JPH117658A - Optical recording medium and optical disk device - Google Patents

Optical recording medium and optical disk device

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Publication number
JPH117658A
JPH117658A JP9214856A JP21485697A JPH117658A JP H117658 A JPH117658 A JP H117658A JP 9214856 A JP9214856 A JP 9214856A JP 21485697 A JP21485697 A JP 21485697A JP H117658 A JPH117658 A JP H117658A
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JP
Japan
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recording
thickness
recording medium
film
optical
Prior art date
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Pending
Application number
JP9214856A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shin Kawakubo
伸 川久保
Toshiyuki Kashiwagi
俊行 柏木
Koichi Yasuda
宏一 保田
Masahiko Kaneko
正彦 金子
Mitsuo Naito
光男 内藤
Motohiro Furuki
基裕 古木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP9214856A priority Critical patent/JPH117658A/en
Publication of JPH117658A publication Critical patent/JPH117658A/en
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical recording medium capable of having a high recording capacity. SOLUTION: The optical recording medium is formed with a supporting body which consists of a thermoplastic resin and which is 0.3-1.2 mm thick, with a guiding groove 202 on the supporting body, and with at least a reflection film 203, a phase change type recording film 204, and a 3-177 μm thick light transmitting layer 205 successively on the guiding groove 202; assuming that the irregularity of thickness in the light transmitting layer 205 is Δt, the medium satisfies the following relation between the N.A. (numerical aperture) of a reproducing or recording/reproducing optical system and a wave length λ, namely, Δt<=±5.26(λ/N.A.<4> ) (μm).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、支持体の一主面上
に案内溝と、反射膜、相変化型記録膜を有し、これらか
ら情報の読み出し、あるいは記録を行う光照射を行う光
透過層が形成された構成の光記録媒体に関する。詳しく
は、光透過層の厚さと、その厚さむらの関係を規定する
ことにより、大容量化が可能となされた光学記録媒体及
びこの光学記録媒体の記録または記録再生する光ディス
ク装置に係わるものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention has a guide groove, a reflective film, and a phase-change type recording film on one main surface of a support, and a light for irradiating light for reading or recording information from these. The present invention relates to an optical recording medium having a configuration in which a transmission layer is formed. More specifically, the present invention relates to an optical recording medium capable of increasing the capacity by defining the relationship between the thickness of the light transmitting layer and the thickness unevenness, and an optical disc apparatus for recording or recording / reproducing the optical recording medium. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】次世代の光ディスクメディアとして、片
面にNTSC4時間記録再生ができる光ディスクメディ
アが提案されている。これは、家庭用ビデオディスクレ
コーダーとして4時間の記録再生を可能にすることによ
り、現行のVTR(VideoTape Record
er)にかわる新しい記録媒体としての機能を備えるた
めである。
2. Description of the Related Art As a next-generation optical disk medium, an optical disk medium capable of recording and reproducing NTSC for 4 hours on one side has been proposed. This enables the current VTR (Video Tape Record) by enabling recording and playback for 4 hours as a home video disk recorder.
er) to provide a function as a new recording medium.

【0003】また、CD(Compact Disc)
と同じ形状、サイズを選ぶことによりCDの手軽さ、使
い勝手に慣れ親しんだユーザーにとって違和感のない商
品とすることができる。
[0003] Also, CD (Compact Disc)
By selecting the same shape and size as above, it is possible to make the product comfortable for users who are accustomed to the simplicity and convenience of the CD.

【0004】さらに、ディスク形態の最大の特徴として
のアクセスの速さを利用し、小型、簡便な記録機という
だけでなく、瞬時に録画、再生やトリックプレイ、編集
など多彩な機能を盛り込んだ商品を実現できる。
[0004] Furthermore, utilizing the speed of access as the biggest feature of the disk form, it is not only a compact and simple recorder, but also a product incorporating various functions such as instant recording, playback, trick play, and editing. Can be realized.

【0005】上記のような商品を実現化するには、例え
ば記憶容量8GB以上が必要となる。
[0005] In order to realize such a product, for example, a storage capacity of 8 GB or more is required.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来、
CDサイズであって、片面のみに単層の記録層を有する
ものにおいては、記憶容量8GB以上を実現可能な光学
記録媒体は存在していなかった。
However, conventionally,
In the case of a CD having a single recording layer on only one side, there is no optical recording medium capable of realizing a storage capacity of 8 GB or more.

【0007】既に提案されているDVD(Digita
l Versatile Disc)においては、記録
領域の範囲内においては、波長λ=0.65μm 、N.
A.=0.6とした場合には、記憶容量は4.7GBで
ある。ECC(Error Collection Code)や変調方式など
の信号フォーマットの変更を行わずに、さらに大容量化
を実現しようとした場合、例えば8GB以上を実現する
為には、 4.7×(0.65/0.60×N.A./λ)2 ≧8 の関係が成立することが必要である。これより、N.
A./λ≧1.20となる。したがって、波長λを短く
するか、あるいはN.A.を大きくするかのどちらかが
必要となる。
A DVD (Digita) that has already been proposed
1 Versatile Disc), the wavelength λ = 0.65 μm, the N.V.
A. When = 0.6, the storage capacity is 4.7 GB. If the capacity is to be increased without changing the signal format such as the ECC (Error Collection Code) and the modulation method, for example, to realize 8 GB or more, 4.7 × (0.65 / 0.60 × NA / λ) 2 ≧ 8. From this, N.I.
A. /Λ≧1.20. Therefore, shortening the wavelength λ, or A. It is necessary to increase either.

【0008】上記条件を満たすために、例えばN.A.
を高くした場合、再生光が照射されてこれが透過する光
学記録媒体の光透過層の厚さを薄くする必要がある。こ
れは、光学ピックアップの光軸に対してディスク面が垂
直からズレる角度(チルト角)の許容量が小さくなるた
めであり、このチルト角が支持体の厚さによる収差の影
響を受け易いためである。
In order to satisfy the above conditions, for example, A.
When the height is increased, it is necessary to reduce the thickness of the light transmission layer of the optical recording medium through which the reproduction light is irradiated and transmitted. This is because the allowable amount of the angle (tilt angle) at which the disc surface deviates from the perpendicular to the optical axis of the optical pickup becomes small, and this tilt angle is easily affected by aberration due to the thickness of the support. is there.

【0009】また、同様の理由から、光透過層の厚さむ
らも一定の値以下にする必要が生じる。
[0009] For the same reason, it is necessary to reduce the thickness unevenness of the light transmitting layer to a certain value or less.

【0010】そこで本発明は、特に高いN.A.に対応
可能で、例えば8GB以上の大容量の情報を記録可能な
光記録媒体を提供することを目的とする。
Therefore, the present invention provides a particularly high N.D. A. It is an object of the present invention to provide an optical recording medium which can record large-capacity information of, for example, 8 GB or more.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の光学記録媒体
は、熱可塑性樹脂からなり、0.3〜1.2mmの厚さ
の支持体と、支持体上に案内溝と、案内溝上に、順に、
少なくとも反射膜と、相変化型記録膜とからなる記録領
域を有し、少なくとも記録領域内において、3〜177
μmの厚さの光透過層が形成され、光透過層の厚さむら
をΔtとしたときに、再生、もしくは記録再生する光学
系のN.A.および波長λとの間に、 Δt ≦±5.26( λ/N.A.4 )(μm) (N.
A.は開口数) の関係をみたすものとする。
The optical recording medium of the present invention is made of a thermoplastic resin and has a support having a thickness of 0.3 to 1.2 mm, a guide groove on the support, and a guide groove on the guide groove. In order,
It has a recording area composed of at least a reflective film and a phase change type recording film, and at least 3 to 177 in the recording area.
When a light transmitting layer having a thickness of μm is formed, and the thickness unevenness of the light transmitting layer is represented by Δt, the N.V. A. And between the wavelength λ, Δt ≦ ± 5.26 (λ / N.A. 4) (μm) (N.
A. Is the numerical aperture).

【0012】本発明によれば、大記録容量でかつ信号特
性に優れた光学記録媒体を実現することができる。
According to the present invention, an optical recording medium having a large recording capacity and excellent signal characteristics can be realized.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、
本実施例においては、光ディスクであって、支持体、例
えば基板上に、案内溝と、この案内溝上に反射膜と相変
化型記録膜とを有し、これらの上に形成された光透過層
にレーザー光を照射して信号の記録、再生を行う構成の
光ディスクに適用した例について説明するが、本発明の
光学記録媒体は、このような構造に限定されるものでは
なく、カード状、シート状等その他各種形状のものにつ
いても適用することができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition,
In this embodiment, the optical disc is a light guide having a guide groove on a support, for example, a substrate, a reflective film and a phase-change recording film on the guide groove, and a light transmitting layer formed on these. An example is described in which the present invention is applied to an optical disc having a configuration in which a signal is recorded and reproduced by irradiating a laser beam to the optical disc. It can also be applied to other various shapes.

【0014】一般的にディスクスキューマージンΘと記
録再生光学系の波長λ、N.A.、光透過層の厚さtと
は相関関係にあり、実用上十分そのプレイヤビリティが
実証されているコンパクトディスク(CD)の例を基準
にこれらのパラメータとΘとの関係が、特開平3−22
5650号公報に示されている。これによると、Θ≦±
84.115°(λ/N.A.3 /t)であればよく、
これは本発明の光学記録媒体にも適用することができ
る。
Generally, the disc skew margin Θ and the wavelength λ of the recording / reproducing optical system, A. The thickness t of the light transmitting layer is correlated, and based on the example of a compact disk (CD) whose practicality has been sufficiently demonstrated, the relationship between these parameters and Θ is described in Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei. 22
No. 5650. According to this, Θ ≦ ±
84.115 ° (λ / NA 3 / t),
This can be applied to the optical recording medium of the present invention.

【0015】ここで、光ディスクを実際に量産する場合
のスキューマージンΘの具体的な限界値を考えると、
0.4°とするのが妥当である。これは、量産を考えた
場合、これより小さくすると歩留まりが低下し、コスト
が上がるからである。既存の記録媒体についても、CD
では0.6°、DVDでは0.4°である。
Here, considering the specific limit value of the skew margin 場合 when mass-producing the optical disk,
It is reasonable to set it to 0.4 °. This is because, when considering mass production, if the size is smaller than this, the yield decreases and the cost increases. CDs for existing recording media
Is 0.6 ° for DVD and 0.4 ° for DVD.

【0016】従って、Θ=0.4°としてレーザーの短
波長化、高N.A.化により光透過層の厚さを、どの程
度に設定すべきかを計算すると、まずλ=0.65μm
とした場合には、N.A.はN.A/λ≧1.20か
ら、0.78以上であることが要求される。また、将来
レーザーの短波長化が進み、λ=0.4μmとなった場
合を想定すると、N.A.≧0.78の条件を変えない
とすると、光透過層の厚さtは、t=177μmにな
る。この場合、基板の厚さが1.2mmであるCD等の
製造設備を流用することを考慮すると、光ディスク全体
の厚さは最大約1.38mmになることがわかる。
Accordingly, when Θ = 0.4 °, the wavelength of the laser is shortened and the N.V. A. Calculating how much the thickness of the light transmitting layer should be set by the conversion, first, λ = 0.65 μm
, N.N. A. Is N. From A / λ ≧ 1.20, it is required to be 0.78 or more. Further, assuming that the wavelength of the laser will be further reduced in the future and λ = 0.4 μm, A. If the condition of ≧ 0.78 is not changed, the thickness t of the light transmitting layer becomes t = 177 μm. In this case, it can be understood that the thickness of the entire optical disc is about 1.38 mm at the maximum, in consideration of diverting manufacturing equipment for CDs or the like having a substrate thickness of 1.2 mm.

【0017】一方、光透過層の厚さの下限は、記録膜あ
るいは反射膜を保護する役割も有する光透過層の保護機
能が確保されるかによって決定される。すなわち、光学
記録媒体の信頼性や、後述する2群レンズの光透過層表
面への衝突の影響を考慮すると3μm以上であることが
必要である。
On the other hand, the lower limit of the thickness of the light transmitting layer is determined by whether or not the protection function of the light transmitting layer which also has a role of protecting the recording film or the reflective film is secured. That is, the thickness is required to be 3 μm or more in consideration of the reliability of the optical recording medium and the influence of the collision of the second group lens on the light transmitting layer surface described later.

【0018】このように、光学記録媒体の記憶容量を上
げるためには、N.A./λを上げることが不可欠であ
る。この場合、例えば記憶容量として8GBを達成させ
るために、少なくともN.A.が0.7以上で、レーザ
ー光の波長λが0.68(μm)以下であることが必要
となる。また、上記のように光透過層の厚さとスキュー
との間には上述した関係があるが、現状の赤色レーザー
から将来普及が見込まれる青色レーザーまで対応するこ
とを考慮すると、光透過層の厚さは、3〜177μmに
設定するのが適切である。
As described above, in order to increase the storage capacity of the optical recording medium, N.I. A. It is essential to increase / λ. In this case, for example, in order to achieve a storage capacity of 8 GB, at least N.I. A. Must be 0.7 or more, and the wavelength λ of the laser beam must be 0.68 (μm) or less. Further, as described above, there is the above-described relationship between the thickness of the light transmitting layer and the skew. However, in consideration of the current red laser to the blue laser expected to be widely used in the future, the thickness of the light transmitting layer is It is appropriate to set the length to 3 to 177 μm.

【0019】また、記録容量(8GB)を達成するため
には、トラックピッチP、および線密度dを変える必要
がある。その条件としては、 (0.74/P)×(0.267/d)×4.7≧8 d≦0.1161/P(μm/bit) を満たせばよい。P=0.56μmのときd≦0.20
6μm/bitとなるが、これはDVDのROM(Re
ad Only Memory)を基準にしており、記
録再生の信号処理技術の進歩(具体的には、PRML(P
ertial ResponceMaximam Likelihood) の適用や、EC
Cの冗長度を減らす等)を考慮すると、さらに15%程
度の線密度の増加が見込まれ、その分Pを増やすことが
可能である。このことからPは最大で0.64μmが導
き出される。
In order to achieve the recording capacity (8 GB), it is necessary to change the track pitch P and the linear density d. The condition may be such that (0.74 / P) × (0.267 / d) × 4.7 ≧ 8d ≦ 0.1161 / P (μm / bit). D ≦ 0.20 when P = 0.56 μm
6 μm / bit, which corresponds to the DVD ROM (Re
ad Only Memory), and advances in signal processing technology for recording and reproduction (specifically, PRML (P
ertial ResponseMaximam Likelihood) and EC
When the redundancy of C is reduced, the linear density is expected to increase by about 15%, and P can be increased accordingly. From this, P is derived at a maximum of 0.64 μm.

【0020】さらにトラックピッチ変動ΔPについても
公差が厳しくなる。CDやDVDの記録再生パラメータ
をそのまま転用すると、DVDでのトラックピッチ0.
74μm、公差±0.03から、 ΔP≦±0.03P/0.74=±0.04P となる。したがって、P=0.56とすると、ΔP≦±
0.023μmとなる。
Further, the tolerance for the track pitch variation ΔP becomes strict. If the recording / reproducing parameters of a CD or a DVD are diverted as they are, the track pitch of the DVD is reduced to 0.1.
From 74 μm and the tolerance ± 0.03, ΔP ≦ ± 0.03P / 0.74 = ± 0.04P. Therefore, if P = 0.56, ΔP ≦ ±
0.023 μm.

【0021】さらに光透過層の厚さむらについても、さ
らなる精度の向上が要求される。
Further, with respect to the thickness unevenness of the light transmitting layer, further improvement in accuracy is required.

【0022】光透過層の厚さが、再生対物レンズの設計
中心からずれた場合、その厚さむらがスポットに与える
収差量は、N.A.の4乗、また、波長に比例する。従
って、高N.A.化、または短波長化によって高記録密
度化を図る場合には、光透過層の厚さむらは、さらに厳
しく制限される。具体的なシステム例としてCDの場合
には、N.A.=0.45が実用化されており、光透過
層の厚さむらの規格は±100μmである。またDVD
の場合には、それぞれ、N.A.=0.6で±30μm
と規定されている。CDでの許容量±100μmを基準
にすると、厚さむらΔtは、次式のように表わされる。 Δt=±(0.45/N.A.)4 ×(λ/0.78)×100 =±5.26×(λ/N.A.4 )μm (N.A.は、開口数)
When the thickness of the light transmitting layer deviates from the design center of the reproducing objective lens, the amount of aberration given to the spot by the thickness unevenness is determined by N.I. A. And is proportional to the wavelength. Therefore, high N.I. A. In order to increase the recording density by reducing the wavelength or shortening the wavelength, the thickness unevenness of the light transmitting layer is more severely limited. As a specific system example, in the case of a CD, the N.V. A. = 0.45 has been put to practical use, and the standard for the thickness unevenness of the light transmitting layer is ± 100 μm. DVD
In the case of A. = 0.6 ± 30 μm
It is prescribed. On the basis of the permissible amount ± 100 μm in CD, the thickness unevenness Δt is represented by the following equation. Δt = ± (0.45 / N.A. ) 4 × (λ / 0.78) × 100 = ± 5.26 × (λ / N.A. 4) μm (N.A. is the numerical aperture)

【0023】ここで、光透過層の厚さ100μm中心に
対し、波長0.68μm、N.A.=0.875で光透
過層の厚さむらとジッター値との関係について実験を行
った結果を図1に示す。図1より、例えばDVDにおい
て、スキューなどの摂動がない場合のジッター基準であ
る8%になるところを見ると、対応する光透過層の厚さ
むらは、約±7μmであることがわかる。上式から導き
出される数値は±6μmであり、この規格を満足するデ
ィスク媒体からは良好な信号が得られることになる。
Here, the wavelength is 0.68 μm and the N.D. A. FIG. 1 shows the result of an experiment conducted on the relationship between the thickness unevenness of the light transmitting layer and the jitter value at 0.875. From FIG. 1, it can be seen that, for example, in a DVD, where the jitter standard is 8% when there is no perturbation such as skew, the thickness unevenness of the corresponding light transmitting layer is about ± 7 μm. The numerical value derived from the above equation is ± 6 μm, and a good signal can be obtained from a disk medium satisfying this standard.

【0024】したがって、光学記録媒体の高記録密度化
に従い、光透過層の厚さについて許容される厚さむらΔ
tは、±5.26×(λ/N.A.4 )(μm)以下で
なければならない。
Therefore, as the recording density of the optical recording medium increases, the thickness irregularity Δ
t is, ± 5.26 × (λ / N.A . 4) (μm) must be less than or equal to.

【0025】また、上述した光透過層の厚さは、記録再
生用レーザーが照射される光ディスク表面内で、均一で
あることを前提としており、フォーカス点をずらすこと
によって収差補正可能である。ところが、この領域内
(スポット内)で、もし光透過層厚さにむらがあるとフ
ォーカス点の調整では補正できない。そしてこの量は厚
さ中心値に対して±3λ/100以下に抑える必要があ
る。
The thickness of the light transmitting layer is assumed to be uniform on the surface of the optical disk irradiated with the recording / reproducing laser, and aberration can be corrected by shifting the focus point. However, if the thickness of the light transmitting layer is uneven in this area (in the spot), it cannot be corrected by adjusting the focus point. This amount must be suppressed to ± 3λ / 100 or less with respect to the thickness center value.

【0026】さらに偏心Eに関してもDVDの50μm
に対し、E≦50×P/0.74=67.57P(μ
m)となる。
Further, regarding the eccentricity E, 50 μm
E ≦ 50 × P / 0.74 = 67.57P (μ
m).

【0027】以上より、記憶容量8GBの高密度を達成
するための光学記録媒体に必要な条件をまとめると、以
下のようになる。記録再生光学系がλ≦0.68μmか
つN.A./λ≧1.20をみたし、かつ、記録領域内
で光透過層の厚さt=3〜177μm、光透過層の厚さ
むらは、 Δt≦±5.26( λ/N.A.4 )(μm) トラックピッチP≦0.64(μm) 公差ΔP≦±0.04P(μm) 線密度d≦0.1161/P(μm/bit) ディスクスキュー Θ≦84.115×(λ/N.A.
3 /t) 偏心E≦67.57P(μm) 表面粗さRa≦±3λ/100(スポット照射領域内)
From the above, the conditions necessary for an optical recording medium to achieve a high storage capacity of 8 GB are summarized as follows. If the recording / reproducing optical system has λ ≦ 0.68 μm and A. /Λ≧1.20, the thickness t of the light transmitting layer in the recording area is 3 to 177 μm, and the thickness unevenness of the light transmitting layer is Δt ≦ ± 5.26 (λ / NA. 4 ) (μm) Track pitch P ≦ 0.64 (μm) Tolerance ΔP ≦ ± 0.04P (μm) Linear density d ≦ 0.1161 / P (μm / bit) Disk skew Θ ≦ 84.115 × (λ / N.A.
3 / t) Eccentricity E ≦ 67.57P (μm) Surface roughness Ra ≦ ± 3λ / 100 (within spot irradiation area)

【0028】前述した本発明における光学記録媒体に必
要なスペックをみたすピッチおよびピッチむらを実現し
たスタンパーを用い、射出成形法にて支持体、例えば基
板を作成する。このようなピッチむらの少ない高精度の
スタンパーは従来の送りをネジで行う構造では達成が困
難である為、リニアモーターによる送り構造をもった原
盤露光装置で製造する。さらに光学系は空気の揺らぎを
排除する為のカバーで覆ったり、また、露光用レーザー
の冷却水の振動を除去するため、レーザーと露光装置と
の間に防振材を設置したりすることにより作製する。
A support, for example, a substrate is prepared by an injection molding method using a stamper that realizes the pitch and the pitch unevenness that meet the specifications required for the optical recording medium of the present invention described above. Such a high-precision stamper with little pitch unevenness is difficult to achieve with a conventional structure in which a screw is used for feeding. Therefore, the stamper is manufactured using a master exposure apparatus having a linear motor feeding structure. Furthermore, the optical system can be covered with a cover to eliminate air fluctuations, or by installing a vibration isolator between the laser and the exposure device to remove the vibration of the cooling water of the exposure laser. Make it.

【0029】また、本実施例の場合、図2に示すよう
に、支持体、すなわち基板201上に案内溝202を形
成し、案内溝202上に反射膜203、相変化型記録膜
204、光透過層205を成膜してなる。この場合、光
透過層205側から記録再生するので、予め成膜による
信号形状の変形を考慮して、基板上に溝(ピット)を形
成しておく。
In this embodiment, as shown in FIG. 2, a guide groove 202 is formed on a support, that is, a substrate 201, and a reflection film 203, a phase change type recording film 204, The transmission layer 205 is formed. In this case, since recording and reproduction are performed from the light transmitting layer 205 side, grooves (pits) are formed on the substrate in advance in consideration of deformation of the signal shape due to film formation.

【0030】例えば記憶容量が10GBのROMの場合
は、基板201(支持体)側から見たときの信号ピット
のアシンメトリーが25%であるとすると、基板201
と反対側から見たときのアシンメトリーは10%であ
る。即ち、本実施例においては基板201側とは反対側
の光透過層205から信号を読み取ろうとする為、例え
ば光照射側から見てアシンメトリー10%であるピット
を形成する為には、基板201に形成するピット形状を
アシンメトリー25%にしておく必要がある。
For example, in the case of a ROM having a storage capacity of 10 GB, assuming that the asymmetry of signal pits when viewed from the substrate 201 (support) side is 25%,
The asymmetry when viewed from the opposite side is 10%. That is, in the present embodiment, in order to read a signal from the light transmission layer 205 on the opposite side to the substrate 201 side, for example, to form a pit having an asymmetry of 10% when viewed from the light irradiation side, The pit shape to be formed needs to be 25% asymmetry.

【0031】なお、本明細書では、図3に、記録型光デ
ィスクの案内溝構造を示すように、マスタリング時にレ
ーザーを露光する部分、すなわち図3において光透過層
側から見て凹部となっている部分をグルーブ101と指
称する。また、溝部からテーパ部分すなわち傾斜部分を
除いた平坦な部分の幅をグルーブ幅WG と指称する。一
方、図3において光透過層側から見て凸部となっている
部分をランド102と指称し、連続したグルーブ101
とランド102との合計幅をトラックピッチ103と指
称する。
In this specification, as shown in FIG. 3, the guide groove structure of the recordable optical disk is shown as a portion exposed to laser during mastering, that is, a concave portion as viewed from the light transmitting layer side in FIG. The portion is referred to as a groove 101. The width of the flat portion excluding the tapered portion, ie, the inclined portion, from the groove is referred to as a groove width WG. On the other hand, in FIG. 3, a portion that is convex when viewed from the light transmission layer side is referred to as a land 102, and a continuous groove 101 is designated.
And the total width of the land 102 is referred to as a track pitch 103.

【0032】図4に示すように、グルーブ101の深さ
の中心位置における幅をグルーブの半値全幅WH と指称
し、(グルーブの半値全幅WH /トラックピッチ10
3)×100(%)をグルーブデューティーと指称す
る。
As shown in FIG. 4, the width at the center of the depth of the groove 101 is referred to as the full width at half maximum WH of the groove, and is expressed by (full width at half maximum WH of groove / track pitch 10).
3) x100 (%) is referred to as groove duty.

【0033】上述したROMディスクのアシンメトリー
と同様に、記録ディスクに形成される案内溝に関して
も、反射膜や相変化記録膜が成膜されると、グルーブデ
ューティーが変化する。すなわち、光透過層側から見
て、相変化記録膜の部分で、案内溝の凹部(グルーブ)
と凸部(ランド)との幅を所望の比にするためには、こ
のグルーブデューティーの変化を予め見越してスタンパ
ーを作製する必要がある。すなわち、グルーブに記録を
行う場合には、反射膜や相変化記録膜の成膜によりグル
ーブ幅が狭くなるので、スタンパーの転写用溝の間隔を
予め広く選定して案内溝を形成することが必要である。
Similarly to the above-described asymmetry of the ROM disk, the groove duty of the guide groove formed on the recording disk changes when a reflection film or a phase change recording film is formed. That is, when viewed from the light transmitting layer side, the concave portion (groove) of the guide groove is formed at the portion of the phase change recording film.
In order to make the width between the protrusion and the land (land) a desired ratio, it is necessary to manufacture a stamper in anticipation of the change in the groove duty in advance. That is, when recording is performed on a groove, the groove width becomes narrow due to the formation of the reflection film and the phase change recording film. Therefore, it is necessary to select the gap between the transfer grooves of the stamper beforehand to form the guide groove. It is.

【0034】ランドとグルーブの双方に信号の記録がな
されている場合に、信号のクロストークは、λ(1+2
m)/8(但し、mは0または自然数)が最小となり、
ランドとグルーブの溝が深い方がクロスイレースの影響
が小さいことが確認されている。したがって、基板の成
形しやすさ等も考慮すると、両特性を満足させるために
は、λ/8もしくは3λ/8が現実的である。例えば相
変化方式でランドとグルーブの双方に信号の記録がなさ
れている場合、相変化記録膜の部分でランドとグルーブ
デューティーを50%確保するためには、光透過層側か
ら見て基板上にグルーブ(凹部)のデューティーを、グ
ルーブの深さλ/8もしくは3λ/8に応じて、58〜
65%もしくは65〜75%程度に設定することが必要
である。
When a signal is recorded on both the land and the groove, the crosstalk of the signal is λ (1 + 2
m) / 8 (where m is 0 or a natural number) is the minimum,
It has been confirmed that the deeper the groove between the land and the groove, the smaller the effect of cross-erase. Therefore, considering the ease of forming the substrate and the like, λ / 8 or 3λ / 8 is practical to satisfy both characteristics. For example, when signals are recorded on both the land and the groove by the phase change method, in order to secure 50% of the land and the groove duty in the phase change recording film portion, the signal is recorded on the substrate as viewed from the light transmitting layer side. The duty of the groove (concave portion) is set to 58 to 3 depending on the groove depth λ / 8 or 3λ / 8.
It is necessary to set it to about 65% or 65 to 75%.

【0035】図5は、本発明を相変化型記録ディスクに
適用した場合の信号特性曲線図である。曲線110は、
グルーブに信号の記録がなされた場合のグルーブデュー
ティー(%)と、ジッター値(%)の関係の測定結果を
示す。図5に示すように、グルーブデューティー(%)
が58以上で、ジッターを小さくできることがわかる。
一方、グルーブデューティー(%)が65(%)を超え
ると、隣接するトラック上の記録信号の干渉(クロスト
ーク)が増大して信号品質が低下する。そこで、グルー
ブデューティー(%)を58〜65(%)とすることが
望まれる。
FIG. 5 is a signal characteristic curve diagram when the present invention is applied to a phase change recording disk. Curve 110 is
The measurement result of the relationship between the groove duty (%) and the jitter value (%) when a signal is recorded in the groove is shown. As shown in FIG. 5, the groove duty (%)
Is 58 or more, it can be seen that the jitter can be reduced.
On the other hand, when the groove duty (%) exceeds 65 (%), interference (crosstalk) of recording signals on adjacent tracks increases, and signal quality deteriorates. Therefore, it is desired that the groove duty (%) is set to 58 to 65 (%).

【0036】図6は、本発明を相変化型記録ディスクに
適用した場合に、ランドとグルーブの双方に信号の記録
がなされている場合における上記グルーブデューティー
と、信号レベルとの関係の測定曲線図である。図6中曲
線120および121は、グルーブデューティー(%)
と、それぞれランド部の信号と、グルーブの信号の各信
号レベルとの関係測定結果を示す。
FIG. 6 is a measurement curve diagram showing the relationship between the groove duty and the signal level when signals are recorded on both lands and grooves when the present invention is applied to a phase change recording disk. It is. The curves 120 and 121 in FIG. 6 represent the groove duty (%).
And measurement results of the relationship between the signal level of the land portion and the signal level of the groove signal.

【0037】図6に示すように、グルーブの深さ(1/
8)λとした場合に、グルーブデューティー(%)が6
0%程度でグルーブとランドの各信号レベルのバランス
がほぼ釣り合うことがわかる。また、図6から、グルー
ブデューティー(%)が58〜65(%)の範囲では、
グルーブとランドの信号レベルのバランスがほぼ釣り合
っており、良好な状態であることがわかる。
As shown in FIG. 6, the depth of the groove (1 /
8) When λ is set, the groove duty (%) is 6
It can be seen that the signal level balance between the groove and the land is almost balanced at about 0%. From FIG. 6, when the groove duty (%) is in the range of 58 to 65 (%),
It can be seen that the balance between the signal levels of the groove and the land is almost balanced, indicating that the condition is good.

【0038】上述した本発明の光ディスクにおいては、
支持体すなわち基板と反対側に形成される光透過層から
情報の読み出しあるいは記録を行うため、以下に示す例
においては、本発明の光ディスクは、図7に示すよう
に、基板201上の案内溝202上に順に反射膜20
3、第1の誘電体層301、相変化型記録膜204、第
2の誘電体層302、その上に光透過層205が形成さ
れて成るものとする。
In the optical disk of the present invention described above,
In order to read or record information from the light-transmitting layer formed on the opposite side of the support, that is, the substrate, in the example shown below, the optical disk of the present invention uses a guide groove on the substrate 201 as shown in FIG. The reflective film 20 is formed on the
3. It is assumed that the first dielectric layer 301, the phase change recording film 204, the second dielectric layer 302, and the light transmission layer 205 are formed thereon.

【0039】図7に示すように、光ディスクを構成する
各層において、反射膜203は、AlまたはAl合金を
イオンビームスパッタ法により、厚さ50〜200nm
形成し、第1の誘電体層301は、例えばZnSとSi
2 の混合物を用いて10〜30nmの厚さに形成し、
相変化型記録膜204は例えばGeSbTeを用いて1
0〜30nmの厚さに形成し、第2の誘電体層302
は、例えばZnSとSiO2 の混合物を用いて50〜2
00nmの厚さに形成することができる。なお、反射膜
203は、Auを用いることもでき、この場合、DC
(直流)スパッタ法により厚さ50〜120nmに形成
する。
As shown in FIG. 7, in each of the layers constituting the optical disk, the reflection film 203 is made of Al or Al alloy by ion beam sputtering to a thickness of 50 to 200 nm.
The first dielectric layer 301 is formed, for example, of ZnS and Si
Formed to a thickness of 10 to 30 nm using a mixture of O 2 ,
The phase-change type recording film 204 is made of, for example, GeSbTe.
The second dielectric layer 302 is formed to a thickness of 0 to 30 nm.
Is 50 to 2 using, for example, a mixture of ZnS and SiO2.
It can be formed to a thickness of 00 nm. Note that Au can be used for the reflective film 203, and in this case, DC
It is formed to a thickness of 50 to 120 nm by (direct current) sputtering.

【0040】また、第1および第2の誘電体層301お
よび302としては、Al、Si等の金属、半金属元素
の窒化物、酸化物、硫化物も適用することができる。例
えば、AlN、Si3 4 、SiO2 、Al2 3 、Z
nS、MgF2 等を用いることができる。但し、半導体
レーザー波長領域において吸収のないものであることが
条件となる。
As the first and second dielectric layers 301 and 302, metals such as Al and Si, and nitrides, oxides and sulfides of metalloid elements can also be used. For example, AlN, Si 3 N 4 , SiO 2 , Al 2 O 3 , Z
nS, MgF 2 or the like can be used. However, the condition is that there is no absorption in the semiconductor laser wavelength region.

【0041】従来の相変化型光ディスクにおいては、相
変化型記録膜と基板上の案内溝との間には、高々厚さ1
00nmの誘電体層が形成されているのみであるため、
案内溝の構造が記録膜に忠実に反映される。
In a conventional phase change type optical disc, a thickness of at most 1 is provided between a phase change type recording film and a guide groove on a substrate.
Since only a 00 nm dielectric layer is formed,
The structure of the guide groove is faithfully reflected on the recording film.

【0042】しかしながら、本発明の光ディスクは、相
変化型記録膜204と、基板201上の案内溝202と
の間には厚さが例えば200nm程度の反射膜203と
第1の誘電体層301があるため、その厚さの影響で、
基板201上の案内溝202の構造をそのままの形状を
保持したまま相変化型記録膜に反映させることが困難で
ある。特に基板201の表面性が反射膜203の結晶性
に影響を及ぼしたり、反射膜203の組成に依存する粒
径により形成される界面の形状によって、さらにそれが
相変化型記録膜204の性質に影響を与えたりすること
が知られている。
However, in the optical disk of the present invention, a reflection film 203 having a thickness of, for example, about 200 nm and a first dielectric layer 301 are provided between the phase-change recording film 204 and the guide groove 202 on the substrate 201. Because of the thickness,
It is difficult to reflect the structure of the guide groove 202 on the substrate 201 on the phase-change recording film while keeping the shape as it is. In particular, the surface properties of the substrate 201 affect the crystallinity of the reflective film 203, and the shape of the interface formed by the particle size depending on the composition of the reflective film 203 further affects the properties of the phase-change recording film 204. It is known to have an effect.

【0043】そこで、本発明の光ディスクを構成する反
射膜203は、Alをイオンビームスパッターを用いて
厚さ50〜200nmに成膜したり、Auや、0.5重
量%以上10重量%以下、特に好ましくは3.0重量%
以上10重量%以下のTiを含有するAl合金、あるい
は0.5重量%以上10重量%以下のCrを含有するA
l合金をDCスパッター法により成膜したりする。これ
により、信号特性に優れた性質を有する光ディスクを作
製することができる。
Therefore, the reflective film 203 constituting the optical disk of the present invention is formed by depositing Al to a thickness of 50 to 200 nm by ion beam sputtering, using Au, 0.5 wt% to 10 wt%, Particularly preferably 3.0% by weight
Al alloy containing not less than 10 wt% Ti or A containing 0.5 wt% to 10 wt% Cr
An alloy is formed by a DC sputtering method. As a result, an optical disk having excellent signal characteristics can be manufactured.

【0044】図8にAl反射膜をイオンビームスパッタ
ー法、あるいはDCスパッター法を用いて成膜した場合
の信号の書換え回数とジッター値との関係の測定結果を
示す。図8中の曲線61に、反射膜としてAlをイオン
ビームスパッターを用いて100nmに成膜した場合、
曲線62に150nmの厚さに成膜した場合、曲線63
にAlをDCスパッター法により150nmの厚さに成
膜したそれぞれの場合の、信号の書換え回数と、ジッタ
ー値(%)との関係の測定結果を示す。図8に示すよう
に、イオンビームスパッター法を用いて反射膜を成膜し
た場合には、書換え回数を1万回程度まで、相変化ディ
スクのオーバーライトジッターを15%以下に保持する
ことができる。すなわち、これらの光ディスクの書換え
可能回数を1万回程度までは品質を保証することがで
き、相変化ディスクの反射膜をAlで成膜する場合にお
いては、DCスパッター法よりイオンビームスパッター
法を用いた方が特性に優れたディスクを作製することが
できる。
FIG. 8 shows the measurement results of the relationship between the number of signal rewrites and the jitter value when the Al reflective film was formed by ion beam sputtering or DC sputtering. Curve 61 in FIG. 8 shows that Al is formed as a reflective film to a thickness of 100 nm using ion beam sputtering.
When a film having a thickness of 150 nm is formed on the curve 62, the curve 63
3 shows the measurement results of the relationship between the number of signal rewrites and the jitter value (%) in each case where Al was formed to a thickness of 150 nm by the DC sputtering method. As shown in FIG. 8, when the reflection film is formed by using the ion beam sputtering method, the overwrite jitter of the phase-change disk can be maintained at 15% or less up to about 10,000 rewrites. . That is, the quality can be guaranteed up to the number of rewritable times of these optical discs of about 10,000. When the reflection film of the phase change disc is formed of Al, the ion beam sputtering method is used instead of the DC sputtering method. By doing so, a disk having excellent characteristics can be manufactured.

【0045】図9に、反射膜としてAuをDCスパッタ
ー法で成膜した場合の信号の書換え回数とジッター値と
の関係の測定結果を示す。図9中、曲線71、72、7
3は、それぞれAuをDCスパッター法で60nm、9
0nm、120nmの厚さに成膜した場合である。
FIG. 9 shows the measurement results of the relationship between the number of signal rewrites and the jitter value when Au was formed as a reflective film by the DC sputtering method. In FIG. 9, curves 71, 72, 7
No. 3 shows that Au was 60 nm by DC sputtering, and 9
This is a case where the film is formed to a thickness of 0 nm or 120 nm.

【0046】図9に示すように、Auを反射膜として使
用した場合には、書換え回数を1万回程度まで、相変化
ディスクのオーバーライトジッターを15%以下に保持
することができる。この図9中の曲線71、72、73
で示す結果と、図8中の曲線63において示したAlを
DCスパッター法で成膜した場合の結果と比較すると、
AuはAlよりも反射膜として適していることがわか
る。
As shown in FIG. 9, when Au is used as the reflection film, the overwrite jitter of the phase-change disk can be maintained at 15% or less, up to about 10,000 rewrites. Curves 71, 72 and 73 in FIG.
Compared with the result shown by, and the result when Al shown by the curve 63 in FIG. 8 was formed by the DC sputtering method,
It can be seen that Au is more suitable as a reflective film than Al.

【0047】図10に、反射膜としてAlをDCスパッ
タ法により成膜した場合(曲線81)、AlにTiを
0.5重量%以上10重量%以下含有させた合金をDC
スパッタ法により成膜した場合(曲線82)、Alをイ
オンビームスパッタ法により成膜した場合(曲線83)
のそれぞれの場合の記録周波数(MHz)と、搬送波雑
音比(C/N)との関係を示す。
FIG. 10 shows that when Al was formed as a reflective film by DC sputtering (curve 81), an alloy containing 0.5% by weight or more and 10% by weight or less of Ti in Al was used.
When the film is formed by the sputtering method (curve 82), when Al is formed by the ion beam sputtering method (curve 83)
Shows the relationship between the recording frequency (MHz) and the carrier-to-noise ratio (C / N) in each case.

【0048】図10に示すように、曲線81と曲線83
を比較すると、イオンビームスパッタ法により反射膜を
成膜した方が、DCスパッタ法により成膜した場合より
も搬送波雑音比(C/N)が改善されており、良好な結
果が得られることがわかる。また、曲線81と曲線82
を比較すると、Al単独で反射膜を形成した場合より
も、AlとTiの合金で反射膜を形成した場合の方が良
好な結果が得られることがわかる。また、曲線82と曲
線83とを比較すると、AlにTiを0.5重量%以上
10重量%以下含有させた合金を用いてDCスパッタ法
により反射膜を形成した場合には、Alを用いてイオン
ビームスパッタ法により反射膜を成膜した場合と同様の
優れた結果が得られることがわかる。
As shown in FIG. 10, curves 81 and 83
In comparison, when the reflective film was formed by the ion beam sputtering method, the carrier-to-noise ratio (C / N) was improved compared to when the film was formed by the DC sputtering method, and good results were obtained. Recognize. Curves 81 and 82
It can be seen that better results can be obtained when the reflective film is formed of an alloy of Al and Ti than when the reflective film is formed of Al alone. Comparing the curve 82 and the curve 83, when a reflective film is formed by a DC sputtering method using an alloy containing 0.5% by weight or more and 10% by weight or less of Ti in Al, Al is used. It can be seen that excellent results similar to those obtained when a reflective film was formed by ion beam sputtering can be obtained.

【0049】また、上記Al合金において、Tiのかわ
りにCrを0.5重量%以上10重量%以下含有させた
合金で反射膜を形成した場合においても、AlとTiの
合金で反射膜を形成した場合と同様に良好な結果が得ら
れる。
In the case where the reflective film is formed of an alloy containing 0.5% by weight or more and 10% by weight or less of Cr instead of Ti in the above Al alloy, the reflective film is formed of an alloy of Al and Ti. Good results are obtained as in the case of the above.

【0050】一方、図11に上記Al合金のTi濃度
(重量%)と、このAl合金により作製した反射膜の反
射率との関係を示す。図11によると、Al合金のTi
濃度(重量%)が10重量%を越えると、反射膜の反射
率が低下して72%以下になり、充分な信号を得られな
くなる。これにより、上記Al合金のTi濃度(重量
%)は、0.5重量%以上10重量%以下であることが
必要である。
On the other hand, FIG. 11 shows the relationship between the Ti concentration (% by weight) of the Al alloy and the reflectance of the reflective film made of the Al alloy. According to FIG. 11, the Al alloy Ti
If the concentration (% by weight) exceeds 10% by weight, the reflectance of the reflective film decreases to 72% or less, and a sufficient signal cannot be obtained. Accordingly, the Ti concentration (% by weight) of the Al alloy needs to be 0.5% by weight or more and 10% by weight or less.

【0051】また、図7に示す構成の相変化型光ディス
クにおいて、基板201としてトラックピッチ0.55
μm、グルーブ幅0.35μm、グルーブ深さ約53n
mの条件でマスタリングされた厚さ1.2mmのポリカ
ーボネート基板上に、以下に示す反射膜203を形成
し、この反射膜203上に厚さ18nmのZnSとSi
2 の混合物よりなる第1の誘電体層301を被着形成
した。さらにこれの上に相変化型記録膜204として厚
さ24nmのGeSbTe合金を被着形成し、これの上
に厚さ100nmのZnSとSiO2 の混合物よりなる
第2の誘電体層302を被着形成した。そして、これの
上にポリカーボネートにより厚さ100μmの光透過層
205を形成した。
In the phase-change type optical disk having the structure shown in FIG.
μm, groove width 0.35 μm, groove depth about 53n
A reflective film 203 shown below is formed on a 1.2 mm thick polycarbonate substrate mastered under the condition of m, and ZnS and Si of 18 nm thick are formed on the reflective film 203.
A first dielectric layer 301 of a mixture of O 2 was deposited. Furthermore the GeSbTe alloy having a thickness of 24nm was deposited and formed as a phase-change recording film 204 on top of this, deposits a second dielectric layer 302 made of a thick mixture 100nm of ZnS and SiO 2 on top of this Formed. Then, a light-transmitting layer 205 having a thickness of 100 μm was formed on this by using polycarbonate.

【0052】上述した光ディスクにおいて、反射膜20
3としてAlを60nmの厚さにイオンビームスパッタ
法により形成した場合の構成のものを作製した。そし
て、記録レーザーパワー6mW、消去レーザーパワー
2.7mW、再生レーザーパワー0.5mW、線速度
2.86m/sの条件で、グルーブにビット長を変えて
情報信号を記録し、再生を行った。図12中、曲線21
0は、上述した条件における記録周波数(MHz)と、
搬送波雑音比(C/N)との関係を示す。図12に示す
ように、反射膜としてAlをイオンビームスパッタ法に
より形成した場合には、良好な信号特性が得られた。
In the above optical disk, the reflection film 20
As No. 3, a structure in which Al was formed to a thickness of 60 nm by ion beam sputtering was manufactured. Then, under the conditions of a recording laser power of 6 mW, an erasing laser power of 2.7 mW, a reproducing laser power of 0.5 mW, and a linear velocity of 2.86 m / s, an information signal was recorded in a groove while changing the bit length, and reproduction was performed. In FIG. 12, curve 21
0 is the recording frequency (MHz) under the conditions described above,
The relationship with the carrier noise ratio (C / N) is shown. As shown in FIG. 12, when Al was formed as the reflective film by the ion beam sputtering method, good signal characteristics were obtained.

【0053】また、上述した光ディスクにおいて、反射
膜203としてAuを60nmの厚さにDCスパッタ法
により形成した場合の構成のものを作製した。そして、
記録レーザーパワー6mW、消去レーザーパワー2.7
mW、再生レーザーパワー0.5mW、線速度2.86
m/sの条件で、グルーブにビット長を変えて情報信号
を記録し、再生を行った。図13中、曲線211は、上
述した条件における記録周波数(MHz)と、搬送波雑
音比(C/N)との関係を示す。図13に示すように、
反射膜としてAuをDCスパッタ法により形成した場合
には、良好な信号特性が得られた。
Further, in the above-mentioned optical disk, a structure was prepared in which Au was formed as the reflective film 203 to a thickness of 60 nm by the DC sputtering method. And
Recording laser power 6mW, erase laser power 2.7
mW, reproducing laser power 0.5 mW, linear velocity 2.86
Under the condition of m / s, the information signal was recorded in the groove while changing the bit length, and reproduction was performed. In FIG. 13, a curve 211 indicates a relationship between the recording frequency (MHz) and the carrier noise ratio (C / N) under the above-described conditions. As shown in FIG.
When Au was formed as a reflective film by the DC sputtering method, good signal characteristics were obtained.

【0054】また、上述した光ディスクにおいて、反射
膜203としてAlを97重量%、Tiを3重量%含有
する合金を60nmの厚さにDCスパッタ法により形成
した構成のものを作製した。そして、記録レーザーパワ
ー6mW、消去レーザーパワー2.7mW、再生レーザ
ーパワー0.5mW、線速度2.86m/sの条件で、
グルーブにビット長を変えて情報信号を記録し、再生を
行った。図14中、曲線212は、上述した条件におけ
る記録周波数(MHz)と、搬送波雑音比(C/N)と
の関係を示す。図14に示すように、反射膜としてAl
を97重量%、Tiを3重量%含有する合金をDCスパ
ッタ法により形成した場合には、良好な信号特性が得ら
れた。
Further, in the above-mentioned optical disk, a reflective film 203 having a structure in which an alloy containing 97% by weight of Al and 3% by weight of Ti was formed to a thickness of 60 nm by DC sputtering was manufactured. Then, under the conditions of a recording laser power of 6 mW, an erasing laser power of 2.7 mW, a reproducing laser power of 0.5 mW, and a linear velocity of 2.86 m / s,
The information signal was recorded on the groove while changing the bit length, and the information was reproduced. In FIG. 14, a curve 212 indicates a relationship between the recording frequency (MHz) and the carrier noise ratio (C / N) under the above-described conditions. As shown in FIG.
In the case where an alloy containing 97% by weight and 3% by weight of Ti was formed by DC sputtering, good signal characteristics were obtained.

【0055】一方、比較例として、上述した光ディスク
において、反射膜203としてAl単体を60nmの厚
さにDCスパッタ法により形成した場合の構成のものを
作製した。そして、記録レーザーパワー6mW、消去レ
ーザーパワー2.7mW、再生レーザーパワー0.5m
W、線速度2.86m/sの条件で、グルーブにビット
長を変えて情報信号を記録し、再生を行った。図15
中、曲線213は、上述した条件における記録周波数
(MHz)と、搬送波雑音比(C/N)との関係を示
す。図15に示すように、反射膜としてAlをDCスパ
ッタ法により形成した場合には、図10で示したことか
らもわかるようにノイズが増加し、良好な信号特性が得
られなかった。
On the other hand, as a comparative example, an optical disk having the above-described optical disk and having a configuration in which Al alone was formed as the reflective film 203 to a thickness of 60 nm by DC sputtering was manufactured. The recording laser power is 6 mW, the erasing laser power is 2.7 mW, and the reproducing laser power is 0.5 m
Under the conditions of W and a linear velocity of 2.86 m / s, an information signal was recorded in a groove while changing the bit length, and reproduction was performed. FIG.
The curve 213 shows the relationship between the recording frequency (MHz) and the carrier-to-noise ratio (C / N) under the above conditions. As shown in FIG. 15, when Al was formed as the reflective film by the DC sputtering method, as can be seen from FIG. 10, noise increased and good signal characteristics could not be obtained.

【0056】図12〜図15からわかるように、本発明
の光ディスクにおいて、反射膜としてAlをイオンビー
ムスパッタ法により形成した場合、AuをDCスパッタ
法により形成した場合、Alを97重量%Tiを3重量
%含有する合金をDCスパッタ法により形成した場合に
は、良好な信号特性が得られるが、AlをDCスパッタ
法により形成した場合には、良好な信号特性が得られな
いことがわかる。また、Auや、AlとTiの合金を用
いて、DCスパッタ法により反射膜を形成した場合に
は、イオンビームスパッタ法によるよりも、コストの低
減化を図ることもできる。
As can be seen from FIGS. 12 to 15, in the optical disc of the present invention, when Al is formed by an ion beam sputtering method, when Au is formed by a DC sputtering method, 97 wt% Ti It can be seen that good signal characteristics can be obtained when an alloy containing 3% by weight is formed by DC sputtering, but good signal characteristics cannot be obtained when Al is formed by DC sputtering. Further, when a reflective film is formed by a DC sputtering method using Au or an alloy of Al and Ti, the cost can be reduced as compared with the ion beam sputtering method.

【0057】本発明の光学記録媒体の一例として、光デ
ィスクを作製する場合について図を参照して説明する。
この場合、図16に示すように、基板10は、単板でデ
ィスクを構成する場合には、ある程度の剛性が必要であ
るから、厚さ0.6mm程度以上であることが望まし
い。また、図22に示すように、基板を2枚貼り合わせ
た構造の光学記録媒体を作製する場合には、その半分で
ある0.3mm程度であることが好適である。
A case of manufacturing an optical disk as an example of the optical recording medium of the present invention will be described with reference to the drawings.
In this case, as shown in FIG. 16, the substrate 10 needs to have a certain degree of rigidity when a disk is formed of a single plate, and therefore it is preferable that the thickness is about 0.6 mm or more. In addition, as shown in FIG. 22, when an optical recording medium having a structure in which two substrates are bonded to each other is manufactured, it is preferable that the thickness is about 0.3 mm, which is half of that.

【0058】次に、この基板10の案内溝上に、相変化
型記録膜または反射膜よりなる情報信号部11を形成す
る。例えばこの光ディスクがROMの場合は、Alなど
の反射膜を厚さ20〜60nmに成膜する。
Next, an information signal portion 11 made of a phase-change recording film or a reflection film is formed on the guide groove of the substrate 10. For example, when the optical disk is a ROM, a reflective film such as Al is formed to a thickness of 20 to 60 nm.

【0059】相変化型記録膜としては、カルコゲナイト
すなわちカルコゲン化合物あるいは単体のカルコゲンに
よって形成することができる、例えば、Te、Seの各
単体e、GeTe、Sb2 Te3 、Sb2 Se3 、Ge
Sb2 Te4 、GeSb4 Te7 、Ge2 Sb2
5 、GeSbTeSe、InSbTe、AgInSb
Te、TeOX 、InSe等のカルコゲナイト系材料を
使用することができ、上記案内溝上に、Al膜等の反射
膜を成膜したのち、反射膜上に形成する。
The phase-change recording film can be formed of chalcogenite, that is, a chalcogen compound or a simple chalcogen. For example, Te, Se alone, GeTe, Sb 2 Te 3 , Sb 2 Se 3 , Ge
Sb 2 Te 4 , GeSb 4 Te 7 , Ge 2 Sb 2 T
e 5 , GeSbTeSe, InSbTe, AgInSb
Te, TeO X, can be used chalcogenide-based material such as InSe, to the guide on the groove, after forming the reflection film of the Al film or the like is formed on the reflective film.

【0060】本発明の光ディスクは、基板10とは反対
側の面から、記録再生用対物レンズLを通じて記録再生
光の照射がなされる構成であるため、図17に示すよう
に、上記相変化記録膜11上に、紫外線硬化性樹脂によ
り、光透過層12を形成する。この光透過層12は、例
えば、上述の基板上の成膜面に、紫外線硬化性樹脂を滴
下回転延伸し、光硬化することにより作成することがで
きる。紫外線硬化性樹脂の粘度としては、300cps
以上6000cps以下のものが上記に記述した厚さの
光透過層12を形成するのに適切である。例えば、25
℃で5800cpsの粘度の紫外線硬化性樹脂を適用し
た場合には、基板上に紫外線硬化性樹脂を滴下した後、
基板を2000rpmで11秒間回転させることによ
り、最終的に100μm程度に光透過層12を形成する
ことができる。
The optical disk of the present invention has a configuration in which recording and reproduction light is irradiated from the surface opposite to the substrate 10 through the recording and reproduction objective lens L. Therefore, as shown in FIG. A light transmitting layer 12 is formed on the film 11 using an ultraviolet curable resin. The light transmitting layer 12 can be formed by, for example, drop-rotating and stretching an ultraviolet-curable resin on the above-described film-forming surface on the substrate, followed by photo-curing. The viscosity of the ultraviolet curable resin is 300 cps
More than 6000 cps or less is suitable for forming the light transmitting layer 12 having the thickness described above. For example, 25
When an ultraviolet curable resin having a viscosity of 5800 cps at 5 ° C. is applied, after the ultraviolet curable resin is dropped on the substrate,
By rotating the substrate at 2000 rpm for 11 seconds, the light transmitting layer 12 can be finally formed to about 100 μm.

【0061】ここで、光透過層12形成の際、基板10
の内周部、例えば半径25mmの位置に紫外線硬化性樹
脂を滴下し、回転延伸させると、遠心力と粘性抵抗との
関係から厚みに内外周差が生じる。この量は30μm以
上にもなり、記述した厚み範囲を満たすことができな
い。
Here, when forming the light transmitting layer 12, the substrate 10
When an ultraviolet curable resin is dropped at an inner peripheral portion, for example, at a position having a radius of 25 mm, and is rotated and stretched, a difference in inner and outer peripheral thicknesses is generated due to a relationship between centrifugal force and viscous resistance. This amount is 30 μm or more, and cannot satisfy the described thickness range.

【0062】これを回避するためには、紫外線硬化性樹
脂滴下の際に、基板10の中心孔13を何らかの手段を
用いて埋めた状態で、この基板10の中心部から紫外線
硬化性樹脂を滴下することが有効である。例えば、厚さ
0.1mmのポリカーボネートのシートを、直径Φ30
mmの円形に加工し、中心孔13部に接着し、紫外線硬
化性樹脂を滴下し、回転延伸を行い、紫外線を照射して
紫外線硬化性樹脂を硬化させた後、中心孔13を再度打
ち抜く。この方法によれば、内外周差10μm(p−
p)以内の厚さを達成することができる。
In order to avoid this, when the ultraviolet curable resin is dropped, the ultraviolet curable resin is dropped from the center of the substrate 10 while the center hole 13 of the substrate 10 is filled with some means. It is effective to do. For example, a sheet of polycarbonate having a thickness of 0.1 mm is Φ30 mm in diameter.
After processing into a circular shape of mm and adhering to the central hole 13 portion, ultraviolet curable resin is dropped, rotational stretching is performed, and the ultraviolet curable resin is cured by irradiating ultraviolet rays, and then the central hole 13 is punched out again. According to this method, the difference between the inner and outer circumferences is 10 μm (p−
A thickness within p) can be achieved.

【0063】なお、光透過層12を形成する際に、光デ
ィスクの最外周からはみ出すことが考えられるので、こ
の光ディスクの径は、CD等の径(120mm)を基準
とすると、120mm+5mmを最大値としておくこと
が望ましい。
When the light transmitting layer 12 is formed, it is conceivable that the light transmissive layer 12 protrudes from the outermost periphery of the optical disc. Therefore, the diameter of this optical disc is set to 120 mm + 5 mm as the maximum value based on the diameter of a CD (120 mm). It is desirable to keep.

【0064】また、図18に示すように、厚さが例えば
100μmのポリカーボネートのシート14を紫外線硬
化性樹脂15を介して基板10上に接着することによっ
ても、光透過層12を形成することができる。この場合
のシート14の厚さむらと接着用の紫外線硬化性樹脂1
5によって形成した光透過層12の厚さむらは、基板1
0と同径に加工したシート14を接着用の紫外線硬化性
樹脂15を介して基板10上に設置し、シート14を紫
外線硬化性樹脂15の重しにして回転延伸させることに
より全体として10μmにすることができる。
As shown in FIG. 18, the light transmitting layer 12 can also be formed by bonding a polycarbonate sheet 14 having a thickness of, for example, 100 μm onto the substrate 10 via an ultraviolet curable resin 15. it can. In this case, the thickness unevenness of the sheet 14 and the ultraviolet curable resin 1 for adhesion are used.
5, the thickness unevenness of the light transmitting layer 12 formed by the substrate 1
The sheet 14 processed to the same diameter as 0 is placed on the substrate 10 via the UV-curable resin 15 for bonding, and the sheet 14 is weighted with the UV-curable resin 15 and is rotationally stretched so that the total thickness becomes 10 μm. can do.

【0065】なお、本発明は、図19に示すような基板
10の射出成形により形成した第1の情報記録層17上
に中間層16を介して第2の情報記録層18が形成され
た多層構造の光ディスクについても適用することができ
る。
The present invention relates to a multi-layer structure in which a second information recording layer 18 is formed via an intermediate layer 16 on a first information recording layer 17 formed by injection molding of a substrate 10 as shown in FIG. The present invention can also be applied to an optical disk having a structure.

【0066】また、上述した構成の光ディスクにおいて
は、スキューが発生しやすい。このスキューを軽減する
為に、図20に示すように、基板10上であって光透過
層12の反対側の面にスキュー補正部材19として、紫
外線硬化性樹脂を塗布してもよい。このスキュー補正部
材19は光透過層12と同じ材料を用いてもよいし、ま
た、光透過層12の材料よりも硬化収縮率の高い材料を
用いてもよい。
In the optical disk having the above-described structure, skew is easily generated. In order to reduce the skew, as shown in FIG. 20, an ultraviolet curable resin may be applied as a skew correction member 19 on the surface of the substrate 10 opposite to the light transmitting layer 12. The skew correction member 19 may use the same material as the light transmission layer 12, or may use a material having a higher curing shrinkage than the material of the light transmission layer 12.

【0067】なお、高記録密度の光学記録媒体を記録再
生するためには、後述する高N.A.の対物レンズを有
したピックアップが必要となる。この場合、対物レンズ
と光透過層表面との間の距離(以下、W.D.とい
う。)を従来の距離に対して狭くすることが必要とな
る。しかしながら、この場合、対物レンズが光透過層表
面に衝突して、傷つけてしまうことが予想される。
In order to record / reproduce an optical recording medium having a high recording density, a high N.D. A. A pickup having an objective lens is required. In this case, it is necessary to make the distance between the objective lens and the light transmitting layer surface (hereinafter referred to as WD) narrower than the conventional distance. However, in this case, it is expected that the objective lens collides with and damages the light transmitting layer surface.

【0068】これを防止するために、図21に示すよう
に、光透過層12上に、鉛筆硬度H以上の保護透明層2
0を施した構成とすることが有効である。また光透過層
12が薄くなると、ごみの影響を受けやすくなり、これ
を回避するため、保護透明層20に帯電防止の機能を備
えることが有効である。
In order to prevent this, as shown in FIG. 21, the protective transparent layer 2 having a pencil hardness of H or more is formed on the light transmitting layer 12.
It is effective to adopt a configuration in which 0 is applied. Further, when the light transmitting layer 12 is thin, it is liable to be affected by dust, and in order to avoid this, it is effective to provide the protective transparent layer 20 with an antistatic function.

【0069】本発明は、単板構造のみならず、図22に
示すように、最終的に得る基板50の半分の厚さの2枚
の基板51、52を、2枚貼り合わせる構造であっても
よい。
The present invention has a structure in which not only a single-plate structure but also two substrates 51 and 52 each having a half thickness of a finally obtained substrate 50 are bonded as shown in FIG. Is also good.

【0070】また、図23に示すように、1枚の基板5
0の両面に信号記録層と光透過層12を有するような構
造であってもよい。
As shown in FIG. 23, one substrate 5
0 may have a signal recording layer and a light transmitting layer 12 on both sides.

【0071】なお、本発明の光学記録媒体は、上述した
製法に限定されることなく、以下に示す製造方法によっ
ても製造することができる。図24Aに示すように、押
し出し成形、またはキャスト法で作られた厚さ100μ
mのポリカーボネートのシート40を用意し、ガラス転
移点よりも高い温度に熱せられたスタンパー41と、ロ
ーラー42に、例えば280Kgfの圧力をかけて圧着
させる。
The optical recording medium of the present invention is not limited to the above-mentioned manufacturing method, but can be manufactured by the following manufacturing method. As shown in FIG. 24A, a thickness of 100 μm extruded or cast
A m-polycarbonate sheet 40 is prepared, and pressed against a stamper 41 heated to a temperature higher than the glass transition point and a roller 42 by applying a pressure of, for example, 280 kgf.

【0072】上述した操作の後、所定の大きさに加工す
ることにより、図24Bに示すように、シート40にス
タンパー41のピットあるいは案内溝が転写された薄型
基板43を作製することができる。
After the above-described operation, by processing into a predetermined size, as shown in FIG. 24B, a thin substrate 43 in which the pits or guide grooves of the stamper 41 are transferred to the sheet 40 can be manufactured.

【0073】続いて、前述した製造方法と同様の工程に
より、上記案内溝上に相変化記録膜または反射膜を成膜
する。
Subsequently, a phase change recording film or a reflection film is formed on the guide groove by the same steps as in the above-described manufacturing method.

【0074】そしてその後、別途射出成形にて作成した
例えば厚さ1.1mmのディスク状透明基板50上に、
紫外線硬化性樹脂を滴下し、薄板基板43を載置して圧
着し、透明基板50側から紫外線を照射して接着し、図
24C、D、Eにそれぞれ示すように1層、2層、4層
の記録層を有する光学記録媒体を成形することができ
る。
Then, on a disk-shaped transparent substrate 50 having a thickness of, for example, 1.1 mm separately formed by injection molding,
The ultraviolet curable resin is dropped, the thin substrate 43 is placed and pressed, and the substrate is bonded by irradiating ultraviolet rays from the transparent substrate 50 side, as shown in FIGS. 24C, D and E, respectively. An optical recording medium having a multilayer recording layer can be formed.

【0075】次に基板上に形成されるピットまたはグル
ーブの深さについて説明する。以下において、光透過層
の屈折率をNとする。最も変調度が得られるピットまた
はグルーブの深さは(λ/4)/Nであり、ROM等は
この深さに設定する。
Next, the depth of pits or grooves formed on the substrate will be described. Hereinafter, the refractive index of the light transmission layer is set to N. The depth of the pit or groove at which the maximum modulation is obtained is (λ / 4) / N, and the ROM or the like is set to this depth.

【0076】また、グルーブ記録やランド記録におい
て、プッシュプルでトラッキングエラー信号を得ようと
する場合、プッシュプル信号はピットまたはランドの深
さが(λ/8)/Nのときに最大となる。
In the case of obtaining a tracking error signal by push-pull in groove recording or land recording, the push-pull signal becomes maximum when the depth of the pit or land is (λ / 8) / N.

【0077】さらに、ランドとグルーブの双方に記録を
行った場合、グルーブ深さはサーボ信号の特性ととも
に、クロストークやクロスイレースの特性を考慮すべき
であり、実験的にはクロストークは(λ/6)/N〜
(λ/3)/Nが最小になり、クロスイレースは深い方
が影響が少ないことが確認されている。また、グルーブ
傾き等を考慮し、両特性を満足させようとすると、(3
λ/8)/Nが最適となる。本発明の高記録密度の光学
記録媒体は、上記深さの範囲内で適用可能である。
Further, when recording is performed on both the land and the groove, the groove depth should take into consideration the characteristics of the servo signal as well as the characteristics of crosstalk and cross-erase. / 6) / N ~
(Λ / 3) / N is minimized, and it is confirmed that deeper cross erase has less influence. In addition, in consideration of the groove inclination and the like, when trying to satisfy both characteristics, (3
λ / 8) / N is optimal. The high-density optical recording medium of the present invention can be applied within the above-described depth range.

【0078】次に高N.A.を実現させる例について説
明する。図25は高N.A.を実現させる光ディスク装
置のレンズの構成を示す。なお図25に示す光ディスク
装置は、波長が680nmのレーザー光源を有している
ものとする。
Next, at the high N.P. A. An example of realizing is described. FIG. A. 1 shows a configuration of a lens of an optical disc device for realizing the above. The optical disk device shown in FIG. 25 has a laser light source having a wavelength of 680 nm.

【0079】この光ディスク装置において、第1のレン
ズ31とディスク21との間に第2のレンズ32を配置
する。このように、2群レンズ構成にすることでN.
A.を0.7以上にすることが可能となり、第2のレン
ズ32の第1面32aとディスク21の表面との間隔
(W.D.)を狭くすることができる。また、第1のレ
ンズ31及び第2のレンズ32の第1面31a、第2面
31b、第3面32a、及び第4面32bは夫々非球面
形状にすることが望ましい。この2群レンズを用いるこ
とにより、上述した光学記録媒体の高密度記録再生を行
うことができる。
In this optical disk device, a second lens 32 is disposed between the first lens 31 and the disk 21. As described above, by adopting the two-group lens configuration, the N.D.
A. Can be set to 0.7 or more, and the distance (WD) between the first surface 32a of the second lens 32 and the surface of the disk 21 can be reduced. Further, it is desirable that the first surface 31a, the second surface 31b, the third surface 32a, and the fourth surface 32b of the first lens 31 and the second lens 32 have an aspheric shape, respectively. By using this two-group lens, high-density recording and reproduction of the optical recording medium described above can be performed.

【0080】[0080]

【発明の効果】本発明によれば、記録信号の容量が8G
Bの相変化型の光学記録媒体を得ることができた。
According to the present invention, the capacity of the recording signal is 8G.
A phase-change type optical recording medium B was obtained.

【0081】また、本発明によれば、反射膜の組成や成
膜方法を調整することにより、優れた特性を有する相変
化型の光学記録媒体を得ることができた。
Further, according to the present invention, a phase-change type optical recording medium having excellent characteristics could be obtained by adjusting the composition of the reflection film and the film formation method.

【0082】また、本発明によれは、基板上の案内溝の
凹部のデューティーを調整することにより、案内溝上に
相変化膜や反射膜を成膜した場合においても、光透過層
側から見て、相変化記録膜の部分で、案内溝の凹部(グ
ルーブ)と凸部(ランド)との幅が所望の比に形成され
ている光学記録媒体を得るとができた。
Further, according to the present invention, by adjusting the duty of the concave portion of the guide groove on the substrate, even when a phase-change film or a reflective film is formed on the guide groove, when viewed from the side of the light transmitting layer. Thus, an optical recording medium was obtained in which the width of the concave portion (groove) and the convex portion (land) of the guide groove was formed at a desired ratio in the phase change recording film.

【0083】本発明によれば、簡便な記録再生装置のま
まで従来に比べ高記録容量化を図ることができた。
According to the present invention, it is possible to increase the recording capacity as compared with the conventional one while using a simple recording / reproducing apparatus.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】基板の厚さ誤差によるジッター値の変化に関す
る実験データを示す。
FIG. 1 shows experimental data on a change in a jitter value due to a thickness error of a substrate.

【図2】本発明の一例の光ディスクの要部の概略断面図
を示す。
FIG. 2 is a schematic sectional view of a main part of an optical disk according to an example of the present invention.

【図3】記録型光ディスクの案内溝構造を示す。FIG. 3 shows a guide groove structure of a recordable optical disk.

【図4】記録型光ディスクの案内溝構造を示す。FIG. 4 shows a guide groove structure of a recordable optical disk.

【図5】グルーブデューティーとジッター値の関係を示
す。
FIG. 5 shows a relationship between a groove duty and a jitter value.

【図6】グルーブデューティーと信号レベルの関係を示
す。
FIG. 6 shows a relationship between a groove duty and a signal level.

【図7】本発明の一例の光ディスクの要部の概略断面図
を示す。
FIG. 7 is a schematic sectional view of a main part of an optical disk according to an example of the present invention.

【図8】書換え回数とジッター値の関係を示す。FIG. 8 shows the relationship between the number of rewrites and the jitter value.

【図9】書換え回数とジッター値の関係を示す。FIG. 9 shows the relationship between the number of rewrites and the jitter value.

【図10】記録周波数(MHz)と、搬送波雑音比(C
/N)との関係を示す。
FIG. 10 shows a recording frequency (MHz) and a carrier-to-noise ratio (C).
/ N).

【図11】Al合金中のTiの濃度(重量%)と、反射
膜の反射率との関係を示す。
FIG. 11 shows the relationship between the concentration (% by weight) of Ti in an Al alloy and the reflectance of a reflective film.

【図12】記録周波数(MHz)と、搬送波雑音比(C
/N)との関係を示す。
FIG. 12 shows a recording frequency (MHz) and a carrier noise ratio (C).
/ N).

【図13】記録周波数(MHz)と、搬送波雑音比(C
/N)との関係を示す。
FIG. 13 shows a recording frequency (MHz) and a carrier noise ratio (C).
/ N).

【図14】記録周波数(MHz)と、搬送波雑音比(C
/N)との関係を示す。
FIG. 14 shows a recording frequency (MHz) and a carrier noise ratio (C).
/ N).

【図15】記録周波数(MHz)と、搬送波雑音比(C
/N)との関係を示す。
FIG. 15 shows a recording frequency (MHz) and a carrier noise ratio (C).
/ N).

【図16】本発明の光学記録媒体の概略図を示す。FIG. 16 shows a schematic diagram of an optical recording medium of the present invention.

【図17】本発明の光学記録媒体の概略図を示す。FIG. 17 shows a schematic diagram of the optical recording medium of the present invention.

【図18】本発明の光学記録媒体の他の一例の概略図を
示す。
FIG. 18 is a schematic view showing another example of the optical recording medium of the present invention.

【図19】本発明の光学記録媒体の他の一例の2層構造
の光学記録媒体の概略図を示す。
FIG. 19 is a schematic view of another example of the optical recording medium of the present invention having a two-layer structure.

【図20】本発明の光学記録媒体の他の一例の概略図を
示す。
FIG. 20 is a schematic view of another example of the optical recording medium of the present invention.

【図21】本発明の光学記録媒体の他の一例の概略図を
示す。
FIG. 21 is a schematic view showing another example of the optical recording medium of the present invention.

【図22】本発明の光学記録媒体の他の一例の2層構造
の光学記録媒体の概略図を示す。
FIG. 22 is a schematic view of another example of the optical recording medium of the present invention having a two-layer structure.

【図23】本発明の光学記録媒体の他の一例の基板の両
面に情報記録層が形成された構造の光学記録媒体の概略
図を示す。
FIG. 23 is a schematic view of an optical recording medium having a structure in which information recording layers are formed on both surfaces of a substrate of another example of the optical recording medium of the present invention.

【図24】A 本発明の光学記録媒体の一例の作製工程
図を示す。 B 本発明の光学記録媒体の一例の作製工程図を示す。 C 本発明の光学記録媒体の一例の作製工程図を示す。 D 本発明の光学記録媒体の一例の作製工程図を示す。 E 本発明の光学記録媒体の一例の作製工程図を示す。
FIG. 24A is a view showing a manufacturing step of an example of the optical recording medium of the present invention. B shows a manufacturing process diagram of an example of the optical recording medium of the present invention. C shows a process drawing of an example of the optical recording medium of the present invention. D shows a process drawing of an example of the optical recording medium of the present invention. E shows a process drawing of an example of the optical recording medium of the present invention.

【図25】本発明を適用した光ディスクを記録再生する
光学系に用いる2群レンズの概略図を示す。
FIG. 25 is a schematic view of a two-unit lens used in an optical system for recording and reproducing an optical disk to which the present invention is applied.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,50,51,52,201…基板、11…情報信
号部、12,205…光透過層、13….心孔、14…
シート、15…紫外線硬化性樹脂、16…中間層、17
…第1の情報記録層、18…第2の情報記録層、19…
スキュー補正部材、20…保護透明層、21…光ディス
ク、31…第1のレンズ、32…第2のレンズ、40…
ポリカーボネートシート、41…スタンパー、42…ロ
ーラー、43…薄板基板、101…グルーブ、102…
ランド、103…トラックピッチ、202…案内溝、2
03…反射膜、204…相変化型記録膜
10, 50, 51, 52, 201 ... substrate, 11 ... information signal part, 12, 205 ... light transmitting layer, 13 ... Heart hole, 14 ...
Sheet, 15: UV curable resin, 16: Intermediate layer, 17
... first information recording layer, 18 ... second information recording layer, 19 ...
Skew correction member, 20: protective transparent layer, 21: optical disk, 31: first lens, 32: second lens, 40 ...
Polycarbonate sheet, 41 stamper, 42 roller, 43 thin substrate, 101 groove, 102
Land, 103: track pitch, 202: guide groove, 2
03: reflection film, 204: phase change type recording film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 金子 正彦 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 内藤 光男 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 古木 基裕 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Masahiko Kaneko 6-7-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation (72) Inventor Mitsuo Naito 6-7-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation (72) Inventor Motohiro Furuki 6-7-35 Kita Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 熱可塑性樹脂からなり、0.3〜1.2
mmの厚さの支持体と、 上記支持体上に案内溝と、該案内溝上に、順に、少なく
とも反射膜と、相変化型記録膜とからなる記録領域を有
し、 少なくとも上記記録領域において、3〜177μmの厚
さの光透過層が形成されて成り、 上記光透過層の、厚さむらをΔtとしたときに、再生、
もしくは記録再生する光学系のN.A.および波長λと
の間に、 Δt ≦±5.26( λ/N.A.4 )(μm) (N.
A.は開口数) の関係をみたすことを特徴とする光学記録媒体。
1. A thermoplastic resin, comprising 0.3 to 1.2.
mm, a guide groove on the support, and, on the guide groove, at least a reflective film and a recording area composed of a phase-change recording film. A light transmitting layer having a thickness of 3 to 177 μm is formed. When the thickness unevenness of the light transmitting layer is represented by Δt, reproduction,
Alternatively, the N.V. A. And between the wavelength λ, Δt ≦ ± 5.26 (λ / N.A. 4) (μm) (N.
A. An optical recording medium characterized by satisfying the following relationship:
【請求項2】 上記相変化型記録膜を挟み込んで、第1
および第2の誘電体層が形成されてなることを特徴とす
る請求項1に記載の光学記録媒体。
2. The method according to claim 1, further comprising:
2. The optical recording medium according to claim 1, wherein a second dielectric layer is formed.
【請求項3】 上記反射膜は、AlまたはAl合金を、
イオンビームスパッタ法により成膜して成ることを特徴
とする請求項1に記載の光学記録媒体。
3. The reflection film is made of Al or an Al alloy,
2. The optical recording medium according to claim 1, wherein the optical recording medium is formed by ion beam sputtering.
【請求項4】 上記反射膜は、Auを、直流スパッタ法
により成膜して成ることを特徴とする請求項1に記載の
光学記録媒体。
4. The optical recording medium according to claim 1, wherein the reflection film is formed by depositing Au by a DC sputtering method.
【請求項5】 上記反射膜は、Crを0.5重量%以上
10重量%以下含有したAl合金を、直流スパッタ法に
より成膜して成ることを特徴とする請求項1に記載の光
学記録媒体。
5. The optical recording apparatus according to claim 1, wherein the reflection film is formed by depositing an Al alloy containing 0.5% by weight or more and 10% by weight or less of Cr by DC sputtering. Medium.
【請求項6】 上記反射膜は、Tiを0.5重量%以上
10重量%以下含有したAl合金を、直流スパッタ法に
より成膜して成ることを特徴とする請求項1に記載の光
学記録媒体。
6. The optical recording apparatus according to claim 1, wherein the reflection film is formed by depositing an Al alloy containing 0.5% by weight or more and 10% by weight or less of Ti by a direct current sputtering method. Medium.
【請求項7】 上記反射膜は、Tiを3.0重量%以上
10重量%以下含有したAl合金を、直流スパッタ法に
より成膜して成ることを特徴とする請求項1に記載の光
学記録媒体。
7. The optical recording apparatus according to claim 1, wherein the reflection film is formed by depositing an Al alloy containing Ti in an amount of 3.0% by weight or more and 10% by weight or less by a DC sputtering method. Medium.
【請求項8】 上記反射膜は、AlまたはAl合金を、
イオンビームスパッタ法により、50〜200nmの厚
さに成膜して成り、 上記第1の誘電体層は、ZnSと、SiO2 の混合物
を、10〜30nmの厚さに成膜されて成り、 上記相変化型記録膜は、GeSbTeを、10〜30n
mの厚さに成膜されて成り、 上記第2の誘電体層は、ZnSと、SiO2 の混合物
を、50〜200nmの厚さに成膜されて成ることを特
徴とする請求項2に記載の光学記録媒体。
8. The reflection film is made of Al or an Al alloy,
The first dielectric layer is formed by depositing a mixture of ZnS and SiO 2 to a thickness of 10 to 30 nm by ion beam sputtering. The phase-change recording film is made of GeSbTe by 10 to 30 n.
The second dielectric layer is formed by depositing a mixture of ZnS and SiO 2 to a thickness of 50 to 200 nm. The optical recording medium as described in the above.
【請求項9】 上記反射膜は、Auを、直流スパッタ法
により、50〜120nmの厚さに成膜して成り、 上記第1の誘電体層は、ZnSと、SiO2 の混合物
を、10〜30nmの厚さに成膜されて成り、 上記相変化型記録膜は、GeSbTeを、10〜30n
mの厚さに成膜されて成り、 上記第2の誘電体層は、ZnSと、SiO2 の混合物
を、50〜200nmの厚さに成膜されて成ることを特
徴とする請求項2に記載の光学記録媒体。
9. The reflection film is formed by depositing Au to a thickness of 50 to 120 nm by a DC sputtering method, and the first dielectric layer is formed by mixing a mixture of ZnS and SiO 2 with 10 μm. The phase-change recording film is formed of GeSbTe by 10 to 30 nm.
The second dielectric layer is formed by depositing a mixture of ZnS and SiO 2 to a thickness of 50 to 200 nm. The optical recording medium as described in the above.
【請求項10】 グルーブのみに信号の記録再生が行わ
れ、 上記支持体上に形成された上記案内溝を、上記光透過層
側から見て、凹部のデューティーが、58〜65%とし
たことを特徴とする請求項1に記載の光学記録媒体。
10. The recording / reproducing of a signal is performed only in the groove, and the duty of the concave portion is 58 to 65% when the guide groove formed on the support is viewed from the light transmitting layer side. The optical recording medium according to claim 1, wherein:
【請求項11】 ランドとグルーブの双方に信号の記録
再生が行われ、 上記支持体上に形成された上記案内溝を、上記光透過層
側から見て、凹部のデューティーが、58〜75%であ
ることを特徴とする請求項1に記載の光学記録媒体。
11. Recording and reproduction of a signal on both the land and the groove are performed. When the guide groove formed on the support is viewed from the light transmitting layer side, the duty of the concave portion is 58 to 75%. The optical recording medium according to claim 1, wherein
【請求項12】 熱可塑性樹脂からなり、0.3〜1.
2mmの厚さの支持体と、 該支持体上に、案内溝と、
該案内溝上に、順に、少なくとも反射膜と、相変化型記
録膜とからなる記録領域と、光透過層とを有し、 少なくとも上記記録領域内において、上記光透過層の厚
さが3〜177μmである光学ディスクを記録または記
録再生する光学ディスク装置であって、波長が680n
m以下のレーザ光源と、上記光学ディスク信号記録面に
レーザー光を収束させるためのN.A.が0.7以上の
レンズとを備えたことを特徴とする光学ディスク装置。
12. A thermoplastic resin, comprising 0.3 to 1.
A support having a thickness of 2 mm, a guide groove on the support,
On the guide groove, a recording area comprising at least a reflective film and a phase change type recording film, and a light transmitting layer are sequentially provided, and the thickness of the light transmitting layer is 3 to 177 μm in at least the recording area. An optical disk device for recording or recording / reproducing an optical disk having a wavelength of 680n
m or less, and a laser beam source for focusing laser light on the optical disk signal recording surface. A. An optical disk device comprising: a lens having a size of 0.7 or more.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6512735B1 (en) 1999-04-26 2003-01-28 Sony Corporation Optical disk having recording capacity of about at least 15 GB
US6618349B2 (en) 2000-02-21 2003-09-09 Tdk Corporation Optical recording medium and its designing method
JP2003535418A (en) * 1999-08-27 2003-11-25 ザ ダウ ケミカル カンパニー High data density optical media disk
US6657942B2 (en) 2000-07-24 2003-12-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Optical recording and reproducing apparatus having floating swing arm and optical disk for use therewith
JP2010153036A (en) * 2000-06-26 2010-07-08 Tdk Corp Optical information medium and method of manufacturing the same

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6512735B1 (en) 1999-04-26 2003-01-28 Sony Corporation Optical disk having recording capacity of about at least 15 GB
AU770853B2 (en) * 1999-04-26 2004-03-04 Sony Corporation Optical disk and method of manufacture thereof
KR100697756B1 (en) * 1999-04-26 2007-03-21 소니 가부시끼 가이샤 Optical disk and method of manufacture thereof
JP2003535418A (en) * 1999-08-27 2003-11-25 ザ ダウ ケミカル カンパニー High data density optical media disk
US6618349B2 (en) 2000-02-21 2003-09-09 Tdk Corporation Optical recording medium and its designing method
JP2010153036A (en) * 2000-06-26 2010-07-08 Tdk Corp Optical information medium and method of manufacturing the same
US6657942B2 (en) 2000-07-24 2003-12-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Optical recording and reproducing apparatus having floating swing arm and optical disk for use therewith

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