JP2003026939A - Material for insulating substrate, printed wiring board, laminate, copper foil with resin, copper-clad laminate, polyimide film, film for tab, and prepreg - Google Patents

Material for insulating substrate, printed wiring board, laminate, copper foil with resin, copper-clad laminate, polyimide film, film for tab, and prepreg

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JP2003026939A
JP2003026939A JP2001375337A JP2001375337A JP2003026939A JP 2003026939 A JP2003026939 A JP 2003026939A JP 2001375337 A JP2001375337 A JP 2001375337A JP 2001375337 A JP2001375337 A JP 2001375337A JP 2003026939 A JP2003026939 A JP 2003026939A
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Mitsuharu Yonezawa
光治 米澤
Koichi Shibayama
晃一 柴山
Katsuo Fushimi
勝夫 伏見
Hideyuki Takahashi
英之 高橋
Koji Taniguchi
浩司 谷口
Motohiro Yagi
元裕 八木
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Sekisui Chemical Co Ltd
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Sekisui Chemical Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a material for an insulating substrate which is excellent in mechanical properties, dimensional stability, heat resistance, flame retardancy, etc., and can exhibit an excellent flame-retardant effect due to the shape retention effect on burning; and a printed wiring board, a copper foil with a resin, a copper-clad laminate, a polyimide film, a film for TAB, and a prepreg prepared by using the material for an insulating substrate. SOLUTION: This material for an insulating substrate contains 100 pts.wt. resin component comprising a thermoplastic resin or a mixture of a thermoplastic resin with a thermosetting resin and 0.1-100 pts.wt. layered silicate.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、力学的物性、寸法
安定性、耐熱性、難燃性等に優れ、特に燃焼時の形状保
持効果によって優れた難燃効果を発現する絶縁基板用材
料、プリント基板、積層板、樹脂付き銅箔、銅張積層
板、ポリイミドフィルム、TAB用フィルム及びプリプ
レグに関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a material for an insulating substrate which is excellent in mechanical properties, dimensional stability, heat resistance, flame retardancy and the like, and in particular exhibits an excellent flame retardant effect by a shape retaining effect during combustion, The present invention relates to a printed board, a laminated board, a resin-coated copper foil, a copper-clad laminated board, a polyimide film, a TAB film and a prepreg.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、電子機器に用いられる多層プリ
ント基板は、複数層の絶縁基板により構成されており、
この層間絶縁基板としては、熱硬化性樹脂をガラスクロ
スに含浸させた熱硬化性樹脂プリプレグや、熱硬化性樹
脂又は光硬化性樹脂からなるフィルムが用いられてい
る。
2. Description of the Related Art Generally, a multilayer printed circuit board used in electronic equipment is composed of a plurality of layers of insulating boards.
As this interlayer insulating substrate, a thermosetting resin prepreg in which glass cloth is impregnated with a thermosetting resin, or a film made of a thermosetting resin or a photocurable resin is used.

【0003】近年、多層プリント基板の高密度化、薄型
化に伴い、層間を極めて薄くすることが望まれており、
薄型のガラスクロスを用いたり、全くガラスクロスを用
いない層間絶縁基板が必要とされている。そのような層
間絶縁基板としては、例えば、ゴム(エラストマー)
類、アクリル系樹脂等で変性した熱硬化性樹脂材料、無
機充填剤を大量に配合した熱可塑性樹脂材料等からなる
ものが知られている。
In recent years, it has been desired to make the layers extremely thin as the density and the thickness of the multilayer printed circuit board are reduced.
There is a need for an interlayer insulating substrate that uses a thin glass cloth or no glass cloth at all. As such an interlayer insulating substrate, for example, rubber (elastomer)
It is known to be composed of a thermosetting resin material modified with an acrylic resin or the like, a thermoplastic resin material containing a large amount of an inorganic filler, and the like.

【0004】例えば、特開2000−183539号公
報には、「二官能エポキシ樹脂と二官能フェノール類を
重合させて得た平均分子量が5万以上の高分子量エポキ
シ重合体、多官能エポキシ樹脂、硬化剤及び架橋剤を主
成分とするワニスに、平均粒径が0.8〜5μmの非繊
維状の無機充填剤を配合し、支持体の片面又は両面に塗
布して得られたエポキシ接着フィルムを絶縁層として使
用する多層絶縁基板の製造方法」が開示されている。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-183539 discloses "High molecular weight epoxy polymer having an average molecular weight of 50,000 or more obtained by polymerizing a bifunctional epoxy resin and a bifunctional phenol, a polyfunctional epoxy resin, and a curing agent. An epoxy adhesive film obtained by blending a non-fibrous inorganic filler having an average particle size of 0.8 to 5 μm with a varnish containing an agent and a cross-linking agent as main components and applying the non-fibrous inorganic filler to one or both sides of a support A method for producing a multilayer insulating substrate used as an insulating layer "is disclosed.

【0005】しかし、上記製造方法による多層絶縁基板
では、機械的強度等の力学的物性の向上に必要な無機充
填剤と高分子量エポキシ重合体や多官能エポキシ樹脂と
の界面面積が限られているため、多量の無機充填剤を配
合する必要があり、層間を薄くすることは困難であった
り、加工時に工程の増加等の不具合が生じるという問題
点があった。
However, in the multilayer insulating substrate produced by the above manufacturing method, the interfacial area between the inorganic filler and the high molecular weight epoxy polymer or polyfunctional epoxy resin necessary for improving mechanical properties such as mechanical strength is limited. Therefore, there is a problem that it is necessary to mix a large amount of inorganic filler, it is difficult to thin the layers, and problems such as an increase in the number of steps occur during processing.

【0006】また、薄型のガラスクロスを用いたり、又
は、全くガラスクロスを用いない層間絶縁基板には、耐
熱性や寸法安定性等が不充分であるという問題点や、脆
く割れ易いために、製造工程中に折れる等の不具合が生
じることが多い等の問題点があった。
Further, an interlayer insulating substrate using a thin glass cloth or no glass cloth at all has a problem that heat resistance and dimensional stability are insufficient, and is fragile and easily cracked. There have been problems such as breakage often occurring during the manufacturing process.

【0007】一方、工業用途に用いられる高分子材料
は、近年、廃プラスチックの処理や環境ホルモンの問題
から、環境に優しい材料であることが求められており、
環境適応型材料への転換が望まれている。具体的には、
例えば、燃焼時のダイオキシン発生等の問題に対処する
ために、含ハロゲン型難燃剤からノンハロゲン型難燃剤
への転換が検討されている。また、含ハロゲン型難燃剤
は、難燃化の効果が高く、成形性の低下や成形品の力学
的物性の低下等も比較的少ないが、これを使用した場
合、成形加工時や燃焼時に多量のハロゲン系ガスを発生
する恐れがあり、発生したハロゲン系ガスにより機器が
腐食したり、人体への好ましくない影響があるため、安
全性の面からも含ハロゲン型難燃剤を使用しない、いわ
ゆるノンハロゲン難燃化処理技術や処理方法の確立が強
く望まれている。
On the other hand, in recent years, polymeric materials used for industrial applications have been required to be environmentally friendly materials due to the problems of waste plastic processing and environmental hormones.
Conversion to environmentally friendly materials is desired. In particular,
For example, conversion from halogen-containing flame retardants to non-halogen flame retardants is being studied in order to deal with problems such as dioxin generation during combustion. In addition, halogen-containing flame retardants are highly flame retardant and have relatively little deterioration in moldability and mechanical properties of molded products, but when used, a large amount is used during molding and combustion. The halogen-containing gas may be generated, and the generated halogen-based gas may corrode the equipment or have an unfavorable effect on the human body.Therefore, in terms of safety, so-called halogen-free flame retardants are not used. It is strongly desired to establish flame retardant treatment technology and treatment method.

【0008】このため、近年、絶縁基板用材料に関して
も、環境適応型材料への転換のために、ノンハロゲン型
難燃剤を使用した材料の開発がなされている。しかし、
ノンハロゲン型難燃剤の場合、必要な難燃性を発現させ
るためには大量の難燃剤を配合する必要があるため、耐
熱性や寸法安定性等の点で、含ハロゲン型難燃剤を使用
した従来の絶縁基板用材料に及ばないという問題点があ
った。
Therefore, in recent years, with respect to materials for insulating substrates, materials using non-halogen type flame retardants have been developed in order to switch to environmentally compatible materials. But,
In the case of non-halogen type flame retardants, it is necessary to add a large amount of flame retardants in order to develop the required flame retardancy, so in terms of heat resistance, dimensional stability, etc., conventional halogen-containing flame retardants have been used. There was a problem that it was not as good as the material for the insulating substrate.

【0009】即ち、これらの絶縁基板用材料の問題点
は、例えば、薄型の絶縁基板とすると、耐熱性、寸法安
定性及び力学的物性の維持が困難であるということや、
ノンハロゲン型難燃剤により必要な難燃性を発現させる
ためには、大量の難燃剤を配合しなくてはならないた
め、製造工程中等で必要とされる力学的物性や耐熱性等
が得にくいということ等である。
That is, the problem with these insulating substrate materials is that, for example, when a thin insulating substrate is used, it is difficult to maintain heat resistance, dimensional stability, and mechanical properties.
In order to develop the required flame retardancy with a non-halogen flame retardant, it is necessary to add a large amount of flame retardant, so it is difficult to obtain the mechanical properties and heat resistance required during the manufacturing process. Etc.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記現状に
鑑み、力学的物性、寸法安定性、耐熱性、難燃性等に優
れ、特に燃焼時の形状保持効果によって優れた難燃効果
を発現する絶縁基板用材料、プリント基板、積層板、樹
脂付き銅箔、銅張積層板、ポリイミドフィルム、TAB
用フィルム及びプリプレグを提供することを目的とす
る。
In view of the above situation, the present invention has excellent mechanical properties, dimensional stability, heat resistance, flame retardancy, etc. Material for insulating substrate, printed board, laminated board, copper foil with resin, copper clad laminated board, polyimide film, TAB
The purpose is to provide a film for use and a prepreg.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明1は、絶縁基板に
用いる材料であって、熱可塑性樹脂、又は、熱可塑性樹
脂と熱硬化性樹脂との混合物100重量部、及び、層状
珪酸塩0.1〜100重量部を含有する絶縁基板用材料
である。
The present invention 1 is a material used for an insulating substrate, which is 100 parts by weight of a thermoplastic resin or a mixture of a thermoplastic resin and a thermosetting resin, and a layered silicate. The material for an insulating substrate contains 1 to 100 parts by weight.

【0012】本発明2は、絶縁基板に用いる材料であっ
て、フェノール樹脂、ユリア樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂、アリル樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、ビスマレ
イミドトリアジン樹脂、熱硬化型変性ポリフェニレンエ
ーテル系樹脂、ケイ素樹脂及びベンゾオキサジン系樹脂
からなる群より選択される少なくとも1種の熱硬化性樹
脂100重量部、及び、層状珪酸塩0.1〜100重量
部を含有する絶縁基板用材料である。
The present invention 2 is a material used for an insulating substrate, which is a phenol resin, a urea resin, an unsaturated polyester resin, an allyl resin, a thermosetting polyimide resin, a bismaleimide triazine resin, a thermosetting modified polyphenylene ether resin. An insulating substrate material containing 100 parts by weight of at least one thermosetting resin selected from the group consisting of a silicon resin and a benzoxazine-based resin, and 0.1 to 100 parts by weight of a layered silicate.

【0013】本発明3は、絶縁基板に用いる材料であっ
て、エポキシ系樹脂100重量部に対して、層状珪酸塩
0.1〜100重量部及び実質的にハロゲン系組成物を
含有しない難燃剤0.1〜100重量部が配合されてな
る絶縁基板用材料である。以下に本発明を詳述する。
The present invention 3 is a material used for an insulating substrate, which is a flame retardant containing 0.1 to 100 parts by weight of a layered silicate and substantially no halogen composition with respect to 100 parts by weight of an epoxy resin. It is an insulating substrate material containing 0.1 to 100 parts by weight. The present invention is described in detail below.

【0014】本発明の絶縁基板用材料は、熱可塑性樹脂
及び/又は熱硬化性樹脂からなるものである。上記熱可
塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、ポリオレフ
ィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリフェニレンエー
テル系樹脂、官能基変性されたポリフェニレンエーテル
系樹脂;ポリフェニレンエーテル系樹脂又は官能基変性
されたポリフェニレンエーテル系樹脂とポリスチレン系
樹脂等のポリフェニレンエーテル系樹脂又は官能基変性
されたポリフェニレンエーテル系樹脂と相溶し得る熱可
塑性樹脂との混合物;脂環式炭化水素系樹脂、熱可塑性
ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエス
テルイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル
エーテルケトン(PEEK)系樹脂、ポリエーテルサル
フォン樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニルアセタール
系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ酢酸ビニル
系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル系樹脂、ポリ
オキシメチレン系樹脂等が挙げられる。なかでもポリフ
ェニレンエーテル系樹脂、官能基変性されたポリフェニ
レンエーテル系樹脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂又
は官能基変性されたポリフェニレンエーテル系樹脂とポ
リスチレン系樹脂との混合物、脂環式炭化水素系樹脂及
び熱可塑性ポリイミド系樹脂等が好適に用いられる。こ
れらの熱可塑性樹脂は、単独で用いられても良いし、2
種類以上が併用されても良い。なお、本明細書におい
て、「(メタ)アクリル」とは、「アクリル」又は「メ
タクリル」を意味する。
The insulating substrate material of the present invention comprises a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin. The thermoplastic resin is not particularly limited, and examples thereof include polyolefin resin, polystyrene resin, polyphenylene ether resin, functional group-modified polyphenylene ether resin; polyphenylene ether resin or functional group-modified polyphenylene ether resin. And a thermoplastic resin compatible with a polyphenylene ether resin such as a polystyrene resin or a functional group-modified polyphenylene ether resin; alicyclic hydrocarbon resin, thermoplastic polyimide resin, polyamideimide resin , Polyester imide resin, polyester resin, polyether ether ketone (PEEK) resin, polyether sulfone resin, polyamide resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetate resin, Li (meth) acrylate resin, polyoxymethylene resins. Among them, polyphenylene ether-based resin, functional group-modified polyphenylene ether-based resin, polyphenylene ether-based resin or a mixture of functional group-modified polyphenylene ether-based resin and polystyrene-based resin, alicyclic hydrocarbon-based resin and thermoplastic polyimide Resins and the like are preferably used. These thermoplastic resins may be used alone or 2
More than one kind may be used in combination. In addition, in this specification, "(meth) acryl" means "acryl" or "methacryl."

【0015】上記ポリフェニレンエーテル系樹脂とは、
下記一般式(1)で表される繰り返し単位からなるポリ
フェニレンエーテル単独重合体又はポリフェニレンエー
テル共重合体である。
The polyphenylene ether resin is
It is a polyphenylene ether homopolymer or a polyphenylene ether copolymer comprising a repeating unit represented by the following general formula (1).

【0016】[0016]

【化1】 [Chemical 1]

【0017】式中、R1 、R2 、R3 及びR4 は、水素
原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基又はアル
コキシル基を表す。これらのアルキル基、アラルキル
基、アリール基及びアルコキシル基は、それぞれ官能基
で置換されていても良い。
In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group or an alkoxyl group. Each of these alkyl group, aralkyl group, aryl group and alkoxyl group may be substituted with a functional group.

【0018】上記ポリフェニレンエーテル単独重合体と
しては特に限定されず、例えば、ポリ(2,6−ジメチ
ル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−メチル
−6−エチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ
(2,6−ジエチル−1,4−フェニレン)エーテル、
ポリ(2−エチル−6−n−プロピル−1,4−フェニ
レン)エーテル、ポリ(2,6−ジ−n−プロピル−
1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−エチル−6
−n−ブチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ
(2−エチル−6−イソプロピル−1,4−フェニレ
ン)エーテル、ポリ(2−メチル−6−ヒドロキシエチ
ル−1,4−フェニレン)エーテル等が挙げられる。
The polyphenylene ether homopolymer is not particularly limited, and examples thereof include poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether and poly (2-methyl-6-ethyl-1,4-phenylene). Ether, poly (2,6-diethyl-1,4-phenylene) ether,
Poly (2-ethyl-6-n-propyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-di-n-propyl-
1,4-phenylene) ether, poly (2-ethyl-6)
-N-butyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-ethyl-6-isopropyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6-hydroxyethyl-1,4-phenylene) ether, etc. Is mentioned.

【0019】上記ポリフェニレンエーテル共重合体とし
ては特に限定されず、例えば、上記ポリフェニレンエー
テル繰り返し単位中に2,3,6−トリメチルフェノー
ル等のアルキル三置換フェノール等を一部含有する共重
合体や、これらのポリフェニレンエーテル共重合体に更
にスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン等の
スチレン系モノマーの1種類又は2種類以上がグラフト
共重合された共重合体等が挙げられる。これらのポリフ
ェニレンエーテル系樹脂は、それぞれ単独で用いられて
も良いし、組成や成分又は分子量等の異なるものが2種
類以上併用されても良い。
The polyphenylene ether copolymer is not particularly limited, and examples thereof include a copolymer partially containing alkyl trisubstituted phenol such as 2,3,6-trimethylphenol in the polyphenylene ether repeating unit, Examples of the polyphenylene ether copolymer further include a copolymer obtained by graft-copolymerizing one kind or two or more kinds of styrene-based monomers such as styrene, α-methylstyrene and vinyltoluene. These polyphenylene ether resins may be used alone or in combination of two or more having different compositions, components or molecular weights.

【0020】上記官能基変性されたポリフェニレンエー
テル系樹脂としては特に限定されず、例えば、上記ポリ
フェニレンエーテル系樹脂が無水マレイン酸基、グリシ
ジル基、アミノ基、アリル基等の官能基の1種類又は2
種類以上で変性されたもの等が挙げられる。これらの官
能基変性されたポリフェニレンエーテル系樹脂は、単独
で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良
い。
The functional group-modified polyphenylene ether-based resin is not particularly limited. For example, the polyphenylene ether-based resin may be one of functional groups such as maleic anhydride group, glycidyl group, amino group, allyl group or the like.
Examples include those modified with more than one type. These functional group-modified polyphenylene ether resins may be used alone or in combination of two or more.

【0021】熱可塑性樹脂として上記官能基変性された
ポリフェニレンエーテル系樹脂を用いると、絶縁基板用
材料は架橋反応を起こすことが可能となり、力学的物
性、耐熱性、寸法安定性等をより向上させることができ
る。
When the above-mentioned functional group-modified polyphenylene ether resin is used as the thermoplastic resin, the insulating substrate material can undergo a cross-linking reaction, further improving mechanical properties, heat resistance, dimensional stability and the like. be able to.

【0022】上記ポリフェニレンエーテル系樹脂又は官
能基変性されたポリフェニレンエーテル系樹脂とポリス
チレン系樹脂との混合物としては特に限定されず、例え
ば、上記ポリフェニレンエーテル系樹脂又は上記官能基
変性されたポリフェニレンエーテル系樹脂と、スチレン
単独重合体;スチレンとα−メチルスチレン、エチルス
チレン、t−ブチルスチレン、ビニルトルエン等のスチ
レン系モノマーの1種類又は2種類以上との共重合体;
スチレン系エラストマー等のポリスチレン系樹脂との混
合物等が挙げられる。上記ポリスチレン系樹脂は、単独
で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良
い。これらのポリフェニレンエーテル系樹脂又は官能基
変性されたポリフェニレンエーテル系樹脂とポリスチレ
ン系樹脂との混合物は、単独で用いられても良いし、2
種類以上が併用されても良い。
The mixture of the polyphenylene ether resin or the functional group-modified polyphenylene ether resin and the polystyrene resin is not particularly limited. For example, the polyphenylene ether resin or the functional group-modified polyphenylene ether resin is used. And a styrene homopolymer; a copolymer of styrene and one or more kinds of styrene-based monomers such as α-methylstyrene, ethylstyrene, t-butylstyrene and vinyltoluene;
Examples thereof include a mixture with a polystyrene resin such as a styrene elastomer. The polystyrene resins may be used alone or in combination of two or more. A mixture of these polyphenylene ether-based resins or functional group-modified polyphenylene ether-based resins and polystyrene-based resins may be used alone, or 2
More than one kind may be used in combination.

【0023】上記脂環式炭化水素系樹脂としては、高分
子鎖中に環状の炭化水素基を有する炭化水素系樹脂であ
れば特に限定されず、例えば、環状オレフィンの単独重
合体又は共重合体等が挙げられる。これらの脂環式炭化
水素系樹脂は、単独で用いられても良いし、2種類以上
が併用されても良い。
The alicyclic hydrocarbon resin is not particularly limited as long as it is a hydrocarbon resin having a cyclic hydrocarbon group in the polymer chain. For example, a cyclic olefin homopolymer or copolymer. Etc. These alicyclic hydrocarbon resins may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0024】上記環状オレフィンとはノルボルネン系モ
ノマーのことであり、例えば、ノルボルネン、メタノオ
クタヒドロナフタレン、ジメタノオクタヒドロナフタレ
ン、ジメタノドデカヒドロアントラセン、ジメタノデカ
ヒドロアントラセン、トリメタノドデカヒドロアントラ
セン、ジシクロペンタジエン、2,3−ジヒドロシクロ
ペンタジエン、メタノオクタヒドロベンゾインデン、ジ
メタノオクタヒドロベンゾインデン、メタノデカヒドロ
ベンゾインデン、ジメタノデカヒドロベンゾインデン、
メタノオクタヒドロフルオレン、ジメタノオクタヒドロ
フルオレン等やこれらの置換体等が挙げられる。これら
の環状オレフィンは、単独で用いられても良いし、2種
類以上が併用されても良い。
The above-mentioned cyclic olefin is a norbornene-based monomer, and examples thereof include norbornene, methanooctahydronaphthalene, dimethanooctahydronaphthalene, dimethanodecahydroanthracene, dimethanodecahydroanthracene, trimetanodecahydroanthracene and dimethanodecahydroanthracene. Cyclopentadiene, 2,3-dihydrocyclopentadiene, methanooctahydrobenzoindene, dimethanooctahydrobenzoindene, methanodecahydrobenzoindene, dimethanodecahydrobenzoindene,
Examples thereof include methanooctahydrofluorene, dimethanooctahydrofluorene and the like, and substitution products thereof. These cyclic olefins may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0025】上記ノルボルネン等の置換体における置換
基としては特に限定されず、例えば、アルキル基、アル
キリデン基、アリール基、シアノ基、アルコキシカルボ
ニル基、ピリジル基、ハロゲン原子等の公知の炭化水素
基や極性基が挙げられる。これらの置換基は、単独で用
いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。
The substituent in the above-mentioned norbornene and the like is not particularly limited, and examples thereof include known hydrocarbon groups such as alkyl group, alkylidene group, aryl group, cyano group, alkoxycarbonyl group, pyridyl group and halogen atom. Examples include polar groups. These substituents may be used alone or in combination of two or more.

【0026】上記ノルボルネン等の置換体としては特に
限定されず、例えば、5−メチル−2−ノルボルネン、
5,5−ジメチル−2−ノルボルネン、5−エチル−2
−ノルボルネン、5−ブチル−2−ノルボルネン、5−
エチリデン−2−ノルボルネン、5−メトキシカルボニ
ル−2−ノルボルネン、5−シアノ−2−ノルボルネ
ン、5−メチル−5−メトキシカルボニル−2−ノルボ
ルネン、5−フェニル−2−ノルボルネン、5−フェニ
ル−5−メチル−2−ノルボルネン等が挙げられる。こ
れらのノルボルネン等の置換体は、単独で用いられても
良いし、2種類以上が併用されても良い。
The substitution product of norbornene and the like is not particularly limited, and examples thereof include 5-methyl-2-norbornene and
5,5-dimethyl-2-norbornene, 5-ethyl-2
-Norbornene, 5-butyl-2-norbornene, 5-
Ethylidene-2-norbornene, 5-methoxycarbonyl-2-norbornene, 5-cyano-2-norbornene, 5-methyl-5-methoxycarbonyl-2-norbornene, 5-phenyl-2-norbornene, 5-phenyl-5- Methyl-2-norbornene and the like can be mentioned. These substitution products such as norbornene may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0027】上記脂環式炭化水素系樹脂のうち市販され
ているものとしては、例えば、ジェイエスアール(JS
R)社製の商品名「アートン」シリーズや日本ゼオン社
製の商品名「ゼオノア」シリーズ等が挙げられる。
Among the above alicyclic hydrocarbon resins, those commercially available include, for example, JS (JS).
R) product name "Arton" series manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., product name "Zeonor" series and the like.

【0028】上記熱可塑性ポリイミド系樹脂としては特
に限定されず、例えば、分子主鎖中にイミド結合とエー
テル結合とを有するポリエーテルイミド樹脂、分子主鎖
中にイミド結合とアミド結合とを有するポリアミドイミ
ド樹脂、分子主鎖中にイミド結合とエステル結合とを有
するポリエステルイミド樹脂等が挙げられる。これらの
熱可塑性ポリイミド系樹脂は、単独で用いられても良い
し、2種類以上が併用されても良い。
The thermoplastic polyimide resin is not particularly limited, and examples thereof include a polyetherimide resin having an imide bond and an ether bond in the molecular main chain, and a polyamide having an imide bond and an amide bond in the molecular main chain. Examples thereof include imide resins and polyesterimide resins having an imide bond and an ester bond in the main chain of the molecule. These thermoplastic polyimide resins may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0029】上記ポリエーテルエーテルケトン樹脂とし
ては特に限定されず、例えば、ジハロゲノベンゾフェノ
ンとヒドロキノンとを重縮合して得られるもの等が挙げ
られる。
The above polyether ether ketone resin is not particularly limited, and examples thereof include those obtained by polycondensing dihalogenobenzophenone and hydroquinone.

【0030】上記熱硬化性樹脂とは、樹脂原料が常温で
液状、半固形状、固形状等の比較的低分子量物質からな
り常温下又は加熱下では流動性を示すが、硬化剤や触媒
又は熱の作用によって硬化反応や架橋反応等の化学反応
を起こし、分子量の増大と共に網目状の三次元構造を形
成して、不溶不融性となる樹脂である。
The above-mentioned thermosetting resin is a resin raw material made of a relatively low molecular weight substance such as liquid, semi-solid or solid at room temperature, and shows fluidity at room temperature or under heating, but a curing agent, catalyst or It is a resin that becomes insoluble and infusible by causing a chemical reaction such as a curing reaction or a crosslinking reaction by the action of heat to form a network-like three-dimensional structure with an increase in the molecular weight.

【0031】上記熱硬化性樹脂としては特に限定され
ず、例えば、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂、不飽
和ポリエステル系樹脂、アルキド系樹脂、フラン系樹
脂、ユリア系樹脂、メラミン系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、アニリン系樹脂、熱硬化型変性ポリフェニレンエー
テル系樹脂、熱硬化性ポリイミド系樹脂、アリル樹脂、
ビスマレイミドトリアジン樹脂、ケイ素樹脂、ベンゾオ
キサジン系樹脂等が挙げられる。なかでもエポキシ系樹
脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂、アリル樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、ビスマレ
イミドトリアジン樹脂、熱硬化型変性ポリフェニレンエ
ーテル系樹脂、ケイ素樹脂、ベンゾオキサジン系樹脂が
好適に用いられる。これらの熱硬化性樹脂は、単独で用
いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。
The thermosetting resin is not particularly limited, and examples thereof include phenolic resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, alkyd resin, furan resin, urea resin, melamine resin, polyurethane resin. , Aniline resin, thermosetting modified polyphenylene ether resin, thermosetting polyimide resin, allyl resin,
Examples thereof include bismaleimide triazine resin, silicon resin, and benzoxazine-based resin. Among them, epoxy resin, phenol resin, urea resin, unsaturated polyester resin, allyl resin, thermosetting polyimide resin, bismaleimide triazine resin, thermosetting modified polyphenylene ether resin, silicon resin, benzoxazine resin are suitable. Used. These thermosetting resins may be used alone or in combination of two or more.

【0032】上記エポキシ樹脂とは、少なくとも1個の
オキシラン環(エポキシ基)を有する有機化合物をい
う。上記エポキシ樹脂中のエポキシ基の数は、1分子当
たり1個以上であることが好ましく、1分子当たり2個
以上であることがより好ましい。ここで、1分子当たり
のエポキシ基の数は、エポキシ樹脂中のエポキシ基の総
数をエポキシ樹脂中の分子の総数で除算して求められ
る。
The epoxy resin is an organic compound having at least one oxirane ring (epoxy group). The number of epoxy groups in the epoxy resin is preferably 1 or more per molecule, and more preferably 2 or more per molecule. Here, the number of epoxy groups per molecule is obtained by dividing the total number of epoxy groups in the epoxy resin by the total number of molecules in the epoxy resin.

【0033】上記エポキシ樹脂としては特に限定されず
従来公知の各種エポキシ樹脂を用いることができ、例え
ば、以下に示したエポキシ樹脂(1)〜エポキシ樹脂
(11)等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂は、単
独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良
い。エポキシ樹脂(1)は、ビスフェノールA型エポキ
シ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノ
ールAD型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ
樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂;フェノールノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂;トリスフェノ
ールメタントリグリシジルエーテル等の芳香族エポキシ
樹脂及びこれらの水添化物や臭素化物である。
The above-mentioned epoxy resin is not particularly limited, and various conventionally known epoxy resins can be used, and examples thereof include the epoxy resins (1) to (11) shown below. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more kinds. The epoxy resin (1) is a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a bisphenol AD type epoxy resin, a bisphenol S type epoxy resin or other bisphenol type epoxy resin; a phenol novolac type epoxy resin, a cresol novolac type epoxy resin or the like. Novolak type epoxy resins; aromatic epoxy resins such as trisphenolmethane triglycidyl ether, and hydrogenated products and brominated products thereof.

【0034】エポキシ樹脂(2)は、3,4−エポキシ
シクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサ
ンカルボキシレート、3,4−エポキシ−2−メチルシ
クロヘキシルメチル3,4−エポキシ−2−メチルシク
ロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシ
シクロヘキシル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ
シクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エ
ポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペー
ト、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−
スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサノン−メタ−
ジオキサン、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)
エーテル等の脂環族エポキシ樹脂である。かかるエポキ
シ樹脂(2)のうち市販されているものとしては、例え
ば、商品名「EHPE−3150」(軟化温度71℃、
ダイセル化学工業社製)が挙げられる。
The epoxy resin (2) includes 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate and 3,4-epoxy-2-methylcyclohexylmethyl 3,4-epoxy-2-methylcyclohexanecarboxylate. , Bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl- 5,5-
Spiro-3,4-epoxy) cyclohexanone-meta-
Dioxane, bis (2,3-epoxycyclopentyl)
It is an alicyclic epoxy resin such as ether. Examples of commercially available epoxy resin (2) include, for example, trade name “EHPE-3150” (softening temperature 71 ° C.,
Manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.).

【0035】エポキシ樹脂(3)は、1,4−ブタンジ
オールのジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオ
ールのジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシ
ジルエーテル、トリメチロールプロパンのトリグリシジ
ルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエ
ーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエー
テル、炭素数が2〜9個(好ましくは2〜4個)のアル
キレン基を含むポリオキシアルキレングリコールやポリ
テトラメチレンエーテルグリコール等を含む長鎖ポリオ
ールのポリグリシジルエーテル等の脂肪族エポキシ樹脂
である。
The epoxy resin (3) includes diglycidyl ether of 1,4-butanediol, diglycidyl ether of 1,6-hexanediol, triglycidyl ether of glycerin, triglycidyl ether of trimethylolpropane, and diglycol of polyethylene glycol. Glycidyl ether, diglycidyl ether of polypropylene glycol, polyglycidyl ether of long-chain polyol containing polyoxyalkylene glycol containing 2 to 9 (preferably 2 to 4) alkylene groups and polytetramethylene ether glycol, etc. And other aliphatic epoxy resins.

【0036】エポキシ樹脂(4)は、フタル酸ジグリシ
ジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエス
テル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ジ
グリシジル−p−オキシ安息香酸、サリチル酸のグリシ
ジルエーテル−グリシジルエステル、ダイマー酸グリシ
ジルエステル等のグリシジルエステル型エポキシ樹脂及
びこれらの水添化物である。
Epoxy resin (4) includes phthalic acid diglycidyl ester, tetrahydrophthalic acid diglycidyl ester, hexahydrophthalic acid diglycidyl ester, diglycidyl-p-oxybenzoic acid, salicylic acid glycidyl ether-glycidyl ester, dimer acid glycidyl ester. Glycidyl ester type epoxy resins such as esters and hydrogenated products thereof.

【0037】エポキシ樹脂(5)は、トリグリシジルイ
ソシアヌレート、環状アルキレン尿素のN,N’−ジグ
リシジル誘導体、p−アミノフェノールのN,N,O−
トリグリシジル誘導体、m−アミノフェノールのN,
N,O−トリグリシジル誘導体等のグリシジルアミン型
エポキシ樹脂及びこれらの水添化物である。
The epoxy resin (5) includes triglycidyl isocyanurate, N, N'-diglycidyl derivative of cyclic alkylene urea, and N, N, O- of p-aminophenol.
Triglycidyl derivative, N of m-aminophenol,
Glycidyl amine type epoxy resins such as N, O-triglycidyl derivatives and hydrogenated products thereof.

【0038】エポキシ樹脂(6)は、グリシジル(メ
タ)アクリレートと、エチレン、酢酸ビニル、(メタ)
アクリル酸エステル等のラジカル重合性モノマーとの共
重合体である。
The epoxy resin (6) includes glycidyl (meth) acrylate, ethylene, vinyl acetate and (meth).
It is a copolymer with a radically polymerizable monomer such as an acrylic ester.

【0039】エポキシ樹脂(7)は、エポキシ化ポリブ
タジエン等の共役ジエン化合物を主体とする重合体又は
その部分水添物の重合体の不飽和炭素の二重結合をエポ
キシ化したものである。
The epoxy resin (7) is obtained by epoxidizing the unsaturated carbon double bond of a polymer mainly composed of a conjugated diene compound such as epoxidized polybutadiene or a polymer of a partially hydrogenated product thereof.

【0040】エポキシ樹脂(8)は、エポキシ化SBS
等のような、「ビニル芳香族化合物を主体とする重合体
ブロック」と「共役ジエン化合物を主体とする重合体ブ
ロック又はその部分水添物の重合体ブロック」とを同一
分子内にもつブロック共重合体の、共役ジエン化合物の
不飽和炭素の二重結合をエポキシ化したものである。
The epoxy resin (8) is an epoxidized SBS.
Such as “a polymer block mainly composed of a vinyl aromatic compound” and a “polymer block mainly composed of a conjugated diene compound or a polymer block of a partially hydrogenated product thereof” in the same molecule. It is a polymer obtained by epoxidizing a double bond of unsaturated carbon of a conjugated diene compound.

【0041】エポキシ樹脂(9)は、1分子当たり1個
以上、好ましくは2個以上のエポキシ基を有するポリエ
ステル樹脂である。
The epoxy resin (9) is a polyester resin having one or more, preferably two or more epoxy groups per molecule.

【0042】エポキシ樹脂(10)は、上記各種エポキ
シ樹脂の構造中にウレタン結合やポリカプロラクトン結
合を導入した、ウレタン変成エポキシ樹脂やポリカプロ
ラクトン変成エポキシ樹脂である。
The epoxy resin (10) is a urethane-modified epoxy resin or polycaprolactone-modified epoxy resin in which a urethane bond or a polycaprolactone bond is introduced into the structure of each of the above various epoxy resins.

【0043】エポキシ樹脂(11)は、上記各種エポキ
シ樹脂にNBR、CTBN、ポリブタジエン、アクリル
ゴム等のゴム成分を含有させたゴム変成エポキシ樹脂で
ある。
The epoxy resin (11) is a rubber-modified epoxy resin in which a rubber component such as NBR, CTBN, polybutadiene or acrylic rubber is added to the above various epoxy resins.

【0044】上記エポキシ樹脂に用いる硬化剤としては
特に限定されず、従来公知の各種エポキシ樹脂用の硬化
剤を用いることができ、例えば、アミン化合物、アミン
化合物から合成されるポリアミノアミド化合物等の化合
物、3級アミン化合物、イミダゾール化合物、ヒドラジ
ド化合物、ジシアンアミド及びその誘導体、メラミン化
合物、酸無水物、フェノール化合物、熱潜在性カチオン
重合触媒、光潜在性カチオン重合開始剤等が挙げられ
る。これらの硬化剤は、単独で用いられても良いし、2
種類以上が併用されても良い。
The curing agent used for the epoxy resin is not particularly limited, and conventionally known curing agents for various epoxy resins can be used. For example, compounds such as amine compounds and polyaminoamide compounds synthesized from amine compounds can be used. Examples include tertiary amine compounds, imidazole compounds, hydrazide compounds, dicyanamide and its derivatives, melamine compounds, acid anhydrides, phenol compounds, thermal latent cationic polymerization catalysts, and optical latent cationic polymerization initiators. These curing agents may be used alone or 2
More than one kind may be used in combination.

【0045】上記アミン化合物としては、例えば、エチ
レンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテ
トラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリオキシプロ
ピレンジアミン、ポリオキシプロピレントリアミン等の
鎖状脂肪族アミン及びその誘導体;メンセンジアミン、
イソフォロンジアミン、ビス(4−アミノ−3−メチル
シクロヘキシル)メタン、ジアミノジシクロヘキシルメ
タン、ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、N−アミ
ノエチルピペラジン、3,9−ビス(3−アミノプロピ
ル)2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5,5)
ウンデカン等の環状脂肪族アミン及びその誘導体;m−
キシレンジアミン、α−(m/pアミノフェニル)エチ
ルアミン、m−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニ
ルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン、α,α−ビ
ス(4−アミノフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼ
ン等の芳香族アミン及びその誘導体等が挙げられる。
Examples of the amine compound include chain aliphatic amines such as ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyoxypropylenediamine and polyoxypropylenetriamine, and derivatives thereof; mensendiamine,
Isophorone diamine, bis (4-amino-3-methylcyclohexyl) methane, diaminodicyclohexylmethane, bis (aminomethyl) cyclohexane, N-aminoethylpiperazine, 3,9-bis (3-aminopropyl) 2,4,8 , 10-Tetraoxaspiro (5,5)
Cycloaliphatic amines such as undecane and derivatives thereof; m-
Aromatic amines such as xylenediamine, α- (m / p aminophenyl) ethylamine, m-phenylenediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, α, α-bis (4-aminophenyl) -p-diisopropylbenzene, and derivatives thereof. Etc.

【0046】上記アミン化合物から合成されるポリアミ
ノアミド化合物等の化合物としては、例えば、上記の各
種アミン化合物と、コハク酸、アジピン酸、アゼライン
酸、セバシン酸、ドデカ二酸、イソフタル酸、テレフタ
ル酸、ジヒドロイソフタル酸、テトラヒドロイソフタル
酸、ヘキサヒドロイソフタル酸等のカルボン酸化合物と
から合成されるポリアミノアミド化合物及びその誘導
体;上記の各種アミン化合物と、ジアミノジフェニルメ
タンビスマレイミド等のマレイミド化合物とから合成さ
れるポリアミノイミド化合物及びその誘導体;上記の各
種アミン化合物とケトン化合物とから合成されるケチミ
ン化合物及びその誘導体;上記の各種アミン化合物と、
エポキシ化合物、尿素、チオ尿素、アルデヒド化合物、
フェノール化合物、アクリル系化合物等の化合物とから
合成されるポリアミノ化合物及びその誘導体等が挙げら
れる。
Examples of compounds such as polyaminoamide compounds synthesized from the above amine compounds include the above various amine compounds, succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecadioic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, and the like. Polyaminoamide compounds and their derivatives synthesized from carboxylic acid compounds such as dihydroisophthalic acid, tetrahydroisophthalic acid and hexahydroisophthalic acid; polyamino compounds synthesized from the above various amine compounds and maleimide compounds such as diaminodiphenylmethane bismaleimide An imide compound and its derivative; a ketimine compound synthesized from the above various amine compounds and a ketone compound and its derivative;
Epoxy compound, urea, thiourea, aldehyde compound,
Examples thereof include polyamino compounds synthesized from compounds such as phenol compounds and acrylic compounds and their derivatives.

【0047】上記3級アミン化合物としては、例えば、
N,N−ジメチルピペラジン、ピリジン、ピコリン、ベ
ンジルジメチルアミン、2−(ジメチルアミノメチル)
フェノール、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチ
ル)フェノール、1,8−ジアザビスシクロ(5,4,
0)ウンデセン−1及びその誘導体等が挙げられる。
Examples of the tertiary amine compound include:
N, N-dimethylpiperazine, pyridine, picoline, benzyldimethylamine, 2- (dimethylaminomethyl)
Phenol, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diazabiscyclo (5,4,4
0) Undecene-1 and its derivatives and the like.

【0048】上記イミダゾール化合物としては、例え
ば、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチル
イミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプ
タデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール及び
その誘導体等が挙げられる。
Examples of the imidazole compound include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole and derivatives thereof.

【0049】上記ヒドラジド化合物としては、例えば、
1,3−ビス(ヒドラジノカルボエチル)−5−イソプ
ロピルヒダントイン、7,11−オクタデカジエン−
1,18−ジカルボヒドラジド、エイコサン二酸ジヒド
ラジド、アジピン酸ジヒドラジド及びその誘導体等が挙
げられる。上記メラミン化合物としては、例えば、2,
4−ジアミノ−6−ビニル−1,3,5−トリアジン及
びその誘導体等が挙げられる。
Examples of the hydrazide compound include:
1,3-bis (hydrazinocarboethyl) -5-isopropylhydantoin, 7,11-octadecadiene-
1,18-dicarbohydrazide, eicosane diacid dihydrazide, adipic acid dihydrazide and derivatives thereof and the like can be mentioned. Examples of the melamine compound include 2,
4-diamino-6-vinyl-1,3,5-triazine and derivatives thereof and the like can be mentioned.

【0050】上記酸無水物としては、例えば、フタル酸
無水物、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水
物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレン
グリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセロー
ルトリスアンヒドロトリメリテート、メチルテトラヒド
ロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ナジック
酸無水物、メチルナジック酸無水物、トリアルキルテト
ラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メ
チルヘキサヒドロ無水フタル酸、5−(2,5−ジオキ
ソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキ
セン−1,2−ジカルボン酸無水物、トリアルキルテト
ラヒドロ無水フタル酸−無水マレイン酸付加物、ドデセ
ニル無水コハク酸、ポリアゼライン酸無水物、ポリドデ
カン二酸無水物、クロレンド酸無水物及びその誘導体等
が挙げられる。
Examples of the above-mentioned acid anhydride include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic acid anhydride, ethylene glycol bisanhydrotrimellitate, glycerol trisanhydrotrihydrate. Melitate, methyltetrahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, methylnadic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, 5- (2,5 -Dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride-maleic anhydride adduct, dodecenyl succinic anhydride, polyazelaic anhydride, polydodecane dianhydride Acid anhydride, Rend anhydride and derivatives thereof.

【0051】上記フェノール化合物としては、例えば、
フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック、p
−クレゾールノボラック、t−ブチルフェノールノボラ
ック、ジシクロペンタジエンクレゾール及びその誘導体
等が挙げられる。
Examples of the above-mentioned phenol compound include:
Phenol novolac, o-cresol novolac, p
-Cresol novolac, t-butylphenol novolac, dicyclopentadiene cresol and derivatives thereof and the like.

【0052】上記熱潜在性カチオン重合触媒としては、
例えば、6フッ化アンチモン、6フッ化リン、4フッ化
ホウ素等を対アニオンとした、ベンジルスルホニウム
塩、ベンジルアンモニウム塩、ベンジルピリジニウム
塩、ベンジルホスホニウム塩等のイオン性熱潜在性カチ
オン重合触媒;N−ベンジルフタルイミド、芳香族スル
ホン酸エステル等の非イオン性熱潜在性カチオン重合触
媒が挙げられる。
As the above-mentioned thermal latent cationic polymerization catalyst,
For example, an ionic thermal latent cationic polymerization catalyst such as benzylsulfonium salt, benzylammonium salt, benzylpyridinium salt, benzylphosphonium salt, etc., in which antimony hexafluoride, phosphorus hexafluoride, boron tetrafluoride and the like are used as counter anions; N -Nonionic thermal latent cationic polymerization catalysts such as benzyl phthalimide and aromatic sulfonic acid esters.

【0053】上記光潜在性カチオン重合開始剤として
は、例えば、6フッ化アンチモン、6フッ化リン、4フ
ッ化ホウ素等を対アニオンとした、芳香族ジアゾニウム
塩、芳香族ハロニウム塩、芳香族スルホニウム塩等のオ
ニウム塩類、鉄−アレン錯体、チタノセン錯体、アリー
ルシラノール−アルミニウム錯体等の有機金属錯体類等
のイオン性光潜在性カチオン重合開始剤;ニトロベンジ
ルエステル、スルホン酸誘導体、リン酸エステル、フェ
ノールスルホン酸エステル、ジアゾナフトキノン、N−
ヒドロキシイミドスホナート等の非イオン性光潜在性カ
チオン重合開始剤が挙げられる。
Examples of the photolatent cationic polymerization initiator include aromatic diazonium salts, aromatic halonium salts, and aromatic sulfonium salts with counter anions such as antimony hexafluoride, phosphorus hexafluoride, and boron tetrafluoride. Ionic photolatent cationic polymerization initiators such as onium salts such as salts, iron-allene complexes, titanocene complexes, and organometallic complexes such as arylsilanol-aluminum complexes; nitrobenzyl esters, sulfonic acid derivatives, phosphate esters, phenols Sulfonate, diazonaphthoquinone, N-
Examples thereof include nonionic photolatent cationic polymerization initiators such as hydroxyimide sulfonate.

【0054】上記熱硬化型変性ポリフェニレンエーテル
系樹脂としては特に限定されず、例えば、上記ポリフェ
ニレンエーテル系樹脂をグリシジル基、イソシアネート
基、アミノ基等の熱硬化性を有する官能基で変性して得
られる樹脂等が挙げられる。これらの熱硬化型変性ポリ
フェニレンエーテル系樹脂は、単独で用いられても良い
し、2種類以上が併用されても良い。
The thermosetting modified polyphenylene ether resin is not particularly limited, and is obtained, for example, by modifying the polyphenylene ether resin with a thermosetting functional group such as a glycidyl group, an isocyanate group or an amino group. Resin etc. are mentioned. These thermosetting modified polyphenylene ether resins may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0055】上記熱硬化性ポリイミド系樹脂とは、分子
主鎖中にイミド結合を有する樹脂であり、その具体例と
しては特に限定されず、例えば、芳香族ジアミンと芳香
族テトラカルボン酸との縮合重合体、芳香族ジアミンと
ビスマレイミドとの付加重合体であるビスマレイミド樹
脂、アミノ安息香酸ヒドラジドとビスマレイミドとの付
加重合体であるポリアミノビスマレイミド樹脂、ジシア
ネート化合物とビスマレイミド樹脂とからなるビスマレ
イミドトリアジン樹脂等が挙げられる。なかでもビスマ
レイミドトリアジン樹脂が好適に用いられる。これらの
熱硬化性ポリイミド系樹脂は、単独で用いられても良い
し、2種類以上が併用されても良い。
The thermosetting polyimide resin is a resin having an imide bond in the molecular main chain, and its specific example is not particularly limited. For example, condensation of aromatic diamine and aromatic tetracarboxylic acid. Polymer, bismaleimide resin which is addition polymer of aromatic diamine and bismaleimide, polyamino bismaleimide resin which is addition polymer of aminobenzoic acid hydrazide and bismaleimide, bismaleimide consisting of dicyanate compound and bismaleimide resin Triazine resin etc. are mentioned. Among them, bismaleimide triazine resin is preferably used. These thermosetting polyimide-based resins may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0056】上記ユリア樹脂としては、尿素とホルムア
ルデヒドとの付加縮合反応で得られる熱硬化性樹脂であ
れば特に限定されない。上記ユリア樹脂の硬化反応に用
いられる硬化剤としては特に限定されず、例えば、無機
酸、有機酸、酸性硫酸ナトリウムのような酸性塩からな
る顕在性硬化剤;カルボン酸エステル、酸無水物、塩化
アンモニウム、リン酸アンモニウム等の塩類のような潜
在性硬化剤が挙げられる。なかでも、貯蔵寿命等から潜
在性硬化剤が好適である。
The urea resin is not particularly limited as long as it is a thermosetting resin obtained by the addition condensation reaction of urea and formaldehyde. The curing agent used in the curing reaction of the urea resin is not particularly limited, and examples thereof include an inorganic acid, an organic acid, an explicit curing agent composed of an acid salt such as sodium acid sulfate; a carboxylic acid ester, an acid anhydride, and a chloride. Latent curing agents such as salts of ammonium, ammonium phosphate and the like can be mentioned. Of these, a latent curing agent is preferable in terms of shelf life.

【0057】上記アリル樹脂としては、ジアリルフタレ
ートモノマーの重合及び硬化反応によって得られるもの
であれば特に限定されない。上記ジアリルフタレートモ
ノマーとしては、例えば、オルソ体、イソ体、テレ体が
挙げられる。また、硬化時の硬化触媒としては、例え
ば、t−ブチルパーベンゾエートとジ−t−ブチルパー
オキシドが併用される。
The allyl resin is not particularly limited as long as it is obtained by the polymerization and curing reaction of the diallyl phthalate monomer. Examples of the diallyl phthalate monomer include an ortho body, an iso body, and a tele body. Further, as a curing catalyst at the time of curing, for example, t-butyl perbenzoate and di-t-butyl peroxide are used together.

【0058】上記ケイ素樹脂は、分子鎖中にケイ素−ケ
イ素結合、ケイ素−炭素結合、シロキサン結合、ケイ素
−窒素結合を含むものであり、例えば、ポリシロキサ
ン、ポリカルボシラン、ポリシラザンが挙げられる。
The above-mentioned silicon resin has a silicon-silicon bond, a silicon-carbon bond, a siloxane bond, and a silicon-nitrogen bond in the molecular chain, and examples thereof include polysiloxane, polycarbosilane, and polysilazane.

【0059】上記ベンゾオキサジン樹脂は、ベンゾオキ
サジンモノマーのオキサジン環の開環重合によって得ら
れるものである。上記ベンゾオキサジンモノマーとして
は特に限定されず、例えば、オキサジン環の窒素にフェ
ニル基、メチル基、シクロヘキシル基等の官能基が結合
したもの等が挙げられる。
The benzoxazine resin is obtained by ring-opening polymerization of the oxazine ring of the benzoxazine monomer. The benzoxazine monomer is not particularly limited, and examples thereof include those having a functional group such as a phenyl group, a methyl group or a cyclohexyl group bonded to the nitrogen of the oxazine ring.

【0060】上記熱可塑性樹脂及び/又は熱硬化性樹脂
には、本発明の課題達成を阻害しない範囲で必要に応じ
て、樹脂の特性を改質するために、熱可塑性エラストマ
ー類、架橋ゴム、オリゴマー類等が配合されても良い。
また、これらはそれぞれ単独で用いられても良いし、併
用して用いられても良い。
The above-mentioned thermoplastic resin and / or thermosetting resin may contain thermoplastic elastomers, cross-linked rubbers, in order to modify the properties of the resin, if necessary, within a range not hindering the achievement of the object of the present invention. Oligomers and the like may be blended.
Also, these may be used alone or in combination.

【0061】上記熱可塑性エラストマー類としては特に
限定されず、例えば、スチレン系エラストマー、オレフ
ィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、ポリエ
ステル系エラストマー等が挙げられる。これらの熱可塑
性エラストマー類は、単独で用いられても良いし、2種
類以上が併用されても良い。
The thermoplastic elastomers are not particularly limited, and examples thereof include styrene elastomer, olefin elastomer, urethane elastomer, polyester elastomer and the like. These thermoplastic elastomers may be used alone or in combination of two or more.

【0062】上記架橋ゴムとしては特に限定されず、例
えば、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、1,2−ポリ
ブタジエン、スチレン−ブタジエンゴム、ニトリルゴ
ム、ブチルゴム、エチレン−プロピレンゴム、シリコー
ンゴム、ウレタンゴム等が挙げられる。樹脂との相容性
を高めるために、これらの架橋ゴムを官能基変性したも
のを用いることが好ましい。これらの架橋ゴム類は単独
で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良
い。
The crosslinked rubber is not particularly limited, and examples thereof include isoprene rubber, butadiene rubber, 1,2-polybutadiene, styrene-butadiene rubber, nitrile rubber, butyl rubber, ethylene-propylene rubber, silicone rubber and urethane rubber. To be In order to improve the compatibility with the resin, it is preferable to use a functional group-modified one of these crosslinked rubbers. These crosslinked rubbers may be used alone or in combination of two or more.

【0063】上記オリゴマー類としては特に限定され
ず、例えば、無水マレイン酸変性ポリエチレンオリゴマ
ー等が挙げられる。これらのオリゴマー類は、単独で用
いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。
The above-mentioned oligomers are not particularly limited, and examples thereof include maleic anhydride-modified polyethylene oligomers. These oligomers may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0064】更に、上記熱可塑性樹脂及び/又は熱硬化
性樹脂には、本発明の課題達成を阻害しない範囲で必要
に応じて、物性を均一化する補助手段として結晶を微細
化するための結晶核となり得る造核剤や、酸化防止剤
(老化防止剤)、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、
滑剤、難燃剤、帯電防止剤、防曇剤等の各種添加剤の1
種又は2種以上が配合されても良い。
Further, the above-mentioned thermoplastic resin and / or thermosetting resin may contain crystals for refining crystals as an auxiliary means for homogenizing physical properties, if necessary, within a range not hindering achievement of the object of the present invention. Nucleating agents that can serve as nuclei, antioxidants (aging inhibitors), heat stabilizers, light stabilizers, UV absorbers,
One of various additives such as lubricants, flame retardants, antistatic agents, anti-fog agents, etc.
One kind or two or more kinds may be mixed.

【0065】本発明の絶縁基板用材料は、熱可塑性樹脂
及び/又は熱硬化性樹脂、並びに、層状珪酸塩を含有す
るものである。上記層状珪酸塩とは、層間に交換性金属
カチオンを有する珪酸塩鉱物を意味する。上記層状珪酸
塩としては特に限定されず、例えば、モンモリロナイ
ト、サポナイト、ヘクトライト、バイデライト、スティ
ブンサイト、ノントロナイト等のスメクタイト系粘土鉱
物や、バーミキュライト、ハロイサイト、膨潤性マイカ
等が挙げられる。なかでもモンモリロナイト及び/又は
膨潤性マイカ及び/又はヘクトライトが好適に用いられ
る。上記層状珪酸塩は、天然物であっても良いし、合成
物であっても良い。又、これらの層状珪酸塩は、単独で
用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。
The insulating substrate material of the present invention contains a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin, and a layered silicate. The layered silicate means a silicate mineral having an exchangeable metal cation between layers. The layered silicate is not particularly limited, and examples thereof include smectite clay minerals such as montmorillonite, saponite, hectorite, beidellite, stevensite, nontronite, vermiculite, halloysite, and swelling mica. Among them, montmorillonite and / or swelling mica and / or hectorite are preferably used. The layered silicate may be a natural product or a synthetic product. Further, these layered silicates may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0066】上記層状珪酸塩としては、下記式(2)で
定義される形状異方性効果の大きいスメクタイト系粘土
鉱物や膨潤性マイカを用いることが好ましい。形状異方
性効果の大きい層状珪酸塩を用いることにより、本発明
の絶縁基板用材料はより優れた力学的物性を有するもの
となる。形状異方性効果=結晶表面(A)の面積/結晶
表面(B)の面積 (2)式中、結晶表面(A)は層表
面を意味し、結晶表面(B)は層側面を意味する。
As the layered silicate, it is preferable to use a smectite clay mineral or a swelling mica having a large shape anisotropy effect defined by the following formula (2). By using the layered silicate having a large shape anisotropy effect, the insulating substrate material of the present invention has more excellent mechanical properties. Shape anisotropy effect = area of crystal surface (A) / area of crystal surface (B) In the formula (2), the crystal surface (A) means a layer surface, and the crystal surface (B) means a layer side surface. .

【0067】上記層状珪酸塩の形状としては特に限定さ
れるものではないが、平均長さの好ましい下限は0.0
1μm、上限は3μm、厚さの好ましい下限は0.00
1μm、上限は1μm、アスペクト比の好ましい下限は
20、上限は500であり、平均長さのより好ましい下
限は0.05μm、上限は2μm、厚さのより好ましい
下限は0.01μm、上限は0.5μm、アスペクト比
のより好ましい下限は50、上限は200である。
The shape of the layered silicate is not particularly limited, but the preferable lower limit of the average length is 0.0
1 μm, the upper limit is 3 μm, and the preferable lower limit of the thickness is 0.00
1 μm, upper limit is 1 μm, preferred lower limit of aspect ratio is 20, upper limit is 500, more preferred lower limit of average length is 0.05 μm, upper limit is 2 μm, more preferred lower limit of thickness is 0.01 μm, upper limit is 0 The preferable lower limit of the aspect ratio is 0.5 μm, and the upper limit is 200.

【0068】上記層状珪酸塩の層間に存在する交換性金
属カチオンとは、層状珪酸塩の結晶表面上に存在するナ
トリウムやカルシウム等の金属イオンのことであり、こ
れらの金属イオンは、カチオン性物質とのカチオン交換
性を有するため、カチオン性を有する種々の物質を上記
層状珪酸塩の結晶層間に挿入(インターカレート)する
ことができる。
The exchangeable metal cations existing between the layers of the layered silicate are metal ions such as sodium and calcium existing on the crystal surface of the layered silicate, and these metal ions are cationic substances. Since it has a cation exchangeability with, it is possible to insert (intercalate) various substances having a cationic property between the crystal layers of the layered silicate.

【0069】上記層状珪酸塩のカチオン交換容量は、特
に限定されるものではないが、好ましい下限が50ミリ
等量/100g、上限が200ミリ等量/100gであ
る。層状珪酸塩のカチオン交換容量が50ミリ等量/1
00g未満であると、カチオン交換により層状珪酸塩の
結晶層間にインターカレートされるカチオン性物質の量
が少なくなるために、結晶層間が充分に非極性化(疎水
化)されないことがあり、200ミリ等量/100gを
超えると、層状珪酸塩の結晶層間の結合力が強固になり
すぎて、結晶薄片が剥離し難くなることがある。
The cation exchange capacity of the layered silicate is not particularly limited, but the preferred lower limit is 50 milliequivalents / 100g and the upper limit is 200 milliequivalents / 100g. Cation exchange capacity of layered silicate is 50 milliequivalent / 1
If the amount is less than 00 g, the amount of the cationic substance intercalated between the crystal layers of the layered silicate due to cation exchange is small, so that the crystal layers may not be sufficiently depolarized (hydrophobicized). If it exceeds the milliequivalent / 100 g, the bonding force between the crystal layers of the layered silicate becomes too strong, and the crystal flakes may be difficult to peel off.

【0070】本発明において、熱可塑性樹脂及び/又は
熱硬化性樹脂として例えばポリフェニレンエーテル系樹
脂等の低極性樹脂を用いる場合には、予め層状珪酸塩の
層間をカチオン性界面活性剤でカチオン交換して、疎水
化しておくことが好ましい。予め層状珪酸塩の層間を疎
水化しておくことにより、層状珪酸塩と低極性の熱可塑
性樹脂又は熱硬化性樹脂との親和性が高まり、層状珪酸
塩を低極性の熱可塑性樹脂中及び/又は熱硬化性樹脂中
により均一に微分散させることができる。
In the present invention, when a low-polarity resin such as polyphenylene ether resin is used as the thermoplastic resin and / or the thermosetting resin, the layers of the layered silicate are cation-exchanged with a cationic surfactant in advance. Therefore, it is preferable to make it hydrophobic. By making the layers of the layered silicate hydrophobic in advance, the affinity between the layered silicate and the low-polarity thermoplastic resin or the thermosetting resin is increased, and the layered silicate is formed in the low-polarity thermoplastic resin and / or It can be finely dispersed more uniformly in the thermosetting resin.

【0071】上記カチオン性界面活性剤としては特に限
定されず、例えば、4級アンモニウム塩、4級ホスホニ
ウム塩等が挙げられる。なかでも、層状珪酸塩の結晶層
間を充分に非極性化(疎水化)し得ることから、炭素数
6以上のアルキル鎖を有する4級アンモニウム塩(炭素
数6以上のアルキルアンモニウム塩)が好適に用いられ
る。
The cationic surfactant is not particularly limited, and examples thereof include a quaternary ammonium salt and a quaternary phosphonium salt. Among them, a quaternary ammonium salt having an alkyl chain having 6 or more carbon atoms (alkylammonium salt having 6 or more carbon atoms) is suitable because it can sufficiently depolarize (hydrophobicize) the crystal layers of the layered silicate. Used.

【0072】上記4級アンモニウム塩としては特に限定
されず、例えば、トリメチルアルキルアンモニウム塩、
トリエチルアルキルアンモニウム塩、トリブチルアルキ
ルアンモニウム塩、ジメチルジアルキルアンモニウム
塩、ジブチルジアルキルアンモニウム塩、メチルベンジ
ルジアルキルアンモニウム塩、ジベンジルジアルキルア
ンモニウム塩、トリアルキルメチルアンモニウム塩、ト
リアルキルエチルアンモニウム塩、トリアルキルブチル
アンモニウム塩、芳香環を有する4級アンモニウム塩、
トリメチルフェニルアンモニウム等の芳香族アミン由来
の4級アンモニウム塩、ポリエチレングリコール鎖を二
つ有するジアルキル4級アンモニウム塩、ポリプロピレ
ングリコール鎖を二つ有するジアルキル4級アンモニウ
ム塩、ポリエチレングリコール鎖を一つ有するトリアル
キル4級アンモニウム塩、ポリプロピレングリコール鎖
を一つ有するトリアルキル4級アンモニウム塩が挙げら
れる。この中でも特にラウリルトリメチルアンモニウム
塩、ステアリルトリメチルアンモニウム塩、トリオクチ
ルメチルアンモニウム塩、ジステアリルジメチルアンモ
ニウム塩、ジ硬化牛脂ジメチルアンモニウム塩、ジステ
アリルジベンジルアンモニウム塩、N−ポリオキシエチ
レン−N−ラウリル−N,N−ジメチルアンモニウム塩
等が好適である。これらの4級アンモニウム塩は、単独
で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良
い。
The quaternary ammonium salt is not particularly limited, and examples thereof include trimethylalkyl ammonium salt,
Triethylalkylammonium salt, tributylalkylammonium salt, dimethyldialkylammonium salt, dibutyldialkylammonium salt, methylbenzyldialkylammonium salt, dibenzyldialkylammonium salt, trialkylmethylammonium salt, trialkylethylammonium salt, trialkylbutylammonium salt, A quaternary ammonium salt having an aromatic ring,
Quaternary ammonium salts derived from aromatic amines such as trimethylphenylammonium, dialkyl quaternary ammonium salts having two polyethylene glycol chains, dialkyl quaternary ammonium salts having two polypropylene glycol chains, trialkyls having one polyethylene glycol chain Examples thereof include quaternary ammonium salts and trialkyl quaternary ammonium salts having one polypropylene glycol chain. Among them, especially lauryl trimethyl ammonium salt, stearyl trimethyl ammonium salt, trioctyl methyl ammonium salt, distearyl dimethyl ammonium salt, di-hardened tallow dimethyl ammonium salt, distearyl dibenzyl ammonium salt, N-polyoxyethylene-N-lauryl-N , N-dimethylammonium salt and the like are preferable. These quaternary ammonium salts may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0073】上記4級ホスホニウム塩としては特に限定
されず、例えば、ドデシルトリフェニルホスホニウム
塩、メチルトリフェニルホスホニウム塩、ラウリルトリ
メチルホスホニウム塩、ステアリルトリメチルホスホニ
ウム塩、トリオクチルホスホニウム塩、ジステアリルジ
メチルホスホニウム塩、ジステアリルジベンジルホスホ
ニウム塩等が挙げられる。これらの4級ホスホニウム塩
は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用され
ても良い。
The quaternary phosphonium salt is not particularly limited, and examples thereof include dodecyltriphenylphosphonium salt, methyltriphenylphosphonium salt, lauryltrimethylphosphonium salt, stearyltrimethylphosphonium salt, trioctylphosphonium salt, distearyldimethylphosphonium salt, Examples thereof include distearyl dibenzylphosphonium salt. These quaternary phosphonium salts may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0074】本発明で用いられる層状珪酸塩は、上述の
ような化学処理によって熱可塑性樹脂中及び/又は熱硬
化性樹脂中への分散性を向上させることができる。上記
化学処理は、カチオン性界面活性剤によるカチオン交換
法(以下、化学修飾(1)法ともいう)に限定されるも
のではなく、例えば、以下に示す化学修飾(2)〜化学
修飾(6)法の各種化学処理法によっても実施すること
ができる。これらの化学修飾法は、単独で用いられても
良いし、2種類以上が併用されても良い。なお、化学修
飾(1)法を含め、以下に示す各種化学処理法によって
熱可塑性樹脂中及び/又は熱硬化性樹脂中への分散性を
向上させた層状珪酸塩を、以下、「有機化層状珪酸塩」
ともいう。
The layered silicate used in the present invention can be improved in dispersibility in the thermoplastic resin and / or the thermosetting resin by the chemical treatment as described above. The above chemical treatment is not limited to the cation exchange method using a cationic surfactant (hereinafter, also referred to as the chemical modification (1) method), and for example, the following chemical modification (2) to chemical modification (6). It can also be carried out by various chemical treatment methods of the method. These chemical modification methods may be used alone or in combination of two or more. In addition, a layered silicate whose dispersibility in a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin is improved by various chemical treatment methods shown below including the chemical modification (1) method is referred to as “organized layered material”. Silicate "
Also called.

【0075】化学修飾(2)法は、化学修飾(1)法で
化学処理された有機化層状珪酸塩の結晶表面に存在する
水酸基を、これと化学結合し得る官能基、又は、化学結
合はしなくとも化学的親和性の大きい官能基を分子末端
に1個以上有する化合物で化学処理する方法である。
In the chemical modification (2) method, the hydroxyl group existing on the crystal surface of the organically modified layered silicate chemically treated by the chemical modification (1) method is a functional group capable of chemically bonding with the hydroxyl group, or a chemical bond is It is a method of chemically treating with a compound having at least one functional group having a large chemical affinity at the end of the molecule even if it does not.

【0076】化学修飾(3)法は、化学修飾(1)法で
化学処理された有機化層状珪酸塩の結晶表面に存在する
水酸基を、これと化学結合し得る官能基、又は、化学結
合はしなくとも化学的親和性の大きい官能基及び反応性
官能基を分子末端に1個以上有する化合物で化学処理す
る方法である。
The chemical modification (3) method comprises a functional group capable of chemically bonding a hydroxyl group present on the crystal surface of the organically modified layered silicate chemically treated by the chemical modification (1) method or a chemical bond. It is a method of chemically treating with a compound having one or more functional groups and reactive functional groups having a large chemical affinity even if they are not.

【0077】化学修飾(4)法は、化学修飾(1)法で
化学処理された有機化層状珪酸塩の結晶表面を、アニオ
ン性界面活性を有する化合物で化学処理する方法であ
る。
The chemical modification (4) is a method in which the crystal surface of the organically modified layered silicate chemically treated by the chemical modification (1) is chemically treated with a compound having anionic surface activity.

【0078】化学修飾(5)法は、化学修飾(4)法に
おいて、アニオン性界面活性を有する化合物の分子鎖中
のアニオン部位以外に反応性官能基を1個以上有する化
合物で化学処理する方法である。
The chemical modification (5) is a chemical modification (4) in which a compound having one or more reactive functional groups in addition to the anion site in the molecular chain of the compound having anionic surface activity is chemically treated. Is.

【0079】化学修飾(6)法は、上記化学修飾(1)
法〜化学修飾(5)法のいずれかの方法で化学処理され
た有機化層状珪酸塩に、更に、例えば、無水マレイン酸
変性ポリフェニレンエーテル系樹脂のような層状珪酸塩
と反応可能な官能基を有する樹脂を添加した組成物を用
いる方法である。
The chemical modification (6) method is the same as the above chemical modification (1).
Method to the chemical modification (5), a functional group capable of reacting with a layered silicate such as a maleic anhydride-modified polyphenylene ether resin is further added to the organically modified layered silicate chemically treated. It is a method using a composition to which the resin is added.

【0080】上記化学修飾(2)法における、水酸基と
化学結合し得る官能基、又は、化学結合はしなくとも化
学的親和性の大きい官能基としては特に限定されず、例
えば、アルコキシ基、グリシジル基、カルボキシル基
(二塩基性酸無水物も包含する)、水酸基、イソシアネ
ート基、アルデヒド基等の官能基や、水酸基との化学的
親和性が高いその他の官能基等が挙げられる。また、上
記水酸基と化学結合し得る官能基、又は、化学結合はし
なくとも化学的親和性の大きい官能基を有する化合物と
しては、特に限定されるものではないが、例えば、上記
に例示した官能基を有するシラン化合物、チタネート化
合物、グリシジル化合物、カルボン酸類、アルコール類
等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いられて
も良いし、2種類以上が併用されても良い。
In the above-mentioned chemical modification (2) method, the functional group capable of chemically bonding with a hydroxyl group or the functional group having a large chemical affinity without chemical bonding is not particularly limited, and examples thereof include an alkoxy group and glycidyl. Examples thereof include functional groups such as groups, carboxyl groups (including dibasic acid anhydrides), hydroxyl groups, isocyanate groups, aldehyde groups, and other functional groups having high chemical affinity with hydroxyl groups. The compound having a functional group capable of chemically bonding to the hydroxyl group, or a functional group having a large chemical affinity even if not chemically bonded, is not particularly limited, for example, the functional groups exemplified above. Examples thereof include a silane compound having a group, a titanate compound, a glycidyl compound, carboxylic acids and alcohols. These compounds may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0081】上記シラン化合物としては特に限定され
ず、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエ
トキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)
シラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−
アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルジメチルメトキシシラン、γ−アミノプロピルト
リエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキ
シシラン、γ−アミノプロピルジメチルエトキシシラ
ン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、トリメチルメトキシシラン、ヘキシルトリメトキ
シシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、N−β−(ア
ミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、
N−β−(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、N−β−(アミノエチル)γ−アミノプロ
ピルメチルジメトキシシラン、オクタデシルトリメトキ
シシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリ
ロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。こ
れらのシラン化合物は、単独で用いられても良いし、2
種類以上が併用されても良い。
The silane compound is not particularly limited, and examples thereof include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy).
Silane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-
Aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyldimethylmethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropyldimethylethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, trimethylmethoxy Silane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane,
N-β- (aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane , Γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane and the like. These silane compounds may be used alone or 2
More than one kind may be used in combination.

【0082】化学修飾(4)法及び化学修飾(5)法に
おける、アニオン性界面活性を有する化合物、アニオン
性界面活性を有し分子鎖中のアニオン部位以外に反応性
官能基を1個以上有する化合物としては、イオン相互作
用により層状珪酸塩を化学処理できるものであれば特に
限定されず、例えば、ラウリル酸ナトリウム、ステアリ
ン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム、高級アルコー
ル硫酸エステル塩、第2級高級アルコール硫酸エステル
塩、不飽和アルコール硫酸エステル塩等が挙げられる。
これらの化合物は、単独で用いられても良いし、2種類
以上が併用されても良い。
In the chemical modification (4) method and the chemical modification (5) method, a compound having anionic surface activity, having anionic surface activity and having at least one reactive functional group other than the anion site in the molecular chain. The compound is not particularly limited as long as the layered silicate can be chemically treated by ionic interaction, and examples thereof include sodium laurate, sodium stearate, sodium oleate, higher alcohol sulfate ester salt, and secondary higher alcohol sulfate. Examples thereof include ester salts and unsaturated alcohol sulfate ester salts.
These compounds may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0083】上記層状珪酸塩は、広角X線回折測定法に
より測定した(001)面の平均層間距離が3nm以上
であり、かつ、一部又は全部が5層以下に分散している
層状珪酸塩であることが好ましく、より好ましくは、上
記平均層間距離が3nm以上、5nm以下であり、か
つ、一部又は全部が5層以下に分散している層状珪酸塩
である。なお、本明細書において層状珪酸塩の平均層間
距離とは、層状珪酸塩の微細薄片状結晶を層とした場合
の平均の層間距離を意味し、X線回折ピーク及び透過型
電子顕微鏡撮影、即ち、広角X線回折測定法により算出
することができる。
The layered silicate has an average inter-layer distance of 3 nm or more on the (001) plane measured by the wide-angle X-ray diffraction measurement method, and a part or all of the layered silicate is dispersed in 5 layers or less. Is more preferable, and more preferably, it is a layered silicate in which the average interlayer distance is 3 nm or more and 5 nm or less, and part or all of which is dispersed in 5 layers or less. In the present specification, the average interlaminar distance of the layered silicate means the average interlaminar distance when the fine flaky crystals of the layered silicate are formed into a layer, and the X-ray diffraction peak and the transmission electron microscope photograph, that is, , Can be calculated by wide-angle X-ray diffractometry.

【0084】層状珪酸塩の平均層間距離が3nm以上で
あるということは、層状珪酸塩の層間が3nm以上に開
裂していることを意味しており、また、層状珪酸塩の一
部又は全部が5層以下に分散しているということは、層
状珪酸塩の積層体の一部又は全部が分散していることを
意味する。これらはいずれも層状珪酸塩の層間の相互作
用が弱まっていることを意味する。
The fact that the average interlayer distance of the layered silicate is 3 nm or more means that the layers of the layered silicate are split to 3 nm or more, and part or all of the layered silicate is cleaved. Dispersed in 5 layers or less means that part or all of the layered silicate laminate is dispersed. Each of these means that the interaction between the layers of the layered silicate is weakened.

【0085】層状珪酸塩の平均層間距離が3nm以上で
あり、かつ、一部又は全部が5層以下に分散している
と、層状珪酸塩を熱可塑性樹脂及び/又は熱硬化性樹脂
中に配合し分散させて得られる本発明の絶縁基板用材料
は、優れた難燃性、力学的物性、耐熱性、寸法安定性等
の諸性能を発現するものとなる。平均層間距離が3nm
未満であると層状珪酸塩のナノメートルスケールでの分
散による効果が充分に得られず、力学物性、難燃性の改
善は通常の無機充填材を複合した場合と同じ範囲に留ま
る。平均層間距離のより好ましい下限は3nm、上限は
5nmである。平均層間距離が5nmを超えると、層状
珪酸塩の結晶薄片が層毎に分離し、層状珪酸塩の相互作
用が無視できるほど弱まるので、燃焼時の被膜形成速度
が遅くなり、難燃性の向上が充分に得られないことがあ
る。
When the average interlayer distance of the layered silicate is 3 nm or more and a part or the whole is dispersed in 5 layers or less, the layered silicate is blended in the thermoplastic resin and / or the thermosetting resin. The material for an insulating substrate of the present invention obtained by dispersing the above compound exhibits excellent properties such as flame retardancy, mechanical properties, heat resistance, and dimensional stability. Average interlayer distance is 3 nm
If it is less than the above range, the effect due to the dispersion of the layered silicate on the nanometer scale cannot be sufficiently obtained, and the improvement of mechanical properties and flame retardancy remains within the same range as when the ordinary inorganic filler is compounded. A more preferable lower limit of the average interlayer distance is 3 nm, and an upper limit thereof is 5 nm. If the average interlayer distance exceeds 5 nm, the crystal flakes of the layered silicate are separated into layers, and the interaction of the layered silicate weakens to a negligible level, so the film formation rate during combustion is slowed and flame retardancy is improved. May not be obtained sufficiently.

【0086】層状珪酸塩の一部又は全部が5層以下に分
散しているということは、具体的には、層状珪酸塩の1
0%以上が5層以下に分散している状態にあることが好
ましいことを意味し、より好ましくは層状珪酸塩の20
%以上が5層以下に分散している状態である。なお、層
状珪酸塩の分散状態は、透過型電子顕微鏡を用いて5万
〜10万倍で観察して、一定面積中において観察できる
層状珪酸塩の積層集合体の全層数(X)のうち5層以下
で分散している積層集合体の層数(Y)を計測し下記式
(3)により算出することができる。5層以下に分散し
ている層状珪酸塩の割合(%)=(Y/X)×100
(3)
The fact that a part or all of the layered silicate is dispersed in 5 layers or less means that, specifically, one of the layered silicates is
It means that 0% or more is preferably dispersed in 5 layers or less, and more preferably 20% of the layered silicate.
% Or more is dispersed in 5 layers or less. In addition, the dispersed state of the layered silicate is observed in a transmission electron microscope at a magnification of 50,000 to 100,000 times, and out of the total number (X) of the layered aggregates of the layered silicate that can be observed in a certain area. The number of layers (Y) of the laminated assembly dispersed with 5 layers or less can be measured and calculated by the following formula (3). Proportion (%) of layered silicate dispersed in 5 layers or less = (Y / X) × 100
(3)

【0087】層状珪酸塩の積層数は、5層以下に分層し
ていることが好ましく、そのことにより、上記効果を得
ることができるが、より好ましくは3層以下に分層して
いることであり、特に好ましくは単層状に薄片化してい
ることである。
The number of laminated layered silicates is preferably divided into 5 layers or less, whereby the above effect can be obtained, but more preferably 3 or less layers are divided. It is particularly preferable that the thin film is formed into a single layer.

【0088】本発明の絶縁基板用材料において、層状珪
酸塩の平均層間距離が3nm以上であり、かつ、層状珪
酸塩の一部又は全部が5層以下に分散している状態、即
ち、熱可塑性樹脂及び/又は熱硬化性樹脂中に層状珪酸
塩が高分散している状態であれば、熱可塑性樹脂及び/
又は熱硬化性樹脂と層状珪酸塩との界面面積が増大し、
層状珪酸塩の結晶薄片間の平均距離が小さくなる。
In the insulating substrate material of the present invention, the layered silicate has an average interlayer distance of 3 nm or more, and a part or all of the layered silicate is dispersed in 5 layers or less, that is, thermoplasticity. If the layered silicate is highly dispersed in the resin and / or thermosetting resin, the thermoplastic resin and / or
Or the interfacial area between the thermosetting resin and the layered silicate increases,
The average distance between the crystal flakes of the layered silicate becomes smaller.

【0089】熱可塑性樹脂及び/又は熱硬化性樹脂と層
状珪酸塩との界面面積が増大すると、層状珪酸塩の表面
における熱可塑性樹脂及び/又は熱硬化性樹脂の拘束の
度合いが高まり、弾性率等の力学的物性が向上する。ま
た、層状珪酸塩の表面における熱可塑性樹脂及び/又は
熱硬化性樹脂の拘束の度合いが高まると、溶融粘度が高
まり、成形性も向上する。更に、ポリマー中では無機物
に比べてガス分子の方がはるかに拡散しやすいので、熱
可塑性樹脂中及び/又は熱硬化性樹脂中をガス分子が拡
散する際には、無機物を迂回しながら拡散するため、ガ
スバリア性の発現も可能となる。
When the interface area between the thermoplastic resin and / or thermosetting resin and the layered silicate increases, the degree of restraint of the thermoplastic resin and / or thermosetting resin on the surface of the layered silicate increases, and the elastic modulus increases. Mechanical properties such as are improved. Further, when the degree of restraint of the thermoplastic resin and / or the thermosetting resin on the surface of the layered silicate increases, the melt viscosity increases and the moldability also improves. Furthermore, since gas molecules are much more likely to diffuse in a polymer than in an inorganic substance, when a gas molecule diffuses in a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin, it diffuses while bypassing the inorganic substance. Therefore, the gas barrier property can be exhibited.

【0090】一方、層状珪酸塩の結晶薄片間の平均距離
が小さくなると、燃焼時において、層状珪酸塩の結晶薄
片の移動による焼結体を形成し易くなる。即ち、上記平
均層間距離が3nm以上となるように層状珪酸塩の結晶
薄片が分散した絶縁基板用材料は、難燃被膜となり得る
焼結体を形成し易くなる。この焼結体は、燃焼時の早い
段階で形成されるので、外界からの酸素の供給を遮断す
るのみならず、燃焼により発生する可燃性ガスをも遮断
することができ、絶縁基板用材料は優れた難燃性を発現
する。
On the other hand, when the average distance between the crystal flakes of the layered silicate is small, it becomes easy to form a sintered body by the movement of the crystal flakes of the layered silicate during combustion. That is, the insulating substrate material in which the crystal flakes of the layered silicate are dispersed so that the average interlayer distance is 3 nm or more facilitates the formation of a sintered body that can be a flame retardant coating. Since this sintered body is formed at an early stage of combustion, not only the supply of oxygen from the outside can be cut off, but also the combustible gas generated by the combustion can be cut off. Exhibits excellent flame retardancy.

【0091】本発明1の絶縁基板用材料は、上記熱可塑
性樹脂、又は、上記熱可塑性樹脂と上記熱硬化性樹脂と
の混合物100重量部に対して、上記層状珪酸塩0.1
〜100重量部を含有するものである。本発明2の絶縁
基板用材料は、上記熱硬化性樹脂100重量部に対し
て、上記層状珪酸塩0.1〜100重量部を含有するも
のである。本発明3の絶縁基板用材料は、上記エポキシ
樹脂100重量部に対して、上記層状珪酸塩0.1〜1
00重量部を含有するものである。
The insulating substrate material of the present invention 1 is based on 100 parts by weight of the above-mentioned thermoplastic resin or a mixture of the above-mentioned thermoplastic resin and the above-mentioned thermosetting resin, and 0.1% of the above-mentioned layered silicate.
To 100 parts by weight. The insulating substrate material of the present invention 2 contains 0.1 to 100 parts by weight of the layered silicate with respect to 100 parts by weight of the thermosetting resin. The insulating substrate material according to the third aspect of the present invention contains the layered silicate of 0.1 to 1 with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin.
It contains 100 parts by weight.

【0092】熱可塑性樹脂及び/又は熱硬化性樹脂10
0重量部に対する層状珪酸塩の含有量が0.1重量部未
満であると、難燃性や力学物性の改善効果が小さくな
り、100重量部を超えると、絶縁基板用材料の密度
(比重)が高くなり、また、機械的強度も低下すること
から実用性に乏しくなる。含有量の好ましい下限は1重
量部、上限は50重量部である。1重量部未満であると
本発明の絶縁基板用材料及を薄く成形する際に充分な難
燃効果が得られないことがあり、50重量部を超えると
成形性が低下することがある。含有量のより好ましい下
限は5重量部、上限は20重量部である。5〜20重量
部であると機械物性、工程適性に問題となる領域はな
く、充分な難燃効果が得られる。
Thermoplastic resin and / or thermosetting resin 10
If the content of the layered silicate is less than 0.1 parts by weight relative to 0 parts by weight, the effect of improving flame retardancy and mechanical properties becomes small, and if it exceeds 100 parts by weight, the density (specific gravity) of the insulating substrate material is increased. Becomes higher and the mechanical strength also lowers, resulting in poor practicability. The preferable lower limit of the content is 1 part by weight and the upper limit is 50 parts by weight. If the amount is less than 1 part by weight, a sufficient flame retarding effect may not be obtained when the insulating substrate material of the present invention is thinly formed, and if it exceeds 50 parts by weight, moldability may be deteriorated. A more preferable lower limit of the content is 5 parts by weight and an upper limit thereof is 20 parts by weight. When the amount is 5 to 20 parts by weight, there is no problem in mechanical properties and process suitability, and a sufficient flame retardant effect can be obtained.

【0093】熱可塑性樹脂及び/又は熱硬化性樹脂中に
層状珪酸塩を分散させる方法としては特に限定されず、
例えば、上記有機化層状珪酸塩を用いる方法;熱可塑性
樹脂及び/又は熱硬化性樹脂と層状珪酸塩とを常法によ
り混合した後、発泡させる方法;分散剤を用いる方法等
が挙げられる。これらの分散方法を用いることにより、
熱可塑性樹脂及び/又は熱硬化性樹脂中に層状珪酸塩を
より均一かつ微細に分散させることができる。
The method for dispersing the layered silicate in the thermoplastic resin and / or the thermosetting resin is not particularly limited,
For example, a method using the above-mentioned organically modified layered silicate; a method in which a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin and a layered silicate are mixed by a conventional method and then foamed; a method using a dispersant and the like can be mentioned. By using these dispersion methods,
The layered silicate can be more uniformly and finely dispersed in the thermoplastic resin and / or the thermosetting resin.

【0094】上記の熱可塑性樹脂及び/又は熱硬化性樹
脂と層状珪酸塩とを常法により混合した後、発泡させる
方法は、発泡剤を用いて熱可塑性樹脂及び/又は熱硬化
性樹脂を発泡させ、その発泡エネルギーを層状珪酸塩の
分散エネルギーに転換する方法である。上記発泡剤とし
ては特に限定されず、例えば、気体状発泡剤、易揮発性
液状発泡剤、加熱分解型固体状発泡剤等が挙げられる。
これらの発泡剤は、単独で用いられても良いし、2種類
以上が併用されても良い。
The above-mentioned thermoplastic resin and / or thermosetting resin and the layered silicate are mixed by a conventional method, and then foaming is carried out by foaming the thermoplastic resin and / or thermosetting resin using a foaming agent. Then, the foaming energy is converted into the dispersion energy of the layered silicate. The foaming agent is not particularly limited, and examples thereof include a gaseous foaming agent, an easily volatile liquid foaming agent, and a heat decomposable solid foaming agent.
These foaming agents may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0095】層状珪酸塩の存在下で熱可塑性樹脂及び/
又は熱硬化性樹脂を発泡させることにより層状珪酸塩を
熱可塑性樹脂及び/又は熱硬化性樹脂中に分散せしめる
具体的な方法としては特に限定されず、例えば、熱可塑
性樹脂及び/又は熱硬化性樹脂100重量部及び層状珪
酸塩0.1〜100重量部とからなる樹脂組成物に対
し、気体状発泡剤を高圧下で含浸させた後、この気体状
発泡剤を上記樹脂組成物内で気化させることにより、発
泡体を形成せしめることによる方法;層状珪酸塩の層間
に予め加熱分解型発泡剤を含有させ、その加熱分解型発
泡剤を加熱により分解させて、発泡体を形成せしめるこ
とによる方法等が挙げられる。
In the presence of the layered silicate, the thermoplastic resin and / or
Alternatively, the specific method for dispersing the layered silicate in the thermoplastic resin and / or the thermosetting resin by foaming the thermosetting resin is not particularly limited, and examples thereof include the thermoplastic resin and / or the thermosetting resin. A resin composition consisting of 100 parts by weight of a resin and 0.1 to 100 parts by weight of a layered silicate is impregnated with a gaseous foaming agent under high pressure, and then the gaseous foaming agent is vaporized in the resin composition. A method of forming a foam by forming a foam; a method of preliminarily containing a heat-decomposable foaming agent between the layers of the layered silicate and decomposing the heat-decomposable foaming agent by heating to form a foam. Etc.

【0096】本発明の絶縁基板用材料は、実質的にハロ
ゲン系組成物を含有しない難燃剤を含有することが好ま
しい。なお、実質的にハロゲン系組成物を含有しないと
は、難燃剤の製造工程上の都合等により微量のハロゲン
が混入することはかまわないということを意味する。
The insulating substrate material of the present invention preferably contains a flame retardant containing substantially no halogen-based composition. The phrase "substantially free of halogen-based composition" means that a slight amount of halogen may be mixed in due to reasons such as the manufacturing process of the flame retardant.

【0097】上記難燃剤としては特に限定されず、例え
ば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ドーソ
ナイト、アルミン酸化カルシウム、2水和石こう、水酸
化カルシウム等の金属水酸化物;金属酸化物;赤リンや
ポリリン酸アンモニウム等のリン系化合物;メラミン、
メラミンシアヌレート、メラミンイソシアヌレート、リ
ン酸メラミン及びこれらに表面処理が施されたもののよ
うなメラミン誘導体等の窒素系化合物、フッ素樹脂、シ
リコーンオイル、ハイドロタルサイト等の層状複水和
物;シリコーン−アクリル複合ゴム等が挙げられる。な
かでも金属水酸化物及びメラミン誘導体が好適に用いら
れる。上記金属水酸化物のなかでも、特に水酸化マグネ
シウム、水酸化アルミニウムが好ましく、これらは各種
の表面処理剤により表面処理が施されているものであっ
てもよい。上記表面処理剤としては特に限定されず、例
えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリン
グ剤、PVA系表面処理剤、エポキシ系表面処理剤等が
挙げられる。これらの難燃剤は、単独で用いられても良
いし、2種類以上が併用されても良い。
The above flame retardant is not particularly limited, and examples thereof include metal hydroxides such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, dawsonite, calcium aluminate, dihydrate gypsum and calcium hydroxide; metal oxides; red phosphorus. And phosphorus compounds such as ammonium polyphosphate; melamine,
Nitrogen-based compounds such as melamine cyanurate, melamine isocyanurate, melamine phosphate and melamine derivatives such as those obtained by subjecting these to surface treatment, layered double hydrates such as fluororesins, silicone oils and hydrotalcites; silicone- Acrylic composite rubber and the like can be mentioned. Among them, metal hydroxides and melamine derivatives are preferably used. Among the above metal hydroxides, magnesium hydroxide and aluminum hydroxide are particularly preferable, and these may be those which have been surface-treated with various surface-treating agents. The surface treatment agent is not particularly limited, and examples thereof include a silane coupling agent, a titanate coupling agent, a PVA surface treatment agent, and an epoxy surface treatment agent. These flame retardants may be used alone or in combination of two or more.

【0098】上記難燃剤が金属水酸化物である場合、本
発明1の絶縁基板用材料においては熱可塑性樹脂、又
は、熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂との混合物100重量
部に対する好ましい含有量の下限は0.1重量部、上限
は100重量部であり、本発明2の絶縁基板用材料にお
いては熱硬化性樹脂100重量部に対する好ましい含有
量の下限は0.1重量部、上限は100重量部であり、
本発明3の絶縁基板用材料においてはエポキシ系樹脂1
00重量部に対する上記難燃剤の含有量の下限は0.1
重量部、上限は100重量部である。0.1重量部未満
であると、これらを含有することによる難燃化効果を充
分に得られないことがあり、100重量部を超えると、
絶縁基板用材料の密度(比重)が高くなりすぎて、実用
性が乏しくなったり、柔軟性や伸度が極端に低下するこ
とがある。含有量のより好ましい下限は5重量部、上限
は80重量部であり、含有量の更に好ましい下限は10
重量部、上限は70重量部である。5重量部未満である
と、絶縁基板を薄くすると充分な難燃化効果が得られな
いことがあり、80重量部を超えると、高温での工程中
に膨れ等による不良率が高くなることがある。10〜7
0重量部の範囲であると機械物性、電気物性、工程適性
に問題となる領域がなく、充分な難燃性を発現するので
好適である。
When the flame retardant is a metal hydroxide, it is preferable that the content of the thermoplastic resin or the mixture of the thermoplastic resin and the thermosetting resin is 100 parts by weight in the insulating substrate material of the present invention 1. The lower limit is 0.1 parts by weight and the upper limit is 100 parts by weight. In the insulating substrate material of the present invention 2, the preferred lower limit of the content is 0.1 parts by weight and the upper limit is 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermosetting resin. Is a department
In the insulating substrate material of the present invention 3, the epoxy resin 1
The lower limit of the content of the flame retardant with respect to 00 parts by weight is 0.1.
The upper limit is 100 parts by weight. If it is less than 0.1 part by weight, the flame retarding effect due to the inclusion of these may not be sufficiently obtained, and if it exceeds 100 parts by weight,
The density (specific gravity) of the insulating substrate material may become too high, resulting in poor practicability, or extremely low flexibility and elongation. A more preferable lower limit of the content is 5 parts by weight and an upper limit thereof is 80 parts by weight, and a further preferable lower limit of the content is 10 parts by weight.
Parts by weight, the upper limit is 70 parts by weight. If it is less than 5 parts by weight, a sufficient flame retarding effect may not be obtained if the insulating substrate is made thin, and if it exceeds 80 parts by weight, the defective rate due to swelling during the process at high temperature may increase. is there. 10-7
When it is in the range of 0 parts by weight, there is no problem in mechanical properties, electrical properties and process suitability, and sufficient flame retardancy is exhibited, which is preferable.

【0099】上記難燃剤がメラミン誘導体である場合、
本発明1の絶縁基板用材料においては熱可塑性樹脂、又
は、熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂との混合物100重量
部に対する好ましい含有量の下限は0.1重量部、上限
は100重量部であり、本発明2の絶縁基板用材料にお
いては熱硬化性樹脂100重量部に対する好ましい含有
量の下限は0.1重量部、上限は100重量部であり、
本発明3の絶縁基板用材料においてはエポキシ系樹脂1
00重量部に対する上記難燃剤の含有量の下限は0.1
重量部、上限は100重量部である。0.1重量部未満
であると、これらを含有することによる難燃化効果を充
分に得られないことがあり、100重量部を超えると、
柔軟性や伸度等機械物性が極端に低下することがある。
含有量のより好ましい下限は5重量部、上限は70重量
部であり、含有量の更に好ましい下限は10重量部、上
限は50重量部である。5重量部未満であると、絶縁基
板を薄くすると充分な難燃化効果が得られないことがあ
り、70重量部を超えると、柔軟性や伸度等機械物性が
極端に低下することがある。10〜70重量部の範囲で
あると機械物性、電気物性、工程適性に問題となる領域
はなく、充分な難燃性を発現するので好適である。
When the flame retardant is a melamine derivative,
In the insulating substrate material of the present invention 1, the lower limit of the content is preferably 0.1 parts by weight and the upper limit is 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin or the mixture of the thermoplastic resin and the thermosetting resin. In the insulating substrate material of the present invention 2, the preferable lower limit of the content is 100 parts by weight and the upper limit thereof is 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermosetting resin.
In the insulating substrate material of the present invention 3, the epoxy resin 1
The lower limit of the content of the flame retardant with respect to 00 parts by weight is 0.1.
The upper limit is 100 parts by weight. If it is less than 0.1 part by weight, the flame retarding effect due to the inclusion of these may not be sufficiently obtained, and if it exceeds 100 parts by weight,
Mechanical properties such as flexibility and elongation may be extremely reduced.
A more preferable lower limit of the content is 5 parts by weight and an upper limit thereof is 70 parts by weight, and a further preferable lower limit of the content is 10 parts by weight and an upper limit thereof is 50 parts by weight. If the amount is less than 5 parts by weight, a sufficient flame retarding effect may not be obtained if the insulating substrate is made thin, and if it exceeds 70 parts by weight, mechanical properties such as flexibility and elongation may be extremely deteriorated. . When the amount is in the range of 10 to 70 parts by weight, there is no problem in mechanical properties, electrical properties and process suitability, and sufficient flame retardancy is exhibited, which is preferable.

【0100】本発明の絶縁基板用材料には、本発明の課
題達成を阻害しない範囲で必要に応じて、充填剤、軟化
剤、可塑剤、滑剤、帯電防止剤、防曇剤、着色剤、酸化
防止剤(老化防止剤)、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸
収剤等の各種添加剤の1種類又は2種類以上が配合され
ていても良い。
The insulating substrate material of the present invention contains, if necessary, a filler, a softening agent, a plasticizer, a lubricant, an antistatic agent, an antifogging agent, a colorant, etc. within a range not hindering the achievement of the object of the present invention. One kind or two or more kinds of various additives such as an antioxidant (antiaging agent), a heat stabilizer, a light stabilizer and an ultraviolet absorber may be blended.

【0101】本発明の絶縁基板用材料の製造方法として
は特に限定されず、例えば、熱可塑性樹脂及び/又は熱
硬化性樹脂と層状珪酸塩の各所定量と、必要に応じて配
合される各種添加剤の1種類又は2種類以上の各所定量
とを、常温下又は加熱下で、直接配合して混練する方法
(以下、直接混練法ともいう)や溶媒中で混合した後、
溶媒を除去する方法がある。また、予め熱可塑性樹脂及
び/又は熱硬化性樹脂に所定量以上の層状珪酸塩を配合
して混練したマスターバッチを作製しておき、このマス
ターバッチと熱可塑性樹脂及び/又は熱硬化性樹脂の所
定量の残部(残量)と必要に応じて配合される各種添加
剤の1種類又は2種類以上の各所定量とを、常温下又は
加熱下で混練するか、溶媒中で混合する方法(マスター
バッチ法)等が挙げられる。
The method for producing the insulating substrate material of the present invention is not particularly limited. For example, each predetermined amount of a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin and a layered silicate, and various additives to be blended as necessary. A method of directly blending and kneading one kind or two or more kinds of respective predetermined amounts of the agent at room temperature or under heating (hereinafter, also referred to as direct kneading method) or after mixing in a solvent,
There is a method of removing the solvent. In addition, a master batch prepared by previously mixing a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin with a predetermined amount or more of a layered silicate and kneading the master batch and the thermoplastic resin and / or the thermosetting resin is prepared. A method of kneading a predetermined amount of the balance (remaining amount) and one or more predetermined amounts of various additives to be blended as needed at room temperature or under heating, or in a solvent (master) Batch method) and the like.

【0102】上記マスターバッチにおける層状珪酸塩の
濃度は、特に限定されるものではないが、熱可塑性樹脂
及び/又は熱硬化性樹脂100重量部に対して好ましい
下限が1重量部、上限が500重量部であり、より好ま
しい下限が5重量部、上限が300重量部である。1重
量部未満であると、任意の濃度に希釈可能なマスターバ
ッチとしての利便性が失われることがあり、500重量
部を超えると、マスターバッチ自体の分散性や、特に熱
可塑性樹脂及び/又は熱硬化性樹脂によって所定の配合
量に希釈する際の層状珪酸塩の分散性が悪くなることが
ある。
The concentration of the layered silicate in the above masterbatch is not particularly limited, but the preferable lower limit is 1 part by weight and the upper limit is 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin and / or the thermosetting resin. Parts, more preferably the lower limit is 5 parts by weight and the upper limit is 300 parts by weight. If it is less than 1 part by weight, the convenience as a masterbatch that can be diluted to an arbitrary concentration may be lost, and if it exceeds 500 parts by weight, the dispersibility of the masterbatch itself, especially the thermoplastic resin and / or The dispersibility of the layered silicate when diluted with a thermosetting resin to a predetermined amount may deteriorate.

【0103】また、上記マスターバッチ法においては、
熱可塑性樹脂及び/又は熱硬化性樹脂に層状珪酸塩を配
合した樹脂組成物(A)(マスターバッチ)と、マスタ
ーバッチを希釈して所定の層状珪酸塩濃度とする際に用
いる熱可塑性樹脂及び/又は熱硬化性樹脂からなる樹脂
組成物(B)は同一の組成であっても、異なる組成であ
っても構わない。上記樹脂組成物(A)としては、層状
珪酸塩の分散が容易であるポリアミド系樹脂、ポリフェ
ニレンエーテル系樹脂、ポリエーテルサルフォン系樹脂
及びポリエステル樹脂からなる群より選択される少なく
とも1種の樹脂を含有することが好ましく、上記樹脂組
成物(B)としては、安価で、かつ、電気特性、高温物
性に優れるエポキシ系樹脂を含有することが好ましい。
かかるマスターバッチ法により作製されてなる絶縁基板
用材料もまた、本発明の1つである。
Further, in the above masterbatch method,
A resin composition (A) (masterbatch) in which a layered silicate is mixed with a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin, and a thermoplastic resin used when the masterbatch is diluted to a predetermined layered silicate concentration, and The resin composition (B) made of a thermosetting resin may have the same composition or different compositions. As the resin composition (A), at least one resin selected from the group consisting of a polyamide resin, a polyphenylene ether resin, a polyether sulfone resin, and a polyester resin in which the layered silicate can be easily dispersed. The resin composition (B) is preferably contained, and it is preferable that the resin composition (B) contains an epoxy resin which is inexpensive and has excellent electric characteristics and high-temperature physical properties.
The insulating substrate material produced by such a masterbatch method is also one aspect of the present invention.

【0104】また、樹脂として熱可塑性樹脂を用いる場
合には、例えば、遷移金属錯体類のような重合触媒(重
合開始剤)を含有する層状珪酸塩を用いて、熱可塑性樹
脂を構成するモノマーと上記層状珪酸塩とを混練し、上
記モノマーを重合させることにより、熱可塑性樹脂の重
合と絶縁基板用材料の製造とを同時に一括して行う方法
を採っても良い。
When a thermoplastic resin is used as the resin, for example, a layered silicate containing a polymerization catalyst (polymerization initiator) such as transition metal complexes is used to prepare a monomer that constitutes the thermoplastic resin. It is also possible to employ a method in which the thermoplastic resin and the insulating substrate material are simultaneously produced at the same time by kneading the layered silicate and polymerizing the monomer.

【0105】更に、樹脂として熱硬化性樹脂を用いる場
合には、例えば、アミン類のような硬化剤(架橋剤)を
含有する層状珪酸塩を用いて、熱硬化性樹脂を構成する
樹脂原料と上記層状珪酸塩とを混練し、上記樹脂原料を
硬化(架橋)させることにより、熱硬化性樹脂の硬化
(架橋)と絶縁基板用材料の製造とを同時に一括して行
う方法を採っても良い。
Furthermore, when a thermosetting resin is used as the resin, for example, a layered silicate containing a curing agent (crosslinking agent) such as amines is used as a resin raw material for the thermosetting resin. A method may be adopted in which the thermosetting resin is cured (crosslinked) and the insulating substrate material is manufactured simultaneously by kneading the layered silicate and curing (crosslinking) the resin raw material. .

【0106】上記直接混練法やマスターバッチ法等によ
る本発明の絶縁基板用材料の製造方法において混合物を
混練する方法としては特に限定されず、例えば、押出
機、2本ロール、バンバリーミキサー等の混練機を用い
て混練する方法等が挙げられる。
The method of kneading the mixture in the method for producing a material for an insulating substrate of the present invention by the above-mentioned direct kneading method or masterbatch method is not particularly limited, and for example, kneading with an extruder, two rolls, Banbury mixer, etc. Examples of the method include kneading using a machine.

【0107】こうして得られる本発明の絶縁基板用材料
は、ASTM E 1354に準拠した燃焼試験におい
て、50kW/m2 の輻射加熱条件下で30分間加熱す
ることにより燃焼させた燃焼残渣を速度0.1cm/s
で圧縮した際の降伏点応力が4.9kPa以上であるこ
とが好ましい。4.9kPa未満であると、微小な力で
燃焼残渣の崩壊が起こり易くなって、難燃性が不充分と
なることがある。即ち、本発明の絶縁基板材料及び積層
板の焼結体が難燃被膜としての機能を充分に発現するた
めには、燃焼終了時まで焼結体がその形状を保持してい
ることが好ましい。より好ましくは15.0kPa以上
である。
The insulating substrate material of the present invention thus obtained was subjected to a combustion test according to ASTM E 1354, and the combustion residue obtained by burning it for 30 minutes under the radiant heating condition of 50 kW / m 2 had a rate of 0. 1 cm / s
It is preferable that the stress at yield point when compressed by 4.9 kPa or more. If it is less than 4.9 kPa, the combustion residue is likely to be collapsed by a small force, and the flame retardancy may be insufficient. That is, in order for the sintered body of the insulating substrate material and the laminated plate of the present invention to sufficiently exhibit the function as a flame-retardant coating, it is preferable that the sintered body retains its shape until the end of combustion. More preferably, it is 15.0 kPa or more.

【0108】本発明の絶縁基板用材料は、成形して絶縁
基板としたり、又は、適当な溶媒に溶解する等により含
浸、塗工用のワニスとしたりするのに好適に用いられ
る。更に、積層板、プリント基板、多層基板のコア層や
ビルドアップ層、樹脂付き銅箔、銅張積層板、ポリイミ
ドフィルム、TAB用フィルム、これらに用いられるプ
リプレグ等に好適に用いられるが、本発明の絶縁基板用
材料の用途はこれらに限定されるものではない。
The insulating substrate material of the present invention is preferably used for forming an insulating substrate by molding, or as a varnish for impregnation and coating by dissolving in an appropriate solvent. Further, it is preferably used for a laminated board, a printed board, a core layer or a build-up layer of a multilayer board, a resin-coated copper foil, a copper-clad laminated board, a polyimide film, a TAB film, a prepreg used for these, or the like. The use of the insulating substrate material is not limited to these.

【0109】本発明の絶縁基板用材料の成形方法として
は特に限定されず、例えば、押出機にて溶融混練した
後、押出し、Tダイやサーキュラーダイ等を用いてフィ
ルム状に成形する方法(押出成形法);有機溶剤等の溶
媒に溶解又は分散させた後、キャスティングしてフィル
ム状に成形する方法(キャスティング成形法);有機溶
剤等の溶媒に溶解又は分散して得たワニス中に、ガラス
等の無機材料や有機ポリマーからなるクロス状、不織布
状の基材をディッピングしてフィルム状に成形する方法
(ディッピング成形法)等が挙げられる。なかでも、多
層基板の薄型化を図るためには、押出成形法やキャステ
ィング成形法が好適である。また、上記ディッピング成
形法において用いられる基材としては特に限定されず、
ガラスクロス、アラミド繊維、ポリパラフェニレンベン
ゾオキサゾール繊維等が挙げられる。
The method of molding the material for an insulating substrate of the present invention is not particularly limited. For example, a method of melt-kneading with an extruder, then extruding, and molding into a film using a T die, a circular die or the like (extrusion) Molding method); a method of dissolving or dispersing in a solvent such as an organic solvent and then casting to form a film (casting molding method); a varnish obtained by dissolving or dispersing in a solvent such as an organic solvent, glass Examples of the method include a method of dipping a cloth-shaped or non-woven cloth-shaped substrate made of an inorganic material or an organic polymer into a film shape (dipping molding method). Among them, the extrusion molding method and the casting molding method are preferable in order to reduce the thickness of the multilayer substrate. Further, the substrate used in the dipping molding method is not particularly limited,
Examples thereof include glass cloth, aramid fiber, polyparaphenylene benzoxazole fiber and the like.

【0110】本発明の絶縁基板用材料は、熱可塑性樹脂
及び/又は熱硬化性樹脂、並びに、層状珪酸塩を含有す
るので、優れた力学的物性や透明性を有する。また、層
状珪酸塩は通常の無機充填剤のように多量に配合しなく
とも優れた力学的物性が得られることから、薄い絶縁基
板とすることができ、多層プリント基板の高密度化、薄
型化に対応することが可能である。また、本発明の絶縁
基板用材料は、分子鎖の拘束によるガラス転移点温度、
耐熱変形温度の上昇に基づく耐熱性の向上や熱線膨張率
の低減、結晶形成の際の層状珪酸塩による造核剤効果に
基づく寸法安定性の向上等も図られている。更に、本発
明の絶縁基板用材料は、層状珪酸塩の添加により吸水、
吸湿、それに伴う膨張等寸法安定性の低下を防ぐ作用を
有する。
Since the insulating substrate material of the present invention contains a thermoplastic resin and / or a thermosetting resin, and a layered silicate, it has excellent mechanical properties and transparency. In addition, layered silicate can be used as a thin insulating substrate because it can provide excellent mechanical properties without adding a large amount like ordinary inorganic fillers. It is possible to correspond to. Further, the insulating substrate material of the present invention has a glass transition temperature due to the restraint of molecular chains,
Improvements in heat resistance due to an increase in heat distortion temperature, reduction in coefficient of linear thermal expansion, and improvement in dimensional stability based on the nucleating agent effect of the layered silicate during crystal formation are also attempted. Furthermore, the insulating substrate material of the present invention absorbs water by addition of the layered silicate,
It has the function of preventing moisture absorption and the accompanying reduction in dimensional stability such as expansion.

【0111】本発明の絶縁基板用材料は、燃焼時に層状
珪酸塩による焼結体が形成され、燃焼残渣の形状が保持
される。これにより燃焼後も形状崩壊が起こらず、延焼
を防止することができる。したがって、本発明の絶縁基
板用材料は、優れた難燃性を発現する。更に、金属水酸
化物、メラミン誘導体等のノンハロゲン難燃剤と組み合
わせることで、環境にも配慮しつつ、高い力学的物性と
高い難燃性とを両立することができる。
The material for the insulating substrate of the present invention forms a sintered body of layered silicate during combustion, and retains the shape of combustion residue. As a result, shape collapse does not occur even after combustion, and fire spread can be prevented. Therefore, the insulating substrate material of the present invention exhibits excellent flame retardancy. Further, by combining with a non-halogen flame retardant such as a metal hydroxide or a melamine derivative, it is possible to achieve both high mechanical properties and high flame retardancy while considering the environment.

【0112】[0112]

【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。
The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0113】(実施例1)小型押出機(日本製鋼所社
製、TEX30)中に、熱可塑性樹脂として変性ポリフ
ェニレンエーテル系樹脂(旭化成工業社製、ザイロン
(PKL)X9102)92.3重量部、層状珪酸塩と
してジステアリルジメチル4級アンモニウム塩で有機化
処理が施された膨潤性フッ素マイカ(コープケミカル社
製、ソマシフMAE−100)7.7重量部をフィード
し、設定温度280℃で溶融混練してストランド状に押
出し、押出されたストランドをペレタイザーによりペレ
ット化することにより絶縁基板用材料を得た。次いで、
得られた絶縁基板用材料のペレットを上下各280℃に
温調した熱プレスでプレスし圧延して、厚さ2mm及び
100μmの板状成形体を作製した。
(Example 1) 92.3 parts by weight of a modified polyphenylene ether resin (made by Asahi Kasei Corporation, Zylon (PKL) X9102) as a thermoplastic resin in a small extruder (made by Japan Steel Works, TEX30), 7.7 parts by weight of swellable fluorinated mica (Somasif MAE-100 manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) that has been organically treated with distearyl dimethyl quaternary ammonium salt as a layered silicate is fed and melt-kneaded at a set temperature of 280 ° C It was then extruded into a strand, and the extruded strand was pelletized by a pelletizer to obtain a material for an insulating substrate. Then
The obtained pellets of the insulating substrate material were pressed by a hot press whose temperature was adjusted to 280 ° C. at each of the upper and lower sides and rolled to produce a plate-shaped molded body having a thickness of 2 mm and 100 μm.

【0114】(実施例2)更に難燃剤として水酸化マグ
ネシウム(協和化学工業社製、キスマ5J)20重量部
を配合したこと以外は実施例1と同様にして、絶縁基板
用材料のペレット、並びに、厚さ2mm及び100μm
の板状成形体を作製した。
Example 2 In the same manner as in Example 1 except that 20 parts by weight of magnesium hydroxide (manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd., Kisuma 5J) was added as a flame retardant, pellets of an insulating substrate material, and , Thickness 2 mm and 100 μm
The plate-shaped molded body of was produced.

【0115】(実施例3)熱可塑性樹脂として脂環式炭
化水素系樹脂(ノルボルネン系樹脂、日本ゼオン社製、
ゼオノア1600R)70重量部、層状珪酸塩としてジ
ステアリルジメチル4級アンモニウム塩で有機化処理が
施された膨潤性フッ素マイカ(コープケミカル社製、ソ
マシフMAE−100)20重量部をシクロヘキサン
(和光純薬工業社製、特級)中に樹脂濃度が30重量%
となるように投入し、攪拌混合して、溶解させた。この
溶液中に合成シリカ(三菱マテリアル社製、エルシル
(球状品))85重量部、トリメリット酸トリアリルエ
ステル(三共社製、TRIAM705)30重量部を投
入し、攪拌混合した溶液を得、更に乾燥させて溶媒を除
くことにより絶縁基板用材料を得た。次いで、得られた
絶縁基板用材料を上下各280℃に温調した熱プレスで
プレスし圧延して、厚さ2mm及び100μmの板状成
形体を作製した。
Example 3 An alicyclic hydrocarbon resin (norbornene resin, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) as a thermoplastic resin,
ZEONOR 1600R) 70 parts by weight, 20 parts by weight of swellable fluorine mica (Somasif MAE-100 manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) which has been organically treated with a distearyl dimethyl quaternary ammonium salt as a layered silicate, and cyclohexane (Wako Pure Chemical) Made by Kogyo Co., Ltd.) with a resin concentration of 30% by weight
It was charged so that it became, and mixed by stirring to dissolve. To this solution, 85 parts by weight of synthetic silica (manufactured by Mitsubishi Materials Corp., Elsil (spherical product)) and 30 parts by weight of trimellitic acid triallyl ester (Sankyo Co., Ltd., TRIAM705) were added, and the mixture was stirred to obtain a solution. An insulating substrate material was obtained by drying and removing the solvent. Then, the obtained insulating substrate material was pressed by a hot press whose temperature was adjusted to 280 ° C. at each of the upper and lower sides and rolled to produce a plate-shaped molded body having a thickness of 2 mm and 100 μm.

【0116】(実施例4)小型押出機(日本製鋼所社
製、TEX30)中に、熱可塑性樹脂としてポリエーテ
ルイミド樹脂92.3重量部、層状珪酸塩としてジステ
アリルジメチル4級アンモニウム塩で有機化処理が施さ
れた膨潤性フッ素マイカ(コープケミカル社製、ソマシ
フMAE−100)7.7重量部及び難燃剤として水酸
化マグネシウム(協和化学工業社製、キスマ5J)20
重量部をフィードし、溶融混練してストランド状に押出
し、押出されたストランドをペレタイザーによりペレッ
ト化することにより絶縁基板用材料のペレットを得た。
次いで、得られた絶縁基板用材料のペレットを上下各3
50℃に温調した熱プレスでプレスし圧延して、厚さ2
mm及び100μmの板状成形体を作製した。
Example 4 In a small extruder (TEX30 manufactured by Japan Steel Works, Ltd.), 92.3 parts by weight of a polyetherimide resin as a thermoplastic resin and a distearyl dimethyl quaternary ammonium salt as a layered silicate were used as organic materials. 7.7 parts by weight of swellable fluorine mica (Somasif MAE-100 manufactured by Cope Chemical Co., Ltd.) and magnesium hydroxide (Kisuma 5J manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.) as a flame retardant 20
Part by weight was fed, melt-kneaded, extruded into a strand shape, and the extruded strand was pelletized by a pelletizer to obtain a pellet of a material for an insulating substrate.
Then, the pellets of the obtained insulating substrate material are respectively placed on the upper and lower sides by 3
The thickness is 2 by pressing and rolling with a hot press controlled to 50 ℃.
mm and 100 μm plate-shaped compacts were produced.

【0117】(実施例5)ビスフェノールF型エポキシ
樹脂(大日本インキ化学工業社製、エピクロン830L
VP)57.7重量部、BTレジン(三菱瓦斯化学社
製、BT2100B)15.7重量部、ネオペンチルグ
リコールジグリシジルエーテル15.7重量部、カップ
リング剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン(日本ユニカー社製、A−187)2.1重量
部、硬化触媒としてアセチルアセトン鉄(日本化学産業
社製)1.1重量部からなるエポキシ樹脂組成物92.
3重量部、層状珪酸塩としてジステアリルジメチル4級
アンモニウム塩で有機化処理が施された膨潤性フッ素マ
イカ(コープケミカル社製、ソマシフMAE−100)
7.7重量部及び難燃剤として水酸化マグネシウム(協
和化学工業社製、キスマ5J)20重量部を攪拌擂塊機
で1時間混練した後、脱泡して、液状の絶縁樹脂組成物
を得た。次いで、得られた液状の絶縁樹脂組成物を11
0℃で3時間加熱した後、更に160℃で3時間加熱し
て硬化させることにより絶縁基板用材料を得、厚さ2m
m及び100μmの板状成形体を作製した。
Example 5 Bisphenol F type epoxy resin (Epiclon 830L, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
VP) 57.7 parts by weight, BT resin (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc., BT2100B) 15.7 parts by weight, neopentyl glycol diglycidyl ether 15.7 parts by weight, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane as a coupling agent. An epoxy resin composition 92. 2.1 parts by weight (manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) and 1.1 parts by weight of iron acetylacetone (manufactured by Nippon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) as a curing catalyst.
3 parts by weight, a swelling fluorine mica organically treated with distearyl dimethyl quaternary ammonium salt as a layered silicate (Somasif MAE-100 manufactured by Corp Chemical)
After 7.7 parts by weight and 20 parts by weight of magnesium hydroxide (Kyowa Chemical Industry Co., Ltd., Kisuma 5J) as a flame retardant were kneaded with a stirring and kneading machine for 1 hour, degassing was performed to obtain a liquid insulating resin composition. It was Then, the obtained liquid insulating resin composition
After heating at 0 ° C for 3 hours, it is further heated at 160 ° C for 3 hours to be cured to obtain a material for an insulating substrate, and a thickness of 2 m.
m and 100 μm plate-shaped molded bodies were produced.

【0118】(実施例6〜11)小型押出機(日本製鋼
所社製、TEX30)中に、固形エポキシ樹脂(油化シ
ェルエポキシ社製、エピコート1007)90重量部、
層状珪酸塩としてジステアリルジメチル4級アンモニウ
ム塩で有機化処理が施された天然モンモリロナイト(豊
順洋行社製、New S−Ben D)10重量部、及
び、難燃剤として水酸化マグネシウム(協和化学工業社
製、キスマ5J)0.1、5、10、70、80、10
0重量部をフィードし、100℃で溶融混練してストラ
ンド状に押出し、押出されたストランドをペレタイザー
によりペレット化した。
(Examples 6 to 11) 90 parts by weight of a solid epoxy resin (made by Yuka Shell Epoxy Co., Epicoat 1007) in a small extruder (made by Japan Steel Works, TEX30),
As a layered silicate, 10 parts by weight of natural montmorillonite (New S-Ben D, manufactured by Toyojun Yoko Co., Ltd.) that has been organically treated with distearyldimethyl quaternary ammonium salt, and magnesium hydroxide as a flame retardant (Kyowa Chemical Industry Co., Ltd. Kisuma 5J) 0.1, 5, 10, 70, 80, 10
0 parts by weight was fed, melt-kneaded at 100 ° C., extruded into a strand, and the extruded strand was pelletized by a pelletizer.

【0119】このペレットをメチルエチルケトンに溶解
し、硬化剤としてジシアンジアミド(ビィ・ティ・アイ
・ジャパン社製、CG−1200)を固形エポキシ分9
0重量部に対して3重量部、硬化触媒(四国化成社製、
キュアゾール2E4HZ)を固形エポキシ分90重量部
に対して3重量部この溶液に加え充分に撹拌した後、脱
泡して、絶縁樹脂組成物溶液を作製した。次いで、得ら
れた絶縁樹脂組成物溶液を鋳型に入れた状態又はポリエ
チレンテレフタレートのシート上に塗布した状態で溶媒
を除去した後、110℃で3時間加熱し、更に160℃
で3時間加熱して硬化させ絶縁基板用材料を得、厚さ2
mm及び100μmの板状成形体を作製した。
The pellets were dissolved in methyl ethyl ketone, and dicyandiamide (CG-1200 manufactured by BITI Japan Co., Ltd.) as a curing agent was added as a solid epoxy component 9
3 parts by weight relative to 0 parts by weight, curing catalyst (manufactured by Shikoku Kasei Co.,
Curesol 2E4HZ) was added to this solution in an amount of 3 parts by weight based on 90 parts by weight of the solid epoxy content, and the mixture was sufficiently stirred and then defoamed to prepare an insulating resin composition solution. Then, after removing the solvent in a state where the obtained insulating resin composition solution was placed in a mold or applied on a sheet of polyethylene terephthalate, it was heated at 110 ° C. for 3 hours, and further heated at 160 ° C.
Heat for 3 hours to cure and obtain a material for insulating substrate, thickness 2
mm and 100 μm plate-shaped compacts were produced.

【0120】(実施例12〜17)小型押出機(日本製
鋼所社製、TEX30)中に、固形エポキシ樹脂(油化
シェルエポキシ社製、エピコート1007)90重量
部、ゴム成分としてエポキシ変性ブタジエンゴム(ナガ
セケムテックス社製、デナレックスR−45EPT)1
0重量部、難燃剤として水酸化マグネシウム(協和化学
工業社製、キスマ5J)30重量部、及び、層状珪酸塩
として合成マイカ(コープケミカル社製、ME−10
0)0.1、1、5、20、50、100重量部をフィ
ードし、100℃で溶融混練してストランド状に押出
し、押出されたストランドをペレタイザーによりペレッ
ト化した。
(Examples 12 to 17) 90 parts by weight of a solid epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Epicoat 1007) in a small extruder (TEX30 manufactured by Japan Steel Works) and an epoxy-modified butadiene rubber as a rubber component. (Denalex R-45 EPT, manufactured by Nagase Chemtex) 1
0 parts by weight, magnesium hydroxide (Kyowa Chemical Industry Co., Ltd., Kisuma 5J) 30 parts by weight as a flame retardant, and synthetic mica (Corp Chemical Co., ME-10) as a layered silicate.
0) 0.1, 1, 5, 20, 50, 100 parts by weight was fed, melt-kneaded at 100 ° C. and extruded into a strand, and the extruded strand was pelletized by a pelletizer.

【0121】このペレットをメチルエチルケトンに溶解
し、硬化剤としてジシアンジアミド(ビィ・ティ・アイ
・ジャパン社製、CG−1200)を固形エポキシ分9
0重量部に対して3重量部、硬化触媒(四国化成社製、
キュアゾール2E4HZ)を固形エポキシ分90重量部
に対して3重量部この溶液に加え充分に撹拌した後、脱
泡して、絶縁樹脂組成物溶液を作製した。次いで、得ら
れた絶縁樹脂組成物溶液を鋳型に入れた状態又はポリエ
チレンテレフタレートのシート上に塗布した状態で溶媒
を除去した後、110℃で3時間加熱し、更に160℃
で3時間加熱して硬化させ絶縁基板用材料を得、厚さ2
mm及び100μmの板状成形体を作製した。
The pellets were dissolved in methyl ethyl ketone, and dicyandiamide (CG-1200 manufactured by BITI Japan Co., Ltd.) as a curing agent was added as a solid epoxy component 9
3 parts by weight relative to 0 parts by weight, curing catalyst (manufactured by Shikoku Kasei Co.,
Curesol 2E4HZ) was added to this solution in an amount of 3 parts by weight based on 90 parts by weight of the solid epoxy content, and the mixture was sufficiently stirred and then defoamed to prepare an insulating resin composition solution. Then, after removing the solvent in a state where the obtained insulating resin composition solution was placed in a mold or applied on a sheet of polyethylene terephthalate, it was heated at 110 ° C. for 3 hours, and further heated at 160 ° C.
Heat for 3 hours to cure and obtain a material for insulating substrate, thickness 2
mm and 100 μm plate-shaped compacts were produced.

【0122】(実施例18)小型押出機(日本製鋼所社
製、TEX30)中に、熱可塑性樹脂としてポリフェニ
レンエーテル樹脂(旭化成社製、ザイロンX9102)
40重量部、ゴム成分としてエポキシ変性ブタジエンゴ
ム(ナガセケムテックス社製、デナレックスR−45E
PT)10重量部、層状珪酸塩としてジステアリルジメ
チル4級アンモニウム塩で有機化処理が施された合成マ
イカ(コープケミカル社製、ソマシフMAE−100)
10重量部及び難燃剤としてメラミン誘導体メラミンシ
アヌレート(日産化学社製)50重量部をフィードし、
280℃で溶融混練してストランド状に押出し、押出さ
れたストランドをペレタイザーによりペレット化した。
(Example 18) A polyphenylene ether resin (made by Asahi Kasei Corp., Zylon X9102) as a thermoplastic resin in a small extruder (made by Japan Steel Works, TEX30).
40 parts by weight, epoxy-modified butadiene rubber as a rubber component (Denarex R-45E manufactured by Nagase Chemtex Corp.)
PT) 10 parts by weight, and synthetic mica (Somasif MAE-100 manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) that has been organically treated with distearyldimethyl quaternary ammonium salt as a layered silicate.
10 parts by weight and 50 parts by weight of a melamine derivative melamine cyanurate (manufactured by Nissan Kagaku Co.) as a flame retardant are fed,
The mixture was melt-kneaded at 280 ° C. and extruded into a strand, and the extruded strand was pelletized by a pelletizer.

【0123】このペレットをトルエンに溶解し、この溶
液に液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ダウケミカ
ル日本社製、D.E.R.331L)をポリフェニレン
エーテル樹脂40重量部に対して60重量部になるよう
に加え、更に、硬化剤としてジシアンジアミド(ビィ・
ティ・アイ・ジャパン社製、CG−1200)を固形エ
ポキシ分60重量部に対して2重量部、硬化触媒(四国
化成社製、キュアゾール2E4HZ)を固形エポキシ分
60重量部に対して2重量部この溶液に加え充分に撹拌
した後、脱泡して、絶縁樹脂組成物溶液を作製した。次
いで、得られた絶縁樹脂組成物溶液を鋳型に入れた状態
又はポリエチレンテレフタレートのシート上に塗布した
状態で溶媒を除去した後、110℃で3時間加熱し、更
に160℃で3時間加熱して硬化させ絶縁基板用材料を
得、厚さ2mm及び100μmの板状成形体を作製し
た。
The pellets were dissolved in toluene, and the liquid bisphenol A type epoxy resin (D.E.R. 331L, manufactured by Dow Chemical Japan Co., Ltd.) was added to the solution in an amount of 60 parts by weight based on 40 parts by weight of the polyphenylene ether resin. In addition, as a curing agent, dicyandiamide
2 parts by weight of CG-1200 manufactured by TI Japan Co., Ltd. with respect to 60 parts by weight of solid epoxy, and 2 parts by weight of curing catalyst (Curesol 2E4HZ manufactured by Shikoku Kasei) with respect to 60 parts by weight of solid epoxy. After adding to this solution and stirring thoroughly, it was defoamed to prepare an insulating resin composition solution. Then, after removing the solvent in a state where the obtained insulating resin composition solution was put in a mold or applied on a polyethylene terephthalate sheet, it was heated at 110 ° C. for 3 hours and further heated at 160 ° C. for 3 hours. The material for an insulating substrate was obtained by curing and a plate-shaped molded body having a thickness of 2 mm and 100 μm was produced.

【0124】(実施例19)小型押出機(日本製鋼所社
製、TEX30)中に、熱可塑性樹脂として6−ナイロ
ン樹脂(東洋紡積社製、T−850)30重量部、層状
珪酸塩として天然モンモリロナイト(豊順洋行社製、B
engel A)10重量部及び難燃剤として水酸化マ
グネシウム(協和化学工業社製、キスマ5J)40重量
部をフィードし、250℃で溶融混練してストランド状
に押出し、押出されたストランドをペレタイザーにより
ペレット化した。
(Example 19) 30 parts by weight of 6-nylon resin (T-850 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) as a thermoplastic resin and natural as a layered silicate in a small extruder (TEX30 manufactured by Japan Steel Works). Montmorillonite (Toyojun Yoko, B
Engel A) 10 parts by weight and magnesium hydroxide (Kyowa Chemical Industry Co., Ltd., Kisuma 5J) 40 parts by weight as a flame retardant are melt-kneaded at 250 ° C. and extruded into a strand, and the extruded strand is pelletized by a pelletizer. Turned into

【0125】このペレットをo−クロロフェノールに溶
解し、この溶液に液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(ダウケミカル日本社製、D.E.R.331L)を6
−ナイロン樹脂30重量部に対して70重量部になるよ
うに加え、更に、硬化剤としてジシアンジアミド(ビィ
・ティ・アイ・ジャパン社製、CG−1200)を固形
エポキシ分70重量部に対して2.3重量部、硬化触媒
(四国化成社製、キュアゾール2E4HZ)を固形エポ
キシ分90重量部に対して2.3重量部この溶液に加え
充分に撹拌した後、脱泡して、絶縁樹脂組成物溶液を作
製した。次いで、得られた絶縁樹脂組成物溶液を鋳型に
入れた状態又はポリエチレンテレフタレートのシート上
に塗布した状態で溶媒を除去した後、110℃で3時間
加熱し、更に160℃で3時間加熱して硬化させ絶縁基
板用材料を得、厚さ2mm及び100μmの板状成形体
を作製した。
This pellet was dissolved in o-chlorophenol, and 6 parts of liquid bisphenol A type epoxy resin (D.E.R. 331L, manufactured by Dow Chemical Japan Co.) was added to this solution.
-Adding 70 parts by weight to 30 parts by weight of nylon resin, and further adding dicyandiamide (CG-1200 manufactured by BITI Japan Co., Ltd.) as a curing agent to 2 parts based on 70 parts by weight of solid epoxy content. 2.3 parts by weight of curing catalyst (Curesol 2E4HZ, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.) was added to this solution in an amount of 2.3 parts by weight based on 90 parts by weight of solid epoxy content, and the mixture was sufficiently stirred and then defoamed to obtain an insulating resin composition A solution was made. Then, after removing the solvent in a state where the obtained insulating resin composition solution was put in a mold or applied on a polyethylene terephthalate sheet, it was heated at 110 ° C. for 3 hours and further heated at 160 ° C. for 3 hours. The material for an insulating substrate was obtained by curing and a plate-shaped molded body having a thickness of 2 mm and 100 μm was produced.

【0126】(実施例20)小型押出機(日本製鋼所社
製、TEX30)中に、熱可塑性樹脂としてポリエーテ
ルエーテルケトン樹脂(ビクトレックス社製、450G
2)90重量部、層状珪酸塩としてジステアリルジメチ
ル4級アンモニウム塩で有機化処理が施された天然モン
モリロナイト(豊順洋行社製、New S−Ben
D)10重量部、難燃剤としてメラミン誘導体メラミン
シアヌレート(日産化学社製)10重量部をフィード
し、370℃で溶融混練してストランド状に押出し、押
出されたストランドをペレタイザーによりペレット化す
ることにより絶縁基板用材料のペレットを得た。次い
で、得られた絶縁基板用材料のペレットを上下各370
℃に温調した熱プレスでプレスし圧延して、厚さ2mm
及び100μmの板状成形体を作製した。
(Example 20) A polyetheretherketone resin (manufactured by Victorex Co., 450G) was used as a thermoplastic resin in a small extruder (TEX30 manufactured by Japan Steel Works, Ltd.).
2) 90 parts by weight, natural montmorillonite (Toyojun Yoko Corp., New S-Ben, organically treated with distearyldimethyl quaternary ammonium salt as a layered silicate)
D) 10 parts by weight, 10 parts by weight of a melamine derivative melamine cyanurate (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) as a flame retardant are fed, melt-kneaded at 370 ° C. and extruded into a strand, and the extruded strand is pelletized by a pelletizer. Thus, a pellet of the insulating substrate material was obtained. Then, the pellets of the obtained insulating substrate material are placed on the upper and lower sides 370, respectively.
2mm thick by pressing and rolling with a hot press controlled to ℃
And a plate-shaped molded body of 100 μm were produced.

【0127】(実施例21)熱硬化性ポリイミド樹脂
(I.S.T社製、SKYBOND703)90重量部
に、層状珪酸塩としてジステアリルジメチル4級アンモ
ニウム塩で有機化処理が施された合成マイカ(コープケ
ミカル社製、ソマシフMAE−100)10重量部を加
え撹拌し、ワニスを得た。次いで、得られたワニスをポ
リエチレンテレフタレートのフィルム上に塗布して得ら
れたシートを120℃で60時間加熱し、厚さ100μ
mのシートとそれを積層した厚さ2mmの板状成形体を
作製した。
(Example 21) 90 parts by weight of a thermosetting polyimide resin (SKYBOND703, manufactured by IST) were treated with a synthetic mica as a layered silicate with distearyldimethyl quaternary ammonium salt. 10 parts by weight (Somasif MAE-100 manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) was added and stirred to obtain a varnish. Then, the obtained varnish was applied onto a polyethylene terephthalate film and the obtained sheet was heated at 120 ° C. for 60 hours to give a thickness of 100 μm.
A sheet having a thickness of 2 mm and a sheet having a thickness of 2 mm were produced by laminating the sheet of m.

【0128】(比較例1)膨潤性フッ素マイカ(コープ
ケミカル社製、ソマシフMAE−100)7.7重量部
の代わりに、平均粒子径50μmの炭酸カルシウム7.
7重量部を用いたこと以外は実施例1と同様にして、絶
縁基板用材料、並びに、厚さ2mm及び100μmの板
状成形体を作製した。
(Comparative Example 1) Calcium carbonate having an average particle diameter of 50 μm was used in place of 7.7 parts by weight of swelling fluorine mica (Somasif MAE-100 manufactured by Coop Chemical Co.).
In the same manner as in Example 1 except that 7 parts by weight was used, an insulating substrate material and a plate-shaped molded body having a thickness of 2 mm and 100 μm were produced.

【0129】(比較例2)膨潤性フッ素マイカ(コープ
ケミカル社製、ソマシフMAE−100)を配合しなか
ったこと以外は実施例2と同様にして、絶縁基板用材
料、並びに、厚さ2mm及び100μmの板状成形体を
作製した。
(Comparative Example 2) An insulating substrate material and a thickness of 2 mm were prepared in the same manner as in Example 2 except that the swellable fluorine mica (Somasif MAE-100 manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) was not added. A 100 μm plate-shaped molded body was produced.

【0130】(比較例3)膨潤性フッ素マイカ(コープ
ケミカル社製、ソマシフMAE−100)を配合しなか
ったこと以外は実施例3と同様にして、絶縁基板用材
料、並びに、厚さ2mm及び100μmの板状成形体を
作製した。
(Comparative Example 3) An insulating substrate material and a thickness of 2 mm were prepared in the same manner as in Example 3 except that the swellable fluorine mica (Somasif MAE-100 manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) was not added. A 100 μm plate-shaped molded body was produced.

【0131】(比較例4)膨潤性フッ素マイカ(コープ
ケミカル社製、ソマシフMAE−100)を配合しなか
ったこと以外は実施例4と同様にして、絶縁基板用材
料、並びに、厚さ2mm及び100μmの板状成形体を
作製した。
Comparative Example 4 An insulating substrate material and a thickness of 2 mm were prepared in the same manner as in Example 4 except that the swelling fluorine mica (Somasif MAE-100 manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) was not added. A 100 μm plate-shaped molded body was produced.

【0132】(比較例5)膨潤性フッ素マイカ(コープ
ケミカル社製、ソマシフMAE−100)を配合しなか
ったこと以外は実施例5と同様にして、絶縁基板用材
料、並びに、厚さ2mm及び100μmの板状成形体を
作製した。
(Comparative Example 5) An insulating substrate material and a thickness of 2 mm were prepared in the same manner as in Example 5 except that the swellable fluorine mica (Somasif MAE-100 manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) was not added. A 100 μm plate-shaped molded body was produced.

【0133】(比較例6)水酸化マグネシウムの添加量
を0.05重量部とし、天然モンモリロナイトの添加量
を0.05重量部としたこと以外は実施例6〜11と同
様にして絶縁基板用材料、並びに、厚さ2mm及び10
0μmの板状成形体を作製した。
Comparative Example 6 For insulating substrates in the same manner as in Examples 6 to 11 except that the amount of magnesium hydroxide added was 0.05 parts by weight and the amount of natural montmorillonite added was 0.05 parts by weight. Material and thickness 2 mm and 10
A 0 μm plate-shaped molded body was produced.

【0134】(比較例7)水酸化マグネシウムの添加量
を120重量部としたこと以外は実施例6〜11と同様
にして絶縁基板用材料、並びに、厚さ2mm及び100
μmの板状成形体を作製した。
Comparative Example 7 An insulating substrate material and thicknesses of 2 mm and 100 were prepared in the same manner as in Examples 6 to 11 except that the amount of magnesium hydroxide added was 120 parts by weight.
A plate-shaped molded body of μm was produced.

【0135】(比較例8)合成マイカの添加量を0.0
5重量部としたこと以外は実施例12〜17と同様にし
て絶縁基板用材料、並びに、厚さ2mm及び100μm
の板状成形体を作製した。
(Comparative Example 8) The amount of synthetic mica added was 0.0
A material for an insulating substrate and a thickness of 2 mm and 100 μm in the same manner as in Examples 12 to 17 except that the amount was 5 parts by weight.
The plate-shaped molded body of was produced.

【0136】(比較例9)合成マイカの添加量を130
重量部としたこと以外は実施例12〜17と同様にして
絶縁基板用材料、並びに、厚さ2mm及び100μmの
板状成形体を作製した。
(Comparative Example 9) The addition amount of synthetic mica was set to 130.
A material for an insulating substrate and a plate-shaped molded product having a thickness of 2 mm and 100 μm were produced in the same manner as in Examples 12 to 17 except that the weight part was used.

【0137】(比較例10)メラミン誘導体の添加量を
0.05重量部とし、合成マイカの添加量を0.05重
量部としたこと以外は実施例18と同様にして絶縁基板
用材料、並びに、厚さ2mm及び100μmの板状成形
体を作製した。
(Comparative Example 10) An insulating substrate material and an insulating substrate material were prepared in the same manner as in Example 18 except that the melamine derivative was added in an amount of 0.05 parts by weight and the synthetic mica was added in an amount of 0.05 parts by weight. A plate-shaped molded body having a thickness of 2 mm and a thickness of 100 μm was produced.

【0138】(比較例11)メラミン誘導体の添加量を
120重量部としたこと以外は実施例18と同様にして
絶縁基板用材料、並びに、厚さ2mm及び100μmの
板状成形体を作製した。
(Comparative Example 11) A material for an insulating substrate and a plate-shaped molded product having a thickness of 2 mm and 100 µm were produced in the same manner as in Example 18 except that the addition amount of the melamine derivative was 120 parts by weight.

【0139】<評価>実施例1〜21、及び、比較例1
〜11で得られた板状成形体の性能(層状珪酸塩の平均
層間距離、5層以下に分散している層状珪酸塩の割合、
ビア加工性、燃焼時形状保持性、燃焼残渣の被膜強度)
を以下の方法で評価した。結果は表1〜表6に示した。
<Evaluation> Examples 1 to 21 and Comparative Example 1
Performance of the plate-shaped molded product obtained in any one of (1) to (11) (average interlayer distance of layered silicate, ratio of layered silicate dispersed in 5 layers or less,
Via processability, shape retention during combustion, film strength of combustion residue)
Was evaluated by the following method. The results are shown in Tables 1 to 6.

【0140】(1)層状珪酸塩の平均層間距離 X線回折測定装置(リガク社製、RINT1100)を
用いて、厚さ2mmの板状成形体中の層状珪酸塩の積層
面の回折より得られる回折ピークの2θを測定し、下記
式(4)のブラックの回折式により、層状珪酸塩の(0
01)面間隔(d)を算出し、得られたdを平均層間距
離(nm)とした。 λ=2dsinθ (4) 式中、λは1.54であり、dは層状珪酸塩の面間隔を
表し、θは回折角を表す。
(1) Average interlaminar distance of layered silicate Obtained by diffraction of layered surface of layered silicate in a plate-shaped compact having a thickness of 2 mm using an X-ray diffractometer (RINT1100 manufactured by Rigaku Corporation). The 2θ of the diffraction peak is measured, and the (0) of the layered silicate is calculated by the black diffraction formula (4) below.
01) Interplanar spacing (d) was calculated, and the obtained d was defined as the average interlayer distance (nm). λ = 2d sin θ (4) In the formula, λ is 1.54, d represents the interplanar spacing of the layered silicate, and θ represents the diffraction angle.

【0141】(2)5層以下に分散している層状珪酸塩
の割合 透過型電子顕微鏡を用いて5万〜10万倍で観察して、
一定面積中において観察できる層状珪酸塩の積層集合体
の全層数(X)のうち5層以下で分散している層状珪酸
塩の層数(Y)を計測し、下記式(3)により5層以下
に分散している層状珪酸塩の割合(%)を算出した。 5層以下に分散している層状珪酸塩の割合(%)=(Y/X)×100 (3)
(2) Ratio of layered silicate dispersed in 5 layers or less Observed at 50,000 to 100,000 times with a transmission electron microscope,
Of the total number (X) of layered silicate laminates that can be observed in a given area, the number of layered silicate layers (Y) dispersed in 5 or less layers was measured, and 5 was calculated by the following formula (3). The ratio (%) of the layered silicate dispersed below the layer was calculated. Ratio (%) of layered silicate dispersed in 5 layers or less = (Y / X) × 100 (3)

【0142】(3)ビア加工性 高ピーク短パルス発振型炭酸ガスレーザー加工機(三菱
電機社製、ML605GTX−5100U)を用いて、
厚さ100μmの板状成形体にマイクロビアを形成させ
た。次いで、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて、上
記ビア表面を観察し、下記判定基準によりビア加工性を
評価した。 ○:炭化物の発生が少なく、ビア形状やビア開径の差が
小さかった。 ×:炭化物の発生が多く、ビア形状やビア開径の差が大
きかった。
(3) Via Workability Using a high peak short pulse oscillation type carbon dioxide gas laser processing machine (ML605GTX-5100U, manufactured by Mitsubishi Electric Corporation),
Micro vias were formed in a plate-shaped molded body having a thickness of 100 μm. Then, the via surface was observed using a scanning electron microscope (SEM), and the via processability was evaluated according to the following criteria. ◯: Carbide generation was small, and the difference in via shape and via opening diameter was small. X: Carbide was generated frequently, and the difference in via shape and via opening diameter was large.

【0143】(4)燃焼時形状保持性 ASTM E 1354「建築材料の燃焼性試験方法」
に準拠して、100mm×100mmに裁断した厚さ2
mmの板状成形体にコーンカロリーメーターによって5
0kW/m2 の熱線を照射して燃焼させた。このとき燃
焼前後の板状成形体の形状の変化を目視で観察し、下記
判定基準により燃焼時形状保持性を評価した。 ○:形状変化は微少であった。 ×:形状変化が激しかった。
(4) Shape retention during burning ASTM E 1354 "Testing method for flammability of building materials"
According to the standard, thickness 2 cut into 100 mm x 100 mm
5 mm with a cone calorimeter
It was burned by irradiating it with a heat ray of 0 kW / m 2 . At this time, the change in shape of the plate-shaped molded product before and after combustion was visually observed, and the shape retention during combustion was evaluated according to the following criteria. ◯: The change in shape was slight. X: The shape change was severe.

【0144】(5)最大発熱速度及び燃焼残渣の被膜強
度 ASTM E 1354「建築材料の燃焼性試験方法」
に準拠して、100mm×100mmに裁断した厚さ2
mmの板状成形体にコーンカロリーメーターによって5
0kW/m2 の熱線を照射して燃焼させた。このときの
最大発熱速度(kW/m2 )を測定した。また、強度測
定装置を用いて、燃焼残渣を速度0.1cm/sで圧縮
し、燃焼残渣の被膜強度(kPa)を測定した。
(5) Maximum heat release rate and film strength of combustion residue ASTM E 1354 "Test method for flammability of building materials"
According to the standard, thickness 2 cut into 100 mm x 100 mm
5 mm with a cone calorimeter
It was burned by irradiating it with a heat ray of 0 kW / m 2 . The maximum heat generation rate (kW / m 2 ) at this time was measured. Further, the combustion residue was compressed at a speed of 0.1 cm / s using a strength measuring device, and the coating strength (kPa) of the combustion residue was measured.

【0145】[0145]

【表1】 [Table 1]

【0146】[0146]

【表2】 [Table 2]

【0147】[0147]

【表3】 [Table 3]

【0148】[0148]

【表4】 [Table 4]

【0149】[0149]

【表5】 [Table 5]

【0150】[0150]

【表6】 [Table 6]

【0151】表より、実施例1〜21で得られた絶縁基
板用材料を用いて作製した板状成形体中では、いずれも
層状珪酸塩の平均層間距離が3nm以上であり、かつ、
5層以下に分散している層状珪酸塩の割合が10%以上
であったので、燃焼時形状保持性及びビア加工性に優れ
ていた。また、難燃被膜となり得る焼結体を形成しやす
いことから、最大発熱速度が遅く、燃焼残渣の被膜強度
も4.9kPa以上であった。
From the table, it can be seen that in the plate-shaped moldings produced using the materials for insulating substrates obtained in Examples 1 to 21, the average interlayer distance of the layered silicate was 3 nm or more, and
Since the proportion of the layered silicate dispersed in 5 layers or less was 10% or more, the shape retention during combustion and the via processability were excellent. In addition, the maximum heat generation rate was slow and the film strength of the combustion residue was 4.9 kPa or more because a sintered body that could be a flame-retardant film was easily formed.

【0152】これに対し、膨潤性フッ素マイカ(層状珪
酸塩)の代わりに炭酸カルシウムを用いた比較例1で得
られた絶縁基板用材料からなる板状成形体中においては
炭酸カルシウムが層状に分散していなかったので、燃焼
時形状保持性、ビア加工性がともに悪く、難燃被膜とな
り得る焼結体を形成しにくいことから、最大発熱速度が
かなり速く、燃焼残渣の被膜強度が極端に低かった。
On the other hand, calcium carbonate was dispersed in a layered manner in the plate-shaped molded product made of the material for insulating substrate obtained in Comparative Example 1 in which calcium carbonate was used instead of the swelling fluoromica (layered silicate). Since the shape retention during combustion and via workability are both poor, and it is difficult to form a sintered body that can form a flame-retardant coating, the maximum heat generation rate is fairly fast, and the coating strength of combustion residues is extremely low. It was

【0153】また、層状珪酸塩を加えなかった比較例2
〜5で得られた絶縁基板用材料からなる板状成形体は、
燃焼時形状保持性やビア加工性も悪いものが多く、ま
た、燃焼残渣が被膜を形成しなかったり、燃焼残渣の被
膜強度が極端に低かったりした。
Comparative Example 2 in which no layered silicate was added
The plate-shaped molded body made of the insulating substrate material obtained in
In many cases, the shape retention during combustion and via processability were poor, and the combustion residue did not form a film, or the film strength of the combustion residue was extremely low.

【0154】また、層状珪酸塩の配合量が少ない比較例
8で得られた絶縁基板用材料からなる板状成形体は燃焼
時形状保持性、ビア加工性が悪く、燃焼残渣の被膜強度
も低く、層状珪酸塩の配合量が多い比較例9で得られた
絶縁基板用材料からなる板状成形体では5層以下に分散
している層状珪酸塩の割合が4%であり、ビア加工性が
悪かった。
Further, the plate-like molded body made of the material for an insulating substrate obtained in Comparative Example 8 containing a small amount of the layered silicate was poor in shape retention during combustion and via workability, and the film strength of combustion residue was low. In the plate-like molded body made of the material for insulating substrate obtained in Comparative Example 9 containing a large amount of the layered silicate, the proportion of the layered silicate dispersed in 5 layers or less was 4%, and the via processability was It was bad.

【0155】また、層状珪酸塩及び難燃剤の配合量が少
ない比較例6、10で得られた絶縁基板用材料からなる
板状成形体は燃焼時形状保持性が悪く、最大発熱速度が
速く、更に燃焼残渣の被膜強度も極端に低かった。難燃
剤の配合量が多い比較例7、11で得られた絶縁基板用
材料からなる板状成形体は、ビア加工性が悪い等の問題
があった。
Further, the plate-shaped compacts made of the materials for insulating substrates obtained in Comparative Examples 6 and 10 in which the amounts of the layered silicate and the flame retardant were small were poor in shape retention during combustion, and the maximum heat generation rate was high. Furthermore, the film strength of the combustion residue was extremely low. The plate-shaped molded bodies made of the insulating substrate material obtained in Comparative Examples 7 and 11 containing a large amount of the flame retardant had problems such as poor via processability.

【0156】[0156]

【発明の効果】本発明によれば、力学的物性、寸法安定
性、耐熱性、難燃性等に優れ、特に燃焼時の形状保持効
果によって優れた難燃効果を発現する絶縁基板用材料、
プリント基板、積層板、樹脂付き銅箔、銅張積層板、ポ
リイミドフィルム、TAB用フィルム及びプリプレグを
提供することができる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, a material for an insulating substrate which is excellent in mechanical properties, dimensional stability, heat resistance, flame retardancy and the like, and particularly exhibits an excellent flame retardant effect by a shape retaining effect during combustion,
It is possible to provide a printed board, a laminate, a resin-coated copper foil, a copper-clad laminate, a polyimide film, a TAB film, and a prepreg.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08L 63/00 C08L 63/00 C H01B 17/56 H01B 17/56 A 17/62 17/62 H05K 1/03 610 H05K 1/03 610N // C08L 79:08 C08L 79:08 (31)優先権主張番号 特願2001−141888(P2001−141888) (32)優先日 平成13年5月11日(2001.5.11) (33)優先権主張国 日本(JP) (72)発明者 伏見 勝夫 大阪府三島郡島本町百山2−1 積水化学 工業株式会社内 (72)発明者 高橋 英之 大阪府三島郡島本町百山2−1 積水化学 工業株式会社内 (72)発明者 谷口 浩司 大阪府三島郡島本町百山2−1 積水化学 工業株式会社内 (72)発明者 八木 元裕 大阪府三島郡島本町百山2−1 積水化学 工業株式会社内 Fターム(参考) 4F071 AA22 AA41 AA49 AA51 AA52 AA60 AA64 AA65 AB26 AE07 AE17 AF39 AF47 AH13 BA01 BA02 BB02 BB06 BB13 BC01 4F072 AA01 AD12 AD42 AD45 AD46 AD47 AE00 AE07 AL12 AL13 AL14 4J002 BB001 BC021 BD123 BE021 BF021 BG051 BK001 CB001 CC032 CC182 CD002 CF001 CF212 CH071 CH072 CH091 CK012 CK022 CL001 CM041 CM042 CN031 CP002 CP033 DE077 DE087 DE147 DE187 DH007 DH027 DJ006 EU187 GF00 GQ01 GQ05 5G333 AA05 AB05 BA01 CB08 DA03 DA04 DA21 DA25 FB02 FB14─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C08L 63/00 C08L 63/00 C H01B 17/56 H01B 17/56 A 17/62 17/62 H05K 1 / 03 610 H05K 1/03 610N // C08L 79:08 C08L 79:08 (31) Priority claim number Japanese Patent Application 2001-141888 (P2001-141888) (32) Priority date May 11, 2001 (2001.5) 11) (33) Country of priority claim Japan (JP) (72) Inventor Katsuo Fushimi 2-1 Hyakusanyama, Honcho, Shimamoto-cho, Mishima-gun, Osaka Prefecture (72) Inside Sekisui Chemical Co., Ltd. (72) Hideyuki Takahashi, Mishima-gun Island, Osaka Prefecture Honcho Hyakuzan 2-1 Sekisui Chemical Co., Ltd. (72) Inventor Koji Taniguchi Shimamoto-cho, Mishima-gun, Osaka Prefecture 2-1 Sekisui Chemical Co., Ltd. (72) Inventor Motohiro Yagi Shimamoto-cho, Mishima-gun Osaka Hyakusan 2-1 Sekisui F-Term (Reference) within Chemical Industry Co., Ltd. BK001 CB001 CC032 CC182 CD002 CF001 CF212 CH071 CH072 CH091 CK012 CK022 CL001 CM041 CM042 CN031 CP002 CP033 DE077 DE087 DE147 DE187 DH007 DH027 DJ006 EU187 GF00 GQ01 GQ05 5G333 AA05 AB05 BA01 CB08 DA03 DA04 DA02 DA02 DA02 DA02 DA02 DA02 DA02

Claims (20)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁基板に用いる材料であって、熱可塑
性樹脂、又は、熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂との混合物
100重量部、及び、層状珪酸塩0.1〜100重量部
を含有することを特徴とする絶縁基板用材料。
1. A material used for an insulating substrate, which contains 100 parts by weight of a thermoplastic resin or a mixture of a thermoplastic resin and a thermosetting resin, and 0.1 to 100 parts by weight of a layered silicate. An insulating substrate material characterized by the above.
【請求項2】 熱可塑性樹脂は、ポリフェニレンエーテ
ル系樹脂、官能基が変性されたポリフェニレンエーテル
系樹脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂又は官能基が変
性されたポリフェニレンエーテル系樹脂とポリスチレン
系樹脂との混合物、脂環式炭化水素系樹脂、熱可塑性ポ
リイミド系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポ
リエーテルサルフォン樹脂、ポリアミドイミド樹脂及び
ポリエステルイミド樹脂からなる群より選択される少な
くとも1種であることを特徴とする請求項1記載の絶縁
基板用材料。
2. The thermoplastic resin is a polyphenylene ether resin, a functional group-modified polyphenylene ether resin, a polyphenylene ether resin or a mixture of a functional group-modified polyphenylene ether resin and polystyrene resin, and a resin. At least one selected from the group consisting of a cyclic hydrocarbon resin, a thermoplastic polyimide resin, a polyether ether ketone resin, a polyether sulfone resin, a polyamideimide resin and a polyesterimide resin. Item 2. An insulating substrate material according to item 1.
【請求項3】 絶縁基板に用いる材料であって、フェノ
ール樹脂、ユリア樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アリ
ル樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、ビスマレイミドトリ
アジン樹脂、熱硬化型変性ポリフェニレンエーテル系樹
脂、ケイ素樹脂及びベンゾオキサジン系樹脂からなる群
より選択される少なくとも1種の熱硬化性樹脂100重
量部、及び、層状珪酸塩0.1〜100重量部を含有す
ることを特徴とする絶縁基板用材料。
3. A material used for an insulating substrate, which is a phenol resin, a urea resin, an unsaturated polyester resin, an allyl resin, a thermosetting polyimide resin, a bismaleimide triazine resin, a thermosetting modified polyphenylene ether resin, or a silicon resin. And 100 parts by weight of at least one thermosetting resin selected from the group consisting of benzoxazine-based resins, and 0.1 to 100 parts by weight of layered silicate, a material for an insulating substrate.
【請求項4】 実質的にハロゲン系組成物を含有しない
難燃剤0.1〜100重量部を含有してなることを特徴
とする請求項1、2又は3記載の絶縁基板用材料。
4. The material for an insulating substrate according to claim 1, comprising 0.1 to 100 parts by weight of a flame retardant containing substantially no halogen-based composition.
【請求項5】 絶縁基板に用いる材料であって、エポキ
シ系樹脂100重量部に対して、層状珪酸塩0.1〜1
00重量部及び実質的にハロゲン系組成物を含有しない
難燃剤0.1〜100重量部を含有してなることを特徴
とする絶縁基板用材料。
5. A layered silicate of 0.1 to 1 relative to 100 parts by weight of an epoxy resin, which is a material used for an insulating substrate.
A material for an insulating substrate, containing 100 parts by weight of a flame retardant which does not substantially contain a halogen-based composition.
【請求項6】 少なくとも一種以上の熱可塑性樹脂及び
/又は熱硬化性樹脂からなる樹脂100重量部及び層状
珪酸塩1〜500重量部を含有する樹脂組成物(A)
と、前記樹脂組成物(A)と同一の、又は、異なる組成
であって、少なくとも一種以上の熱可塑性樹脂及び/又
は熱硬化性樹脂を含有する樹脂組成物(B)とを混合し
てなることを特徴とする絶縁基板材料。
6. A resin composition (A) containing 100 parts by weight of a resin composed of at least one or more thermoplastic resins and / or thermosetting resins and 1 to 500 parts by weight of a layered silicate.
And a resin composition (B) having the same or different composition as the resin composition (A) and containing at least one or more thermoplastic resins and / or thermosetting resins. An insulating substrate material characterized by the above.
【請求項7】 樹脂組成物(A)は、ポリアミド系樹
脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂及びポリエステル樹
脂からなる群より選択される少なくとも1種の樹脂を含
有し、かつ、樹脂組成物(B)はエポキシ系樹脂を含有
することを特徴とする請求項6記載の絶縁基板用材料。
7. The resin composition (A) contains at least one resin selected from the group consisting of a polyamide resin, a polyphenylene ether resin and a polyester resin, and the resin composition (B) is an epoxy resin. The insulating substrate material according to claim 6, further comprising a resin.
【請求項8】 難燃剤は、金属水酸化物であることを特
徴とする請求項4又は5記載の絶縁基板用材料。
8. The insulating substrate material according to claim 4, wherein the flame retardant is a metal hydroxide.
【請求項9】 難燃剤は、メラミン誘導体であることを
特徴とする請求項4又は5記載の絶縁基板用材料。
9. The insulating substrate material according to claim 4, wherein the flame retardant is a melamine derivative.
【請求項10】 層状珪酸塩は、モンモリロナイト、膨
潤性マイカ、及び、ヘクトライトからなる群より選択さ
れる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1、
2、3、4、5、6、7、8又は9記載の絶縁基板用材
料。
10. The layered silicate is at least one selected from the group consisting of montmorillonite, swelling mica, and hectorite.
The material for an insulating substrate according to 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8 or 9.
【請求項11】 層状珪酸塩は、炭素数6以上のアルキ
ルアンモニウムイオンを含有することを特徴とする請求
項1、2、3、4、5、6、7、8、9又は10記載の
絶縁基板用材料。
11. The insulation according to claim 1, wherein the layered silicate contains an alkylammonium ion having 6 or more carbon atoms. Substrate material.
【請求項12】 層状珪酸塩は、広角X線回折測定法に
より測定した(001)面の平均層間距離が3nm以上
であり、かつ、一部又は全部が5層以下に分散している
ことを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6、7、
8、9、10又は11記載の絶縁基板用材料。
12. The layered silicate has an average inter-layer distance of 3 nm or more on the (001) plane measured by a wide-angle X-ray diffractometry and a part or all of which is dispersed in 5 layers or less. Claims 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, characterized in that
The material for an insulating substrate according to 8, 9, 10 or 11.
【請求項13】 ASTM E 1354に準拠した燃
焼試験において、50kW/m2 の輻射加熱条件下で3
0分間加熱することにより燃焼させた燃焼残渣を速度
0.1cm/sで圧縮した際の降伏点応力が4.9kP
a以上であることを特徴とする請求項1、2、3、4、
5、6、7、8、9、10、11又は12記載の絶縁基
板用材料。
13. In a combustion test according to ASTM E 1354, 3 under a radiant heating condition of 50 kW / m 2.
The yield point stress was 4.9 kP when the combustion residue burned by heating for 0 minutes was compressed at a speed of 0.1 cm / s.
a or more, Claims 1, 2, 3, 4,
The material for an insulating substrate according to 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11 or 12.
【請求項14】 請求項1、2、3、4、5、6、7、
8、9、10、11、12又は13記載の絶縁基板用材
料を用いてなることを特徴とする積層板。
14. Claims 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7,
A laminated board comprising the insulating substrate material described in 8, 9, 10, 11, 12 or 13.
【請求項15】 請求項1、2、3、4、5、6、7、
8、9、10、11、12又は13記載の絶縁基板用材
料を用いてなることを特徴とするプリント基板。
15. The method according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7,
A printed circuit board, which is made of the material for an insulating substrate according to 8, 9, 10, 11, 12 or 13.
【請求項16】 請求項1、2、3、4、5、6、7、
8、9、10、11、12又は13記載の絶縁基板用材
料を用いてなることを特徴とする樹脂付き銅箔。
16. The method according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7,
A resin-coated copper foil comprising the insulating substrate material according to 8, 9, 10, 11, 12 or 13.
【請求項17】 請求項1、2、3、4、5、6、7、
8、9、10、11、12又は13記載の絶縁基板用材
料を用いてなることを特徴とする銅張積層板。
17. The method according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7,
A copper-clad laminate comprising the insulating substrate material described in 8, 9, 10, 11, 12 or 13.
【請求項18】 請求項1、2、3、4、5、6、7、
8、9、10、11、12又は13記載の絶縁基板用材
料を用いてなることを特徴とするポリイミドフィルム。
18. The method according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7,
A polyimide film comprising the insulating substrate material described in 8, 9, 10, 11, 12 or 13.
【請求項19】 請求項1、2、3、4、5、6、7、
8、9、10、11、12又は13記載の絶縁基板用材
料を用いてなることを特徴とするTAB用フィルム。
19. The method according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7,
A film for TAB, which is made of the material for an insulating substrate according to 8, 9, 10, 11, 12 or 13.
【請求項20】 請求項1、2、3、4、5、6、7、
8、9、10、11、12又は13記載の絶縁基板用材
料を用いてなることを特徴とするプリプレグ。
20. Claims 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7,
A prepreg characterized by using the material for an insulating substrate according to 8, 9, 10, 11, 12 or 13.
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