JP2003006846A - Defect detection method and defect detection apparatus - Google Patents

Defect detection method and defect detection apparatus

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JP2003006846A
JP2003006846A JP2001185275A JP2001185275A JP2003006846A JP 2003006846 A JP2003006846 A JP 2003006846A JP 2001185275 A JP2001185275 A JP 2001185275A JP 2001185275 A JP2001185275 A JP 2001185275A JP 2003006846 A JP2003006846 A JP 2003006846A
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JP
Japan
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defect
substrate
defects
disk
main surface
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JP2001185275A
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Kazuya Suzuki
一也 鈴木
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Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To decide whether the defect generated on the surface of a substrate is the defect that arises from the defect existing on a prescribed pattern or not, in the substrate which is manufactured so that a repeated pattern is transferred on the major surface. SOLUTION: A plurality of substrates in which a prescribed pattern is transferred are manufactured using an injection molding device for transferring a stamper on which the prescribed pattern is formed, by performing the step of manufacturing the disk substrates one after another. After the formation of magnetic films on the plural disk substrate, the defects existing on the surfaces of the disks 1, 2, and 3 are detected, and the fixed defects 4 existing at approximately the same positions each other are extracted by the detection result of the defects existing on the major surfaces of the three disks 1, 2, and 3, respectively. The fixed defects 4 are separated from random defects 1b, 2b, and 3b, on each of the major surfaces of the disks 1, 2, and 3, by extracting the fixed defects 4 from each of the disks 1, 2, and 3.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、欠陥検出方法お
よび欠陥検出装置に関し、特に、ハードディスク装置に
用いられる磁気ディスクに適用して好適なものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a defect detection method and a defect detection device, and is particularly suitable for application to a magnetic disk used in a hard disk device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、コンピュータシステムにおいて
は、磁気ディスク装置としてハードディスク装置が用い
られている。そして、このハードディスク装置には磁気
ディスクが内蔵されており、その磁気ディスクの両表面
に磁性膜が成膜されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, hard disk devices have been used as magnetic disk devices in computer systems. A magnetic disk is built in this hard disk device, and magnetic films are formed on both surfaces of the magnetic disk.

【0003】また、この磁気ディスクに対して、磁気デ
ィスクの表面上を浮上するヘッドスライダに搭載されて
いる磁気ヘッドにより、磁性膜にトラック状にデータな
どの記録が行われる。また、再生の場合には、磁性膜に
トラック状に記録されたデータが、磁気ヘッドにより再
生される。
Further, with respect to this magnetic disk, data or the like is recorded in a track shape on a magnetic film by a magnetic head mounted on a head slider flying above the surface of the magnetic disk. Further, in the case of reproduction, the data recorded in a track shape on the magnetic film is reproduced by the magnetic head.

【0004】このようなハードディスク装置において
は、従来、装置自体の小型化および記録容量の大容量化
が望まれており、近年、さらに低価格化も望まれてきて
いる。
In such a hard disk device, it has been conventionally desired that the device itself be downsized and the recording capacity be increased, and in recent years, further cost reduction is also desired.

【0005】このハードディスク装置の低価格化の要求
に応えるために、磁気ディスク基板を、コンパクトディ
スク(CD)などと同様に、プラスチックなどを射出成
形することにより形成する方法が提案されている。磁気
ディスク基板を、このようにプラスチックを成形して製
造することによって、従来のアルミニウム(Al)など
からなる磁気ディスク基板の製造に比して、大量で、か
つ安価にディスク基板を製造することが可能となる。
In order to meet the demand for lowering the price of this hard disk device, a method has been proposed in which a magnetic disk substrate is formed by injection molding of plastic or the like like a compact disk (CD). By manufacturing the magnetic disk substrate by molding the plastic in this way, it is possible to manufacture the disk substrate in a large amount and at a low cost, as compared with the conventional magnetic disk substrate made of aluminum (Al) or the like. It will be possible.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述のプラ
スチックからなる磁気ディスク基板を射出成形法により
製造する場合、最終的に製造された磁気ディスク表面に
欠陥が存在し、エラーが生じる場合がある。そこで、こ
のような欠陥を検査するために、製造された磁気ディス
クを種々検査したところ、エラーの発生が確認されてい
るにもかかわらず、異物などの欠陥原因が検出されない
という問題があった。
However, when the above-mentioned magnetic disk substrate made of plastic is manufactured by the injection molding method, a defect may exist on the surface of the finally manufactured magnetic disk and an error may occur. Therefore, in order to inspect such defects, various manufactured magnetic disks were inspected, and there was a problem that the cause of defects such as foreign particles could not be detected although the occurrence of errors was confirmed.

【0007】そこで、本発明者が、この、エラーの発生
が確認されているにもかかわらず欠陥原因が検出されず
特定できない部分に関して種々検討を行ったところ、そ
れらのエラーの発生が特定の位置に生じていることを知
見するに至った。そして、本発明者がさらなる鋭意検討
を行ったところ、これらのエラーの発生原因となる欠陥
が連続して行われる射出成形時に発生することを想起し
た。
Therefore, the present inventor has made various studies on the portion where the cause of the defect cannot be detected and cannot be specified even though the occurrence of the error has been confirmed. It came to discover that it is occurring in. As a result of further diligent study by the inventor of the present invention, it was remembered that defects causing these errors occur during injection molding performed continuously.

【0008】すなわち、図13Aに示すように、射出成
形においては、金型101の主面101aにスタンパ1
02を取り付けた後、図13Bに示すように、スタンパ
102が取り付けられた金型101を用いて、複数枚の
ディスク基板103a,103b,103c,103d
を成形する。このとき、製造される複数のディスク基板
103a〜103dの表面に欠陥104a,104bが
発生する場合がある。
That is, as shown in FIG. 13A, in injection molding, the stamper 1 is attached to the main surface 101a of the mold 101.
After attaching 02, a plurality of disc substrates 103a, 103b, 103c, 103d are used by using a die 101 to which a stamper 102 is attached, as shown in FIG. 13B.
To mold. At this time, defects 104a and 104b may occur on the surfaces of the plurality of manufactured disk substrates 103a to 103d.

【0009】これらの欠陥104a,104bは、それ
ぞれスタンパ102表面に存在する欠陥102a,10
2bに起因する。そのため、スタンパ102の表面に存
在する欠陥102a,102bを検査し、除去すること
により、これらの欠陥102a,102bに起因するデ
ィスク基板103a〜103d表面の欠陥を抑制する方
法が考えられる。具体的には、スタンパ102の表面の
欠陥102a,102bが凸形状の欠陥である場合、成
形されるディスク基板103a〜103dの表面には、
凹形状の欠陥が生じてしまう。また、スタンパ102の
表面の欠陥が凹形状である場合、成形されるディスク基
板103a〜103dの表面には、凸形状の欠陥が生じ
てしまう。
These defects 104a and 104b are the defects 102a and 10 existing on the surface of the stamper 102, respectively.
Due to 2b. Therefore, a method is conceivable in which defects 102a and 102b existing on the surface of the stamper 102 are inspected and removed to suppress defects on the surfaces of the disk substrates 103a to 103d due to these defects 102a and 102b. Specifically, when the defects 102a and 102b on the surface of the stamper 102 are convex defects, the surfaces of the disk substrates 103a to 103d to be molded have:
A concave defect will occur. In addition, when the surface of the stamper 102 has a concave shape, a convex shape defect is generated on the surface of the disk substrates 103a to 103d to be molded.

【0010】このように、ディスク基板103a〜10
3dの表面に欠陥104a,104bが存在した場合、
これらのディスク基板103a〜103dを用いたハー
ドディスク装置において、エラーが生じる可能性があ
る。具体的には、ディスク基板103a〜103dのそ
れぞれの表面に凸形状の欠陥が存在した場合、ハードデ
ィスク装置において書き込み/読み出しを行う際に、こ
の凸形状の欠陥にMRヘッドなどの磁気ヘッドが接触し
て、クラッシュする可能性がある。他方、ディスク基板
103a〜103dの表面に凹形状の欠陥が存在した場
合、ハードディスク装置において書き込み/読み出しを
行う際に、この凹形状の欠陥の部分でサーマルアスピリ
ティエラー(TAエラー)などのエラーが発生する。
In this way, the disk substrates 103a-10a
If defects 104a and 104b are present on the surface of 3d,
An error may occur in a hard disk device using these disk substrates 103a to 103d. Specifically, when a convex defect exists on each surface of the disk substrates 103a to 103d, a magnetic head such as an MR head comes into contact with the convex defect when writing / reading in the hard disk device. And can crash. On the other hand, when a concave defect exists on the surface of the disk substrate 103a to 103d, an error such as a thermal aspirity error (TA error) occurs at the concave defect portion when writing / reading in the hard disk device. Occur.

【0011】これらのエラーの発生を防止するために
は、ディスク基板の欠陥の発生を防止する必要がある。
また、ディスク基板103a〜103dを射出成形法に
より成形する場合には、射出成形時に用いられるスタン
パ102表面の欠陥を防止する必要がある。これらの欠
陥を防止するためには、スタンパ102表面に存在する
欠陥の検出を行う必要がある。
In order to prevent the occurrence of these errors, it is necessary to prevent the occurrence of defects on the disk substrate.
Further, when the disk substrates 103a to 103d are molded by the injection molding method, it is necessary to prevent defects on the surface of the stamper 102 used during the injection molding. In order to prevent these defects, it is necessary to detect the defects existing on the surface of the stamper 102.

【0012】ところが、このスタンパ102の表面に発
生した欠陥を検出する場合、スタンパ102自体の欠陥
は、光学顕微鏡などを用いて目視で検査されている。そ
して、近年のハードディスクにおける高密度化を考慮す
ると、スタンパ102表面の全面を目視によって検査す
ることは、非常に時間を要してしまう。これは、スタン
パ102表面の1μm程度の欠陥をあらかじめ検出する
欠陥検出装置が存在しないためである。また、スタンパ
102の表面欠陥を検出可能な光学的な欠陥検出装置が
開発可能であったとしても、この装置自体が非常に高価
になってしまう。そのため、欠陥を容易に検出でき、安
価な検出装置の実現は困難であった。
However, when detecting a defect generated on the surface of the stamper 102, the defect of the stamper 102 itself is visually inspected using an optical microscope or the like. In consideration of the recent increase in the density of hard disks, visually inspecting the entire surface of the stamper 102 requires a very long time. This is because there is no defect detection device that detects a defect of about 1 μm on the surface of the stamper 102 in advance. Further, even if an optical defect detecting device capable of detecting the surface defect of the stamper 102 can be developed, this device itself becomes very expensive. Therefore, it is difficult to easily detect a defect and to realize an inexpensive detection device.

【0013】また、本発明者の知見によれば、図14A
および図14Bに示すように、ディスク基板103a〜
103dの成形中においても、スタンパ102表面に異
物が付着したり、くぼみなどが生じたりして、新たな欠
陥102cが発生する場合がある。このような場合、ス
タンパ102表面に異物が付着した後に成形されるディ
スク基板103e,103f,103g,103hのそ
れぞれの表面に新たな欠陥104cが生じてしまう。デ
ィスク基板の射出成形プロセス中にスタンパ102表面
に生じた欠陥102cを検出するためには、射出成形装
置を停止させてディスク基板の製造を停止する必要があ
る。これは、ディスク基板の製造における遅延原因とな
り、ひいてはコストの増加を招いてしまう。
Further, according to the knowledge of the present inventor, FIG.
And as shown in FIG. 14B, the disk substrates 103a-
Even during the molding of 103d, a new defect 102c may occur due to foreign matter adhering to the surface of the stamper 102 or a depression or the like. In such a case, a new defect 104c will occur on the surface of each of the disk substrates 103e, 103f, 103g, 103h that are molded after foreign matter has adhered to the surface of the stamper 102. In order to detect the defect 102c generated on the surface of the stamper 102 during the injection molding process of the disk substrate, it is necessary to stop the injection molding apparatus and stop the manufacturing of the disk substrate. This causes a delay in the manufacture of the disc substrate, which in turn causes an increase in cost.

【0014】そこで、本発明者が検討を行った結果、デ
ィスク基板の製造を停止することなく、スタンパ表面の
欠陥を検出するには、成型されたディスク基板の表面を
実際に検出することによって、スタンパに起因する欠陥
を検出する方法が望ましいことを想起した。
Therefore, as a result of the study by the present inventor, in order to detect defects on the stamper surface without stopping the manufacture of the disk substrate, by actually detecting the surface of the molded disk substrate, Recall that a method of detecting defects due to stampers is desirable.

【0015】しかしながら、従来のディスク基板の欠陥
検査においては、ディスク基板表面に生じた欠陥が、ス
タンパ表面の欠陥に起因するものか、材料自体に起因す
るものか、搬送などの際に生じたものか、またはその他
の原因に起因するものかを判別することは非常に困難で
あった。これは、いずれの欠陥もそれぞれ同様の欠陥と
して検出されるため、ディスク基板表面の欠陥のうち、
スタンパ表面の欠陥に起因する欠陥を抽出することが困
難であることに起因する。
However, in the conventional defect inspection of the disk substrate, whether the defect generated on the surface of the disk substrate is caused by the defect on the stamper surface, the material itself, or the transportation is caused. It has been very difficult to determine whether it is due to other causes. This is because all defects are detected as similar defects, so among the defects on the disk substrate surface,
This is because it is difficult to extract defects due to defects on the stamper surface.

【0016】すなわち、一般に、磁気ディスク基板の製
造プロセスにおいてはサーティファイと呼ばれる電磁変
換特性のチェックを行う工程が存在する。このサーティ
ファイのチェックを行う工程においては、ディスク表面
の欠陥検査も行っている。このディスク表面の欠陥検査
は、磁気ヘッドを用いて、ディスクに実際に記録/再生
(書き込み/読み出し)を行い、その再生信号に基づい
て、ディスク表面の欠陥検査が行われる。この欠陥検査
においては、半径情報やセクタ情報などから得られる位
置に、ミッシングエラーやエクストラエラーなどの、ど
のようなエラーが発生したかが情報として提供される。
これにより、ディスク表面の欠陥によるエラーは、どの
ようなエラーであっても、互いに同等のエラー情報とし
て提供される。そのため、エラーの発生の原因となる、
ディスク表面のそれぞれの欠陥が、所定のパターン表面
に存在する欠陥に起因した欠陥であるか否かを確定する
ことは、非常に困難であった。
That is, generally, in the manufacturing process of the magnetic disk substrate, there is a step called "certify" for checking the electromagnetic conversion characteristics. In the process of checking the certification, a defect inspection of the disk surface is also performed. In this defect inspection of the disk surface, recording / reproduction (writing / reading) is actually performed on the disk using a magnetic head, and the defect inspection of the disk surface is performed based on the reproduction signal. In this defect inspection, what kind of error such as a missing error or an extra error has occurred at a position obtained from the radius information or the sector information is provided as information.
As a result, any error due to a defect on the disk surface is provided as error information equivalent to each other. Therefore, it causes an error,
It was very difficult to determine whether or not each defect on the disk surface is a defect caused by a defect existing on the surface of a predetermined pattern.

【0017】したがって、この発明の目的は、主面に、
繰り返しパターンが転写されて製造される基板におい
て、その表面に生じる欠陥が、所定パターンに存在する
欠陥に起因した欠陥であるか否かを確定可能な欠陥検出
方法および欠陥検出装置を提供することにある。
Therefore, the main object of the present invention is to
To provide a defect detection method and a defect detection device capable of determining whether or not a defect generated on a surface of a substrate manufactured by transferring a repetitive pattern is a defect caused by a defect existing in a predetermined pattern. is there.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】本発明者は、従来技術が
有する上述の課題を解決すべく、鋭意検討を行った。以
下にその概要を説明する。
The inventor of the present invention has made extensive studies in order to solve the above problems of the prior art. The outline will be described below.

【0019】本発明者の知見によれば、表面に欠陥が存
在するスタンパによって連続的に成型された複数のディ
スク基板は、互いに、それらの表面の同位置に同様の欠
陥が転写される。そのため、成型されたディスク基板表
面の欠陥を検査することによって、スタンパ表面の欠陥
を検出することが可能となる。
According to the knowledge of the present inventor, a plurality of disk substrates continuously molded by a stamper having a defect on the surface have similar defects transferred to the same position on their surfaces. Therefore, it becomes possible to detect the defect on the stamper surface by inspecting the defect on the molded disk substrate surface.

【0020】このような観点から、本発明者は、所定パ
ターンを有するスタンパなどを用いて、複数の基板に所
定パターンを転写する際に、基板表面に生じた欠陥のう
ち、複数の基板表面の同位置に存在する欠陥を抽出する
ことにより、所定パターンの表面に存在する欠陥に起因
する欠陥を確定可能となることを想起するに至った。
From such a viewpoint, the present inventor uses a stamper having a predetermined pattern or the like to transfer a predetermined pattern to a plurality of substrates, and among defects generated on the substrate surface, It came to the mind that it is possible to determine a defect caused by a defect existing on the surface of a predetermined pattern by extracting a defect existing at the same position.

【0021】したがって、上記目的を達成するために、
この発明の第1の発明は、基板の表面に所定パターンを
転写する工程を繰り返し行うことにより、所定パターン
が転写された基板を複数枚製造した後、基板の表面に存
在する欠陥を検出するようにした欠陥検出方法であっ
て、基板の主面に存在する欠陥の検出結果から、少なく
とも2枚の基板におけるそれぞれの主面上で互いにほぼ
等しい位置に存在する欠陥を抽出するようにしたことを
特徴とするものである。
Therefore, in order to achieve the above object,
A first aspect of the present invention is to detect a defect existing on the surface of a substrate after manufacturing a plurality of substrates on which a predetermined pattern is transferred by repeating a step of transferring a predetermined pattern onto the surface of the substrate. In the defect detection method described above, the defects existing at substantially equal positions on each of the main surfaces of at least two substrates are extracted from the detection results of the defects existing on the main surfaces of the substrates. It is a feature.

【0022】この発明の第2の発明は、基板表面に所定
パターンを転写する工程を繰り返し行うことにより所定
パターンが転写された、複数の基板の一主面に存在する
欠陥を検出可能に構成された欠陥検出装置であって、基
板の主面に存在する欠陥の検出結果から、少なくとも2
枚の基板におけるそれぞれの主面上で互いにほぼ等しい
位置に存在する欠陥を抽出可能に構成されていることを
特徴とするものである。
A second aspect of the present invention is configured so that a defect existing on one main surface of a plurality of substrates, to which the predetermined pattern is transferred, can be detected by repeating the step of transferring the predetermined pattern onto the substrate surface. The defect detection device has at least 2 from the detection result of the defects existing on the main surface of the substrate.
The present invention is characterized in that defects existing at positions substantially equal to each other on respective main surfaces of one substrate can be extracted.

【0023】この発明において、典型的には、欠陥の検
出結果から、複数の基板におけるそれぞれの一主面上で
互いにほぼ等しい位置に存在する欠陥を抽出することに
より、基板の一主面に存在する欠陥から、ランダムに存
在する欠陥を分離する。
In the present invention, typically, from the detection result of the defects, the defects existing at the positions substantially equal to each other on one main surface of each of the plurality of substrates are extracted so as to be present on the one main surface of the substrate. Randomly existing defects are separated from the existing defects.

【0024】この発明において、典型的には、所定パタ
ーンの転写が連続的に行われる。
In the present invention, typically, transfer of a predetermined pattern is continuously performed.

【0025】この発明において、典型的には、基板は、
射出成形法により製造されたものである。そして、基板
の欠陥は、射出成形法において用いられる転写面の欠陥
に起因する欠陥である。
In the present invention, typically the substrate is
It is manufactured by the injection molding method. The substrate defect is a defect caused by a defect on the transfer surface used in the injection molding method.

【0026】この発明において、典型的には、基板は平
面円環形状を有する。そして、典型的には、平面円環形
状の基板の一主面に存在する欠陥の位置を検出可能に構
成されている。そして、好適には、平面円環形状の基板
の一主面における欠陥を、基板の中心からの半径と任意
の基準からの位相とにより確定する。また、この第2の
発明において、典型的には、平面円環形状を有する基板
がハードディスク基板である。
In the present invention, the substrate typically has a planar annular shape. Then, typically, the position of the defect existing on one main surface of the planar annular substrate is configured to be detectable. Then, preferably, the defect on the one main surface of the planar annular substrate is determined by the radius from the center of the substrate and the phase from an arbitrary reference. In the second aspect of the invention, typically, the substrate having a planar annular shape is a hard disk substrate.

【0027】この発明において、典型的には、基板の主
面に少なくとも1層の金属膜を成膜した後に、欠陥を検
出可能に構成されている。また、この発明において、好
適には、基板の主面からの隆起高さが10nm以上の欠
陥を検出する。
In the present invention, typically, at least one layer of metal film is formed on the main surface of the substrate, and then the defect can be detected. Further, in the present invention, preferably, a defect having a protrusion height of 10 nm or more from the main surface of the substrate is detected.

【0028】この発明において、典型的には、基板は熱
可塑性樹脂からなる。
In the present invention, the substrate is typically made of a thermoplastic resin.

【0029】この発明において、典型的には、基板の主
面に存在する欠陥の検出結果から、少なくとも3枚の基
板におけるそれぞれの主面上で、互いにほぼ等しい位置
に存在する欠陥を抽出することにより、所定パターン表
面の欠陥の位置を特定する。
In the present invention, typically, from the detection results of the defects existing on the main surface of the substrate, the defects existing at substantially equal positions on each main surface of at least three substrates are extracted. Thus, the position of the defect on the surface of the predetermined pattern is specified.

【0030】この発明において、固定欠陥とは、複数の
基板表面にそれぞれ存在する欠陥のうち、欠陥の位置が
互いに同じ位置、すなわち複数の基板表面においてほぼ
同じ半径でほぼ同じ位相に位置する欠陥である。また、
ランダム欠陥とは、基板表面に存在する欠陥から、固定
欠陥を除いた欠陥である。本発明者の知見によれば、こ
の固定欠陥にも2種類の固定欠陥に分けることができ
る。すなわち、転写を行う前からあらかじめ所定パター
ン表面に存在していた欠陥に起因する種類のものと、繰
り返し転写を行う間に、所定パターン表面に付着した異
物などによって生じた欠陥に起因する種類のものであ
る。
In the present invention, the fixed defect is a defect in which the positions of the defects are the same among the defects existing on the surfaces of the plurality of substrates, that is, the defects having substantially the same radius and the same phase on the surfaces of the plurality of substrates. is there. Also,
A random defect is a defect obtained by removing fixed defects from defects existing on the substrate surface. According to the knowledge of the present inventor, this fixed defect can also be divided into two types of fixed defects. That is, the kind caused by a defect existing on the surface of the predetermined pattern before the transfer is performed, and the kind caused by a defect caused by a foreign substance adhered to the surface of the predetermined pattern during the repeated transfer. Is.

【0031】上述のように構成されたこの発明によれ
ば、複数の基板のそれぞれの基板に順次所定パターンが
転写され、それらの基板の主面に存在する欠陥の検出結
果から、少なくとも3枚の基板におけるそれぞれの主面
上で互いにほぼ等しい位置に存在する欠陥を抽出してい
ることにより、所定パターンの転写時に基板表面に生じ
た欠陥を検出することができ、所定パターン自体の表面
に存在する欠陥を検出するようにする。
According to the present invention configured as described above, a predetermined pattern is sequentially transferred to each of a plurality of substrates, and at least three sheets are detected from the detection result of defects existing on the main surfaces of the substrates. By extracting the defects existing at substantially the same position on each main surface of the substrate, it is possible to detect the defects generated on the surface of the substrate during the transfer of the predetermined pattern, and the defects exist on the surface of the predetermined pattern itself. Try to detect defects.

【0032】[0032]

【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施形態につ
いて図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施形
態の全図においては、同一または対応する部分には同一
の符号を付す。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In all the drawings of the following embodiments, the same or corresponding parts are designated by the same reference numerals.

【0033】まず、この発明の一実施形態による欠陥検
出方法について説明する。図1はこの一実施形態による
ハードディスクの製造プロセスを示し、図2および図3
に、この一実施形態による検査が行われるディスクを示
す。なお、この一実施形態による欠陥検出方法において
は、3枚のディスク基板を用いて固定欠陥の検出を行
う。
First, a defect detecting method according to an embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 shows a manufacturing process of a hard disk according to this embodiment, and FIGS.
FIG. 3 shows a disc to be inspected according to this embodiment. In the defect detection method according to this embodiment, fixed defects are detected using three disk substrates.

【0034】すなわち、図1に示すように、まず、ステ
ップST1において、射出成形装置に、例えばプラスチ
ック材料からなる樹脂を供給し、ステップST2におい
て、所定のスタンパを用いて射出成形を行う。これによ
り、プラスチック材料からなる平面円環形状のディスク
基板が製造される。その後、ステップST3において、
アニール処理を行う。次に、ステップST4において、
例えばスパッタリング法などの物理気相成長法(PVD
法)や、各種の化学気相成長(CVD)法などにより、
ディスク基板の表面に磁性体膜を成膜する。その後、磁
気ヘッドとの接触摩擦を低減するために、磁性体膜表面
に潤滑剤を成膜することにより、潤滑層を形成する。以
上により、ハードディスク基板が製造される。
That is, as shown in FIG. 1, first, in step ST1, a resin made of, for example, a plastic material is supplied to the injection molding apparatus, and in step ST2, injection molding is performed using a predetermined stamper. As a result, a flat annular disk substrate made of a plastic material is manufactured. Then, in step ST3,
Anneal treatment is performed. Next, in step ST4,
For example, a physical vapor deposition method such as a sputtering method (PVD
Method) and various chemical vapor deposition (CVD) methods,
A magnetic film is formed on the surface of the disk substrate. Then, in order to reduce the contact friction with the magnetic head, a lubricant is formed on the surface of the magnetic film to form a lubricating layer. Through the above steps, the hard disk substrate is manufactured.

【0035】次に、ステップST5において、ステップ
ST2で同一のスタンパにより形成された3枚のディス
ク1,2,3に対して、欠陥検査を行う。
Next, in step ST5, defect inspection is performed on the three disks 1, 2, 3 formed by the same stamper in step ST2.

【0036】すなわち、図2に示すように、まず、同一
の金型から射出成形法により製造されたディスク1,
2,3の表面に対し、光学的ディスク表面欠陥検査機、
またはサーティファイヤーなどのディスク欠陥検査装置
を用いて検査を行う。これにより、ディスク1,2,3
のそれぞれの表面においてそれぞれ欠陥1a,2a,3
aが検出される。この一実施形態においては、ディスク
1,2,3に対して、欠陥検査装置としてCF評価機な
どを用いて、それぞれの欠陥検査を行う。
That is, as shown in FIG. 2, first, a disc 1 manufactured by an injection molding method from the same mold.
Optical disc surface defect inspection machine for a few surfaces,
Alternatively, the inspection is performed using a disk defect inspection device such as a certifier. As a result, the disks 1, 2, 3
Defects 1a, 2a, 3 on the respective surfaces of
a is detected. In this embodiment, each defect inspection is performed on the disks 1, 2, and 3 by using a CF evaluator or the like as a defect inspection device.

【0037】そして、これらの欠陥の発生位置を2次元
データに変換する。この一実施形態において欠陥の発生
位置Eの2次元データは、ディスク1,2,3の半径方
向における欠陥位置を半径情報rとし、ディスク1,
2,3の所定の半径からの角度を角度情報(位相情報)
θとして表す。すなわち、ディスク上における欠陥発生
位置EiをEi(ri,θi)(n=1,2,・・・,n、
nは欠陥個数)の、いわゆる極座標を用いて表す。な
お、この欠陥情報における角度情報θの基準点はディス
ク表面の任意の位置であるが、後述する固定欠陥の発生
位置は、個々のディスクに対して固定であるため、その
位相関係が相互のディスクにおいて変化することはな
い。
Then, the positions where these defects are generated are converted into two-dimensional data. In this one embodiment, the two-dimensional data of the defect generation position E is obtained by setting the defect position in the radial direction of the disks 1, 2, and 3 as radius information r.
Angle information (phase information) from a predetermined radius of 2 or 3
Expressed as θ. That is, the defect occurrence position E i on the disk is calculated as E i (r i , θ i ) (n = 1, 2, ..., N,
n is the number of defects), which is expressed using the so-called polar coordinates. The reference point of the angle information θ in this defect information is an arbitrary position on the disk surface, but the fixed defect occurrence position, which will be described later, is fixed with respect to each disk, so that the phase relationship between them is mutual. There is no change in.

【0038】次に、以上のようにして検出された複数の
欠陥から、固定欠陥を抽出する方法について説明する。
なお、この一実施形態による固定欠陥の検出において
は、ディスク1を基準とする。
Next, a method of extracting fixed defects from the plurality of defects detected as described above will be described.
In the detection of the fixed defect according to this embodiment, the disk 1 is used as a reference.

【0039】まず、この基準となるディスク1とディス
ク2とにおける欠陥のマッチング処理を行う。すなわ
ち、ディスク1における欠陥発生位置Ei(ri,θi
(i=1,2,・・・,n、nはディスク1表面の欠陥
個数)と、ディスク2における欠陥発生位置Ej(rj
θj)(j=1,2,・・・,m、mはディスク2表面
の欠陥個数)との位置整合(マッチング)を行う。な
お、このマッチング処理の際には、欠陥検査における欠
陥発生位置情報の測定誤差を考慮し、Δr,Δθを考慮
して、マッチングを行う。
First, a defect matching process is performed on the reference disk 1 and disk 2. That is, the defect occurrence position E i (r i , θ i ) on the disk 1
(I = 1, 2, ..., N, n is the number of defects on the surface of the disk 1), and the defect occurrence position E j (r j , on the disk 2)
θ j ) (j = 1, 2, ..., M, where m is the number of defects on the surface of the disk 2) is aligned. In the matching process, the matching is performed in consideration of the measurement error of the defect occurrence position information in the defect inspection, and in consideration of Δr and Δθ.

【0040】具体的には、ディスク1表面の欠陥が存在
する位置の半径方向のマッチング条件として、 ri−Δr<rj<ri+Δr・・・(1) (Δr:ディスクの偏芯量を含む半径方向のずれ量のマ
ージン)が成立している場合に、半径位置のマッチング
がとれているものとする。
Specifically, as a radial matching condition of a position where a defect exists on the surface of the disk 1, r i −Δr <r j <r i + Δr (1) (Δr: eccentricity of the disk It is assumed that the radial position matching is achieved when a margin of the deviation amount in the radial direction including) is established.

【0041】また、円周方向のマッチング条件として、 θi−Δθ<θj<θi+Δθ・・・(2) (Δθ:ディスクの円周方向のずれ量のマージン)が成
立している場合に、角度位置のマッチングがとれている
ものとする。
Further, as the matching condition in the circumferential direction, θ i −Δθ <θ ji + Δθ (2) (Δθ: margin of deviation amount in the circumferential direction of the disk) is satisfied. In addition, it is assumed that the angular positions are matched.

【0042】そして、欠陥発生位置Eiと欠陥発生位置
jとのうちの、上式の(1)および(2)を満たす欠
陥がマッチングした欠陥であると判断する。そして、デ
ィスク1表面の欠陥1aとディスク2表面の欠陥2aと
のマッチングした欠陥の個数を計測する。
Then, it is judged that the defects satisfying the above expressions (1) and (2) among the defect occurrence positions E i and E j are the matched defects. Then, the number of matching defects of the defect 1a on the surface of the disk 1 and the defect 2a on the surface of the disk 2 is measured.

【0043】その後、ディスク2のすべての欠陥2a
を、ディスク2の中心を回転中心として、微小角度だけ
回転させる(図2B中、矢印方向)。この一実施形態に
おいては、1ステップは、円周を1024等分した角
度、すなわち360°/1024の微小角度回転させる
ものとする。なお、この360°/1024を、1セク
タとする。そして、1ステップ回転させるごとに、上述
したマッチング処理を行い、上式の(1)および(2)
がともに成立した欠陥の個数を計測する。
After that, all defects 2a on the disk 2
Is rotated by a minute angle with the center of the disk 2 as the center of rotation (in the direction of the arrow in FIG. 2B). In this embodiment, one step is to rotate the circumference by 1024 equal angles, that is, a minute angle of 360 ° / 1024. Note that this 360 ° / 1024 is one sector. Then, the above-mentioned matching processing is performed every time one step rotation is performed, and (1) and (2)
Measure the number of defects that both are satisfied.

【0044】このようなステップ回転およびマッチング
処理を繰り返すことによって、最終的にディスク2を回
転中心の周りに1回転させる。このようにディスク2を
1回転させて、上式の(1)式および(2)式がともに
成立した欠陥の個数が最大となるステップ数を検出す
る。そして、上式の(1)式および(2)式がともに成
立した欠陥の個数が最大となるステップ数を検出するこ
とによって、ディスク1とディスク2との欠陥検査時に
生じる角度基準点の位相ずれの補正を行う。なお、この
ときのステップ数に応じた角度(セクタ番号)が、ディ
スク1とディスク2との角度基準点の位相差となる。
By repeating such step rotation and matching processing, the disk 2 is finally rotated once around the rotation center. In this way, the disk 2 is rotated once, and the number of steps that maximizes the number of defects satisfying the above expressions (1) and (2) is detected. Then, by detecting the number of steps that maximizes the number of defects for which the above equations (1) and (2) are both satisfied, the phase shift of the angle reference point that occurs during the defect inspection of the disk 1 and the disk 2 is detected. Is corrected. The angle (sector number) corresponding to the number of steps at this time is the phase difference between the angle reference points of the disk 1 and the disk 2.

【0045】また、図2Aに示すディスク1表面の欠陥
1aのうち、位相ずれの補正を行った後の図2Bに示す
ディスク2表面の欠陥2aとマッチングした欠陥1a
を、「×」で示し、マッチングしていない欠陥1aを
「○」で示す。そして、これらの対応関係を図2Aおよ
び図2Bにおいて破線の矢印により示す。この一実施形
態による図2Aに示すディスク1および図2Bに示すデ
ィスク2においては、相互に6個の欠陥がマッチングし
ている。
Of the defects 1a on the surface of the disk 1 shown in FIG. 2A, the defects 1a matched with the defects 2a on the surface of the disk 2 shown in FIG. 2B after the phase shift is corrected.
Is indicated by "x", and the unmatched defect 1a is indicated by "○". Then, these correspondences are shown by dashed arrows in FIGS. 2A and 2B. In the disc 1 shown in FIG. 2A and the disc 2 shown in FIG. 2B according to this embodiment, six defects are matched with each other.

【0046】次に、図2Cに示すように、ディスク3に
対しても、ディスク1の欠陥1aと比較して、上述と同
様のマッチング処理およびステップ回転を繰り返し行う
ことにより、位相補正を行う。すなわち、ディスク1に
おける欠陥発生位置Ei(ri,θi)(i=1,2,・
・・,n)と、ディスク3における欠陥発生位置E
k(rk,θk)(k=1,2,・・・,p、pはディス
ク3表面の欠陥個数)との、(1)式および(2)式に
おけるマッチング処理と、ステップ回転ごとのマッチン
グする欠陥の個数の計測とを繰り返し行い、一致する欠
陥の個数が最大となるときのステップ数を計測し、その
ステップ数に応じた角度を算出することにより、位相補
正を行う。なお、この位相補正は、ディスク3とディス
ク2との間で行うようにしても良い。
Next, as shown in FIG. 2C, the disk 3 is also subjected to the phase correction by comparing the defect 1a of the disk 1 with the same matching process and step rotation as described above. That is, the defect occurrence position E i (r i , θ i ) (i = 1, 2, ...
.., n) and the defect occurrence position E on the disk 3
Matching processing with k (r k , θ k ) (k = 1, 2, ..., P, p is the number of defects on the surface of the disk 3) in the expressions (1) and (2), and for each step rotation The measurement of the number of matching defects is repeatedly performed, the number of steps when the number of matching defects becomes maximum is measured, and the angle corresponding to the number of steps is calculated to perform the phase correction. Note that this phase correction may be performed between the disc 3 and the disc 2.

【0047】そして、以上のような位相補正を行って、
図3に示すように、ディスク1、ディスク2およびディ
スク3の位相を相互に一致させる。その後、ディスク
1,2,3において、(1)式および(2)式を満たす
とともに、それぞれに共通する欠陥を抽出する。このよ
うにしてディスク1,2,3において共通して検出され
た欠陥を、固定欠陥4とする。他方、ディスク1におい
て検出された複数の欠陥1aから固定欠陥4を除外した
欠陥を、ディスク1におけるランダム欠陥1bとし、デ
ィスク2およびディスク3においても同様に、それぞれ
の複数の欠陥2a、3aから固定欠陥4を除外した欠陥
を、それぞれランダム欠陥2b,3bとする。
Then, by performing the phase correction as described above,
As shown in FIG. 3, the phases of the disc 1, the disc 2, and the disc 3 are made to coincide with each other. After that, in the disks 1, 2, and 3, the equations (1) and (2) are satisfied, and defects common to each are extracted. The defect commonly detected in the disks 1, 2 and 3 in this manner is referred to as a fixed defect 4. On the other hand, a defect obtained by excluding the fixed defect 4 from the plurality of defects 1a detected in the disc 1 is set as a random defect 1b in the disc 1, and similarly in the disc 2 and the disc 3, the defects are fixed from the respective plurality of defects 2a and 3a. The defects excluding the defect 4 are referred to as random defects 2b and 3b, respectively.

【0048】以上により、ディスク1,2,3における
固定欠陥4が検出され、それぞれのディスク1,2,3
表面の欠陥1a,2a,3aから固定欠陥4を抽出する
ことにより、それぞれのディスク1,2,3において、
ランダム欠陥1b,2b,3bとの分離が行われる。
As described above, the fixed defect 4 on the disks 1, 2, 3 is detected, and the respective disks 1, 2, 3 are detected.
By extracting the fixed defect 4 from the surface defects 1a, 2a, 3a, in each of the disks 1, 2, 3
Separation from the random defects 1b, 2b, 3b is performed.

【0049】そして、以上のようにして固定欠陥4とラ
ンダム欠陥との分離が行われる。また、この固定欠陥4
の抽出を、連続的に行われる射出成形プロセスにおい
て、例えば3枚程度のディスクを抜き出して行うように
する。
Then, the fixed defect 4 and the random defect are separated as described above. Also, this fixed defect 4
Is extracted in a continuous injection molding process, for example, about 3 disks are extracted.

【0050】すなわち、射出成形プロセスにおいて、例
えば、1000ショット目前後のディスク、10000
ショット目前後のディスクおよび、100000ショッ
ト目前後のディスクなどの、所定のショットごとに射出
成形されたディスクの欠陥検査を行って、固定欠陥4の
抽出作業を行う。
That is, in the injection molding process, for example, a disk before and after the 1000th shot, 10000
The fixed defect 4 is extracted by performing a defect inspection of the injection-molded discs for each predetermined shot, such as the discs before and after the shot and the disc around the 100,000th shot.

【0051】このような、連続して行われる射出成形プ
ロセス中の固定欠陥4の抽出作業について、以下に具体
的に説明する。なお、この射出成形プロセス中に行われ
る固定欠陥の抽出の際のマージン、すなわち、上述の
(1)式における半径方向の位置ずれのマージンΔr
を、Δr=0.04mmとし、(2)式における円周方
向の位相ずれのマージンΔθを、Δθ=360°/10
24(この一実施形態による1ステップの回転角度、1
セクタ)とする。
The operation of extracting the fixed defects 4 during the injection molding process which is continuously performed will be described below in detail. It should be noted that the margin at the time of extraction of the fixed defect performed during this injection molding process, that is, the margin Δr of the positional deviation in the radial direction in the above-mentioned formula (1).
Is Δr = 0.04 mm, and the margin Δθ of the phase shift in the circumferential direction in the equation (2) is Δθ = 360 ° / 10
24 (1 step rotation angle according to this embodiment, 1
Sector).

【0052】そして、まず、一主面に所定のパターンを
有するスタンパを用いて、1000枚のディスクを製造
した際に、その前後の3枚のディスク(ディスクA0
ディスクB0、ディスクC0)に対して、それぞれの表面
の欠陥検査を行う。このときの欠陥検査の検出結果を図
4に示す。なお、欠陥の存在位置の角度情報に関して
は、1周を0〜1023までの1024等分した際のセ
クタ情報とし、この欠陥の検出の段階においては、任意
の角度基準点からの角度とする。
First, when 1000 disks were manufactured using a stamper having a predetermined pattern on one main surface, three disks (disk A 0 , disk A 0 ,
The surface of each of the disks B 0 and C 0 is inspected for defects. The detection result of the defect inspection at this time is shown in FIG. Regarding the angle information of the position where the defect exists, the sector information is obtained when one round is divided into 1024 equal parts from 0 to 1023, and at the stage of detecting this defect, the angle is from an arbitrary angle reference point.

【0053】図4に示すように、1000ショット目の
前後の3枚のディスクA0,B0,C 0においては、ディ
スクA0表面に欠陥が25個存在し、ディスクB0表面に
欠陥が21個存在し、ディスクC0表面に欠陥が20個
存在している。その後、これらのディスクA0,B0,C
0のそれぞれの表面の欠陥から、固定欠陥4を抽出する
作業を行う。
As shown in FIG. 4, the 1000th shot
Front and rear 3 discs A0, B0, C 0In the
School A0Disk B has 25 defects on the surface0On the surface
Disk C has 21 defects020 defects on the surface
Existing. Then these discs A0, B0, C
0Fixed defects 4 are extracted from the defects on each surface of
Do the work.

【0054】すなわち、ディスクA0,B0,C0におい
て、ディスクA0を基準として、上述したステップ回転
とマッチング処理とを繰り返し行い、ディスクB0およ
びディスクC0の位相補正を行う。なお、図4におい
て、ディスクB0,C0のそれぞれの補正後の位相(位相
補正後)を、それぞれ欠陥検査データの右欄に記載す
る。
That is, in the disks A 0 , B 0 , and C 0 , the step rotation and the matching process described above are repeatedly performed with the disk A 0 as a reference to perform the phase correction of the disks B 0 and C 0 . In FIG. 4, the corrected phases of the disks B 0 and C 0 (after the phase correction) are shown in the right columns of the defect inspection data.

【0055】位相補正を行った後、ディスクA0表面の
欠陥、ディスクB0表面の欠陥およびディスクC0表面の
欠陥から、半径位置および角度位置がほぼ等しく、それ
らが位置ずれマージン内におさまる欠陥を固定欠陥とし
て抽出する。この抽出された固定欠陥の検出情報を図5
に示す。
After the phase correction, the defect on the surface of the disk A 0 , the defect on the surface of the disk B 0 , and the defect on the surface of the disk C 0 have almost the same radial position and angular position, and they are within the misalignment margin. Is extracted as a fixed defect. The detection information of the extracted fixed defect is shown in FIG.
Shown in.

【0056】図5に示すように、この一実施形態による
ディスクA0,B0,C0においては、固定欠陥4は、そ
れぞれの表面にそれぞれ3箇所存在することが分かる。
これにより、この一実施形態による射出成形法に用いら
れるスタンパの表面に、欠陥が3箇所存在し、さらに、
それらの欠陥が、スタンパの、半径29.08mm付
近、半径33.56mm付近、および半径38.46m
m付近にそれぞれ存在することが分かる。
As shown in FIG. 5, in the disks A 0 , B 0 and C 0 according to this embodiment, there are three fixed defects 4 on each surface.
As a result, there are three defects on the surface of the stamper used in the injection molding method according to this embodiment, and further,
Those defects were found in the stamper at a radius of around 29.08 mm, a radius of around 33.56 mm, and a radius of 38.46 m.
It can be seen that they exist near m.

【0057】その後、継続して射出成形を行い、100
00枚のディスクを製造した際に、その前後の3枚のデ
ィスク(ディスクA1、ディスクB1、ディスクC1)に
対して、それぞれの表面の欠陥検査を行う。このときの
欠陥検査の検出結果を図6に示す。
Thereafter, injection molding is continuously carried out, and 100
When 00 discs are manufactured, the surface of each of the three discs (disc A 1 , disc B 1 , disc C 1 ) before and after the disc is inspected for defects. The detection result of the defect inspection at this time is shown in FIG.

【0058】図6に示すように、10000ショット目
の前後の3枚のディスクA1,B1,C1においては、デ
ィスクA1表面に欠陥が25個存在し、ディスクB1表面
に欠陥が19個存在し、ディスクC1表面に欠陥が27
個存在している。その後、これらのディスクA1,B1
1のそれぞれの表面の欠陥から、固定欠陥4を抽出す
る作業を行う。
As shown in FIG. 6, in the three disks A 1 , B 1 and C 1 before and after the 10000th shot, there were 25 defects on the surface of the disk A 1, and there were defects on the surface of the disk B 1. There are 19 defects and 27 defects on the surface of the disk C 1.
There are individuals. After that, these disks A 1 , B 1 ,
The fixed defect 4 is extracted from the defects on each surface of C 1 .

【0059】すなわち、ディスクA1,B1,C1におい
て、ディスクA1を基準として、上述したステップ回転
とマッチング処理とを繰り返し行い、ディスクB1およ
びディスクC1の位相補正を行う。なお、図6において
も図4と同様に、ディスクB1,C1のそれぞれの補正後
の位相(位相補正後)を、それぞれ欠陥検査データの右
欄に記載する。
That is, with respect to the disks A 1 , B 1 and C 1 , the step rotation and the matching process described above are repeatedly performed with the disk A 1 as a reference to perform the phase correction of the disks B 1 and C 1 . Note that in FIG. 6 as well as in FIG. 4, the corrected phases of the disks B 1 and C 1 (after the phase correction) are described in the right columns of the defect inspection data.

【0060】位相補正を行った後、ディスクA1表面の
欠陥、ディスクB1表面の欠陥およびディスクC1表面の
欠陥から、半径位置および角度位置がほぼ等しく、それ
らが位置ずれマージン内におさまる、上述の(1)式お
よび(2)式がともに成立する欠陥を固定欠陥として抽
出する。この抽出された固定欠陥の検出情報を図7に示
す。
After the phase correction, the radial position and the angular position are almost equal from the defect on the surface of the disk A 1 , the defect on the surface of the disk B 1 and the defect on the surface of the disk C 1 , and they are within the misalignment margin. Defects that satisfy both the expressions (1) and (2) are extracted as fixed defects. FIG. 7 shows the detection information of the extracted fixed defects.

【0061】図7に示すように、この一実施形態による
ディスクA1,B1,C1においては、固定欠陥4は、そ
れぞれの表面にそれぞれ4箇所存在することが分かる。
これにより、この一実施形態による射出成形法に用いら
れるスタンパの表面に、欠陥が3箇所存在し、さらに、
それらの欠陥が、スタンパの、半径24.42mm付
近、半径29.09mm付近、半径33.56mm付
近、および半径38.46mm付近にそれぞれ存在する
ことが分かる。また、1000ショット目の図5に示す
固定欠陥の個数および固定欠陥の位置と比べると、半径
24.42mm付近の欠陥が1箇所増加していることが
分かる。すなわち、この一実施形態においては、射出成
形により継続的にディスクを製造した際に、1000シ
ョットから10000ショットの間においてディスク表
面に固定欠陥4が1箇所増加し、欠陥原因がスタンパに
起因していることが分かる。さらに、この増加した固定
欠陥4がスタンパの半径24.42mm付近に存在する
ことが分かる。
As shown in FIG. 7, in the disks A 1 , B 1 and C 1 according to this embodiment, there are four fixed defects 4 on each surface.
As a result, there are three defects on the surface of the stamper used in the injection molding method according to this embodiment, and further,
It can be seen that these defects exist near the radius of 24.42 mm, the radius of 29.09 mm, the radius of 33.56 mm, and the radius of 38.46 mm of the stamper. Further, as compared with the number of fixed defects and the positions of fixed defects shown in FIG. 5 at the 1000th shot, it can be seen that the number of defects near the radius of 24.42 mm is increased by one. That is, in this embodiment, when a disc is continuously manufactured by injection molding, one fixed defect 4 is added to the disc surface between 1000 shots and 10000 shots, and the defect is caused by the stamper. I know that Further, it can be seen that the increased fixed defect 4 exists near the stamper radius of 24.42 mm.

【0062】その後、継続して射出成形を行い、最初の
射出成形によるディスクの成形から20000枚のディ
スクを製造した際に、その前後の3枚のディスク(ディ
スクA2、ディスクB2、ディスクC2)に対して、それ
ぞれの表面の欠陥検査を行う。このときの欠陥検査の検
出結果を図8に示す。
After that, injection molding is continuously carried out, and when 20,000 disks are manufactured from the molding of the disks by the first injection molding, three disks (disk A 2 , disk B 2 , disk C) before and after that are manufactured. For 2 ), inspect each surface for defects. The detection result of the defect inspection at this time is shown in FIG.

【0063】図8に示すように、20000ショット目
の前後の3枚のディスクA2,B2,C2においては、デ
ィスクA2表面に欠陥が24個存在し、ディスクB2表面
に欠陥が19個存在し、ディスクC2表面に欠陥が22
個存在している。その後、これらのディスクA2,B2
2のそれぞれの表面の欠陥から、固定欠陥4を抽出す
る作業を行う。
As shown in FIG. 8, in the three discs A 2 , B 2 and C 2 before and after the 20,000th shot, there are 24 defects on the surface of the disc A 2, and there are 24 defects on the surface of the disc B 2. There are 19 defects and 22 defects on the surface of the disk C 2.
There are individuals. After that, these disks A 2 , B 2 ,
The fixed defect 4 is extracted from the defects on each surface of C 2 .

【0064】すなわち、ディスクA2,B2,C2におい
て、ディスクA2を基準として、上述したステップ回転
とマッチング処理とを繰り返し行い、ディスクB2およ
びディスクC2の位相補正を行う。なお、図8において
も図4と同様に、ディスクB2,C2のそれぞれの補正後
の位相(位相補正後)を、それぞれ欠陥検査データの右
欄に記載する。
That is, in the disks A 2 , B 2 and C 2 , the step rotation and the matching process described above are repeatedly performed with the disk A 2 as a reference, and the phase correction of the disks B 2 and C 2 is performed. Note that in FIG. 8 as well as in FIG. 4, the corrected phases of the disks B 2 and C 2 (after the phase correction) are described in the right columns of the defect inspection data.

【0065】位相補正を行った後、ディスクA2表面の
欠陥、ディスクB2表面の欠陥およびディスクC2表面の
欠陥から、半径位置および角度位置がほぼ等しく、それ
らが位置ずれマージン内におさまる、上述の(1)式お
よび(2)式がともに成立する欠陥を固定欠陥として抽
出する。この抽出された固定欠陥の検出情報を図9に示
す。
After the phase correction, the radial position and the angular position are almost equal from the defect on the disk A 2 surface, the defect on the disk B 2 surface and the defect on the disk C 2 surface, and they are within the misalignment margin. Defects that satisfy both the expressions (1) and (2) are extracted as fixed defects. The detection information of the extracted fixed defects is shown in FIG.

【0066】図9に示すように、この一実施形態による
ディスクA2,B2,C2においては、固定欠陥4は、そ
れぞれの表面にそれぞれ4箇所存在することが分かる。
これにより、この一実施形態による射出成形法に用いら
れるスタンパの表面に、欠陥が3箇所存在し、さらに、
それらの欠陥が、スタンパの、半径24.42mm付
近、半径29.09mm付近、半径33.56mm付
近、半径38.46mm付近、および半径43.38m
m付近にそれぞれ存在することが分かる。また、100
00ショット目の図7に示す固定欠陥の個数および固定
欠陥の位置と比べると、半径43.38mm付近の欠陥
が1箇所増加していることが分かる。すなわち、この一
実施形態においては、射出成形により継続的にディスク
を製造した際に、10000ショットから20000シ
ョットの間においてディスク表面に固定欠陥4が1箇所
増加し、欠陥原因がスタンパに起因していることが分か
る。さらに、この増加した固定欠陥4がスタンパの半径
43.38mm付近に存在することが分かる。
As shown in FIG. 9, in the disks A 2 , B 2 and C 2 according to this embodiment, there are four fixed defects 4 on each surface.
As a result, there are three defects on the surface of the stamper used in the injection molding method according to this embodiment, and further,
Those defects are the stamper having a radius of about 24.42 mm, a radius of about 29.09 mm, a radius of about 33.56 mm, a radius of about 38.46 mm, and a radius of 43.38 m.
It can be seen that they exist near m. Also, 100
As compared with the number of fixed defects and the positions of fixed defects shown in FIG. 7 at the 00th shot, it can be seen that the number of defects having a radius of 43.38 mm is increased by one. That is, in this embodiment, when a disc is continuously manufactured by injection molding, one fixed defect 4 is added to the disc surface between 10,000 shots and 20,000 shots, and the defect is caused by the stamper. I know that Further, it can be seen that the increased fixed defect 4 exists near the stamper radius of 43.38 mm.

【0067】その後、継続して射出成形を行い、最初か
ら30000枚のディスクを製造した際に、その前後の
3枚のディスク(ディスクA3、ディスクB3、ディスク
3)に対して、それぞれの表面の欠陥検査を行う。こ
のときの欠陥検査の検出結果を図10に示す。
After that, when injection molding was continuously carried out to manufacture 30,000 discs from the beginning, the three discs (disc A 3 , disc B 3 , disc C 3 ) before and after the disc were manufactured. Inspect the surface for defects. The detection result of the defect inspection at this time is shown in FIG.

【0068】図10に示すように、30000ショット
目の前後の3枚のディスクA3,B3,C3においては、
ディスクA3表面に欠陥が27個存在し、ディスクB3
面に欠陥が23個存在し、ディスクC3表面に欠陥が2
6個存在している。その後、これらのディスクA3
3,C3のそれぞれの表面の欠陥から、固定欠陥4を抽
出する作業を行う。
As shown in FIG. 10, in the three disks A 3 , B 3 , C 3 before and after the 30,000th shot,
There are 27 defects on the disk A 3 surface, 23 defects on the disk B 3 surface, and 2 defects on the disk C 3 surface.
There are 6 of them. After that, these disks A 3 ,
The fixed defect 4 is extracted from the defects on the surfaces of B 3 and C 3 .

【0069】すなわち、ディスクA3,B3,C3におい
て、ディスクA3を基準として、上述したステップ回転
とマッチング処理とを繰り返し行い、ディスクB3およ
びディスクC3の位相補正を行う。なお、図10におい
ても図4と同様に、ディスクB3,C3のそれぞれの補正
後の位相(位相補正後)を、それぞれ欠陥検査データの
右欄に記載する。
That is, in the disks A 3 , B 3 and C 3 , the step rotation and the matching process described above are repeatedly performed with the disk A 3 as a reference, and the phase correction of the disks B 3 and C 3 is performed. Note that, in FIG. 10 as well, as in FIG. 4, the corrected phases of the disks B 3 and C 3 (after the phase correction) are described in the right columns of the defect inspection data.

【0070】位相補正を行った後、ディスクA3表面の
欠陥、ディスクB3表面の欠陥およびディスクC3表面の
欠陥から、半径位置および角度位置がほぼ等しく、それ
らが位置ずれマージン内におさまる、上述の(1)式お
よび(2)式がともに成立する欠陥を固定欠陥として抽
出する。この抽出された固定欠陥の検出情報を図11に
示す。
After performing the phase correction, the radial position and the angular position are almost equal from the defect on the surface of the disk A 3 , the defect on the surface of the disk B 3 and the defect on the surface of the disk C 3 , and they are within the misalignment margin. Defects that satisfy both the expressions (1) and (2) are extracted as fixed defects. FIG. 11 shows the detection information of the extracted fixed defects.

【0071】図11に示すように、この一実施形態によ
るディスクA3,B3,C3においては、固定欠陥4は、
それぞれの表面にそれぞれ7箇所存在することが分か
る。これにより、この一実施形態による射出成形法に用
いられるスタンパの表面に、欠陥が7箇所存在し、さら
に、それらの欠陥が、スタンパの、半径21.87mm
付近、半径24.43mm付近、半径29.09mm付
近、半径33.56mm付近、半径38.46mm付
近、半径43.38mm付近、および半径43.41m
m付近にそれぞれ存在することが分かる。また、200
00ショット目の図9に示す固定欠陥の個数および固定
欠陥の位置と比べると、半径21.87mm付近に固定
欠陥が1箇所と、半径43.41mm付近に固定欠陥が
1箇所との、合計2箇所の固定欠陥が増加していること
が分かる。すなわち、この一実施形態においては、射出
成形により継続的にディスクを製造した際に、2000
0ショットから30000ショットの間においてディス
ク表面に固定欠陥4が2箇所増加し、欠陥原因がスタン
パに起因していることが分かる。さらに、この増加した
固定欠陥4がスタンパの半径21.87mm付近と半径
43.41mm付近とに存在することが分かる。
As shown in FIG. 11, in the disks A 3 , B 3 and C 3 according to this embodiment, the fixed defect 4 is
It can be seen that there are 7 places on each surface. As a result, there are seven defects on the surface of the stamper used in the injection molding method according to this embodiment, and further, these defects have a radius of 21.87 mm of the stamper.
Neighborhood, radius around 24.43 mm, radius around 29.09 mm, radius around 33.56 mm, radius around 38.46 mm, radius around 43.38 mm, and radius 43.41 m
It can be seen that they exist near m. Also, 200
Compared to the number of fixed defects and the position of fixed defects shown in FIG. 9 at the 00th shot, one fixed defect was located near a radius of 21.87 mm and one fixed defect was located near a radius of 43.41 mm, which was a total of 2 It can be seen that the fixed defects at the locations are increasing. That is, in this one embodiment, when a disc is continuously manufactured by injection molding,
It can be seen that the fixed defects 4 increased in two places on the disk surface between 0 shots and 30,000 shots, and the cause of the defects was the stamper. Further, it can be seen that the increased fixed defects 4 exist near the radius of 21.87 mm and the radius of 43.41 mm of the stamper.

【0072】以上のようにして、連続して行われる射出
成形プロセス中の固定欠陥4の抽出作業が行われ、固定
欠陥とランダム欠陥との分離が行われる。
As described above, the fixed defect 4 is extracted during the continuous injection molding process, and the fixed defect and the random defect are separated.

【0073】次に、以上のような固定欠陥の抽出を行う
固定欠陥検出装置について説明する。図12に、この固
定欠陥検出装置の一例を示す。
Next, a fixed defect detecting apparatus for extracting fixed defects as described above will be described. FIG. 12 shows an example of this fixed defect detection device.

【0074】図12に示すように、この一実施形態によ
る固定欠陥検出装置は、固定欠陥抽出手段10と、表面
欠陥検出部11と、出力部12とから構成されている。
As shown in FIG. 12, the fixed defect detecting apparatus according to this embodiment is composed of a fixed defect extracting means 10, a surface defect detecting section 11, and an output section 12.

【0075】固定欠陥抽出手段10は、ディスク表面に
おける10nm以上の高さの凸状欠陥を検査可能に構成
された表面欠陥検出部11と接続されている。また、固
定欠陥抽出手段10は、上述した固定欠陥の抽出結果を
出力可能に構成された出力部12に接続されている。
The fixed defect extracting means 10 is connected to a surface defect detecting section 11 which is constructed so as to be capable of inspecting a convex defect having a height of 10 nm or more on the disk surface. Further, the fixed defect extracting means 10 is connected to the output unit 12 configured to be able to output the above-mentioned fixed defect extraction result.

【0076】また、固定欠陥抽出手段10は、マッチン
グ計測部13、位相補正処理部14、マッチング抽出処
理部15および回転角検出部16を有して構成されてい
る。また、マッチング計測部13には、検出結果を記録
するためのメモリ13a、および検出結果により一致し
た欠陥の個数を互いに比較するための比較器13bが接
続されている。
Further, the fixed defect extracting means 10 has a matching measuring section 13, a phase correction processing section 14, a matching extraction processing section 15 and a rotation angle detecting section 16. Further, the matching measurement unit 13 is connected to a memory 13a for recording the detection result and a comparator 13b for comparing the numbers of defects matched by the detection result with each other.

【0077】そして、上述した固定欠陥の検出方法にお
いては、表面欠陥検出部11において、複数のディスク
表面の欠陥の検出を行い、欠陥の位置情報E(r,θ)
を出力する。出力された位置情報E(r,θ)はマッチ
ング計測部13に供給される。マッチング計測部13に
おいては、複数のディスクにおいて、互いにほぼ一致し
た位置に存在する欠陥を抽出し、その欠陥個数をメモリ
13aに記録する。メモリ13aに記録された個数情報
は、比較器13bに供給され、個数の比較が行われる。
比較した結果が最大となった場合に、複数のディスクの
おけるそれぞれの欠陥の位置情報E(r,θ)を位相補
正処理部14に供給する。なお、ディスクの回転角度
は、回転角検出部16によって制御される。位相補正処
理部14においては、上述したように、複数のディスク
のうちの基準となるディスク表面の欠陥の位置情報E
(r,θ)に、その他のディスク表面の欠陥の位置情報
E(r,θ)を互いに一致させるように位相が合わせら
れる。位相補正が行われた位置情報E(r,θ)は、マ
ッチング抽出処理部15に供給される。このマッチング
抽出処理部15において、複数のディスクにおける複数
の位置情報E(r,θ)から、すべてのディスクの表面
における、ほぼ同じ位置に存在する位置情報が抽出さ
れ、固定欠陥の位置情報が抽出される。
In the fixed defect detection method described above, the surface defect detection unit 11 detects defects on the surfaces of a plurality of disks, and the defect position information E (r, θ) is detected.
Is output. The output position information E (r, θ) is supplied to the matching measurement unit 13. The matching measuring unit 13 extracts defects existing at positions substantially coincident with each other on a plurality of disks, and records the number of defects in the memory 13a. The number information recorded in the memory 13a is supplied to the comparator 13b and the numbers are compared.
When the comparison result is the maximum, position information E (r, θ) of each defect in the plurality of disks is supplied to the phase correction processing unit 14. The rotation angle of the disc is controlled by the rotation angle detector 16. In the phase correction processing unit 14, as described above, the positional information E of the defect on the reference disk surface among the plurality of disks is obtained.
The phase is aligned with (r, θ) so that the positional information E (r, θ) of the other defects on the disk surface match each other. The position information E (r, θ) on which the phase correction has been performed is supplied to the matching extraction processing unit 15. In the matching extraction processing unit 15, position information existing at almost the same position on the surfaces of all the disks is extracted from the plurality of position information E (r, θ) of the plurality of disks, and the position information of the fixed defect is extracted. To be done.

【0078】他方、マッチング計測部13において、欠
陥の位置情報E(r,θ)のうちから、複数の欠陥の位
置情報がほぼ一致する位置情報E(r,θ)が出力部1
2に出力され、必要に応じて、表示される(図4,図
6,図8,図10中、「欠陥検査データ」の欄、参
照)。また、位相補正処理部14において、位相補正が
行われた後における欠陥の位置情報のうちの位相情報E
(θ)が、出力部12に出力され、必要に応じて表示さ
れる(図4,図6,図8,図10中、「位相補正後」の
欄)。また、マッチング抽出処理部15において、抽出
された固定欠陥の位置情報E(r,θ)は、出力部12
に出力され、必要に応じて表示される(図5,図7,図
9,図11、参照)。
On the other hand, in the matching measuring unit 13, the position information E (r, θ) at which the position information of a plurality of defects is almost identical is output from the position information E (r, θ) of the defect in the output unit 1.
It is output to No. 2 and displayed as needed (see the column of “defect inspection data” in FIGS. 4, 6, 8, and 10). In the phase correction processing unit 14, the phase information E of the defect position information after the phase correction is performed.
(Θ) is output to the output unit 12 and displayed as necessary (in the column of “after phase correction” in FIGS. 4, 6, 6, 8 and 10). In the matching extraction processing unit 15, the positional information E (r, θ) of the fixed defect extracted is output to the output unit 12.
Is displayed on the screen and displayed as needed (see FIGS. 5, 7, 9, and 11).

【0079】以上のようにして、固定欠陥抽出手段10
により、表面欠陥検出部11において検出された欠陥か
ら、固定欠陥が抽出される。
As described above, the fixed defect extracting means 10
Thus, fixed defects are extracted from the defects detected by the surface defect detection unit 11.

【0080】以上説明したように、この一実施形態によ
れば、射出成形法により成形された複数のディスクにお
いて、その複数のディスク表面の欠陥から、固定欠陥を
抽出するようにしていることにより、ディスク表面の欠
陥を、固定欠陥とランダム欠陥とに分離することができ
る。また、このように固定欠陥とランダム欠陥とを分離
することができることによって、射出成形時に生じる欠
陥から、スタンパや金型のパターン転写面に存在する欠
陥や、パターン転写面に付着した異物に起因する欠陥を
抽出することができる。また、固定欠陥の存在する位置
の情報から、スタンパや金型におけるパターン転写面の
欠陥の位置を特定することができるので、スタンパ欠陥
検査装置や金型の欠陥検査装置などの専用の欠陥検査装
置を用いることなく、欠陥の存在位置を特定することが
できる。これにより、射出成形プロセスを継続しなが
ら、ディスク基板の成形を行いつつ、スタンパや金型に
おけるパターン転写面の欠陥の増減を観測することが可
能となる。
As described above, according to this embodiment, the fixed defects are extracted from the defects on the surfaces of the plurality of disks formed by the injection molding method. Defects on the disk surface can be separated into fixed defects and random defects. Further, by being able to separate the fixed defect and the random defect in this way, the defects caused at the time of injection molding are caused by the defects existing on the pattern transfer surface of the stamper or the mold, and the foreign substances attached to the pattern transfer surface. Defects can be extracted. Further, since the position of the defect on the pattern transfer surface of the stamper or the die can be specified from the information on the position where the fixed defect exists, a dedicated defect inspection device such as a stamper defect inspection device or a die defect inspection device. It is possible to specify the existing position of the defect without using. This makes it possible to observe the increase or decrease of defects on the pattern transfer surface of the stamper or the mold while molding the disc substrate while continuing the injection molding process.

【0081】以上、この発明の一実施形態について具体
的に説明したが、この発明は、上述の実施形態に限定さ
れるものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種
の変形が可能である。
Although one embodiment of the present invention has been specifically described above, the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made based on the technical idea of the present invention. .

【0082】例えば、上述の一実施形態において挙げた
数値はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異な
る数値を用いてもよい。
For example, the numerical values given in the above-described embodiment are merely examples, and different numerical values may be used if necessary.

【0083】また、例えば上述の一実施形態において
は、1回の固定欠陥の抽出作業において、欠陥検査を行
うディスクの枚数を3枚としているが、3枚より多くて
も良い。そして、固定欠陥をほぼ確実に抽出するため
に、欠陥検査を行うディスクの枚数は3枚より多いこと
が望ましいが、欠陥検査の頻度を多くしすぎると、欠陥
検査に要する時間が長くなる。そのため、欠陥検査を行
うディスクの枚数は、固定欠陥をほぼ確実に抽出可能な
3枚以上、かつ欠陥検査を長時間要しない5枚以下であ
ることが望ましい。
Further, for example, in the above-described embodiment, the number of disks to be subjected to the defect inspection is three in one fixed defect extraction operation, but it may be more than three. Then, in order to almost certainly extract the fixed defect, it is desirable that the number of disks to be subjected to the defect inspection is more than three. However, if the frequency of the defect inspection is too high, the time required for the defect inspection becomes long. Therefore, it is desirable that the number of disks to be subjected to the defect inspection is 3 or more so that fixed defects can be almost certainly extracted, and 5 or less so that the defect inspection does not require a long time.

【0084】また、例えば上述の一実施形態において
は、固定欠陥の抽出を行うショット数を、1000,1
0000,20000,30000ショットとしたが、
言うまでもなく、これらのショットに限定されるもので
はなく、任意の、所定のショットごとに、複数のディス
クにおいて、固定欠陥を抽出する抽出作業を行うことが
可能である。
Further, for example, in the above-described embodiment, the number of shots for extracting fixed defects is 1000,1.
0000, 20,000, 30,000 shots,
Needless to say, the present invention is not limited to these shots, and it is possible to perform an extraction operation for extracting fixed defects in a plurality of discs for each predetermined shot.

【0085】また、例えば上述の一実施形態において
は、固定欠陥の抽出を行う際に選択するディスクを、所
定のショットにおけるディスクと、その前後のディスク
との3枚のディスクとしたが、選択する3枚以上のディ
スクを、所定のショットから連続して3枚以上のディス
クとしても良い。また、固定欠陥の抽出を行う際に選択
するディスクを、所定のショットにおけるディスクと、
この所定のショットから10ショット目や20ショット
目などの、連続していない3枚以上のディスクを選択す
るようにしてもよく、または、所定のショット目の前後
の10ショット目や20ショット目などの、連続してい
ない3枚以上のディスクを選択することも可能である。
Further, for example, in the above-described embodiment, the disks to be selected when the fixed defect is extracted are three disks including the disk in a predetermined shot and the disks before and after the selected shot. Three or more discs may be continuously formed from a predetermined shot into three or more discs. In addition, the disk to be selected when extracting fixed defects is a disk in a predetermined shot,
It is also possible to select three or more discs that are not continuous, such as the 10th shot and the 20th shot from this predetermined shot, or the 10th shot and the 20th shot before and after the predetermined shot. It is also possible to select three or more discs that are not continuous.

【0086】[0086]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、基板の主面に存在する欠陥の検出結果から、少なく
とも2枚の基板におけるそれぞれの主面上で互いにほぼ
等しい位置に存在する欠陥を抽出するようにしているこ
とにより、転写されるパターンの面に存在する欠陥に起
因した基板の欠陥を検出することができるので、転写さ
れるパターンの面を直接に検査することなく、転写され
るパターンの面に存在する欠陥を検出することができ
る。
As described above, according to the present invention, from the detection result of the defects existing on the main surface of the substrate, the defects existing on the respective main surfaces of at least two substrates are substantially equal to each other. Since it is possible to detect a defect in the substrate due to a defect existing on the surface of the transferred pattern, it is possible to detect the transferred pattern without directly inspecting the surface of the transferred pattern. It is possible to detect defects existing on the surface of the pattern.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施形態によるハードディスクの
製造プロセスを示すフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart showing a hard disk manufacturing process according to an embodiment of the present invention.

【図2】この発明の一実施形態による固定欠陥の抽出作
業を行う3枚のディスク表面を示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing the surfaces of three disks on which fixed defect extraction work according to an embodiment of the present invention is performed.

【図3】この発明の一実施形態による固定欠陥の抽出作
業を行う3枚のディスク表面を示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing the surfaces of three disks on which fixed defect extraction work according to an embodiment of the present invention is performed.

【図4】この発明の一実施形態による、1000ショッ
ト目前後の3枚のディスク表面の欠陥検査データを示す
表である。
FIG. 4 is a table showing defect inspection data on the surfaces of three disks before and after the 1000th shot according to the embodiment of the present invention.

【図5】この発明の一実施形態による、射出成形された
ディスクにおける1000ショット目前後の3枚のディ
スク表面の欠陥検査データから抽出された固定欠陥デー
タを示す表である。
FIG. 5 is a table showing fixed defect data extracted from defect inspection data on the surfaces of three disks before and after the 1000th shot in an injection molded disk according to an embodiment of the present invention.

【図6】この発明の一実施形態による、10000ショ
ット目前後の3枚のディスク表面の欠陥検査データを示
す表である。
FIG. 6 is a table showing defect inspection data on the surfaces of three disks before and after the 10,000th shot according to the embodiment of the present invention.

【図7】この発明の一実施形態による、射出成形された
ディスクにおける10000ショット目前後の3枚のデ
ィスク表面の欠陥検査データから抽出された固定欠陥デ
ータを示す表である。
FIG. 7 is a table showing fixed defect data extracted from defect inspection data on the surfaces of three disks before and after 10,000 shots in an injection-molded disk according to an embodiment of the present invention.

【図8】この発明の一実施形態による、20000ショ
ット目前後の3枚のディスク表面の欠陥検査データを示
す表である。
FIG. 8 is a table showing defect inspection data on the surfaces of three disks before and after 20,000 shots according to the embodiment of the present invention.

【図9】この発明の一実施形態による、射出成形された
ディスクにおける20000ショット目前後の3枚のデ
ィスク表面の欠陥検査データから抽出された固定欠陥デ
ータを示す表である。
FIG. 9 is a table showing fixed defect data extracted from defect inspection data on the surfaces of three disks before and after 20,000 shots in an injection-molded disk according to an embodiment of the present invention.

【図10】この発明の一実施形態による、30000シ
ョット目前後の3枚のディスク表面の欠陥検査データを
示す表である。
FIG. 10 is a table showing defect inspection data on the surfaces of three disks before and after the 30,000th shot according to the embodiment of the present invention.

【図11】この発明の一実施形態による、射出成形され
たディスクにおける30000ショット目前後の3枚の
ディスク表面の欠陥検査データから抽出された固定欠陥
データを示す表である。
FIG. 11 is a table showing fixed defect data extracted from defect inspection data on the surfaces of three disks before and after the 30,000th shot in an injection molded disk according to an embodiment of the present invention.

【図12】この発明の一実施形態による固定欠陥抽出手
段を示すブロック図である。
FIG. 12 is a block diagram showing fixed defect extracting means according to an embodiment of the present invention.

【図13】固定欠陥の発生要因を説明するための略線図
である。
FIG. 13 is a schematic diagram illustrating a cause of a fixed defect.

【図14】固定欠陥の増加原因を説明するための略線図
である。
FIG. 14 is a schematic diagram for explaining the cause of increase in fixed defects.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2,3・・・ディスク、1a,2a,3a・・・欠
陥、1b,2b,3b・・・ランダム欠陥、4・・・固
定欠陥、10・・・固定欠陥抽出手段、11・・・表面
欠陥検出部、12・・・出力部、13・・・マッチング
計測部、13a・・・メモリ、13b・・・比較器、1
4・・・位相補正処理部、15・・・マッチング抽出処
理部、16・・・回転角検出部
1, 2, 3 ... Disk, 1a, 2a, 3a ... Defect, 1b, 2b, 3b ... Random defect, 4 ... Fixed defect, 10 ... Fixed defect extraction means, 11 ... -Surface defect detection unit, 12 ... Output unit, 13 ... Matching measurement unit, 13a ... Memory, 13b ... Comparator, 1
4 ... Phase correction processing unit, 15 ... Matching extraction processing unit, 16 ... Rotation angle detection unit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2F065 AA49 AA54 AA56 BB03 CC03 DD06 FF00 FF61 FF65 FF67 QQ25 RR07 2G051 AA71 AB07 AC01 EA14 5D006 CB01 DA03 5D112 AA02 AA24 BA01 JJ05    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 2F065 AA49 AA54 AA56 BB03 CC03                       DD06 FF00 FF61 FF65 FF67                       QQ25 RR07                 2G051 AA71 AB07 AC01 EA14                 5D006 CB01 DA03                 5D112 AA02 AA24 BA01 JJ05

Claims (23)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板の表面に所定パターンを転写する工
程を繰り返し行うことにより、上記所定パターンが転写
された上記基板を複数枚製造した後、 上記基板の表面に存在する欠陥を検出するようにした欠
陥検出方法であって、 上記基板の主面に存在する欠陥の検出結果から、少なく
とも2枚の基板におけるそれぞれの主面上で互いにほぼ
等しい位置に存在する欠陥を抽出するようにしたことを
特徴とする欠陥検出方法。
1. A method of transferring a predetermined pattern onto a surface of a substrate is repeatedly performed to manufacture a plurality of the substrates having the predetermined pattern transferred thereon, and then detect defects existing on the surface of the substrate. In the defect detection method described above, the defects existing at substantially equal positions on each main surface of at least two substrates are extracted from the detection result of the defects existing on the main surface of the substrate. Characteristic defect detection method.
【請求項2】 上記欠陥の検出結果から、上記複数の基
板におけるそれぞれの一主面上で互いにほぼ等しい位置
に存在する欠陥を抽出することにより、上記基板の一主
面に存在する欠陥から、ランダムに生じる欠陥を分離す
るようにしたことを特徴とする請求項1記載の欠陥検出
方法。
2. A defect existing on one main surface of the substrate is extracted from defects detected on the main surface of each of the plurality of substrates by extracting defects existing at substantially equal positions on the main surface. The defect detecting method according to claim 1, wherein randomly generated defects are separated.
【請求項3】 上記所定パターンの転写が連続的に行わ
れることを特徴とする請求項1記載の欠陥検出方法。
3. The defect detecting method according to claim 1, wherein the transfer of the predetermined pattern is continuously performed.
【請求項4】 上記基板を射出成形法により製造するよ
うにしたことを特徴とする請求項1記載の欠陥検出方
法。
4. The defect detection method according to claim 1, wherein the substrate is manufactured by an injection molding method.
【請求項5】 上記基板の欠陥が、上記射出成形法にお
いて用いられるスタンパの欠陥に起因して生じる欠陥で
あることを特徴とする請求項4記載の欠陥検出方法。
5. The defect detection method according to claim 4, wherein the defect of the substrate is a defect caused by a defect of a stamper used in the injection molding method.
【請求項6】 上記基板が平面円環形状を有することを
特徴とする請求項1記載の欠陥検出方法。
6. The defect detection method according to claim 1, wherein the substrate has a planar annular shape.
【請求項7】 上記平面円環形状の基板の表面に存在す
る欠陥の位置を、上記平面円環形状における半径と位相
とにより確定するようにしたことを特徴とする請求項6
記載の欠陥検出方法。
7. The position of a defect existing on the surface of the planar toroidal substrate is determined by the radius and phase of the planar toroidal shape.
The described defect detection method.
【請求項8】 上記平面円環形状を有する基板が、ハー
ドディスク基板であることを特徴とする請求項6記載の
欠陥検出方法。
8. The defect detecting method according to claim 6, wherein the substrate having the planar annular shape is a hard disk substrate.
【請求項9】 上記基板の表面に少なくとも1層の金属
膜を成膜した後に、上記欠陥の検出を行うようにしたこ
とを特徴とする請求項6記載の欠陥検出方法。
9. The defect detecting method according to claim 6, wherein the defect is detected after forming at least one metal film on the surface of the substrate.
【請求項10】 上記基板が熱可塑性樹脂からなること
を特徴とする請求項1記載の欠陥検出方法。
10. The defect detection method according to claim 1, wherein the substrate is made of a thermoplastic resin.
【請求項11】 上記基板の主面に存在する欠陥の検出
結果から、少なくとも3枚の基板におけるそれぞれの主
面上で互いにほぼ等しい位置に存在する欠陥を抽出する
ことにより、上記所定パターン表面の欠陥の位置を特定
するようにしたことを特徴とする請求項1記載の欠陥検
出方法。
11. From the detection result of the defects existing on the main surface of the substrate, the defects existing at substantially equal positions on each of the main surfaces of at least three substrates are extracted to detect the surface of the predetermined pattern. The defect detecting method according to claim 1, wherein the position of the defect is specified.
【請求項12】 基板表面に所定パターンを転写する工
程を繰り返し行うことにより上記所定パターンが転写さ
れた、複数の基板の一主面に存在する欠陥を検出可能に
構成された欠陥検出装置であって、 上記基板の主面に存在する欠陥の検出結果から、少なく
とも2枚の基板におけるそれぞれの主面上で互いにほぼ
等しい位置に存在する欠陥を抽出可能に構成されている
ことを特徴とする欠陥検出装置。
12. A defect detection device configured to detect a defect existing on one main surface of a plurality of substrates, onto which the predetermined pattern has been transferred, by repeating the process of transferring the predetermined pattern onto the surface of the substrate. A defect characterized in that the defects existing at substantially equal positions on each of the main surfaces of at least two substrates can be extracted from the detection result of the defects existing on the main surface of the substrate. Detection device.
【請求項13】 上記欠陥の検出結果から、上記複数の
基板におけるそれぞれの一主面上で互いにほぼ等しい位
置に存在する欠陥を抽出することにより、上記基板の一
主面に存在する欠陥から、ランダムに存在する欠陥を分
離するようにしたことを特徴とする請求項12記載の欠
陥検出装置。
13. A defect existing on one main surface of the substrate is extracted from defects detected on the main surface of each of the plurality of substrates by extracting defects existing at substantially equal positions on each main surface from the defect detection result. 13. The defect detection device according to claim 12, wherein defects existing at random are separated.
【請求項14】 上記所定パターンの転写が連続的に行
われることを特徴とする請求項12記載の欠陥検出装
置。
14. The defect detecting apparatus according to claim 12, wherein the transfer of the predetermined pattern is continuously performed.
【請求項15】 上記基板が射出成形法により製造され
たものであることを特徴とする請求項12記載の欠陥検
出装置。
15. The defect detecting apparatus according to claim 12, wherein the substrate is manufactured by an injection molding method.
【請求項16】 上記基板の欠陥が、上記射出成形法に
おいて用いられる転写面の欠陥に起因する欠陥であるこ
とを特徴とする請求項15記載の欠陥検出装置。
16. The defect detecting apparatus according to claim 15, wherein the defect of the substrate is a defect caused by a defect of a transfer surface used in the injection molding method.
【請求項17】 上記基板が平面円環形状を有すること
を特徴とする請求項12記載の欠陥検出装置。
17. The defect detecting apparatus according to claim 12, wherein the substrate has a planar annular shape.
【請求項18】 上記平面円環形状の基板の一主面に存
在する欠陥の位置を検出可能に構成されていることを特
徴とする請求項17記載の欠陥検出装置。
18. The defect detecting apparatus according to claim 17, wherein the position of a defect existing on one main surface of the planar annular substrate is detectable.
【請求項19】 上記平面円環形状の基板の一主面にお
ける上記欠陥を、上記基板の中心からの半径と任意の基
準からの位相とにより確定可能に構成されていることを
特徴とする請求項17記載の欠陥検出装置。
19. The defect on one main surface of the planar annular substrate is defined by a radius from a center of the substrate and a phase from an arbitrary reference. Item 17. The defect detection device according to item 17.
【請求項20】 上記平面円環形状を有する基板がハー
ドディスク基板であることを特徴とする請求項17記載
の欠陥検出装置。
20. The defect detecting apparatus according to claim 17, wherein the substrate having the planar annular shape is a hard disk substrate.
【請求項21】 上記基板の主面に金属膜を成膜した後
に、上記欠陥を検出可能に構成されていることを特徴と
する請求項12記載の欠陥検出装置。
21. The defect detecting apparatus according to claim 12, wherein the defect can be detected after a metal film is formed on the main surface of the substrate.
【請求項22】 上記基板が熱可塑性樹脂からなること
を特徴とする請求項12記載の欠陥検出装置。
22. The defect detection device according to claim 12, wherein the substrate is made of a thermoplastic resin.
【請求項23】 上記基板の主面に存在する欠陥の検出
結果から、少なくとも3枚の基板におけるそれぞれの主
面上で、互いにほぼ等しい位置に存在する欠陥を抽出す
ることにより、上記所定パターン表面の欠陥の位置を特
定可能に構成されていることを特徴とする請求項12記
載の欠陥検出装置。
23. The predetermined pattern surface is obtained by extracting defects existing at substantially equal positions on each of the main surfaces of at least three substrates from the detection result of the defects existing on the main surface of the substrate. 13. The defect detecting device according to claim 12, wherein the position of the defect is identified.
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