JP4618352B2 - Method for manufacturing optical recording medium - Google Patents

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Description

本発明は、光学記録媒体の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing an optical recording medium.

次世代の光ディスクメディアとして、片面にNTSC4時間記録再生ができる光ディスクメディアが提案されている。これは、家庭用ビデオディスクレコーダーとして4時間程度の記録再生を可能にすることにより、現行のVTR(Video Tape Recorder )に代わる新しい記録媒体としての機能を備えるものである。   As a next generation optical disk medium, an optical disk medium capable of NTSC 4 hour recording / reproduction on one side has been proposed. This provides a function as a new recording medium to replace the current VTR (Video Tape Recorder) by enabling recording and reproduction for about 4 hours as a home video disk recorder.

また、このような記録媒体として、CD(Compact Disc)と同じ形状、サイズに選定することによってCDの手軽さ、使い勝手に慣れ親しんだユーザーにとって違和感のない商品とすることができる。   In addition, by selecting the same shape and size as a CD (Compact Disc) as such a recording medium, it is possible to obtain a product that does not feel uncomfortable for users who are familiar with the convenience and usability of the CD.

さらに、ディスク形態の最大の特徴としてのアクセスの速さを利用し、小型、簡便な記録機というだけでなく、瞬時に録画、再生やトリックプレイ、編集など多彩な機能を盛り込んだ商品を実現できる。   Furthermore, using the speed of access as the biggest feature of the disk format, it is possible to realize not only a compact and simple recorder, but also a product that incorporates various functions such as instant recording, playback, trick play, and editing. .

上記のような商品を実現化するに、例えば8GB以上の記録容量を有するものとすることが要求されてきている。   In order to realize such a product, it has been required to have a recording capacity of, for example, 8 GB or more.

しかしながら、従来、CDと同径サイズであって、一主面のみに単層の情報信号層を有するものにおいては、8GB以上の記録容量を有する光学記録媒体は存在していなかった。   However, conventionally, an optical recording medium having a recording capacity of 8 GB or more has not existed in a medium having the same diameter as a CD and having a single information signal layer only on one main surface.

既に提案されているDVD(Digital Versatile Disc) においては、情報信号部の領域内、すなわちディスクの中心部から半径24〜58(mm)の範囲の領域内において、照射レーザー光波長λ=0.65μm、レンズの開口数N.A.=0.6の条件下において記録容量は4.7GBである。ECCや変調方式などの信号フォーマットを変えずに、上記DVDよりさらに大容量化を図る場合、例えば8GB以上を実現する為には、下記〔数1〕を満足することが必要となる。
[数1]
4.7×(0.65/0.60×N.A./λ)2 ≧8
In the already proposed DVD (Digital Versatile Disc), the irradiation laser light wavelength λ = 0.65 μm in the area of the information signal portion, that is, in the range of radius 24 to 58 (mm) from the center of the disc. , The numerical aperture of the lens A. The recording capacity is 4.7 GB under the condition of = 0.6. In order to increase the capacity further than the DVD without changing the signal format such as ECC or modulation method, for example, in order to realize 8 GB or more, it is necessary to satisfy the following [Equation 1].
[Equation 1]
4.7 × (0.65 / 0.60 × NA / λ) 2 ≧ 8

上記式より、N.A./λ≧1.20を満たすことが必要である。したがって、照射レーザー光の波長λを短くするか、あるいはレンズの開口数N.A.の値を高くするかのどちらかの条件が必要となる。   From the above equation, N.I. A. It is necessary to satisfy /λ≧1.20. Therefore, the wavelength λ of the irradiation laser light is shortened or the numerical aperture of the lens N.P. A. Either of the conditions to increase the value of is required.

上記条件を満たすために、例えばN.A.を高くする場合には、光ディスクの情報信号上であって、再生用レーザー光照射面側に形成されてなる光透過層の厚さを薄くする必要がある。これは、光学ピックアップの光軸に対してディスク面が垂直からズレる角度(チルト角)の許容量が小さくなるためであり、このチルト角が光透過層の厚さによる収差の影響を受け易いためである。   In order to satisfy the above conditions, N.I. A. In order to increase the thickness of the optical transmission layer, it is necessary to reduce the thickness of the light transmission layer formed on the information signal of the optical disc and on the reproduction laser light irradiation surface side. This is because the allowable amount of the angle (tilt angle) at which the disc surface deviates from the perpendicular to the optical axis of the optical pickup is small, and this tilt angle is easily affected by aberration due to the thickness of the light transmission layer. It is.

また、上記のように高密度の光学記録媒体を作製するためには、同様の理由から、光透過層の厚さむら(Δt)についても低減化させる必要がある。   Further, in order to produce a high-density optical recording medium as described above, it is necessary to reduce the thickness unevenness (Δt) of the light transmission layer for the same reason.

上述したことに鑑みて、本発明においては、特にレンズの開口数N.A.を高くした場合に対応可能で、例えば8GB以上の大容量の光学記録媒体の製造方法を提供するものである。 In view of the above, in the present invention, in particular, the numerical aperture N.I. A. The present invention provides a method for manufacturing an optical recording medium having a large capacity of, for example, 8 GB or more.

本発明は、レーザー光が入射する側の面に、少なくとも二以上の情報信号部と、光透過層とを具備する光学記録媒体の製造方法であって、
射出成形によって基板の表面に第1の情報信号部形成する工程と、上記基板上に第1の反射膜を形成する工程と、上記第1の反射膜上に上記基板の中心孔を埋めた状態で、中心から紫外線硬化性樹脂を滴下し、当該紫外線硬化樹脂を介してスタンパーを接触させて、回転延伸し、硬化させることによって上記スタンパーの情報ピットあるいは案内溝が転写され第2の情報信号部を有する紫外線硬化樹脂層を形成する工程と、上記紫外線硬化樹脂層上に第2の反射膜を形成する工程と、上記第2の反射膜上に保護層を形成する工程と、を有することを特徴とする。
なお、第1の情報信号部と第2の情報信号部、情報信号部の層数とピックアップレンズの可動距離とに応じた間隔に設けることが好適である。
The present invention is a method for producing an optical recording medium comprising at least two or more information signal portions and a light transmission layer on a surface on which laser light is incident,
Forming a first information signal portion on the surface of the substrate by injection molding, filled and forming a first reflective film on the substrate, the center hole of the substrate on the first reflective film state, dropped ultraviolet-curing resin from the center, contacting the stamper via the ultraviolet curing resin, rotates drawing, the second information in which information pits or guide grooves of the stamper has been transferred by curing Yes forming a UV-curable resin layer having a signal portion, and forming a second reflective film on the ultraviolet curing resin layer, and forming a protective layer on the second reflective film, the and to Turkey and features.
Note that the first information signal portion a second information signal section, that kick set to a distance corresponding to the movable range of the number of layers and the pickup lens of the information signal portions are preferred.

上記構成によれば、光透過層の厚さを薄くして多層構造とすることができる。 According to the above configuration , the light transmission layer can be thinned to have a multilayer structure.

以上のように、本発明によれば、光透過層の厚さを薄くして多層構造とすることができるので、特に記録再生光学系の対物レンズの開口数N.A.を高くする場合に好適で、例えば8GB以上もの大容量の光学記録媒体が得られる。   As described above, according to the present invention, since the thickness of the light transmission layer can be reduced to have a multilayer structure, the numerical aperture N.sub. A. For example, an optical recording medium having a large capacity of 8 GB or more can be obtained.

以下、本発明の具体的な実施の形態の例について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本実施例においては、光ディスクであって、情報信号部を有する基板上の光透過層を通過させることにより、レーザー光を照射して信号の再生を行う光ディスクに適用した例について説明するが、本発明は下記に示す実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, examples of specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the present embodiment, an example will be described in which the present invention is applied to an optical disc that reproduces a signal by irradiating a laser beam by passing through a light transmission layer on a substrate having an information signal portion. The present invention is not limited to the examples shown below.

一般的にディスクスキューマージンΘと記録再生光学系のレーザー光の波長λ、レンズの開口数N.A.、および光学記録媒体のレーザー照射面側であって、情報信号上に形成された光透過層の厚さtとは相関関係にある。実用上充分そのプレイヤビリティが実証されているコンパクトディスク(CD)の例を基準にこれらのパラメータとΘとの関係が、特開平3−097134号公報に示されている。これによると、|Θ|≦84.115°(λ/N.A.3 /t)であればよく、これは本発明の光学記録媒体にも適用することができる。 In general, the disk skew margin Θ, the wavelength λ of the laser beam of the recording / reproducing optical system, the numerical aperture of the lens A. , And the laser irradiation surface side of the optical recording medium, which is correlated with the thickness t of the light transmission layer formed on the information signal. The relationship between these parameters and Θ is shown in Japanese Patent Laid-Open No. 3-097134 on the basis of an example of a compact disc (CD) whose playability has been demonstrated in practice. According to this, it is sufficient that | Θ | ≦ 84.115 ° (λ / NA 3 / t), and this can also be applied to the optical recording medium of the present invention.

ここで、ディスクを実際に量産する場合のスキューマージンΘの具体的な限界値を考えると、0.4°とするのが妥当である。これは、量産を考えた場合、これより小さくすると歩留まりが低下し、コストが上がるからである。既存の記録媒体についても、CDでは0.6°、DVDでは0.4°である。   Here, considering a specific limit value of the skew margin Θ when the disk is actually mass-produced, it is appropriate to set it to 0.4 °. This is because when mass production is considered, if the size is smaller than this, the yield decreases and the cost increases. The existing recording medium is also 0.6 ° for CD and 0.4 ° for DVD.

従って、スキューマージンΘ=0.4°として、レーザー光の短波長化、高N.A.化により光透過層の厚さをどの程度に設定すべきかを計算すると、まずレーザー光の波長λをλ=0.65μmとすると、N.A.は上記〔数1〕の結果式のN.A./λ≧1.20から、0.78以上であることが要求される。すなわちt≦288μmであることが導き出される。   Therefore, the skew margin Θ = 0.4 °, the laser light has a shorter wavelength, and the higher N.V. A. Assuming that the thickness of the light transmission layer should be set by the conversion, the wavelength λ of the laser beam is λ = 0.65 μm. A. Is N. of the result formula of the above [Equation 1]. A. From /λ≧1.20, 0.78 or more is required. That is, it is derived that t ≦ 288 μm.

また、レーザー光が短波長化し、λ=0.4μm程度となった場合、レンズの開口数については、N.A.≧0.78であるものとすると、光透過層の厚さtはt=177μmになる。この場合、基板の厚さが1.2mmであるCD等の製造設備を流用することを考慮すると、ディスク全体の厚さは最大約1.38mmとなる。   When the wavelength of the laser light is shortened to about λ = 0.4 μm, the numerical aperture of the lens is N.P. A. Assuming that ≧ 0.78, the thickness t of the light transmission layer is t = 177 μm. In this case, considering that a manufacturing facility such as a CD having a substrate thickness of 1.2 mm is used, the maximum thickness of the entire disk is about 1.38 mm.

また、MOの磁界変調を考慮すると、光透過層の厚さtはさらに薄くすることが要求され、例えば30μm以下に形成することにより、MOでの記録再生が容易になる。   In consideration of the magnetic field modulation of the MO, it is required to further reduce the thickness t of the light transmission layer. For example, by forming the light transmission layer to be 30 μm or less, recording / reproduction with the MO becomes easy.

一方、光透過層の厚さtの下限は、記録膜あるいは反射膜を保護する光透過層の保護機能によって決まり、信頼性や後に記述する2群レンズの衝突の影響を考慮すると10μm以上であることが望ましい。   On the other hand, the lower limit of the thickness t of the light transmission layer is determined by the protection function of the light transmission layer for protecting the recording film or the reflection film, and is 10 μm or more in consideration of the reliability and the impact of the collision of the second lens group described later. It is desirable.

上記のように記録密度を上げるためにはN.A./λの値を上げることが不可欠である。この場合、例えば記憶容量として8GBを達成させるために、少なくともN.A.を0.7以上とし、レーザーの波長λを0.68μm以下とすることが必要となる。また上記のように光透過層の厚さとスキューとの間には、上述した関係があるが、赤色レーザーから青色レーザーまで対応することを考慮して、光透過層の厚さは10〜177μmに設定するのが適切である。   In order to increase the recording density as described above, N.I. A. It is essential to increase the value of / λ. In this case, for example, in order to achieve 8 GB as the storage capacity, at least N.D. A. Is 0.7 or more and the wavelength λ of the laser is 0.68 μm or less. In addition, as described above, there is the above-described relationship between the thickness of the light transmission layer and the skew, but considering the correspondence from the red laser to the blue laser, the thickness of the light transmission layer is 10 to 177 μm. It is appropriate to set.

光学記録媒体において、8GBの記録容量を達成するためには、記録信号のトラックピッチPおよび線密度dを調整する必要がある。その条件としては、下記〔数2〕を満たすことが必要である。
[数2]
(0.74/P)×(0.267/d)×4.7≧8
すなわち、d≦0.1161/P(μm/bit)を満たせばよい。
In an optical recording medium, in order to achieve a recording capacity of 8 GB, it is necessary to adjust the track pitch P and the linear density d of the recording signal. As the condition, it is necessary to satisfy the following [Equation 2].
[Equation 2]
(0.74 / P) × (0.267 / d) × 4.7 ≧ 8
That is, d ≦ 0.1161 / P (μm / bit) may be satisfied.

トラックピッチP=0.56μmのとき、線密度d≦0.206μm/bitとなるが、これはDVDのROM(Read Only Memory) を基準にしており、記録再生の信号処理技術の進歩(具体的には、PRMLの適用や、ECCの冗長度を減らす等)を考慮すると、さらに15%程度の線密度の増加が見込まれ、その分トラックピッチPを増やすことが可能である。このことからトラックピッチPは最大で0.64μm程度とすることができる。   When the track pitch P = 0.56 μm, the linear density d ≦ 0.206 μm / bit, which is based on DVD ROM (Read Only Memory), and advances in signal processing technology for recording and reproduction (specifically In consideration of the application of PRML and the reduction of ECC redundancy, the line density is expected to increase by about 15%, and the track pitch P can be increased accordingly. Therefore, the track pitch P can be set to about 0.64 μm at the maximum.

さらに高密度記録媒体においては、トラックピッチ変動ΔPについても公差が厳しくなる。CDやDVDの記録再生パラメータをそのまま転用すると、DVDでのトラックピッチ0.74μm、公差±0.03から、下記〔数3〕のようになる。
[数3]
|ΔP|≦0.03P/0.74=0.04P
したがって、トラックピッチP=0.56とすると、|ΔP|≦0.023μmとなる。
Further, in a high-density recording medium, the tolerance for the track pitch fluctuation ΔP becomes severe. If the recording / reproducing parameters of CD and DVD are used as they are, the following [Equation 3] is obtained from the track pitch 0.74 μm and tolerance ± 0.03 on DVD.
[Equation 3]
| ΔP | ≦ 0.03P / 0.74 = 0.04P
Therefore, when the track pitch P = 0.56, | ΔP | ≦ 0.023 μm.

さらに光透過層の厚さむらΔtについても、さらなる高精度さが要求されるようになる。   Furthermore, higher accuracy is required also for the thickness unevenness Δt of the light transmission layer.

光透過層の厚さtが、再生用の対物レンズの設計中心からずれた場合、その厚さ誤差がスポットに与える収差量は、レンズの開口数N.A.の4乗に反比例し、またレーザー光の波長λに比例する。従って高N.A.化したり、または短波長化したりすることによって高密度記録化を図る場合には、その量(光透過層の厚さむらΔt)はさらに厳しく制限される。具体的なシステム例としてCDに関しては、N.A.=0.45が実用化されており光透過層の厚さの誤差規格は±100μmである。またDVDに関しては、N.A.=0.6が実用化されており、光透過層の厚さの誤差規格は±30μmであるとされている。ここで、CDでの光透過層の厚さの許容量±100μmを基準にすると、下記〔数4〕のようになる。
[数4]
Δt=±(0.45/N.A.)4 ×(λ/0.78)×100
=±5.26×(λ/N.A.4 )μm (N.A.は、開口数)
When the thickness t of the light transmission layer deviates from the design center of the reproduction objective lens, the aberration amount given to the spot by the thickness error is the numerical aperture of the lens. A. Is inversely proportional to the fourth power of and is proportional to the wavelength λ of the laser beam. Therefore, high N.I. A. In the case of achieving high-density recording by reducing the wavelength or shortening the wavelength, the amount (light transmission layer thickness unevenness Δt) is more strictly limited. As a specific system example, N.D. A. = 0.45 has been put into practical use, and the error standard of the thickness of the light transmission layer is ± 100 μm. As for DVD, N.I. A. = 0.6 is put into practical use, and the error standard of the thickness of the light transmission layer is ± 30 μm. Here, when the allowable amount of the light transmitting layer in the CD is ± 100 μm as a reference, the following [Equation 4] is obtained.
[Equation 4]
Δt = ± (0.45 / NA) 4 × (λ / 0.78) × 100
= ± 5.26 × (λ / NA 4 ) μm (NA is the numerical aperture)

ここで、光透過層厚さ100μm中心に対し、波長0.68μm、N.A.=0.875で光透過層の厚さ誤差とジッター値との関係について実験を行った結果を図1に示す。図1より、例えばDVDにおいてスキューなど摂動がない場合のジッター基準である8%になるところを見ると約±7μmであることがわかる。上式から導き出される数値は±6μmであり、この規格を満足するディスク媒体からは良好な信号が得られることになる。   Here, with respect to the center of the light transmission layer thickness of 100 μm, the wavelength is 0.68 μm, N.P. A. FIG. 1 shows the result of an experiment conducted on the relationship between the thickness error of the light transmission layer and the jitter value at 0.875. From FIG. 1, it can be seen that, for example, in the DVD, when the jitter reference is 8% when there is no perturbation such as skew, it is about ± 7 μm. The numerical value derived from the above equation is ± 6 μm, and a good signal can be obtained from a disk medium satisfying this standard.

したがって、高密度化に従い、光透過層厚さに許容されるむらΔtは、下記〔数5〕のようになる。
[数5]
|Δt|≦5.26×(λ/N.A.4 )μm
Therefore, the unevenness Δt allowed for the light transmission layer thickness as the density increases is expressed by the following [Equation 5].
[Equation 5]
| Δt | ≦ 5.26 × (λ / NA 4 ) μm

また、上述した光透過層厚さむら(Δt)は、記録再生用レーザー光が照射されるディスク表面内で、均一であることを前提としており、フォーカス点をずらすことによって収差補正可能である。ところが、この領域内(スポット内)でもし光透過層厚さむらがあるとフォーカス点の調整では補正できない。そしてこの量は厚さ中心値に対して±3λ/100以下に押さえる必要がある。   Further, the above-described uneven thickness (Δt) of the light transmission layer is assumed to be uniform within the disk surface irradiated with the recording / reproducing laser beam, and the aberration can be corrected by shifting the focus point. However, if there is unevenness in the thickness of the light transmission layer in this region (in the spot), it cannot be corrected by adjusting the focus point. This amount needs to be suppressed to ± 3λ / 100 or less with respect to the thickness center value.

さらに偏心Eに関してもDVDの50μmに対し、
E≦50×P/0.74=67.57P(μm)となる。
Furthermore, with respect to eccentricity E, for DVD 50μm,
E ≦ 50 × P / 0.74 = 67.57 P (μm).

以上より、記憶容量8GBの高密度を達成するための光学記録媒体に必要な条件をまとめると、以下のようになる。
記録再生光学系がλ≦0.68μmかつN.A./λ≧1.20をみたし、かつ、少なくとも情報信号部の形成領域において、
光透過層の膜厚t=10〜177μm
光透過層厚さむら|Δt|≦5.26( λ/N.A.4 )(μm)
トラックピッチP≦0.64μm
公差|ΔP|≦0.04Pμm
線密度d≦0.1161/P(μm/bit)
ディスクスキュー Θ≦84.115×(λ/N.A.3 /t)
偏心E≦67.57P(μm)
表面粗さ|Ra|≦3λ/100(スポット照射領域内)
From the above, the conditions necessary for the optical recording medium for achieving the high density of the storage capacity 8 GB are summarized as follows.
When the recording / reproducing optical system is λ ≦ 0.68 μm and A. /Λ≧1.20, and at least in the formation region of the information signal portion,
Light transmission layer thickness t = 10 to 177 μm
Light transmission layer thickness unevenness | Δt | ≦ 5.26 (λ / NA 4 ) (μm)
Track pitch P ≦ 0.64μm
Tolerance | ΔP | ≦ 0.04Pμm
Linear density d ≦ 0.1161 / P (μm / bit)
Disk skew Θ ≦ 84.115 × (λ / NA 3 / t)
Eccentric E ≦ 67.57P (μm)
Surface roughness | Ra | ≦ 3λ / 100 (in the spot irradiation area)

光学記録媒体を作製するためには、先ず、上述したような光学記録媒体に必要なスペックをみたすピッチおよびピッチむらを実現した転写用スタンパを用い、射出成形法にて基板を作製し、同時に情報信号を構成する微細凹凸を形成する。このようなピッチむらの少ない高精度スタンパは従来の送りをネジで行う構造では達成が困難である為、リニアモータによる送り構造をもった原盤露光装置で製造する。さらに光学系は空気の揺らぎを排除する為のカバーで覆うこととし、露光用レーザーの冷却水の振動を除去するため、レーザーと露光装置の間に防振材を設置する。   In order to manufacture an optical recording medium, first, a substrate is manufactured by an injection molding method using a transfer stamper that realizes a pitch and pitch unevenness satisfying the specifications necessary for the optical recording medium as described above. Fine irregularities constituting the signal are formed. Such a high-precision stamper with little pitch unevenness is difficult to achieve with a conventional structure in which the feed is performed with a screw, and is thus manufactured with a master exposure apparatus having a feed structure with a linear motor. Furthermore, the optical system is covered with a cover for eliminating air fluctuations, and a vibration isolating material is installed between the laser and the exposure apparatus in order to eliminate vibration of the cooling water of the exposure laser.

上記基板の情報信号面上に反射膜、または記録膜、あるいはこれらの両方を成膜する。本発明により作製される光学記録媒体においては、上記反射膜あるいは記録膜上に形成する光透過層側からレーザー光を照射して信号記録や再生を行うので、予めこれら反射膜または記録膜の成膜による信号形状の変形を考慮して、基板上にピットを形成する必要がある。   A reflective film, a recording film, or both are formed on the information signal surface of the substrate. In the optical recording medium produced according to the present invention, signal recording and reproduction are performed by irradiating a laser beam from the reflective film or the light transmitting layer formed on the recording film. It is necessary to form pits on the substrate in consideration of the deformation of the signal shape due to the film.

例えば10GB容量のROMの場合は、基板側から見たときの信号ピットのアシンメトリーが25%であるとすると、基板と反対側から見たときのアシンメトリーは10%である。即ち、本発明においては、基板側とは反対側からレーザー光を照射して信号の再生を行う為、例えば光照射側から見てアシンメトリー10%であるピットを形成する為には、基板に形成するピット形状をアシンメトリー25%にしておく必要がある。   For example, in the case of a ROM having a capacity of 10 GB, if the asymmetry of the signal pits when viewed from the substrate side is 25%, the asymmetry when viewed from the side opposite to the substrate is 10%. That is, in the present invention, a signal is reproduced by irradiating a laser beam from the side opposite to the substrate side. For example, in order to form a pit having an asymmetry of 10% when viewed from the light irradiation side, it is formed on the substrate. It is necessary to set the pit shape to be asymmetry 25%.

同様に記録ディスクに形成される案内用溝(グルーブ)に関しても記録膜でグルーブデューティが変化すること、例えばグルーブ記録(記録再生面からみて凹部への記録再生)の場合、溝が狭まるので、スタンパの形状を予め広めにしておく等の対応が必要となる。例えばランド/グルーブ記録の場合、光照射側から見て、ランドとグルーブの幅デューティ50%を得るためには、基板側からみて55〜65%に設定するのが好適である。   Similarly, with respect to the guide groove formed on the recording disk, the groove becomes narrower when the groove duty is changed by the recording film, for example, in the case of groove recording (recording / reproducing into the recess as viewed from the recording / reproducing surface), the stamper It is necessary to take measures such as widening the shape in advance. For example, in the case of land / groove recording, in order to obtain a land and groove width duty of 50% when viewed from the light irradiation side, it is preferable to set it to 55 to 65% when viewed from the substrate side.

なお基板は、単板でディスクを構成する場合、ある程度の剛性が要求される為0.6mm以上であることが望ましい。同様に、2枚貼り合わせた構造の場合は、一枚の基板はその半分である0.3mm以上であることが好適である。   The substrate is preferably 0.6 mm or more because a certain level of rigidity is required when the disk is formed of a single plate. Similarly, in the case of a structure in which two sheets are bonded together, it is preferable that one substrate is half or more, which is 0.3 mm or more.

上記のように基板を射出成形により作製した後は、図2に示すように、この基板10の情報信号部11上に記録膜または反射膜を成膜する。例えば目的とする光ディスクが、ROMの場合はAlなどの反射膜を20〜60nmの膜厚に成膜する。   After the substrate is manufactured by injection molding as described above, a recording film or a reflective film is formed on the information signal portion 11 of the substrate 10 as shown in FIG. For example, when the target optical disk is a ROM, a reflective film such as Al is formed to a thickness of 20 to 60 nm.

情報信号部11上に情報記録膜を形成する場合としては、例えば相変化型の光学記録媒体を作製するときには、例えばAl膜、ZnS−SiO2 膜、GeSbTe膜、ZnS−SiO2 膜を順次積層して成膜する。 When forming an information recording film on the information signal portion 11, for example, when producing a phase change type optical recording medium, for example, an Al film, a ZnS—SiO 2 film, a GeSbTe film, and a ZnS—SiO 2 film are sequentially laminated. To form a film.

また、目的とする光ディスクを光磁気ディスクとする場合には、例えばAl膜、SiN膜、TbFeCo膜、SiN膜を順次積層して成膜する。   When the target optical disk is a magneto-optical disk, for example, an Al film, a SiN film, a TbFeCo film, and a SiN film are sequentially stacked.

また、目的とする光ディスクを追記型ディスクとする場合には、Au膜またはAl膜をスパッタした後、シアニン系または、フタロシアニン系の有機色素膜をスピンコートで塗布し乾燥することによって成膜する。   When the target optical disk is a write-once disk, the film is formed by sputtering an Au film or an Al film, and then applying a cyanine or phthalocyanine organic dye film by spin coating and drying.

図2の例では、基板10側とは反対側の主面側から、記録再生用対物レンズLを通じて記録再生用のレーザー光Lの照射がなされる。   In the example of FIG. 2, the recording / reproducing laser beam L is irradiated through the recording / reproducing objective lens L from the main surface side opposite to the substrate 10 side.

次に図3に示すように、更にその上に紫外線硬化性樹脂で、光透過層12を形成する。すなわち、上述のように形成されるいずれかの構造の光ディスクにおける情報信号部上の成膜面に、液状の紫外線硬化性樹脂を滴下し、さらに回転延伸することにより光透過層12を形成する。紫外線硬化性樹脂の粘度としては、300cps以上3000cps以下のものが好適である。例えば、25℃で5800cpsの粘度の紫外線硬化性樹脂を適用した場合には、基板10上に紫外線硬化性樹脂を滴下した後、基板10を2000rpmで11秒間回転させることにより、最終的に100μm程度の光透過層12を形成することができる。   Next, as shown in FIG. 3, the light transmission layer 12 is further formed thereon with an ultraviolet curable resin. That is, the light transmissive layer 12 is formed by dropping a liquid ultraviolet curable resin on the film formation surface on the information signal portion of the optical disk having any structure formed as described above, and further rotating and stretching. The viscosity of the ultraviolet curable resin is preferably from 300 cps to 3000 cps. For example, when an ultraviolet curable resin having a viscosity of 5800 cps at 25 ° C. is applied, after dropping the ultraviolet curable resin on the substrate 10, the substrate 10 is rotated at 2000 rpm for 11 seconds, and finally about 100 μm. The light transmissive layer 12 can be formed.

ここで、光透過層12を形成する際、基板10の内周部分、例えば半径25mmの位置に紫外線硬化性樹脂を滴下し、回転延伸させると、遠心力と粘性抵抗との関係から光透過層12の厚さに内外周差が生じる。 この量は30μm以上にもなり、上述したような光透過層12の厚さの範囲を満たすことができなくなるおそれがある。   Here, when the light transmission layer 12 is formed, when an ultraviolet curable resin is dropped on the inner peripheral portion of the substrate 10, for example, at a position of a radius of 25 mm, and rotated and stretched, the light transmission layer is obtained from the relationship between centrifugal force and viscosity resistance. An inner / outer circumference difference occurs in the thickness of 12. This amount is 30 μm or more, and there is a possibility that the thickness range of the light transmission layer 12 as described above cannot be satisfied.

このような光透過層12の内外周差を回避するためには、基板10の中心孔13を何らかの手段を用いて埋めた状態で、紫外線硬化性樹脂滴下を行うことが有効である。例えば、0.1mmの厚さのポリカーボネートのシートを、直径Φが30mmの円形に加工し、基板10の中心部に接着した後、中心から紫外線硬化性樹脂を滴下し、回転延伸を行い、紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂が硬化し、その後、中心孔を打ち抜く方法が考えられる。このプロセスによれば、内外周差、すなわち光透過層12のうねりが10μmp−p(ピーク・トゥー・ピ−ク、以下において同じ)以内に低減された光透過層を得ることができた。   In order to avoid such a difference between the inner and outer peripheries of the light transmission layer 12, it is effective to perform the UV curable resin dripping while the center hole 13 of the substrate 10 is filled with some means. For example, a polycarbonate sheet having a thickness of 0.1 mm is processed into a circular shape having a diameter Φ of 30 mm and bonded to the center of the substrate 10. It is conceivable that the ultraviolet curable resin is cured by irradiating and then the center hole is punched out. According to this process, it was possible to obtain a light transmission layer in which the difference between the inner and outer circumferences, that is, the waviness of the light transmission layer 12 was reduced within 10 μmp-p (peak to peak, the same applies hereinafter).

なお、光透過層12を形成する際に、ディスク外周へはみ出すことが考えられるので、ディスクの径は、CD等の径(120mm)を基準として、120mm+5mmを最大値としておくことが望ましい。   Since the light transmission layer 12 may be formed to protrude to the outer periphery of the disk, it is desirable that the disk diameter has a maximum value of 120 mm + 5 mm on the basis of the diameter of a CD or the like (120 mm).

また、図4に示すように、例えば厚さ100μmのポリカーボネートのシート14を紫外線硬化性樹脂15を介して接着することにより、光透過層12を形成してもよい。この場合のシート14の厚さむらと接着用の紫外線硬化性樹脂15の厚さむらとの和が10μmp−p以下であればよい。例えば、基板10と同径に加工したシート14を接着用の紫外線硬化性樹脂15を介して基板10上に設置し、回転延伸させることにより、シート14が紫外線硬化性樹脂15の重しとなって極薄の紫外線硬化性樹脂の層が形成され、トータルの厚さむらを10μm以下、すなわち紫外線硬化性樹脂の層の厚さの最大値と最小値との差を10μm以下にすることができる。   As shown in FIG. 4, for example, the light transmission layer 12 may be formed by adhering a polycarbonate sheet 14 having a thickness of 100 μm via an ultraviolet curable resin 15. In this case, the sum of the unevenness of the thickness of the sheet 14 and the unevenness of the thickness of the ultraviolet curable resin 15 for bonding may be 10 μmp-p or less. For example, the sheet 14 processed to have the same diameter as the substrate 10 is placed on the substrate 10 via the UV curable resin 15 for bonding and rotated and stretched, so that the sheet 14 becomes a weight of the UV curable resin 15. And an ultra-thin UV curable resin layer is formed, and the total thickness unevenness can be 10 μm or less, that is, the difference between the maximum value and the minimum value of the UV curable resin layer can be 10 μm or less. .

また、上述の光学記録媒体の製造方法は、図5に示すように基板10に形成された第1の記録層17上に中間層16を介して第2の記録層18が形成された多層構造の光学記録媒体を作製する場合にも適用できる。   Further, the above-described method for manufacturing an optical recording medium has a multilayer structure in which the second recording layer 18 is formed on the first recording layer 17 formed on the substrate 10 via the intermediate layer 16 as shown in FIG. This can also be applied to the production of the optical recording medium.

また、上述した各構成の光ディスクにおいてはスキューが発生しやすいが、スキューを軽減する為に、図6に示すように、基板10上であって光透過層12形成面側とは反対の面側にスキュー補正部材19として紫外線硬化性樹脂を塗布することが有効である。この場合、スキュー補正部材19は光透過層12と同じ材料でコートしてもよいし、または、光透過層12の材料である紫外線硬化性樹脂よりも硬化収縮率の高い材料を薄く塗布してもよい。   In addition, the optical disk having each of the above-described structures is likely to cause skew, but in order to reduce the skew, as shown in FIG. 6, the surface side opposite to the light transmission layer 12 forming surface side on the substrate 10 In addition, it is effective to apply an ultraviolet curable resin as the skew correction member 19. In this case, the skew correction member 19 may be coated with the same material as the light transmission layer 12, or a material having a higher curing shrinkage than the ultraviolet curable resin that is the material of the light transmission layer 12 is thinly applied. Also good.

なお、上記のような高密度記録の光ディスクを記録再生するためには、後述する高いN.A.の対物レンズを有したピックアップが必要となる。この場合、対物レンズとディスク面との間の距離(以下、W.D.という。)を従来の距離に対して短くすることが望ましい。しかしながら、対物レンズとディスク面との間の距離を短くすると、対物レンズがディスク面に衝突してディスク表面を傷つけてしまうおそれがある。   In addition, in order to record / reproduce the above-described high-density recording optical disk, a high N.D. A. A pickup having the objective lens is required. In this case, it is desirable to make the distance between the objective lens and the disk surface (hereinafter referred to as WD) shorter than the conventional distance. However, if the distance between the objective lens and the disk surface is shortened, the objective lens may collide with the disk surface and damage the disk surface.

これを防止するために、図7に示すように光透過層12上に表面ハードコート(鉛筆硬度H以上)20を施すことが有効である。また光透過層12の厚さが薄くなると、ごみが付着した場合に信号再生不良を招来しやすくなるので、ハードコート20の材料としては、帯電防止の機能を具備するものが好適である。この帯電防止により光ディスク表面へのごみの吸着を防ぐことができ、信号不良を効果的に回避することができる。   In order to prevent this, it is effective to apply a surface hard coat (pencil hardness H or higher) 20 on the light transmission layer 12 as shown in FIG. Further, if the thickness of the light transmission layer 12 is reduced, a signal reproduction failure is likely to be caused when dust is attached. Therefore, a material having an antistatic function is preferable as the material of the hard coat 20. This antistatic can prevent dust from adhering to the surface of the optical disk, and can effectively avoid signal failure.

また、上述方法によって作製される光ディスクにおいては、測定光の波長を780nmとした場合、光透過層の面内複屈折量は、往復で平均15nm以下、周内変動が15nmp−pであることが好ましい。   Further, in the optical disk manufactured by the above method, when the wavelength of the measurement light is 780 nm, the in-plane birefringence amount of the light transmission layer is 15 nmp-p on average in the round trip and 15 nmp-p on the circumference. preferable.

上述方法により作製される光ディスクにおいて、例えば厚さ100μmのポリカーボネートのシートを用いて光透過層を形成した場合であって、情報記録層を相変化膜とした場合に記録再生実験を行った。この場合、線密度が0.21μm/bitでジッター8%が得られた。また、このような光ディスクの複屈折量を測定した。この測定結果を図23に示す。図23において、横軸は半径方向の位置(mm)を示し、縦軸は複屈折量(nm)を示す。図23においては、その分布を縦方向の線分で表示し、各線分を横切る横線分位置が平均値となる。この複屈折量は、往復で平均15nm以下、周内変動は15nmp−p以下とすることができた。   In the optical disk manufactured by the above-described method, a recording / reproducing experiment was performed when the light transmission layer was formed using a polycarbonate sheet having a thickness of 100 μm, for example, and the information recording layer was a phase change film. In this case, a jitter of 8% was obtained at a linear density of 0.21 μm / bit. Further, the birefringence amount of such an optical disk was measured. The measurement results are shown in FIG. In FIG. 23, the horizontal axis indicates the radial position (mm), and the vertical axis indicates the birefringence amount (nm). In FIG. 23, the distribution is displayed as vertical line segments, and the position of the horizontal line segment crossing each line segment is an average value. The amount of birefringence was 15 nm or less on average in the round trip, and the fluctuation in the circumference could be 15 nmp-p or less.

また、上述方法により作製される光ディスクにおいて、光透過層12を液状光硬化性樹脂を情報記録部11上に塗布し、回転延伸した後、光硬化することにより形成した場合であって、情報記録層を相変化膜とした場合に同様の記録再生実験を行った。この場合、線密度が0.21μm/bitでジッター7%が得られた。また、このような光ディスクの複屈折量を測定した。この測定結果を図24に示す。図24において、横軸は半径方向の位置(mm)を示し、縦軸は複屈折量(nm)を示す。図24においては、その分布を縦方向の線分で表示し、各線分を横切る横線分位置が平均値となる。この複屈折量は、光透過層をポリカーボネートシートにより形成した場合よりもさらに少なくすることができ、往復で平均5nm以下、周内変動は5nmp−p以下とすることができた。   Further, in the optical disk manufactured by the above-described method, the light transmission layer 12 is formed by applying a liquid photocurable resin on the information recording unit 11, rotating and then photocuring, and information recording. A similar recording / reproducing experiment was conducted when the layer was a phase change film. In this case, a jitter of 7% was obtained at a linear density of 0.21 μm / bit. Further, the birefringence amount of such an optical disk was measured. The measurement results are shown in FIG. In FIG. 24, the horizontal axis indicates the radial position (mm), and the vertical axis indicates the birefringence amount (nm). In FIG. 24, the distribution is displayed as vertical line segments, and the horizontal line segment positions crossing each line segment are average values. The amount of birefringence can be further reduced as compared with the case where the light transmission layer is formed of a polycarbonate sheet, and the average of the reciprocation is 5 nm or less, and the variation in the circumference can be 5 nmp-p or less.

このように上述方法によって作製される光ディスクは、従来のCDやDVDの面内複屈折量が100nmであることと比較しても安定した優れた特性を有することがわかる。   Thus, it can be seen that the optical disc manufactured by the above-described method has stable and excellent characteristics even when compared with the conventional CD or DVD having an in-plane birefringence of 100 nm.

また、上述方法によって作製される光学記録媒体においては、各種記録膜の形成面にシラン処理を施したものとしてもよい。シラン処理を施すことにより、光透過層12を形成する際に用いる紫外線硬化性樹脂と、各種記録膜との密着性を向上させることができる。   Moreover, in the optical recording medium produced by the above-mentioned method, the surface on which various recording films are formed may be subjected to silane treatment. By performing the silane treatment, it is possible to improve the adhesion between the ultraviolet curable resin used when forming the light transmission layer 12 and various recording films.

また、上述方法によって作製される光学記録媒体においては、光透過層12の表面に、反射防止膜を例えばスパッタ等の方法で形成してものとしてもよい。この反射防止膜の屈折率Nは、光透過層12の屈折率よりも低いものであることが望ましく、また、この反射防止膜の厚さは、記録再生を行う光の波長をλとした場合に、(λ/3)/n(nm)以下、好ましくは(λ/4)/n(nm)程度とすることが望ましい。   Further, in the optical recording medium manufactured by the above-described method, an antireflection film may be formed on the surface of the light transmission layer 12 by a method such as sputtering. The refractive index N of the antireflection film is desirably lower than the refractive index of the light transmission layer 12, and the thickness of the antireflection film is such that the wavelength of light for recording and reproduction is λ. In addition, it is desirable to set it to (λ / 3) / n (nm) or less, preferably about (λ / 4) / n (nm).

上述方法によって作製される光学記録媒体のように、レンズの開口数N.A.を高いものに対応したものとすると、記録再生用のレーザー光の入射角も大きくなり、これにより光透過層12の表面における光の反射が無視できなくなる。例えば、N.A.=0.45の場合には、記録再生光の入射角は、26.7°、N.A.=0.6の場合には、36.9°となる。   Like the optical recording medium produced by the above method, the numerical aperture of the lens A. If the height corresponds to a high value, the incident angle of the recording / reproducing laser beam also increases, so that the reflection of light on the surface of the light transmission layer 12 cannot be ignored. For example, N.I. A. = 0.45, the incident angle of the recording / reproducing light is 26.7 °, N.P. A. In the case of = 0.6, the angle is 36.9 °.

ここで、N.A.=0.8の場合には、記録再生光の入射角は、53.1°にもなり、光の反射の影響が大きくなる。すなわち光透過層12の表面における光の反射率は、記録再生用のレーザー光の入射角に依存していることが確かめられており、光透過層12の屈折率が例えば1.52の場合には、s偏光成分の表面反射率は15%を越える。(キノメレスグリオ株式会社出版「レーザーアンドオプティクスガイド」の168頁参照)この場合、光量の損失という問題を生じるとともに実効N.A.の低下をもたらす。このような問題を回避するために光透過層12の表面には、反射防止膜を形成することが有効である。   Here, N.I. A. In the case of = 0.8, the incident angle of the recording / reproducing light becomes 53.1 °, and the influence of light reflection becomes large. That is, it has been confirmed that the light reflectance at the surface of the light transmission layer 12 depends on the incident angle of the recording / reproducing laser beam, and when the refractive index of the light transmission layer 12 is 1.52, for example. The surface reflectance of the s-polarized component exceeds 15%. (Refer to page 168 of “Laser and Optics Guide” published by Kinomeres Grio Co., Ltd.) A. Bring about a decline. In order to avoid such a problem, it is effective to form an antireflection film on the surface of the light transmission layer 12.

反射防止膜の材料には、光透過層12の屈折率を1.52とした場合には、光学的に屈折率が1.23程度のものを用いることが理想であることが知られている(共立出版 光学技術シリーズ11 光学薄膜 第28頁参照)。しかし工業的には、例えばMgF2 が用いられる。MgF2 の屈折率nは1.38である。記録再生用のレーザー光の波長を650nmとすると、MgF2 よりなる反射防止膜の厚さは、(λ/4)/n(nm)の式に各数値を代入することにより、約120nmの厚さに形成することが好ましいことがわかる。 It is known that it is ideal to use an optical material having a refractive index of about 1.23 as the material of the antireflection film when the refractive index of the light transmission layer 12 is 1.52. (See page 28 of Kyoritsu Publishing Optical Technology Series 11 Optical thin film). However, industrially, for example, MgF 2 is used. The refractive index n of MgF 2 is 1.38. When the wavelength of the laser beam for recording / reproducing is 650 nm, the thickness of the antireflection film made of MgF 2 is about 120 nm by substituting each numerical value into the formula of (λ / 4) / n (nm). It can be seen that it is preferable to form it.

ところで、光透過層12の表面における光の反射量は、反射防止膜の厚さを0から(λ/4)/n(nm)の範囲で減少させていくと、(λ/4)/n(nm)とした場合に最少となることが確かめられている。一方、反射防止膜の厚さが(λ/4)/n(nm)を越えると光の反射量は増大し、(λ/2)/n(nm)となったときに最大となることも確かめられている。このことから、反射防止膜の厚さは、工業上に成膜技術も考慮し、また、実用上(λ/3)/n(nm)以下であれば良いことが確認された。   By the way, the amount of reflection of light on the surface of the light transmission layer 12 is (λ / 4) / n when the thickness of the antireflection film is decreased from 0 to (λ / 4) / n (nm). It has been confirmed that the minimum is (nm). On the other hand, when the thickness of the antireflection film exceeds (λ / 4) / n (nm), the amount of reflected light increases, and may be maximized when (λ / 2) / n (nm). It has been confirmed. From this, it was confirmed that the thickness of the antireflection film should be not more than (λ / 3) / n (nm) practically in consideration of the film forming technique industrially.

上述したように光透過層12の表面に反射防止膜を形成したとき、例えば屈折率1.52の光透過層12上に反射防止膜としてMgF2 を単層で(λ/4)/n(nm)の厚さに形成したとき、記録再生用のレーザー光として550nmのものを使用した場合には、記録再生用のレーザー光の入射角が60°程度までは、50%以上の光量の低減を防止することができる(キノメレスグリオ株式会社出版「レーザーアンドオプティクスガイド」の174頁参照)。 As described above, when the antireflection film is formed on the surface of the light transmission layer 12, for example, a single layer of MgF 2 as an antireflection film on the light transmission layer 12 having a refractive index of 1.52 (λ / 4) / n ( When the laser beam for recording / reproducing is 550 nm, the amount of light is reduced by 50% or more until the incident angle of the laser beam for recording / reproducing is about 60 °. (See page 174 of “Laser and Optics Guide” published by Kinomeres Grio Co., Ltd.).

上述の光学記録媒体の製造方法は、単板構造のディスクのみならず、図8に示すような、最終的に得る基板10の半分の厚さの2枚の基板51、52を、2枚貼り合わせて、両面に情報信号記録部を有するいわゆる両面構造の光学記録媒体を作製する場合にも適用できる。この場合、厚さ0.6mmの基板51,52に、最大170μmの光透過層12を形成して貼り合わせるので、ディスクの厚さは(0.6+0.17)×2+(接着層の厚さ)となり、接着層の厚さを0.06mmとすると、ディスクの厚さは1.60mmとなる。また、図9に示すように、1枚の基板50の両面に情報信号記録面と光透過層12を有するようないわゆる両面構造の光学記録媒体を作製する場合にも適用できる。   The optical recording medium manufacturing method described above is not only a single-plate disc, but also two substrates 51 and 52 that are half the thickness of the finally obtained substrate 10 as shown in FIG. In addition, the present invention can also be applied to the case where a so-called double-sided optical recording medium having information signal recording portions on both sides is produced. In this case, since the light transmission layer 12 having a maximum thickness of 170 μm is formed and bonded to the substrates 51 and 52 having a thickness of 0.6 mm, the thickness of the disk is (0.6 + 0.17) × 2 + (thickness of the adhesive layer). When the thickness of the adhesive layer is 0.06 mm, the disc thickness is 1.60 mm. Further, as shown in FIG. 9, the present invention can be applied to a case where an optical recording medium having a so-called double-sided structure in which an information signal recording surface and a light transmission layer 12 are provided on both surfaces of a single substrate 50.

次に、本発明の光学記録媒体の製造方法の具体的な適用例を説明する。図10に示すように、押し出し成形、またはキャスト法で作られた例えば100μm厚さのポリカーボネートのシート40を用意し、このシート40のガラス転移点よりも高い温度に熱せられたスタンパー41上に設置し、かつローラー42に圧力をかけてこれらを圧着させる。この場合の圧力は、たとえば280Kgfとすることができる。   Next, a specific application example of the method for producing an optical recording medium of the present invention will be described. As shown in FIG. 10, a polycarbonate sheet 40 having a thickness of, for example, 100 μm made by extrusion molding or casting method is prepared, and placed on a stamper 41 heated to a temperature higher than the glass transition point of the sheet 40. In addition, pressure is applied to the roller 42 to press-bond them. The pressure in this case can be set to 280 Kgf, for example.

この操作により、図11に示すように、シート40上にスタンパー41の情報ピットあるいは案内溝を転写することができる。そしてこれを冷却した後、スタンパー41からシート40を剥離することによって、例えば100μmの膜厚の薄板基板43が得られる。   By this operation, the information pits or guide grooves of the stamper 41 can be transferred onto the sheet 40 as shown in FIG. And after cooling this, the sheet | seat 40 is peeled from the stamper 41, and the thin board | substrate 43 with a film thickness of 100 micrometers is obtained, for example.

続いて、上述したような製造工程と同様に、記録膜や反射膜を成膜することによって、最終的に目的とする薄型の光学記録媒体を作製することができる。   Subsequently, similarly to the manufacturing process as described above, a target thin optical recording medium can be finally produced by forming a recording film and a reflective film.

また、この図11に示した薄板基板43を用いて、多層構造の光学記録媒体を作製することもできる。   In addition, an optical recording medium having a multilayer structure can be manufactured using the thin plate substrate 43 shown in FIG.

先ず、図12に示すように、スタンパー141上に液状紫外線硬化性樹脂60を滴下し、図11において示した薄板基板43を記録層側を液状紫外線硬化性樹脂60に接触させて設置する。   First, as shown in FIG. 12, the liquid ultraviolet curable resin 60 is dropped on the stamper 141, and the thin plate substrate 43 shown in FIG. 11 is placed with the recording layer side in contact with the liquid ultraviolet curable resin 60.

このように、図13に示すように、液状光硬化性樹脂を介して回転基台61上に配置した状態で薄板基板が重ね合わされたスタンパー141を回転させて、液状紫外線硬化性樹脂60を延伸し、所要の厚さ、例えば20μmとし、その後、図14に示すように薄板基板43側からランプ62により紫外線を照射し、液状紫外線硬化性樹脂60を硬化させる。   In this way, as shown in FIG. 13, the liquid UV curable resin 60 is stretched by rotating the stamper 141 on which the thin plate substrates are stacked while being arranged on the rotating base 61 through the liquid photocurable resin. Then, the required thickness, for example, 20 μm is set, and thereafter, the ultraviolet ray is irradiated from the thin plate substrate 43 side by the lamp 62 as shown in FIG.

図15に示すように、薄板基板43と、例えば20μmの厚さの光硬化された紫外線硬化性樹脂60を一体として、スタンパー141から剥離する。   As shown in FIG. 15, the thin plate substrate 43 and the photocured ultraviolet curable resin 60 having a thickness of, for example, 20 μm are integrally peeled off from the stamper 141.

上述のようにして、スタンパー141により紫外線硬化性樹脂60に転写された微細凹凸上に、例えばSi化合物や、Al、Au等の金属薄膜を成膜することにより各種記録膜を形成することができる。   As described above, various recording films can be formed by depositing, for example, a metal thin film such as a Si compound, Al, or Au on the fine irregularities transferred to the ultraviolet curable resin 60 by the stamper 141. .

また、更に図12〜図15を用いて説明した工程を繰り返し行うことによって、3層以上の光ディスクを作製することもできる。   Further, by repeating the steps described with reference to FIGS. 12 to 15, an optical disc having three or more layers can be manufactured.

上述のようにして得られた記録膜上に、図16に示すように例えば射出成形によって得られた基板10を紫外線硬化性樹脂を介して例えば20μmの間隔をもって貼り合わせることにより、剛性の高い光ディスクを作製することができる。   On the recording film obtained as described above, as shown in FIG. 16, a substrate 10 obtained by, for example, injection molding is bonded with an ultraviolet curable resin at an interval of, for example, 20 μm, thereby providing a highly rigid optical disc. Can be produced.

また、図17に示すように、最終的に得られた記録膜上に例えばAl,Au等の高反射膜70を成膜し、さらに保護膜71を形成することにより、多層構造の薄型の光ディスクを作製することができる。この場合、記録層の層数をNとしたとき、最終的に得られる光ディスクの厚さは、薄板基板43の厚さ、例えば100μmと、各層間の紫外線硬化性樹脂層のN倍の厚さと、高反射膜70と保護膜71の厚さ、例えば5μmとの和となる。すなわち、例えば各層間の紫外線硬化性樹脂層の厚さを20μmとし高反射膜70と保護膜71の厚さを5μmとした場合であって、4層構造の光ディスクを作製したとき、光ディスク全体としては185μmの厚さになる。しかし、このようにして得られる光ディスクは剛性が非常に低いので、薄板基板43側に、剛性を有する厚板を貼り合わせて支持するとか、記録再生時において高速回転によってフレキシブルな光ディスクがフラットになることを利用して記録再生を行う等の工夫が必要となる。   Further, as shown in FIG. 17, a thin optical disk having a multilayer structure is formed by forming a highly reflective film 70 of, for example, Al or Au on the finally obtained recording film and further forming a protective film 71. Can be produced. In this case, when the number of recording layers is N, the thickness of the finally obtained optical disk is as follows: the thickness of the thin plate substrate 43, for example, 100 μm, and the thickness N times that of the ultraviolet curable resin layer between the layers. The thickness of the high reflection film 70 and the protective film 71 is, for example, the sum of 5 μm. That is, for example, when the thickness of the ultraviolet curable resin layer between each layer is 20 μm and the thickness of the high reflection film 70 and the protective film 71 is 5 μm, when an optical disk having a four-layer structure is manufactured, Becomes a thickness of 185 μm. However, since the optical disk obtained in this way is very low in rigidity, a flexible optical disk is flattened by attaching a thick plate having rigidity to the thin substrate 43 side, or by high-speed rotation during recording and reproduction. Therefore, it is necessary to devise such as recording and reproduction using the above.

上記において説明した各記録層間の厚さの例の20μmという数値は、最終的に得られる光ディスクの層数と、この光ディスクを記録再生するピックアップのレンズの可動距離とで決定される。例えば、レンズの可動距離すなわち2群レンズの間隔が50μmである場合には、図18に示すように基板10と薄板基板43とを50μmの間隔で紫外線硬化性樹脂を介して貼り合わせればよく、また、図19に示すように3層構造の光ディスクを作製する場合には、薄板基板43と基板10との間に、25μmの間隔で記録層を挟んで形成すればよい。   The numerical value of 20 μm in the example of the thickness between the recording layers described above is determined by the number of layers of the optical disk finally obtained and the movable distance of the pickup lens for recording / reproducing the optical disk. For example, when the movable distance of the lens, that is, the distance between the two group lenses is 50 μm, the substrate 10 and the thin plate substrate 43 may be bonded via an ultraviolet curable resin at an interval of 50 μm as shown in FIG. Further, when a three-layered optical disk is manufactured as shown in FIG. 19, a recording layer may be formed between the thin plate substrate 43 and the substrate 10 with an interval of 25 μm.

また、上述の本発明の光学記録媒体の製造方法においては、上述した構造の光ディスクの他、図20に示すように、薄板基板43と、例えば射出成形で作成した例えば1.1mmの厚さのディスク形状基板50とを、紫外線硬化性樹脂を介して貼り合わせて圧着し、この基板側から紫外線を照射する事により接着するようにしてもよい。   Further, in the method for manufacturing an optical recording medium of the present invention described above, in addition to the optical disk having the structure described above, as shown in FIG. 20, a thin plate substrate 43 and a thickness of, for example, 1.1 mm made by injection molding are used. The disk-shaped substrate 50 may be bonded and bonded via an ultraviolet curable resin and bonded by irradiating ultraviolet rays from the substrate side.

また、本発明においては、図21に示すように、射出成形によって両面に記録層を形成する微細凹凸が転写された基板50と、薄板基板43とを、紫外線硬化性樹脂を介して貼り合わせて圧着し、薄板基板43側から紫外線を照射して接着して、最終的に4層構造の光ディスクとしてもよい。   Further, in the present invention, as shown in FIG. 21, a substrate 50 on which fine irregularities forming recording layers on both sides are transferred by injection molding and a thin substrate 43 are bonded together via an ultraviolet curable resin. The optical disc may be bonded and irradiated with ultraviolet rays from the thin plate substrate 43 side to finally form an optical disc having a four-layer structure.

次に、基板上に形成されるピット、またはグルーブの深さについて説明する。以下において、光透過層の屈折率nとする。最も変調度が得られるピットまたはグルーブの深さは(λ/4)/nであり、ROM等はこの深さに設定する。   Next, the depth of pits or grooves formed on the substrate will be described. Hereinafter, the refractive index n of the light transmission layer is used. The depth of the pit or groove that can obtain the maximum degree of modulation is (λ / 4) / n, and the ROM or the like is set to this depth.

また、グルーブ記録やランド記録において、プッシュプルでトラッキングエラー信号を得ようとする場合、プッシュプル信号はピットまたはランドの深さが(λ/8)/nのときに最大となる。   In addition, in groove recording or land recording, when trying to obtain a tracking error signal by push-pull, the push-pull signal becomes maximum when the pit or land depth is (λ / 8) / n.

さらに、ランド/グルーブ記録において、グルーブ深さはサーボ信号の特性とともに、クロストークやクロスイレースの特性を考慮すべきであり、実験的にはクロストークは(λ/6)/n〜(λ/3)/nが最小になり、クロスイレースは深い方が影響が少ないことが確認されている。また、グルーブ傾き等を考慮し、両特性を満足させようとすると、(3λ/8)/nが最適となる。本発明製造方法により作製される高密度記録の光学記録媒体は、上記深さの範囲内で適用可能である。   Further, in the land / groove recording, the groove depth should consider the characteristics of the crosstalk and the cross erase as well as the characteristics of the servo signal. Experimentally, the crosstalk is (λ / 6) / n to (λ / 3) It has been confirmed that / n is minimized and that the cross erase has a less influence when it is deeper. In addition, (3λ / 8) / n is optimum when both characteristics are satisfied in consideration of the groove inclination and the like. The optical recording medium for high-density recording produced by the production method of the present invention can be applied within the above depth range.

次に高N.A.を実現させる記録再生の実施例について説明する。図22は、光ディスクと記録再生用レンズの構成を示す。   High N. A. A description will be given of an example of recording / reproducing that realizes the above. FIG. 22 shows the configuration of an optical disc and a recording / reproducing lens.

第1のレンズ31と光ディスク21との間に第2のレンズ32を配置する。この2群レンズ構成にすることで、N.A.を0.7以上にすることが可能となり、第2のレンズ32の第1面32aと光ディスク21の表面との間隔(W.D.)を狭くすることができる。また、第1のレンズ31及び第2のレンズ32の第1面31a、第2面31b、第3面32a、及び第4面32bは夫々非球面形状にすることが望ましい。   A second lens 32 is disposed between the first lens 31 and the optical disc 21. By adopting this two-group lens configuration, N.I. A. Can be made 0.7 or more, and the distance (WD) between the first surface 32a of the second lens 32 and the surface of the optical disc 21 can be reduced. The first surface 31a, the second surface 31b, the third surface 32a, and the fourth surface 32b of the first lens 31 and the second lens 32 are preferably aspherical.

この2群レンズを用いることにより、上述した光ディスクの高密度記録再生を行うことが可能となる。   By using this two-group lens, it is possible to perform high-density recording / reproduction of the optical disk described above.

光透過層の厚さ誤差によるジッター値の変化の関係を示す。The relationship of the change of the jitter value by the thickness error of a light transmissive layer is shown. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の光ディスクの概略断面図を示す。1 is a schematic cross-sectional view of an optical disc as an example of an embodiment of an optical recording medium of the present invention. B本発明光学記録媒体の実施の形態の例の光ディスクの概略断面図を示す。B shows a schematic cross-sectional view of an optical disc as an example of an embodiment of the optical recording medium of the present invention. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の光ディスクの概略断面図を示す。1 is a schematic cross-sectional view of an optical disc as an example of an embodiment of an optical recording medium of the present invention. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の光ディスクの概略断面図を示す。1 is a schematic cross-sectional view of an optical disc as an example of an embodiment of an optical recording medium of the present invention. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の光ディスクの概略断面図を示す。1 is a schematic cross-sectional view of an optical disc as an example of an embodiment of an optical recording medium of the present invention. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の光ディスクの概略断面図を示す。1 is a schematic cross-sectional view of an optical disc as an example of an embodiment of an optical recording medium of the present invention. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の光ディスクの概略断面図を示す。1 is a schematic cross-sectional view of an optical disc as an example of an embodiment of an optical recording medium of the present invention. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の光ディスクの概略断面図を示す。1 is a schematic cross-sectional view of an optical disc as an example of an embodiment of an optical recording medium of the present invention. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の光ディスクの作製工程図を示す。The manufacturing process figure of the optical disk of the example of embodiment of the optical recording medium of this invention is shown. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の多層光ディスクを構成する薄板基板の概略断面図を示す。1 is a schematic cross-sectional view of a thin plate substrate constituting a multilayer optical disc as an example of an embodiment of the optical recording medium of the present invention. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の多層光ディスクの作製工程図を示す。The manufacturing process figure of the multilayer optical disk of the example of embodiment of the optical recording medium of this invention is shown. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の多層光ディスクの作製工程図を示す。The manufacturing process figure of the multilayer optical disk of the example of embodiment of the optical recording medium of this invention is shown. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の多層光ディスクの作製工程図を示す。The manufacturing process figure of the multilayer optical disk of the example of embodiment of the optical recording medium of this invention is shown. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の光ディスクの作製工程図を示す。The manufacturing process figure of the optical disk of the example of embodiment of the optical recording medium of this invention is shown. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の光ディスクの概略断面図を示す。1 is a schematic cross-sectional view of an optical disc as an example of an embodiment of an optical recording medium of the present invention. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の光ディスクの概略断面図を示す。1 is a schematic cross-sectional view of an optical disc as an example of an embodiment of an optical recording medium of the present invention. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の2層構造の光ディスクの概略断面図を示す。1 is a schematic sectional view of an optical disc having a two-layer structure as an example of an embodiment of an optical recording medium of the present invention. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の3層構造の光ディスクの概略断面図を示す。1 is a schematic sectional view of an optical disk having a three-layer structure as an example of an embodiment of the optical recording medium of the present invention. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の光ディスクの概略断面図を示す。1 is a schematic cross-sectional view of an optical disc as an example of an embodiment of an optical recording medium of the present invention. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の光ディスクの概略断面図を示す。1 is a schematic cross-sectional view of an optical disc as an example of an embodiment of an optical recording medium of the present invention. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の光ディスクに対して記録、あるいは再生する光学系に用いる2群レンズの構成図を示す。FIG. 2 shows a configuration diagram of a two-group lens used in an optical system for recording or reproducing with respect to an optical disc of an example of an embodiment of the optical recording medium of the present invention. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の光ディスクの光透過層の複屈折量の測定結果を示す。The measurement result of the birefringence amount of the light transmission layer of the optical disk of the example of the embodiment of the optical recording medium of the present invention is shown. 本発明光学記録媒体の実施の形態の例の光ディスクの光透過層の複屈折量の測定結果を示す。The measurement result of the birefringence amount of the light transmission layer of the optical disk of the example of the embodiment of the optical recording medium of the present invention is shown.

符号の説明Explanation of symbols

10,50,51,52 基板、11 情報信号部、12 光透過層、13 中心孔、14 シート、15 紫外線硬化性樹脂、16 中間層、17第1の記録層、18 第2の記録層、19 スキュー補正部材、20 ハードコート、21 光ディスク、31 第1のレンズ、32 第2のレンズ、40 シート、41,141 スタンパー、42 ローラー、43 薄板基板、60 液状紫外線硬化性樹脂、61 回転基台、62ランプ、70 高反射膜、71 保護膜   10, 50, 51, 52 Substrate, 11 Information signal portion, 12 Light transmission layer, 13 Center hole, 14 Sheet, 15 UV curable resin, 16 Intermediate layer, 17 First recording layer, 18 Second recording layer, 19 skew correction member, 20 hard coat, 21 optical disc, 31 first lens, 32 second lens, 40 sheet, 41, 141 stamper, 42 roller, 43 thin plate substrate, 60 liquid ultraviolet curable resin, 61 rotating base 62 lamps, 70 highly reflective films, 71 protective films

Claims (2)

レーザー光が入射する側の面に、少なくとも二以上の情報信号部と、光透過層とを具備する光学記録媒体の製造方法であって、
射出成形によって基板の表面に第1の情報信号部形成する工程と、
上記基板上に第1の反射膜を形成する工程と、
上記第1の反射膜上に上記基板の中心孔を埋めた状態で、中心から紫外線硬化性樹脂を滴下し、当該紫外線硬化樹脂を介してスタンパーを接触させて、回転延伸し、硬化させることによって上記スタンパーの情報ピットあるいは案内溝が転写され第2の情報信号部を有する紫外線硬化樹脂層を形成する工程と、
上記紫外線硬化樹脂層上に第2の反射膜を形成する工程と、
上記第2の反射膜上に保護層を形成する工程と、
を有する光学記録媒体の製造方法
A method of manufacturing an optical recording medium comprising at least two information signal portions and a light transmission layer on a surface on which laser light is incident,
Forming a first information signal portion on the surface of the substrate by injection molding,
Forming a first reflective film on the substrate;
In a state where the central hole of the substrate is filled on the first reflective film, an ultraviolet curable resin is dropped from the center, a stamper is brought into contact with the ultraviolet curable resin, and the film is rotationally stretched and cured. forming an ultraviolet-curing resin layer having a second information signal portion information pits or guide grooves of the stamper have been transferred,
Forming a second reflective film on the ultraviolet curable resin layer;
Forming a protective layer on the second reflective film;
A method for producing an optical recording medium comprising :
上記第1の情報信号部と上記第2の情報信号部、上記情報信号部の層数とピックアップレンズの可動距離とに応じた間隔に設け
請求項1に記載の光学記録媒体の製造方法
The first information signal portion and the second information signal section, the method of manufacturing an optical recording medium according to claim 1, Ru provided in intervals corresponding to the movable range of the number of layers and the pickup lens of said information signal portion .
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