61 is rotated 90 ° to make the pressing direction of the pot press horizontal, and as shown in FIG. 9 (b). Then, this is sandwiched between flat anvils 62 from above and below, and pressure (P4) is applied. As a result, as shown in FIG. 9C, each crystal grain further extends in the pressing direction of the hot press and the orientation is improved. The pressure is, for example, 0.5 to 2.0 t / cm 2 , and the temperature of the solidified molded body 61 at that time is maintained, for example, at 350 to 500 ° C.

【0036】図10は圧延加工の一例としてシース圧延
の方法を示す模式図である。シース圧延では、先ず、図
10(a)に示すように、固化成形体61を例えば純ア
ルミニウム製のケース63に挿入し、その内部の真空度
を約1.3332Pa(10 −2Torr)以上として
ケース63の口の部分(二点鎖線で示す)を電子ビーム
溶接して内部を外部から遮断する。次いで、図10
(b)に示すように、ケース63をヒータ65が設けら
れた炉64の中に挿入し、350乃至500℃で10乃
至40分間保持する。その後、図10(c)に示すよう
に、ホットプレス時の押圧方向と圧下力の作用方向とが
互いに直交するようにして、圧延ロール66間を通過さ
せることにより、固化成形体61をケース63ごと圧延
する。なお、このときの圧延ロール66の表面温度は、
固化成形体61の温度低下を抑制するために100℃以
上であることが好ましい。
FIG. 10 shows sheath rolling as an example of rolling.
It is a schematic diagram which shows the method of. In sheath rolling, first,
As shown in FIG. 10 (a), the solidified molded body 61 is, for example, pure
Inserted in a case 63 made of luminium, the degree of vacuum inside
About 1.3332 Pa (10 -2Torr) or above
The mouth of the case 63 (shown by the chain double-dashed line) is irradiated with an electron beam.
Weld to block the inside from the outside. Then, FIG.
As shown in (b), the case 63 is provided with a heater 65.
It is inserted into the heated furnace 64 and heated at 350-500 ° C for 10
Hold for up to 40 minutes. After that, as shown in FIG.
In addition, the pressing direction during hot pressing and the action direction of the rolling force are
Pass the rolls 66 so that they are orthogonal to each other.
By rolling, the solidified molded body 61 is rolled together with the case 63.
To do. The surface temperature of the rolling roll 66 at this time is
In order to suppress the temperature decrease of the solidified molded body 61, 100 ° C or higher
The above is preferable.

【0037】図11は圧延加工の他の一例としてダイレ
クト圧延の方法を示す模式図である。ダイレクト圧延
(パック圧延)では、図11(a)に示すように、固化
成形体61を例えばアルミニウム箔67で包み込んで、
包装体70を作製する。次いで、図11(b)に示すよ
うに、ヒータ69及び圧延ロール66が設けられた真空
チャンバ68内で包装体70を圧延する。この圧延時に
は、例えば、真空チャンバ68内を真空状態とすると共
に、ヒータ69により包装体70を350乃至550℃
まで加熱した上で、包装体70を、ホットプレス時の押
圧方向と圧下力の作用方向とが互いに直交するようにし
て、圧延ロール66間を通過させる。
FIG. 11 is a schematic view showing a method of direct rolling as another example of rolling. In the direct rolling (pack rolling), as shown in FIG. 11A, the solidified molded body 61 is wrapped with, for example, an aluminum foil 67,
The package 70 is produced. Next, as shown in FIG. 11B, the package 70 is rolled in a vacuum chamber 68 provided with a heater 69 and a rolling roll 66. During this rolling, for example, the vacuum chamber 68 is evacuated, and the package 69 is heated to 350 to 550 ° C. by the heater 69.
Then, the package 70 is passed between the rolling rolls 66 such that the pressing direction at the time of hot pressing and the acting direction of the rolling force are orthogonal to each other.

【0038】なお、固化成形体の圧延方法は、これらの
シース圧延又はダイレクト圧延に限定されるものではな
く、例えば固化成形体をそのまま圧延してもよい。但
し、クラックの発生の防止及び均質化等の観点からは、
シース圧延又はダイレクト圧延が好ましい。
The method for rolling the solidified compact is not limited to the sheath rolling or the direct rolling, and for example, the solidified compact may be rolled as it is. However, from the viewpoint of preventing cracks and homogenization,
Sheath rolling or direct rolling is preferred.

【0039】図12は熱間静水圧加圧の方法を示す模式
図である。熱間静水圧加圧(Hot Isostatic Press:H
IP)では、例えば純アルミニウム製のケース71内に
固化成形体61を挿入し、ケース71内を脱気した後封
止する。そして、図12(a)に示すように、ケース7
1を圧力容器73内に配置する。圧力容器73内には、
ケース71の配置位置を取り囲むようにしてヒータ72
が設けられ、圧力容器73には、バルブ74が設けられ
た配管75が連結されている。ケース71を圧力容器7
3内に配置した後、ヒータ72でケース71内を加熱し
ながら、バルブ74を開き、配管75を介して例えばA
rガスを圧力容器73内に導入する。この結果、図12
(b)に示すように、ケース71内の固化成形体61が
圧力(P5)により等方的に押圧される。なお、熱間静
水圧加圧による加工を行う場合には、1次固化成形は低
温度かつ低圧で行うことが好ましく、例えば室温下で行
うことができる。
FIG. 12 is a schematic view showing a method of hot isostatic pressing. Hot Isostatic Press: H
In IP), for example, the solidified molded body 61 is inserted into a case 71 made of pure aluminum, the case 71 is deaerated, and then sealed. Then, as shown in FIG.
1 is placed in the pressure vessel 73. In the pressure vessel 73,
The heater 72 surrounds the arrangement position of the case 71.
The pressure vessel 73 is connected to a pipe 75 provided with a valve 74. Case 71 to pressure vessel 7
3, the valve 74 is opened while the inside of the case 71 is heated by the heater 72, and, for example, A
The r gas is introduced into the pressure vessel 73. As a result, FIG.
As shown in (b), the solidified molded body 61 in the case 71 is isotropically pressed by the pressure (P5). When performing processing by hot isostatic pressing, the primary solidification molding is preferably performed at low temperature and low pressure, and can be performed at room temperature, for example.

【0040】なお、側面プレス、すえ込み鍛造、圧延加
工及び熱間静水圧加圧のいずれの加工方法においても、
そのときの雰囲気は、真空度を約1.3332Pa(1
Torr)以上にした後、Ar置換することによ
り、酸素濃度を7000ppm以下としたものであるこ
とが好ましい。
In any of the side press, upset forging, rolling and hot isostatic pressing methods,
The atmosphere at that time has a vacuum degree of about 1.3332 Pa (1
0 - 2 Torr) after the above, by Ar substituted, it is preferably an oxygen concentration is obtained by the following 7000 ppm.

【0041】このようにして製造された熱電材料は、結
晶粒の長軸方向即ちホットプレスの押圧方向の比抵抗
(ρ)が短軸方向の比抵抗(ρ)よりも著しく低下する
ため、押圧方向の性能指数(Z)が高くなる。また、結
晶のC面も押圧方向に揃っているため、更に比抵抗
(ρ)が低下し、性能指数(Z)が高くなる。
In the thermoelectric material produced in this manner, the specific resistance (ρ) in the major axis direction of crystal grains, that is, in the pressing direction of the hot press is significantly lower than the specific resistance (ρ) in the minor axis direction. The figure of merit (Z) in the direction becomes high. Further, since the C-planes of the crystals are also aligned in the pressing direction, the specific resistance (ρ) further decreases and the figure of merit (Z) increases.

【0042】更に、本実施例においては、熱処理により
急冷薄帯14中のチル晶を消失させているので、その結
果得られた熱電材料の焼結性が高く機械的強度に優れる
と共に、配向性がより一層向上する。即ち、従来のよう
に熱処理を行わない場合には、急冷薄帯の表面に存在す
るチル晶がその後のホットプレス時に不規則に成長す
る。実際に、このような方法で製造した熱電材料の組織
を観察すると、急冷薄帯の界面に、配向性が高い結晶粒
ではなく、チル晶の成長により得られた結晶粒が存在
し、結晶粒の配向が乱れている。このため、この領域が
焼結時の変形抵抗となり、焼結性が低くなっている。こ
れに対し、本実施例のように、熱処理を行うと、急冷時
の歪みが緩和されると共に、チル晶が消失し、焼結(ホ
ットプレス)時の変形抵抗が著しく緩和され、焼結性が
向上する。また、チル晶の成長もあり得ないので、高い
配向性が得られる。更に、前述のように、熱処理時のT
e原子及びSe原子の拡散によっても焼結性が向上す
る。
Further, in this embodiment, since the chill crystals in the quenched ribbon 14 are eliminated by heat treatment, the thermoelectric material obtained as a result has high sinterability and excellent mechanical strength, and orientation. Is further improved. That is, when heat treatment is not performed as in the conventional case, the chill crystals existing on the surface of the quenched ribbon grow irregularly during the subsequent hot pressing. In fact, when observing the structure of the thermoelectric material produced by such a method, the crystal grains obtained by the growth of chill crystals are present at the interface of the quenched ribbon, not the crystal grains with high orientation. The orientation of is disturbed. Therefore, this region serves as a deformation resistance during sintering, and the sinterability is low. On the other hand, when heat treatment is performed as in this example, strain during quenching is relaxed, chill crystals disappear, deformation resistance during sintering (hot pressing) is significantly relaxed, and sinterability is improved. Is improved. In addition, since chill crystals cannot grow, high orientation can be obtained. Further, as described above, T during heat treatment
The sinterability is also improved by the diffusion of e atoms and Se atoms.

【0043】更にまた、配向性がより一層向上するた
め、ホットプレスの押圧方向の比抵抗(ρ)がより一層
低下する。前述のように、比抵抗(ρ)は温度の影響を
受けやすいが、この値が低下することにより、仮に熱電
材料の使用温度が90℃程度となっても、高い性能指数
(Z)が得られる。
Furthermore, since the orientation is further improved, the specific resistance (ρ) in the pressing direction of the hot press is further reduced. As described above, the specific resistance (ρ) is easily affected by temperature, but due to the decrease in this value, a high figure of merit (Z) can be obtained even if the operating temperature of the thermoelectric material is about 90 ° C. To be

【0044】熱電素子として熱電モジュールに組み立て
る際には、押圧方向即ち結晶粒の長軸方向に電流が流れ
るように電極を取り付ければよい。
When the thermoelectric element is assembled into the thermoelectric module, the electrodes may be attached so that the current flows in the pressing direction, that is, the major axis direction of the crystal grains.

【0045】次に、種々の条件で熱電材料を作製し、そ
の熱電特性を求めた結果について説明する。先ず、種々
の組成を有する熱電材料を製造し、最初のホットプレス
(1次固化成形)時の押圧方向に平行の方向について、
比抵抗ρ、熱伝導率κ及びゼーベック係数αから性能指
数Zを算出した。その結果を下記表1乃至表20に示
す。表1、表3、表5、表7、表9、表11、表13、
表15、表17及び表19は、各熱電材料の組成を示
し、表2、表4、表6、表8、表10、表12、表1
4、表16、表18及び表20は、比抵抗ρ、熱伝導率
κ、ゼーベック係数α及び性能指数Zの値を示す。ま
た、表1乃至表4は、固化成形体に側面プレスを行った
場合のものを示し、表5乃至表8は、固化成形体にすえ
込み鍛造を行った場合のものを示し、表9乃至表12
は、固化成形体にシース圧延を行った場合のものを示
し、表13乃至表16は、固化成形体にダイレクト圧延
を行った場合のものを示し、表17乃至表20は、固化
成形体に熱間静水圧加圧を行った場合のものを示す。
Next, the results obtained by producing thermoelectric materials under various conditions and determining their thermoelectric characteristics will be described. First, the thermoelectric materials having various compositions are manufactured, and the direction parallel to the pressing direction at the time of the first hot pressing (primary solidification molding) is
The figure of merit Z was calculated from the specific resistance ρ, the thermal conductivity κ and the Seebeck coefficient α. The results are shown in Tables 1 to 20 below. Table 1, Table 3, Table 5, Table 7, Table 9, Table 11, Table 13,
Tables 15, 17, and 19 show the composition of each thermoelectric material, and are Table 2, Table 4, Table 6, Table 8, Table 10, Table 12, and Table 1.
4, Table 16, Table 18 and Table 20 show the values of specific resistance ρ, thermal conductivity κ, Seebeck coefficient α and figure of merit Z. Further, Tables 1 to 4 show the cases where the solidified molded body was subjected to side surface pressing, Tables 5 to 8 show the cases where the solidified molded body was upset forged, and Tables 9 to 9 Table 12
Shows the case where the solidified molded body is subjected to sheath rolling, Tables 13 to 16 show the case where the solidified molded body is subjected to direct rolling, and Tables 17 to 20 show the solidified molded body. The figure shows the case where hot isostatic pressing is performed.

【0046】実施例No.1乃至7では、各組成に調合
したインゴットから液体急冷法により薄片又は粉末を作
製し、水素雰囲気中で400℃、10時間の還元処理を
施し、その後箔を積層して箔の厚さ方向(C面に平行な
方向)を押圧方向としてホットプレスを行うことによ
り、固化成形体を作製した。更に、固化成形体を90゜
回転させ、1方向から圧力を印加することにより、側面
プレスを行った。ホットプレスでは、超硬ダイスを使用
し、雰囲気はAr雰囲気とした。また、固化成形体の形
状は各辺の長さが50mmの立方体とし、1.0(t/
cm)の圧力を300℃で30分間印加し続けた。ま
た、側面プレスでは、P型熱電材料(実施例No.1乃
至4)において0.5(t/cm)の圧力を400℃
で1時間印加し続け、N型熱電材料(実施例No.5乃
至7)において0.5(t/cm)の圧力を450℃
で1時間印加し続けた。
Example No. In Nos. 1 to 7, flakes or powders were prepared from the ingots prepared in the respective compositions by a liquid quenching method, subjected to reduction treatment at 400 ° C. for 10 hours in a hydrogen atmosphere, and then laminated with foils in the thickness direction of the foils ( A solidified molded body was produced by performing hot pressing with the pressing direction being the direction parallel to the C surface). Further, the solidified molded body was rotated by 90 °, and pressure was applied from one direction to perform side surface pressing. In the hot press, a carbide die was used and the atmosphere was an Ar atmosphere. In addition, the shape of the solidified molded body is a cube with each side having a length of 50 mm, and is 1.0 (t /
The pressure of cm 2 ) was continuously applied at 300 ° C. for 30 minutes. Further, in the side press, a pressure of 0.5 (t / cm 2 ) was applied to the P-type thermoelectric material (Examples Nos. 1 to 4) at 400 ° C.
The N-type thermoelectric material (Examples Nos. 5 to 7) was applied with a pressure of 0.5 (t / cm 2 ) at 450 ° C. for 1 hour.
Application was continued for 1 hour.

【0047】実施例No.8乃至13では、各組成に調
合したインゴットから液体急冷法により薄片又は粉末を
作製し、水素雰囲気中で400℃、10時間の還元処理
を施し、その後箔を積層して箔の厚さ方向(C面に平行
な方向)を押圧方向としてホットプレスを行うことによ
り、固化成形体を作製した。更に、固化成形体を90゜
回転させてすえ込み鍛造を行った。ホットプレスでは、
超硬ダイスを使用し、雰囲気はAr雰囲気とした。ま
た、固化成形体の形状は各辺の長さが50mmの立方体
とし、1.0(t/cm)の圧力を350℃で30分
間印加し続けた。また、すえ込み鍛造では、0.8(t
/cm)の圧力を400℃で5時間印加し続けた。
Example No. In Nos. 8 to 13, flakes or powders were prepared from the ingots prepared by the respective compositions by a liquid quenching method, subjected to reduction treatment at 400 ° C. for 10 hours in a hydrogen atmosphere, and then the foils were laminated to form a foil thickness direction ( A solidified molded body was produced by performing hot pressing with the pressing direction being the direction parallel to the C surface). Further, the solidified compact was rotated by 90 ° for swaging forging. In hot press,
A carbide die was used and the atmosphere was an Ar atmosphere. The shape of the solidified molded body was a cube with each side having a length of 50 mm, and a pressure of 1.0 (t / cm 2 ) was continuously applied at 350 ° C. for 30 minutes. In addition, in swaging forging, 0.8 (t
/ Cm 2 ) at 400 ° C. for 5 hours.

【0048】実施例No.14乃至19では、各組成に
調合したインゴットから液体急冷法により薄片又は粉末
を作製し、Ar雰囲気中で400℃、10時間のアニー
ル処理を施し、その後箔を積層して箔の厚さ方向(C面
に平行な方向)を押圧方向としてホットプレスを行うこ
とにより、固化成形体を作製した。更に、固化成形体を
アルミニウム製の容器(シース)に真空封入してシース
圧延を行った。ホットプレスでは、超硬ダイスを使用
し、雰囲気はAr雰囲気とした。また、固化成形体の形
状は各辺の長さが50mmの立方体とし、P型熱電材料
(実施例No.14乃至16)において0.5(t/c
)の圧力を350℃で1時間印加し続け、N型熱電
材料(実施例No.17乃至19)において0.5(t
/cm)の圧力を400℃で1時間印加し続けた。ま
た、シース圧延では固化成形体を半分に切断してその形
状を2辺の長さが50mm、他の1辺の長さが25mm
の直方体とし、これを、圧延温度:450℃、ロール
径:400mm、圧延速度:2m/秒、圧下率:20%
の条件で圧延した。
Example No. In Nos. 14 to 19, flakes or powders were prepared from the ingots prepared by the respective compositions by the liquid quenching method, annealed at 400 ° C. for 10 hours in an Ar atmosphere, and then the foils were laminated in the thickness direction of the foil ( A solidified molded body was produced by performing hot pressing with the pressing direction being the direction parallel to the C surface). Further, the solidified molded body was vacuum-sealed in an aluminum container (sheath) and subjected to sheath rolling. In the hot press, a carbide die was used and the atmosphere was an Ar atmosphere. In addition, the shape of the solidified molded body is a cube with each side having a length of 50 mm, and is 0.5 (t / c) in the P-type thermoelectric material (Examples Nos. 14 to 16).
m 2 ) pressure at 350 ° C. for 1 hour, and 0.5 (t) in N-type thermoelectric materials (Examples Nos. 17 to 19).
/ Cm 2 ) of pressure was continued to be applied at 400 ° C. for 1 hour. In the case of sheath rolling, the solidified molded body is cut in half and its shape is 50 mm on two sides and 25 mm on the other side.
Of rectangular parallelepiped, and the rolling temperature: 450 ° C., roll diameter: 400 mm, rolling speed: 2 m / sec, rolling reduction: 20%
Was rolled under the conditions.

【0049】実施例No.20乃至25では、各組成に
調合したインゴットから液体急冷法により薄片又は粉末
を作製し、Ar雰囲気中で400℃、10時間のアニー
ル処理を施し、その後箔を積層して箔の厚さ方向(C面
に平行な方向)を押圧方向としてホットプレスを行うこ
とにより、固化成形体を作製した。更に、固化成形体を
アルミニウム箔で包装し、チャンバ内を真空引きした
後、チャンバ内をAr雰囲気としてダイレクト圧延を行
った。ホットプレスでは、超硬ダイスを使用し、雰囲気
はAr雰囲気とした。また、固化成形体の形状は各辺の
長さが50mmの立方体とし、P型熱電材料(実施例N
o.20乃至22)において0.5(t/cm)の圧
力を350℃で1時間印加し続け、N型熱電材料(実施
例No.23乃至25)において0.5(t/cm
の圧力を400℃で1.5時間印加し続けた。また、ダ
イレクト圧延では固化成形体を半分に切断してその形状
を2辺の長さが50mm、他の1辺の長さが25mmの
直方体とし、これを、圧延温度:480℃、ロール径:
400mm、圧延速度:5m/秒、圧下率:30%の条
件で圧延した。
Example No. In Nos. 20 to 25, flakes or powders were prepared from the ingots prepared in the respective compositions by the liquid quenching method, annealed at 400 ° C. for 10 hours in an Ar atmosphere, and then the foils were laminated to form the foil thickness direction ( A solidified molded body was produced by performing hot pressing with the pressing direction being the direction parallel to the C surface). Further, the solidified molded body was wrapped with aluminum foil, the inside of the chamber was evacuated, and then the inside of the chamber was subjected to an Ar atmosphere for direct rolling. In the hot press, a carbide die was used and the atmosphere was an Ar atmosphere. Further, the solidified molded body has a cubic shape with each side having a length of 50 mm, and is made of a P-type thermoelectric material (Example N).
o. 20 to 22) at 0.5 (t / cm 2) pressure was continuously applied for 1 hour at 350 ° C. of, N-type thermoelectric material (Example No.23 to 25) at 0.5 (t / cm 2)
Was continuously applied at 400 ° C. for 1.5 hours. Further, in the direct rolling, the solidified formed body is cut in half to form a rectangular parallelepiped having a length of two sides of 50 mm and a length of the other side of 25 mm. The rolling temperature is 480 ° C. and the roll diameter is:
Rolling was performed under the conditions of 400 mm, rolling speed: 5 m / sec, and rolling reduction: 30%.

【0050】実施例No.26乃至31では、各組成に
調合したインゴットから液体急冷法により薄片又は粉末
を作製し、Ar雰囲気中で400℃、8時間のアニール
処理を施し、その後箔を積層して箔の厚さ方向(C面に
平行な方向)を押圧方向としてホットプレスを行うこと
により、固化成形体を作製した。更に、固化成形体をア
ルミニウム製の容器(シース)に真空封入して熱間静水
圧加圧を行った。ホットプレスでは、超硬ダイスを使用
し、雰囲気はAr雰囲気とした。また、固化成形体の形
状は各辺の長さが50mmの立方体とし、0.5(t/
cm)の圧力を280℃で1時間印加し続けた。ま
た、熱間静水圧加圧では、Ar雰囲気で1(t/c
)の圧力を400℃で5時間印加し続けた。
Example No. In Nos. 26 to 31, thin flakes or powders were prepared from the ingots prepared in the respective compositions by the liquid quenching method, annealed at 400 ° C. for 8 hours in an Ar atmosphere, and then the foils were laminated to form the foil thickness direction ( A solidified molded body was produced by performing hot pressing with the pressing direction being the direction parallel to the C surface). Further, the solidified molded body was vacuum-sealed in an aluminum container (sheath) and hot isostatic pressing was performed. In the hot press, a carbide die was used and the atmosphere was an Ar atmosphere. Further, the solidified molded body has a cubic shape with a side length of 50 mm, and has a shape of 0.5 (t /
The pressure of cm 2 ) was continuously applied at 280 ° C. for 1 hour. In hot isostatic pressing, the pressure is 1 (t / c) in Ar atmosphere.
The pressure of m 2 ) was continuously applied at 400 ° C. for 5 hours.

【0051】[0051]

【表1】 [Table 1]

【0052】[0052]

【表2】 [Table 2]

【0053】[0053]

【表3】 [Table 3]

【0054】[0054]

【表4】 [Table 4]

【0055】[0055]

【表5】 [Table 5]

【0056】[0056]

【表6】 [Table 6]

【0057】[0057]

【表7】 [Table 7]

【0058】[0058]

【表8】 [Table 8]

【0059】[0059]

【表9】 [Table 9]

【0060】[0060]

【表10】 [Table 10]

【0061】[0061]

【表11】 [Table 11]

【0062】[0062]

【表12】 [Table 12]

【0063】[0063]

【表13】 [Table 13]

【0064】[0064]

【表14】 [Table 14]

【0065】[0065]

【表15】 [Table 15]

【0066】[0066]

【表16】 [Table 16]

【0067】[0067]

【表17】 [Table 17]

【0068】[0068]

【表18】 [Table 18]

【0069】[0069]

【表19】 [Table 19]

【0070】[0070]

【表20】 [Table 20]

【0071】これらの結果に示すように、各実施例にお
いて、固化成形体に側面プレス、すえ込み鍛造、シース
圧延、ダイレクト圧延又は熱間静水圧加圧を施すことに
より、高い性能指数(Z)を維持したまま比抵抗(ρ)
が低下した。即ち、これらの処理により高温での使用に
好適な熱電材料が得られた。
As shown in these results, in each of the Examples, a high performance index (Z) was obtained by subjecting the solidified molded body to side surface pressing, upset forging, sheath rolling, direct rolling or hot isostatic pressing. Resistivity (ρ) while maintaining
Has dropped. That is, these treatments yielded a thermoelectric material suitable for use at high temperatures.

【0072】また、本願発明者がこれらの処理を行った
後、更に熱電材料に真空中又はAr雰囲気中で熱処理を
行うことにより、各試料の物性及び強度のばらつきが抑
制されることも確認された。
It is also confirmed that, after the present inventor has performed these treatments, the thermoelectric material is further subjected to heat treatment in a vacuum or in an Ar atmosphere, whereby variations in the physical properties and strength of each sample are suppressed. It was

【0073】[0073]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
液体急冷法により作製した箔の表面に存在するチル晶
が、その後の還元ガス雰囲気又は不活性ガス雰囲気中で
熱処理により消失するため、箔の厚さ方向に延びる結晶
粒の配向性をより一層向上させることができる。従っ
て、その後の固化成形の工程及び加圧等の工程により、
配向性が極めて高く、固化成形の押圧方向における比抵
抗が著しく低減された熱電材料を得ることができる。即
ち、高温での使用においても、高い性能指数を維持する
ことができる。また、熱処理により、箔の表面近傍にT
e原子及びSe原子が偏析し、その後の固化成形の際に
箔間で拡散しやすくなるため、焼結性及び機械的強度を
向上させることもできる。
As described in detail above, according to the present invention,
Chill crystals existing on the surface of the foil prepared by the liquid quenching method disappear by heat treatment in the subsequent reducing gas atmosphere or inert gas atmosphere, further improving the orientation of the crystal grains extending in the thickness direction of the foil. Can be made. Therefore, by the subsequent steps of solidification molding and pressure,
It is possible to obtain a thermoelectric material having extremely high orientation and having a significantly reduced specific resistance in the pressing direction during solidification molding. That is, a high figure of merit can be maintained even when used at high temperatures. Also, by heat treatment, T near the surface of the foil
Since the e atoms and Se atoms segregate and easily diffuse between the foils during the subsequent solidification forming, the sinterability and mechanical strength can also be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の実施例に係る熱電材料の製造方法を
示すフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart showing a method for manufacturing a thermoelectric material according to an example of the present invention.

【図2】 本発明の実施例におけるインゴットの作製方
法を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a method for producing an ingot in the example of the present invention.

【図3】 液体急冷法により熱電材料の粉末を製造する
方法を示す。
FIG. 3 shows a method for producing a powder of thermoelectric material by a liquid quenching method.

【図4】 急冷薄片における結晶粒の成長方向を示す模
式図である。
FIG. 4 is a schematic view showing a crystal grain growth direction in a quenched thin piece.

【図5】 押圧方向とC面との関係を示す模式図であ
る。
FIG. 5 is a schematic diagram showing a relationship between a pressing direction and a C surface.

【図6】 (a)は熱処理前の急冷薄帯14の組織を示
す断面図、(b)は熱処理後の急冷薄帯14の組織を示
す断面図である。
6A is a sectional view showing the structure of the quenched ribbon 14 before heat treatment, and FIG. 6B is a sectional view showing the structure of the quenched ribbon 14 after heat treatment.

【図7】 ホットプレスによる固化成形方法を示す図で
ある。
FIG. 7 is a diagram showing a solidification molding method by hot pressing.

【図8】 側面プレスの方法を示す模式図である。FIG. 8 is a schematic view showing a method of a side surface press.

【図9】 すえ込み鍛造の方法を示す模式図である。FIG. 9 is a schematic view showing a swaging forging method.

【図10】 圧延加工の一例としてシース圧延の方法を
示す模式図である。
FIG. 10 is a schematic view showing a sheath rolling method as an example of rolling processing.

【図11】 圧延加工の他の一例としてダイレクト圧延
の方法を示す模式図である。
FIG. 11 is a schematic view showing a method of direct rolling as another example of rolling.

【図12】 熱間静水圧加圧の方法を示す模式図であ
る。
FIG. 12 is a schematic view showing a method of hot isostatic pressing.

【図13】 従来の一方向凝固材の作製方法を工程順に
示す模式図である。
FIG. 13 is a schematic diagram showing a method of manufacturing a conventional unidirectionally solidified material in the order of steps.

【図14】 固化成形される熱電材料の結晶粒とホット
プレス方向を示す模式図である。
FIG. 14 is a schematic diagram showing crystal grains of a thermoelectric material to be solidified and molded and hot pressing directions.

【図15】 熱電材料の結晶構造を示す図である。FIG. 15 is a diagram showing a crystal structure of a thermoelectric material.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1;熱電材料、 2;結晶粒、 11;石英ノズル、
12;銅製ロール、13;溶湯、 14;急冷箔帯、
15;頂部、 30;冷却ロール、 31;急冷薄片、
32、33;結晶構造、 41;原料、 42;アン
プル、 43;管状炉、 44;スタンド、 51;結
晶粒、 52;チル晶、 61;固化成形体、 62;
平金敷、 63;ケース、 64;炉、 65;ヒー
タ、 66;圧延ロール、 67;アルミニウム箔、
68;真空チャンバ、 69;ヒータ、 70;包装
体、 71;ケース、 72;ヒータ、 73;圧力容
器、74;バルブ、 75;配管
1; thermoelectric material, 2; crystal grain, 11; quartz nozzle,
12: Copper roll, 13: Molten metal, 14: Quenched foil strip,
15; top part, 30; chill roll, 31; quenching flakes,
32, 33; crystal structure, 41; raw material, 42; ampoule, 43; tubular furnace, 44; stand, 51; crystal grain, 52; chill crystal, 61; solidified compact, 62;
Flatbed, 63; Case, 64; Furnace, 65; Heater, 66; Roll, 67; Aluminum foil,
68; Vacuum chamber, 69; Heater, 70; Package, 71; Case, 72; Heater, 73; Pressure vessel, 74; Valve, 75; Piping

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B22F 9/08 B22F 9/08 C H01L 35/16 H01L 35/16 (72)発明者 林 高廣 静岡県浜松市中沢町10番1号 ヤマハ株式 会社内 (72)発明者 鈴木 順也 静岡県浜松市中沢町10番1号 ヤマハ株式 会社内 Fターム(参考) 4K017 AA04 BB03 CA03 DA01 EC02 FA21 4K018 AA40 BA20 BB01 BC01 EA02 EA13 EA44 EA52 FA01 KA32Front page continuation (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) B22F 9/08 B22F 9/08 C H01L 35/16 H01L 35/16 (72) Inventor Takahiro Hayashi Nakazawa Town, Hamamatsu City, Shizuoka Prefecture No. 10 No. 1 Yamaha Stock Company (72) Inventor Junya Suzuki No. 10 Nakazawa-machi, Hamamatsu City, Shizuoka Prefecture F No. 10 within Yamaha Stock Company (reference) 4K017 AA04 BB03 CA03 DA01 EC02 FA21 4K018 AA40 BA20 BB01 BC01 EA02 EA13 EA44 EA52 FA01 KA32

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 Bi及びSbからなる群から選択された
少なくとも1種の元素並びにTe及びSeからなる群か
ら選択された少なくとも1種の元素からなる組成を有す
る箔を液体急冷法により作製する工程と、前記箔を還元
ガス雰囲気又は不活性ガス雰囲気中で熱処理する工程
と、前記箔を積層してその厚さ方向に加圧することによ
り固化成形する第1の成形工程と、前記固化成形により
得られた固化成形体を前記箔の厚さ方向に対して垂直な
方向に加圧する第2の成形工程と、を有することを特徴
とする熱電材料の製造方法。
1. A step of producing a foil having a composition of at least one element selected from the group consisting of Bi and Sb and at least one element selected from the group consisting of Te and Se by a liquid quenching method. And a step of heat-treating the foil in a reducing gas atmosphere or an inert gas atmosphere, a first molding step of stacking the foils and pressurizing them in the thickness direction thereof, and a step of solidifying and molding. A second forming step of pressing the solidified formed body in a direction perpendicular to the thickness direction of the foil.
【請求項2】 Bi及びSbからなる群から選択された
少なくとも1種の元素並びにTe及びSeからなる群か
ら選択された少なくとも1種の元素からなる組成を有す
る箔を液体急冷法により作製する工程と、前記箔を還元
ガス雰囲気又は不活性ガス雰囲気中で熱処理する工程
と、前記箔を積層してその厚さ方向に加圧することによ
り固化成形する工程と、前記固化成形により得られた固
化成形体に前記箔の厚さ方向に対して垂直な方向を加圧
方向とするすえ込み鍛造を行う工程と、を有することを
特徴とする熱電材料の製造方法。
2. A step of producing a foil having a composition of at least one element selected from the group consisting of Bi and Sb and at least one element selected from the group consisting of Te and Se by a liquid quenching method. And a step of heat-treating the foil in a reducing gas atmosphere or an inert gas atmosphere, a step of solidifying and molding by laminating the foils and pressing in the thickness direction thereof, and a solidifying and molding obtained by the solidifying and molding. A step of upsetting forging the body in a direction perpendicular to the thickness direction of the foil as a pressing direction, the method for producing a thermoelectric material.
【請求項3】 Bi及びSbからなる群から選択された
少なくとも1種の元素並びにTe及びSeからなる群か
ら選択された少なくとも1種の元素からなる組成を有す
る箔を液体急冷法により作製する工程と、前記箔を還元
ガス雰囲気又は不活性ガス雰囲気中で熱処理する工程
と、前記箔を積層してその厚さ方向に加圧することによ
り固化成形する工程と、前記固化成形により得られた固
化成形体に前記箔の厚さ方向に対して垂直な方向を圧下
方向とする圧延を行う工程と、を有することを特徴とす
る熱電材料の製造方法。
3. A step of producing a foil having a composition of at least one element selected from the group consisting of Bi and Sb and at least one element selected from the group consisting of Te and Se by a liquid quenching method. And a step of heat-treating the foil in a reducing gas atmosphere or an inert gas atmosphere, a step of solidifying and molding by laminating the foils and pressing in the thickness direction thereof, and a solidifying and molding obtained by the solidifying and molding. A step of rolling the body in a rolling direction in a direction perpendicular to the thickness direction of the foil, the method for producing a thermoelectric material.
【請求項4】 Bi及びSbからなる群から選択された
少なくとも1種の元素並びにTe及びSeからなる群か
ら選択された少なくとも1種の元素からなる組成を有す
る箔を液体急冷法により作製する工程と、前記箔を還元
ガス雰囲気又は不活性ガス雰囲気中で熱処理する工程
と、前記箔を積層してその厚さ方向に加圧することによ
り固化成形する工程と、前記固化成形により得られた固
化成形体に熱間静水圧加圧を行う工程と、を有すること
を特徴とする熱電材料の製造方法。
4. A step of producing a foil having a composition of at least one element selected from the group consisting of Bi and Sb and at least one element selected from the group consisting of Te and Se by a liquid quenching method. And a step of heat-treating the foil in a reducing gas atmosphere or an inert gas atmosphere, a step of solidifying and molding by laminating the foils and pressing in the thickness direction thereof, and a solidifying and molding obtained by the solidifying and molding. A step of performing hot isostatic pressing on the body, and a method for producing a thermoelectric material.
JP2001222029A 2001-07-23 2001-07-23 Method for manufacturing thermoelectric material Pending JP2003037302A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001222029A JP2003037302A (en) 2001-07-23 2001-07-23 Method for manufacturing thermoelectric material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001222029A JP2003037302A (en) 2001-07-23 2001-07-23 Method for manufacturing thermoelectric material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003037302A true JP2003037302A (en) 2003-02-07

Family

ID=19055589

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001222029A Pending JP2003037302A (en) 2001-07-23 2001-07-23 Method for manufacturing thermoelectric material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003037302A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004100280A1 (en) * 2003-05-08 2004-11-18 Ishikawajima-Harima Heavy Industries Co., Ltd. Thermoelectric semiconductor material, thermoelectric semiconductor element therefrom, thermoelectric module including thermoelectric semiconductor element and process for producing these
CN1333093C (en) * 2005-11-17 2007-08-22 钢铁研究总院 Preparation method of bismuth-tollurium base thromoelectric alloy
JP2008539600A (en) * 2005-04-28 2008-11-13 クール シールド,インコーポレーテッド Formable Peltier heat transfer element and method for manufacturing the same

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000036627A (en) * 1998-07-17 2000-02-02 Yamaha Corp Thermoelectric material and thermoelectric transfer element
JP2000124512A (en) * 1998-10-12 2000-04-28 Komatsu Ltd Thermoelectric semiconductor material, thermoelectric element, their manufacture, and device for manufacturing thermoelectric semiconductor material
JP2001053344A (en) * 1999-06-03 2001-02-23 Komatsu Ltd Manufacture of thermoelectric semiconductor material or element, and manufacture of thermoelectric module

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000036627A (en) * 1998-07-17 2000-02-02 Yamaha Corp Thermoelectric material and thermoelectric transfer element
JP2000124512A (en) * 1998-10-12 2000-04-28 Komatsu Ltd Thermoelectric semiconductor material, thermoelectric element, their manufacture, and device for manufacturing thermoelectric semiconductor material
JP2001053344A (en) * 1999-06-03 2001-02-23 Komatsu Ltd Manufacture of thermoelectric semiconductor material or element, and manufacture of thermoelectric module

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004100280A1 (en) * 2003-05-08 2004-11-18 Ishikawajima-Harima Heavy Industries Co., Ltd. Thermoelectric semiconductor material, thermoelectric semiconductor element therefrom, thermoelectric module including thermoelectric semiconductor element and process for producing these
KR100749122B1 (en) * 2003-05-08 2007-08-13 이시카와지마-하리마 주고교 가부시키가이샤 Thermoelectric semiconductor material, thermoelectric semiconductor element therefrom, thermoelectric module including thermoelectric semiconductor element and process for producing these
US8692103B2 (en) 2003-05-08 2014-04-08 Ihi Corporation Thermoelectric semiconductor material, thermoelectric semiconductor element using thermoelectric semiconductor material, thermoelectric module using thermoelectric semiconductor element and manufacturing method for same
US8884152B2 (en) 2003-05-08 2014-11-11 Ihi Corporation Thermoelectric semiconductor material, thermoelectric semiconductor element using thermoelectric semiconductor material, thermoelectric module using thermoelectric semiconductor element and manufacturing method for same
JP2008539600A (en) * 2005-04-28 2008-11-13 クール シールド,インコーポレーテッド Formable Peltier heat transfer element and method for manufacturing the same
CN1333093C (en) * 2005-11-17 2007-08-22 钢铁研究总院 Preparation method of bismuth-tollurium base thromoelectric alloy

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101087355B1 (en) Process for producing a heusler alloy, a half heusler alloy, a filled skutterudite based alloy and thermoelectric conversion system using them
KR100924054B1 (en) Thermoelectric material and method for producing same
US20060118161A1 (en) Thermoelectric material having crystal grains well oriented in certain direction and process for producing the same
US6596226B1 (en) Process for producing thermoelectric material and thermoelectric material thereof
WO2004100280A1 (en) Thermoelectric semiconductor material, thermoelectric semiconductor element therefrom, thermoelectric module including thermoelectric semiconductor element and process for producing these
JPH0316281A (en) Thermoelectric semiconductor material and manufacture thereof
JP4854215B2 (en) Thermoelectric material and manufacturing method thereof
JP4479628B2 (en) Thermoelectric material, manufacturing method thereof, and thermoelectric module
EP3375548B1 (en) Thermoelectric conversion material
EP0996174B1 (en) Thermoelectric materials and thermoelectric conversion element
CN112335061B (en) Thermoelectric conversion material, thermoelectric conversion module using same, and method for producing thermoelectric conversion material
JP2003037302A (en) Method for manufacturing thermoelectric material
KR101231936B1 (en) Nickel-based semifinished product having a cube recrystallization texture, corresponding method of production and use
JP2004235278A (en) Thermoelectric material and its manufacturing method
JP3979290B2 (en) Thermoelectric material and manufacturing method thereof
JP4250913B2 (en) Method for manufacturing thermoelectric conversion element
JP6661514B2 (en) N-type thermoelectric conversion material and method for producing the same
JP3861804B2 (en) Thermoelectric material and manufacturing method thereof
JP3929880B2 (en) Thermoelectric material
JP4303924B2 (en) Method for manufacturing thermoelectric semiconductor member
JP3603698B2 (en) Thermoelectric material and thermoelectric conversion element
WO2021193481A1 (en) Method for producing thermoelectric conversion element
JP2000036627A (en) Thermoelectric material and thermoelectric transfer element
JP2004296473A (en) Thermoelectric conversion material for thermal power generation, and manufacturing method thereof
JP2004296480A (en) Thermoelectric conversion material and manufacturing method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080521

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101201

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101214

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110209

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110308