JP2003029278A - Liquid crystal device, manufacturing device therefor and manufacturing method therefor - Google Patents

Liquid crystal device, manufacturing device therefor and manufacturing method therefor

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JP2003029278A
JP2003029278A JP2001218792A JP2001218792A JP2003029278A JP 2003029278 A JP2003029278 A JP 2003029278A JP 2001218792 A JP2001218792 A JP 2001218792A JP 2001218792 A JP2001218792 A JP 2001218792A JP 2003029278 A JP2003029278 A JP 2003029278A
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liquid crystal
crystal cell
cell array
cooling
heating
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Shigeki Kobayashi
重樹 小林
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the reorientation property of liquid crystal molecules in a prescribed direction and to improve display quality by improving the uniformity of heat history in an isotropic processing process. SOLUTION: A heating apparatus 90 is provided with a hot plate 91 that controls a mounting surface 91a on which a liquid crystal cell array 80 can be mounted at a uniform temperature, and an infrared heating apparatus 92 that emits infrared rays to a place where heat transfer between the liquid crystal cell array 80 and the hot plate 91 decreases due to bending, etc., of the liquid crystal cell array 80 owing to thermal change to compensate for the thermal dose of the liquid crystal cell array 80 by the hotplate 91. The entire liquid crystal cell array 80 is equally warmed up with heating of the hot plate 91 and the infrared heating apparatus 92, and heat history when liquid crystal in each liquid crystal cell 81 is warmed up to an isotropic phase is made equal.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶セル容器内に
封入された液晶を加熱、冷却して再配列する等方処理工
程を経て製造された液晶装置、その製造装置及び製造方
法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal device manufactured through an isotropic treatment process of heating, cooling and rearranging liquid crystal enclosed in a liquid crystal cell container, a manufacturing apparatus and a manufacturing method thereof.

【０００２】[0002]

【従来の技術】液晶ライトバルブ等の液晶装置は、ガラ
ス基板、石英基板等の２枚の基板間に液晶を封入して構
成される。液晶ライトバルブでは、一方の基板に、例え
ば薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor、以下、Ｔ
ＦＴと称す）をマトリクス状に配置し、他方の基板に対
向電極を配置して、両基板間に封入した液晶層の光学特
性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可
能にする。2. Description of the Related Art A liquid crystal device such as a liquid crystal light valve is constructed by enclosing a liquid crystal between two substrates such as a glass substrate and a quartz substrate. In a liquid crystal light valve, for example, a thin film transistor (hereinafter, referred to as T
(Referred to as FT) are arranged in a matrix, opposite electrodes are arranged on the other substrate, and the optical characteristics of the liquid crystal layer enclosed between both substrates are changed according to the image signal, thereby enabling image display. .

【０００３】ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基
板に対向配置される対向基板とは、別々に製造される。
両基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わさ
れた後、液晶が封入される。The TFT substrate on which the TFTs are arranged and the counter substrate opposed to the TFT substrate are manufactured separately.
After both substrates are bonded with high precision in the panel assembly process, liquid crystal is sealed.

【０００４】液晶セルの製造工程においては、先ず、各
基板工程において夫々製造されたＴＦＴ基板と対向基板
との対向面、即ち、対向基板及びＴＦＴ基板の液晶層と
接する面上に配向膜が形成され、次いでラビング処理が
行われる。次に、一方の基板上の端辺に接着剤となるシ
ール部が形成される。ＴＦＴ基板と対向基板とをシール
部を用いて貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着
硬化させることで両基板間に液晶セル容器が形成され
る。シール部の一部には切り欠きが設けられており、こ
の切り欠きを介して液晶セル容器内に液晶が封入され
る。In the manufacturing process of a liquid crystal cell, first, an alignment film is formed on the facing surface of the TFT substrate and the counter substrate manufactured in each substrate process, that is, on the surface of the counter substrate and the TFT substrate in contact with the liquid crystal layer. Then, a rubbing process is performed. Next, a seal portion serving as an adhesive is formed on the edge of one of the substrates. The liquid crystal cell container is formed between the TFT substrate and the counter substrate by using the seal portion and adhering the TFT substrate and the substrate by pressure bonding and curing while aligning. A notch is provided in a part of the seal portion, and the liquid crystal is sealed in the liquid crystal cell container through the notch.

【０００５】この種の液晶装置は、両基板の対向面に夫
々配向膜を形成してラビング処理を施すことで、電圧無
印加時の液晶分子の配列が決定される。配向膜は、例え
ばポリイミドを約数十ナノメーターの厚さで塗布するこ
とにより形成される。液晶層に対向する両基板の面上に
配向膜を形成することで、液晶分子を基板面に沿って配
向処理することができる。ラビング処理は、形成された
配向膜に異方性を発現させるものであり、配向膜に一定
方向のラビング処理を施すことで、液晶分子の配列を規
定することができる。In this type of liquid crystal device, an alignment film is formed on each of the opposing surfaces of both substrates and subjected to a rubbing treatment to determine the alignment of liquid crystal molecules when no voltage is applied. The alignment film is formed, for example, by applying polyimide to a thickness of about several tens of nanometers. By forming the alignment films on the surfaces of both substrates facing the liquid crystal layer, the liquid crystal molecules can be aligned along the surfaces of the substrates. The rubbing treatment causes the formed alignment film to exhibit anisotropy, and by performing the rubbing treatment in a certain direction on the alignment film, the alignment of liquid crystal molecules can be defined.

【０００６】ところで、液晶セル容器内に液晶を注入す
る工程において、液晶セル容器内への液晶の浸透速度は
経時的に変化する。すなわち、例えば、液晶の浸透開始
直後は、液晶セル容器内の液晶容量が少ないため、液晶
セル容器の内外の圧力差によって、液晶は比較的速い速
度で浸透する。また、例えば、中間付近では、液晶セル
容器内に浸透される液晶の円弧が大きくなるため、液晶
の浸透速度は低下する。液晶の浸透速度が早い場合、配
向膜をラビング処理することで付与した高分子側鎖の配
向が流動摩擦力によって攪乱される。この結果、ラビン
グ処理された配向膜に流動軌跡が発生し、表示の均一性
が低下する。一方、液晶の浸透速度が遅い場合、液晶の
流動配向が安定し、表示の均一性が低下する。特に、こ
の流動配向に起因する表示の均一性の低下は、ラビング
方向に対する液晶浸透方向のずれが大きい場合に顕著と
なる。By the way, in the step of injecting the liquid crystal into the liquid crystal cell container, the permeation rate of the liquid crystal into the liquid crystal cell container changes with time. That is, for example, immediately after the start of the permeation of the liquid crystal, the liquid crystal capacity inside the liquid crystal cell container is small, so that the liquid crystal permeates at a relatively high speed due to the pressure difference between the inside and outside of the liquid crystal cell container. Further, for example, in the vicinity of the middle, since the arc of the liquid crystal that permeates into the liquid crystal cell container becomes large, the liquid crystal permeation speed decreases. When the permeation speed of the liquid crystal is high, the orientation of the polymer side chains provided by rubbing the alignment film is disturbed by the flow frictional force. As a result, a flow path is generated in the rubbing-treated alignment film, and the uniformity of display is degraded. On the other hand, when the permeation speed of the liquid crystal is low, the flow alignment of the liquid crystal is stable and the display uniformity is reduced. In particular, the deterioration of the display uniformity due to the flow orientation becomes remarkable when the deviation of the liquid crystal permeation direction from the rubbing direction is large.

【０００７】このような液晶配向のばらつきを解消する
ため、パネル組立工程においては、一般に、液晶を一旦
等方相まで加熱し、ネマチック相に急冷することで液晶
の再配列を行う、等方処理工程が導入されている。この
種の等方処理工程は、例えば、液晶セルを、ホットプレ
ート及びクーリングプレートに順次載置することにより
行われる。この等方処理工程によれば、等方相での加熱
状態において、配向膜表面近傍に所望としない方向で吸
着、配列した液晶分子は解離する。そして、この状態か
ら急冷することで、液晶分子は、ラビング方向且つ所定
の傾斜（チルト）方向に再配列される。In order to eliminate such variations in liquid crystal orientation, in the panel assembly process, generally, the liquid crystal is rearranged by heating the liquid crystal to an isotropic phase and then rapidly cooling it to a nematic phase. Process has been introduced. This type of isotropic treatment step is performed, for example, by sequentially mounting the liquid crystal cell on a hot plate and a cooling plate. According to this isotropic treatment step, liquid crystal molecules adsorbed and arranged in an undesired direction near the surface of the alignment film are dissociated in the heating state in the isotropic phase. Then, by rapidly cooling from this state, the liquid crystal molecules are rearranged in the rubbing direction and the predetermined tilt direction.

【０００８】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな液晶セルの等方処理工程においては、成膜、熱工程
等を行った際のＴＦＴ基板及び対向基板の反りや、加熱
時或いは冷却時におけるＴＦＴ基板と対向基板の熱膨張
率の違いによる反り等に起因して、液晶セルが部分的に
ホットプレート或いはクーリングプレートから離間さ
れ、液晶への熱の伝達が一様に行われない場合がある。However, in the isotropic treatment process of such a liquid crystal cell, the TFT substrate and the counter substrate are warped during the film formation, the heat treatment, etc., and at the time of heating or cooling. The liquid crystal cell may be partially separated from the hot plate or the cooling plate due to a warp due to a difference in thermal expansion coefficient between the TFT substrate and the counter substrate, and heat may not be uniformly transferred to the liquid crystal. .

【０００９】例えば、複数の液晶セルがマザーガラス基
板上に配列されたままの状態の液晶セルアレイに対して
等方処理を行う場合、マザーガラス基板（ＴＦＴ基板）
と対向基板の熱膨張率の違い等に起因して液晶セルアレ
イの縁部近傍に反りが生じ、この部分がホットプレート
或いはクーリングプレートから離間されて熱伝達が低下
する場合がある。このような場合、液晶セルアレイの縁
部近傍に配設された液晶セルでは、液晶の昇降温度にば
らつきが生じる。For example, when performing isotropic processing on a liquid crystal cell array in which a plurality of liquid crystal cells are arranged on a mother glass substrate, a mother glass substrate (TFT substrate) is used.
There may be a case where a warp occurs near the edge of the liquid crystal cell array due to a difference in coefficient of thermal expansion between the counter substrate and the like, and this part is separated from the hot plate or the cooling plate to reduce heat transfer. In such a case, in the liquid crystal cells arranged near the edge of the liquid crystal cell array, the temperature rise and fall of the liquid crystal varies.

【００１０】また、例えば、大型の液晶セルに等方処理
を行う場合にも、同様の理由で液晶セルの縁部近傍に反
りが生じ、この部分がホットプレート或いはクーリング
プレートから離間されて熱伝達が低下するため、液晶セ
ル内での液晶の昇降温度にばらつきが生じる。Also, for example, when a large-sized liquid crystal cell is subjected to isotropic treatment, a warp occurs near the edge of the liquid crystal cell for the same reason, and this portion is separated from the hot plate or cooling plate to transfer heat. As a result, the temperature rise and fall of the liquid crystal in the liquid crystal cell varies.

【００１１】そして、例えば、液晶の昇温のばらつき
は、液晶分子の解離作用のばらつきを発生させ、本来の
目的とする液晶分子のラビング方向、且つ所定の傾斜
（チルト）方向への再配列を阻害する虞がある。また、
液晶の降温のばらつきは、液晶分子の再配列性を低下さ
せ、配向ドメインを発生させる虞がある。Then, for example, variations in the temperature rise of the liquid crystal cause variations in the dissociation action of the liquid crystal molecules, and the original intended rearrangement of the liquid crystal molecules in the rubbing direction and the predetermined tilt direction is performed. May hinder. Also,
The variation in the temperature drop of the liquid crystal may reduce the rearrangement property of the liquid crystal molecules and generate the alignment domain.

【００１２】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、等方処理工程における熱履歴の均一性を向
上することにより、液晶分子の所定方向への再配列性を
向上せしめ、表示品質を向上することのできる液晶装
置、その製造装置及び製造方法を提供することを目的と
する。The present invention has been made in view of the above problems, and improves the uniformity of the thermal history in the isotropic processing step, thereby improving the rearrangement property of liquid crystal molecules in a predetermined direction, and displaying An object of the present invention is to provide a liquid crystal device capable of improving quality, a manufacturing apparatus and a manufacturing method thereof.

【００１３】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明に係る液晶装置の
製造装置は、単一の液晶セル、或いは、複数の液晶セル
が同一基板上に配設された液晶セルアレイの等方処理に
おける加熱処理時に、上記液晶セル或いは上記液晶セル
アレイへの熱伝達が低下する箇所に対する加熱量を補い
ながら上記液晶セル或いは上記液晶セルアレイを加熱す
る加熱手段を具備したことを特徴とする。A liquid crystal device manufacturing apparatus according to the present invention is a heat treatment for isotropic treatment of a single liquid crystal cell or a liquid crystal cell array in which a plurality of liquid crystal cells are arranged on the same substrate. At the same time, a heating means for heating the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while compensating for the heating amount for the portion where the heat transfer to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is reduced is provided.

【００１４】このような構成によれば、加熱手段によっ
て、液晶セル或いは液晶セルアレイへの熱伝達が低下す
る箇所に対する加熱量を補いながら液晶セル或いは液晶
セルアレイを加熱することにより、液晶セル或いは液晶
セルアレイ全体が、均一な温度で昇温される。これによ
り、等方処理時における熱履歴の均一性を向上すること
ができ、液晶分子の所定方向への再配列性を向上するこ
とができる。According to such a structure, the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is heated by the heating means while heating the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while compensating for the heating amount to the portion where the heat transfer to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is lowered. The whole is heated at a uniform temperature. Thereby, the uniformity of thermal history during the isotropic treatment can be improved, and the rearrangement property of the liquid crystal molecules in a predetermined direction can be improved.

【００１５】本発明に係る液晶装置の製造装置は、単一
の液晶セル、或いは、複数の液晶セルが同一基板上に配
設された液晶セルアレイの等方処理における冷却処理時
に、上記液晶セル或いは上記液晶セルアレイへの熱伝達
が低下する箇所に対する冷却量を補いながら上記液晶セ
ル或いは上記液晶セルアレイを冷却する冷却手段を具備
したことを特徴とする。In the liquid crystal device manufacturing apparatus according to the present invention, a single liquid crystal cell, or a liquid crystal cell array in which a plurality of liquid crystal cells are arranged on the same substrate is subjected to a cooling treatment in an isotropic treatment. The liquid crystal cell is characterized by comprising a cooling means for cooling the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while supplementing a cooling amount for a portion where heat transfer to the liquid crystal cell array is reduced.

【００１６】このような構成によれば、冷却手段によっ
て、液晶セル或いは液晶セルアレイへの熱伝達が低下す
る箇所に対する冷却量を補いながら液晶セル或いは液晶
セルアレイを冷却することにより、液晶セル或いは液晶
セルアレイ全体が、均一な温度で降温される。これによ
り、等方処理時における熱履歴の均一性を向上すること
ができ、液晶分子の所定方向への再配列性を向上するこ
とができる。According to this structure, the cooling means cools the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while compensating for the amount of cooling to the place where the heat transfer to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is reduced, thereby cooling the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array. The whole is cooled at a uniform temperature. Thereby, the uniformity of thermal history during the isotropic treatment can be improved, and the rearrangement property of the liquid crystal molecules in a predetermined direction can be improved.

【００１７】本発明に係る液晶装置の製造装置は、単一
の液晶セル、或いは、複数の液晶セルが同一基板上に配
設された液晶セルアレイの等方処理における加熱処理時
に、上記液晶セル或いは上記液晶セルアレイへの熱伝達
が低下する箇所に対する加熱量を補いながら上記液晶セ
ル或いは上記液晶セルアレイを加熱する加熱手段と、上
記等方処理における冷却処理時に、上記液晶セル或いは
上記液晶セルアレイへの熱伝達が低下する箇所に対する
冷却量を補いながら上記液晶セル或いは上記液晶セルア
レイを冷却する冷却手段と、を具備したことを特徴とす
る。In the liquid crystal device manufacturing apparatus according to the present invention, a single liquid crystal cell or a liquid crystal cell array in which a plurality of liquid crystal cells are arranged on the same substrate is subjected to a heat treatment in an isotropic treatment. Heating means for heating the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while compensating for the amount of heat applied to the location where heat transfer to the liquid crystal cell array is reduced, and heat to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array during the cooling treatment in the isotropic treatment. And a cooling means for cooling the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while compensating for the amount of cooling for a portion where the transmission is reduced.

【００１８】このような構成によれば、加熱手段によっ
て、液晶セル或いは液晶セルアレイへの熱伝達が低下す
る箇所に対する加熱量を補いながら液晶セル或いは液晶
セルアレイを加熱することにより、液晶セル或いは液晶
セルアレイ全体が、均一な温度で昇温される。また、冷
却手段によって、液晶セル或いは液晶セルアレイへの熱
伝達が低下する箇所に対する冷却量を補いながら液晶セ
ル或いは液晶セルアレイを冷却することにより、液晶セ
ル或いは液晶セルアレイ全体を、均一な温度で降温させ
る。これにより、等方処理時における熱履歴の均一性を
向上することができ、液晶分子の所定方向への再配列性
を向上することができる。According to such a structure, the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is heated by the heating means while heating the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while compensating for the heating amount to the portion where the heat transfer to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is lowered. The whole is heated at a uniform temperature. Further, the cooling means cools the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while compensating for the amount of cooling to the place where the heat transfer to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is lowered, so that the liquid crystal cell or the entire liquid crystal cell array is cooled at a uniform temperature. . Thereby, the uniformity of thermal history during the isotropic treatment can be improved, and the rearrangement property of the liquid crystal molecules in a predetermined direction can be improved.

【００１９】上記加熱手段は、上記液晶セル或いは上記
液晶セルアレイとの当接面が一様な温度に制御される加
熱手段本体と、上記液晶セル或いは上記液晶セルアレイ
に対する上記加熱手段本体からの熱伝達が低下する箇所
への加熱量を補う加熱アシスト手段と、を具備すること
を特徴とする。The heating means has a heating means body whose contact surface with the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is controlled to a uniform temperature, and heat transfer from the heating means body to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array. Heating assisting means for compensating for the amount of heat applied to the location where the temperature decreases.

【００２０】このような構成によれば、液晶セル或いは
液晶セルアレイとの当接面が一様な温度に制御される加
熱手段本体によって、液晶セル或いは液晶セルアレイが
昇温される。このとき、加熱アシスト手段によって、液
晶セル或いは液晶セルアレイに対する加熱手段本体から
の熱伝達が低下する箇所への加熱量を補うことにより、
液晶セル或いは液晶セルアレイ全体が、均一な温度で昇
温される。これにより、等方処理時における熱履歴の均
一性を向上することができ、液晶分子の所定方向への再
配列性を向上することができる。According to this structure, the temperature of the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is raised by the heating means main body whose contact surface with the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is controlled to a uniform temperature. At this time, the heating assisting means compensates for the heating amount to the location where the heat transfer from the heating means main body to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is reduced,
The temperature of the liquid crystal cell or the entire liquid crystal cell array is raised at a uniform temperature. Thereby, the uniformity of thermal history during the isotropic treatment can be improved, and the rearrangement property of the liquid crystal molecules in a predetermined direction can be improved.

【００２１】また、上記加熱手段は、上記液晶セル或い
は上記液晶セルアレイとの当接面上に、各々が個別の温
度に制御可能な複数の発熱体が配列された加熱手段本体
を具備することを特徴とする。Further, the heating means comprises a heating means main body in which a plurality of heating elements each of which can be controlled to an individual temperature are arranged on the contact surface with the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array. Characterize.

【００２２】このような構成によれば、液晶セル或いは
液晶セルアレイへの熱伝達が低下する箇所に対応する発
熱体の温度が高く設定された加熱手段本体によって、液
晶セル或いは液晶セルアレイ全体が、均一な温度で昇温
される。これにより、等方処理時における熱履歴の均一
性を向上することができ、液晶分子の所定方向への再配
列性を向上することができる。According to this structure, the entire liquid crystal cell or liquid crystal cell array is made uniform by the heating means main body in which the temperature of the heating element corresponding to the location where the heat transfer to the liquid crystal cell or liquid crystal cell array is lowered is set high. The temperature is raised at various temperatures. Thereby, the uniformity of thermal history during the isotropic treatment can be improved, and the rearrangement property of the liquid crystal molecules in a predetermined direction can be improved.

【００２３】また、上記発熱体はマトリクス状に配列さ
れていることを特徴とする。Further, the heating elements are arranged in a matrix.

【００２４】このような構成によれば、例えば液晶セル
或いは液晶セルアレイの形状や反り具合等に応じて、加
熱手段本体の温度分布を任意に設定することができ、汎
用性が向上する。According to this structure, the temperature distribution of the heating means main body can be arbitrarily set according to the shape and warpage of the liquid crystal cell or liquid crystal cell array, and the versatility is improved.

【００２５】また、上記冷却手段は、上記液晶セル或い
は上記液晶セルアレイとの当接面が一様な温度に制御さ
れる冷却手段本体と、上記液晶セル或いは上記液晶セル
アレイに対する上記冷却手段本体からの熱伝達が低下す
る箇所への冷却量を補う冷却アシスト手段と、を具備す
ることを特徴とする。The cooling means includes a cooling means main body whose contact surface with the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is controlled to a uniform temperature, and a cooling means main body for the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array. Cooling assist means for compensating for the amount of cooling to a location where heat transfer is reduced.

【００２６】このような構成によれば、液晶セル或いは
液晶セルアレイとの当接面が一様な温度に制御される冷
却手段本体によって、液晶セル或いは液晶セルアレイが
降温される。このとき、冷却アシスト手段によって、液
晶セル或いは液晶セルアレイに対する冷却手段本体から
の熱伝達が低下する箇所への冷却量を補うことにより、
液晶セル或いは液晶セルアレイ全体が、均一な温度で降
温される。これにより、等方処理時における熱履歴の均
一性を向上することができ、液晶分子の所定方向への再
配列性を向上することができる。According to this structure, the temperature of the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is lowered by the cooling means main body whose contact surface with the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is controlled to a uniform temperature. At this time, the cooling assist means compensates for the cooling amount to the location where the heat transfer from the cooling means main body to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array decreases.
The entire liquid crystal cell or liquid crystal cell array is cooled at a uniform temperature. Thereby, the uniformity of thermal history during the isotropic treatment can be improved, and the rearrangement property of the liquid crystal molecules in a predetermined direction can be improved.

【００２７】また、上記冷却手段は、上記液晶セル或い
は上記液晶セルアレイとの当接面上に、各々が個別の温
度に制御可能な複数の吸熱体が配列された冷却手段本体
を具備することを特徴とする。Further, the cooling means includes a cooling means main body in which a plurality of heat absorbers, each of which can be controlled to an individual temperature, are arranged on the contact surface with the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array. Characterize.

【００２８】このような構成によれば、液晶セル或いは
液晶セルアレイへの熱伝達が低下する箇所に対応する吸
熱体の温度が低く設定された冷却手段本体によって、液
晶セル或いは液晶セルアレイ全体が、均一な温度で降温
される。これにより、等方処理時における熱履歴の均一
性を向上することができ、液晶分子の所定方向への再配
列性を向上することができる。According to this structure, the entire liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is made uniform by the cooling means main body in which the temperature of the heat absorber corresponding to the location where the heat transfer to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is lowered is set low. Temperature is lowered at various temperatures. Thereby, the uniformity of thermal history during the isotropic treatment can be improved, and the rearrangement property of the liquid crystal molecules in a predetermined direction can be improved.

【００２９】また、上記吸熱体はマトリクス状に配列さ
れていることを特徴とする。The heat absorbers are arranged in a matrix.

【００３０】このような構成によれば、例えば液晶セル
或いは液晶セルアレイの形状や反り具合等に応じて、冷
却手段本体の温度分布を任意に設定することができ、汎
用性が向上する。According to this structure, the temperature distribution of the cooling means main body can be set arbitrarily according to the shape and warpage of the liquid crystal cell or liquid crystal cell array, and the versatility is improved.

【００３１】本発明に係る液晶装置の製造方法は、単一
の液晶セル、或いは、複数の液晶セルが同一基板上に配
設された液晶セルアレイの等方処理時に、上記液晶セル
或いは上記液晶セルアレイへの熱伝達が低下する箇所に
対する加熱量を補いながら上記液晶セル或いは上記液晶
セルアレイを加熱する手順を具備したことを特徴とす
る。According to the method of manufacturing a liquid crystal device of the present invention, a single liquid crystal cell or a liquid crystal cell array in which a plurality of liquid crystal cells are arranged on the same substrate is subjected to isotropic treatment, the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is processed. It is characterized in that a procedure for heating the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is provided while compensating for the heating amount for a portion where heat transfer to the cell is reduced.

【００３２】このような構成によれば、液晶セル或いは
液晶セルアレイへの熱伝達が低下する箇所に対する加熱
量を補いながら液晶セル或いは液晶セルアレイを加熱す
ることにより、液晶セル或いは液晶セルアレイ全体が、
均一な温度で昇温される。これにより、等方処理時にお
ける熱履歴の均一性を向上することができ、液晶分子の
所定方向への再配列性を向上することができる。According to this structure, the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array as a whole is heated by heating the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while compensating for the heating amount for the portion where the heat transfer to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is lowered.
The temperature is raised at a uniform temperature. Thereby, the uniformity of thermal history during the isotropic treatment can be improved, and the rearrangement property of the liquid crystal molecules in a predetermined direction can be improved.

【００３３】本発明に係る液晶装置の製造方法は、単一
の液晶セル、或いは、複数の液晶セルが同一基板上に配
設された液晶セルアレイの等方処理時に、上記液晶セル
或いは上記液晶セルアレイへの熱伝達が低下する箇所に
対する吸熱量を補いながら上記液晶セル或いは上記液晶
セルアレイを冷却する手順を具備したことを特徴とす
る。According to the method of manufacturing a liquid crystal device of the present invention, when a single liquid crystal cell or a liquid crystal cell array in which a plurality of liquid crystal cells are arranged on the same substrate is isotropically processed, the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is used. The liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is provided with a procedure for cooling the liquid crystal cell while compensating for the amount of heat absorbed at a location where heat transfer to the cell is reduced.

【００３４】このような構成によれば、液晶セル或いは
液晶セルアレイへの熱伝達が低下する箇所に対する冷却
量を補いながら液晶セル或いは液晶セルアレイを冷却す
ることにより、液晶セル或いは液晶セルアレイ全体が、
均一な温度で降温される。これにより、等方処理時にお
ける熱履歴の均一性を向上することができ、液晶分子の
所定方向への再配列性を向上することができる。According to this structure, the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array as a whole is cooled by cooling the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while compensating for the cooling amount to the place where the heat transfer to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is lowered.
The temperature is lowered at a uniform temperature. Thereby, the uniformity of thermal history during the isotropic treatment can be improved, and the rearrangement property of the liquid crystal molecules in a predetermined direction can be improved.

【００３５】本発明に係る液晶装置の製造方法は、単一
の液晶セル、或いは、複数の液晶セルが同一基板上に配
設された液晶セルアレイの等方処理時に、上記液晶セル
或いは上記液晶セルアレイへの熱伝達が低下する箇所に
対する加熱量を補いながら上記液晶セル或いは上記液晶
セルアレイを加熱する手順と、上記液晶セル或いは上記
液晶セルアレイへの熱伝達が低下する箇所に対する吸熱
量を補いながら上記液晶セル或いは上記液晶セルアレイ
を冷却する手順と、を具備したことを特徴とする。According to the method of manufacturing a liquid crystal device of the present invention, a single liquid crystal cell or a liquid crystal cell array in which a plurality of liquid crystal cells are arranged on the same substrate is subjected to an isotropic treatment, the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array. Of heating the liquid crystal cell or liquid crystal cell array while compensating for the amount of heat transfer to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell while compensating for the amount of heat absorption to the position of heat transfer to the liquid crystal cell or liquid crystal cell array. And a procedure for cooling the cell or the liquid crystal cell array.

【００３６】このような構成によれば、先ず、液晶セル
或いは液晶セルアレイへの熱伝達が低下する箇所に対す
る加熱量を補いながら液晶セル或いは液晶セルアレイを
加熱することにより、液晶セル或いは液晶セルアレイ全
体が、均一な温度で昇温される。その後、液晶セル或い
は液晶セルアレイへの熱伝達が低下する箇所に対する冷
却量を補いながら液晶セル或いは液晶セルアレイを冷却
することにより、液晶セル或いは液晶セルアレイ全体
が、均一な温度で降温される。これにより、等方処理時
における熱履歴の均一性を向上することができ、液晶分
子の所定方向への再配列性を向上することができる。According to this structure, first, the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is entirely heated by heating the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while compensating for the amount of heat to be applied to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array. The temperature is raised at a uniform temperature. Then, by cooling the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while compensating for the amount of cooling to the place where the heat transfer to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is lowered, the temperature of the liquid crystal cell or the entire liquid crystal cell array is lowered at a uniform temperature. Thereby, the uniformity of thermal history during the isotropic treatment can be improved, and the rearrangement property of the liquid crystal molecules in a predetermined direction can be improved.

【００３７】本発明に係る液晶装置は、上記液晶装置の
製造装置によって等方処理されて製造されたことを特徴
とする。The liquid crystal device according to the present invention is characterized by being isotropically processed by the above-mentioned liquid crystal device manufacturing apparatus.

【００３８】このような構成によれば、等方処理時にお
ける熱履歴の均一性を向上することができ、液晶分子の
所定方向への再配列性を向上することができる。According to this structure, it is possible to improve the uniformity of thermal history during the isotropic processing, and to improve the rearrangement property of the liquid crystal molecules in a predetermined direction.

【００３９】本発明に係る液晶装置は、上記液晶装置の
製造方法によって等方処理されて製造されたことを特徴
とする。The liquid crystal device according to the present invention is characterized in that it is isotropically processed by the above-described method for manufacturing a liquid crystal device.

【００４０】このような構成によれば、等方処理時にお
ける熱履歴の均一性を向上することができ、液晶分子の
所定方向への再配列性を向上することができる。According to this structure, it is possible to improve the uniformity of thermal history during the isotropic processing, and improve the rearrangement property of the liquid crystal molecules in a predetermined direction.

【００４１】[0041]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１は本発明の第１の実施の形態
に係る液晶セルアレイ及び、液晶装置の加熱装置を示す
概略構成図、図２は液晶装置の画素領域を構成する複数
の画素における各種素子、配線等の等価回路図である。
図３はＴＦＴ基板等の素子基板をその上に形成された各
構成要素と共に対向基板側から見た平面図であり、図４
は素子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する
組立工程終了後の液晶装置を、図３のＨ−Ｈ’線の位置
で切断して示す断面図である。また、図５は液晶装置を
詳細に示す断面図である。図６は液晶セルの製造工程を
示すフローチャートである。図７は液晶セルアレイ及
び、液晶装置の冷却装置を示す概略構成図である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a liquid crystal cell array according to a first embodiment of the present invention and a heating device of a liquid crystal device, and FIG. 2 is a diagram showing various elements, wirings, etc. in a plurality of pixels constituting a pixel region of the liquid crystal device. It is an equivalent circuit diagram.
FIG. 3 is a plan view of an element substrate such as a TFT substrate as viewed from the counter substrate side together with the respective constituent elements formed thereon.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing the liquid crystal device after the assembly step of bonding the element substrate and the counter substrate to each other and enclosing the liquid crystal, taken along line HH ′ in FIG. 3. FIG. 5 is a sectional view showing the liquid crystal device in detail. FIG. 6 is a flowchart showing the manufacturing process of the liquid crystal cell. FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing a liquid crystal cell array and a cooling device for a liquid crystal device.

【００４２】本実施の形態の液晶セルの製造工程におい
て、ＴＦＴ基板投入工程から等方処理工程が行われるま
での間は、マザーガラス基板上に形成された各素子基板
（ＴＦＴ基板）が分断されることなく一体的に処理され
るいわゆるアレイ製造が採用される。この製造工程の等
方処理工程において、加熱装置は、マザーガラス基板の
反り等を考慮して、液晶セルアレイへの熱伝達が低下す
る箇所に対する加熱量を補いながら液晶セルアレイを加
熱することにより、各液晶セルにおける液晶の均一な昇
温を実現し、冷却装置は、マザーガラス基板の反り等を
考慮して、液晶セルアレイへの熱伝達が低下する箇所に
対する吸熱量を補いながら液晶セルアレイを冷却するこ
とにより、各液晶セルにおける液晶の均一な降温を実現
するようになっている。In the manufacturing process of the liquid crystal cell of this embodiment, each element substrate (TFT substrate) formed on the mother glass substrate is divided from the step of inserting the TFT substrate to the step of performing the isotropic treatment step. So-called array fabrication is employed, which is processed integrally without any. In the isotropic process step of this manufacturing process, the heating device heats the liquid crystal cell array while heating the liquid crystal cell array in consideration of warpage of the mother glass substrate and the like while compensating for the amount of heat applied to the location where heat transfer to the liquid crystal cell array is reduced. The cooling device realizes uniform temperature rise of liquid crystal in the liquid crystal cell, and the cooling device cools the liquid crystal cell array while compensating for the amount of heat absorption to the location where heat transfer to the liquid crystal cell array is reduced in consideration of warpage of the mother glass substrate. As a result, uniform temperature reduction of the liquid crystal in each liquid crystal cell is realized.

【００４３】先ず、図２乃至図５を参照して、液晶パネ
ルの構造について説明する。First, the structure of the liquid crystal panel will be described with reference to FIGS.

【００４４】液晶パネルは、図３及び図４に示すよう
に、ＴＦＴ基板等の素子基板１０と対向基板２０との間
に液晶５０を封入して構成される。素子基板１０上には
画素を構成する画素電極等がマトリクス状に配置され
る。図２は画素を構成する素子基板１０上の素子の等価
回路を示している。As shown in FIGS. 3 and 4, the liquid crystal panel is constructed by enclosing the liquid crystal 50 between the element substrate 10 such as a TFT substrate and the counter substrate 20. Pixel electrodes that form pixels are arranged in a matrix on the element substrate 10. FIG. 2 shows an equivalent circuit of the elements on the element substrate 10 which form the pixels.

【００４５】図２に示すように、画素領域においては、
複数本の走査線３ａと複数本のデータ線６ａとが交差す
るように配線され、走査線３ａとデータ線６ａとで区画
された領域に画素電極９ａがマトリクス状に配置され
る。そして、走査線３ａとデータ線６ａの各交差部分に
対応してＴＦＴ３０が設けられ、このＴＦＴ３０に画素
電極９ａが接続される。As shown in FIG. 2, in the pixel area,
The plurality of scanning lines 3a and the plurality of data lines 6a are arranged so as to intersect with each other, and the pixel electrodes 9a are arranged in a matrix in a region partitioned by the scanning lines 3a and the data lines 6a. A TFT 30 is provided corresponding to each intersection of the scanning line 3a and the data line 6a, and the pixel electrode 9a is connected to this TFT 30.

【００４６】ＴＦＴ３０は走査線３ａのＯＮ信号によっ
てオンとなり、これにより、データ線６ａに供給された
画像信号が画素電極９ａに供給される。この画素電極９
ａと対向基板２０に設けられた対向電極２１との間の電
圧が液晶５０に印加される。また、画素電極９ａと並列
に蓄積容量７０が設けられており、蓄積容量７０によっ
て、画素電極９ａの電圧はソース電圧が印加された時間
よりも例えば３桁も長い時間の保持が可能となる。蓄積
容量７０によって、電圧保持特性が改善され、コントラ
スト比の高い画像表示が可能となる。The TFT 30 is turned on by the ON signal of the scanning line 3a, whereby the image signal supplied to the data line 6a is supplied to the pixel electrode 9a. This pixel electrode 9
A voltage between a and the counter electrode 21 provided on the counter substrate 20 is applied to the liquid crystal 50. Further, a storage capacitor 70 is provided in parallel with the pixel electrode 9a, and the storage capacitor 70 enables the voltage of the pixel electrode 9a to be retained for a time that is, for example, three digits longer than the time when the source voltage is applied. The storage capacitor 70 improves the voltage holding characteristic and enables image display with a high contrast ratio.

【００４７】図５は、一つの画素に着目した液晶パネル
の模式的断面図である。FIG. 5 is a schematic sectional view of a liquid crystal panel focusing on one pixel.

【００４８】ガラスや石英等の素子基板１０には、ＬＤ
Ｄ構造をなすＴＦＴ３０が設けられている。ＴＦＴ３０
は、チャネル領域１ａ、ソース領域１ｄ、ドレイン領域
１ｅが形成された半導体層に絶縁膜２を介してゲート電
極をなす走査線３ａが設けられてなる。ＴＦＴ３０上に
は第１層間絶縁膜４を介してデータ線６ａが積層され、
データ線６ａはコンタクトホール５を介してソース領域
１ｄに電気的に接続される。データ線６ａ上には第２層
間絶縁膜７を介して画素電極９ａが積層され、画素電極
９ａはコンタクトホール８を介してドレイン領域１ｅに
電気的に接続される。The element substrate 10 made of glass or quartz is provided with an LD.
A TFT 30 having a D structure is provided. TFT30
Is provided with a scanning line 3a forming a gate electrode via an insulating film 2 in a semiconductor layer in which a channel region 1a, a source region 1d and a drain region 1e are formed. A data line 6a is laminated on the TFT 30 via the first interlayer insulating film 4,
The data line 6a is electrically connected to the source region 1d through the contact hole 5. A pixel electrode 9a is stacked on the data line 6a via a second interlayer insulating film 7, and the pixel electrode 9a is electrically connected to the drain region 1e via a contact hole 8.

【００４９】走査線３ａ（ゲート電極）にＯＮ信号が供
給されることで、チャネル領域１ａが導通状態となり、
ソース領域１ｄとドレイン領域１ｅとが接続されて、デ
ータ線６ａに供給された画像信号が画素電極９ａに与え
られる。When the ON signal is supplied to the scanning line 3a (gate electrode), the channel region 1a becomes conductive,
The source region 1d and the drain region 1e are connected to each other, and the image signal supplied to the data line 6a is applied to the pixel electrode 9a.

【００５０】また、半導体層にはドレイン領域１ｅから
延びる蓄積容量電極１ｆが形成されている。蓄積容量電
極１ｆは、誘電体膜である絶縁膜２を介して容量線３ｂ
が対向配置され、これにより蓄積容量７０を構成してい
る。画素電極９ａ上にはポリイミド系の高分子樹脂から
なる配向膜１６が積層され、所定方向にラビング処理さ
れている。A storage capacitor electrode 1f extending from the drain region 1e is formed on the semiconductor layer. The storage capacitance electrode 1f is connected to the capacitance line 3b via the insulating film 2 which is a dielectric film.
Are arranged so as to face each other, and thereby a storage capacitor 70 is formed. An alignment film 16 made of a polyimide-based polymer resin is laminated on the pixel electrode 9a, and is rubbed in a predetermined direction.

【００５１】一方、対向基板２０には、ＴＦＴアレイ基
板のデータ線６ａ、走査線３ａ及びＴＦＴ３０の形成領
域に対向する領域、即ち各画素の非表示領域において第
１遮光膜２３が設けられている。この第１遮光膜２３に
よって、対向基板２０側からの入射光がＴＦＴ３０のチ
ャネル領域１ａ、ソース領域１ｄ及びドレイン領域１ｅ
に入射することが防止される。第１遮光膜２３上に、対
向電極（共通電極）２１が基板２０全面に亘って形成さ
れている。対向電極２１上にポリイミド系の高分子樹脂
からなる配向膜２２が積層され、所定方向にラビング処
理されている。On the other hand, the counter substrate 20 is provided with a first light-shielding film 23 in a region facing the data line 6a, the scanning line 3a and the TFT 30 forming region of the TFT array substrate, that is, in the non-display region of each pixel. . Due to the first light-shielding film 23, incident light from the counter substrate 20 side allows the channel region 1a, the source region 1d and the drain region 1e of the TFT 30 to be incident.
Is prevented from entering. A counter electrode (common electrode) 21 is formed on the first light-shielding film 23 over the entire surface of the substrate 20. An alignment film 22 made of a polyimide-based polymer resin is laminated on the counter electrode 21 and rubbed in a predetermined direction.

【００５２】そして、素子基板１０と対向基板２０との
間に液晶５０が封入されている。これにより、ＴＦＴ３
０は所定のタイミングでデータ線６ａから供給される画
像信号を画素電極９ａに書き込む。書き込まれた画素電
極９ａと対向電極２１との電位差に応じて液晶５０の分
子集合の配向や秩序が変化して、光を変調し、階調表示
を可能にする。Liquid crystal 50 is sealed between the element substrate 10 and the counter substrate 20. As a result, the TFT3
0 writes the image signal supplied from the data line 6a to the pixel electrode 9a at a predetermined timing. Depending on the written potential difference between the pixel electrode 9a and the counter electrode 21, the orientation or order of the molecular assembly of the liquid crystal 50 is changed to modulate light and enable gradation display.

【００５３】図３及び図４に示すように、対向基板２０
には表示領域を区画する額縁としての第２遮光膜４２が
設けられている。第２遮光膜４２は例えば第１遮光膜２
３と同一又は異なる遮光性材料によって形成されてい
る。As shown in FIGS. 3 and 4, the counter substrate 20
A second light-shielding film 42 is provided as a frame for partitioning the display area. The second light shielding film 42 is, for example, the first light shielding film 2
It is made of the same or different light-shielding material as 3.

【００５４】第２遮光膜４２の外側の領域に液晶を封入
するシール材４１が、素子基板１０と対向基板２０間に
形成されている。シール材４１は対向基板２０の輪郭形
状に略一致するように配置され、素子基板１０と対向基
板２０を相互に固着する。シール材４１は、素子基板１
０の１辺の一部において欠落しており、貼り合わされた
素子基板１０及び対向基板２０相互の間隙には、液晶５
０を注入するための液晶注入口７８が形成される。液晶
注入口７８より液晶が注入された後、液晶注入口７８を
封止材７９で封止するようになっている。A sealing material 41 for enclosing the liquid crystal in a region outside the second light-shielding film 42 is formed between the element substrate 10 and the counter substrate 20. The sealing material 41 is arranged so as to substantially match the contour shape of the counter substrate 20, and fixes the element substrate 10 and the counter substrate 20 to each other. The sealing material 41 is the element substrate 1
A part of one side of 0 is missing, and the liquid crystal 5 is provided in a gap between the bonded element substrate 10 and counter substrate 20.
A liquid crystal injection port 78 for injecting 0 is formed. After the liquid crystal is injected from the liquid crystal injection port 78, the liquid crystal injection port 78 is sealed with a sealing material 79.

【００５５】素子基板１０のシール材４１の外側の領域
には、データ線駆動回路６１及び実装端子６２が素子基
板１０の一辺に沿って設けられており、この一辺に隣接
する２辺に沿って、走査線駆動回路６３が設けられてい
る。素子基板１０の残る一辺には、画面表示領域の両側
に設けられた走査線駆動回路６３間を接続するための複
数の配線６４が設けられている。また、対向基板２０の
コーナー部の少なくとも１箇所においては、素子基板１
０と対向基板２０との間を電気的に導通させるための導
通材６５が設けられている。A data line driving circuit 61 and mounting terminals 62 are provided along one side of the element substrate 10 in a region outside the sealing material 41 of the element substrate 10, and along two sides adjacent to the one side. , A scanning line drive circuit 63 is provided. A plurality of wirings 64 for connecting the scanning line drive circuits 63 provided on both sides of the screen display area are provided on the remaining side of the element substrate 10. The element substrate 1 is provided at least at one corner of the counter substrate 20.
A conductive material 65 is provided to electrically connect 0 and the counter substrate 20.

【００５６】次に、図６の液晶セル製造工程について説
明する。ＴＦＴ基板と対向基板とは、別々に製造され
る。上述したように、本実施の形態においては、ＴＦＴ
基板投入工程から等方処理工程が行われるまでの間は、
マザーガラス基板上に形成された各ＴＦＴ基板が分断さ
れることなく一体的に処理されるいわゆるアレイ製造が
採用される。マザーガラス基板上には図３に示す素子基
板（ＴＦＴ基板）１０と同様の素子基板が、本液晶セル
製造工程の前工程である基板製造工程において複数形成
されている。そして、そのままのサイズのマザーガラス
基板（ＴＦＴ基板）が液晶セル製造工程においても投入
される。一方、対向基板については、図３の対向基板２
０と同様のサイズに分断された基板が投入される。Next, the manufacturing process of the liquid crystal cell of FIG. 6 will be described. The TFT substrate and the counter substrate are manufactured separately. As described above, in the present embodiment, the TFT
From the substrate loading process to the isotropic processing process,
The so-called array manufacturing is adopted in which each TFT substrate formed on the mother glass substrate is integrally processed without being divided. A plurality of element substrates similar to the element substrate (TFT substrate) 10 shown in FIG. 3 are formed on the mother glass substrate in a substrate manufacturing process which is a pre-process of the present liquid crystal cell manufacturing process. Then, a mother glass substrate (TFT substrate) of the same size is put in during the liquid crystal cell manufacturing process. On the other hand, regarding the counter substrate, the counter substrate 2 of FIG.
A substrate divided into the same size as 0 is loaded.

【００５７】ＴＦＴ基板については、ステップＳ１で用
意されたＴＦＴ基板に対して、次のステップＳ２では、
配向膜１６となるポリイミド（ＰＩ）を塗布する。次
に、ステップＳ３において、ＴＦＴ基板表面の配向膜
（配向膜１６に相当）に対して、ラビング処理を施す。
そして、ステップＳ４において洗浄を行う。ステップＳ
４の洗浄工程は、ＴＦＴ基板のラビング処理によって生
じた塵埃を除去するためのものである。洗浄工程が終了
すると、ステップＳ５において、シール材４１、及び導
通材６５（図３参照）を形成する。シール材４１は、例
えば、ディスペンス塗布によって形成される。なお、シ
ール材をスクリーン印刷法によって形成してもよい。Regarding the TFT substrate, in the next step S2, the TFT substrate prepared in step S1 is
Polyimide (PI) to be the alignment film 16 is applied. Next, in step S3, a rubbing process is performed on the alignment film (corresponding to the alignment film 16) on the surface of the TFT substrate.
Then, cleaning is performed in step S4. Step S
The cleaning step 4 is for removing dust generated by rubbing the TFT substrate. When the cleaning process ends, in step S5, the sealing material 41 and the conductive material 65 (see FIG. 3) are formed. The sealing material 41 is formed by, for example, dispense coating. The sealing material may be formed by screen printing.

【００５８】一方、対向基板については、ステップＳ６
で用意された対向基板に対して、次のステップＳ７で
は、配向膜２２となるポリイミド（ＰＩ）を塗布する。
次に、ステップＳ８において、対向基板表面の配向膜
（配向膜２２に相当）に対して、ラビング処理を施す。
そして、ステップＳ１１において、洗浄を行う。ステッ
プＳ１１の洗浄工程は、対向基板のラビング処理によっ
て生じた塵埃を除去するためのものである。On the other hand, for the counter substrate, step S6.
In the next step S7, a polyimide (PI) which will be the alignment film 22 is applied to the counter substrate prepared in step S7.
Next, in step S8, a rubbing process is performed on the alignment film (corresponding to the alignment film 22) on the surface of the counter substrate.
Then, in step S11, cleaning is performed. The cleaning process of step S11 is for removing dust generated by the rubbing process of the counter substrate.

【００５９】次に、ステップＳ１０で、ＴＦＴ基板（マ
ザーガラス基板）に各素子位置で夫々対向基板を貼り合
わせ、ステップＳ１１でアライメントを施しながら圧着
し、シール材４１を硬化させる。Next, in step S10, the counter substrate is attached to the TFT substrate (mother glass substrate) at each element position, and in step S11, the seal material 41 is pressure-bonded while being aligned to cure the sealing material 41.

【００６０】次に、シール材４１を硬化させて形成され
た各液晶セル容器に、ステップＳ１２において、シール
材４１の一部に設けた切り欠きから液晶を封入し、切り
欠きを塞いで液晶を封止する。液晶封入工程では、圧力
の管理を行いながら、液晶封入量を制御し、セルギャッ
プを均一にする。Next, in step S12, each liquid crystal cell container formed by curing the sealing material 41 is filled with the liquid crystal from the notch provided in a part of the sealing material 41, and the notch is closed to fill the liquid crystal. Seal. In the liquid crystal filling step, while controlling the pressure, the liquid crystal filling amount is controlled to make the cell gap uniform.

【００６１】次に、各液晶セル容器内に液晶が封入・封
止されて構成された各液晶セル８１（図１，７参照）内
の液晶に対し、ステップＳ１３において、等方処理が行
われる。この等方処理工程は、複数の液晶セル８１がマ
ザーガラス基板上に配設された液晶セルアレイ８０の状
態で行われるもので、各液晶セル８１内の液晶を等方相
まで短時間で昇温させる加熱工程と、等方相まで昇温さ
れた液晶をネマチック相まで短時間で降温させる冷却工
程とを有する。Next, in step S13, isotropic processing is performed on the liquid crystal in each liquid crystal cell 81 (see FIGS. 1 and 7) configured by enclosing and sealing the liquid crystal in each liquid crystal cell container. . This isotropic treatment step is performed in the state of the liquid crystal cell array 80 in which a plurality of liquid crystal cells 81 are arranged on the mother glass substrate. The liquid crystal in each liquid crystal cell 81 is heated to an isotropic phase in a short time. And a cooling step of lowering the temperature of the liquid crystal heated to the isotropic phase to the nematic phase in a short time.

【００６２】ここで、本実施の形態において、液晶セル
アレイ８０は、例えば、マザーガラス基板（素子基板１
０）と対向基板２０との熱膨張率の違い等に起因し、昇
温されるにつれ、縁部近傍に、対向基板２０側への反り
が生じるものとする。Here, in the present embodiment, the liquid crystal cell array 80 is, for example, a mother glass substrate (element substrate 1
0) and the counter substrate 20 have a different coefficient of thermal expansion, and as the temperature rises, a warp toward the counter substrate 20 side occurs near the edge.

【００６３】このような液晶セルアレイ８０の加熱工程
は、加熱手段としての加熱装置９０（図１参照）によっ
て行われる。加熱装置９０は、液晶セルアレイ８０との
当接面が一様な温度に制御される加熱手段本体としての
ホットプレート９１と、ホットプレート９１との間の熱
伝達が低下する箇所（本実施の形態では液晶セルアレイ
８０の縁部近傍）への加熱量を補う加熱アシスト手段と
しての赤外線加熱装置９２と、温度制御部９３を介して
ホットプレート９１及び赤外線加熱装置９２の制御を行
うコントローラ９４と、を具備して構成されている。The heating process of the liquid crystal cell array 80 is performed by the heating device 90 (see FIG. 1) as a heating means. In the heating device 90, the contact surface with the liquid crystal cell array 80 is controlled to a uniform temperature. A hot plate 91 as a heating means main body, and a portion where heat transfer between the hot plate 91 and the hot plate 91 is reduced (the present embodiment). Then, an infrared heating device 92 as a heating assisting means for compensating the heating amount to the edge portion of the liquid crystal cell array 80, and a controller 94 for controlling the hot plate 91 and the infrared heating device 92 via the temperature control part 93. It is equipped and configured.

【００６４】ホットプレート９１は、マザーガラス基板
側が当接された状態で液晶セルアレイ８０を載置可能な
当接面としての載置面９１ａを有して構成されている。
載置面９１ａの内部には、例えば、図示しない電熱線が
等間隔毎に埋設され、この電熱線によって、載置面９１
ａは一様な温度に制御されるようになっている。The hot plate 91 has a mounting surface 91a as a contact surface on which the liquid crystal cell array 80 can be mounted while the mother glass substrate side is in contact therewith.
Inside the mounting surface 91a, for example, heating wires (not shown) are embedded at equal intervals, and the mounting surface 91a is formed by the heating wires.
a is controlled to a uniform temperature.

【００６５】赤外線加熱装置９２は、ホットプレート９
１の載置面９１ａに対向して配設されるもので、例え
ば、液晶セルアレイ８０の縁部近傍に沿って赤外線を照
射可能となっている。そして、赤外線加熱装置９２は、
ホットプレート９１の載置面９１ａに液晶セルアレイ８
０が載置された際に、液晶セルアレイ８０の縁部近傍を
加熱するようになっている。なお、例えば、液晶セルア
レイ８０の熱変化による反り方向が逆な場合には、液晶
セルアレイ８０の中心近傍に赤外線を照射するよう赤外
線加熱装置を構成してもよい。The infrared heating device 92 is the hot plate 9
It is disposed so as to face the first mounting surface 91a, and for example, infrared rays can be irradiated along the vicinity of the edge of the liquid crystal cell array 80. Then, the infrared heating device 92
The liquid crystal cell array 8 is mounted on the mounting surface 91a of the hot plate 91.
When 0 is placed, the vicinity of the edge of the liquid crystal cell array 80 is heated. Note that, for example, when the warpage direction due to the thermal change of the liquid crystal cell array 80 is opposite, the infrared heating device may be configured to irradiate the vicinity of the center of the liquid crystal cell array 80 with infrared rays.

【００６６】コントローラ９４には、液晶セルアレイ８
０を加熱する際の、ホットプレート９１による加熱温
度、及び、赤外線加熱装置９２による赤外線の照射量等
の情報が予め設定されている。ここで、赤外線加熱装置
９２による赤外線の照射量は、予め実験等により求めら
れた液晶セルアレイ８０の温度変化による反り具合等を
考慮して設定されるものである。この場合、赤外線の照
射量は、液晶セルアレイ８０の反りに起因するホットプ
レート９１との間の熱伝達の低下を補って、液晶セルア
レイ８０を均一に昇温可能な量に設定される。The controller 94 includes a liquid crystal cell array 8
Information such as the heating temperature by the hot plate 91 and the infrared irradiation amount by the infrared heating device 92 when heating 0 is set in advance. Here, the irradiation amount of infrared rays by the infrared heating device 92 is set in consideration of the degree of warpage due to the temperature change of the liquid crystal cell array 80, which is obtained in advance by experiments or the like. In this case, the irradiation amount of infrared rays is set to an amount that can uniformly raise the temperature of the liquid crystal cell array 80 by compensating for the decrease in heat transfer with the hot plate 91 due to the warpage of the liquid crystal cell array 80.

【００６７】そして、上記設定情報に基づくコントロー
ラ９４の制御によって、ホットプレート９１の載置面９
１ａは一様な温度に加熱され、液晶セルアレイ８０を加
熱する。また、赤外線加熱装置９２は、反りとともにホ
ットプレート９１との間の熱伝達が低下する液晶セルア
レイ８０の縁部近傍に対して所定量の赤外線を照射する
ことで、ホットプレート９１による液晶セルアレイ８０
の加熱をアシストする。これにより、液晶セルアレイ８
０上に配設された各液晶セル８１内の液晶は、全体が均
一な熱履歴をもって等方相まで昇温される。The mounting surface 9 of the hot plate 91 is controlled by the controller 94 based on the setting information.
1a is heated to a uniform temperature and heats the liquid crystal cell array 80. Further, the infrared heating device 92 irradiates a predetermined amount of infrared rays to the vicinity of the edge of the liquid crystal cell array 80 where the heat transfer to and from the hot plate 91 is reduced due to warpage, so that the liquid crystal cell array 80 by the hot plate 91 is irradiated.
To assist in heating. Thereby, the liquid crystal cell array 8
The liquid crystal in each of the liquid crystal cells 81 arranged above 0 is heated to an isotropic phase with a uniform thermal history.

【００６８】一方、冷却工程は、冷却手段としての冷却
装置９５（図７参照）によって行われる。ここで、液晶
セルアレイ８０は、上述の加熱工程において、縁部近傍
が対向基板側に反った状態のまま搬入される。そこで、
冷却装置９５は、液晶セルアレイ８０との当接面が一様
な温度に制御される冷却手段本体としてのクーリングプ
レート９６と、クーリングプレート９６との間の熱伝達
熱伝達が低下する箇所（本実施の形態では液晶セルアレ
イ８０の縁部近傍）への冷却量を補う冷却アシスト手段
としてのブロワ装置９７と、温度制御部９８を介してク
ーリングプレート９６及びブロワ装置９７の制御を行う
コントローラ９９と、を具備して構成されている。On the other hand, the cooling step is performed by the cooling device 95 (see FIG. 7) as a cooling means. Here, the liquid crystal cell array 80 is carried in in the above-described heating step with the vicinity of the edge portion warped to the counter substrate side. Therefore,
In the cooling device 95, the heat transfer between the cooling plate 96 as a cooling means body whose contact surface with the liquid crystal cell array 80 is controlled to a uniform temperature and the cooling plate 96 is reduced (the present embodiment). In the embodiment, a blower device 97 as a cooling assisting means for compensating for the amount of cooling to the edge portion of the liquid crystal cell array 80, and a controller 99 for controlling the cooling plate 96 and the blower device 97 via the temperature control part 98 are provided. It is equipped and configured.

【００６９】クーリングプレート９６は、マザーガラス
基板側が当接された状態で液晶セルアレイ８０を載置可
能な当接面としての載置面９６ａを有して構成されてい
る。載置面９６ａの内部には、例えば、図示しない冷却
水路が等間隔毎に埋設され、この冷却水路内を流れる冷
却水によって、載置面９６ａは一様な温度に制御される
ようになっている。The cooling plate 96 has a mounting surface 96a as a contact surface on which the liquid crystal cell array 80 can be mounted while the mother glass substrate side is in contact therewith. Inside the mounting surface 96a, for example, cooling water channels (not shown) are buried at equal intervals, and the mounting surface 96a is controlled to a uniform temperature by the cooling water flowing in the cooling water channel. There is.

【００７０】ブロワ装置９７は、クーリングプレート９
６の載置面９６ａに対向して配設されるもので、例え
ば、液晶セルアレイ８０の縁部近傍に沿って冷却風を吹
きつけ可能となっている。そして、ブロワ装置９７は、
クーリングプレート９６の載置面９６ａに液晶セルアレ
イ８０が載置された際に、液晶セルアレイ８０の縁部近
傍を冷却するようになっている。なお、例えば、液晶セ
ルアレイ８０の熱変化による反り方向が逆な場合には、
液晶セルアレイ８０の中心近傍に冷却風を吹きつけるよ
うブロワ装置を構成してもよい。The blower device 97 includes the cooling plate 9
The cooling air can be blown along the vicinity of the edge of the liquid crystal cell array 80, for example. And the blower device 97 is
When the liquid crystal cell array 80 is mounted on the mounting surface 96a of the cooling plate 96, the vicinity of the edge of the liquid crystal cell array 80 is cooled. Note that, for example, when the warpage direction due to the thermal change of the liquid crystal cell array 80 is opposite,
The blower device may be configured to blow cooling air near the center of the liquid crystal cell array 80.

【００７１】コントローラ９９には、液晶セルアレイ８
０を冷却する際の、クーリングプレート９６内を流れる
冷却水量、及び、ブロワ装置９７による冷却風の吹きつ
け量等の情報が予め設定されている。ここで、ブロワ装
置９７による冷却風の吹きつけ量は、予め実験等により
求められた液晶セルアレイ８０の温度変化による反り具
合等を考慮して設定されるものである。この場合、冷却
風の吹きつけ量は、液晶セルアレイ８０の反りに起因す
るクーリングプレート９６との間の熱伝達の低下を補っ
て、液晶セルアレイ８０全体を均一に降温可能な量に設
定される。The controller 99 includes a liquid crystal cell array 8
Information such as the amount of cooling water flowing through the cooling plate 96 and the amount of cooling air blown by the blower device 97 when cooling 0 is set in advance. Here, the amount of cooling air blown by the blower device 97 is set in consideration of the degree of warpage due to the temperature change of the liquid crystal cell array 80, which is obtained in advance by experiments or the like. In this case, the blowing amount of the cooling air is set to an amount capable of uniformly lowering the temperature of the entire liquid crystal cell array 80 by compensating for the decrease in heat transfer with the cooling plate 96 due to the warp of the liquid crystal cell array 80.

【００７２】そして、上記設定情報に基づくコントロー
ラ９９の制御によって、クーリングプレート９６の載置
面９６ａは一様な温度に冷却され、液晶セルアレイ８０
を冷却する。また、ブロワ装置９７は、クーリングプレ
ート９６との間の熱伝達が低下する液晶セルアレイ８０
の縁部近傍に対して所定量の冷却風を吹きつけること
で、クーリングプレート９６による液晶セルアレイ８０
の冷却をアシストする。これにより、液晶セルアレイ８
０上に配設された各液晶セル８１内の液晶は、全体が均
一な熱履歴をもってネマチック相まで降温される。Then, the mounting surface 96a of the cooling plate 96 is cooled to a uniform temperature by the control of the controller 99 based on the above setting information, and the liquid crystal cell array 80
To cool. In addition, the blower device 97 includes a liquid crystal cell array 80 in which heat transfer with the cooling plate 96 is reduced.
A predetermined amount of cooling air is blown to the vicinity of the edge of the liquid crystal cell array 80 by the cooling plate 96.
To assist in cooling. Thereby, the liquid crystal cell array 8
The liquid crystal in each of the liquid crystal cells 81 arranged above 0 is cooled to the nematic phase with a uniform thermal history.

【００７３】最後に、ステップＳ１４において、等方処
理後の検査が行われた液晶セルアレイ８０を液晶セル８
１毎に分断して、図２及び図３に示す液晶パネルを得
る。Finally, in step S14, the liquid crystal cell array 80 that has been subjected to the inspection after the isotropic processing is set to the liquid crystal cell 8
The liquid crystal panel shown in FIG. 2 and FIG. 3 is obtained by dividing the liquid crystal panel into pieces.

【００７４】このような実施の形態においては、加熱装
置９０は、液晶セルアレイ８０との間の熱伝達が低下す
る箇所への加熱量を補いながら液晶セルアレイ８０に対
する加熱を行うので、温度変化等によって反りが発生す
る液晶セルアレイ８０全体を、均一に昇温させることが
できる。従って、各液晶セル８１内の液晶を均一な熱履
歴をもって等方相まで昇温させることができ、液晶分子
の所定方向への再配列性を向上せしめ、液晶装置の表示
品質を向上することができる。In such an embodiment, the heating device 90 heats the liquid crystal cell array 80 while compensating for the amount of heating to the location where the heat transfer with the liquid crystal cell array 80 is reduced. The entire liquid crystal cell array 80 in which warpage occurs can be heated uniformly. Therefore, the liquid crystal in each liquid crystal cell 81 can be heated to an isotropic phase with a uniform thermal history, the rearrangement of liquid crystal molecules in a predetermined direction can be improved, and the display quality of the liquid crystal device can be improved. it can.

【００７５】この場合、液晶セルアレイ８０との当接面
（載置面９１ａ）が一様な温度に制御されるホットプレ
ート９１に、液晶セルアレイ８０とホットプレート９１
との間の熱伝達が低下する箇所への加熱量を補う赤外線
加熱装置９２を付加した簡単な構成で、液晶セルアレイ
８０の均一な昇温を容易に実現することができる。In this case, the liquid crystal cell array 80 and the hot plate 91 are mounted on the hot plate 91 whose contact surface (mounting surface 91a) with the liquid crystal cell array 80 is controlled to a uniform temperature.
The uniform heating of the liquid crystal cell array 80 can be easily realized with a simple configuration in which an infrared heating device 92 that compensates for the amount of heating to the place where the heat transfer between and is reduced is added.

【００７６】また、冷却装置９５は、液晶セルアレイ８
０との間の熱伝達が低下する箇所への冷却量を補いなが
ら液晶セルアレイ８０に対する冷却を行うので、温度変
化等によって反りが発生する液晶セルアレイ８０全体
を、均一に降温させることができる。従って、各液晶セ
ル８１内の液晶を均一な熱履歴をもってネマチック相ま
で降温させることができ、液晶分子の所定方向への再配
列性を向上せしめ、液晶装置の表示品質を向上すること
ができる。In addition, the cooling device 95 includes the liquid crystal cell array 8
Since the liquid crystal cell array 80 is cooled while compensating for the amount of cooling to the place where the heat transfer with 0 decreases, the entire liquid crystal cell array 80 that is warped due to temperature change or the like can be uniformly cooled. Therefore, the liquid crystal in each liquid crystal cell 81 can be cooled to the nematic phase with a uniform heat history, the rearrangement of the liquid crystal molecules in a predetermined direction can be improved, and the display quality of the liquid crystal device can be improved.

【００７７】この場合、液晶セルアレイ８０との当接面
（載置面９６ａ）が一様な温度に制御されるクーリング
プレート９６に、液晶セルアレイ８０とクーリングプレ
ート９６との間の熱伝達が低下する箇所への冷却量を補
うブロワ装置９７を付加した簡単な構成で、液晶セルア
レイ８０の均一な降温を容易に実現することができる。In this case, the heat transfer between the liquid crystal cell array 80 and the cooling plate 96 is reduced to the cooling plate 96 whose contact surface (mounting surface 96a) with the liquid crystal cell array 80 is controlled to a uniform temperature. With a simple structure in which a blower device 97 for supplementing the cooling amount to the place is added, uniform temperature reduction of the liquid crystal cell array 80 can be easily realized.

【００７８】また、上記加熱装置９０及び冷却装置９５
を用いることによって、大型の液晶セルアレイ８０のま
まの状態で、均一な熱履歴による液晶の等方処理を行う
ことができるので、液晶分子の再配列性をより向上させ
ることができる。すなわち、液晶セルアレイ８０を液晶
セル８１毎に分断することなく、液晶の再配列性が最も
良好なタイミングである液晶セル容器内に液晶が封入・
封止された直後のタイミングで、均一な熱履歴による等
方処理を行うことができるので、液晶分子の再配列性を
より向上することができる。The heating device 90 and the cooling device 95 are also provided.
By using, it is possible to carry out isotropic treatment of liquid crystal with a uniform heat history in the state of the large liquid crystal cell array 80 as it is, so that the rearrangement property of liquid crystal molecules can be further improved. That is, without dividing the liquid crystal cell array 80 into the liquid crystal cells 81, the liquid crystal is enclosed in the liquid crystal cell container at the timing when the rearrangement of the liquid crystal is the best.
Since the isotropic treatment with a uniform heat history can be performed immediately after the sealing, the rearrangement property of the liquid crystal molecules can be further improved.

【００７９】さらに、大型の液晶セルアレイ８０のまま
の状態で再配列性の良好な等方処理を行うことは、液晶
セルアレイ８０を液晶セル８１毎に分断した後に再度の
等方処理を行う必要がなくなり、製造工程の簡略化を図
ることができる。Further, in order to carry out the isotropic processing with a good rearrangement property in the state where the large liquid crystal cell array 80 remains, it is necessary to divide the liquid crystal cell array 80 into the liquid crystal cells 81 and perform the isotropic processing again. Therefore, the manufacturing process can be simplified.

【００８０】図８，図９は本発明の第２の実施の形態に
係り、図８は液晶セルアレイ及び、液晶装置の加熱装置
を示す概略構成図であり、図９は液晶セルアレイ及び、
液晶装置の冷却装置を示す概略構成図である。なお、図
８，９において、図１，図７と同一の構成については同
符号を付して説明を省略する。8 and 9 relate to the second embodiment of the present invention, FIG. 8 is a schematic configuration diagram showing a liquid crystal cell array and a heating device of a liquid crystal device, and FIG. 9 is a liquid crystal cell array and
It is a schematic block diagram which shows the cooling device of a liquid crystal device. 8 and 9, the same components as those in FIGS. 1 and 7 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【００８１】図８に示すように、加熱手段としての加熱
装置１００は、加熱手段本体としてのホットプレート１
０１と、温度制御部１０３を介してホットプレート１０
１の制御を行うコントローラ１０４と、を具備して構成
されている。As shown in FIG. 8, the heating device 100 as the heating means includes a hot plate 1 as the heating means main body.
01 and the hot plate 10 via the temperature control unit 103.
And a controller 104 that performs the first control.

【００８２】ホットプレート１０１は、マザーガラス基
板側が当接された状態で液晶セルアレイ８０を載置可能
な当接面としての載置面１０１ａを有し、この載置面１
０１ａ上に、各々が個別の温度に制御可能な複数の発熱
体１０２が面一に配列されて要部が構成されている。発
熱体１０２としては、例えば、電熱ヒータや、２つの異
なる導体や半導体を用いて構成され電流値に応じて所定
の発熱を行うペルチェ素子等を用いることができる。こ
の場合、発熱体１０２は、例えば同心円上に配列するこ
とも可能であるが、マトリックス状に配列されているこ
とが望ましい。The hot plate 101 has a mounting surface 101a as a contact surface on which the liquid crystal cell array 80 can be mounted while the mother glass substrate side is in contact therewith.
On 01a, a plurality of heating elements 102, each of which can be controlled to an individual temperature, are arranged flush with each other to form a main part. As the heating element 102, for example, an electric heater, a Peltier element that is configured by using two different conductors or semiconductors, and that generates a predetermined amount of heat according to a current value can be used. In this case, the heating elements 102 can be arranged concentrically, for example, but are preferably arranged in a matrix.

【００８３】コントローラ１０４には、液晶セルアレイ
８０を加熱する際の、各発熱体１０２の温度等の情報が
予め設定されている。ここで、各発熱体１０２の温度
は、予め実験等により求められた液晶セルアレイ８０の
温度変化による反り具合等を考慮して設定されるもので
ある。この場合、液晶セルアレイ８０の反りに起因して
ホットプレート１０１と液晶セルアレイ８０との間の熱
伝達が低下する箇所に配設された発熱体１０２の温度
は、他の箇所の発熱体１０２のものよりも高く設定され
ている。Information such as the temperature of each heating element 102 when the liquid crystal cell array 80 is heated is preset in the controller 104. Here, the temperature of each heating element 102 is set in consideration of the degree of warpage due to the temperature change of the liquid crystal cell array 80, which is obtained in advance by experiments or the like. In this case, the temperature of the heating element 102 disposed at a location where the heat transfer between the hot plate 101 and the liquid crystal cell array 80 is reduced due to the warp of the liquid crystal cell array 80 is that of the heating element 102 at another location. Set higher than.

【００８４】そして、上記設定情報に基づくコントロー
ラ１０４の制御によって、各発熱体１０２は、それぞれ
所定の温度まで加熱され、液晶セルアレイ８０全体を均
一に昇温させる。これにより、液晶セルアレイ８０上に
配設された各液晶セル８１内の液晶は、全体が均一な熱
履歴をもって等方相まで昇温される。Then, under the control of the controller 104 based on the setting information, each heating element 102 is heated to a predetermined temperature, and the entire liquid crystal cell array 80 is uniformly heated. As a result, the liquid crystal in each liquid crystal cell 81 arranged on the liquid crystal cell array 80 is entirely heated to the isotropic phase with a uniform heat history.

【００８５】一方、図９に示すように、冷却手段として
の冷却装置１０５は、冷却手段本体としてのクーリング
プレート１０６と、温度制御部１０８を介してクーリン
グプレート１０６の制御を行うコントローラ１０９と、
を具備して構成されている。On the other hand, as shown in FIG. 9, the cooling device 105 as the cooling means has a cooling plate 106 as the cooling means main body, and a controller 109 for controlling the cooling plate 106 via a temperature controller 108.
It is configured to include.

【００８６】クーリングプレート１０６は、マザーガラ
ス基板側が当接された状態で液晶セルアレイ８０を載置
可能な当接面としての載置面１０６ａを有し、この載置
面１０６ａに、各々が個別の温度に制御可能な複数の吸
熱体１０７が面一に配列されて要部が構成されている。
吸熱体１０７としては、例えば、２つの異なる導体や半
導体を用いて構成され電流値に応じて所定の吸熱を行う
ペルチェ素子等を用いることができる。この場合、吸熱
体１０７は、例えば同心円上に配列することも可能であ
るが、マトリックス状に配列されていることが望まし
い。The cooling plate 106 has a mounting surface 106a as an abutting surface on which the liquid crystal cell array 80 can be mounted while the mother glass substrate side is in contact therewith, and each of the mounting surfaces 106a has its own mounting surface 106a. A plurality of heat absorbers 107 whose temperature can be controlled are arranged flush with each other to form a main part.
As the heat absorber 107, for example, a Peltier element or the like configured by using two different conductors or semiconductors and absorbing a predetermined amount of heat according to a current value can be used. In this case, the heat absorbers 107 can be arranged concentrically, but are preferably arranged in a matrix.

【００８７】コントローラ１０９には、液晶セルアレイ
８０を冷却する際の、各吸熱体１０７の温度等の情報が
予め設定されている。ここで、各吸熱体１０７の温度
は、予め実験等により求められた液晶セルアレイ８０の
温度変化による反り具合等を考慮して設定されるもので
ある。この場合、液晶セルアレイ８０の反りに起因して
クーリングプレート１０６と液晶セルアレイ８０との間
の熱伝達が低下する箇所に配設された吸熱体１０７の温
度は、他の箇所の吸熱体１０７のものよりも低く設定さ
れている。Information such as the temperature of each heat absorber 107 when the liquid crystal cell array 80 is cooled is preset in the controller 109. Here, the temperature of each heat absorber 107 is set in consideration of the degree of warpage due to the temperature change of the liquid crystal cell array 80, which is obtained in advance by experiments or the like. In this case, the temperature of the heat absorber 107 arranged at a location where heat transfer between the cooling plate 106 and the liquid crystal cell array 80 is reduced due to the warp of the liquid crystal cell array 80 is the same as that of the heat absorber 107 at another location. Is set lower than.

【００８８】そして、上記設定情報に基づくコントロー
ラ１０９の制御によって、各吸熱体１０７は、それぞれ
所定の温度まで冷却され、液晶セルアレイ８０全体を均
一に降温させる。これにより、液晶セルアレイ８０上に
配設された各液晶セル８１内の液晶は、全体が均一な熱
履歴をもってネマチック相まで降温される。Then, under the control of the controller 109 based on the setting information, each heat absorber 107 is cooled to a predetermined temperature, and the temperature of the entire liquid crystal cell array 80 is uniformly lowered. As a result, the liquid crystal in each liquid crystal cell 81 arranged on the liquid crystal cell array 80 is cooled to the nematic phase with a uniform thermal history.

【００８９】このような実施の形態によれば、上述の第
１の実施の形態で得られる効果に加え、各々が個別の温
度に制御可能な複数の発熱体１０２を用いてホットプレ
ート１０１を構成し、各発熱体１０２の温度を個々に設
定することにより、液晶を等方相まで昇温させる際に、
よりきめ細やかな温度管理を行うことができるという効
果を奏する。According to such an embodiment, in addition to the effect obtained in the first embodiment described above, the hot plate 101 is constructed by using a plurality of heating elements 102 each of which can be controlled to an individual temperature. Then, by individually setting the temperature of each heating element 102, when the liquid crystal is heated to the isotropic phase,
The effect is that finer temperature control can be performed.

【００９０】同様に、各々が個別の温度に制御可能な吸
熱体１０７を用いてクーリングプレート１０６を構成
し、各吸熱体１０７の温度を個々に設定することによ
り、液晶をネマチック相まで降温させる際に、よりきめ
細やかな温度管理を行うことができる。Similarly, when the cooling plate 106 is constructed by using the heat absorbers 107, each of which can be controlled to an individual temperature, and the temperature of each heat absorber 107 is individually set, the liquid crystal is cooled to the nematic phase. In addition, more detailed temperature control can be performed.

【００９１】この場合、発熱体１０２及び吸熱体１０７
をマトリクス状に配列することにより、ホットプレート
１０１及びクーリングプレート１０６の温度分布を、液
晶セルアレイ８０の形状や反り具合等に応じて任意に設
定することができ、加熱装置１００及び冷却装置１０５
の汎用性が向上する。In this case, the heating element 102 and the heat absorbing element 107
By arranging in a matrix, the temperature distribution of the hot plate 101 and the cooling plate 106 can be arbitrarily set according to the shape and warpage of the liquid crystal cell array 80, and the heating device 100 and the cooling device 105.
The versatility of is improved.

【００９２】なお、上述の各実施の形態においては、液
晶セルアレイの温度変化に起因する反りに対処しながら
液晶セルアレイを昇降温させる場合について説明した
が、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、
各基板の成膜時の反り等に対処しながら液晶セルアレイ
を昇降温させてもよいことは勿論である。In each of the above-described embodiments, the case where the temperature of the liquid crystal cell array is raised or lowered while coping with the warp caused by the temperature change of the liquid crystal cell array has been described, but the present invention is not limited to this. , For example,
Of course, the temperature of the liquid crystal cell array may be raised or lowered while coping with warpage or the like during film formation on each substrate.

【００９３】また、上述の各実施の形態においては、加
熱装置及び冷却装置を、複数の液晶セルがマザーガラス
基板上に配列された液晶セルアレイに適用して等方処理
を行う場合の例について説明したが、本発明はこれに限
定されるものではなく、例えば、単一の大型液晶セルに
対して適用することも可能である。Further, in each of the above-described embodiments, an example in which the heating device and the cooling device are applied to a liquid crystal cell array in which a plurality of liquid crystal cells are arranged on a mother glass substrate to perform isotropic processing will be described. However, the present invention is not limited to this, and can be applied to, for example, a single large liquid crystal cell.

【００９４】また、液晶セル或いは液晶セルアレイ全体
を均一に昇温させるという観点からすれば、液晶セル或
いは液晶セルアレイとの当接面に、熱伝導性が良好な弾
性部材を有する一対のホットプレートを具備して加熱装
置を構成し、これら一対のホットプレートで液晶セル或
いは液晶セルアレイを挟み込むことで、液晶セル或いは
液晶セルアレイの両側に、弾性部材を介してホットプレ
ートを常に弾性接触させて加熱するようにしてもよい。From the viewpoint of uniformly heating the entire liquid crystal cell or liquid crystal cell array, a pair of hot plates having elastic members having good thermal conductivity are provided on the contact surface with the liquid crystal cell or liquid crystal cell array. The heating device is configured to include the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array by sandwiching the pair of hot plates, so that the hot plates are constantly elastically contacted with both sides of the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array via the elastic member to heat the liquid. You may

【００９５】また、液晶セル或いは液晶セルアレイ全体
を均一に降温させるという観点からすれば、液晶セル或
いは液晶セルアレイとの当接面に、熱伝導性が良好な弾
性部材を有する一対のクーリングプレートを具備して加
熱装置を構成し、これら一対のクーリングプレートで液
晶セル或いは液晶セルアレイを挟み込むことで、液晶セ
ル或いは液晶セルアレイの両側に、弾性部材を介してク
ーリングプレートを常に弾性接触させて冷却するように
してもよい。From the viewpoint of uniformly lowering the temperature of the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array, a pair of cooling plates having elastic members having good thermal conductivity are provided on the contact surface with the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array. By configuring the heating device by sandwiching the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array with the pair of cooling plates, the cooling plate is always elastically contacted with both sides of the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array via the elastic member to cool the cooling plate. May be.

【００９６】[0096]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、等
方処理工程における熱履歴の均一性を向上することによ
り、液晶分子の所定方向への再配列性を向上せしめ、表
示品質を向上することのできるという効果を有する。As described above, according to the present invention, the uniformity of the thermal history in the isotropic treatment step is improved, so that the rearrangement of liquid crystal molecules in a predetermined direction is improved and the display quality is improved. It has the effect of being able to

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本発明の第１の実施の形態に係る液晶セルアレ
イ及び、液晶装置の加熱装置を示す概略構成図FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a liquid crystal cell array and a heating device of a liquid crystal device according to a first embodiment of the present invention.

【図２】液晶装置の画素領域を構成する複数の画素にお
ける各種素子、配線等の等価回路図FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of various elements, wirings, etc. in a plurality of pixels forming a pixel region of a liquid crystal device.

【図３】ＴＦＴ基板等の素子基板をその上に形成された
各構成要素と共に対向基板側から見た平面図FIG. 3 is a plan view of an element substrate such as a TFT substrate together with the constituent elements formed thereon, as viewed from the counter substrate side.

【図４】素子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封
入する組立工程終了後の液晶装置を、図３のＨ−Ｈ’線
の位置で切断して示す断面図FIG. 4 is a cross-sectional view showing the liquid crystal device after the assembly process in which an element substrate and a counter substrate are bonded to each other and liquid crystal is sealed, taken along line HH ′ in FIG. 3;

【図５】液晶装置を詳細に示す断面図FIG. 5 is a sectional view showing a liquid crystal device in detail.

【図６】液晶セルの製造工程を示すフローチャートFIG. 6 is a flowchart showing a manufacturing process of a liquid crystal cell.

【図７】液晶セルアレイ及び、液晶装置の冷却装置を示
す概略構成図FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing a liquid crystal cell array and a cooling device for the liquid crystal device.

【図８】本発明の第２の実施の形態に係る液晶セルアレ
イ及び、液晶装置の加熱装置を示す概略構成図FIG. 8 is a schematic configuration diagram showing a liquid crystal cell array and a heating device of a liquid crystal device according to a second embodiment of the present invention.

【図９】液晶セルアレイ及び、液晶装置の冷却装置を示
す概略構成図FIG. 9 is a schematic configuration diagram showing a liquid crystal cell array and a cooling device for the liquid crystal device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

８０…液晶セルアレイ ８１…液晶セル ９０…加熱装置（加熱手段） ９１…ホットプレート（加熱手段本体） ９１ａ…載置面（当接面） ９２…赤外線加熱装置（加熱アシスト手段） ９５…冷却装置（冷却手段） ９６…クーリングプレート（冷却手段本体） ９６ａ…載置面（当接面） ９７…ブロワ装置（冷却アシスト手段） １００…加熱装置（加熱手段） １０１…ホットプレート（加熱手段本体） １０１ａ…載置面（当接面） １０２…発熱体 １０５…冷却装置（冷却手段） １０６…クーリングプレート（冷却手段本体） １０６ａ…載置面（当接面） １０７…吸熱体 80 ... Liquid crystal cell array 81 ... Liquid crystal cell 90 ... Heating device (heating means) 91 ... Hot plate (main heating unit) 91a ... Placement surface (contact surface) 92 ... Infrared heating device (heating assist means) 95 ... Cooling device (cooling means) 96 ... Cooling plate (cooling means main body) 96a ... Placement surface (contact surface) 97 ... Blower device (cooling assist means) 100 ... Heating device (heating means) 101 ... Hot plate (heating unit main body) 101a ... Placement surface (contact surface) 102 ... Heating element 105 ... Cooling device (cooling means) 106 ... Cooling plate (cooling means main body) 106a ... Placement surface (contact surface) 107 ... Heat absorber

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 単一の液晶セル、或いは、複数の液晶セ
ルが同一基板上に配設された液晶セルアレイの等方処理
における加熱処理時に、上記液晶セル或いは上記液晶セ
ルアレイへの熱伝達が低下する箇所に対する加熱量を補
いながら上記液晶セル或いは上記液晶セルアレイを加熱
する加熱手段を具備したことを特徴とする液晶装置の製
造装置。1. The heat transfer to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is reduced during heat treatment in isotropic processing of a single liquid crystal cell or a liquid crystal cell array in which a plurality of liquid crystal cells are arranged on the same substrate. An apparatus for manufacturing a liquid crystal device, comprising: heating means for heating the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while compensating for the amount of heat applied to the portion to be heated. 【請求項２】 単一の液晶セル、或いは、複数の液晶セ
ルが同一基板上に配設された液晶セルアレイの等方処理
における冷却処理時に、上記液晶セル或いは上記液晶セ
ルアレイへの熱伝達が低下する箇所に対する冷却量を補
いながら上記液晶セル或いは上記液晶セルアレイを冷却
する冷却手段を具備したことを特徴とする液晶装置の製
造装置。2. The heat transfer to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is reduced during cooling processing in the isotropic processing of a single liquid crystal cell or a liquid crystal cell array in which a plurality of liquid crystal cells are arranged on the same substrate. An apparatus for manufacturing a liquid crystal device, comprising cooling means for cooling the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while compensating for the amount of cooling to be applied. 【請求項３】 単一の液晶セル、或いは、複数の液晶セ
ルが同一基板上に配設された液晶セルアレイの等方処理
における加熱処理時に、上記液晶セル或いは上記液晶セ
ルアレイへの熱伝達が低下する箇所に対する加熱量を補
いながら上記液晶セル或いは上記液晶セルアレイを加熱
する加熱手段と、 上記等方処理における冷却処理時に、上記液晶セル或い
は上記液晶セルアレイへの熱伝達が低下する箇所に対す
る冷却量を補いながら上記液晶セル或いは上記液晶セル
アレイを冷却する冷却手段と、を具備したことを特徴と
する液晶装置の製造装置。3. The heat transfer to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is reduced during the heat treatment in the isotropic treatment of a single liquid crystal cell or a liquid crystal cell array in which a plurality of liquid crystal cells are arranged on the same substrate. The heating means for heating the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while compensating for the heating amount for the portion to be heated, and the cooling amount for the portion where the heat transfer to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is lowered during the cooling treatment in the isotropic treatment. A device for manufacturing a liquid crystal device, further comprising: a cooling unit that cools the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array. 【請求項４】 上記加熱手段は、上記液晶セル或いは上
記液晶セルアレイとの当接面が一様な温度に制御される
加熱手段本体と、 上記液晶セル或いは上記液晶セルアレイに対する上記加
熱手段本体からの熱伝達が低下する箇所への加熱量を補
う加熱アシスト手段と、を具備することを特徴とする請
求項１または請求項３に記載の液晶装置の製造装置。4. The heating means comprises a heating means main body whose contact surface with the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is controlled to a uniform temperature, and a heating means main body for the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array. The apparatus for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, further comprising: a heating assist unit that supplements a heating amount to a place where heat transfer is reduced. 【請求項５】 上記加熱手段は、上記液晶セル或いは上
記液晶セルアレイとの当接面上に、各々が個別の温度に
制御可能な複数の発熱体が配列された加熱手段本体を具
備することを特徴とする請求項１または請求項３に記載
の液晶装置の製造装置。5. The heating means comprises a heating means main body in which a plurality of heating elements, each of which can be controlled to an individual temperature, are arranged on the contact surface with the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array. The apparatus for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1 or 3, characterized in that. 【請求項６】 上記発熱体はマトリクス状に配列されて
いることを特徴とする請求項５記載の液晶装置の製造装
置。6. The apparatus for manufacturing a liquid crystal device according to claim 5, wherein the heating elements are arranged in a matrix. 【請求項７】 上記冷却手段は、上記液晶セル或いは上
記液晶セルアレイとの当接面が一様な温度に制御される
冷却手段本体と、 上記液晶セル或いは上記液晶セルアレイに対する上記冷
却手段本体からの熱伝達が低下する箇所への冷却量を補
う冷却アシスト手段と、を具備することを特徴とする請
求項２または請求項３に記載の液晶装置の製造装置。7. The cooling means comprises a cooling means main body whose contact surface with the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is controlled to a uniform temperature, and a cooling means main body for the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array. The liquid crystal device manufacturing apparatus according to claim 2, further comprising: a cooling assist unit that supplements a cooling amount to a location where heat transfer is reduced. 【請求項８】 上記冷却手段は、上記液晶セル或いは上
記液晶セルアレイとの当接面上に、各々が個別の温度に
制御可能な複数の吸熱体が配列された冷却手段本体を具
備することを特徴とする請求項２または請求項３に記載
の液晶装置の製造装置。8. The cooling means comprises a cooling means main body in which a plurality of heat absorbers, each of which can be controlled to an individual temperature, are arranged on the contact surface with the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array. An apparatus for manufacturing a liquid crystal device according to claim 2, wherein the device is a liquid crystal device manufacturing apparatus. 【請求項９】 上記吸熱体はマトリクス状に配列されて
いることを特徴とする請求項８記載の液晶装置の製造装
置。9. The liquid crystal device manufacturing apparatus according to claim 8, wherein the heat absorbers are arranged in a matrix. 【請求項１０】 単一の液晶セル、或いは、複数の液晶
セルが同一基板上に配設された液晶セルアレイの等方処
理時に、上記液晶セル或いは上記液晶セルアレイへの熱
伝達が低下する箇所に対する加熱量を補いながら上記液
晶セル或いは上記液晶セルアレイを加熱する手順を具備
したことを特徴とする液晶装置の製造方法。10. A single liquid crystal cell or a portion where heat transfer to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is reduced during isotropic processing of the liquid crystal cell array in which a plurality of liquid crystal cells are arranged on the same substrate. A method of manufacturing a liquid crystal device, comprising a step of heating the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while supplementing a heating amount. 【請求項１１】 単一の液晶セル、或いは、複数の液晶
セルが同一基板上に配設された液晶セルアレイの等方処
理時に、上記液晶セル或いは上記液晶セルアレイへの熱
伝達が低下する箇所に対する吸熱量を補いながら上記液
晶セル或いは上記液晶セルアレイを冷却する手順を具備
したことを特徴とする液晶装置の製造方法。11. A single liquid crystal cell or a portion where heat transfer to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is reduced during isotropic processing of the liquid crystal cell array in which a plurality of liquid crystal cells are arranged on the same substrate. A method of manufacturing a liquid crystal device, comprising a step of cooling the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while supplementing the amount of heat absorption. 【請求項１２】 単一の液晶セル、或いは、複数の液晶
セルが同一基板上に配設された液晶セルアレイの等方処
理時に、上記液晶セル或いは上記液晶セルアレイへの熱
伝達が低下する箇所に対する加熱量を補いながら上記液
晶セル或いは上記液晶セルアレイを加熱する手順と、 上記液晶セル或いは上記液晶セルアレイへの熱伝達が低
下する箇所に対する吸熱量を補いながら上記液晶セル或
いは上記液晶セルアレイを冷却する手順と、を具備した
ことを特徴とする液晶装置の製造方法。12. A single liquid crystal cell or a portion where heat transfer to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is reduced during isotropic processing of the liquid crystal cell array in which a plurality of liquid crystal cells are arranged on the same substrate. A procedure for heating the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while compensating for the heating amount, and a procedure for cooling the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array while compensating for the heat absorption amount at a location where heat transfer to the liquid crystal cell or the liquid crystal cell array is reduced. A method of manufacturing a liquid crystal device, comprising: 【請求項１３】 請求項１乃至請求項９のいずれか１つ
に記載の液晶装置の製造装置によって等方処理されて製
造されたことを特徴とする液晶装置。13. A liquid crystal device manufactured by being isotropically processed by the liquid crystal device manufacturing apparatus according to claim 1. Description: 【請求項１４】 請求項１０乃至請求項１２のいずれか
１つに記載の液晶装置の製造方法によって等方処理され
て製造されたことを特徴とする液晶装置。14. A liquid crystal device manufactured by being isotropically processed by the method for manufacturing a liquid crystal device according to any one of claims 10 to 12.
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