JP2003029268A - 反射型液晶表示素子及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 配向安定化膜を有する樹脂基板を含む反射型
液晶表示素子であって、焼き付きや表示ムラ等の表示性
能の劣化を抑制でき、さらに長期にわたって安定して良
好な光反射率を得ることができ、高コントラストで画像
表示できる反射型液晶表示素子及びその製造方法を提供
する。 【解決手段】 少なくとも一方が樹脂基板である一対の
基板１１、１２間に可視光中の特定波長の光を選択反射
可能の液晶組成物２１ｂ、２１ｇ、２１ｒ、２１ｙを挟
持した反射型液晶表示素子である。一対の基板１１、１
２のうち少なくとも一方の樹脂基板に配向安定化膜１７
が形成されている。配向安定化膜１７は有機溶剤を用い
てポリイミドを溶解した塗布液を塗布して形成された膜
である。この配向安定化膜１７中の残留溶剤量は１５０
ｐｐｍ以下である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子に関
し、特に可視光中の特定波長の光を選択反射可能の液晶
組成物を含む反射型液晶表示素子及びその製造方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示素子は、基本的に一対の基板と
これら基板間に挟持された液晶層とを含んでいる。この
液晶層に駆動電圧を印加することで液晶分子の配列を制
御し、素子に入射される外光を変調して目的とする画像
の表示等を行う。

【０００３】液晶表示方式は様々なものが提案されてい
る。

【０００４】近年、ネマチック液晶にカイラル材料を添
加することにより、室温においてコレステリック液晶相
を示すようにしたカイラルネマチック液晶を用いた液晶
表示素子が研究されている。

【０００５】このタイプの液晶表示素子は、例えば、カ
イラルネマチック液晶の選択反射能を利用した低消費電
力駆動可能の反射型の液晶表示素子として用い得ること
が知られている。

【０００６】この反射型液晶表示素子では高低のパルス
電圧を印加することにより液晶をプレーナ状態（着色状
態）とフォーカルコニック状態（透明状態）に切り替え
て表示を行なうことができる。

【０００７】そして、かかるパルス電圧の印加を停止し
た後でも、プレーナ状態、フォーカルコニック状態、及
びその混在状態が保持されるという、いわゆる双安定性
或いはメモリー性を示し、これにより、電圧の印加を停
止した後も表示が保たれるようにすることが可能であ
る。

【０００８】また、かかる反射型液晶表示素子でフルカ
ラー表示を実現する一つの方法として、赤色（Ｒ）表示
を行うＲ液晶層、緑色（Ｇ）表示を行うＧ液晶層、青色
（Ｂ）表示を行うＢ液晶層の三層を含む液晶表示素子を
採用する場合を挙げることができる。

【０００９】いずれにしても反射型液晶表示素子に用い
る基板としては、薄型、軽量化のためにプラスチック
（樹脂）基板を用いることが提案されている。

【００１０】基板には液晶分子の配向を制御するための
配向安定化膜が設けられることがある。メモリ性を有し
コレステリック液晶相の選択反射を利用して表示を行う
上記液晶表示素子においては、原理上、配向安定化膜は
不要であるが、配向安定化膜を設けることにより、液晶
組成物と配向安定化膜との相互作用が強くなって液晶分
子が均質に配向され、フォーカルコニック状態での散乱
が少なくなり、良好な色純度、光反射率等の特性が得ら
れ、素子としてのコントラストが向上する。また、素子
の表示特性が経時変化することを抑制することにも寄与
する。

【００１１】基板としてプラスチック基板を用いる場
合、プラスチック基板に形成される配向安定化膜の材料
としては、例えば、ポリイミド重合体、ポリイミド前駆
体やポリエーテルアミド等が挙げられる。これらは、プ
ラスチック基板への配向安定化膜形成にあたり、溶剤に
溶解して使用される。

【００１２】例えば、プラスチック（樹脂）基板に有機
溶剤を用いて前記の配向安定化膜材料を溶解した塗布液
を塗布して塗膜を形成し、該プラスチック基板に形成さ
れた塗膜を加熱処理することで、該塗膜を配向安定化膜
とすることができる。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、例えばネマ
チック液晶とカイラル材料を混合したカイラルネマチッ
ク液晶を用いた液晶表示素子においては、優れた表示性
能を得るために、以下のような条件を満たす必要があ
る。 （ｉ） 光反射率が大きく、安定していること。 （ii） プレーナ状態時のドメインサイズが大きく、カ
イラルネマチック液晶分子が安定して配向すること。 （iii) メモリ性が良好なこと。 （iv) プレーナ状態とフォーカルコニック状態とで充
分な（急峻な立ち上がり、立ち下がりを示す）電位的ヒ
ステリシスが得られること。 （Ｖ） 長時間の連続駆動時においてヒステリシスの変
動が少ないこと。 （vi） 長時間のメモリ状態などにおいて焼き付き（残
像のように表示画像が残る現象）が発生しないこと。

【００１４】これらの条件を満たすためには、配向安定
化膜に残留溶剤がないか、きわめて少ないこと、配向安
定化膜にまったく又はほとんど不純物が付着していない
或いは含まれていないこと、配向安定化膜が適正、且
つ、均一な膜厚を有すること、配向安定化膜に削れ等の
欠陥がないことが望ましい。なお、前記の電位的ヒステ
リシスは、光反射率と印加電圧との関係において示さ
れ、例えば、図５に示すようなグラフになる。元は実線
のようなヒステリシスを示していたものが、長期間の使
用によって点線のような幅が狭く立上がり立下りがなだ
らかなヒステリシスに変化すると、液晶表示素子を駆動
し得る電圧範囲が狭くなり、良好な表示を行えなくなる
ことがある。

【００１５】しかし、プラスチック基板を用いた液晶表
示素子においては、配向安定化膜を形成するにあたり、
配向安定化膜となる膜の焼成温度を、基板としてガラス
基板を用いる場合ほど高くすることができないため、出
来上がった配向安定化膜中に溶剤が多く残存してしま
い、これが表示特性劣化の原因となることがある。

【００１６】このようなことから、これらの材料を用い
てプラスチック基板に配向安定化膜を形成した場合、液
晶分子の配向が安定せず、表示ムラが発生したり、安定
したプレーナ状態とフォーカルコニック状態との電位的
ヒステリシスが取れなくなったりすることがある。

【００１７】また、長時間同じ又は同じような画像デー
タに基づいて駆動し続けた時やメモリ状態において焼き
付きが発生することがある。また、この配向安定化膜に
ラビング処理を施すと、該膜は柔らかいために基板から
剥離したり、ラビング傷が入り易く表示ムラの原因とな
ることがある。

【００１８】さらに、配向安定化膜材料塗布後の膜のレ
ベリング性が良好でないことに起因して、配向膜に微小
な膜厚ムラが発生し、これも配向ムラ、表示ムラの原因
となることがある。

【００１９】そこで本発明は、配向安定化膜を有する樹
脂基板を含む反射型液晶表示素子であって、焼き付きや
表示ムラ等の表示性能の劣化を抑制できる反射型液晶表
示素子を提供することを課題とする。

【００２０】また本発明は、長期にわたって安定して良
好に画像表示できる反射型液晶表示素子を提供すること
を課題とする。

【００２１】また本発明は、配向安定化膜を有する樹脂
基板を含む反射型液晶表示素子の製造方法であって、焼
き付きや表示ムラ等の表示性能の劣化を抑制できる反射
型液晶表示素子を得ることができる反射型液晶表示素子
の製造方法を提供することを課題とする。

【００２２】また本発明は、長期にわたって安定して良
好に画像表示できる反射型液晶表示素子を得ることがで
きる反射型液晶表示素子の製造方法を提供することを課
題とする。

【００２３】

【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するため、次の反射型液晶表示素子及び反射型液晶表示
素子の製造方法を提供する。 （１）反射型液晶表示素子 少なくとも一方が樹脂基板である一対の基板間に可視光
中の特定波長の光を選択反射可能の液晶組成物を挟持し
た反射型液晶表示素子であって、前記一対の基板のうち
少なくとも一方の樹脂基板に配向安定化膜が形成されて
おり、該配向安定化膜は有機溶剤を用いてポリイミドを
溶解した塗布液を塗布して形成された膜であり、該配向
安定化膜中の残留溶剤量が１５０ｐｐｍ以下である反射
型液晶表示素子。 （２）反射型液晶表示素子の製造方法 少なくとも一方が樹脂基板である一対の基板間に可視光
中の特定波長の光を選択反射可能の液晶組成物を挟持し
た反射型液晶表示素子の製造方法であって、前記一対の
基板のうち少なくとも一方の樹脂基板に有機溶剤を用い
てポリイミドを溶解した塗布液を塗布して塗膜を形成す
る塗膜形成工程と、前記塗膜形成工程にて形成された塗
膜を加熱処理する加熱処理工程と、前記加熱処理工程後
の前記膜を、該膜中の残留溶剤量が１５０ｐｐｍ以下と
なるように洗浄して配向安定化膜とする洗浄工程とを含
む反射型液晶表示素子の製造方法。

【００２４】本発明に係る反射型液晶表示素子の製造方
法は、本発明に係る反射型液晶表示素子を作製すること
ができる。

【００２５】本発明に係る反射型液晶表示素子及び本発
明に係る反射型液晶表示素子の製造方法によると、配向
安定化膜中の残留溶剤量を１５０ｐｐｍ以下とすること
で、表示ムラや焼き付き等の発生を抑制できる。

【００２６】一般的に言えば、配向安定化膜形成にあた
り、配向安定化膜中の残留溶剤量を下げるためには配向
安定化膜形成のための加熱処理温度を上げればよいが配
向安定化膜を形成する基板は樹脂基板であるため温度を
あまり上げることができない。

【００２７】この点本発明の反射型液晶表示素子の製造
方法では、比較的低い温度で加熱処理された膜中の残留
溶剤がたとえ多くなっても、該膜を残留溶剤量が１５０
ｐｐｍ以下となるように洗浄するので、該残留溶剤量を
低減させることができる。

【００２８】配向安定化膜を形成するための塗布液とし
ては、ポリイミド、より好ましくはイミド化率９５％以
上の可溶性ポリイミドを有機溶剤に溶解した液を用い
る。このような塗布液を用いることにより、配向安定化
膜形成のための加熱処理温度を、樹脂基板を損傷しない
程度の低い温度としても膜形成可能である。特に、イミ
ド化率９５％以上の可溶性ポリイミトを有機溶剤に溶解
した液を用いる場合は、加熱処理温度を低くしても良質
の膜を形成できるので、樹脂基板への配向安定化膜形成
が容易になる。

【００２９】前記洗浄工程における洗浄剤としては、洗
浄溶剤、例えば純水、アルコール類を代表例として挙げ
ることができる。これらは単体で用いてもよいし、混合
して用いてもよい。アルコール類としては安全性の点か
らエタノールが好ましい。

【００３０】本発明に係る反射型液晶表示素子及び本発
明に係る反射型液晶表示素子の製造方法において採用す
る液晶組成物はネマチック液晶にカイラル材を混合した
カイラルネマチック液晶組成物とすることができる。か
かるカイラルネマチック液晶組成物は、混合するカイラ
ル材料（カイラルドーパント）の量を変えることで、選
択反射波長を制御することができる利点がある。

【００３１】しかし、カイラルネマチック液晶組成物
は、カイラル材料の添加量が少なくすぎると十分なメモ
リー性が得られなくなる一方、多すぎると室温でコレス
テリック相を示さなくなったり、固化したりする。よっ
てカイラル材料の混合量はカイラルネマチック液晶組成
物の全量に対し８重量％〜４５重量％程度とすることを
推奨できる。カイラル材は２種以上添加してもよい。

【００３２】いずれにしても、前記液晶組成物に色素を
添加していてもよい。この場合、添加される色素として
は、従来知られている各種色素を採用することができ、
液晶と相溶性の良好なものが好ましい。例えば、アゾ化
合物、キノン化合物、アントラキノン化合物等からなる
色素、或いは二色性色素等が使用可能であり、これらの
色素は複数種類用いてもよい。添加量としては、例え
ば、ネマチック液晶とカイラル材の合計量に対して３重
量％以下が望ましい。添加量が多すぎると液晶の選択反
射量が低くなり逆にコントラストが下がってしまう。

【００３３】また、液晶組成物への色素添加に代えてカ
ラーフィルターを採用することもできる。この場合、例
えば液晶表示素子にフィルター層を設けることができ
る。このフィルタ層に用いられる材料としては、例え
ば、無色透明物質に色素を添加したものであってもよい
し、色素を添加せずとも本質的に着色状態にあるもので
あってもよい。例えば、フィルタ層は色素と同様の働き
をする特定の物質からなる薄膜であってもよい。液晶表
示素子を構成するための基板自体を以上のようなフィル
タ層材料で形成しても同様の効果が得られる。

【００３４】いずれにしても、配向安定化膜の膜厚は１
００Å〜２０００Å程度が適当である。薄すぎると液晶
分子の配向を制御できないことがあり、厚すぎると駆動
電圧が高くなる。

【００３５】なお、カイラルネマチック液晶組成物をネ
マチック液晶に、ネマチック液晶とカイラル材との合計
重量に対して、カイラル材を８重量％〜４５重量％混合
したものとし、配向安定化膜の膜厚を１００Å〜２００
０Åに設定することによって駆動電圧が低く、後述する
ように積層型液晶表示素子を構成したとき、良好なフル
カラー表示品質を達成することができる。

【００３６】いずれにしても、液晶組成物層の比抵抗と
しては、例えば１×１０¹⁰Ω・ｃｍ以上であることが望
ましい。この比抵抗が低いと繰り返し駆動時や長期間メ
モリ状態にしていたときの表示特性の変化（表示ムラの
発生や焼き付き等）の原因となり易い。

【００３７】いずれにしても前記配向安定化膜は有機溶
剤を用いてポリイミドを溶解した塗布液を印刷塗布して
形成できる。例えばＮ−メチルピロリドン、ブチルセロ
ソルブ及びγ−ブチルラクトンから選ばれた少なくとも
２種の溶剤からなる希釈溶剤を用いてポリイミドを溶解
した塗布液を印刷塗布して形成できる。有機溶剤として
Ｎ−メチルピロリドン、ブチルセロソルブ及びγ−ブチ
ルラクトンから選ばれた少なくとも２種の溶剤からなる
希釈溶剤を用いることにより、樹脂基板に形成される塗
膜の乾燥速度が遅くなり塗布液をロールコーター法、ス
ピンコーター法、スクリーン印刷法等の印刷法で良好に
塗布することができる。このような印刷法による塗膜は
１６０℃以下の温度で焼成して良好な配向安定化膜用の
膜とすることができる。このため樹脂基板を使用するこ
とができる。

【００３８】いずれにしても前記塗布液の固形分濃度と
しては、例えば３重量％〜８重量％程度であることが望
ましい。塗布液の固形分濃度が３重量％〜８重量％程度
のとき、配向安定化膜の膜厚は１００Å〜２０００Å程
度となり膜厚ムラの少ない、良好な膜形成が可能とな
る。

【００３９】いずれにしても、前記塗布膜は７０℃〜１
１０℃で３０秒〜５分間加熱する仮乾燥工程と、１３５
℃〜１６０℃で２０分〜２時間加熱する焼成工程とによ
って加熱処理されてもよい。例えば、本発明方法におけ
る加熱処理工程は、７０℃〜１１０℃で３０秒〜５分間
加熱する仮乾燥工程と、１３５℃〜１６０℃で２０分〜
２時間加熱する焼成工程とを含んでいてもよい。このよ
うに加熱処理することにより良好な配向安定化膜用の膜
とすることができる。

【００４０】いずれにしても、配向安定化膜にラビング
等の配向処理を施すと反射率は向上するが視野角依存性
が大きくなり、両基板のそれぞれに配向安定化膜が形成
されている場合においてそれら双方の配向安定化膜にラ
ビング等の配向処理を施すと、フォーカルコニック状態
でのメモリー性が損なわれるおそれがある。

【００４１】そこで、反射率向上のために配向安定化膜
に配向処理を施すときには、前記一対の基板のうちいず
れか片方に形成された前記配向安定化膜のみにラビング
等の配向処理をほどこすのがよい。

【００４２】前記配向安定化膜はいずれもラビング等の
配向処理が施されていなくてもよい。配向安定化膜にラ
ビング等の配向処理を施さないでおくときには、視野角
依存性を小さくすることができる。

【００４３】前記配向安定化膜に配向処理を施す場合、
該配向安定化膜は配向処理装置によってラビング処理さ
れてもよい。この配向処理装置としては、例えば、ラビ
ング布を有するラビングローラを備え、該ラビングロー
ラを所定の回転数で回転させながら配向安定化膜に対し
所定の相対移動速度で移動させるとともに該配向安定化
膜に該ラビングローラのラビング布のパイルを所定量押
し込むことで該配向安定化膜をラビング処理する装置を
挙げることができる。前記配向処理としてかかる装置を
用いる場合、前記配向安定化膜へのラビング処理の条件
は、前記ラビングローラの回転数が５０ｒｐｍ〜３００
ｒｐｍ、前記配向安定化膜が形成された樹脂基板に対す
る前記ラビングローラの相対移動速度が２０ｃｍ／分〜
２００ｃｍ／分、パイルの押し込み量が０．１ｍｍ〜
０．５ｍｍであるとき、良好な配向特性が得られる。

【００４４】通常、配向安定化膜をラビング処理する場
合、不純物を除去するため、配向安定化膜をラビング処
理したあと、洗浄が行われる。そこで本発明に係る反射
型液晶表示素子の製造方法においては、加熱処理の後
で、且つ、洗浄処理の前に前記加熱処理後の膜にラビン
グ処理を施し、その後、該膜を洗浄して配向安定化膜と
してもよい。

【００４５】例えば、次のような製造方法としてもよ
い。すなわち、少なくとも一方が樹脂基板である一対の
基板間に可視光中の特定波長の光を選択反射可能の液晶
組成物を挟持した反射型液晶表示素子の製造方法であっ
て、前記一対の基板のうち少なくとも一方の樹脂基板に
有機溶剤を用いてポリイミドを溶解した塗布液を塗布し
て塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記塗膜形成工程に
て形成された塗膜を加熱処理する加熱処理工程と、前記
加熱処理工程後の前記膜にラビング処理を施す配向処理
工程と、前記配向処理工程にてラビング処理された前記
膜を該膜中の残留溶剤量が１５０ｐｐｍ以下となるよう
に洗浄して配向安定化膜とする洗浄工程とを含む反射型
液晶表示素子の製造方法である。

【００４６】いずれにしても、前記一対の基板としてプ
ラスチック（樹脂）基板を用いることにより薄型、軽量
化が図れ、さらに落としても割れにくい等の利点があ
る。

【００４７】いずれにしても、樹脂基板は例えばポリカ
ーボネート又はポリエーテルスルホンからなる基板であ
ってもよい。樹脂基板の材料として、ポリカーボネート
又はポリエーテルスルホンを用いることにより寸法安定
性、耐熱性、耐溶剤性、光透過性、電極（例えばＩＴ
Ｏ：インジウム錫酸化物）成膜性等の基板としての必要
特性を満足することができる。

【００４８】本発明に係る液晶表示素子を複数積層する
ことで積層型液晶表示素子、例えばフルカラー表示が可
能な積層型液晶表示素子を提供することができる。

【００４９】また、本発明に係る液晶表示素子の製造方
法にて作製された液晶表示素子を複数積層する工程を含
んでいる積層型反射型液晶表示素子の製造方法を提供す
ることができる。

【００５０】

【発明の実施の形態】（第１実施形態の構成と表示動
作）図１は本発明の第１実施形態である反射型液晶表示
素子の断面構造を示す概略図であり、図１（Ａ）に高電
圧パルスを印加したときのプレーナ状態（Ｒ（赤色）Ｇ
（緑色）Ｂ（青色）着色状態）を示し、図１（Ｂ）に低
電圧パルスを印加したときのフォーカルコニック状態
（透明／黒色表示状態）を示す。なお、この液晶表示素
子はメモリー性を有しており、プレーナ状態及びフォー
カルコニック状態はパルス電圧印加後も維持される。

【００５１】図１に示す液晶表示素子は、それぞれ液晶
組成物２１ｒ、２１ｇ、２１ｂを含む、赤色表示を行な
うＲ液晶層ｒ（赤色層（赤色液晶表示素子））、緑色表
示を行なうＧ液晶層ｇ（緑色層（緑色液晶表示素
子））、青色表示を行なうＢ液晶層ｂ（青色層（青色液
晶表示素子））の三つの液晶層（液晶表示素子）をこの
順で積層したものである。

【００５２】Ｒ、Ｇ及びＢの各液晶層ｒ、ｇ、ｂは、そ
れぞれ少なくとも一方が（ここでは両基板が）樹脂基板
である一対の基板１１、１２間に室温で可視光中の特定
波長の光を選択反射可能のカイラルネマチック液晶組成
物２１ｒ、２１ｇ、２１ｂと基板１１、１２間のスペー
スを保持するスペース保持材（ここではスペーサー１８
及び柱状構造物２０）とを挟持したものである。

【００５３】一対の基板１１、１２のうち少なくとも一
方の（ここでは両方の）樹脂基板に配向安定化膜１７が
形成されている。配向安定化膜１７は有機溶剤を用いて
ポリイミドを溶解した塗布液を塗布して形成された膜で
ある。この配向安定化膜１７中の残留溶剤量は１５０ｐ
ｐｍ以下である。

【００５４】図１に示す液晶表示素子だけでなく、本発
明の液晶表示素子ではＲ、Ｇ及びＢの各液晶において一
対の基板にはそれぞれ電極を形成することができる。

【００５５】図１の各液晶層ｒ、ｇ、ｂにおいては、１
１、１２は透光性を有する透明基板であり、透明基板１
１、１２のそれぞれの表面に、互いに平行な複数の帯状
に形成された透明電極１３、１４が設けられている。こ
れらの電極１３、１４は互いに交差するように向かい合
わされている。電極上には絶縁性薄膜がコーティングさ
れていることが好ましい。ここでは電極１３、１４上に
それぞれ絶縁性薄膜１５がコーティングされている。ま
た、光を入射させる側とは反対側の基板の外面（裏面）
には、必要に応じて、可視光吸収層が設けられる。ここ
では赤色層ｒにおける基板１２の裏面に可視光吸収層１
６が設けられている。

【００５６】１８、２０はそれぞれスペース保持部材と
してのスペーサー、柱状構造物であり、２１ｒ、２１
ｇ、２１ｂは、ここでは室温でコレステリック相を示す
カイラルネマチック液晶組成物である。これらの材料や
その組み合わせについては以下の実験例によって具体的
に説明する。２４はシール材であり、液晶組成物２１
ｒ、２１ｇ、２１ｂを基板１１、１２間に封入するため
のものである。

【００５７】２５はパルス電源であり、前記電極１３、
１４にパルス状の所定電圧を印加するためのものであ
る。 （基板）基板１１、１２は、既述のとおり、いずれも透
光性を有しているが、基板１１、１２は、少なくとも一
方を透光性を有するものとすればよい。透光性を有する
基板としては、例えばポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ
エーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリアリレート（ＰＡ
ｒ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のフレ
キシブル基板を使用することができる。

【００５８】これらのうち入手容易で、寸法安定性、耐
熱性、耐溶剤性、光透過性、電極（例えばＩＴＯ：イン
ジウム錫酸化物）成膜性等の基板として良好な特性を示
す点で、ポリカーボネート（ＰＣ）やポリエーテルスル
ホン（ＰＥＳ）の基板が好ましい。

【００５９】各樹脂基板の両面には、ガスバリア及び透
明導電膜アンダーコート膜の働きをするアクリル系、エ
ポキシ系、或いはシリコン系の膜でコーティングしても
よい。 （電極）電極としては、例えば、Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ
Ｏｘｉｄｅ（ＩＴＯ：インジウム錫酸化物）、Ｉｎｄ
ｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ（ＩＺＯ：インジウム亜
鉛酸化物）等の透明導電膜や、アルミニウム、シリコン
等の金属電極、或いは、アモルファスシリコン、ＢＳＯ
（Ｂｉｓｍｕｔｈ Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｏｘｉｄｅ）等の
光導電性膜等を用いることができる。

【００６０】図１に示す液晶表示素子においては、既述
のとおり、透明基板１１、１２の表面に互いに平行な複
数の帯状の透明電極１３、１４が形成されており、これ
らの電極１３、１４は互いに交差するように向かい合わ
されている。

【００６１】電極をこのように形成するには、例えば透
明基板上にＩＴＯ膜をスパッタリング法等でマスク蒸着
するか、ＩＴＯ膜を全面形成した後、フォトリソグラフ
ィ法でパターニングすればよい。 （絶縁性薄膜）液晶表示素子は電極間の短絡を防止した
り、ガスバリア層として液晶表示素子の信頼性を向上さ
せる機能を有する絶縁性薄膜を形成してもよい。既述の
とおり、ここでは電極１３、１４上にそれぞれ絶縁性薄
膜１５がコーティングされている。

【００６２】絶縁性薄膜の膜厚としては、例えば２０ｎ
ｍ〜２００ｎｍ程度が望ましい。絶縁性薄膜の材料とし
ては、例えば、有機ケイ素化合物に無機化合物微粒子を
含有した透明被膜形成用塗布液を用いることができる。

【００６３】有機ケイ素化合物としては、例えば、ケイ
素のアルコキシドを用いることができる。有機ケイ素化
合物には３次元的な架橋を形成する遷移金属元素が含有
されており、これにより十分な強度と絶縁性を得ること
ができる。

【００６４】絶縁性薄膜は、これらの材料を用いてスピ
ンコート法、ロールコート法などの公知の方法によって
形成することができる。

【００６５】絶縁性薄膜は前記の材料に色素を添加すれ
ばカラーフィルタとしても機能する。 （配向安定化膜）配向安定化膜材料としては、ポリイミ
ドを用いる。ポリイミドの良好なものとしては、脂肪族
炭化水素環式カルボン酸無水物と芳香族ジアミンとの縮
合物を例示できる。脂肪族炭化水素環式カルボン酸無水
物としては、例えば、シクロへキサンテトラカルボン酸
二無水物、トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水
物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、シクロ
ブタンテトラカルボン酸二無水物、トリカルボキシノル
ボルナン酢酸二無水物、ビシクロオクトエンテトラカル
ボン酸二無水物等を挙げることができる。これらのうち
１種類又は２種類以上を用いることができる。

【００６６】また、ポリイミドを形成する芳香族ジアミ
ン化合物としては、例えば、フェニレンジアミン、ジア
ミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルエタン、ジ
アミノナフタレン、２，７−ジアミノフルオレノン、ジ
アミノジフェニルエーテル、９, ９−ビス（４−アミノ
フェニル）フルオレン、ジアミノベンゾフェノン等を挙
げることができる。

【００６７】これらの芳香族ジアミン化合物は、例えば
アルキル基等のチルト角を調整するような置換基を有し
ていてもよい。

【００６８】また、特にイミド化率９５％以上の可溶性
ポリイミドを使用することにより、低温の焼成温度でも
未反応部分がほとんどなく良好な配向安定化膜を得るこ
とができ、良好な色純度、光反射率等の特性が得られ、
コントラストが向上する。

【００６９】配向安定化膜の膜厚は１００Å〜２０００
Å程度が適当である。薄すぎると液晶分子の配向を制御
できないことがあり、厚すぎると駆動電圧が高くなる。

【００７０】配向安定化膜の成膜は、例えば、以下のよ
うにして行う。すなわち、まず、ポリイミドを溶剤に溶
解して塗布液を調整する。

【００７１】塗布液の固形分濃度が３重量％〜８重量％
程度のとき、得られる配向安定化膜の膜厚は１００Å〜
２０００Å程度となり膜厚ムラの少ない、良好な膜形成
が可能となる。

【００７２】塗布液に用いる溶剤としては、Ｎ−メチル
ピロリドン、ブチルセロソルブ及びγ−ブチルラクトン
から選ばれた少なくとも２種の溶剤を用いるができる。
溶剤としてＮ−メチルピロリドン、ブチルセロソルブ及
びγ−ブチルラクトンから選ばれた少なくとも２種の溶
剤を用いることにより、樹脂基板に形成される塗膜の乾
燥速度が遅くなり塗布液をロールコーター法、スピンコ
ーター法、スクリーン印刷法等の印刷法で良好に塗布す
ることができる。このような印刷法による塗膜は１６０
℃以下の温度で焼成して良好な配向安定化膜用の膜とす
ることができる。このため樹脂基板を使用することがで
きる。このとき、高温のオーブン又はホットプレートで
乾燥させることにより良好な配向安定化膜用の膜を得る
ことができる。

【００７３】配向安定化膜用膜形成のための加熱処理と
して、例えば７０℃〜１１０℃で３０秒〜５分間加熱す
る仮乾燥工程と、１３５℃〜１６０℃で２０分〜２時間
加熱する焼成工程とによる加熱処理を行うことにより良
好な配向安定化膜用の膜が形成される。仮乾燥温度を７
０℃より低くすると、仮乾燥に時間がかかるので乾燥ム
ラが発生し易い。１１０℃より高くすると、塗膜を急激
に乾燥させることになり、塗膜のレベリング性に悪影響
を与え、微小な膜厚ムラが発生し易い。

【００７４】そして加熱処理された前記配向安定化膜用
膜を、該膜中の残留溶剤量が１５０ｐｐｍ以下となるよ
うに洗浄して配向安定化膜とする。

【００７５】これらの材料を用いて形成した配向安定化
膜は、特にラビング処理等を施す必要はない。しかし、
両基板１１、１２のそれぞれに形成されている配向安定
化膜１７のうちの片方に弱いラビングを施すことにより
反射率を向上させることができる。その場合、強くラビ
ング処理すると視野角依存性が大きくなり、両面の配向
安定化膜をラビング処理するとフォーカルコニック状態
でのメモリー性が無くなってしまうおそれがある。

【００７６】配向処理装置として、例えば、ラビング布
を有するラビングローラを備え、該ラビングローラを所
定の回転数で回転させながら配向安定化膜に対し所定の
相対移動速度で所定の方向に移動させるとともに該配向
安定化膜に該ラビングローラのラビング布のパイルを所
定量押し込むことで該配向安定化膜をラビング処理する
装置を用いることができる。この場合、両基板１１、１
２のそれぞれに形成されている配向安定化膜１７のうち
の片方に弱くラビングするラビング処理の条件として、
ラビングローラの回転数を５０ｒｐｍ〜３００ｒｐｍ、
配向安定化膜に対するラビングローラの相対移動速度を
２０ｃｍ／分〜２００ｃｍ／分、ラビング布のパイルの
押し込み量を０．１ｍｍ〜０．５ｍｍとするとき、良好
な配向特性が得られる。

【００７７】また、配向安定化膜及び絶縁性薄膜を形成
する構成において、配向安定化膜を絶縁性薄膜と兼用
し、配向安定化膜だけの構成にしてもよい。 （スペーサー）液晶表示素子は、一対の基板間に、該基
板間のギャップを均一に保持するためのスペーサーが設
けられていてもよい。本例の液晶表示素子には、基板１
１、１２間にスぺーサー１８を配置してある。

【００７８】このスぺーサーとしては、樹脂製又は無機
酸化物製の球体を例示できる。樹脂製の球体に比べ無機
酸化物の球体の方が、セルの厚み精度を出しやすく耐熱
性が良いという利点がある。また、表面に熱可塑性の樹
脂がコーティングしてある固着スペーサーも好適に用い
ることができる。スペーサーを固着スペーサーとするこ
とにより、基板として樹脂基板を用いた場合でもセルの
厚みを均一に保つことができ、熱処理を施しても安定な
表示特性を保つことができる。なお、本例のようにスペ
ーサー及び柱状構造物をいずれも設けてもよいが、柱状
構造物に代えて、スぺーサーのみをスペース保持部材と
して使用してもよい。 （液晶組成物）液晶層に含まれる液晶組成物は、ここで
は、カイラルネマチック液晶組成物の屈折率異方性（Δ
ｎ）が０．１６〜０．２２、誘電率異方性（Δε）が８
〜４０であり、さらにカイラル材の含有量が８重量％〜
４５重量％であるカイラルネマチック液晶である。

【００７９】なお、カイラル材の含有量はネマチック液
晶成分とカイラル材の合計量を１００重量％としたとき
の値である。

【００８０】カイラル材の含有量が８重量％より少なす
ぎると、希望する選択反射波長が得られなかったり、十
分なメモリー性を得られないことがあり、４５重量％よ
り多すぎると室温でコレステリック相を示さなくなった
り、固化したりすることがある。

【００８１】屈折率異方性が低すぎると反射光の色純度
が悪く、反射率も悪くなる。逆に高すぎる場合は視野角
依存性が大きくなってしまう。

【００８２】誘電率異方性が低すぎると駆動電圧が高く
なってしまい、逆に高すぎると素子としての安定性や信
頼性が悪くなり、画像欠陥、画像ノイズが発生し易くな
ってしまう。

【００８３】また、カイラルネマチック液晶層の比抵抗
としては、例えば１×１０¹⁰Ω・ｃｍ以上であることが
望ましい。この比抵抗が低いと繰り返し駆動時や長時間
メモリ状態にしていたときの表示特性の変化（表示ムラ
の発生や焼き付き等）の原因となり易い。カイラルネマ
チック液晶層の比抵抗を上げるためには、配向安定化膜
の洗浄や液晶組成物の精製が有効である。 （柱状構造物）液晶表示素子は、強い自己保持性を付与
するために、一対の基板間が構造物で支持されていても
よい。本例の液晶表示素子には、基板１１、１２間に柱
状構造物２０が設けられている。

【００８４】柱状構造物としては、例えば、格子配列等
の所定のパターンに一定の間隔で配列された、円柱状
体、四角柱状体、楕円柱状体、台形柱状体、円錐柱状体
等の柱状構造物を挙げることができる。また、所定間隔
で配置されたストライプ状のものでもよい。柱状構造物
はランダムな配列ではなく、等間隔な配列、間隔が徐々
に変化する配列、所定の配置パターンが一定の周期で繰
り返される配列等、基板の間隙を適切に保持でき、且
つ、画像表示を妨げないように考慮された配列であるこ
とが好ましい。柱状構造物は適度な強度を保持しつつ液
晶表示素子として実用上満足できる特性を得るために、
液晶表示素子の表示領域に占める面積の割合が１％〜４
０％程度であればよい。

【００８５】柱状構造物の材料としては、各種の樹脂材
料を用いることができる。樹脂材料としては、例えば、
重合性単量体（モノマー）に重合開始剤を添加してなる
重合性組成物や、熱可塑性樹脂材料、熱硬化性樹脂材料
などを挙げることができる。

【００８６】これらの材料を用いて、例えば、フォトリ
ソ法、スクリーン印刷法などによって柱状構造物を形成
することができる。柱状構造物の形成された基板を使用
し、真空注入法や滴下法によって液晶セルに液晶を注入
することができる。なお、液晶と重合性組成物とを混合
したものを基板間に挟持した後、フォトマスクを介して
光照射するなど、いわゆる重合相分離法によって柱状構
造物を形成することもできる。 （第２実施形態の構成）図２に本発明の第２実施形態で
ある液晶表示素子の断面構造を示す。なお、図２（Ａ）
は高電圧パルス印加時のプレーナ状態を示すものであ
り、図２（Ｂ）は低電圧パルス印加時のフォーカルコニ
ック状態を示すものである。

【００８７】この液晶表示素子は、液晶表示素子表示領
域内に柱状構造物が設けられていないことを除いて、図
１に示した前記第１実施形態の液晶表示素子と実質上同
じものである。なお、図２の液晶表示素子において、図
１の素子と基本的に同じ構成、作用を有する箇所には同
じ参照符号を付してある。 （第３実施形態の構成）図３に本発明の第３実施形態で
ある液晶表示素子の断面構造を示す。なお、図３（Ａ）
は高電圧パルス印加時のプレーナ状態を示すものであ
り、図３（Ｂ）は低電圧パルス印加時のフォーカルコニ
ック状態を示すものである。

【００８８】この液晶表示素子は、図１に示した前記液
晶表示素子における各液晶層を単層構成で使用したもの
で、図１の各液晶層と実質的には同様の構造のものであ
りモノカラー又はモノクロの表示素子として用いること
ができるものである（液晶の選択反射色と背面の可視光
吸収層の色による２色表示を行えるものとも云える）。
なお、図３において、図１の素子と基本的に同じ構成、
作用を有する箇所には同じ符号を付してある。

【００８９】図３に示す液晶表示素子は、少なくとも一
方が（ここでは両基板が）樹脂基板である一対の基板１
１、１２間に室温で可視光中の特定波長の光を選択反射
可能のカイラルネマチック液晶組成物２１ｙと基板１
１、１２間のスペースを保持するスペース保持材１８、
２０とを挟持したものである。

【００９０】一対の基板１１、１２のうち少なくとも一
方の（ここでは両方の）樹脂基板に配向安定化膜１７が
形成されている。配向安定化膜１７は有機溶剤を用いて
ポリイミドを溶解した塗布液を塗布して形成された膜で
ある。この配向安定化膜１７中の残留溶剤量は１５０ｐ
ｐｍ以下である。

【００９１】また、光を入射させる側とは反対側の基板
の外面（裏面）には、必要に応じて、可視光吸収層１６
が設けられる。 （第４実施形態の構成）図４に本発明の第４実施形態で
ある液晶表示素子の断面構造を示す。なお、図４（Ａ）
は高電圧パルス印加時のプレーナ状態を示すものであ
り、図４（Ｂ）は低電圧パルス印加時のフォーカルコニ
ック状態を示すものである。

【００９２】この液晶表示素子は、液晶表示素子表示領
域内に柱状構造物が設けられていないことを除いて、図
３に示した前記第３実施形態の液晶表示素子と実質的に
は同様の構造のものでありモノカラー又はモノクロの表
示素子として用いることができるものである。なお、図
４において、図３の素子と基本的に同じ構成、作用を有
する箇所には同じ符号を付してある。

【００９３】以上説明した第１から第４の実施形態の液
晶表示素子によると、このように配向安定化膜１７材料
にポリイミドを使用することで、樹脂基板１１、１２で
も成膜可能である。また液晶組成物２１ｒ、２１ｇ、２
１ｂ、２１ｙと配向安定化膜１７の相互作用が強くなっ
て液晶分子が均一に配向され、フォーカルコニック状態
での散乱が少なくなり、良好な色純度、光反射率等の特
性が得られ、素子としてのコントラストが向上する。

【００９４】さらに、配向安定化膜１７中の残留溶剤量
を１５０ｐｐｍ以下とすることで、表示ムラや焼き付き
等の発生を抑制できる。

【００９５】次に具体的な実験例及び比較実験例を説明
するが、本発明はそれらの実験例に限定されるものでは
ない。

【００９６】以下の各実験例、比較実験例において、カ
イラルネマチック液晶組成物の屈折率異方性は２５℃
で、アッベ屈折計により測定した。

【００９７】カイラルネマチック液晶素子の比抵抗は、
比抵抗測定器（ＶＨＲ−ＳＩ３Ｂ：東陽テクニカ社製）
を用いて測定した。

【００９８】また、配向安定化膜中の残留溶剤量は、配
向安定化膜中の残留溶剤をアセトンで抽出し、ガスクロ
マトグラフィで定量分析して求めた。

【００９９】反射率の測定は白色光源を有する反射型分
光測色計ＣＭ−３７００ｄ（ミノルタ社製）を用いて視
感反射率（Ｙ値）を測定することで行った。Ｙ値が小さ
いほど透明である。また、コントラストは（高反射率状
態でのＹ値／低反射率状態でのＹ値）で与えられる。以
下に説明する各実験例、比較実験例における液晶表示素
子においては、液晶表示素子をプレーナ状態としたとき
に高反射率状態（着色状態）となり、フォーカルコニッ
ク状態としたときに低反射率状態（透明状態）となる。

【０１００】また、実験例４から実験例７で行ったラビ
ング処理は、レーヨンのラビング布を巻いたラビングロ
ーラを備え、該ラビングローラを所定の回転数で回転さ
せながら配向安定化膜に対し所定の相対移動速度で所定
の方向に移動させるとともに該配向安定化膜に該ラビン
グローラのラビング布のパイルを所定量押し込むことで
該配向安定化膜をラビング処理する配向処理装置を用い
て行った。

【０１０１】なお、以下説明においてΔｎは液晶組成物
の屈折率異方性を、Δεは液晶組成物の誘電率異方性を
意味する。 （実施例１）所定組成のネマチック液晶混合物Ａに、ネ
マチック液晶混合物とカイラル材料の合計重量に対し
て、カイラル材料Ｓ−８１１（メルク社製）を２６重量
％添加した液晶組成物ａ１を調製した。液晶組成物ａ１
のΔｎは０．１６、Δεは２６．９であった。液晶組成
物ａ１は５６０ｎｍ付近の波長の光を選択反射するよう
に調製されている。

【０１０２】まず、一方のポリカーボネート（ＰＣ）フ
ィルム基板上に設けられたＩＴＯ電極上にイミド化率９
５％の可溶性ポリイミドをブチルセロソルブ、γ−ブチ
ルラクトンを２：８の割合で混合した溶剤に溶解し、固
形分濃度４重量％とした塗布液をフレキソ印刷で塗布し
て塗膜を形成した。その後、該塗膜を８０℃で２分かけ
て乾燥させ、次に１４０℃のオーブン中で１時間焼成
し、厚み５００Åのポリイミド系配向安定化膜用の膜Ｉ
ａを得た。

【０１０３】また、もう一方のＰＣフィルム基板上のＩ
ＴＯ電極上にも同様にして配向安定化膜用の膜Ｉａを得
た。

【０１０４】その後、前記の各配向安定化膜用膜付きの
基板について、それぞれ超純水を用いて超音波洗浄を５
分間行い、エアーブローした後、オーブンで１００℃、
１０分間乾燥させ、配向安定化膜を得た。各配向安定化
膜中の残留溶剤量はいずれも８０ｐｐｍであった。

【０１０５】次に、一方の基板上の周縁部にシール材Ｘ
Ｎ２１（三井化学社製）をスクリーン印刷して液晶注入
口を残して所定の高さの壁を形成した。

【０１０６】続いて、もう一方の基板に６μｍ径のスペ
ーサ（積水ファインケミカル社製）散布した。

【０１０７】その後、前記の両基板を貼り合わせ、１０
０℃で１時間加熱し、シール材を硬化させた。その後、
真空注入法により液晶注入口から液晶組成物ａ１を注入
した後、封止材で該注入口を封止し、液晶セル（液晶素
子）Ａ１を作製した。

【０１０８】さらに光を入射させる側とは反対側の基板
面に黒色の光吸収体を設けた。

【０１０９】液晶セルの比抵抗は３．５×１０¹¹Ω・ｃ
ｍであった。

【０１１０】このような液晶素子にあっては、電極間に
４５Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
２５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
２５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を印加すると、透明状
態（フォーカルコニック状態）となり、Ｙ値は１．４を
示した。また、電極間に４５Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、４５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、４５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧を印加すると、着色状態（プレーナ状態）となり、Ｙ
値は２７．５を示した。コントラストは１９．６であ
り、着色・黒色表示特性共に良好で、特に黒色表示特性
が良好なためコントラストの高い素子となった。プレー
ナ状態での反射率は３２．３％であった。また、表示ム
ラのない優れた表示特性を示した。なお、電極間に４５
Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を２ｍｓｅｃ空けて、１０
０００回印加しても表示ムラの発生や焼き付き現象は起
こらなかった。 （実施例２）所定組成のネマチック液晶混合物Ｂに、ネ
マチック液晶混合物とカイラル材料の合計重量に対し
て、カイラル材料Ｓ−８１１（メルク社製）を７．５重
量％とカイラル材料ＭＬＣ−６２４７（メルク社製）を
３２．５重量％添加した液晶組成物ｂ１を調製した。液
晶組成物ｂ１のΔｎは０．１７、Δεは２９．３であっ
た。液晶組成物ｂ１は５６０ｎｍ付近の波長の光を選択
反射するように調製されている。

【０１１１】まず、一方のＰＣフィルム基板上に設けら
れたＩＴＯ電極上にイミド化率９７％の可溶性ポリイミ
ドをブチルセロソルブ、γ−ブチルラクトン、Ｎ−メチ
ルピロリドンを２：７：１の割合で混合した溶剤に溶解
し、固形分濃度５重量％とした塗布液をフレキソ印刷で
塗布して塗膜を形成した。その後、該塗膜を８０℃で１
分かけて乾燥させ、次に１３５℃のオーブン中で２時間
焼成し、厚み８００Åの可溶性ポリイミド配向安定化膜
用の膜Ｉｂを得た。

【０１１２】また、もう一方のＰＣフィルム基板上のＩ
ＴＯ電極上にも同様にして配向安定化膜用の膜Ｉｂを得
た。

【０１１３】その後、前記の各配向安定化膜用膜付きの
基板について、それぞれ超純水とエタノールの混合溶剤
を用いて超音波洗浄を５分間行い、エアーブローした
後、オーブンで１００℃、１０分間乾燥させ、配向安定
化膜を得た。各配向安定化膜中の残留溶剤量はいずれも
１００ｐｐｍであった。

【０１１４】次に、一方の基板上に６μｍ径の固着スペ
ーサ（積水ファインケミカル社製）を散布した後、乾燥
させてスペーサを固着させた。続いて、該基板上の周縁
部にシール材ＸＮ２１（三井化学社製）をスクリーン印
刷して該シール材を硬化させ、所定の高さの壁を形成し
た。

【０１１５】その後、該一方の基板上にシール材の高さ
とシール材に囲まれた部分の面積から計算された量の液
晶組成物ｂ１を塗布した後、もう一方の基板を重ね合わ
せ、熱ローラにより貼り合わせて、８０℃で２時間加熱
し、液晶セル（液晶素子）Ｂ１を作製した。

【０１１６】さらに光を入射させる側とは反対側の基板
面に黒色の光吸収体を設けた。

【０１１７】液晶セルの比抵抗は４．２×１０¹¹Ω・ｃ
ｍであった。

【０１１８】このような液晶素子にあっては、電極間に
４０Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
１８Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
１８Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を印加すると、透明状
態（フォーカルコニック状態）となり、Ｙ値は１．５を
示した。また、電極間に４０Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、４０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、４０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧を印加すると、着色状態（プレーナ状態）となり、Ｙ
値は２７．８を示した。コントラストは１８．５であ
り、着色・黒色表示特性共に良好で、特に黒色表示特性
が良好なためコントラストの高い素子となった。プレー
ナ状態での反射率は３１．６％であった。また、表示ム
ラのない優れた表示特性を示した。なお、電極間に４０
Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を２ｍｓｅｃ空けて、１０
０００回印加しても表示ムラの発生や焼き付き現象は起
こらなかった。 （実験例３）所定組成のネマチック液晶混合物Ｃに、ネ
マチック液晶混合物とカイラル材料の合計重量に対し
て、カイラル材料Ｓ−８１１（メルク社製）を８重量％
とカイラル材料ＭＬＣ−６２４７（メルク社製）を３
０．３重量％添加し、さらに黄色色素（ kayaset Yello
w ＧＮ：日本化薬社製）を０．６重量％添加した液晶組
成物ｃ１を調製した。液晶組成物ｃ１のΔｎは０．２
０、Δεは３３．５であった。液晶組成物ｃ１は５６０
ｎｍ付近の波長の光を選択反射するように調製されてい
る。

【０１１９】まず、一方のポリエーテルスルホン（ＰＥ
Ｓ）フィルム基板上に設けられたＩＴＯ電極上に酸化ケ
イ素微粒子を含有する有機ケイ素化合物を含む絶縁膜材
料の塗布液をフレキソ印刷で塗布した。その後、８０℃
のオーブン中で溶剤を乾燥させ、高圧水銀灯でＵＶ（紫
外線）照射（３Ｊ）し、さらに１４０℃のオーブンで１
時間焼成して厚み１５００Åの絶縁膜Ｈａを得た。

【０１２０】次に、イミド化率９８％の可溶性ポリイミ
ドをＮ−メチルピロリドン、γ−ブチルラクトン、乳酸
ブチルを２：７：１の割合で混合した溶剤に溶解し、固
形分濃度３重量％とした塗布液をフレキソ印刷で塗布し
て塗膜を形成した。その後、該塗膜を１１０℃で３０秒
かけて乾燥させ、次に１６０℃のオーブン中で２０分焼
成し、厚み２００Åの可溶性ポリイミド配向安定化膜用
の膜Ｉｃを得た。

【０１２１】また、もう一方のＰＥＳフィルム基板上の
ＩＴＯ電極上にも同様にして絶縁膜Ｈａと配向安定化膜
用の膜Ｉｃを得た。

【０１２２】その後、前記の各配向安定化膜用膜付きの
基板について、それぞれイソプロピルアルコールを用い
て超音波洗浄を５分間行い、エアーブローした後、オー
ブンで１００℃、１０分間乾燥させ、配向安定化膜を得
た。各配向安定化膜中の残留溶剤量はいずれも６０ｐｐ
ｍであった。

【０１２３】次に、一方の基板上に６μｍ径の固着スペ
ーサ（積水ファインケミカル社製）を散布した後、乾燥
させてスペーサを固着させた。続いて、該基板上の周縁
部にシール材ＸＮ２１（三井化学社製）をスクリーン印
刷して該シール材を硬化させ、所定の高さの壁を形成し
た。

【０１２４】その後、もう一方の基板上に、スクリーン
印刷により、柱状構造物となる樹脂材料（エポキシ樹
脂）を、高さが７μｍのドット状に複数マトリクス配置
し、乾燥させた。

【０１２５】その後、前記のシール壁を形成した一方の
基板上にシール材の高さとシール材に囲まれた部分の面
積から計算された量の液晶組成物ｃ１を塗布した後、も
う一方の基板を重ね合わせ、熱ローラにより貼り合わせ
て、８０℃で２時間加熱し、液晶セル（液晶素子）Ｃ１
を作製した。

【０１２６】さらに光を入射させる側とは反対側の基板
面に黒色の光吸収体を設けた。

【０１２７】液晶セルの比抵抗は２．９×１０¹¹Ω・ｃ
ｍであった。

【０１２８】このような液晶素子にあっては、電極間に
３８Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
１７Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
１７Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を印加すると、透明状
態（フォーカルコニック状態）となり、Ｙ値は１．５を
示した。また、電極間に３８Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、３８Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、３８Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧を印加すると、着色状態（プレーナ状態）となり、Ｙ
値は２９．７を示した。コントラストは１９．８であ
り、着色・黒色表示特性共に良好で、特に黒色表示特性
が良好なためコントラストの高い素子となった。プレー
ナ状態での反射率は３２．０％であった。また、表示ム
ラのない優れた表示特性を示した。なお、電極間に３８
Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を２ｍｓｅｃ空けて、１０
０００回印加しても表示ムラの発生や焼き付き現象は起
こらなかった。 （実験例４）所定組成のネマチック液晶混合物Ｄに、ネ
マチック液晶混合物とカイラル材料の合計重量に対し
て、カイラル材料ＭＬＣ−１０１１（メルク社製）を
８．５重量％添加した液晶組成物ｄ１を調製した。液晶
組成物ｄ１のΔｎは０．２２、Δεは２４．７であっ
た。液晶組成物ｄ１は５６０ｎｍ付近の波長の光を選択
反射するように調製されている。

【０１２９】まず、一方のＰＥＳフィルム基板上に設け
られたＩＴＯ電極上にイミド化率９９％の可溶性ポリイ
ミドをブチルセロソルブ、γ−ブチルラクトン、乳酸ブ
チルを２：７：１の割合で混合した溶剤に溶解し、固形
分濃度６重量％とした塗布液をフレキソ印刷で塗布して
塗膜を形成した。その後、該塗膜を７０℃で２分かけて
乾燥させ、次に１４５℃のオーブン中で７０分焼成し、
厚み１０００Åの可溶性ポリイミド配向安定化膜用の膜
Ｉｄを得た。

【０１３０】また、もう一方のＰＥＳフィルム基板上の
ＩＴＯ電極上にも同様にして配向安定化膜用の膜Ｉｄを
得た。

【０１３１】その後、一方の配向安定化膜用膜付きの基
板について、超純水を用いて超音波洗浄を５分間行った
後、イソプロピルアルコールを用いて３分間超音波洗浄
を行い、エアーブローした後、オーブンで１００℃、１
０分間乾燥させ、配向安定化膜を得た。この配向安定化
膜中の残留溶剤量は７０ｐｐｍであった。

【０１３２】次に、一方の基板上の周縁部にシール材Ｘ
Ｎ２１（三井化学社製）をスクリーン印刷して該シール
材を硬化させ、所定の高さの壁を形成した。

【０１３３】続いて、もう一方の基板の配向安定化膜用
の膜を弱くラビングした。ラビング処理の条件として
は、レーヨンのラビング布を巻いたラビングローラの回
転数を５０ｒｐｍ、配向安定化膜に対するラビングロー
ラの相対移動速度を１４０ｃｍ／分、ラビング布のパイ
ルの押し込み量を０．３ｍｍとした。

【０１３４】その後、もう一方の配向安定化膜用膜付き
の基板について、超純水を用いて超音波洗浄を５分間行
った後、イソプロピルアルコールを用いて３分間超音波
洗浄を行い、エアーブローした後、オーブンで１００
℃、１０分間乾燥させ、配向安定化膜を得た。この配向
安定化膜中の残留溶剤量は６０ｐｐｍであった。

【０１３５】続いて、ラビング処理を施したもう一方の
基板上に６μｍ径の固着スペーサ（積水ファインケミカ
ル社製）を散布した後、乾燥させた。

【０１３６】その後、前記のシール材を印刷した一方の
基板上にシール材の高さとシール材に囲まれた部分の面
積から計算された量の液晶組成物ｄ１を塗布した後、も
う一方の基板を重ね合わせ、熱ローラにより貼り合わせ
て、８０℃で２時間加熱し、液晶セル（液晶素子）Ｄ１
を作製した。

【０１３７】さらにラビング処理を施した配向安定化膜
のある基板の裏面に黒色の光吸収体を設けた。

【０１３８】液晶セルの比抵抗は２．５×１０¹¹Ω・ｃ
ｍであった。

【０１３９】このような液晶素子にあっては、電極間に
４５Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
２５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
２５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を印加すると、透明状
態（フォーカルコニック状態）となり、Ｙ値は１．６を
示した。また、電極間に４５Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、４５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、４５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧を印加すると、着色状態（プレーナ状態）となり、Ｙ
値は３２．２を示した。コントラストは２０．１であ
り、着色・黒色表示特性共に良好で、特に着色表示特性
が良好なためコントラストの高い素子となった。プレー
ナ状態での反射率は３７．３％であった。また、表示ム
ラのない優れた表示特性を示した。なお、電極間に４５
Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を２ｍｓｅｃ空けて、１０
０００回印加しても表示ムラの発生や焼き付き現象は起
こらなかった。 （実験例５）所定組成のネマチック液晶混合物Ｅに、ネ
マチック液晶混合物とカイラル材料の合計重量に対し
て、カイラル材料Ｓ−８１１（メルク社製）を２３重量
％添加した液晶組成物ｅ１を調製した。液晶組成物ｅ１
のΔｎは０．１９、Δεは２０．５であった。液晶組成
物ｅ１は５６０ｎｍ付近の波長の光を選択反射するよう
に調製されている。

【０１４０】まず、一方のＰＥＳフィルム基板上に設け
られたＩＴＯ電極上に酸化チタン微粒子を含有する有機
ケイ素化合物を含む絶縁膜材料の塗布液をフレキソ印刷
で塗布した。その後、８０℃のオーブン中で溶剤を乾燥
させ、高圧水銀灯でＵＶ照射（３Ｊ／ｃｍ² ）し、さら
に１４０℃のオーブンで１時間焼成して厚み２００ｎｍ
の絶縁膜Ｈｂを得た。

【０１４１】次に、イミド化率９６％の可溶性ポリイミ
ドをブチルセロソルブ、γ−ブチルラクトン、Ｎ−メチ
ルピロリドンを２：６：２の割合で混合した溶剤に溶解
し、固形分濃度７重量％とした塗布液をフレキソ印刷で
塗布して塗膜を形成した。その後、該塗膜を９０℃で１
分かけて乾燥させ、次に１５０℃のオーブン中で６０分
焼成し、厚み１７００Åの可溶性ポリイミド配向安定化
膜用の膜Ｉｅを得た。

【０１４２】また、もう一方のＰＥＳフィルム基板上の
ＩＴＯ電極上にも同様にして絶縁膜Ｈｂと配向安定化膜
用の膜Ｉｅを得た。

【０１４３】その後、一方の配向安定化膜用膜付きの基
板について、超純水を用いて超音波洗浄を３分間行い、
エアーブローした後、オーブンで１００℃、１０分間乾
燥させ、配向安定化膜を得た。この配向安定化膜中の残
留溶剤量は９０ｐｐｍであった。

【０１４４】次に、一方の基板上の周縁部にシール材Ｘ
Ｎ２１（三井化学社製）をスクリーン印刷して該シール
材を硬化させ、所定の高さの壁を形成した。

【０１４５】続いて、もう一方の基板の配向安定化膜用
の膜を弱くラビングした。ラビング処理の条件として
は、レーヨンのラビング布を巻いたラビングローラの回
転数を７０ｒｐｍ、配向安定化膜に対するラビングロー
ラの相対移動速度を１８０ｃｍ／分、ラビング布のパイ
ルの押し込み量を０．２ｍｍとした。

【０１４６】その後、もう一方の配向安定化膜用膜付き
の基板について、超純水を用いて超音波洗浄を３分間行
い、エアーブローした後、オーブンで１００℃、１０分
間乾燥させ、配向安定化膜を得た。この配向安定化膜中
の残留溶剤量は１００ｐｐｍであった。

【０１４７】続いて、ラビング処理を施したもう一方の
基板上に６μｍ径の固着スペーサ（積水ファインケミカ
ル社製）を散布した。

【０１４８】その後、前記のシール材を印刷した一方の
基板上にシール材の高さとシール材に囲まれた部分の面
積から計算された量の液晶組成物ｅ１を塗布した後、も
う一方の基板を重ね合わせ、熱ローラにより貼り合わせ
て、８０℃で２時間加熱し、液晶セル（液晶素子）Ｅ１
を作製した。

【０１４９】さらにラビング処理を施した配向安定化膜
のある基板の裏面に黒色の光吸収体を設けた。

【０１５０】液晶セルの比抵抗は９．５×１０¹⁰Ω・ｃ
ｍであった。

【０１５１】このような液晶素子にあっては、電極間に
５０Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
２５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
２５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を印加すると、透明状
態（フォーカルコニック状態）となり、Ｙ値は１．６を
示した。また、電極間に５０Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、５０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、５０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧を印加すると、着色状態（プレーナ状態）となり、Ｙ
値は３２．５を示した。コントラストは２０．３であ
り、着色・黒色表示特性共に良好で、特に着色表示特性
が良好なためコントラストの高い素子となった。プレー
ナ状態での反射率は３６．９％であった。また、表示ム
ラのない優れた表示特性を示した。なお、電極間に５０
Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を２ｍｓｅｃ空けて、１０
０００回印加しても表示ムラの発生や焼き付き現象は起
こらなかった。 （実験例６）所定組成のネマチック液晶混合物Ｆに、ネ
マチック液晶混合物とカイラル材料の合計重量に対し
て、カイラル材料ＣＢ１５（メルク社製）を１２重量％
とカイラル材ＭＬＣ１０１１（メルク社製）を５重量％
添加した液晶組成物ｆ１を調製した。液晶組成物ｆ１の
Δｎは０．１６、Δεは１５．５であった。液晶組成物
ｆ１は５６０ｎｍ付近の波長の光を選択反射するように
調製されている。

【０１５２】まず、一方のＰＥＳフィルム基板上に設け
られたＩＴＯ電極上に酸化チタン微粒子を含有する有機
ケイ素化合物を含む絶縁膜材料の塗布液をフレキソ印刷
で塗布した。その後、８０℃のオーブン中で溶剤を乾燥
させ、高圧水銀灯でＵＶ照射（３Ｊ／ｃｍ² ）し、さら
に１４０℃のオーブンで１時間焼成して厚み２００ｎｍ
の絶縁膜Ｈｂを得た。

【０１５３】次に、イミド化率９５％の可溶性ポリイミ
ドをブチルセロソルブ、γ−ブチルラクトン、Ｎ−メチ
ルピロリドンを１：８：１の割合で混合した溶剤に溶解
し、固形分濃度５重量％とした塗布液をフレキソ印刷で
塗布して塗膜を形成した。その後、該塗膜を１００℃で
３０秒かけて乾燥させ、次に１５５℃のオーブン中で３
０分焼成し、厚み７００Åの可溶性ポリイミド配向安定
化膜用の膜Ｉｆを得た。

【０１５４】また、もう一方のＰＥＳフィルム基板上の
ＩＴＯ電極上にも同様にして絶縁膜Ｈｂと配向安定化膜
用の膜Ｉｆを得た。

【０１５５】その後、一方の配向安定化膜用膜付きの基
板について、超純水とエタノールの混合溶剤を用いて超
音波洗浄を７分間行い、エアーブローした後、オーブン
で１００℃、１０分間乾燥させ、配向安定化膜を得た。
この配向安定化膜中の残留溶剤量は８５ｐｐｍであっ
た。

【０１５６】次に、一方の基板上にウレタン樹脂をスク
リーン印刷して、７μｍの高さの樹脂柱を形成して乾燥
させた。

【０１５７】続いて、もう一方の基板の配向安定化膜用
の膜を弱くラビングした。ラビング処理の条件として
は、レーヨンのラビング布を巻いたラビングローラの回
転数を６０ｒｐｍ、配向安定化膜に対するラビングロー
ラの相対移動速度を３０ｃｍ／分、ラビング布のパイル
の押し込み量を０．４ｍｍとした。

【０１５８】その後、もう一方の配向安定化膜用膜付き
の基板について、超純水とエタノールの混合溶剤を用い
て超音波洗浄を７分間行い、エアーブローした後、オー
ブンで１００℃、１０分間乾燥させ、配向安定化膜を得
た。この配向安定化膜中の残留溶剤量は８５ｐｐｍであ
った。

【０１５９】続いて、ラビング処理を施したもう一方の
基板上に６μｍ径の固着スペーサ（積水ファインケミカ
ル社製）を散布して固着させた。次に、その基板上の周
縁部にシール材ＸＮ２１（三井化学社製）をスクリーン
印刷して該シール材を硬化させ、所定の高さの壁を形成
した。

【０１６０】その後、シール材を印刷したもう一方の基
板上にシール材の高さとシール材に囲まれた部分の面積
から計算された量の液晶組成物ｆ１を塗布した後、一方
の基板を重ね合わせ、熱ローラにより貼り合わせて、８
０℃で２時間加熱し、液晶セル（液晶素子）Ｆ１を作製
した。

【０１６１】さらにラビング処理を施した配向安定化膜
のある基板の裏面に黒色の光吸収体を設けた。

【０１６２】液晶セルの比抵抗は１．５×１０¹²Ω・ｃ
ｍであった。

【０１６３】このような液晶素子にあっては、電極間に
５５Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
３０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
３０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を印加すると、透明状
態（フォーカルコニック状態）となり、Ｙ値は１．６を
示した。また、電極間に５５Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、５５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、５５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧を印加すると、着色状態（プレーナ状態）となり、Ｙ
値は３１．８を示した。コントラストは１９．９であ
り、着色・黒色表示特性共に良好で、特に着色表示特性
が良好なためコントラストの高い素子となった。プレー
ナ状態での反射率は３６．７％であった。また、表示ム
ラのない優れた表示特性を示した。なお、電極間に５５
Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を２ｍｓｅｃ空けて、１０
０００回印加しても表示ムラの発生や焼き付き現象は起
こらなかった。 （実験例７）所定組成のネマチック液晶混合物Ｇに、ネ
マチック液晶混合物とカイラル材料の合計重量に対し
て、カイラル材料Ｓ−８１１（メルク社製）を２８重量
％添加した液晶組成物ｇ１を調製した。液晶組成物ｇ１
のΔｎは０．１８、Δεは１２．１であった。液晶組成
物ｇ１は５６０ｎｍ付近の波長の光を選択反射するよう
に調製されている。

【０１６４】まず、一方のＰＥＳフィルム基板上に設け
られたＩＴＯ電極上に酸化ケイ素微粒子と酸化チタン微
粒子を含有する有機ケイ素化合物を含む絶縁膜材料の塗
布液をフレキソ印刷で塗布した。その後、８０℃のオー
ブン中で溶剤を乾燥させ、高圧水銀灯でＵＶ照射（３Ｊ
／ｃｍ² ）し、さらに１４０℃のオーブンで１時間焼成
して厚み２００ｎｍの絶縁膜Ｈｃを得た。

【０１６５】次に、イミド化率９７％の可溶性ポリイミ
ドをブチルセロソルブ、γ−ブチルラクトン、Ｎ−メチ
ルピロリドンを１：７：２の割合で混合した溶剤に溶解
し、固形分濃度４．５重量％とした塗布液をフレキソ印
刷で塗布して塗膜を形成した。その後、該塗膜を７０℃
で５分かけて乾燥させ、次に１４０℃のオーブン中で２
０分焼成し、厚み４００Åの可溶性ポリイミド配向安定
化膜用の膜Ｉｇを得た。

【０１６６】その後、一方の配向安定化膜用膜付きの基
板について、超純水とエタノールの混合溶剤を用いて超
音波洗浄を７分間行い、エアーブローした後、オーブン
で１００℃、１０分間乾燥させ、配向安定化膜を得た。
この配向安定化膜中の残留溶剤量は１４０ｐｐｍであっ
た。

【０１６７】次に、一方の基板上の周縁部にシール材Ｘ
Ｎ２１（三井化学社製）をスクリーン印刷して液晶注入
口を残して所定の高さの壁を形成した。

【０１６８】また、もう一方のＰＥＳフィルム基板につ
いては配向安定化膜用の膜Ｉｇのみを前記と同様にして
得た。

【０１６９】続いて、もう一方の基板の配向安定化膜用
の膜を弱くラビングした。ラビング処理の条件として
は、レーヨンのラビング布を巻いたラビングローラの回
転数を２５０ｒｐｍ、配向安定化膜に対するラビングロ
ーラの相対移動速度を１７０ｃｍ／分、ラビング布のパ
イルの押し込み量を０．１ｍｍとした。

【０１７０】その後、もう一方の配向安定化膜用膜付き
の基板について、超純水とエタノールの混合溶剤を用い
て超音波洗浄を７分間行い、エアーブローした後、オー
ブンで１００℃、１０分間乾燥させ、配向安定化膜を得
た。この配向安定化膜中の残留溶剤量は１４０ｐｐｍで
あった。

【０１７１】続いて、もう一方の基板上に６μｍ径の固
着スペーサ（積水ファインケミカル社製）を散布し、乾
燥させてスペーサを固着させた。

【０１７２】その後、前記の両基板を貼り合わせ、１０
０℃で１時間加熱し、シール材を硬化させた。その後、
真空注入法により液晶注入口から液晶組成物ｇ１を注入
した後、封止材で該注入口を封止し、液晶セル（液晶素
子）Ｇ１を作製した。

【０１７３】さらに光を入射させる側とは反対側の基板
面に黒色の光吸収体を設けた。

【０１７４】液晶セルの比抵抗は５．４×１０¹⁰Ω・ｃ
ｍであった。

【０１７５】このような液晶素子にあっては、電極間に
６０Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
３０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
３０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を印加すると、透明状
態（フォーカルコニック状態）となり、Ｙ値は１．５を
示した。また、電極間に６０Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、６０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、６０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧を印加すると、着色状態（プレーナ状態）となり、Ｙ
値は３０．９を示した。コントラストは２０．６であ
り、着色・黒色表示特性共に良好で、特に黒色表示特性
が良好なためコントラストの高い素子となった。プレー
ナ状態での反射率は３５．８％であった。また、表示ム
ラのない優れた表示特性を示した。なお、電極間に６０
Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を２ｍｓｅｃ空けて、１０
０００回印加しても表示ムラの発生や焼き付き現象は起
こらなかった。 （実験例８）所定組成のネマチック液晶混合物Ｈに、ネ
マチック液晶混合物とカイラル材料の合計重量に対し
て、カイラル材料Ｓ−８１１（メルク社製）を３．３重
量％とカイラル材料ＭＬＣ−６２４７（メルク社製）を
２９重量％添加し、液晶組成物ｈ１を調製した。次に、
ネマチック液晶混合物Ｈに対して、カイラル材料Ｓ−８
１１（メルク社製）を２．９重量％とカイラル材料ＭＬ
Ｃ−６２４７（メルク社製）を３２．５重量％添加し、
液晶組成物ｈ２を調製した。また、ネマチック液晶混合
物Ｈに対して、カイラル材料Ｓ−８１１（メルク社製）
を３．０重量％とカイラル材料ＭＬＣ−６２４７（メル
ク社製）を３５．０重量％添加し、液晶組成物ｈ３を調
製した。

【０１７６】液晶組成物ｈ１のΔｎは０．１８、Δεは
３２．５であった。液晶組成物ｈ１は６８０ｎｍ付近の
波長の光を選択反射するように調製されている。液晶組
成物ｈ２のΔｎは０．１７、Δεは３１．６であった。
液晶組成物ｈ２は５６０ｎｍ付近の波長の光を選択反射
するように調製されている。液晶組成物ｈ３のΔｎは
０．１６、Δεは３０．０であった。液晶組成物ｈ３は
４８０ｎｍ付近の波長の光を選択反射するように調製さ
れている。

【０１７７】まず、一方のＰＣフィルム基板上に設けら
れたＩＴＯ電極上にイミド化率９６％の可溶性ポリイミ
ドをブチルセロソルブ、γ−ブチルラクトン、ジメチル
アセトアミドを１：８：１の割合で混合した溶剤に溶解
し、固形分濃度４重量％とした塗布液をフレキソ印刷で
塗布して塗膜を形成した。その後、該塗膜を８０℃で１
分かけて乾燥させ、次に１５０℃のオーブン中で１時間
焼成し、厚み６００Åのポリイミド系配向安定化膜用の
膜Ｉｈを得た。

【０１７８】また、もう一方のＰＣフィルム基板上のＩ
ＴＯ電極上にも同様にして配向安定化膜用の膜Ｉｈを得
た。

【０１７９】その後、前記の各配向安定化膜用膜付きの
基板について、それぞれ超純水を用いて超音波洗浄を５
分間行い、エアーブローした後、オーブンで１００℃、
１０分間乾燥させ、配向安定化膜を得た。各配向安定化
膜中の残留溶剤量はいずれも９０ｐｐｍであった。

【０１８０】次に、一方の基板上の周縁部にシール材Ｘ
Ｎ２１（三井化学社製）をスクリーン印刷して液晶注入
口を残して所定の高さの壁を形成した。

【０１８１】続いて、もう一方の基板に９μｍ径のスペ
ーサ（積水ファインケミカル社製）散布した。

【０１８２】その後、前記の両基板を貼り合わせ、１０
０℃で１時間加熱し、シール材を硬化させた。その後、
真空注入法により液晶注入口から液晶組成物ｈ１を注入
した後、封止材で該注入口を封止し、液晶セル（液晶素
子）Ｈ１を作製した。

【０１８３】また、二つのＩＴＯ電極付きＰＣフィルム
基板を用いて、それぞれ同様にして配向安定化膜用の膜
Ｉｈを設け、洗浄して配向安定化膜を得た。

【０１８４】一方の基板上の周縁部にシール材ＸＮ２１
（三井化学社製）をスクリーン印刷して液晶注入口を残
して所定の高さの壁を形成した。

【０１８５】続いて、もう一方の基板に６μｍ径の固着
スペーサ（積水ファインケミカル社製）散布し、スペー
サを固着させた。

【０１８６】その後、前記の両基板を貼り合わせ、１０
０℃で１時間加熱し、シール材を硬化させた。その後、
真空注入法により液晶注入口から液晶組成物ｈ２を注入
した後、封止材で該注入口を封止し、液晶セル（液晶素
子）Ｈ２を作製した。

【０１８７】さらに、二つのＩＴＯ電極付きＰＣフィル
ム基板を用いて、それぞれ同様にして配向安定化膜用の
膜Ｉｈを設け、洗浄して配向安定化膜を得た。

【０１８８】一方の基板上の周縁部にシール材ＸＮ２１
（三井化学社製）をスクリーン印刷して液晶注入口を残
して所定の高さの壁を形成した。

【０１８９】続いて、もう一方の基板に６μｍ径の固着
スペーサ（積水ファインケミカル社製）散布し、スペー
サを固着させた。

【０１９０】その後、前記の両基板を貼り合わせ、１０
０℃で１時間加熱し、シール材を硬化させた。その後、
真空注入法により液晶注入口から液晶組成物ｈ３を注入
した後、封止材で該注入口を封止し、液晶セル（液晶素
子）Ｈ３を作製した。

【０１９１】これら３種類の液晶セルＨ１、Ｈ２、Ｈ３
をこの順に積層し、得られた積層体の裏面（光を入射さ
せる側とは反対側の基板面：液晶セルＨ１の外面（裏
面））には黒色の光吸収体を設けた。

【０１９２】液晶セルの比抵抗はＨ１が６．８×１０¹¹
Ω・ｃｍ、Ｈ２が４．１×１０¹¹Ω・ｃｍ、Ｈ３が３．
６×１０¹¹Ω・ｃｍであった。

【０１９３】このような液晶素子にあっては、液晶セル
Ｈ１は電極間に５０Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍ
ｓｅｃ空けて、２５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍ
ｓｅｃ空けて、２５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を印加
すると、透明状態（フォーカルコニック状態）となり、
電極間に５０Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ
空けて、５０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ
空けて、５０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を印加する
と、着色状態（プレーナ状態）となった。

【０１９４】また、液晶セルＨ２、Ｈ３は電極間に４０
Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、２０
Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、２０
Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を印加すると、それぞれ透
明状態（フォーカルコニック状態）となり、電極間に４
０Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、４
０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、４
０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を印加すると、それぞれ
着色状態（プレーナ状態）となった。

【０１９５】すべての液晶セルを透明状態（フォーカル
コニック状態）にした時のＹ値は１．８を示した。ま
た、すべての液晶セルを着色状態（プレーナ状態：白色
表示）にした時のＹ値は３１．５を示した。コントラス
トは１７．５であり、白色・黒色表示特性共に良好で、
特に白色表示特性が良好なためコントラストの高い素子
となった。プレーナ状態での反射率は３０．９％であっ
た。また、表示ムラのない優れた表示特性を示した。な
お、電極間に５０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を２ｍｓ
ｅｃ空けて、１００００回印加しても表示ムラの発生や
焼き付き現象は起こらなかった。 （比較例１）液晶組成物として、実験例１と同様の手順
で調製した液晶組成物ａ１を使用した。

【０１９６】まず、一方のＰＣフィルム基板上に設けら
れたＩＴＯ電極上にイミド化率９５％の可溶性ポリイミ
ドをブチルセロソルブ、γ−ブチルラクトンを２：８の
割合で混合した溶剤に溶解し、固形分濃度４重量％とし
た塗布液をフレキソ印刷で塗布して塗膜を形成した。そ
の後、該塗膜を８０℃で２分かけて乾燥させ、次に１４
０℃のオーブン中で１時間焼成し、厚み５００Åのポリ
イミド系配向安定化膜Ｉｉを得た。

【０１９７】また、もう一方のＰＣフィルム基板上のＩ
ＴＯ電極上にも同様にして配向安定化膜Ｉｉを得た。こ
のように本実験例においては洗浄を行うことなく配向安
定化膜を形成した。

【０１９８】各配向安定化膜中の残留溶剤量はいずれも
３９０ｐｐｍであった。

【０１９９】次に、一方の基板上の周縁部にシール材Ｘ
Ｎ２１（三井化学社製）をスクリーン印刷して液晶注入
口を残して所定の高さの壁を形成した。

【０２００】続いて、もう一方の基板に６μｍ径のスペ
ーサ（積水ファインケミカル社製）散布した。

【０２０１】その後、前記の両基板を貼り合わせ、１０
０℃で１時間加熱し、シール材を硬化させた。その後、
真空注入法により液晶注入口から液晶組成物ａ１を注入
した後、封止材で該注入口を封止し、液晶セル（液晶素
子）Ｉ１を作製した。

【０２０２】さらに光を入射させる側とは反対側の基板
面に黒色の光吸収体を設けた。

【０２０３】液晶セルの比抵抗は２．７×１０¹⁰Ω・ｃ
ｍであった。

【０２０４】このような液晶素子にあっては、電極間に
４５Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
２５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
２５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を印加すると、透明状
態（フォーカルコニック状態）となり、Ｙ値は１．６を
示した。また、電極間に４５Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、４５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、４５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧を印加すると、着色状態（プレーナ状態）となり、Ｙ
値は２６．６を示した。コントラストは１６．６であ
り、着色表示特性が少し低く、黒色表示特性が少し高い
結果となった。特に黒色表示特性が悪いためコントラス
トの低い素子となった。プレーナ状態での反射率は２
５．８％であった。

【０２０５】また、電極間に５０Ｖ、２ｍｓｅｃのパル
ス電圧を２ｍｓｅｃ空けて、１００００回印加すると部
分的に表示ムラと焼き付き現象が見られた。 （比較例２）液晶組成物として、実験例１と同様の手順
で調製した液晶組成物ａ１を使用した。

【０２０６】まず、一方のＰＣフィルム基板上に設けら
れた透明電極上にイミド化率９２％の可溶性ポリイミド
をブチルセロソルブ、γ−ブチルラクトンを２：８の割
合で混合した溶剤に溶解し、固形分濃度４重量％とした
塗布液をフレキソ印刷で塗布して塗膜を形成した。その
後、該塗膜を１３０℃のオーブン中で１時間焼成し、厚
み５００Åのポリイミド系配向安定化膜Ｉｊを得た。

【０２０７】その後、一方の配向安定化膜付きの基板に
ついて、超純水を用いて超音波洗浄を５分間行い、エア
ーブローした後、オーブンで１００℃、１０分間乾燥さ
せた。この配向安定化膜中の残留溶剤量は１８０ｐｐｍ
であった。

【０２０８】また、もう一方のＰＣフィルム基板上の透
明電極上にも同様にして配向安定化膜Ｉｊを得、同様に
して洗浄した。この配向安定化膜中の残留溶剤量も１８
０ｐｐｍであった。

【０２０９】次に、一方の基板上の周縁部にシール材Ｘ
Ｎ２１（三井化学社製）をスクリーン印刷して液晶注入
口を残して所定の高さの壁を形成した。

【０２１０】続いて、もう一方の基板に６μｍ径のスペ
ーサ（積水ファインケミカル社製）散布した。

【０２１１】その後、前記の両基板を貼り合わせ、１０
０℃で１時間加熱し、シール材を硬化させた。その後、
真空注入法により液晶注入口から液晶組成物ａ１を注入
した後、封止材で該注入口を封止し、液晶セル（液晶素
子）Ｊ１を作製した。

【０２１２】さらに光を入射させる側とは反対側の基板
面に黒色の光吸収体を設けた。

【０２１３】液晶セルの比抵抗は１．５×１０¹⁰Ω・ｃ
ｍであった。

【０２１４】このような液晶素子にあっては、電極間に
４５Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
２５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
２５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を印加すると、透明状
態（フォーカルコニック状態）となり、Ｙ値は１．６を
示した。また、電極間に４５Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、４５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、４５Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧を印加すると、着色状態（プレーナ状態）となり、Ｙ
値は２４．８を示した。コントラストは１５．５であ
り、着色表示特性が低く、黒色表示特性が高い結果とな
った。特に着色表示特性が悪いためコントラストの低い
素子となった。プレーナ状態での反射率は２５．６％で
あった。また、液晶素子には部分的に表示ムラが発生し
てしまった。

【０２１５】また、電極間に５０Ｖ、２ｍｓｅｃのパル
ス電圧を２ｍｓｅｃ空けて、１００００回印加すると一
部に焼き付き現象が見られた。（比較例３）液晶組成物
として、実験例１と同様の手順で調製した液晶組成物ａ
１を使用した。

【０２１６】まず、一方のＰＣフィルム基板上に設けら
れた透明電極上に可溶性ポリイミド前駆体（サンエバー
７７９２：日産化学社製）の固形分濃度４重量％の塗布
液をフレキソ印刷で塗布して塗膜を形成した。その後、
該塗膜を８０℃で２分かけて乾燥させ、次に１４０℃の
オーブン中で１時間焼成し、厚み５００Åのポリイミド
系配向安定化膜Ｉｋを得た。

【０２１７】また、もう一方のＰＣフィルム基板上の透
明電極上にも同様にして配向安定化膜Ｉｋを得た。この
ように本実験例においては洗浄を行うことなく配向安定
化膜を形成した。

【０２１８】各配向安定化膜中の残留溶剤量はいずれも
２６０ｐｐｍであった。

【０２１９】次に、一方の基板上の周縁部にシール材Ｘ
Ｎ２１（三井化学社製）をスクリーン印刷して液晶注入
口を残して所定の高さの壁を形成した。

【０２２０】続いて、もう一方の基板に６μｍ径のスペ
ーサ（積水ファインケミカル社製）散布した。

【０２２１】その後、前記の両基板を貼り合わせ、１０
０℃で１時間加熱し、シール材を硬化させた。その後、
真空注入法により液晶注入口から液晶組成物ａ１を注入
した後、封止材で該注入口を封止し、液晶セル（液晶素
子）Ｋ１を作製した。

【０２２２】さらに光を入射させる側とは反対側の基板
面に黒色の光吸収体を設けた。

【０２２３】液晶セルの比抵抗は８．５×１０⁹ Ω・ｃ
ｍであった。

【０２２４】このような液晶素子にあっては、電極間に
５０Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
３０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧、２ｍｓｅｃ空けて、
３０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電圧を印加すると、透明状
態（フォーカルコニック状態）となり、Ｙ値は１．７を
示した。また、電極間に５０Ｖ、５ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、５０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧、２ｍｓｅｃ空けて、５０Ｖ、２ｍｓｅｃのパルス電
圧を印加すると、着色状態（プレーナ状態）となり、Ｙ
値は２２．４を示した。コントラストは１３．２であ
り、着色表示特性が低く、黒色表示特性が高い結果とな
った。特に黒色表示特性が悪いためコントラストの低い
素子となった。プレーナ状態での反射率は２３．７％で
あった。また、全体的に表示ムラが発生してしまった。
これは、配向安定化膜が充分にイミド化されず液晶に溶
けたことに起因するものと考えられる。

【０２２５】また、電極間に５０Ｖ、２ｍｓｅｃのパル
ス電圧を２ｍｓｅｃ空けて、１００００回印加すると一
部に焼き付き現象が見られた。

【０２２６】

【発明の効果】以上説明したように本発明によると、配
向安定化膜を有する樹脂基板を含む反射型液晶表示素子
であって、焼き付きや表示ムラ等の表示性能の劣化を抑
制できる反射型液晶表示素子を提供することができる。

【０２２７】また本発明によると、長期にわたって安定
して良好な光反射率を得ることができ、高コントラスト
で画像表示できる反射型液晶表示素子を提供することが
できる。

【０２２８】また本発明によると、配向安定化膜を有す
る樹脂基板を含む反射型液晶表示素子の製造方法であっ
て、焼き付きや表示ムラ等の表示性能の劣化を抑制でき
る反射型液晶表示素子を得ることができる反射型液晶表
示素子の製造方法を提供することができる。

【０２２９】また本発明によると、長期にわたって安定
して良好な光反射率を得ることができ、高コントラスト
で画像表示できる反射型液晶表示素子を得ることができ
る反射型液晶表示素子の製造方法を提供することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態である液晶表示素子の断
面構造を示す概略図であり、図（Ａ）は高電圧パルスを
印加したときのプレーナ状態（Ｒ（赤色）Ｇ（緑色）Ｂ
（青色）着色状態）を示すものであり、図（Ｂ）は低電
圧パルスを印加したときのフォーカルコニック状態（透
明／黒色表示状態）を示すものである。

【図２】本発明の第２実施形態である液晶表示素子の断
面構造を示す図であり、図（Ａ）は高電圧パルス印加時
のプレーナ状態を示すものであり、図（Ｂ）は低電圧パ
ルス印加時のフォーカルコニック状態を示すものであ
る。

【図３】本発明の第３実施形態である液晶表示素子の断
面構造を示す図であり、図（Ａ）は高電圧パルス印加時
のプレーナ状態を示すものであり、図（Ｂ）は低電圧パ
ルス印加時のフォーカルコニック状態を示すものであ
る。

【図４】本発明の第４実施形態である液晶表示素子の断
面構造を示す図であり。図（Ａ）は高電圧パルス印加時
のプレーナ状態を示すものであり、図（Ｂ）は低電圧パ
ルス印加時のフォーカルコニック状態を示すものであ
る。

【図５】反射型液晶表示素子の光反射率と印加電圧との
関係（電位ヒステリシス）の一例を示すグラフである。

【符号の説明】

１１、１２ 透明基板 １３、１４ 透明電極 １５ 絶縁性薄膜 １６ 光吸収層 １７ 配向安定化膜 １８ スペーサー ２０ 柱状構造物 ２１ｂ、２１ｇ、２１ｒ、２１ｙ 液晶組成物 ２４ シール材 ２５ パルス電源 ｂ 青色表示を行なうＢ液晶層 ｇ 緑色表示を行なうＧ液晶層 ｒ 赤色表示を行なうＲ液晶層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長友 雄司 大阪府大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪国際ビル ミノルタ株式会社内 Ｆターム(参考） 2H090 HB08Y HC05 HC08 HC19 HD13 HD15 JB03 KA09 MB01 2H091 FA34Z FD06 GA06 HA11 LA18

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】少なくとも一方が樹脂基板である一対の基
   板間に可視光中の特定波長の光を選択反射可能の液晶組
   成物を挟持した反射型液晶表示素子であって、前記一対
   の基板のうち少なくとも一方の樹脂基板に配向安定化膜
   が形成されており、該配向安定化膜は有機溶剤を用いて
   ポリイミドを溶解した塗布液を塗布して形成された膜で
   あり、該配向安定化膜中の残留溶剤量が１５０ｐｐｍ以
   下であることを特徴とする反射型液晶表示素子。
2. 【請求項２】前記配向安定化膜は有機溶剤を用いてイミ
   ド化率９５％以上の可溶性ポリイミドを溶解した塗布液
   を塗布して形成された膜である請求項１記載の反射型液
   晶表示素子。
3. 【請求項３】少なくとも一方が樹脂基板である一対の基
   板間に可視光中の特定波長の光を選択反射可能の液晶組
   成物を挟持した反射型液晶表示素子の製造方法であっ
   て、 前記一対の基板のうち少なくとも一方の樹脂基板に有機
   溶剤を用いてポリイミドを溶解した塗布液を塗布して塗
   膜を形成する塗膜形成工程と、 前記塗膜形成工程にて形成された塗膜を加熱処理する加
   熱処理工程と、 前記加熱処理工程後の前記膜を、該膜中の残留溶剤量が
   １５０ｐｐｍ以下となるように洗浄して配向安定化膜と
   する洗浄工程とを含むことを特徴とする反射型液晶表示
   素子の製造方法。
4. 【請求項４】前記洗浄工程における洗浄は溶剤によって
   行われ、該溶剤が純水、アルコール又は純水とアルコー
   ルの混合溶剤である請求項３記載の反射型液晶表示素子
   の製造方法。
5. 【請求項５】前記加熱処理工程より後で、前記洗浄処理
   工程より前にさらに前記加熱処理工程後の前記膜にラビ
   ング処理を施す配向処理工程を含む請求項３又は４記載
   の反射型液晶表示素子の製造方法。