JP2003017349A - Method of manufacturing magnet - Google Patents

Method of manufacturing magnet

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JP2003017349A
JP2003017349A JP2001202402A JP2001202402A JP2003017349A JP 2003017349 A JP2003017349 A JP 2003017349A JP 2001202402 A JP2001202402 A JP 2001202402A JP 2001202402 A JP2001202402 A JP 2001202402A JP 2003017349 A JP2003017349 A JP 2003017349A
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magnet
polysilazane
coating
film
magnet body
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Tomomi Yamamoto
智実 山本
Ryota Uchiyama
良太 内山
Koichi Nishizawa
剛一 西沢
Tsutomu Ishizaka
力 石坂
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TDK Corp
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Publication date
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    • H01F41/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/02Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
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    • H01F41/026Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets protecting methods against environmental influences, e.g. oxygen, by surface treatment

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a magnet at low cost which can manufacture the magnet little in a loss of its magnetic characteristics, excellent in corrrosion resistance and adhesion having a protective film with few possibility of contaminating the periphery of the magnet. SOLUTION: A method of manufacturing a magnet has a process for forming a polysilazane film on the surface of a rare-earth element-containing magnet main body, and a process for obtaining a glassy protective film from the polysilazane film.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、回転機器などに使
用可能な磁石の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a magnet that can be used in rotating equipment.

【0002】[0002]

【従来の技術】R(RはYを含む希土類元素の一種以
上)、TM(TMはFeを主成分とする遷移元素)およ
びホウ素を含むR−TM−B系磁石は、優れた磁気特性
を有することが知られている。しかしながら、このR−
TM−B系磁石は、一般の鉄鋼材質と比較して、非常に
腐食し易いという大きな欠点を有している。そこで、こ
の欠点を補うために、磁石の表面には、メッキ、イオン
プレーティング、樹脂コーティングなどの様々な表面処
理が施されてきた。
2. Description of the Related Art R-TM-B based magnets containing R (R is one or more rare earth elements including Y), TM (TM is a transition element containing Fe as a main component) and boron have excellent magnetic characteristics. Known to have. However, this R-
The TM-B based magnet has a great drawback that it is easily corroded as compared with general steel materials. Therefore, in order to compensate for this drawback, various surface treatments such as plating, ion plating, and resin coating have been performed on the surface of the magnet.

【0003】近年では、電気機器の小型化や省エネルギ
ー化に伴い、高性能な磁石が要求される中で、同時に低
コスト化も要求されている。特に、従来施されてきた表
面処理の性能を必要としない用途も増えてきており、表
面処理の低コスト化が強く要求されるようになってきて
いる。また、各種モータ機器の高効率化を実現する上
で、磁石に表面処理を施して形成される保護被膜による
磁気特性の損失も無視できなくなっている。特にエアコ
ン等の省エネルギー化が求められ、モータ自体が水分の
影響を受けない環境下では、従来必要とされてきた耐湿
性能を必要としない。このため、近年ではフェライト磁
石にかわり、小型で、高特性かつ安価な希土類磁石が要
求されてきている。
In recent years, along with the miniaturization and energy saving of electric equipment, high-performance magnets are required, and at the same time, cost reduction is also required. In particular, the number of applications that do not require the performance of the conventional surface treatment is increasing, and the cost reduction of the surface treatment is strongly demanded. Further, in order to realize high efficiency of various motor devices, loss of magnetic characteristics due to a protective coating formed by subjecting a magnet to a surface treatment cannot be ignored. In particular, in an environment where energy saving of an air conditioner or the like is required and the motor itself is not affected by moisture, the moisture resistance performance conventionally required is not required. Therefore, in recent years, a small-sized, high-characteristic, inexpensive rare-earth magnet has been demanded in place of the ferrite magnet.

【0004】このような要求を満足するため、従来か
ら、R−TM−B系磁石の簡便な防錆処理手法として、
化成処理やアルカリ珪酸塩に浸漬する手法が提案されて
いる。
In order to satisfy such requirements, conventionally, as a simple rust preventive treatment method for R-TM-B magnets,
Methods such as chemical conversion treatment and immersion in alkali silicate have been proposed.

【0005】化成処理は、クロム酸系およびリン酸塩系
に大別されるが、クロム酸処理は、近年の環境問題から
撤廃される傾向にある。
The chemical conversion treatment is roughly classified into a chromic acid treatment and a phosphate treatment, but the chromic acid treatment tends to be abolished in view of recent environmental problems.

【0006】特公平4−22008号公報では、R−T
M−B系磁石の表面をリン酸塩処理することで、磁石表
面にリン酸塩で構成される化成被膜を形成する方法が開
示されている。しかしながら、通常のリン酸塩処理をR
−TM−B系磁石に行うと、磁石組織内のガルバニ腐食
により、R−rich相が選択的に溶出して化成被膜が
十分に形成されないため、必要な耐食性が得られないと
いう欠点を有する。
In Japanese Examined Patent Publication No. 4-22008, RT
There is disclosed a method of forming a chemical conversion coating film composed of a phosphate on the surface of the magnet by treating the surface of the MB magnet with a phosphate. However, conventional phosphatization
When the -TM-B magnet is used, the R-rich phase is selectively eluted due to galvanic corrosion in the magnet structure and a chemical conversion film is not sufficiently formed, so that it has a drawback that required corrosion resistance cannot be obtained.

【0007】特開平9−7867号公報や特開平10−
154611号公報では、R−TM−B系磁石をアルカ
リ珪酸塩水溶液で処理して加熱乾燥することで、磁石表
面にガラス状保護被膜を形成する方法が開示されてい
る。
Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-7867 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-
Japanese Patent No. 154611 discloses a method of forming a glassy protective coating on the surface of a magnet by treating an R-TM-B based magnet with an aqueous alkali silicate solution and heating and drying.

【0008】しかしながら、これらの公報に記載の方法
で得られる磁石は、耐湿環境下では良好な耐食性を示す
が、そのガラス状保護被膜にアルカリ成分を多く含む。
この被膜に含まれるアルカリ成分は水分を吸湿する性質
を有するので、被膜の耐食性が低下し易い。また、アル
カリ成分を含む被膜は、水分に接触すると再溶解する性
質も有する。被膜が溶出すると、被膜の接着強度が低下
し、しかも各種機器に組み込まれた場合に磁石周辺を汚
染してしまう不都合を生じうる。さらに、アルカリ珪酸
塩処理では、冷凍機器のコンプレッサー部品として使用
される場合、Naなどのアルカリ成分が冷媒および潤滑
油の分解を促進する。特に冷媒が分解すると、ハロゲン
化水素を発生させて磁石を腐食させるという不具合も生
じうる。磁石が腐食すると、磁気特性の損失および周囲
への汚染を生じ、好ましくない。
However, the magnets obtained by the methods described in these publications show good corrosion resistance in a humidity resistant environment, but their glass-like protective coating contains a large amount of alkali components.
Since the alkaline component contained in this coating has a property of absorbing moisture, the corrosion resistance of the coating is likely to decrease. Further, the coating film containing an alkaline component also has a property of being redissolved when it comes into contact with moisture. If the coating film elutes, the adhesive strength of the coating film may decrease, and when incorporated into various devices, the periphery of the magnet may be contaminated. Further, in the alkali silicate treatment, when used as a compressor part of a refrigeration equipment, an alkaline component such as Na promotes the decomposition of the refrigerant and the lubricating oil. In particular, when the refrigerant is decomposed, hydrogen halide may be generated to corrode the magnet. Corrosion of the magnet causes loss of magnetic properties and contamination of the environment, which is not preferable.

【0009】これに対し、化成処理やアルカリ珪酸塩処
理を行わずに、ガラス状保護被膜を得る方法としては、
CVD等の乾式法、あるいはゾル・ゲル法等が知られて
いる。しかしながら、乾式法やゾル・ゲル法では、使用
する設備が高価なことや、処理温度が高い等の問題か
ら、安価で高性能な被膜を得ることが困難であった。
On the other hand, as a method for obtaining a glassy protective coating without performing chemical conversion treatment or alkali silicate treatment,
A dry method such as CVD or a sol-gel method is known. However, in the dry method and the sol-gel method, it is difficult to obtain an inexpensive and high-performance coating due to the problems that the equipment used is expensive and the processing temperature is high.

【0010】また、アルコキシシランを重合させてガラ
ス状保護被膜を得る手法も考えられる。しかしながら、
この方法では、触媒として塩酸等の無機酸を使用するた
め、得られる被膜に十分な耐食性が付与されないという
問題があった。
Further, a method of polymerizing alkoxysilane to obtain a glass-like protective coating is also conceivable. However,
In this method, since an inorganic acid such as hydrochloric acid is used as a catalyst, there is a problem that sufficient corrosion resistance is not imparted to the obtained coating film.

【0011】なお、特開2000−34503号公報、
特開平7−326508号公報および特開平11−13
5313号公報では、各種合金微粉末の粒子表面にポリ
シラザン硬化被膜を形成した微粉末を用いて磁石を製造
する方法が開示されているが、これらの手法は粉末の酸
化を抑制するもので、、防錆効果まで発現するものでは
ない。
Incidentally, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-34503,
JP-A-7-326508 and JP-A-11-13
Japanese Patent No. 5313 discloses a method for producing a magnet by using a fine powder in which a polysilazane hardened film is formed on the surface of particles of various alloy fine powders, but these methods suppress the oxidation of the powder, It does not exhibit the rust prevention effect.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、磁気
特性の損失が少なく、耐食性や接着性に優れ、磁石周辺
を汚染するおそれが少ない保護被膜を有する磁石を安価
に製造できる磁石の製造方法を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to manufacture a magnet having a protective film with less loss of magnetic properties, excellent corrosion resistance and adhesiveness, and less risk of contaminating the periphery of the magnet at low cost. Is to provide a method.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る磁石の製造方法は、希土類元素を含む
磁石本体の表面にポリシラザン被膜を形成する工程と、
前記ポリシラザン被膜からガラス状保護被膜を得る工程
とを有する。
In order to achieve the above object, a method of manufacturing a magnet according to the present invention comprises a step of forming a polysilazane coating on the surface of a magnet body containing a rare earth element,
And a step of obtaining a glassy protective film from the polysilazane film.

【0014】ポリシラザン被膜の形成方法は、特に限定
されず、磁石本体をポリシラザン溶液に浸漬して形成し
てもよいし、あるいは磁石本体にポリシラザン溶液を塗
布して形成してもよい。
The method for forming the polysilazane coating is not particularly limited, and the magnet body may be formed by immersing it in a polysilazane solution, or may be formed by coating the magnet body with a polysilazane solution.

【0015】ガラス状保護被膜を得る方法としては、特
に限定されないが、ポリシラザン被膜を形成後に熱処理
することにより形成することが好ましい。熱処理の温度
は50〜500℃であることが好ましい。熱処理の雰囲
気は高湿度雰囲気であることが好ましく、より好ましく
は70%RH以上の雰囲気である。
The method for obtaining the glassy protective coating is not particularly limited, but it is preferable to form the polysilazane coating by heat treatment after formation. The heat treatment temperature is preferably 50 to 500 ° C. The heat treatment atmosphere is preferably a high humidity atmosphere, more preferably 70% RH or more.

【0016】磁石本体の表面に形成するポリシラザン被
膜の厚みは、特に限定されないが、品質および磁気特性
の面で、0.01〜5μmの厚みで形成することが好ま
しい。
The thickness of the polysilazane film formed on the surface of the magnet body is not particularly limited, but it is preferably 0.01 to 5 μm in terms of quality and magnetic properties.

【0017】本発明で用いるはポリシラザンは、ペルヒ
ドロポリシラザンを含むことが好ましい。ポリシラザン
は、600〜20000の数平均分子量(Mn)を持つ
ことが好ましい。ポリシラザン溶液は、0.5〜200
cpsの粘度を持つことが好ましい。
The polysilazane used in the present invention preferably contains perhydropolysilazane. The polysilazane preferably has a number average molecular weight (Mn) of 600 to 20,000. The polysilazane solution is 0.5 to 200
It preferably has a viscosity of cps.

【0018】本発明で用いる磁石本体は、希土類元素を
含んで構成されていれば、その材質は特に限定されない
が、R(RはYを含む希土類元素の一種以上)、TM
(TMはFeを主成分とする遷移元素)およびホウ素を
含むR−TM−B系希土類磁石で構成してあることが好
ましい。
The material of the magnet body used in the present invention is not particularly limited as long as it is composed of a rare earth element, but R (R is one or more rare earth elements including Y), TM
(TM is a transition element containing Fe as a main component) and an R-TM-B rare earth magnet containing boron are preferably used.

【0019】[0019]

【作用】本発明に係る磁石の製造方法では、希土類元素
を含む磁石本体の表面にポリシラザン被膜を形成した
後、このポリシラザン被膜を、たとえば大気中での酸化
や水蒸気による加水分解等により転化させてガラス状保
護被膜(非晶質SiO)を得る。
In the method of manufacturing a magnet according to the present invention, after forming a polysilazane coating on the surface of a magnet body containing a rare earth element, the polysilazane coating is converted by, for example, oxidation in the air or hydrolysis with water vapor. A glassy protective coating (amorphous SiO 2 ) is obtained.

【0020】本発明によれば、浸漬、乾燥などの簡単な
処理でガラス状保護被膜を磁石本体の表面に形成でき
る。このため、安価に磁石を得ることができる。磁石本
体の表面に形成されたガラス状保護被膜は、極めて薄
い。このため、磁石中に占める磁石本体の体積分率を大
きくすることができる。その結果、磁気特性の損失が効
果的に抑制される。また、ガラス状保護被膜は極めて薄
いにも係わらず、安定化している。このため、得られる
磁石に耐食性が付与される。しかも安定化したガラス状
保護被膜はその後に再溶解することはなく、被膜の接着
強度を維持することができる。さらに、ガラス状保護被
膜は耐溶剤性にも優れる。このため、磁石を冷凍機器用
モータなどに組み入れたとしても、被膜が冷媒や潤滑油
(冷凍機油)に侵されることがない。その結果、磁石周
辺を汚染することもない。
According to the present invention, the glassy protective coating can be formed on the surface of the magnet body by a simple treatment such as dipping and drying. Therefore, the magnet can be obtained at low cost. The glass-like protective coating formed on the surface of the magnet body is extremely thin. Therefore, the volume fraction of the magnet body in the magnet can be increased. As a result, the loss of magnetic properties is effectively suppressed. Further, the glass-like protective film is stable although it is extremely thin. Therefore, corrosion resistance is imparted to the obtained magnet. Moreover, the stabilized glass-like protective film does not redissolve thereafter, and the adhesive strength of the film can be maintained. Further, the glass-like protective film also has excellent solvent resistance. For this reason, even if the magnet is incorporated into a motor for a refrigerating machine or the like, the coating film is not affected by the refrigerant or the lubricating oil (refrigerating machine oil). As a result, there is no contamination around the magnet.

【0021】すなわち、本発明によれば、磁気特性の損
失が少なく、耐食性や接着性に優れ、磁石周辺を汚染す
るおそれが少ない保護被膜を有する磁石を安価に製造す
ることができる。
That is, according to the present invention, it is possible to inexpensively manufacture a magnet having a protective coating that causes little loss of magnetic properties, is excellent in corrosion resistance and adhesiveness, and is less likely to contaminate the periphery of the magnet.

【0022】本発明により得られる磁石の具体的な用途
は、特に限定されないが、各種産業用回転機器、民生用
回転機器、光ピックアップ装置などが例示される。産業
用回転機器としては、自動車やオートバイなどに使用さ
れる各種モータ;工作機械の駆動系などが例示される。
民生用回転機器としては、VTR、CD、MD、DV
D、カセットステレオなどに使用される各種モータ;O
A機器(コンピュータ、プリンタ、複写機など)のモー
タなどが例示される。光ピックアップ装置は、記録媒体
である光ディスクに情報を記録再生するためのものであ
り、一般に、対物レンズを光ディスクのトラッキング方
向やフォーカス方向に移動させる対物レンズ駆動装置
と、取り付け台上に光源や受光部などが設けられ、対物
レンズを介して、光ディスクにレーザ光を投射し、その
反射光を検出する光学系ブロックと、から構成される。
本発明の磁石を光ピックアップ装置に用いる場合、当該
磁石は、対物レンズ駆動装置の構成部材である磁気回路
に用いられる。
The specific application of the magnet obtained by the present invention is not particularly limited, but various industrial rotary devices, consumer rotary devices, optical pickup devices, etc. are exemplified. Examples of industrial rotating equipment include various motors used in automobiles and motorcycles; drive systems for machine tools.
As consumer rotary equipment, VTR, CD, MD, DV
Various motors used for D, cassette stereo, etc .; O
Examples include motors and the like of equipment A (computer, printer, copier, etc.). The optical pickup device is for recording / reproducing information on / from an optical disc, which is a recording medium, and generally, an objective lens driving device for moving an objective lens in a tracking direction or a focus direction of the optical disc, a light source or a light receiving device on a mounting base. And an optical system block for projecting laser light onto the optical disc through the objective lens and detecting the reflected light.
When the magnet of the present invention is used in an optical pickup device, the magnet is used in a magnetic circuit that is a constituent member of an objective lens driving device.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】本実施形態では、希土類磁石の一
例として、R−TM−B系焼結磁石を挙げ、この磁石の
製造方法の一例を説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present embodiment, as an example of a rare earth magnet, an R-TM-B based sintered magnet will be cited, and an example of a method for manufacturing this magnet will be described.

【0024】(1)まず、磁石本体を準備する。磁石本
体は、本実施形態では、R(RはYを含む希土類元素の
一種以上)、TM(TMはFeを主成分とする遷移元
素)、およびBを含むR−TM−B系希土類磁石で構成
される。
(1) First, the magnet body is prepared. In this embodiment, the magnet body is an R-TM-B-based rare earth magnet containing R (R is one or more rare earth elements containing Y), TM (TM is a transition element containing Fe as a main component), and B. Composed.

【0025】R、TMおよびBの含有量は、5.5原子
%≦R≦30原子%、42原子%≦TM≦90原子%、
2原子%≦B≦28原子%、であることが好ましい。な
お、TMは基本的にFeと不可避の不純物とからなる。
特に、永久磁石体を焼結法により製造する場合、下記の
組成であることが好ましい。
The contents of R, TM and B are 5.5 at% ≦ R ≦ 30 at%, 42 at% ≦ TM ≦ 90 at%,
It is preferable that 2 atomic% ≦ B ≦ 28 atomic%. Note that TM is basically composed of Fe and inevitable impurities.
In particular, when the permanent magnet body is manufactured by the sintering method, the following composition is preferable.

【0026】希土類元素Rとしては、Nd,Pr,H
o,Tbのうち少なくとも1種、あるいはさらに、L
a,Sm,Ce,Gd,Er,Eu,Pm,Tm,D
y,Yb,Yのうち1種以上を含むものが好ましい。な
お、Rとして2種以上の元素を用いる場合、原料として
ミッシュメタル等の混合物を用いることもできる。
As the rare earth element R, Nd, Pr, H
at least one of o and Tb, or further L
a, Sm, Ce, Gd, Er, Eu, Pm, Tm, D
Those containing at least one of y, Yb and Y are preferable. When two or more elements are used as R, a mixture of misch metal or the like can be used as a raw material.

【0027】Rの含有量は、5.5〜30原子%である
ことが好ましい。Rの含有量が少なすぎると、磁石の結
晶構造がα−鉄と同一構造の立方晶組織となるため、高
い保磁力(Hcj)が得られず、多すぎると、Rリッチ
な非磁性相が多くなり、残留磁束密度(Br)が低下す
る。
The content of R is preferably 5.5 to 30 atom%. If the content of R is too small, the crystal structure of the magnet will be a cubic crystal structure having the same structure as α-iron, so a high coercive force (Hcj) cannot be obtained, and if it is too large, an R-rich non-magnetic phase will form. And the residual magnetic flux density (Br) decreases.

【0028】TMの含有量は42〜90原子%であるこ
とが好ましい。TMの含有量が少なすぎると、Brが低
下し、多すぎると、Hcjが低下する。なお、Feの一
部をCoで置換することにより、磁気特性を損うことな
く温度特性を改善することができる。この場合、Co置
換量がFeの50%を超えると磁気特性が劣化するた
め、Co置換量は50%以下とすることが好ましい。
The TM content is preferably 42 to 90 atom%. If the TM content is too low, Br decreases, and if it is too high, Hcj decreases. By replacing a part of Fe with Co, the temperature characteristics can be improved without impairing the magnetic characteristics. In this case, if the Co substitution amount exceeds 50% of Fe, the magnetic characteristics deteriorate, so the Co substitution amount is preferably 50% or less.

【0029】Bの含有量は、2〜28原子%であること
が好ましい。Bの含有量が少なすぎると、磁石の結晶構
造が菱面体組織となるためHcjが不十分であり、多す
ぎると、Bリッチな非磁性相が多くなるため、Brが低
下する。
The content of B is preferably 2 to 28 atom%. If the B content is too low, the crystal structure of the magnet will be a rhombohedral structure, and thus Hcj will be insufficient. If the B content is too high, the B-rich nonmagnetic phase will increase, and Br will decrease.

【0030】また、R、TMおよびBの他、不可避的不
純物として、Ca,O,C等が全体の3原子%以下含有
されていてもよい。
In addition to R, TM and B, Ca, O, C and the like may be contained as inevitable impurities in an amount of 3 atomic% or less of the whole.

【0031】さらに、Bの一部を、C,P,Sのうちの
1種以上で置換することにより、生産性の向上および低
コスト化を実現できる。この場合、置換量は全体の4原
子%以下であることが好ましい。また、保磁力の向上、
生産性の向上、低コスト化のために、Cu,Al,T
i,V,Cr,Mn,Bi,Nb,Ta,Mo,W,S
b,Ge,Sn,Zr,Ni,Si,Hf等の1種以上
を添加してもよい。この場合、添加量は総計で10原子
%以下とすることが好ましい。
Further, by substituting a part of B with at least one of C, P and S, it is possible to realize improvement in productivity and cost reduction. In this case, the substitution amount is preferably 4 atom% or less of the whole. Also, improvement of coercive force,
Cu, Al, T to improve productivity and reduce cost
i, V, Cr, Mn, Bi, Nb, Ta, Mo, W, S
You may add 1 or more types, such as b, Ge, Sn, Zr, Ni, Si, Hf. In this case, the total addition amount is preferably 10 atomic% or less.

【0032】磁石本体は、実質的に正方晶系の結晶構造
の主相を有する。この主相の粒径は、1〜100μm程
度であることが好ましい。そして、通常、体積比で1〜
50%の非磁性相を含むものである。
The magnet body has a main phase having a substantially tetragonal crystal structure. The particle size of the main phase is preferably about 1 to 100 μm. And, usually, the volume ratio is 1 to
It contains a non-magnetic phase of 50%.

【0033】このような磁石本体を製造するには、粉末
冶金法を用いることが好ましい。粉末冶金法による磁石
本体の製造は、以下のようにして行われる。まず、所望
の組成の合金を、鋳造法やストリップキャスト法などの
各種合金製造プロセスを用いて作製する。次いで、得ら
れた合金を、ジョークラッシャー、ブラウンミル、スタ
ンプミルなどの粗粉砕機を用いて10〜100μm程度
の粒径に粗粉砕した後、ジェットミル、アトライターな
どの微粉砕機により0.5〜5μm程度の粒径に微粉砕
する。次いで、得られた粉末を、好ましくは磁場中にて
成型する。成型時の磁場強度は、好ましくは600kA
/m以上である。成型圧力は、好ましくは0.5〜5t
on/cm程度である。次いで、得られた成型体
を、1000〜1200℃で0.5〜10時間、焼結
し、急冷する。焼結時の雰囲気は、Arガス等の不活性
ガス中または真空中であることが好ましい。この後、好
ましくは不活性ガス雰囲気中または真空中で、500〜
900℃にて1〜5時間、熱処理(時効処理)を行い、
任意の形状に加工する。こうして製造された磁石本体
は、たとえばRがNdである場合に、特に磁気特性に優
れる。
To manufacture such a magnet body, it is preferable to use the powder metallurgy method. The magnet body is manufactured by the powder metallurgy method as follows. First, an alloy having a desired composition is manufactured by using various alloy manufacturing processes such as a casting method and a strip casting method. Then, the obtained alloy is coarsely crushed to a particle size of about 10 to 100 μm using a coarse crusher such as a jaw crusher, a brown mill and a stamp mill, and then finely crushed with a fine crusher such as a jet mill and an attritor. Finely pulverize to a particle size of about 5 to 5 μm. Then, the obtained powder is molded, preferably in a magnetic field. The magnetic field strength during molding is preferably 600 kA
/ M or more. Molding pressure is preferably 0.5 to 5 t
It is about on / cm 2 . Then, the obtained molded body is sintered at 1000 to 1200 ° C. for 0.5 to 10 hours and rapidly cooled. The atmosphere during sintering is preferably in an inert gas such as Ar gas or in vacuum. After this, preferably in an inert gas atmosphere or in a vacuum, 500-
Heat treatment (aging treatment) at 900 ° C for 1 to 5 hours,
Process into any shape. The magnet body manufactured in this way is particularly excellent in magnetic characteristics when R is Nd, for example.

【0034】(2)次に、本実施形態では、得られた磁
石本体に洗浄等の前処理を行う。
(2) Next, in this embodiment, the obtained magnet body is subjected to pretreatment such as cleaning.

【0035】この前処理は、本発明では任意の処理であ
るが、これを行うことで被膜の耐食性能をより向上させ
ることができる。ただし、前処理を行わないことで被膜
性能を著しく損なうものではない。
This pretreatment is an optional treatment in the present invention, but by performing this pretreatment, the corrosion resistance of the coating can be further improved. However, not performing the pretreatment does not significantly impair the coating performance.

【0036】前処理を行う場合、以下のプロセスを適用
することが好ましい。
When carrying out the pretreatment, it is preferable to apply the following process.

【0037】まず、磁石本体の表面のバリなどを取り除
くため、バレル研磨を行う。次いで、磁石本体の表面の
汚れを取り除くために脱脂処理を行い、洗浄後にイオン
交換水中で超音波洗浄を行う。脱脂処理で用いる脱脂液
は、通常の鉄鋼用に使用されているものであれば特に限
定されない。アルカリ系の脱脂液を使用すると洗浄効果
が大きく、さらに成分中にキレート剤を含むものを使用
すると、磁石表面を若干エッチングする効果があるので
より好ましい。脱脂液の成分としては、一般に苛性ソー
ダ(NaOH)を主成分として、その他添加剤は特定す
るものでない。
First, barrel polishing is performed to remove burrs and the like on the surface of the magnet body. Next, a degreasing process is performed to remove dirt on the surface of the magnet body, and after cleaning, ultrasonic cleaning is performed in ion-exchanged water. The degreasing liquid used in the degreasing treatment is not particularly limited as long as it is used for ordinary steel. It is more preferable to use an alkaline degreasing liquid because it has a large cleaning effect, and it is more preferable to use an alkaline degreasing liquid that contains a chelating agent in the components because it has the effect of slightly etching the magnet surface. As a component of the degreasing liquid, generally caustic soda (NaOH) is the main component, and other additives are not specified.

【0038】また、脱脂後の磁石本体の表面をさらに清
浄化する場合、化学エッチングを行ってもよい。化学エ
ッチングで使用する酸としては、硝酸を用いることが好
ましい。一般の鋼材にメッキ処理を施す場合、塩酸、硫
酸等の非酸化性の酸が用いられることが多い。しかし、
本実施形態での磁石本体のように、磁石本体が希土類元
素を含む場合には、これらの酸を用いて処理を行うと、
酸により発生する水素が磁石本体の表面に吸蔵され、吸
蔵部位が脆化して多量の粉状未溶解物が発生する。この
粉状未溶解物は、表面処理後の面粗れ、欠陥および密着
不良を引き起こすため、上述した非酸化性の酸を化学エ
ッチング処理液に含有させないことが好ましい。したが
って、水素の発生が少ない酸化性の酸である硝酸を用い
ることが好ましい。
When the surface of the magnet body after degreasing is further cleaned, chemical etching may be performed. Nitric acid is preferably used as the acid used in the chemical etching. When plating general steel materials, non-oxidizing acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid are often used. But,
When the magnet body contains a rare earth element like the magnet body in the present embodiment, if treatment is performed using these acids,
Hydrogen generated by the acid is occluded on the surface of the magnet body, and the occluded site becomes brittle and a large amount of powdery undissolved material is generated. Since this powdery undissolved substance causes surface roughness, defects and poor adhesion after surface treatment, it is preferable not to include the above-mentioned non-oxidizing acid in the chemical etching treatment liquid. Therefore, it is preferable to use nitric acid, which is an oxidizing acid that generates less hydrogen.

【0039】このような前処理による磁石本体の表面の
溶解量は、表面から平均厚みで5μm以上、好ましくは
10〜15μmとするのが好適である。磁石本体の表面
の加工による変質層や酸化層を完全に除去することで、
磁石表面の腐食の起点を減少させ、耐食性をより向上さ
せることが可能となる。
The amount of dissolution of the surface of the magnet body by such pretreatment is preferably 5 μm or more, and preferably 10 to 15 μm in average thickness from the surface. By completely removing the altered layer and oxide layer due to the processing of the surface of the magnet body,
It is possible to reduce the starting point of corrosion on the magnet surface and further improve the corrosion resistance.

【0040】前処理に用いられる処理液の硝酸濃度は、
好ましくは1規定以下、特に好ましくは0.5規定以下
である。硝酸濃度が高すぎると、磁石本体の溶解速度が
極めて速く、溶解量の制御が困難となり、特にバレル処
理のような大量処理ではバラツキが大きくなり、製品の
寸法精度が維持できない。また、硝酸濃度が低すぎる
と、溶解量の不足となる。このため、硝酸濃度は1規定
以下、特に0.5〜0.05規定以下とするのが望まし
い。また、処理終了時のFeの溶解量は、1〜10g/
l程度とする。
The nitric acid concentration of the treatment liquid used for the pretreatment is
It is preferably 1 normal or less, and particularly preferably 0.5 normal or less. If the nitric acid concentration is too high, the rate of dissolution of the magnet body is extremely high, and it becomes difficult to control the amount of dissolution. In particular, in large-scale processing such as barrel processing, variations become large, and the dimensional accuracy of the product cannot be maintained. Further, if the nitric acid concentration is too low, the amount of dissolution will be insufficient. For this reason, it is desirable that the nitric acid concentration be 1 normal or lower, particularly 0.5 to 0.05 normal or lower. The amount of Fe dissolved at the end of the treatment is 1 to 10 g /
It is about l.

【0041】前処理を行った磁石本体の表面から少量の
未溶解物、残留酸成分を完全に除去するため、超音波を
使用した洗浄を実施することが好ましい。この超音波洗
浄は、磁石本体の表面に錆を発生させる塩素イオンが極
めて少ない純水中で行うのが好ましい。また、前記超音
波洗浄の前後、および前記前処理の各過程で必要に応じ
て同様な水洗を行ってもよい。
In order to completely remove a small amount of undissolved substances and residual acid components from the surface of the magnet body which has been pretreated, it is preferable to carry out cleaning using ultrasonic waves. This ultrasonic cleaning is preferably carried out in pure water containing very few chlorine ions that cause rust on the surface of the magnet body. Further, similar water washing may be performed before and after the ultrasonic cleaning and in each step of the pretreatment, if necessary.

【0042】(3)次に、前処理が施された磁石本体の
表面をポリシラザン溶液で処理して、前記磁石本体の表
面にポリシラザン被膜を形成する。
(3) Next, the surface of the pretreated magnet body is treated with a polysilazane solution to form a polysilazane coating on the surface of the magnet body.

【0043】本実施形態では、磁石本体をポリシラザン
溶液に浸漬し、乾燥して磁石本体の表面にポリシラザン
被膜を形成する方法を採用しているが、本発明ではこれ
に限定されるものではない。
In this embodiment, a method of immersing the magnet body in a polysilazane solution and drying it to form a polysilazane coating on the surface of the magnet body is adopted, but the present invention is not limited to this.

【0044】本発明で使用可能なポリシラザンとして
は、分子内に少なくともSi−H結合またはN−H結合
を有するポリシラザンであればよく、ポリシラザン単独
であってもよいし、ポリシラザンと他のポリマーとの共
重合体であってもよいし、あるいはポリシラザンと他の
化合物との混合物であってもよい。
The polysilazane that can be used in the present invention may be any polysilazane having at least a Si--H bond or an N--H bond in the molecule, and may be polysilazane alone, or a polysilazane and another polymer. It may be a copolymer or a mixture of polysilazane and another compound.

【0045】本発明で使用可能なポリシラザンには、鎖
状、環状または架橋構造を有するもの、あるいは分子内
にこれら複数の構造を同時に有するものがあり、これら
は単独で用いてもよいし、あるいは混合物としても利用
できる。
The polysilazanes that can be used in the present invention include those having a chain structure, a cyclic structure or a crosslinked structure, or those having a plurality of these structures simultaneously in the molecule, and these may be used alone or It can also be used as a mixture.

【0046】本発明で使用可能なポリシラザンとして
は、たとえば、下記式(1)に示す繰り返し単位を有す
るものが挙げられる。
Examples of polysilazanes usable in the present invention include those having a repeating unit represented by the following formula (1).

【0047】[0047]

【化1】 [Chemical 1]

【0048】ここで、式(1)中、R、R及び
は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アル
ケニル基、シクロアルキル基、アリール基、またはこれ
らの基以外でケイ素に直結する基が炭素である基、アル
キルシリル基、アルキルアミノ基、アルコキシ基を表わ
す。ただし、R、R及びRの少なくとも1
つは水素原子である。
Here, in the formula (1), R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or other than these groups, directly bonded to silicon. Represents a group having a carbon atom, an alkylsilyl group, an alkylamino group or an alkoxy group. Provided that at least one of R 1 , R 2 and R 3
One is a hydrogen atom.

【0049】これらの中でも、上記式(1)のR
及びRの全てを水素原子としたペルヒドロポ
リシラザン(PHPS)が好ましい。このペルヒドロポ
リシラザンは、たとえば特公昭63−16325号公報
などに記載された方法によって製造することができる。
ペルヒドロポリシラザンの一構造例を下記式(2)に示
す。
Among these, R 1 in the above formula (1),
Perhydropolysilazane (PHPS) in which all of R 2 and R 3 are hydrogen atoms is preferable. This perhydropolysilazane can be produced, for example, by the method described in JP-B-63-16325.
One structural example of perhydropolysilazane is shown in the following formula (2).

【0050】[0050]

【化2】 [Chemical 2]

【0051】本発明で使用可能なポリシラザンの分子量
は、数平均分子量(Mn)が600〜20000である
ことが好ましく、より好ましくはMnが600〜200
0である。分子量が小さすぎると、被膜が十分に生成せ
ず、反応性が高いため浴寿命が著しく短くなるおそれが
ある。逆に、分子量が大きすぎると、反応性に乏しく、
厚膜となり易くなるといった不都合を生じうる。
The polysilazane usable in the present invention preferably has a number average molecular weight (Mn) of 600 to 20,000, more preferably 600 to 200.
It is 0. If the molecular weight is too small, the coating film is not sufficiently formed and the reactivity is high, so the bath life may be significantly shortened. On the contrary, if the molecular weight is too large, the reactivity is poor,
This may cause a disadvantage that the film becomes thick easily.

【0052】本発明で使用可能なポリシラザンは、適当
な溶媒に溶解させてポリシラザン溶液として使用され
る。溶媒としては、たとえば、脂肪族炭化水素、脂環式
炭化水素、芳香族炭化水素の炭化水素溶媒、ハロゲン化
メタン、ハロゲン化エタン、ハロゲン化ベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素、脂肪族エーテル、脂環式エーテル等
のエーテル類などが挙げられる。これらの溶媒は、ポリ
シラザンの溶解度や溶媒の蒸発速度を調節するために、
2種類以上を混合して用いることもできる。中でも、好
ましい溶媒は、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素、ブロモホルム、塩化エチレン、塩化エチリデン、ト
リクロロエタン、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭
化水素;エチルエーテル、イソプロピルエーテル、エチ
ルブチルエーテル、ブチルエーテル、1,2−ジオキシ
エタン、ジオキサン、ジメチルジオキサン、テトラヒド
ロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル類;ペンタ
ンヘキサン、イソヘキサン、メチルペンタン、ヘプタ
ン、イソヘプタン、オクタン、イソオクタン、シクロペ
ンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチ
ルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エ
チルベンゼン等の炭化水素;である。
The polysilazane usable in the present invention is dissolved in a suitable solvent and used as a polysilazane solution. Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, hydrocarbon solvents of aromatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons such as halogenated methane, halogenated ethane, and halogenated benzenes, aliphatic ethers, alicyclics. Examples include ethers such as formula ether. These solvents are used to control the solubility of polysilazane and the evaporation rate of the solvent.
Two or more types can be mixed and used. Among them, preferred solvents are halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, bromoform, ethylene chloride, ethylidene chloride, trichloroethane and tetrachloroethane; ethyl ether, isopropyl ether, ethyl butyl ether, butyl ether, 1,2-dioxyethane. , Ethers such as dioxane, dimethyldioxane, tetrahydrofuran, tetrahydropyran; pentanehexane, isohexane, methylpentane, heptane, isoheptane, octane, isooctane, cyclopentane, methylcyclopentane, cyclohexane, methylcyclohexane, benzene, toluene, xylene, ethylbenzene. Hydrocarbons such as;

【0053】ポリシラザン溶液には、後述するガラス状
保護被膜の生成を促進させるために、金属系または有機
系の触媒を添加することも好ましい。金属系触媒として
は、たとえば、Pt、Pd、Au、Ag、Niなどが挙
げられ、1種又は2種以上用いることができる。中で
も、Pt、Pdが好ましい。有機系触媒としては、たと
えば、アミン類が好ましく、ピリジンおよびその誘導
体、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウン
デセン(DBU)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.
0]−5−ノネン(DBN)などが挙げられ、1種又は
2種以上用いることができる。中でも、DBU、DBN
が好ましい。ポリシラザン溶液に対する触媒の添加量
は、ポリシラザン100重量部に対して、好ましくは
0.01〜0.1重量部、より好ましくは0.05〜
0.1重量部程度である。ポリシラザン溶液には、必要
に応じて、各種顔料、レベリング剤、消泡剤、帯電防止
剤、pH調整剤、分散剤、表面改質剤、可塑剤、乾燥促
進剤、流れ止め剤等の各種添加剤がさらに添加してあっ
てもよい。この場合の添加量は、本発明の目的を損なわ
ない範囲内で適宜決定すればよい。
It is also preferable to add a metal-based or organic-based catalyst to the polysilazane solution in order to promote the formation of a glass-like protective film described later. Examples of the metal-based catalyst include Pt, Pd, Au, Ag, Ni, and the like, and one or more kinds can be used. Of these, Pt and Pd are preferable. As the organic catalyst, for example, amines are preferable, and pyridine and its derivatives, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU), 1,5-diazabicyclo [4.3.
0] -5-nonene (DBN) and the like, and one kind or two or more kinds can be used. Above all, DBU, DBN
Is preferred. The addition amount of the catalyst to the polysilazane solution is preferably 0.01 to 0.1 part by weight, more preferably 0.05 to 0.1 part by weight with respect to 100 parts by weight of polysilazane.
It is about 0.1 part by weight. If necessary, various additives such as various pigments, leveling agents, defoaming agents, antistatic agents, pH adjusters, dispersants, surface modifiers, plasticizers, drying accelerators, anti-flow agents, etc. are added to the polysilazane solution. The agent may be further added. The addition amount in this case may be appropriately determined within a range that does not impair the object of the present invention.

【0054】本発明で使用されるポリシラザン溶液は、
粘度(η)が、好ましくは0.1〜200cps、より
好ましくは0.6〜50cpsとなるよう調整される。
溶液の粘度が低すぎると、被膜が十分に形成されない。
一方、粘度が高すぎると、溶媒の揮発によるガスピンホ
ールが被膜に多数生成してしまう。本実施形態では、磁
石本体をポリシラザン溶液に浸漬し、乾燥して磁石本体
の表面にポリシラザン被膜を形成する。ポリシラザン溶
液の乾燥は、被膜表面の溶媒分が除去される程度に行え
ば良く、室温で放置することによってもよい。ただし、
作業性を向上させるために、好ましくは50〜200℃
程度の温度で、好ましくは1〜120分程度の乾燥を行
ってもよい。乾燥の方法は、特に限定されず、エアーを
吹き付ける方法によってもよい。なお、必要に応じて、
ポリシラザン溶液への浸漬、乾燥処理を2回以上行って
もよい。磁石本体の表面に形成されるポリシラザン被膜
の厚みは、好ましくは0.01〜5μm、より好ましく
は0.05〜3μm程度で形成する。形成される被膜の
厚みが薄すぎると、十分な耐食性を得ることが困難であ
る。その反面、被膜の厚みが厚すぎると、均一な膜厚を
得ることが困難となり、しかも磁気特性の損失が大きく
なる。すなわち、磁気特性の損失をできる限り少なく
し、しかも耐食性を十分に保持しつつ均一な膜厚を得る
との観点からは、上記範囲で形成することが好ましい。
The polysilazane solution used in the present invention is
The viscosity (η) is adjusted to preferably 0.1 to 200 cps, more preferably 0.6 to 50 cps.
When the viscosity of the solution is too low, the film is not sufficiently formed.
On the other hand, if the viscosity is too high, a large number of gas pinholes are generated in the coating film due to the evaporation of the solvent. In this embodiment, the magnet body is dipped in a polysilazane solution and dried to form a polysilazane coating on the surface of the magnet body. The polysilazane solution may be dried to such an extent that the solvent component on the coating surface is removed, and may be left at room temperature. However,
In order to improve workability, it is preferably 50 to 200 ° C.
Drying may be performed at a temperature of about 1 to 120 minutes. The drying method is not particularly limited, and may be a method of blowing air. If necessary,
The immersion in the polysilazane solution and the drying treatment may be performed twice or more. The thickness of the polysilazane coating formed on the surface of the magnet body is preferably 0.01 to 5 μm, more preferably 0.05 to 3 μm. If the thickness of the coating film formed is too thin, it is difficult to obtain sufficient corrosion resistance. On the other hand, if the coating is too thick, it will be difficult to obtain a uniform thickness, and the loss of magnetic properties will increase. That is, it is preferable to form the film within the above range from the viewpoint of minimizing the loss of magnetic properties as much as possible and obtaining a uniform film thickness while sufficiently maintaining the corrosion resistance.

【0055】本発明では、磁石本体の表面に形成された
ポリシラザン被膜(たとえばペルヒドロポリシラザン被
膜)を、下記式(3)〜(4)の反応機構によりガラス
状保護被膜に転化させる。 (−SiH−NH−)+O →SiO+NH …(3) (−SiH−NH−)+2HO→SiO+NH+2H…(4)
In the present invention, the polysilazane film (for example, perhydropolysilazane film) formed on the surface of the magnet body is converted into the glass-like protective film by the reaction mechanism of the following formulas (3) to (4). (-SiH 2 -NH -) + O 2 → SiO 2 + NH 3 ... (3) (-SiH 2 -NH -) + 2H 2 O → SiO 2 + NH 3 + 2H 2 ... (4)

【0056】本発明では、ポリシラザン被膜を室温で放
置しておいてもガラス状保護被膜へ転化させうるが、乾
燥後、必要に応じて熱処理を行い、ガラス状保護被膜の
生成を促進させることが好ましい。熱処理温度は、好ま
しくは50〜500℃、より好ましくは150〜450
℃である。熱処理温度が低すぎると、室温放置とあまり
差がなく、ガラス状保護被膜への転化時間が長時間にお
よぶおそれがある。一方、熱処理温度が高すぎると、磁
気特性が劣化する。なお、ポリシラザン被膜を高湿度雰
囲気に晒すことにより、該被膜を加水分解させてガラス
状保護被膜へ転化させることも可能である。この場合、
熱処理温度は、好ましくは50〜200℃、より好まし
くは50〜100℃であり、湿度は、好ましくは70%
RH以上、より好ましくは80%RH以上である。以上
のような工程を経ることにより、磁石本体の表面に安定
化した保護被膜が形成された永久磁石が製造される。
In the present invention, the polysilazane coating can be converted into the glass-like protective coating even if it is left at room temperature, but after drying, if necessary, heat treatment may be carried out to accelerate the formation of the glass-like protective coating. preferable. The heat treatment temperature is preferably 50 to 500 ° C., more preferably 150 to 450.
℃. If the heat treatment temperature is too low, there is not much difference from that at room temperature, and the conversion time to the glass-like protective coating may take a long time. On the other hand, if the heat treatment temperature is too high, the magnetic properties deteriorate. By exposing the polysilazane film to a high humidity atmosphere, it is possible to hydrolyze the film and convert it into a glassy protective film. in this case,
The heat treatment temperature is preferably 50 to 200 ° C, more preferably 50 to 100 ° C, and the humidity is preferably 70%.
RH or more, more preferably 80% RH or more. Through the steps described above, a permanent magnet having a stabilized protective coating formed on the surface of the magnet body is manufactured.

【0057】本実施形態では、R−TM−B系焼結磁石
本体の表面に形成されたポリシラザン被膜を転化させて
安定化したガラス状保護被膜を形成する。浸漬、乾燥な
どの簡単な処理でガラス状保護被膜を形成できるので、
こうした被膜が形成された磁石を安価に得ることができ
る。形成されたガラス状保護被膜は極めて薄いので、磁
石中に占める磁石本体の体積分率を大きくでき、磁気特
性の損失を効果的に抑制することができる。また、ガラ
ス状保護被膜は極めて薄いにも係わらず、安定化してい
るので、得られる磁石に耐食性が付与されるとともに、
安定化したガラス状保護被膜はその後に再溶解すること
はなく、被膜の接着強度を維持することができる。さら
に、ガラス状保護被膜は耐溶剤性にも優れるので、磁石
を冷凍機器用モータなどに組み入れたとしても、被膜が
冷媒に侵されることがなく、磁石周辺を汚染することも
ない。
In this embodiment, the polysilazane coating formed on the surface of the R-TM-B system sintered magnet body is converted to form a stabilized glass-like protective coating. Since a glassy protective film can be formed by simple treatment such as immersion and drying,
A magnet having such a coating can be obtained at low cost. Since the formed glass-like protective coating is extremely thin, the volume fraction of the magnet body in the magnet can be increased, and the loss of magnetic properties can be effectively suppressed. In addition, the glass-like protective coating is stable even though it is extremely thin, so that the obtained magnet is provided with corrosion resistance and
The stabilized glassy protective coating does not subsequently redissolve and the adhesive strength of the coating can be maintained. Further, since the glassy protective coating has excellent solvent resistance, even if the magnet is incorporated into a motor for refrigeration equipment or the like, the coating is not attacked by the refrigerant, and the periphery of the magnet is not contaminated.

【0058】以上、本発明の実施形態について説明して
きたが、本発明はこうした実施形態に何等限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において
種々なる態様で実施し得ることは勿論である。
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to these embodiments, and may be implemented in various modes without departing from the scope of the present invention. Of course.

【0059】[0059]

【実施例】以下に、本発明の実施形態を実施例および比
較例を挙げて具体的に説明する。なお、本発明はこれら
に限定されるものではない。
EXAMPLES The embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples. The present invention is not limited to these.

【0060】実施例1 粉末冶金法によって作成した、14.7Nd―77.6
Fe―1.6Co―6.1B(数字は原子比)の組成か
らなる鋳塊を粗粉砕し、さらに不活性ガスによるジェッ
トミル粉砕で平均粒径が約3.5μmの微粉末を得た。
得られた微粉末を金型内に充填し、1185kA/mの
磁界を印加して1.0ton/cmの圧力で成型し
た。次いで、真空中で焼結、熱処理を経て焼結体を得
た。得られた焼結体を、10mm×20mm×厚さ3m
mの大きさに切り出し加工し、さらにバレル研磨および
アルカリ脱脂処理を行って、永久磁石本体を得た。
Example 1 14.7Nd-77.6 prepared by powder metallurgy
An ingot having a composition of Fe-1.6Co-6.1B (numbers are atomic ratios) was roughly pulverized, and further jet mill pulverized with an inert gas to obtain fine powder having an average particle diameter of about 3.5 μm.
The obtained fine powder was filled in a mold, and a magnetic field of 1185 kA / m was applied to mold at a pressure of 1.0 ton / cm 2 . Next, a sintered body was obtained through sintering and heat treatment in vacuum. The obtained sintered body is 10 mm × 20 mm × thickness 3 m
It was cut into a size of m and further barrel-polished and alkali-degreased to obtain a permanent magnet body.

【0061】次いで、ポリシラザン(Mn≒1000)
をキシレンで希釈して作製されたポリシラザン溶液(東
燃社製の商品番号L110、粘度:0.6cps:)
に、前記得られた永久磁石本体を1回浸漬し、室温(2
5℃)で30分乾燥することにより、永久磁石本体の表
面にポリシラザン被膜を形成した。ポリシラザン被膜の
膜厚は0.3μmであった。その後、300℃で60分
熱処理することにより、ポリシラザン被膜をガラス状保
護被膜に転化させた。これにより、永久磁石サンプルを
得た。転化したガラス状保護被膜の膜厚は0.3μmで
あった。
Next, polysilazane (Mn≈1000)
Polysilazane solution prepared by diluting xylene with xylene (product number L110 manufactured by Tonensha Co., Ltd., viscosity: 0.6 cps :)
Immerse the obtained permanent magnet body once in room temperature (2
The polysilazane film was formed on the surface of the permanent magnet body by drying at 5 ° C. for 30 minutes. The film thickness of the polysilazane film was 0.3 μm. Then, the polysilazane coating was converted into a glass-like protective coating by heat treatment at 300 ° C. for 60 minutes. Thereby, a permanent magnet sample was obtained. The film thickness of the converted glassy protective coating was 0.3 μm.

【0062】実施例2 キシレンでの希釈量を変えて粘度を1cpsに調製した
ポリシラザン溶液を用い、永久磁石本体の表面に膜厚
0.5μmのポリシラザン被膜を形成した以外は、実施
例1と同様にして、ポリシラザン被膜をガラス状保護被
膜に転化させて永久磁石サンプルを得た。転化したガラ
ス状保護被膜の膜厚は0.5μmであった。
Example 2 The same as Example 1 except that a polysilazane film having a thickness of 0.5 μm was formed on the surface of the permanent magnet body using a polysilazane solution whose viscosity was adjusted to 1 cps by changing the amount of dilution with xylene. Then, the polysilazane film was converted into a glassy protective film to obtain a permanent magnet sample. The film thickness of the converted glassy protective coating was 0.5 μm.

【0063】実施例3 キシレンでの希釈量を変えて粘度を10cpsに調製し
たポリシラザン溶液を用い、永久磁石本体の表面に膜厚
2μmのポリシラザン被膜を形成した以外は、実施例1
と同様にして、ポリシラザン被膜をガラス状保護被膜に
転化させて永久磁石サンプルを得た。転化したガラス状
保護被膜の膜厚は2μmであった。
Example 3 Example 1 was repeated except that a polysilazane film having a thickness of 2 μm was formed on the surface of the permanent magnet body by using a polysilazane solution whose viscosity was adjusted to 10 cps by changing the amount of dilution with xylene.
The polysilazane film was converted into a glassy protective film in the same manner as in 1. to obtain a permanent magnet sample. The film thickness of the converted glassy protective coating was 2 μm.

【0064】実施例4 キシレンでの希釈量を変えて粘度を1cpsに調製した
ポリシラザン溶液を用い、浸漬回数を5回として永久磁
石本体の表面に膜厚2μmのポリシラザン被膜を形成し
た以外は、実施例1と同様にして、ポリシラザン被膜を
ガラス状保護被膜に転化させて永久磁石サンプルを得
た。転化したガラス状保護被膜の膜厚は2μmであっ
た。
Example 4 A polysilazane solution prepared by changing the amount of dilution with xylene to have a viscosity of 1 cps was used, except that the number of immersions was 5 and a polysilazane film having a thickness of 2 μm was formed on the surface of the permanent magnet body. In the same manner as in Example 1, the polysilazane coating was converted into a glassy protective coating to obtain a permanent magnet sample. The film thickness of the converted glassy protective coating was 2 μm.

【0065】実施例5 ポリシラザン被膜の熱処理の条件を450℃で60分と
した以外は、実施例2と同様にして、ポリシラザン被膜
をガラス状保護被膜に転化させて永久磁石サンプルを得
た。転化したガラス状保護被膜の膜厚は0.5μmであ
った。
Example 5 A permanent magnet sample was obtained by converting the polysilazane film into a glassy protective film in the same manner as in Example 2 except that the heat treatment condition of the polysilazane film was 450 ° C. for 60 minutes. The film thickness of the converted glassy protective coating was 0.5 μm.

【0066】実施例6 ポリシラザン被膜の熱処理の条件を200℃で300分
とした以外は、実施例2と同様にして、ポリシラザン被
膜をガラス状保護被膜に転化させて永久磁石サンプルを
得た。転化したガラス状保護被膜の膜厚は0.5μmで
あった。
Example 6 A permanent magnet sample was obtained by converting the polysilazane film into a glassy protective film in the same manner as in Example 2 except that the heat treatment condition of the polysilazane film was 200 ° C. for 300 minutes. The film thickness of the converted glassy protective coating was 0.5 μm.

【0067】比較例1 得られた永久磁石本体をポリシラザン溶液に浸漬する代
わりに、永久磁石本体の表面にニッケルメッキを行い、
膜厚1μmのニッケル被膜を形成させて永久磁石サンプ
ルを得た。
Comparative Example 1 Instead of immersing the obtained permanent magnet body in the polysilazane solution, the surface of the permanent magnet body was plated with nickel.
A nickel coating having a film thickness of 1 μm was formed to obtain a permanent magnet sample.

【0068】比較例2 膜厚5μmのニッケル被膜を形成させた以外は、比較例
1と同様にして永久磁石サンプルを得た。
Comparative Example 2 A permanent magnet sample was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that a nickel coating having a film thickness of 5 μm was formed.

【0069】比較例3 ポリシラザン溶液の代わりに、エポキシ樹脂をメチルエ
チルケトンで希釈して作製されたエポキシ樹脂溶液を用
い、このエポキシ樹脂溶液に、得られた永久磁石本体を
1回浸漬し、室温(25℃)で10分乾燥することによ
り、永久磁石本体の表面にエポキシ樹脂被膜を形成し
た。その後、150℃で30分熱処理することにより、
硬化被膜を生成させて永久磁石サンプルを得た。硬化被
膜の膜厚は4μmであった。
Comparative Example 3 An epoxy resin solution prepared by diluting an epoxy resin with methyl ethyl ketone was used in place of the polysilazane solution, and the obtained permanent magnet body was immersed once in the epoxy resin solution at room temperature (25 An epoxy resin coating was formed on the surface of the permanent magnet body by drying at 10 ° C.) for 10 minutes. After that, by heat treatment at 150 ° C for 30 minutes,
A cured coating was produced to obtain a permanent magnet sample. The film thickness of the cured film was 4 μm.

【0070】比較例4 ポリシラザン溶液の代わりに、エポキシ樹脂をメチルエ
チルケトンで希釈して作製されたエポキシ樹脂溶液を用
い、このエポキシ樹脂溶液に、硬化被膜の膜厚が9μm
になるように永久磁石本体を1回浸漬した以外は、比較
例3と同様にして永久磁石サンプルを得た。
Comparative Example 4 An epoxy resin solution prepared by diluting an epoxy resin with methyl ethyl ketone was used in place of the polysilazane solution, and this epoxy resin solution had a cured film with a thickness of 9 μm.
A permanent magnet sample was obtained in the same manner as in Comparative Example 3 except that the permanent magnet body was immersed once so that

【0071】比較例5 ポリシラザン溶液の代わりに、JIS−3号 珪酸ナト
リウム(旭電化社製)を純水に溶解して作製された、重
量比:20%の珪酸ナトリウム水溶液(モル比n=(S
iO/NaO)=3)を用いた。この珪酸ナト
リウム水溶液に、得られた永久磁石本体を1回浸漬し、
室温(25℃)で30分放置して乾燥することにより、
永久磁石本体の表面に膜厚1μmの珪酸ナトリウム被膜
を形成した。その後、50℃に調製された純水への浸漬
を10分間行い、100℃で20分乾燥することによ
り、珪酸ナトリウム被膜を珪酸保護被膜に転化させた。
これら以外は、実施例1と同様にして永久磁石サンプル
を得た。生成した珪酸保護被膜の膜厚は1μmであっ
た。
Comparative Example 5 A sodium silicate aqueous solution having a weight ratio of 20% (molar ratio n = (was prepared by dissolving JIS-3 sodium silicate (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.) in pure water instead of the polysilazane solution. S
iO 2 / Na 2 O) = 3) was used. Immerse the obtained permanent magnet body once in this sodium silicate aqueous solution,
By leaving at room temperature (25 ° C) for 30 minutes to dry,
A sodium silicate coating having a film thickness of 1 μm was formed on the surface of the permanent magnet body. Then, immersion in pure water prepared at 50 ° C. was performed for 10 minutes, and drying was performed at 100 ° C. for 20 minutes to convert the sodium silicate film into a silicic acid protective film.
A permanent magnet sample was obtained in the same manner as in Example 1 except for these. The thickness of the generated silicic acid protective film was 1 μm.

【0072】比較例6 珪酸ナトリウム水溶液への浸漬回数を3回とした以外
は、比較例5と同様にして、永久磁石サンプルを得た。
生成した珪酸保護被膜の膜厚は3μmであった。
Comparative Example 6 A permanent magnet sample was obtained in the same manner as in Comparative Example 5 except that the number of immersions in the sodium silicate aqueous solution was changed to 3.
The thickness of the generated silicic acid protective film was 3 μm.

【0073】比較例7 珪酸ナトリウム水溶液への浸漬回数を5回とした以外
は、比較例5と同様にして、永久磁石サンプルを得た。
生成した珪酸保護被膜の膜厚は5μmであった。
Comparative Example 7 A permanent magnet sample was obtained in the same manner as in Comparative Example 5 except that the number of immersions in the aqueous sodium silicate solution was changed to 5.
The thickness of the generated silicic acid protective film was 5 μm.

【0074】実施例1〜6および比較例1〜7で得られ
たそれぞれの永久磁石サンプルを用いて、耐湿性(耐食
性)、耐溶剤性(耐汚染性)、および磁気特性の評価を
行った。なお、上述した膜厚は、いずれもマイクロメー
タを用いて測定した。
The permanent magnet samples obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 7 were used to evaluate the humidity resistance (corrosion resistance), solvent resistance (contamination resistance), and magnetic properties. . The film thicknesses described above were measured with a micrometer.

【0075】「耐湿性」は、永久磁石サンプルを、85
℃,85%RH試験槽に300時間投入した後の外観変
化を観察することにより行った。そして、「変化なし」
の場合を耐食性ありと、「錆が発生」した場合を耐食性
なしと、それぞれ評価した。「耐溶剤性」は、永久磁石
サンプルを、トルエンおよびメチレンクロライドのそれ
ぞれの溶媒中に浸漬し、室温(25℃)で1週間放置後
の外観変化を観察することにより行った。そして、「変
化なし」の場合を耐溶剤性ありと、「塗膜の一部が剥
離、変色」した場合を耐溶剤性なしと、それぞれ評価し
た。
The "moisture resistance" was measured by using a permanent magnet sample of 85
It was carried out by observing the change in appearance after the test piece was placed in a 85% RH test tank at 300C for 300 hours. And "no change"
The case was evaluated as having corrosion resistance, and the case where "rust occurred" was evaluated as having no corrosion resistance. The "solvent resistance" was performed by immersing the permanent magnet sample in each solvent of toluene and methylene chloride, and observing the appearance change after standing at room temperature (25 ° C) for 1 week. Then, the case of "no change" was evaluated as having solvent resistance, and the case of "part of the coating film was peeled off and discolored" was evaluated as having no solvent resistance.

【0076】「磁気特性」は、永久磁石サンプルの磁束
を、磁束メータで測定し、試験前後での表面磁束の差を
減磁率として求めることにより行った。そして、減磁率
が「1%未満」の場合を○(良好)、「1%以上5%未
満」の場合を△(やや不良)、「5%以上」の場合を×
(不良)と、それぞれ評価した。
The "magnetic characteristic" was determined by measuring the magnetic flux of the permanent magnet sample with a flux meter and determining the difference in the surface magnetic flux before and after the test as the demagnetization rate. When the demagnetization rate is "1% or less", it is ○ (good), when it is "1% or more and less than 5%", it is △ (somewhat bad), and when it is "5% or more", it is ×
Each was evaluated as (poor).

【0077】結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

【0078】[0078]

【表1】 [Table 1]

【0079】表1に示すように、ポリシラザン溶液で浸
漬処理して形成されたポリシラザン被膜から得られるガ
ラス状保護被膜を持つ実施例1〜6の磁石サンプルで
は、比較例1〜7の磁石サンプルと比較して、耐湿性
(耐食性)、耐溶剤性および磁気特性のいずれも優れて
いることが確認できた。
As shown in Table 1, the magnet samples of Examples 1 to 6 having the glassy protective coating obtained from the polysilazane coating formed by the dipping treatment with the polysilazane solution were the same as those of Comparative Examples 1 to 7. By comparison, it was confirmed that all of the moisture resistance (corrosion resistance), the solvent resistance and the magnetic properties were excellent.

【0080】[0080]

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、磁気特性の損失が少なく、耐食性や接着性に優れ、
磁石周辺を汚染するおそれが少ない保護被膜を有する磁
石を安価に製造できる磁石の製造方法を提供することが
できる。
As described above, according to the present invention, there is little loss of magnetic properties, excellent corrosion resistance and adhesiveness,
It is possible to provide a method for manufacturing a magnet that can inexpensively manufacture a magnet having a protective coating that is less likely to contaminate the periphery of the magnet.

フロントページの続き (72)発明者 西沢 剛一 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 石坂 力 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 Fターム(参考) 4K022 AA02 AA37 AA44 BA15 BA20 BA33 DA06 DA09 EA01 5E062 CD04 CG03 CG07 Continued front page    (72) Inventor Goichi Nishizawa             1-13-1, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo             -In DC Inc. (72) Inventor Riki Ishizaka             1-13-1, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo             -In DC Inc. F-term (reference) 4K022 AA02 AA37 AA44 BA15 BA20                       BA33 DA06 DA09 EA01                 5E062 CD04 CG03 CG07

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 希土類元素を含む磁石本体の表面にポリ
シラザン被膜を形成する工程と、 前記ポリシラザン被膜からガラス状保護被膜を得る工程
とを有する磁石の製造方法。
1. A method of manufacturing a magnet, comprising: a step of forming a polysilazane coating on the surface of a magnet body containing a rare earth element; and a step of obtaining a glassy protective coating from the polysilazane coating.
【請求項2】 前記磁石本体をポリシラザン溶液に浸漬
し、または前記磁石本体にポリシラザン溶液を塗布して
前記ポリシラザン被膜を形成する請求項1に記載の磁石
の製造方法。
2. The method for producing a magnet according to claim 1, wherein the magnet body is dipped in a polysilazane solution, or the magnet body is coated with a polysilazane solution to form the polysilazane coating.
【請求項3】 前記ポリシラザン被膜を熱処理して前記
ガラス状保護被膜を得る請求項1または2に記載の磁石
の製造方法。
3. The method for producing a magnet according to claim 1, wherein the polysilazane coating is heat-treated to obtain the glassy protective coating.
【請求項4】 前記熱処理の温度が50〜500℃であ
る請求項3に記載の磁石の製造方法。
4. The method for producing a magnet according to claim 3, wherein the temperature of the heat treatment is 50 to 500 ° C.
【請求項5】 前記熱処理の雰囲気が70%RH以上の
雰囲気である請求項3または4に記載の磁石の製造方
法。
5. The method for producing a magnet according to claim 3, wherein the heat treatment atmosphere is an atmosphere of 70% RH or more.
【請求項6】 前記磁石本体の表面に前記ポリシラザン
被膜を0.01〜5μmの厚みで形成する請求項1〜5
のいずれかに記載の磁石の製造方法。
6. The polysilazane film having a thickness of 0.01 to 5 μm is formed on the surface of the magnet body.
The method for producing a magnet according to any one of 1.
【請求項7】 前記ポリシラザンが、ペルヒドロポリシ
ラザンを含む請求項1〜6のいずれかに記載の磁石の製
造方法。
7. The method for producing a magnet according to claim 1, wherein the polysilazane contains perhydropolysilazane.
【請求項8】 前記ポリシラザンが、600〜2000
0の数平均分子量(Mn)を持つ請求項1〜7のいずれ
かに記載の磁石の製造方法。
8. The polysilazane is 600 to 2000.
The method for producing a magnet according to claim 1, having a number average molecular weight (Mn) of 0.
【請求項9】 前記ポリシラザン溶液が、0.5〜20
0cpsの粘度を持つ請求項1〜8のいずれかに記載の
磁石の製造方法。
9. The polysilazane solution is 0.5 to 20.
The method for producing a magnet according to claim 1, which has a viscosity of 0 cps.
【請求項10】 前記磁石本体が、R(RはYを含む希
土類元素の一種以上)、TM(TMはFeを主成分とす
る遷移元素)およびホウ素を含むR−TM−B系希土類
磁石で構成してある請求項1〜9のいずれかに記載の磁
石の製造方法。
10. The R-TM-B based rare earth magnet, wherein the magnet body contains R (R is one or more rare earth elements containing Y), TM (TM is a transition element containing Fe as a main component) and boron. The method for manufacturing a magnet according to any one of claims 1 to 9, which is configured.
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