JP2003013201A - Titanium oxide-based thin film and optical logging medium therewith - Google Patents
Titanium oxide-based thin film and optical logging medium therewithInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、酸化チタンを主成
分とし、副成分として酸化ニオブを含有してなり、短波
長光に対して高屈折率を有する酸化チタン系薄膜と、こ
れを相変化型記録層の保護膜として用いた光記録媒体に
関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a titanium oxide thin film containing titanium oxide as a main component and niobium oxide as a secondary component and having a high refractive index with respect to short wavelength light, and a phase change thereof. The present invention relates to an optical recording medium used as a protective film for a mold recording layer.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、可視光線等の光に対して高い屈折
率を有し、熱に対して優れた安定性を有する薄膜は、レ
ーザー集光用レンズや光記録媒体といった用途に使用さ
れている。2. Description of the Related Art Conventionally, a thin film having a high refractive index against light such as visible light and excellent stability against heat has been used for applications such as a lens for laser focusing and an optical recording medium. There is.
【０００３】例えば、光記録媒体の中でもレーザー光の
照射信号を記録層の相変化として記録する相変化型記録
層を備えたものは相変化型光記録媒体と呼ばれ、ＣＤ−
ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＤＶＤ＋ＲＷ等の光ディスクと
して用いられている。For example, an optical recording medium having a phase change type recording layer for recording a laser beam irradiation signal as a phase change of the recording layer is called a phase change type optical recording medium, and is called CD-
It is used as an optical disc such as RW, DVD-RAM, and DVD + RW.
【０００４】図４に一般的な相変化型光記録媒体の概略
図を示すように、この相変化型光記録媒体２０は、ポリ
マー等からなる円盤状をした基体１１上に、第一の保護
層１２ａ、Ｔｅ合金やＳｂ合金からなる相変化型記録層
（以下、単に記録層という）１３、第二の保護層１２ｂ
をこの順序で積層し、最後に、アルミニウム、金、銀、
あるいはこれらを主成分とする合金等からなる反射層１
４と樹脂層１５を被着したもので、基体１１側からレー
ザー光を照射すると、レーザー光は第二の保護層１２ｂ
を透過して記録層１３に照射され、記録層１３を透過し
たレーザー光は第一の保護膜１２ａを透過して反射層１
４で反射され、反射されたレーザー光は、再度、第一の
保護膜１２ａ、記録層１３、第二の保護層１２ｂを透過
して照射側に戻り、電気信号として取り出されるように
なっており、記録時には、信号強度に対応して変調され
たレーザー光が照射され、その熱エネルギーにより記録
層１３を相変化させることにより（例えば、記録層１３
の合金薄膜を結晶相と非晶相とに相互に変化させる）、
信号情報をこの相変化として記録させ、また、再生時に
は、レーザー光を照射して記録層１３における相変化に
伴ったレーザー光の反射強度変化を信号として検出する
ようになっていた。As shown in a schematic view of a general phase change type optical recording medium in FIG. 4, this phase change type optical recording medium 20 has a first protective layer on a disk-shaped substrate 11 made of polymer or the like. Layer 12a, phase-change recording layer (hereinafter, simply referred to as recording layer) 13 made of Te alloy or Sb alloy, second protective layer 12b
In this order, and finally, aluminum, gold, silver,
Alternatively, the reflection layer 1 made of an alloy containing these as main components
4 and the resin layer 15 are adhered, and when the laser light is irradiated from the side of the base body 11, the laser light is applied to the second protective layer 12b.
The laser light that has passed through the recording layer 13 and is transmitted through the recording layer 13 passes through the first protective film 12 a and then passes through the recording layer 13.
The laser light reflected at 4 again passes through the first protective film 12a, the recording layer 13, and the second protective layer 12b, returns to the irradiation side, and is taken out as an electric signal. At the time of recording, laser light modulated according to the signal intensity is irradiated, and the thermal energy of the laser light causes a phase change in the recording layer 13 (for example, the recording layer 13
Of the alloy thin film of (1) to a crystalline phase and to an amorphous phase),
Signal information is recorded as this phase change, and at the time of reproduction, laser light is irradiated to detect a change in the reflection intensity of the laser light accompanying the phase change in the recording layer 13 as a signal.
【０００５】そして、このような相変化型光記録媒体２
０に用いられる保護層１２ａ，１２ｂは、レーザー光を
透過し、かつ記録層１３に接してその両面を保護する目
的で設けられているものであるが、レーザー光の照射に
よる記録／消去時には、瞬間的に４００℃〜７００℃の
熱が加わり、大きな温度変化を受けることになることに
なるため、耐熱衝撃性に優れた硫化亜鉛薄膜が用いられ
ていた。Then, such a phase change type optical recording medium 2 is used.
The protective layers 12a and 12b used for 0 are provided for the purpose of transmitting laser light and contacting the recording layer 13 to protect both surfaces thereof, but during recording / erasing by irradiation of laser light, Since a temperature of 400 ° C. to 700 ° C. is instantaneously applied and a large temperature change occurs, a zinc sulfide thin film excellent in thermal shock resistance has been used.
【０００６】しかしながら、レーザー光の照射によって
繰り返し熱が加わると、硫化亜鉛薄膜中のＺｎＳ結晶が
粒成長を起こして薄膜の特性が劣化することから、この
粒成長を防止するため、保護層１２ａ，１２ｂとしてＳ
ｉＯ2を含有する硫化亜鉛系薄膜、例えば、モル比で、
８０モル％ＺｎＳ−２０モル％ＳｉＯ2の組成を有する
硫化亜鉛系薄膜により形成したものを用いることが提案
されていた（特開平１１−２７８９３６号公報参照）。However, when heat is repeatedly applied by the irradiation of laser light, ZnS crystals in the zinc sulfide thin film cause grain growth to deteriorate the characteristics of the thin film. Therefore, in order to prevent this grain growth, the protective layer 12a, 12b as S
A zinc sulfide-based thin film containing iO 2 , for example, in a molar ratio,
It has been proposed to use a zinc sulfide-based thin film having a composition of 80 mol% ZnS-20 mol% SiO 2 (see Japanese Patent Laid-Open No. 11-278936).
【０００７】また、硫化亜鉛系薄膜からなる保護膜１２
ａ，１２ｂを有する相変化型光記録媒体を製作するに
は、ＲＦスパッタリング装置内に、基体１１と、これと
対置して、ＺｎＳ−ＳｉＯ2系焼結体からなるスパッタ
リングターゲット材を配置し、高真空で希薄なＡｒ中で
高周波プラズマを発生させることにより、基体１１上に
ＳｉＯ2を含有する硫化亜鉛系薄膜からなる保護膜１２
ａを被着し、この保護層１２ａ上にＴｅ合金やＳｂ合金
からなる記録層１３を形成した後、さらに記録層１３上
に、ＺｎＳ−ＳｉＯ2系薄膜からなる保護層１２ｂをＲ
Ｆスパッタリング装置により被着した後、アルミニウ
ム、金、銀、あるいはこれらを主成分とする合金等から
なる反射層１４と樹脂層１５を被着することにより形成
されていた。Further, the protective film 12 made of a zinc sulfide-based thin film
In order to manufacture a phase change type optical recording medium having a and 12b, a substrate 11 and a sputtering target material composed of a ZnS—SiO 2 system sintered body are placed in opposition to the substrate 11 in an RF sputtering device. A high-frequency plasma is generated in high-vacuum and dilute Ar to form a protective film 12 made of a zinc sulfide-based thin film containing SiO 2 on the substrate 11.
a is deposited on the protective layer 12a to form a recording layer 13 made of a Te alloy or an Sb alloy, and then a protective layer 12b made of a ZnS—SiO 2 thin film is formed on the recording layer 13 by R.
After being deposited by an F sputtering apparatus, it is formed by depositing a reflection layer 14 and a resin layer 15 made of aluminum, gold, silver, or an alloy containing these as main components.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、相変
化型光記録媒体の高密度化のため、回転速度の高速化と
共に、レーザー光の短波長化が進められており、従来、
８３０ｎｍや７８０ｎｍの波長を有するレーザー光が用
いられていたのに対し、４００ｎｍの波長を有するレー
ザー光を用いることが提案されており、このレーザー光
の短波長化によって記録層１３における復素屈折率の相
変化に伴う変化率が小さくなり（信号のＳ／Ｎ比が小さ
くなる）、保護層１２ａ，１２ｂの屈折率を高めること
が要求されていた。By the way, in recent years, in order to increase the density of phase-change optical recording media, the rotation speed has been increased and the wavelength of laser light has been shortened.
While laser light having a wavelength of 830 nm or 780 nm has been used, it has been proposed to use a laser light having a wavelength of 400 nm. Due to the shortening of the wavelength of this laser light, the refraction index of boron in the recording layer 13 is reduced. The rate of change due to the phase change of (2) becomes smaller (the S / N ratio of the signal becomes smaller), and it has been required to increase the refractive index of the protective layers 12a and 12b.
【０００９】ところが、保護膜１２ａ，１２ｂを硫化亜
鉛薄膜により形成したものでは、４００ｎｍ波長光に対
する屈折率（ｎ）が２．３５程度と比較的高い屈折率を
有するものの、上述したように、硫化亜鉛薄膜はレーザ
ー光の照射によって薄膜中のＺｎＳ結晶が粒成長を起こ
して薄膜の特性劣化を生じるといった不都合があり、他
方、保護膜１２ａ，１２ｂをＳｉＯ2を含有する硫化亜
鉛系薄膜により形成したものでは、ＳｉＯ2の含有によ
りレーザー光に対する屈折率が全体的に悪くなり、特に
４００ｎｍの波長を有するレーザー光に対する屈折率
（ｎ）が２．３５よりもさらに低くなって、光記録媒体
の記録密度を高めることができないといった課題があっ
た。However, the protective films 12a and 12b formed of zinc sulfide thin film have a relatively high refractive index (n) of about 2.35 with respect to light having a wavelength of 400 nm. The zinc thin film has an inconvenience that ZnS crystals in the thin film cause grain growth due to irradiation of laser light and deteriorate characteristics of the thin film. On the other hand, the protective films 12a and 12b are formed by a zinc sulfide-based thin film containing SiO 2 . However, due to the inclusion of SiO 2, the refractive index for laser light as a whole deteriorates, and in particular, the refractive index (n) for laser light having a wavelength of 400 nm becomes even lower than 2.35. There was a problem that the density could not be increased.
【００１０】そこで、４００ｎｍの波長を有するレーザ
ー光に対する屈折率（ｎ）を高めるために、ＳｉＯ2を
含有する硫化亜鉛系薄膜からなる保護層１２ａ，１２ｂ
の厚みを厚くすることも考えられるが、硫化亜鉛系薄膜
は熱伝導率が小さいため、記録／消去時におけるレーザ
ー光の照射によって保護層１２ａ，１２ｂに蓄熱された
熱を直ちに放熱することができず、記録層１３や基体１
１との間の熱膨張差に伴って発生する熱応力によって剥
離するといった恐れがあった。その上、光記録媒体がＣ
Ｄ仕様である場合、ポリマーからなる基体１１の厚みが
１．２ｍｍ程度とある程度の厚みによって強度を維持す
ることができるものの、光記録媒体がＤＶＤ仕様となる
と、その厚みは０．６ｍｍにまで薄くなり、この場合、
熱応力によってポリマーからなる基体１１が変形すると
いった恐れもあった。Therefore, in order to increase the refractive index (n) for laser light having a wavelength of 400 nm, the protective layers 12a and 12b made of a zinc sulfide-based thin film containing SiO 2.
However, since the zinc sulfide-based thin film has a low thermal conductivity, it is possible to immediately dissipate the heat accumulated in the protective layers 12a and 12b by the irradiation of the laser beam during recording / erasing. First, the recording layer 13 and the substrate 1
There is a risk of peeling due to the thermal stress generated due to the difference in thermal expansion between No. 1 and 1. In addition, the optical recording medium is C
In the case of the D specification, the strength can be maintained by the thickness of the base body 11 made of the polymer of about 1.2 mm to a certain degree, but when the optical recording medium becomes the DVD specification, the thickness is as thin as 0.6 mm. And in this case,
There is also a possibility that the base body 11 made of polymer may be deformed by the thermal stress.
【００１１】さらに、記録／消去時に照射されるレーザ
ー光によって硫化亜鉛系薄膜からなる保護層１２ａ，１
２ｂが４００℃〜７００℃の温度範囲に加熱されると、
硫化亜鉛系薄膜中の硫黄が記録層１３の合金と反応して
腐食され、光記録媒体の信頼性が著しく損なわれるとい
った課題もあった。Further, the protective layers 12a, 1 made of a zinc sulfide-based thin film by the laser light irradiated at the time of recording / erasing.
When 2b is heated to a temperature range of 400 ° C to 700 ° C,
There is also a problem that the sulfur in the zinc sulfide-based thin film reacts with the alloy of the recording layer 13 and is corroded, so that the reliability of the optical recording medium is significantly impaired.
【００１２】また、硫化亜鉛系薄膜からなる保護層１２
ａ，１２ｂを形成するために用いるスパッタリングター
ゲット材としてのＺｎＳ−ＳｉＯ2系焼結体は、その体
積固有抵抗値が高いため、ＲＦスパッタリング法が用い
られていたが、ＲＦスパッタリング法は成膜速度が遅
く、光記録媒体の生産性を高めることができないといっ
た不都合もあった。Further, the protective layer 12 made of a zinc sulfide-based thin film
The ZnS—SiO 2 system sintered body as the sputtering target material used for forming a and 12b has a high volume resistivity value, and thus the RF sputtering method has been used. However, there is also a disadvantage that the productivity of the optical recording medium cannot be improved because of the slow speed.
【００１３】[0013]
【課題を解決するための手段】そこで、本件発明者は、
短波長光に対する屈折率が硫化亜鉛薄膜よりも高く、耐
熱衝撃性に優れるとともに、熱に対して高い安定性を有
し、かつＤＣスパッタリング法等の効率の良い成膜手段
によって成膜することが可能な薄膜について鋭意研究を
重ねたところ、酸化チタンを主成分とし、副成分として
酸化ニオブを含有する酸化チタン系薄膜を用いれば良い
ことを見出し、本発明に至った。Therefore, the inventor of the present invention,
The refractive index for short-wavelength light is higher than that of the zinc sulfide thin film, the thermal shock resistance is excellent, the thermal stability is high, and the film can be formed by an efficient film forming means such as a DC sputtering method. As a result of intensive studies on possible thin films, it was found that a titanium oxide-based thin film containing titanium oxide as a main component and niobium oxide as a secondary component should be used, and the present invention was completed.
【００１４】即ち、本発明は上記課題に鑑み、酸化チタ
ンを主成分とし、副成分として酸化ニオブを含有した酸
化チタン系薄膜を用い、４００ｎｍの波長光に対する屈
折率が２．５以上であることを特徴とする。That is, in view of the above problems, the present invention uses a titanium oxide type thin film containing titanium oxide as a main component and niobium oxide as a secondary component, and has a refractive index of 2.5 or more for light having a wavelength of 400 nm. Is characterized by.
【００１５】なお、上記酸化ニオブの含有量は、Nb2Ｏ5
換算で２．５重量％〜１１重量％とすることが好まし
い。The content of niobium oxide is Nb 2 O 5
It is preferably set to 2.5 wt% to 11 wt% in terms of conversion.
【００１６】また、本発明は、レーザー光の照射信号を
相変化として記録する合金からなる記録層と、この記録
層を被覆して保護する保護層とからなる光記録媒体であ
って、上記保護層を、酸化チタンを主成分とし、副成分
として酸化ニオブを含有する酸化チタン系薄膜により形
成したことを特徴とする。Further, the present invention is an optical recording medium comprising a recording layer made of an alloy for recording a laser beam irradiation signal as a phase change and a protective layer for covering and protecting the recording layer. The layer is formed of a titanium oxide thin film containing titanium oxide as a main component and niobium oxide as an accessory component.
【００１７】また、上記保護層を形成する酸化チタン系
薄膜の４００ｎｍの波長光に対する屈折率は２．５以上
であることが好ましく、また、上記酸化ニオブの含有量
は、Nb2Ｏ5換算で２．５重量％〜１１重量％であるもの
が好ましい。The titanium oxide thin film forming the protective layer preferably has a refractive index of 2.5 or more with respect to light having a wavelength of 400 nm, and the content of niobium oxide is Nb 2 O 5 conversion. It is preferably from 2.5% to 11% by weight.
【００１８】[0018]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below.
【００１９】本発明の酸化チタン系薄膜は、酸化チタン
を主成分とし、副成分として酸化ニオブを含有したもの
で、４００ｎｍの波長光に対する屈折率が２．５以上で
あることを特徴とする。The titanium oxide type thin film of the present invention comprises titanium oxide as a main component and niobium oxide as a secondary component, and is characterized by having a refractive index of 2.5 or more for light having a wavelength of 400 nm.
【００２０】即ち、本件発明者は、短波長光に対する屈
折率が硫化亜鉛薄膜より高い材料について鋭意研究を重
ねたところ、酸化チタンが硫化亜鉛と同程度の屈折率を
有することを知見し、さらに酸化チタンを主成分とし、
副成分として酸化ニオブを含有させることにより、酸化
チタン（ＴｉＯ2）や硫化亜鉛（ＺｎＳ）の単体よりも
屈折率を高めることができることを見出したのである。That is, the inventors of the present invention have conducted extensive studies on a material having a refractive index higher than that of a zinc sulfide thin film for short-wavelength light, and have found that titanium oxide has a refractive index similar to that of zinc sulfide. Titanium oxide as the main component,
It has been found that the inclusion of niobium oxide as a subcomponent makes it possible to increase the refractive index more than that of titanium oxide (TiO 2 ) or zinc sulfide (ZnS) alone.
【００２１】そして、酸化ニオブの含有量について実験
を重ねたところ、Ｎｂ2Ｏ5換算で０．５重量％〜１４重
量％の範囲で含有することにより、４００ｎｍの波長光
に対する屈折率を２．５以上とすることができ、好まし
くは酸化ニオブの含有量をＮｂ2Ｏ5換算で、１重量％〜
１３重量％の範囲で含有することにより、４００ｎｍの
波長光に対する屈折率を２．６以上とすることができ、
さらに好ましくは酸化ニオブの含有量をＮｂ2Ｏ5換算
で、２．５重量％〜１１重量％の範囲で含有することに
より、４００ｎｍの波長光に対する屈折率を２．８以上
とすることができ、望ましくは酸化ニオブの含有量をＮ
ｂ2Ｏ5換算で、５重量％〜１０重量％の範囲で含有する
ことにより、４００ｎｍの波長光に対する屈折率を２．
８５以上とすることができる。When experiments were repeated on the content of niobium oxide, the content of Nb 2 O 5 in the range of 0.5% by weight to 14% by weight gave a refractive index of 2.40 to the light of wavelength 400 nm. The content of niobium oxide is preferably 1% by weight to Nb 2 O 5 equivalent.
By containing it in the range of 13% by weight, the refractive index for the light having a wavelength of 400 nm can be 2.6 or more,
More preferably, by containing the niobium oxide content in the range of 2.5 wt% to 11 wt% in terms of Nb 2 O 5 , it is possible to make the refractive index to light of 400 nm wavelength 2.8 or more. , Desirably the content of niobium oxide is N
In b 2 O 5 in terms of, by containing in the range of 5 wt% to 10 wt%, the refractive index with respect to wavelength of 400 nm 2.
It can be 85 or more.
【００２２】その為、本発明の酸化チタン系薄膜を用い
れば、短波長光に対する高い屈折率が要求されるレーザ
ー集光用レンズ、光記録媒体といった用途に好適に用い
ることができる。Therefore, the titanium oxide type thin film of the present invention can be suitably used for applications such as a laser focusing lens and an optical recording medium which require a high refractive index for short wavelength light.
【００２３】また、この酸化チタン系薄膜は、非晶質構
造を有し、熱に対する安定性に優れることから、７００
℃もの大きな熱が加わったとしても酸化チタン結晶が生
成されたり、粒成長を起こすようなことがなく、かつ酸
化チタン系薄膜が他の材質と反応することもないため、
熱が加わるような環境下でも使用することができる。し
かも、非晶質構造であるため、成膜時に膜内に残留する
内部応力が小さいため、被着する基板との相性の制約が
少なく、様々な基板へ比較的密着良く被着することがで
きる。Since this titanium oxide thin film has an amorphous structure and is excellent in heat stability,
Even if a large heat of ℃ is applied, titanium oxide crystals are not generated, grain growth does not occur, and the titanium oxide thin film does not react with other materials,
It can be used even in an environment where heat is applied. Moreover, since it has an amorphous structure, the internal stress remaining in the film during film formation is small, so there are few restrictions on the compatibility with the substrate to be adhered, and it is possible to adhere to various substrates with relatively good adhesion. .
【００２４】ところで、本発明の酸化チタン系薄膜を製
作するには、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマ
ＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、電子
ビーム蒸着法等の気相成膜法を用いることができるが、
これらの気相成膜法の中でもスパッタリング法を用いれ
ば比較的簡単にかつ安価に酸化チタン系薄膜を成膜する
ことができる。In order to manufacture the titanium oxide thin film of the present invention, a vapor phase film forming method such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, a plasma CVD method, a photo CVD method, an ion plating method and an electron beam vapor deposition method is used. Can be used,
Among these vapor phase film forming methods, the titanium oxide thin film can be formed relatively easily and inexpensively by using the sputtering method.
【００２５】スパッタリングターゲット材としては、酸
化チタン系薄膜と略同等の組成を有する酸化ニオブを含
有する酸化チタン系焼結体を用いれば良く、具体的に
は、酸化チタンを主成分とし、副成分として酸化ニオブ
をＮｂ2Ｏ5換算で０．５重量％を越え、１５重量％以下
の範囲で含有する酸化チタン系焼結体を用いることが好
ましい。As the sputtering target material, a titanium oxide-based sintered body containing niobium oxide having a composition approximately equal to that of the titanium oxide-based thin film may be used. It is preferable to use a titanium oxide based sintered body containing niobium oxide in an amount of more than 0.5% by weight and less than 15% by weight in terms of Nb 2 O 5 .
【００２６】即ち、酸化ニオブの含有量がＮｂ2Ｏ5換算
で０．５重量％以下であると、成膜した酸化チタン系薄
膜中における酸化ニオブの含有量がＮｂ2Ｏ5換算で０．
５重量％以下となり、４００ｎｍの波長光に対する屈曲
率を２．５以上とすることができないからであり、逆に
酸化ニオブの含有量がＮｂ2Ｏ5換算で１５重量％を超え
ると、成膜した酸化チタン系薄膜中における酸化ニオブ
の含有量がＮｂ2Ｏ5換算で１４重量％を越え、４００ｎ
ｍの波長光に対する屈曲率を２．５以上とすることがで
きないからである。[0026] That is, the content of niobium oxide is 0.5 wt% or less calculated as Nb 2 O 5, the content of niobium in the titanium oxide thin film was deposited are calculated as Nb 2 O 5 0.
This is because the amount is 5% by weight or less, and the bending ratio with respect to light having a wavelength of 400 nm cannot be 2.5 or more. On the contrary, when the content of niobium oxide exceeds 15% by weight in terms of Nb 2 O 5 , a film is formed. The content of niobium oxide in the formed titanium oxide thin film exceeds 14% by weight in terms of Nb 2 O 5 and is 400 n
This is because it is not possible to set the bending ratio for light having a wavelength of m of 2.5 or more.
【００２７】そして、主成分である酸化チタンは絶縁材
料であるが、これに酸化ニオブをＮｂ2Ｏ5換算で０．５
重量％を越え、１５重量％以下の範囲で含有することに
より、酸化チタン系焼結体のシート抵抗値を１００Ω／
□以下とすることができ、ＲＦスパッタリング法だけで
なく、成膜速度の速いＤＣスパッタリング法を用いるこ
ともできるため、酸化チタン系薄膜の成膜時間を大幅に
短縮することができる。なお、好ましくは酸化チタン系
焼結体の酸化ニオブ含有量をＮｂ2Ｏ5に換算して１重量
％〜１０重量％の範囲で含有させることにより、酸化チ
タン系焼結体のシート抵抗値を３０Ω／□以下とするこ
とができ、ＤＣスパッタリング法による成膜速度をより
高めることができる。Titanium oxide, which is the main component, is an insulating material, and niobium oxide is added to this in an amount of 0.5 in terms of Nb 2 O 5.
When the content of the titanium oxide-based sintered body is more than 15% by weight and less than 15% by weight, the sheet resistance of the titanium oxide-based sintered body is 100Ω /
It can be set to □ or less, and not only the RF sputtering method but also the DC sputtering method having a high film formation rate can be used, so that the film formation time of the titanium oxide thin film can be significantly shortened. In addition, preferably, the sheet resistance value of the titanium oxide-based sintered body is adjusted by containing the niobium oxide content of the titanium oxide-based sintered body in the range of 1% by weight to 10% by weight in terms of Nb 2 O 5. It can be 30 Ω / □ or less, and the film formation rate by the DC sputtering method can be further increased.
【００２８】次に、本発明に係る酸化チタン系薄膜を用
いた応用例について説明する。Next, application examples using the titanium oxide thin film according to the present invention will be described.
【００２９】図２は本発明に係る酸化チタン系薄膜を相
変化型記録層の保護層として用いた光記録媒体を示す概
略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing an optical recording medium in which the titanium oxide thin film according to the present invention is used as a protective layer for a phase change recording layer.
【００３０】この相変化型光記録媒体１０は、ポリマー
等からなる円盤状をした基体１上に、ＤＣスパッタリン
グ法を含む気相成膜法により、酸化チタンを主成分と
し、副成分として酸化ニオブを含有し、４００ｎｍの波
長を有するレーザー光に対する屈折率が２．５以上であ
る酸化チタン系薄膜からなる第一の保護層２ａを被覆し
た後、この保護層２ａ上にＴｅ合金やＳｂ合金からなる
相変化型記録層３を被覆し、さらにこの記録層３上に、
ＤＣスパッタリング法を含む気相成膜法により、酸化チ
タンを主成分とし、副成分として酸化ニオブを含有し、
４００ｎｍの波長を有するレーザー光に対する屈折率が
２．５以上である酸化チタン系薄膜からなる第ニの保護
層２ｂを被覆し、この保護層２ｂの上にアルミニウム、
金、銀、あるいはこれらを主成分とする合金等からなる
反射膜４と樹脂層５を形成したもので、基体１側から照
射されたレーザー光は、第二の保護層２ｂを透過して記
録層３に照射され、記録層３を透過したレーザー光は第
一の保護膜２ａを透過して反射層４で反射され、反射さ
れたレーザー光は、再度、第一の保護膜２ａ、記録層
３、第２の保護層２ｂを透過して照射側に戻り、電気信
号として取り出されるようになっており、記録時には、
信号強度に対応して変調されたレーザー光が照射され、
その熱エネルギーにより記録層３を相変化させることに
より（例えば、記録層３の合金薄膜を結晶相と非晶相と
に相互に変化させる）、信号情報をこの相変化として記
録させ、また、再生時には、レーザー光を照射して記録
層３における相変化に伴ったレーザー光の反射強度変化
を信号として検出するようになっている。This phase change type optical recording medium 10 has titanium oxide as a main component and niobium oxide as a subcomponent on a disk-shaped substrate 1 made of a polymer or the like by a vapor phase film forming method including a DC sputtering method. And a first protective layer 2a made of a titanium oxide thin film having a refractive index of 2.5 or more with respect to a laser beam having a wavelength of 400 nm is coated on the protective layer 2a from a Te alloy or an Sb alloy. The phase-change recording layer 3 is formed on the recording layer 3, and further on the recording layer 3,
By a vapor phase film forming method including a DC sputtering method, titanium oxide is contained as a main component and niobium oxide is contained as a sub-component,
A second protective layer 2b made of a titanium oxide-based thin film having a refractive index of 2.5 or more with respect to a laser beam having a wavelength of 400 nm is coated, and aluminum is formed on the protective layer 2b.
A reflective film 4 and a resin layer 5 made of gold, silver, or an alloy containing them as a main component are formed, and the laser light emitted from the side of the substrate 1 passes through the second protective layer 2b for recording. The laser light irradiated on the layer 3 and transmitted through the recording layer 3 is transmitted through the first protective film 2a and reflected by the reflective layer 4, and the reflected laser light is again reflected by the first protective film 2a and the recording layer. 3, it passes through the second protective layer 2b, returns to the irradiation side, and is taken out as an electric signal.
Laser light modulated according to the signal intensity is emitted,
By changing the phase of the recording layer 3 by the thermal energy (for example, the alloy thin film of the recording layer 3 is changed to the crystalline phase and the amorphous phase), the signal information is recorded as this phase change and is also reproduced. At times, laser light is irradiated and the change in the reflection intensity of the laser light accompanying the phase change in the recording layer 3 is detected as a signal.
【００３１】そして、本発明の光記録媒体１０は、保護
層２ａ，２ｂを形成する酸化チタン系薄膜が、酸化チタ
ンを主成分とし、副成分として酸化ニオブを含み、熱に
対して安定した非晶質構造を有することから、記録／消
去時に繰り返し照射されるレーザー光によって４００℃
〜７００℃に加熱されたとしても酸化チタンの結晶化や
粒成長を防ぎ、結晶化や粒成長に伴うＳ／Ｎ比の低減を
防止することができる。In the optical recording medium 10 of the present invention, the titanium oxide type thin film forming the protective layers 2a and 2b contains titanium oxide as a main component and niobium oxide as an accessory component, and is stable to heat. Since it has a crystalline structure, it is 400 ° C due to the laser light repeatedly irradiated during recording / erasing.
Even if heated to ˜700 ° C., crystallization and grain growth of titanium oxide can be prevented, and reduction of S / N ratio due to crystallization and grain growth can be prevented.
【００３２】しかも、本発明の酸化チタン系薄膜は、化
学的に安定であることから、レーザー光によって高温に
加熱されたとしても記録層３として用いられるＴｅ合金
やＳｂ合金との反応することがなく、記録層３の腐食を
防止することができる。Moreover, since the titanium oxide thin film of the present invention is chemically stable, it can react with the Te alloy or Sb alloy used as the recording layer 3 even if it is heated to a high temperature by laser light. Therefore, the corrosion of the recording layer 3 can be prevented.
【００３３】その上、酸化チタン系薄膜は非晶質構造で
あることから、酸化チタン系薄膜中に残留する内部応力
が小さく、保護層２ａ，２ｂの剥離や破損を防止するこ
とができるとともに、光記録媒体１０がＤＶＤ仕様であ
る場合には反りの発生を防ぎ、光記録媒体１０の信頼性
を高めることができる。In addition, since the titanium oxide thin film has an amorphous structure, the internal stress remaining in the titanium oxide thin film is small, and it is possible to prevent the protective layers 2a and 2b from peeling or breaking. When the optical recording medium 10 has the DVD specifications, it is possible to prevent warpage and improve the reliability of the optical recording medium 10.
【００３４】また、本発明の酸化チタン系薄膜は、従来
より用いられている硫化亜鉛薄膜の屈折率より大きな屈
折率を有するため、保護膜２ａ，２ｂの膜厚みを１０ｎ
ｍ〜５００ｎｍと薄くすることができ、これにより保護
層２ａ，２ｂの放熱性を高め、保護層２ａ，２ｂの剥離
等の熱的障害を防止することもできる。Further, since the titanium oxide thin film of the present invention has a refractive index higher than that of the zinc sulfide thin film which has been conventionally used, the film thickness of the protective films 2a and 2b is 10n.
The thickness can be made as thin as m to 500 nm, whereby the heat dissipation of the protective layers 2a and 2b can be improved, and thermal obstacles such as peeling of the protective layers 2a and 2b can be prevented.
【００３５】さらに、従来のＳｉＯ2を含有する硫化亜
鉛系薄膜からなる保護層では、成膜速度を速めることが
できるＤＣスパッタリング法を適用できなかったが、本
発明の酸化チタン系薄膜は、ＤＣスパッタリング法を用
いることができるため、光記録媒体１０を生産性を高め
ることもできる。かくして、本発明によれば、信頼性の
高い光記録媒体を提供することができる。Further, in the case of the conventional protective layer made of a zinc sulfide-based thin film containing SiO 2 , the DC sputtering method capable of increasing the film formation rate could not be applied. Since the sputtering method can be used, the productivity of the optical recording medium 10 can be improved. Thus, according to the present invention, a highly reliable optical recording medium can be provided.
【００３６】以上、本発明の実施形態について示した
が、本発明は上記実施形態だけに限定されるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲で改良や変更できる
ことは言うまでもない。Although the embodiments of the present invention have been described above, it is needless to say that the present invention is not limited to the above embodiments and can be improved or changed without departing from the scope of the present invention.
【００３７】[0037]
【実施例】（実施例１）ここで、酸化ニオブの含有量を
異ならせた酸化チタン系薄膜を用意し、４００ｎｍの波
長を有するレーザー光に対する屈折率を測定する実験を
行った。EXAMPLES Example 1 Here, an experiment was carried out in which titanium oxide thin films having different niobium oxide contents were prepared and the refractive index for laser light having a wavelength of 400 nm was measured.
【００３８】本実験にあたり、まず、酸化チタン系薄膜
を成膜するため、スパッタリングターゲット材を製作し
た。In this experiment, first, a sputtering target material was manufactured to form a titanium oxide thin film.
【００３９】具体的には、出発原料として、平均粒径
２．０μｍのＴｉＯ2粉末に対し、平均粒径１．０μｍ
のＮｂ2Ｏ5粉末を０．０５重量％〜１５重量％の範囲で
添加し、さらに水と有機系バインダーを加え混合するこ
とによりスラリーを得た。次に、得られたスラリーを２
００℃にて噴霧乾燥させることにより造粒粉を製作し、
この造粒粉を型内に充填しプレス成形にて円板状体に成
形した後、脱脂工程を経て１４００℃の温度で３時間程
度焼結することにより、酸化ニオブを含有する酸化チタ
ン系焼結体を製作し、直径７６ｍｍ×厚み５ｍｍとなる
ように切削加工を施すことによりスパッタリングターゲ
ット材を製作した。Specifically, as a starting material, TiO 2 powder having an average particle size of 2.0 μm was used, and an average particle size of 1.0 μm.
Nb 2 O 5 powder of was added in the range of 0.05 wt% to 15 wt%, and water and an organic binder were further added and mixed to obtain a slurry. Next, the obtained slurry is added to 2
Produce granulated powder by spray drying at 00 ℃,
After filling this granulated powder in a mold and forming it into a disk-shaped body by press molding, it is degreased and then sintered at a temperature of 1400 ° C. for about 3 hours to obtain a titanium oxide-based firing containing niobium oxide. A sputtering target material was produced by producing a united body and cutting it so as to have a diameter of 76 mm and a thickness of 5 mm.
【００４０】そして、得られた酸化チタン系焼結体から
なるスパッタリングターゲット材を用い、ＤＣスパッタ
リング法によりガラス基板上に酸化ニオブの含有量を異
ならせた酸化チタン系薄膜を１００ｎｍの厚みで被着
し、各酸化チタン系薄膜の４００ｎｍの波長を有するレ
ーザー光に対する屈折率を分光エリプソメーターによっ
て測定した。なお、ＤＣスパッタリング法の条件は、投
入電力１０００Ｗ、Ａｒと酸素の混合ガス圧を１Ｐａと
した。Then, using a sputtering target material composed of the obtained titanium oxide-based sintered body, a titanium oxide thin film having a different niobium oxide content was deposited on a glass substrate by DC sputtering to a thickness of 100 nm. Then, the refractive index of each titanium oxide thin film with respect to the laser beam having a wavelength of 400 nm was measured by a spectroscopic ellipsometer. The conditions for the DC sputtering method were an input power of 1000 W and a mixed gas pressure of Ar and oxygen of 1 Pa.
【００４１】図１にその結果を示すように、酸化チタン
系薄膜の屈折率は、酸化ニオブの含有量がNb2Ｏ5換算で
０．５重量％を越え、２．５重量％までは急激に増加
し、２．５重量％から１０重量％までは比較的緩やかに
増加し、１０重量％を越えると屈折率が低下することが
判る。そして、酸化ニオブの含有量がNb2Ｏ5換算で０．
５重量％〜１４重量％の範囲においては、４００ｎｍの
波長光に対する屈折率を２．５以上とすることができ、
また酸化ニオブの含有量がNb2Ｏ5換算で２．５重量％〜
１１重量％の範囲においては、４００ｎｍの波長光に対
する屈折率を２．８以上とすることができ、さらに酸化
ニオブの含有量がNb2Ｏ5換算で５重量％〜１０重量％の
範囲においては、４００ｎｍの波長光に対する屈折率を
２．８５以上とすることができることが判る。As shown in the results in FIG. 1, the refractive index of the titanium oxide thin film exceeds 0.5% by weight in terms of Nb 2 O 5 content of niobium oxide, and sharply increases to 2.5% by weight. It can be seen that the refractive index gradually increases from 2.5% by weight to 10% by weight, and that the refractive index decreases when it exceeds 10% by weight. Then, the content of niobium oxide in terms of Nb 2 O 5 is 0.
In the range of 5% by weight to 14% by weight, the refractive index for light with a wavelength of 400 nm can be 2.5 or more,
Further, the content of niobium oxide is 2.5 wt% in terms of Nb 2 O 5
In the range of 11% by weight, the refractive index for the light of wavelength of 400 nm can be 2.8 or more, and in the range of the content of niobium oxide in the range of 5% by weight to 10% by weight in terms of Nb 2 O 5. It can be seen that the refractive index for light having a wavelength of 400 nm can be 2.85 or more.
【００４２】また、他の波長光に対する屈折率を見るた
め、酸化ニオブの含有量がNb2Ｏ5換算で２．５重量％で
ある酸化チタン系薄膜と、酸化ニオブの含有量がNb2Ｏ5
換算で５．０重量％である酸化チタン系薄膜を用い、３
００ｎｍ〜１５ｎｍの波長を有するレーザー光に対する
屈折率を測定した。In order to see the refractive index with respect to light of other wavelengths, a titanium oxide thin film having a niobium oxide content of 2.5 wt% in terms of Nb 2 O 5 and a niobium oxide content of Nb 2 O Five
Using a titanium oxide thin film that is 5.0% by weight in conversion, 3
The refractive index for laser light having a wavelength of 00 nm to 15 nm was measured.
【００４３】酸化ニオブの含有量が２．５重量％である
酸化チタン系薄膜の屈折率は、図２（ａ）に、Nb2Ｏ5含
有量が５．０重量％である酸化チタン系薄膜の屈折率は
図２（ｂ）にそれぞれ示す通りである。The refractive index of the titanium oxide-based thin film having a niobium oxide content of 2.5% by weight is shown in FIG. 2 (a), and the titanium oxide-based thin film having a Nb 2 O 5 content of 5.0% by weight. The refractive index of each is as shown in FIG.
【００４４】この結果、いずれの酸化チタン系薄膜も同
様の傾向が見られ、３００ｎｍ〜６００ｎｍの波長を有
するレーザー光に対する屈折率を２．５以上とすること
ができ、また、６００ｎｍ〜１５００ｎｍの波長を有す
るレーザー光に対する屈折率もそれ程大きく低下するこ
とがなく、２．４以上を有していた。As a result, the same tendency is observed in all the titanium oxide thin films, the refractive index for laser light having a wavelength of 300 nm to 600 nm can be 2.5 or more, and the wavelength of 600 nm to 1500 nm. The refractive index with respect to the laser light having the above-mentioned value did not decrease so much and was 2.4 or more.
【００４５】この結果、酸化ニオブの含有量が２．５重
量％以上を有する酸化チタン系薄膜を用いれば、８００
ｎｍ以下の波長を有するレーザー光に対しても屈折率が
２．４以上と、高い屈折率が得られ、これにより、Ｔｅ
合金やＳｂ合金からなる相変化型記録層を保護する保護
層としても好適に用いることができ、また、広範囲の波
長領域を有するレーザー光に対して使用可能な光記録媒
体を提供することができるとともに、高い屈折率を利用
して保護層を薄くすることができ、熱的安定性を確保す
ることができるため、保護層の剥離のない信頼性の高い
光記録媒体のを提供することができる。
（実施例２）次に、実施例１の酸化チタン系薄膜と従来
の酸化珪素を含有する硫化亜鉛系薄膜を、成膜速度の速
いＤＣスパッタリング法と、成膜速度の速くないＲＦス
パッタリング法を用いて成膜し、成膜するのに要する時
間について調べる実験を行った。As a result, if a titanium oxide thin film having a niobium oxide content of 2.5% by weight or more is used, 800
A high refractive index of 2.4 or more can be obtained even for laser light having a wavelength of nm or less.
It can be suitably used also as a protective layer for protecting the phase-change recording layer made of an alloy or Sb alloy, and can provide an optical recording medium usable for laser light having a wide wavelength range. At the same time, since the protective layer can be thinned by utilizing the high refractive index and thermal stability can be secured, it is possible to provide a highly reliable optical recording medium without peeling of the protective layer. . (Example 2) Next, the titanium oxide thin film of Example 1 and a conventional zinc sulfide thin film containing silicon oxide were subjected to a DC sputtering method with a high film formation rate and an RF sputtering method with a low film formation rate. An experiment was carried out to investigate the time required for film formation using the film.
【００４６】なお、従来の酸化珪素を含有する硫化亜鉛
系薄膜を成膜するスパッタリングターゲット材として、
ＺｎＳ（８０重量％）−ＳｉＯ2（２０重量％）系焼結
体を用いた。As a conventional sputtering target material for forming a zinc sulfide-based thin film containing silicon oxide,
A ZnS (80% by weight) -SiO 2 (20% by weight) type sintered body was used.
【００４７】また、実施例１の酸化チタン系薄膜及び従
来の硫化亜鉛系薄膜を成膜するのに用いた酸化チタン系
焼結体及び硫化亜鉛系焼結体からなるスパッタリングタ
ーゲット材の表面抵抗値を四探針法により測定した結果
は表１に示す通りである。Further, the surface resistance value of the sputtering target material composed of the titanium oxide-based sintered body and the zinc sulfide-based sintered body used for forming the titanium oxide-based thin film of Example 1 and the conventional zinc sulfide-based thin film. Table 1 shows the results of measurement by the four-point probe method.
【００４８】[0048]
【表１】 [Table 1]
【００４９】また、ＲＦスパッタリング法の条件は、投
入電力８００Ｗ、Ａｒと酸素の混合ガス圧１Ｐａを選定
し、１００ｎｍの膜厚みとなるよう、ガラス基板上に成
膜し、ＤＣスパッタリング法の条件は、投入電力１００
０Ｗ、Ａｒと酸素の混合ガス圧１Ｐａを選定し、１００
ｎｍの膜厚みとなるよう、ガラス基板上に成膜した。Regarding the conditions of the RF sputtering method, an input power of 800 W, a mixed gas pressure of Ar and oxygen of 1 Pa were selected, and a film was formed on a glass substrate so as to have a film thickness of 100 nm. , Input power 100
Select 0 W, mixed gas pressure of Ar and oxygen, 1 Pa, and select 100
The film was formed on a glass substrate so as to have a film thickness of nm.
【００５０】結果は表２に示す通りである。The results are shown in Table 2.
【００５１】[0051]
【表２】 [Table 2]
【００５２】この結果、表２より判るように、ＤＣスパ
ッタリング法によれば、ＲＦスパッタリング法と比較す
ると、スパッタレートが約４０％向上することが判る。
このようにして、薄膜生産の効率化の点では、従来の硫
化亜鉛系薄膜が、ＲＦスパッタリング法でしか形成でき
ず、そのスパッタレートが小さいが、酸化チタン系薄膜
はスパッタレートを高められることが判る。As a result, as can be seen from Table 2, the DC sputtering method improves the sputtering rate by about 40% as compared with the RF sputtering method.
In this way, in terms of efficiency of thin film production, the conventional zinc sulfide-based thin film can be formed only by the RF sputtering method and its sputter rate is small, but the titanium oxide-based thin film can increase the sputter rate. I understand.
【００５３】また、従来の硫化亜鉛系薄膜は、スパッタ
リング法でスパッタリングターゲットの使用開始直後
と、使用後半のターゲット消耗が激しい時とでは、薄膜
の光学特性が変わることがあったが、酸化チタン系薄膜
では、光学特性が変わらないことを確認している。Further, in the conventional zinc sulfide-based thin film, the optical characteristics of the thin film may change immediately after the sputtering target is used by the sputtering method and when the target is consumed in the latter half of the use. It has been confirmed that the optical properties of thin films do not change.
【００５４】[0054]
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、酸化チ
タンを主成分とし、副成分として酸化ニオブを含有する
酸化チタン系薄膜を用いるようにしたことから、４００
ｎｍの波長光に対する屈折率を２．５以上と、硫化亜鉛
系薄膜よりも高い屈折率を得ることができ、これにより
保護膜の膜厚を薄くすることができるため、熱放散性を
向上させることができる。特に酸化ニオブをNb2Ｏ5換算
で２．５重量％〜１１重量％の範囲で含有する酸化チタ
ン系薄膜は、４００ｎｍの波長光に対する屈折率が２．
６以上の高屈折率を得ることができる。As described above, according to the present invention, the titanium oxide type thin film containing titanium oxide as the main component and niobium oxide as the accessory component is used.
With a refractive index of 2.5 or more for light having a wavelength of nm, a refractive index higher than that of a zinc sulfide-based thin film can be obtained, and thus the thickness of the protective film can be reduced, thereby improving heat dissipation. be able to. Particularly, the titanium oxide thin film containing niobium oxide in the range of 2.5 wt% to 11 wt% in terms of Nb 2 O 5 has a refractive index of 2.
A high refractive index of 6 or more can be obtained.
【００５５】また、酸化ニオブをNb2Ｏ5換算で２．５重
量％〜１１重量％の範囲で含有する酸化チタン系薄膜
は、熱に対して安定であるために、光記録媒体の消去／
記録時に照射されるレーザー光によって４００℃〜７０
０℃の高温に加熱されたとしても酸化チタン結晶が生成
されたり、粒成長することが殆どなく、非晶質構造を安
定して維持することができるため、光記録媒体の記録層
を保護する保護層として好適に用いることができる。Further, the titanium oxide thin film containing niobium oxide in the range of 2.5% by weight to 11% by weight in terms of Nb 2 O 5 is stable against heat, so that it can be erased / erased from the optical recording medium.
400 ° C. to 70 depending on the laser light irradiated during recording
Even if it is heated to a high temperature of 0 ° C., a titanium oxide crystal is hardly generated and grain growth hardly occurs, and the amorphous structure can be stably maintained, so that the recording layer of the optical recording medium is protected. It can be suitably used as a protective layer.
【００５６】さらに、本発明の酸化チタン系薄膜は、薄
膜を得る方法として、従来のＲＦスパッタリング法に限
定されず、真空蒸着法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ
法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などの
膜形成方法を利用することができ、薄膜は安定した熱的
特性を有するとともに、硫化亜鉛系薄膜と比較して、電
気抵抗値が低い特徴を有するために、その酸化チタン系
焼結体から、薄膜形成に直流スパッタリングを利用する
ことができ、電力の粒力を高めることにより、スパッタ
速度を大きくして、光記録媒体の保護層として形成する
場合の薄膜生産性を高めることができる。Further, the titanium oxide type thin film of the present invention is not limited to the conventional RF sputtering method as a method for obtaining a thin film, but it may be a vacuum deposition method, a plasma CVD method or a photo CVD method.
Method, ion plating method, electron beam evaporation method, etc. can be used, and the thin film has stable thermal characteristics and has a low electric resistance value compared with the zinc sulfide thin film. Therefore, the titanium oxide-based sintered body can be used as a protective layer for an optical recording medium by utilizing direct current sputtering for forming a thin film, and increasing the grain power of electric power to increase the sputtering rate. In this case, thin film productivity can be increased.
【００５７】また、本発明の酸化チタン系薄膜は、化学
的に安定であることから、記録層にＴｅ合金やＳｂ合金
を用いた相変化型光記録媒体において、記録層の腐食を
防ぐことができ、光記録媒体の信頼性を高めることがで
きる。Since the titanium oxide thin film of the present invention is chemically stable, it is possible to prevent corrosion of the recording layer in the phase change type optical recording medium using the Te alloy or Sb alloy for the recording layer. Therefore, the reliability of the optical recording medium can be improved.
【図１】本発明に係る酸化チタン系薄膜を相変化型記録
層の保護層として用いた光記録媒体を示す概略断面図で
ある。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an optical recording medium using a titanium oxide thin film according to the present invention as a protective layer of a phase change recording layer.
【図２】酸化ニオブの含有量と酸化チタン系薄膜の屈折
率との関係を示すグラフである。FIG. 2 is a graph showing the relationship between the content of niobium oxide and the refractive index of a titanium oxide-based thin film.
【図３】（ａ）は酸化ニオブの含有量が２．５重量％で
ある酸化チタン系薄膜の３００ｎｍ〜１５００ｎｍの波
長光に対する屈折率を示すグラフであり、（ｂ）は酸化
ニオブの含有量が５．０重量％である酸化チタン系薄膜
の３００ｎｍ〜１５００ｎｍの波長光に対する屈折率を
示すグラフである。FIG. 3 (a) is a graph showing the refractive index of a titanium oxide thin film having a niobium oxide content of 2.5% by weight with respect to light having a wavelength of 300 nm to 1500 nm, and FIG. 3 (b) is a niobium oxide content. 3 is a graph showing the refractive index of a titanium oxide thin film having a content of 5.0% by weight with respect to light having a wavelength of 300 nm to 1500 nm.
【図４】従来の光記録媒体を示す概略断面図である。FIG. 4 is a schematic sectional view showing a conventional optical recording medium.
１：基板 ２ａ：第一の保護層 ２ｂ：第二の保護層
３：記録層 ４：反射層 ５：樹脂層 １０：光記録媒
体
１１：基板 １２ａ：第一の保護層 １２ｂ：第二の保
護層
１３：記録層 １４：反射層 １５：樹脂層 ２０：光
記録媒体1: Substrate 2a: First protective layer 2b: Second protective layer 3: Recording layer 4: Reflective layer 5: Resin layer 10: Optical recording medium 11: Substrate 12a: First protective layer 12b: Second protective layer Layer 13: Recording layer 14: Reflective layer 15: Resin layer 20: Optical recording medium
Claims (5)
化ニオブを含有してなり、４００ｎｍの波長光に対する
屈折率が２．５以上であることを特徴とする酸化チタン
系薄膜。1. A titanium oxide-based thin film comprising titanium oxide as a main component and niobium oxide as a secondary component, and having a refractive index of 2.5 or more for light having a wavelength of 400 nm.
２．５重量％〜１１重量％の範囲にあることを特徴とす
る請求項１に記載の酸化チタン系薄膜。2. The titanium oxide thin film according to claim 1, wherein the content of niobium oxide is in the range of 2.5 wt% to 11 wt% in terms of Nb 2 O 5 .
する合金からなる記録層と、該記録層を被覆して保護す
る保護層とからなる光記録媒体であって、上記保護層
が、酸化チタンを主成分とし、副成分として酸化ニオブ
を含有する酸化チタン系薄膜からなることを特徴とする
光記録媒体。3. An optical recording medium comprising a recording layer made of an alloy for recording a laser light irradiation signal as a phase change and a protective layer for covering and protecting the recording layer, wherein the protective layer is an oxidation layer. An optical recording medium comprising a titanium oxide thin film containing titanium as a main component and niobium oxide as a secondary component.
４００ｎｍの波長光に対する屈折率が２．５以上である
ことを特徴とする請求項３に記載の光記録媒体。4. The optical recording medium according to claim 3, wherein the titanium oxide thin film forming the protective layer has a refractive index of 2.5 or more with respect to light having a wavelength of 400 nm.
２．５重量％〜１１重量％の範囲にあることを特徴とす
る請求項４に記載の光記録媒体。5. The optical recording medium according to claim 4, wherein the content of niobium oxide is in the range of 2.5 wt% to 11 wt% in terms of Nb 2 O 5 .
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