JP2003006930A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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JP2003006930A
JP2003006930A JP2001183728A JP2001183728A JP2003006930A JP 2003006930 A JP2003006930 A JP 2003006930A JP 2001183728 A JP2001183728 A JP 2001183728A JP 2001183728 A JP2001183728 A JP 2001183728A JP 2003006930 A JP2003006930 A JP 2003006930A
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optical recording
dielectric layer
protective layer
recording medium
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宏一 保田
Yutaka Kasami
裕 笠見
Katsuhiro Seo
勝弘 瀬尾
Yuji Kuroda
裕児 黒田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical recording medium in which damage to a light transmissive protective layer by heat generated in data recording is suppressed without causing new problem even when the wavelength of light of a light source is made shorter and reliability is enhanced to increase rewrite frequency. SOLUTION: The optical recording medium has a substrate 15, an optical recording laminate 16 formed on the substrate 15 and a light transmissive protective layer 17 formed on the laminate 16 and the laminate 16 includes at least a phase change type optical recording layer 16RL, a first dielectric layer 16Ia formed on the protective layer 17 side of the recording layer 16RL and a cooling layer 16CL formed on the protective layer 17 side of the dielectric layer 16Ia, comprising nitride, oxide or the like of B, Al, Ga, In, C, Si, Ge or Sn and having a higher heat conductivity than the dielectric layer 16Ia.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光学記録媒体に関
し、特に、相変化型光学記録層を有する光学記録媒体に
関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical recording medium, and more particularly to an optical recording medium having a phase change type optical recording layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、データをデジタルに記録する技術
の発展に伴い、動画および静止画などのビデオデータ
や、オーディオデータなどの扱われる各種データは益々
大容量化してきている。上記の大容量の各種データを記
録する情報記録媒体としては、光学的に情報を記録する
光学記録媒体や、磁気記録媒体などが広く用いられてい
る。上記の情報記録媒体としては、エンボスピットやグ
ルーブによって情報信号を凹凸形状として記録する読み
出し専用(ROM:read only memor
y)型の光学記録媒体や、相変化型の光学記録層などを
用いた書き込み可能型の光学記録媒体、磁気光学効果を
利用した光磁気記録媒体などがある。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of a technology for digitally recording data, various kinds of data such as video data such as moving images and still images, and audio data to be handled have been increasing in capacity. As the information recording medium for recording the large-capacity various data, an optical recording medium for optically recording information, a magnetic recording medium, and the like are widely used. As the above-mentioned information recording medium, a read-only memory (ROM: read only memory) for recording an information signal in an uneven shape by embossed pits or grooves.
There are y) type optical recording media, writable optical recording media using a phase change type optical recording layer, and magneto-optical recording media utilizing the magneto-optical effect.

【0003】上記の光学記録媒体や光磁気記録媒体など
(以降光ディスクともいう)を記録媒体とする光ディス
ク装置としては、例えばCD(コンパクトディスク)や
DVD(デジタル多用途ディスク)などの光ディスク装
置が広く用いられている。上記の光ディスク装置の大容
量化は、使用するレーザ光の短波長化、対物レンズの高
開口数(NA)化により実現される。また、この対物レ
ンズの高開口数化に伴い、光ディスク装置におけるディ
スク傾き許容度が減少するため、コマ収差を許容範囲内
とするために、光学記録層の上層の光を透過させる層の
厚さを薄膜化する必要がある。
Optical disc devices such as CDs (compact discs) and DVDs (digital versatile discs) are widely used as optical disc devices which use the above-mentioned optical recording medium, magneto-optical recording medium or the like (hereinafter also referred to as optical disc) as a recording medium. It is used. The increase in capacity of the above optical disk device is realized by shortening the wavelength of the laser light used and increasing the numerical aperture (NA) of the objective lens. Further, as the numerical aperture of this objective lens is increased, the disc tilt tolerance in the optical disc device is reduced. Therefore, in order to keep coma within the permissible range, the thickness of the layer that transmits light above the optical recording layer Needs to be thinned.

【0004】例えば、CDなどにおいては、レーザ光波
長が780nm帯、対物レンズ開口数が0.5であり、
光学記録層の上層の光透過性のディスク基板の厚さが
1.2mmであり、DVDなどにおいては、レーザ光波
長が630〜680nm帯、対物レンズ開口数が0.6
であり、光学記録層の上層の光透過性のディスク基板の
厚さが0.6mmであり、例えばこのディスク基板を2
枚貼り合わせて1.2mm厚の基板として用いられてい
る。
For example, in a CD or the like, the laser light wavelength is 780 nm band and the objective lens numerical aperture is 0.5,
The thickness of the light transmissive disc substrate on the upper layer of the optical recording layer is 1.2 mm. In DVDs, the laser light wavelength is 630 to 680 nm band, and the objective lens numerical aperture is 0.6.
And the thickness of the optically transparent disc substrate on the upper layer of the optical recording layer is 0.6 mm.
The substrates are stuck together and used as a 1.2 mm thick substrate.

【0005】また、さらなる大容量化に対応可能な次世
代光ディスク装置として、レーザ光波長が青〜青紫色の
領域(例えば380〜420nm帯)にまで短波長化さ
れ、対物レンズの開口数が0.8以上(例えば0.8
5)まで高開口数化され、これに対応して光学記録層の
上層の光を透過させる保護層の厚さを0.1mm程度に
まで薄くした光学記録媒体を用いる光ディスク装置が提
案されている。上記の光ディスクでは、0.1mmの光
透過層は剛性が不足するので、光学記録層の下層に1.
1mm程度のディスク基板が用いられる。
Further, as a next-generation optical disk device capable of further increasing the capacity, the laser light wavelength is shortened to the blue to blue-violet region (for example, 380 to 420 nm band), and the numerical aperture of the objective lens is 0. .8 or more (for example, 0.8
There has been proposed an optical disk device using an optical recording medium having a high numerical aperture up to 5) and correspondingly reducing the thickness of a protective layer for transmitting light in the upper layer of the optical recording layer to about 0.1 mm. . In the above-mentioned optical disc, the 0.1 mm light transmitting layer lacks rigidity, so that 1.
A disk substrate of about 1 mm is used.

【0006】上記の光透過層(光透過性の保護層)の厚
さを0.1mm程度にまで薄くした光ディスクの例とし
て、相変化型の光ディスクについて説明する。図10
(a)は、上記の光ディスクの光の照射の様子を示す模
式斜視図である。光ディスクDCは、中心部にセンター
ホールCHが開口された略円盤形状をしており、ドライ
ブ方向DRに回転駆動される。情報を記録または再生す
るときには、光ディスクDC中の光学記録層に対して、
例えば開口数が0.8以上の対物レンズOLにより、青
〜青紫色の領域のレーザ光などの光LTが照射される。
A phase change type optical disk will be described as an example of an optical disk in which the thickness of the light transmitting layer (light transmitting protective layer) is reduced to about 0.1 mm. Figure 10
FIG. 7A is a schematic perspective view showing how the optical disc is irradiated with light. The optical disc DC has a substantially disc shape with a center hole CH opened in the center, and is rotationally driven in the drive direction DR. When recording or reproducing information, the optical recording layer in the optical disk DC is
For example, light LT such as laser light in a blue to blue-violet region is emitted from the objective lens OL having a numerical aperture of 0.8 or more.

【0007】図10(b)は模式断面図であり、図10
(c)は図10(b)の模式断面図の要部を拡大した断
面図である。厚さが約1.1mmのポリカーボネートな
どからなるディスク基板15の一方の表面に、トラック
領域を区分する溝15aが設けられており、この面上
に、光学記録積層体16が形成されている。光学記録積
層体16は、上層側から例えば第1誘電体層16Ia、
相変化型の光学記録層16RL、第2誘電体層16I
b、および反射膜16RFがこの順番で積層されてい
る。光学記録積層体16の層構成および層数は、記録材
料の種類や設計によって異なる。さらに、光学記録積層
体16の上層に0.1mmの膜厚の光透過性の保護層1
7が形成されている。保護層17は、例えば紫外線硬化
樹脂などからなる。
FIG. 10 (b) is a schematic sectional view.
FIG. 10C is an enlarged sectional view of a main part of the schematic sectional view of FIG. A groove 15a for partitioning a track region is provided on one surface of a disk substrate 15 made of polycarbonate or the like having a thickness of about 1.1 mm, and an optical recording laminate 16 is formed on this surface. The optical recording laminated body 16 includes, for example, the first dielectric layer 16Ia,
Phase change type optical recording layer 16RL, second dielectric layer 16I
b and the reflection film 16RF are laminated in this order. The layer structure and the number of layers of the optical recording laminate 16 differ depending on the type and design of the recording material. Further, a light-transmitting protective layer 1 having a film thickness of 0.1 mm is formed on the optical recording laminate 16.
7 are formed. The protective layer 17 is made of, for example, an ultraviolet curable resin.

【0008】上記の光ディスクを記録あるいは再生する
場合には、対物レンズOLにより、レーザ光などの光L
Tを保護層17側から光学記録積層体16に対して照射
する。光ディスクの再生時においては、光学記録積層体
16で反射された戻り光が受光素子で受光され、信号処
理回路により所定の信号を生成して、再生信号が取り出
される。
When recording or reproducing the above-mentioned optical disc, a light L such as a laser beam is passed through the objective lens OL.
The optical recording laminate 16 is irradiated with T from the protective layer 17 side. During reproduction of the optical disc, the return light reflected by the optical recording laminate 16 is received by the light receiving element, the signal processing circuit generates a predetermined signal, and the reproduction signal is extracted.

【0009】上記のような光ディスクにおいて、ディス
ク基板15の一方の表面に設けられた溝15aに応じて
光学記録積層体16も凹凸形状を有しており、この溝1
5aによりトラック領域が区分されている。ディスク基
板15から見て保護層17側に凸に突出している領域は
ランド、凹部領域はグルーブと呼ばれ、ランドとグルー
ブの両者に情報を記録するランド・グルーブ記録方式を
適用することが可能である。また、ランドとグルーブの
いずれか一方のみを記録領域とすることも可能である。
In the optical disc as described above, the optical recording layered body 16 also has an irregular shape corresponding to the groove 15a provided on one surface of the disc substrate 15, and the groove 1
The track area is divided by 5a. A region protruding from the disk substrate 15 to the protective layer 17 side is called a land, and a recessed region is called a groove. A land-groove recording method for recording information on both the land and the groove can be applied. is there. It is also possible to use only one of the land and the groove as the recording area.

【0010】上記の構成の相変化型の光ディスクは、相
変化型の光学記録層が結晶状態とアモルファス状態のい
ずれかであるかによってデータを記録するものであり、
記録データのコントラストとして、用いる光源の波長に
おいて、光学記録層がアモルファス状態であるときの光
ディスクとしての反射率(Ra)に対する、光学記録層
が結晶状態であるときの光ディスクとしての反射率(R
c)の比率(Rc/Ra)が大きくなるように、上記の
層構成などが設計される。上記の用いる光源の波長は、
上述のように780nm帯や630〜680nm帯など
から、380〜420nm帯へと短波長化してきてお
り、これに伴って上記の比率(Rc/Ra)が最適とな
るように、第1誘電体層16Iaの膜厚を適切な値に設
定することが重要である。
The phase change type optical disk having the above-mentioned structure records data depending on whether the phase change type optical recording layer is in a crystalline state or an amorphous state.
As the contrast of recorded data, at the wavelength of the light source used, the reflectance (Ra) as an optical disk when the optical recording layer is in an amorphous state, and the reflectance (R) as an optical disk when the optical recording layer is in a crystalline state
The layer structure and the like described above are designed so that the ratio (c / Ra) of c) becomes large. The wavelength of the light source used above is
As described above, the wavelength has been shortened from the 780 nm band or the 630 to 680 nm band to the 380 to 420 nm band, and along with this, the first dielectric is adjusted so that the above ratio (Rc / Ra) becomes optimum. It is important to set the film thickness of the layer 16Ia to an appropriate value.

【0011】上記の第1誘電体層16Iaの膜厚につい
てシミュレーションを行うと、上記の光ディスクの反射
率(RaおよびRc)は、第1誘電体層16Iaの膜厚
に対して周期的に変化し、膜厚が例えば35nmのとき
に記録データのコントラストとなる比率(Rc/Ra)
が極大となる。従って、例えば第1誘電体層16Iaの
膜厚は35nm程度に設定されている。
When the film thickness of the first dielectric layer 16Ia is simulated, the reflectance (Ra and Rc) of the optical disk changes periodically with respect to the film thickness of the first dielectric layer 16Ia. , Ratio of contrast of recorded data when film thickness is 35 nm (Rc / Ra)
Is the maximum. Therefore, for example, the film thickness of the first dielectric layer 16Ia is set to about 35 nm.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
構成の相変化型の光ディスクにおいては、下記の理由に
より保護層17が破壊されるという不具合が生じること
があった。上記の保護層17の破壊は、上記のような使
用するレーザ光の短波長化、対物レンズの高開口数(N
A)化により、レーザ光の光スポット径が小さくなり、
光ディスク上における光スポットのエネルギ密度が高ま
って、データの記録時においては相変化型光学記録層で
局所的に1000℃を越える高温となる領域が生じ、こ
の熱が薄い第1誘電体層を介して、耐熱性が低い紫外線
硬化樹脂などからなる保護層に拡散することに起因する
と考えられる。上記のように保護層が破壊されると、光
ディスクの信頼性が低下し、書き換え可能な回数が少な
くなってしまう。
However, in the phase-change type optical disk having the above-mentioned structure, the protective layer 17 may be destroyed due to the following reasons. The protection layer 17 is destroyed by shortening the wavelength of the laser light used and increasing the numerical aperture (N) of the objective lens as described above.
Due to A), the light spot diameter of the laser light becomes smaller,
The energy density of the light spot on the optical disk increases, and a region of a high temperature exceeding 1000 ° C. locally occurs in the phase change optical recording layer during data recording, and this heat is transmitted through the thin first dielectric layer. It is considered that this is due to diffusion into a protective layer made of an ultraviolet curable resin or the like having low heat resistance. When the protective layer is destroyed as described above, the reliability of the optical disc is lowered, and the number of rewritable times is reduced.

【0013】光ディスクの反射率(RaおよびRc)は
周期的に変化していることから、比率(Rc/Ra)が
極大となる次の周期の膜厚である135nm程度に厚膜
化して、相変化型光学記録層で発生する熱の保護層への
拡散を抑制し、上記の問題を回避する方法が考えられて
いる。しかし、この場合には、第1誘電体層の厚膜化に
伴う製造コストの増加、熱が相変化型光学記録層にこも
りやすくなることによるクロスライトの悪化、および、
膜厚精度を保つことが困難であるという新たな問題が生
じることになる。
Since the reflectivities (Ra and Rc) of the optical disk periodically change, the film thickness is increased to about 135 nm which is the film thickness in the next cycle when the ratio (Rc / Ra) becomes maximum, and A method of avoiding the above problems by suppressing the diffusion of heat generated in the variable optical recording layer to the protective layer has been considered. However, in this case, the manufacturing cost increases with the thickening of the first dielectric layer, the deterioration of cross-write due to heat being easily accumulated in the phase change optical recording layer, and
A new problem arises that it is difficult to maintain the film thickness accuracy.

【0014】本発明は上記の状況に鑑みてなされたもの
であり、従って本発明の目的は、新たな問題を生じさせ
ずに、光源を短波長化してもデータの記録時に発生する
熱による保護層の破壊を抑制し、信頼性を高めて書き換
え可能な回数を増加することが可能となる光学記録媒体
を提供することである。
The present invention has been made in view of the above situation. Therefore, the object of the present invention is to protect from the heat generated at the time of recording data even if the wavelength of the light source is shortened without causing a new problem. An object of the present invention is to provide an optical recording medium capable of suppressing layer breakage, improving reliability, and increasing the number of rewritable times.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の光学記録媒体は、基板と、上記基板上に
形成された光学記録積層体と、上記光学記録積層体の上
層に形成された光透過性の保護層とを有し、上記光学記
録積層体は、少なくとも、相変化型光学記録層と、当該
相変化型光学記録層の上記保護層側に形成された第1誘
電体層と、当該第1誘電体層の上記保護層側に形成さ
れ、当該第1誘電体層よりも高い熱伝導性を有する冷却
層とを含む。
In order to achieve the above object, an optical recording medium of the present invention comprises a substrate, an optical recording laminate formed on the substrate, and an upper layer of the optical recording laminate. And a first dielectric formed on the protective layer side of the phase-change optical recording layer, the optical-recording laminate having at least a phase-transmissive protective layer formed thereon. A body layer and a cooling layer formed on the protective layer side of the first dielectric layer and having higher thermal conductivity than the first dielectric layer are included.

【0016】上記の本発明の光学記録媒体は、好適に
は、上記光学記録積層体は、上記相変化型光学記録層の
上記基板側に形成された第2誘電体層と、当該第2誘電
体層の上記基板側に形成された反射膜とをさらに含む。
さらに好適には、上記光学記録積層体は、上記反射膜と
上記第2誘電体層の間に形成された反射膜保護層をさら
に含む。
In the above-mentioned optical recording medium of the present invention, preferably, the optical recording laminate comprises a second dielectric layer formed on the substrate side of the phase change type optical recording layer, and the second dielectric layer. And a reflective film formed on the substrate side of the body layer.
More preferably, the optical recording layered body further includes a reflective film protective layer formed between the reflective film and the second dielectric layer.

【0017】上記の本発明の光学記録媒体は、好適に
は、上記冷却層は、B、Al、Ga、In、C、Si、
GeまたはSnのそれぞれの窒化物または酸化物あるい
はそれらの混合物からなるグループから選択された少な
くとも1種類の材料を含む。
In the above optical recording medium of the present invention, preferably, the cooling layer is B, Al, Ga, In, C, Si,
It contains at least one material selected from the group consisting of respective nitrides or oxides of Ge or Sn or mixtures thereof.

【0018】上記の本発明の光学記録媒体は、好適に
は、上記第1誘電体層と上記冷却層の膜厚の合計が30
〜80nmである。
In the above-mentioned optical recording medium of the present invention, the total thickness of the first dielectric layer and the cooling layer is preferably 30.
~ 80 nm.

【0019】上記の本発明の光学記録媒体は、好適に
は、上記相変化型光学記録層が、下記式(1)に示す合
金からなる。
In the above optical recording medium of the present invention, preferably, the phase change type optical recording layer is made of an alloy represented by the following formula (1).

【0020】[0020]

【化3】 Gea Sbx Tey …(1) ただし、1−a=x+y、0.02≦a≦0.10、
2.20≦x/y≦5.00である。
Ge a Sb x Te y (1) where 1-a = x + y, 0.02 ≦ a ≦ 0.10,
2.20 ≦ x / y ≦ 5.00.

【0021】上記の本発明の光学記録媒体は、好適に
は、上記相変化型光学記録層が、下記式(2)に示す合
金からなる。
In the above optical recording medium of the present invention, preferably, the phase change type optical recording layer is made of an alloy represented by the following formula (2).

【0022】[0022]

【化4】 Gea Inb Sbx Tey …(2) ただし、1−(a+b)=x+y、0.02≦a+b≦
0.10、2.20≦x/y≦5.00である。
Embedded image Ge a In b Sb x Te y (2) where 1- (a + b) = x + y, 0.02 ≦ a + b ≦
0.10, 2.20 ≦ x / y ≦ 5.00.

【0023】上記の本発明の光学記録媒体は、相変化型
光学記録層の光透過性の保護層側に形成された第1誘電
体層のさらに保護層側に、第1誘電体層よりも高い熱伝
導性を有する冷却層が形成されているため、記録時に発
生する熱が速やかに拡散され、これによって、光源を短
波長化してもデータの記録時に発生する熱による保護層
の破壊を抑制し、信頼性を高めて書き換え可能な回数を
増加することが可能となる。このとき、第1誘電体層と
冷却層を合わせても、膜厚の合計を30〜80nm程度
に薄くできるので、上述のようなクロスライトの悪化な
どの新たな問題を生じさせない。
In the above-mentioned optical recording medium of the present invention, the first dielectric layer formed on the light-transmissive protective layer side of the phase change type optical recording layer is further closer to the protective layer side than the first dielectric layer. Since the cooling layer with high thermal conductivity is formed, the heat generated during recording is quickly diffused, which prevents the protective layer from being destroyed by the heat generated during data recording even if the wavelength of the light source is shortened. However, it is possible to increase the reliability and increase the number of rewritable times. At this time, even if the first dielectric layer and the cooling layer are combined, the total film thickness can be reduced to about 30 to 80 nm, so that the above-mentioned new problem such as deterioration of cross light does not occur.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を用いて詳しく説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0025】第1実施形態 図1(a)は本実施形態に係る相変化型の書き換え可能
な光ディスクの光の照射の様子を示す模式斜視図であ
る。光ディスクDCは、中心部にセンターホールCHが
開口された略円盤形状をしており、ドライブ方向DRに
回転駆動される。情報を記録または再生するときには、
光ディスクDC中の光学記録層に対して、例えば開口数
が0.8以上の対物レンズOLにより、青〜青紫色の領
域のレーザ光などの光LTが照射される。
First Embodiment FIG. 1A is a schematic perspective view showing how the phase change type rewritable optical disk according to this embodiment is irradiated with light. The optical disc DC has a substantially disc shape with a center hole CH opened in the center, and is rotationally driven in the drive direction DR. When recording or playing back information,
The optical recording layer in the optical disc DC is irradiated with light LT such as laser light in a blue to blue-violet region by an objective lens OL having a numerical aperture of 0.8 or more, for example.

【0026】図1(b)は模式断面図であり、図1
(c)は図1(b)の模式断面図の要部を拡大した断面
図である。厚さが約1.1mmのポリカーボネートなど
からなるディスク基板15の一方の表面に、トラック領
域を区分する溝15aが設けられており、この面上に、
光学記録積層体16が形成されている。さらに、光学記
録積層体16の上層に0.1mmの膜厚の光透過性の保
護層17が形成されている。保護層17は、例えば紫外
線硬化樹脂などからなる。
FIG. 1B is a schematic sectional view.
FIG. 1C is an enlarged sectional view of a main part of the schematic sectional view of FIG. A groove 15a for partitioning a track area is provided on one surface of a disk substrate 15 made of polycarbonate or the like having a thickness of about 1.1 mm, and on this surface,
An optical recording laminated body 16 is formed. Furthermore, a light-transmitting protective layer 17 having a film thickness of 0.1 mm is formed on the upper layer of the optical recording laminate 16. The protective layer 17 is made of, for example, an ultraviolet curable resin.

【0027】上記の光ディスクを記録あるいは再生する
場合には、対物レンズOLにより、レーザ光などの光L
Tを保護層17側から光学記録積層体16に対して照射
する。光ディスクの再生時においては、光学記録積層体
16で反射された戻り光が受光素子で受光され、信号処
理回路により所定の信号を生成して、再生信号が取り出
される。
When recording or reproducing the above-mentioned optical disc, a light L such as a laser beam is passed through the objective lens OL.
The optical recording laminate 16 is irradiated with T from the protective layer 17 side. During reproduction of the optical disc, the return light reflected by the optical recording laminate 16 is received by the light receiving element, the signal processing circuit generates a predetermined signal, and the reproduction signal is extracted.

【0028】上記のような光ディスクにおいて、ディス
ク基板15の一方の表面に設けられた溝15aに応じて
光学記録積層体16も凹凸形状を有しており、この溝1
5aによりトラック領域が区分されている。ディスク基
板15から見て保護層17側に凸に突出している領域は
ランド、凹部領域はグルーブと呼ばれ、ランドとグルー
ブの両者に情報を記録するランド・グルーブ記録方式を
適用することが可能である。また、ランドとグルーブの
一方のみ記録領域とすることも可能である。
In the optical disc as described above, the optical recording layered body 16 also has an uneven shape corresponding to the groove 15a provided on one surface of the disc substrate 15, and the groove 1
The track area is divided by 5a. A region protruding from the disk substrate 15 to the protective layer 17 side is called a land, and a recessed region is called a groove. A land-groove recording method for recording information on both the land and the groove can be applied. is there. It is also possible to set only one of the land and the groove as the recording area.

【0029】光学記録積層体16は、例えば上層側か
ら、冷却層16CL、第1誘電体層16Ia、相変化型
の光学記録層16RL、第2誘電体層16Ib、および
反射膜16RFがこの順番で積層されている。光学記録
積層体16の層構成および層数は、記録材料の種類や設
計によって異なる。
In the optical recording laminate 16, for example, a cooling layer 16CL, a first dielectric layer 16Ia, a phase change type optical recording layer 16RL, a second dielectric layer 16Ib, and a reflective film 16RF are arranged in this order from the upper layer side. It is stacked. The layer structure and the number of layers of the optical recording laminate 16 differ depending on the type and design of the recording material.

【0030】光学記録層16RLは、例えばGeSbT
eなどの相変化材料からなる。例えば、下記式(1)あ
るいは(2)に示す合金を好ましく用いることができ
る。
The optical recording layer 16RL is, for example, GeSbT.
It consists of a phase change material such as e. For example, the alloy represented by the following formula (1) or (2) can be preferably used.

【0031】[0031]

【化5】 Gea Sbx Tey …(1) ただし、1−a=x+y、0.02≦a≦0.10、
2.20≦x/y≦5.00である。
Ge a Sb x Te y (1) where 1-a = x + y, 0.02 ≦ a ≦ 0.10,
2.20 ≦ x / y ≦ 5.00.

【0032】[0032]

【化6】 Gea Inb Sbx Tey …(2) ただし、1−(a+b)=x+y、0.02≦a+b≦
0.10、2.20≦x/y≦5.00である。
Embedded image Ge a In b Sb x Te y (2) where 1- (a + b) = x + y, 0.02 ≦ a + b ≦
0.10, 2.20 ≦ x / y ≦ 5.00.

【0033】反射膜16RFは、ヒートシンクとしても
機能をし、例えばアルミニウム合金あるいはAg合金か
らなる。誘電体層(16Ia,16Ib)は、ZnS−
SiO2 などの誘電体あるいはそれらの積層体からな
る。
The reflection film 16RF also functions as a heat sink and is made of, for example, an aluminum alloy or an Ag alloy. The dielectric layers (16Ia, 16Ib) are ZnS-
It is made of a dielectric material such as SiO 2 or a laminated body thereof.

【0034】また、上記の冷却層16CLは、第1誘電
体層16Iaよりも高い熱伝導性を有しており、例え
ば、B、Al、Ga、In、C、Si、GeまたはSn
のそれぞれの窒化物または酸化物あるいはそれらの混合
物からなるグループから選択された少なくとも1種類の
材料を含む。第1誘電体層16IaがZnS−SiO2
膜である場合には、冷却層16CLとしては窒化シリコ
ン(Si34 )膜などを好ましく用いることができ
る。
The cooling layer 16CL has a higher thermal conductivity than the first dielectric layer 16Ia, and is, for example, B, Al, Ga, In, C, Si, Ge or Sn.
Of at least one material selected from the group consisting of respective nitrides or oxides or mixtures thereof. The first dielectric layer 16Ia is ZnS-SiO 2
In the case of a film, a silicon nitride (Si 3 N 4 ) film or the like can be preferably used as the cooling layer 16CL.

【0035】上記の層構成を有する相変化型の光ディス
クにおいて、記録時においては、再生時よりも強度の強
い光を記録マークを形成すべき領域の光学記録層16R
Lに照射する。このとき、光を受けた光学記録層16R
Lは、アモルファス状態に相変化して記録マークとな
る。一方、再生時においては、再生用の光を光学記録層
16RLに照射する。このとき、光学記録層16RLが
結晶状態である場合とアモルファス状態である場合とで
は、光ディスクとしての反射率が異なることから、再生
光の反射率を検出することにより、記録されたデータを
再生することができる。
In the phase-change type optical disc having the above-mentioned layer structure, the optical recording layer 16R in the region where the recording mark is to be formed with light having a higher intensity during recording than during reproduction.
Irradiate L. At this time, the optical recording layer 16R that received light
L changes to an amorphous state and becomes a recording mark. On the other hand, at the time of reproduction, reproduction light is applied to the optical recording layer 16RL. At this time, since the reflectance of the optical disk is different between the case where the optical recording layer 16RL is in the crystalline state and the case where it is in the amorphous state, the recorded data is reproduced by detecting the reflectance of the reproduction light. be able to.

【0036】従来、上記の記録時の強い光を照射したと
きに光学記録層16RLに発生する熱により光透過性の
保護層17が破壊されて、光ディスクの信頼性が低下
し、書き換え可能な回数が少なくなってしまっていた
が、上記の本実施形態に係る光ディスクは、相変化型の
光学記録層16RLの光透過性の保護層17側に形成さ
れた第1誘電体層16Iaのさらに保護層17側に、第
1誘電体層16Iaよりも高い熱伝導性を有する冷却層
16CLが形成されているため、記録時に発生する熱が
速やかに拡散され、これによって、光源を短波長化して
もデータの記録時に発生する熱による保護層17の破壊
を抑制し、信頼性を高めて書き換え可能な回数を増加す
ることが可能となる。これにより、光ディスクの大容量
化に伴うレーザ光の短波長化、対物レンズの高開口数
(NA)化にも対応した光ディスクを実現可能である。
Conventionally, the light-transmitting protective layer 17 is destroyed by heat generated in the optical recording layer 16RL when the above-mentioned strong light for recording is irradiated, and the reliability of the optical disk is deteriorated, and the number of rewritable times is increased. However, in the optical disc according to the present embodiment, the protective layer further includes the first dielectric layer 16Ia formed on the light-transmissive protective layer 17 side of the phase-change optical recording layer 16RL. Since the cooling layer 16CL having higher thermal conductivity than that of the first dielectric layer 16Ia is formed on the 17 side, heat generated during recording is quickly diffused, which allows data to be generated even if the wavelength of the light source is shortened. It is possible to suppress destruction of the protective layer 17 due to heat generated during the recording, improve reliability, and increase the number of rewritable times. As a result, it is possible to realize an optical disk that is compatible with a shorter wavelength of laser light and a higher numerical aperture (NA) of an objective lens as the capacity of an optical disk increases.

【0037】第1および第2誘電体層(16Ia,16
Ib)は、位相あるいは熱伝導率を調整するため、さら
には、拡散を防止するなどの理由により形成されている
が、光学記録層16RLと保護層17の間の層は冷却層
16CLと第1誘電体層16Iaの積層体として位相あ
るいは熱伝導率などが所定の値となるように設計され
る。例えば、第1誘電体層16Iaと冷却層16CLの
膜厚の合計が30〜80nmとなるようにする。冷却層
16CLを設けることによって熱を十分に拡散しても保
護層の破壊を防止できるため、第1誘電体層16Iaと
冷却層16CLの膜厚の合計を薄膜化することが可能と
なったもので、これにより、第1誘電体層16Iaを厚
膜化したときに生じる製造コストの増加、クロスライト
の悪化、および、膜厚精度を保つことの困難さなどを回
避することができる。
The first and second dielectric layers (16Ia, 16Ia
Ib) is formed for the purpose of adjusting the phase or the thermal conductivity, and further for the reason of preventing diffusion. However, the layer between the optical recording layer 16RL and the protective layer 17 is the cooling layer 16CL and the first layer. The laminated body of the dielectric layers 16Ia is designed so that the phase or the thermal conductivity has a predetermined value. For example, the total thickness of the first dielectric layer 16Ia and the cooling layer 16CL is set to 30 to 80 nm. By providing the cooling layer 16CL, the protective layer can be prevented from being destroyed even if heat is sufficiently diffused, so that the total thickness of the first dielectric layer 16Ia and the cooling layer 16CL can be reduced. Thus, it is possible to avoid an increase in manufacturing cost, a deterioration in cross-write, a difficulty in maintaining the film thickness accuracy, and the like, which occur when the first dielectric layer 16Ia is thickened.

【0038】また、第1誘電体層16Iaと冷却層16
CLの複合膜として、記録データのコントラストが大き
くなるようにその膜厚が選択される。図2は、上記構成
の光ディスクにおいて、光源波長を400nm帯とした
ときにおける光学記録層がアモルファス状態であるとき
の光ディスクとしての反射率(Ra)と、光学記録層が
結晶状態であるときの光ディスクとしての反射率(R
c)を、ZnS−SiO2 膜に換算した第1誘電体層1
6Iaと冷却層16CLの複合膜厚t1 に対してシミュ
レーションのより求めた結果を示す図である。光ディス
クの反射率(RaおよびRc)は、複合膜厚t1 に対し
て周期的に変化し、膜厚が例えば35nmのときに記録
データのコントラストとなる比率(Rc/Ra)が極大
となる。従って、複合膜厚t1 が35nm程度となるよ
うに設定することが好ましい。
In addition, the first dielectric layer 16Ia and the cooling layer 16
As the CL composite film, its film thickness is selected so that the contrast of the recorded data is increased. FIG. 2 shows the reflectance (Ra) as an optical disk when the optical recording layer is in the amorphous state when the light source wavelength is in the 400 nm band and the optical disk when the optical recording layer is in the crystalline state in the optical disk having the above-mentioned configuration. Reflectance (R
First dielectric layer 1 in which c) is converted to a ZnS-SiO 2 film
It is a diagram showing a more determined results of the simulation to the composite thickness t 1 of 6Ia cooling layer 16CL. The reflectivities (Ra and Rc) of the optical disk periodically change with respect to the composite film thickness t 1 , and when the film thickness is 35 nm, the ratio of contrast of recorded data (Rc / Ra) becomes maximum. Therefore, it is preferable to set the composite film thickness t 1 to about 35 nm.

【0039】例えば、ZnS−SiO2 膜である第1誘
電体層16Iaを25nm、Si34 膜である冷却層
16CLを25nmとする。このように設定した結果
は、上記の複合膜厚の好ましい条件を満たす他、第1誘
電体層16Iaと冷却層16CLの膜厚の合計が50n
mとなり、上述の第1誘電体層16Iaと冷却層16C
Lの膜厚の合計に関する好ましい条件を満たす。
For example, the first dielectric layer 16Ia which is a ZnS-SiO 2 film is 25 nm, and the cooling layer 16CL which is a Si 3 N 4 film is 25 nm. The result of setting in this way is that the total thickness of the first dielectric layer 16Ia and the cooling layer 16CL is 50n in addition to satisfying the preferable condition of the composite thickness.
m, and the above-mentioned first dielectric layer 16Ia and cooling layer 16C
The preferable condition regarding the total film thickness of L is satisfied.

【0040】上記の本実施形態の光ディスクの製造方法
について説明する。まず、図3(a)に示すように、ガ
ラス基板10上にレジスト膜11が成膜されたディスク
原盤を準備する。
A method for manufacturing the above-mentioned optical disc of this embodiment will be described. First, as shown in FIG. 3A, a disk master having a resist film 11 formed on a glass substrate 10 is prepared.

【0041】次に、図3(b)に示すように、レーザビ
ームあるいは電子ビームなどにより、例えばディスク基
板の溝となる領域を感光させるパターンでレジスト膜1
1の露光を行い、現像処理を施して、ディスク基板の溝
となる領域を開口するパターンのレジスト膜11aとす
る。
Next, as shown in FIG. 3B, the resist film 1 is formed in a pattern in which, for example, a region of the disk substrate, which becomes a groove, is exposed by a laser beam or an electron beam.
1 exposure is performed and development processing is performed to form a resist film 11a having a pattern of opening a region to be a groove of the disk substrate.

【0042】次に、図4(c)に示すように、例えば銀
メッキ処理やその他の成膜処理などを用いて、上記ガラ
ス基板10上のレジスト膜11a上にメタルマスタ12
を形成する。メタルマスタ12の表面には、ガラス基板
10およびレジスト膜11aにより構成されるパターン
の凹凸と逆パターンの凹凸が転写される。
Next, as shown in FIG. 4C, the metal master 12 is formed on the resist film 11a on the glass substrate 10 by using, for example, a silver plating process or another film forming process.
To form. On the surface of the metal master 12, the unevenness of the pattern formed by the glass substrate 10 and the resist film 11a and the unevenness of the reverse pattern are transferred.

【0043】次に、図4(d)に示すように、上記メタ
ルマスタ12上にマザー13を形成する。マザー13の
表面には、メタルマスタ12の表面の凹凸と逆パターン
の凹凸が転写される。図面上、メタルマスタ12を下方
とし、図4(c)に対して上下を逆転して描いている。
Next, as shown in FIG. 4D, a mother 13 is formed on the metal master 12. On the surface of the mother 13, irregularities having a pattern opposite to that of the irregularities on the surface of the metal master 12 are transferred. In the drawing, the metal master 12 is shown as a lower side and the drawing is reversed upside down with respect to FIG.

【0044】次に、図5(e)に示すように、上記マザ
ー13上にスタンパ14を形成する。スタンパ14の表
面には、マザー13の表面の凹凸と逆パターンの凹凸が
転写される。図面上、マザー13を下方とし、図4
(d)に対して上下を逆転して描いている。
Next, as shown in FIG. 5E, a stamper 14 is formed on the mother 13. On the surface of the stamper 14, the unevenness of the pattern opposite to the unevenness of the surface of the mother 13 is transferred. In the drawing, the mother 13 is set downward, and FIG.
It is drawn upside down with respect to (d).

【0045】次に、図5(f)に示すように、例えば射
出成形法、圧縮成形法、あるいは2P(Photo P
olymarization)法などにより、上記スタ
ンパ14の凹凸パターン上にポリカーボネートなどの樹
脂製基板であるディスク基板15を形成する。ディスク
基板15には、スタンパ14の表面の凹凸と逆パターン
の凹凸となる溝15cが転写される。ここで、スタンパ
14の表面の凹凸と逆パターンの凹凸となる溝15cが
転写される。図面上、スタンパ14を下方とし、図5
(e)に対して上下を逆転して描いている。
Next, as shown in FIG. 5F, for example, an injection molding method, a compression molding method, or 2P (Photo P) is used.
The disk substrate 15 which is a resin substrate made of polycarbonate or the like is formed on the concave-convex pattern of the stamper 14 by an olymization method or the like. On the disk substrate 15, a groove 15c, which has an uneven pattern opposite to that of the surface of the stamper 14, is transferred. Here, the groove 15c, which is an uneven pattern having a pattern reverse to that of the surface of the stamper 14, is transferred. In the drawing, the stamper 14 is set downward, and FIG.
It is drawn upside down with respect to (e).

【0046】次に、図6(g)に示すように、ディスク
基板15の表面に、例えばスパッタリング法などによ
り、例えば反射膜16RF、誘電体層16Ib、光学記
録層16RL、誘電体層16Ia、冷却層16CLの積
層体をこの順序で成膜し、光学記録積層体16とする。
Next, as shown in FIG. 6G, on the surface of the disk substrate 15, for example, by a sputtering method or the like, for example, the reflection film 16RF, the dielectric layer 16Ib, the optical recording layer 16RL, the dielectric layer 16Ia, and cooling. A laminated body of the layer 16CL is formed in this order to form the optical recording laminated body 16.

【0047】次に、図6(h)に示すように、光学記録
積層体16の上層に、例えば紫外線硬化樹脂を成膜し、
光透過性の保護層17を形成する。以上で、図1に示す
構造の光ディスクを製造することができる。
Next, as shown in FIG. 6 (h), an ultraviolet curable resin, for example, is formed on the upper layer of the optical recording laminate 16,
The light-transmitting protective layer 17 is formed. As described above, the optical disc having the structure shown in FIG. 1 can be manufactured.

【0048】上記の本実施形態に係る光ディスクの製造
方法によれば、相変化型の光学記録層16RLの光透過
性の保護層17側に形成された第1誘電体層16Iaの
さらに保護層17側に、第1誘電体層16Iaよりも高
い熱伝導性を有する冷却層16CLを形成しており、記
録時に発生する熱が速やかに拡散され、これによって、
光源を短波長化してもデータの記録時に発生する熱によ
る保護層17の破壊を抑制し、信頼性を高めて書き換え
可能な回数を増加することが可能となる光ディスクを製
造することができる。
According to the optical disc manufacturing method of the present embodiment, the protective layer 17 is further provided on the first dielectric layer 16Ia formed on the light-transmissive protective layer 17 side of the phase-change optical recording layer 16RL. On the side, the cooling layer 16CL having a higher thermal conductivity than the first dielectric layer 16Ia is formed, and the heat generated during recording is quickly diffused.
Even if the wavelength of the light source is shortened, it is possible to manufacture an optical disc that can suppress the destruction of the protective layer 17 due to heat generated during data recording, improve reliability, and increase the number of rewritable times.

【0049】第2実施形態 図7は、本実施形態に係る相変化型の書き換え可能な光
ディスクの要部を拡大した断面図である。本実施形態に
係る相変化型の光ディスクは、実質的に第1実施形態に
係る光ディスクと同様の構成であるが、第2誘電体層1
6Ibと反射膜16RFの間に、反射膜保護層16PT
が形成されていることが異なる。例えば、反射膜16R
FがAgなどからなり、第2誘電体層16IbがZnS
−SiO2 膜などからなる場合、第2誘電体層16Ib
と反射膜16RFが拡散により反応してしまう場合があ
るが、この境界部分に、反射膜保護層16PTとして、
例えばSi34 膜などの拡散を抑制する膜を形成する
ことにより、反射膜を保護することができる。上記以外
の構成は、第1実施形態と同様の構成とすることができ
る。
Second Embodiment FIG. 7 is an enlarged sectional view of a main part of a phase change type rewritable optical disk according to this embodiment. The phase change type optical disk according to the present embodiment has substantially the same configuration as the optical disk according to the first embodiment, but the second dielectric layer 1
Between the 6Ib and the reflective film 16RF, the reflective film protective layer 16PT
Are formed differently. For example, the reflective film 16R
F is made of Ag or the like, and the second dielectric layer 16Ib is ZnS.
If the second dielectric layer 16Ib is made of a SiO 2 film or the like,
The reflection film 16RF may react with each other due to diffusion, but at this boundary portion, as the reflection film protection layer 16PT,
For example, the reflection film can be protected by forming a film that suppresses diffusion, such as a Si 3 N 4 film. The configuration other than the above can be the same as that of the first embodiment.

【0050】上記の本実施形態に係る光ディスクは、第
1実施形態と同様に、相変化型の光学記録層16RLの
光透過性の保護層17側に形成された第1誘電体層16
Iaのさらに保護層17側に、第1誘電体層16Iaよ
りも高い熱伝導性を有する冷却層16CLが形成されて
いるため、記録時に発生する熱が速やかに拡散され、こ
れによって、光源を短波長化してもデータの記録時に発
生する熱による保護層17の破壊を抑制し、信頼性を高
めて書き換え可能な回数を増加することが可能となる。
The optical disk according to the present embodiment described above, like the first embodiment, has the first dielectric layer 16 formed on the light-transmissive protective layer 17 side of the phase change type optical recording layer 16RL.
Since the cooling layer 16CL having a higher thermal conductivity than that of the first dielectric layer 16Ia is formed further on the protection layer 17 side of Ia, the heat generated during recording is quickly diffused, thereby shortening the light source. Even if the wavelength is changed, it is possible to suppress the destruction of the protective layer 17 due to the heat generated at the time of recording data, improve the reliability, and increase the number of rewritable times.

【0051】(実施例)本実施例においては、図7に示
す層構成の光学記録積層体を有する相変化型の光ディス
クを作成した。即ち、厚さが約1.1mmのポリカーボ
ネートなどからなり、ランドおよびグルーブを区分する
溝を形成した基板15上に、Ag合金からなる膜厚10
0nmの反射膜16RF、Si34 膜からなる膜厚1
0nmの反射膜保護層16PT、ZnS(80モル%)
−SiO2 (20モル%)からなる膜厚5nmの混合誘
電体層16Ib、Ge0.040 Sb0.714 Te0.246 合金
からなる膜厚10nmの相変化型の光学記録層16R
L、ZnS(80モル%)−SiO2 (20モル%)か
らなる膜厚25nmの混合誘電体層16Ia、および、
Si34 膜からなる膜厚25nmの冷却層16CL
を、順にスパッタリング法により積層させ、相変化型の
光学記録積層体16を形成した。次に、光学記録積層体
16の上層に、スピンコート法により紫外線硬化樹脂か
らなる膜厚が約0.1mmの光透過性の保護層17を形
成した。
(Example) In this example, a phase change type optical disk having an optical recording laminate having the layer structure shown in FIG. 7 was prepared. That is, a film thickness 10 of Ag alloy is formed on a substrate 15 made of polycarbonate or the like having a thickness of about 1.1 mm and having a groove for separating a land and a groove formed therein.
0 nm reflective film 16RF, film thickness of Si 3 N 4 film 1
0 nm reflection film protective layer 16PT, ZnS (80 mol%)
A mixed-dielectric layer 16Ib made of --SiO 2 (20 mol%) and having a thickness of 5 nm, and a phase change type optical recording layer 16R made of Ge 0.040 Sb 0.714 Te 0.246 alloy and having a thickness of 10 nm.
L, a mixed dielectric layer 16Ia made of ZnS (80 mol%)-SiO 2 (20 mol%) and having a film thickness of 25 nm, and
Cooling layer 16CL made of Si 3 N 4 and having a thickness of 25 nm
Were sequentially laminated by a sputtering method to form a phase change type optical recording laminate 16. Next, on the upper layer of the optical recording laminate 16, a light-transmitting protective layer 17 made of an ultraviolet curable resin and having a film thickness of about 0.1 mm was formed by spin coating.

【0052】上記のようにして作成した相変化型の光デ
ィスクに、ビット長0.13μm、線速5.42m/秒
で信号を記録し、書き換え特性(ジッターの書き換え回
数依存性)をランドとグルーブのそれぞれについて調べ
た。結果を図8に示す。
Signals were recorded on the phase-change type optical disk produced as described above at a bit length of 0.13 μm and a linear velocity of 5.42 m / sec, and the rewriting characteristics (jitter rewriting frequency dependence) were measured for land and groove. I examined each of the. The results are shown in Fig. 8.

【0053】(比較例)本実施例においては、図10に
示す層構成において、さらに第2誘電体層16Ibと反
射膜16RFの間に、反射膜保護層が形成されている光
学記録積層体を有する相変化型の光ディスクを作成し
た。即ち、厚さが約1.1mmのポリカーボネートなど
からなり、ランドおよびグルーブを区分する溝を形成し
た基板15上に、Ag合金からなる膜厚100nmの反
射膜16RF、Si34 膜からなる膜厚10nmの反
射膜保護層、ZnS(80モル%)−SiO2 (20モ
ル%)からなる膜厚5nmの混合誘電体層16Ib、G
0.040 Sb0.714 Te0.246 合金からなる膜厚10n
mの相変化型の光学記録層16RL、および、ZnS
(80モル%)−SiO2 (20モル%)からなる膜厚
40nmの混合誘電体層16Iaを、順にスパッタリン
グ法により積層させ、相変化型の光学記録積層体16を
形成した。次に、光学記録積層体16の上層に、スピン
コート法により紫外線硬化樹脂からなる膜厚が約0.1
mmの光透過性の保護層17を形成した。
(Comparative Example) In this example, an optical recording laminate having a layer structure shown in FIG. 10 and further having a reflective film protective layer formed between the second dielectric layer 16Ib and the reflective film 16RF was prepared. A phase change type optical disc having the above was prepared. That is, a film made of a reflection film 16RF made of Ag alloy and having a film thickness of 100 nm, and a film made of Si 3 N 4 made of polycarbonate or the like having a thickness of about 1.1 mm and formed with a groove for separating a land and a groove. A reflection film protective layer having a thickness of 10 nm and a mixed dielectric layer 16Ib, G made of ZnS (80 mol%)-SiO 2 (20 mol%) and having a thickness of 5 nm.
e 0.040 Sb 0.714 Te 0.246 Film thickness of 10n
m phase change type optical recording layer 16RL and ZnS
A mixed dielectric layer 16Ia made of (80 mol%)-SiO 2 (20 mol%) and having a film thickness of 40 nm was sequentially laminated by a sputtering method to form a phase change type optical recording laminate 16. Next, the film thickness of the ultraviolet curable resin is about 0.1 by the spin coating method on the upper layer of the optical recording laminate 16.
A mm transparent protective layer 17 was formed.

【0054】上記のようにして作成した相変化型の光デ
ィスクに、ビット長0.13μm、線速5.42m/秒
で信号を記録し、書き換え特性(ジッターの書き換え回
数依存性)をランドとグルーブのそれぞれについて調べ
た。結果を図9に示す。
Signals were recorded on the phase-change type optical disk produced as described above at a bit length of 0.13 μm and a linear velocity of 5.42 m / sec, and the rewriting characteristics (dependence of the number of rewritings of jitter) were recorded on land and groove. I examined each of the. The results are shown in Fig. 9.

【0055】図9から、比較例の光ディスクは書き換え
回数が数100回のオーダーでジッターが増加し始めて
いるが、図8から、本実施形態の実施例の光ディスクで
ジッターが増加し始めるのは数10000回のオーダー
であり、比較例に対して2桁書き換え可能な回数を増加
できることが確認された。
From FIG. 9, the optical disc of the comparative example starts to increase the jitter on the order of several hundred rewrites, but from FIG. 8, the optical disc of the example of the present embodiment starts to increase the jitter. It was on the order of 10,000 times, and it was confirmed that the number of rewritable digits by two digits can be increased as compared with the comparative example.

【0056】本発明は、上記の実施の形態に限定されな
い。例えば、光学記録積層体の層構成および各層の材料
は上記で例示したものに限定されず、上記特性を実現可
能な層構成および各層の材料を適宜用いることが可能で
ある。その他、本発明の要旨を変更しない範囲で種々の
変更をすることができる。
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, the layer constitution of the optical recording laminate and the material of each layer are not limited to those exemplified above, and the layer constitution and the material of each layer capable of realizing the above characteristics can be appropriately used. In addition, various modifications can be made without changing the gist of the present invention.

【0057】[0057]

【発明の効果】本発明の光学記録媒体によれば、相変化
型の光学記録層の光透過性の保護層側に形成された第1
誘電体層のさらに保護層側に、第1誘電体層よりも高い
熱伝導性を有する冷却層が形成されているため、記録時
に発生する熱が速やかに拡散され、これによって、光源
を短波長化してもデータの記録時に発生する熱による保
護層の破壊を抑制し、信頼性を高めて書き換え可能な回
数を増加することが可能となる。
According to the optical recording medium of the present invention, the first layer formed on the light-transmissive protective layer side of the phase change type optical recording layer.
Since the cooling layer having higher thermal conductivity than the first dielectric layer is formed further on the protective layer side of the dielectric layer, the heat generated at the time of recording is quickly diffused, which allows the light source to emit light with a short wavelength. Even if this is done, it is possible to suppress the destruction of the protective layer due to the heat generated at the time of recording data, improve the reliability, and increase the number of rewritable times.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1(a)は、第1実施形態に係る光ディスク
の光の照射の様子を示す模式斜視図であり、図1(b)
は模式断面図であり、図1(c)は図1(b)の模式断
面図の要部を拡大した断面図である。
FIG. 1A is a schematic perspective view showing a state of light irradiation of an optical disc according to a first embodiment, and FIG.
Is a schematic cross-sectional view, and FIG. 1C is a cross-sectional view in which a main part of the schematic cross-sectional view of FIG. 1B is enlarged.

【図2】図2は、第1実施形態の光ディスク光学記録層
がアモルファス状態であるときの光ディスクとしての反
射率(Ra)と光学記録層が結晶状態であるときの光デ
ィスクとしての反射率(Rc)をシミュレーションのよ
り求めた結果を示す図である。
FIG. 2 is a reflectance (Ra) as an optical disc when the optical recording layer of the first embodiment is in an amorphous state and a reflectance (Rc) as an optical disc when the optical recording layer is in a crystalline state. 3] is a diagram showing a result obtained by simulation.

【図3】図3は、第1実施形態に係る光ディスクの製造
方法の製造工程を示す断面図であり、(a)はディスク
原盤を形成する工程まで、(b)は露光および現像工程
までを示す。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the optical disc manufacturing method according to the first embodiment, wherein (a) shows a process for forming a disc master, and (b) shows an exposing and developing process. Show.

【図4】図4は、図3の続きの工程を示し、(c)はメ
タルマスタを形成する工程まで、(d)はマザーを形成
する工程までを示す。
FIG. 4 shows a step following that of FIG. 3, in which (c) shows a step of forming a metal master and (d) shows a step of forming a mother.

【図5】図5は、図4の続きの工程を示し、(e)はス
タンパを形成する工程まで、(f)はディスク基板を形
成する工程までを示す。
5 shows a step following that of FIG. 4, wherein (e) shows a step of forming a stamper and (f) shows a step of forming a disk substrate.

【図6】図6は、図5の続きの工程を示し、(g)は光
学記録積層体を形成する工程まで、(h)は保護層を形
成する工程までを示す。
6 shows a step following that of FIG. 5, in which (g) shows a step up to forming an optical recording laminate, and (h) shows a step up to forming a protective layer.

【図7】図7は、第2実施形態に係る光ディスクの要部
を拡大した断面図を示す。
FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of an essential part of the optical disc according to the second embodiment.

【図8】図8は、実施例に係る光ディスクの書き換え特
性を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing rewriting characteristics of the optical disc in the example.

【図9】図9は、比較例に係る光ディスクの書き換え特
性を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a rewriting characteristic of an optical disc according to a comparative example.

【図10】図10(a)は、従来例に係る光ディスクの
光の照射の様子を示す模式斜視図であり、図10(b)
は模式断面図であり、図10(c)は図10(b)の模
式断面図の要部を拡大した断面図である。
FIG. 10 (a) is a schematic perspective view showing a state of light irradiation of an optical disc according to a conventional example, and FIG.
FIG. 10C is a schematic cross-sectional view, and FIG. 10C is an enlarged cross-sectional view of the main part of the schematic cross-sectional view of FIG. 10B.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…基板、11,11a…レジスト膜、12…メタル
マスタ、13…マザー、14…スタンパ、15…ディス
ク基板、15a…溝、16…光学記録積層体、16RL
…光学記録層、16CL…冷却層、16RF…反射層、
16Ia,16Ib…誘電体層、16PT…反射膜保護
層、17…保護層、CH…センターホール、DC…光デ
ィスク、DR…ドライブ方向、LT…光、OL…対物レ
ンズ。
Reference numeral 10 ... Substrate, 11, 11a ... Resist film, 12 ... Metal master, 13 ... Mother, 14 ... Stamper, 15 ... Disk substrate, 15a ... Groove, 16 ... Optical recording laminate, 16RL
… Optical recording layer, 16CL… Cooling layer, 16RF… Reflective layer,
16Ia, 16Ib ... Dielectric layer, 16PT ... Reflective film protective layer, 17 ... Protective layer, CH ... Center hole, DC ... Optical disk, DR ... Drive direction, LT ... Light, OL ... Objective lens.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B41M 5/26 B41M 5/26 X (72)発明者 瀬尾 勝弘 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 黒田 裕児 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 2H111 EA23 FA01 FA14 FA21 FA23 5D029 HA05 HA06 HA07 JA01 JB18 LA12 LB07 LC17 MA27 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) B41M 5/26 B41M 5/26 X (72) Inventor Katsuhiro Seo 6-735 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo No. Sony Corporation (72) Inventor Yuji Kuroda 6-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo F-Term (reference) within Sony Corporation 2H111 EA23 FA01 FA14 FA21 FA23 5D029 HA05 HA06 HA07 JA01 JB18 LA12 LB07 LC17 MA27

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板と、 上記基板上に形成された光学記録積層体と、 上記光学記録積層体の上層に形成された光透過性の保護
層とを有し、 上記光学記録積層体は、少なくとも、相変化型光学記録
層と、当該相変化型光学記録層の上記保護層側に形成さ
れた第1誘電体層と、当該第1誘電体層の上記保護層側
に形成され、当該第1誘電体層よりも高い熱伝導性を有
する冷却層とを含む光学記録媒体。
1. A substrate, an optical recording laminate formed on the substrate, and a light-transmitting protective layer formed on the upper layer of the optical recording laminate, wherein the optical recording laminate comprises: At least a phase-change optical recording layer, a first dielectric layer formed on the protective layer side of the phase-change optical recording layer, and a protective layer side of the first dielectric layer, 1. An optical recording medium including a cooling layer having a thermal conductivity higher than that of the first dielectric layer.
【請求項2】上記光学記録積層体は、上記相変化型光学
記録層の上記基板側に形成された第2誘電体層と、当該
第2誘電体層の上記基板側に形成された反射膜とをさら
に含む請求項1に記載の光学記録媒体。
2. The optical recording laminate comprises a second dielectric layer formed on the substrate side of the phase change optical recording layer, and a reflective film formed on the substrate side of the second dielectric layer. The optical recording medium according to claim 1, further comprising:
【請求項3】上記光学記録積層体は、上記反射膜と上記
第2誘電体層の間に形成された反射膜保護層をさらに含
む請求項2に記載の光学記録媒体。
3. The optical recording medium according to claim 2, wherein the optical recording layered body further includes a reflective film protective layer formed between the reflective film and the second dielectric layer.
【請求項4】上記冷却層は、B、Al、Ga、In、
C、Si、GeまたはSnのそれぞれの窒化物または酸
化物あるいはそれらの混合物からなるグループから選択
された少なくとも1種類の材料を含む請求項1に記載の
光学記録媒体。
4. The cooling layer comprises B, Al, Ga, In,
The optical recording medium according to claim 1, comprising at least one material selected from the group consisting of nitrides or oxides of C, Si, Ge, or Sn, or a mixture thereof.
【請求項5】上記第1誘電体層と上記冷却層の膜厚の合
計が30〜80nmである請求項1に記載の光学記録媒
体。
5. The optical recording medium according to claim 1, wherein the total thickness of the first dielectric layer and the cooling layer is 30 to 80 nm.
【請求項6】上記相変化型光学記録層が、下記式(1)
に示す合金からなる請求項1に記載の光学記録媒体。 【化1】 Gea Sbx Tey …(1) ただし、1−a=x+y、0.02≦a≦0.10、
2.20≦x/y≦5.00である。
6. The phase change type optical recording layer has the following formula (1):
The optical recording medium according to claim 1, which is made of the alloy shown in. Embedded image Ge a Sb x Te y (1) where 1-a = x + y, 0.02 ≦ a ≦ 0.10,
2.20 ≦ x / y ≦ 5.00.
【請求項7】上記相変化型光学記録層が、下記式(2)
に示す合金からなる請求項1に記載の光学記録媒体。 【化2】 Gea Inb Sbx Tey …(2) ただし、1−(a+b)=x+y、0.02≦a+b≦
0.10、2.20≦x/y≦5.00である。
7. The phase change type optical recording layer has the following formula (2):
The optical recording medium according to claim 1, which is made of the alloy shown in. Embedded image Ge a In b Sb x Te y (2) where 1- (a + b) = x + y, 0.02 ≦ a + b ≦
0.10, 2.20 ≦ x / y ≦ 5.00.
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