JPH0963178A - Inspecting device of optical recording medium, method thereof and manufacturing method - Google Patents

Inspecting device of optical recording medium, method thereof and manufacturing method

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JPH0963178A
JPH0963178A JP24235795A JP24235795A JPH0963178A JP H0963178 A JPH0963178 A JP H0963178A JP 24235795 A JP24235795 A JP 24235795A JP 24235795 A JP24235795 A JP 24235795A JP H0963178 A JPH0963178 A JP H0963178A
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JP
Japan
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bit error
optical recording
recording medium
defect
size
Prior art date
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Pending
Application number
JP24235795A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Nishina
正明 仁科
Osamu Watanabe
修 渡辺
Toshiharu Nakanishi
俊晴 中西
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To increase inspecting accuracy and to estimate the cause of generation of defect by recording data of previously set pattern and detecting/ displaying the generated portion of a bit error and defective size by comparing with the reproduced data. SOLUTION: Data of a previously set pattern are recorded on a recording surface 2 of an optical recording medium 1 by means of an optical head 5 of a bit error detecting means 4 and reproduced by the reflected light. Reproduced data are compared with the recorded data, the bit error of the optical recording medium 1 is detected and the signal is sent to a bit error portion calculating means 8 and defective size calculating means 9. The bit error generating portion and the defective size are calculated and a display screen is prepared by a plotter 11 through a corresponding position.size calculating means 10. A bit error generating position in common with plural optical recording media is calculated by means of a common defect detecting means 14. Consequently, highly accurate defect inspection is enabled, the defect is visually and easily recognized and early feedback to a manufacturing process is possible.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体の検査
装置および検査方法に関し、とくに、光記録媒体の記
録、再生機能に対する欠陥を高精度に、かつ、極めて容
易に認識可能に、しかも、製造工程へ情報フィードバッ
クが可能に検査することのできる、光記録媒体の検査装
置および検査方法、さらにはそれらを用いた光記録媒体
の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an inspection apparatus and an inspection method for an optical recording medium, and more particularly, to a defect in recording and reproducing functions of the optical recording medium with high accuracy and very easily recognizable. The present invention relates to an inspection apparatus and an inspection method for an optical recording medium, which can inspect information in a manufacturing process so that information can be fed back, and a method for manufacturing an optical recording medium using them.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、CCDカメラ等の画像処理装
置を用いて光記録媒体の記録面上の欠陥を検出する欠陥
検査装置はあったが、画像入力装置の分解能に制限さ
れ、検出できる最小欠陥サイズが光記録媒体に発生する
実際の欠陥サイズと比較してかなり大きいものであっ
た。したがって、より高精度に欠陥検出を行うために
は、別途欠陥検出専用の装置を設ける必要がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, there has been a defect inspection device for detecting a defect on a recording surface of an optical recording medium by using an image processing device such as a CCD camera, but the resolution of the image input device is limited and the minimum detectable amount. The defect size was considerably larger than the actual defect size generated in the optical recording medium. Therefore, in order to detect defects with higher accuracy, it is necessary to separately provide a device dedicated to defect detection.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、光記
録媒体の記録、再生機能に対する欠陥を従来にない高精
度で検査でき、かつ、欠陥の位置や大きさ、更には形状
を光記録媒体の記録面に対応する表示画面上に一目で容
易に認識できる程度に表示できるようにし、検査精度を
高めるとともに検査結果から欠陥発生の原因を推定する
ための情報を抽出することにより、製造工程にもフィー
ドバックできるようにすることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to detect defects in the recording and reproducing functions of an optical recording medium with unprecedentedly high precision, and to optically record the position, size, and shape of defects. By displaying information on the display screen corresponding to the recording surface of the medium so that it can be easily recognized at a glance, improving the inspection accuracy and extracting information for estimating the cause of defect occurrence from the inspection result, the manufacturing process Is to be able to provide feedback.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の光記録媒体の検査装置は、光記録媒体に予
め設定したパターンのデータを記録し、再生したデータ
と記録したデータのパターンを比較してビットエラーを
検出するビットエラー検出手段と、該ビットエラーの光
記録媒体上の発生部位を算出するビットエラー発生部位
算出手段と、前記ビットエラーの発生部位のひろがりま
たは発生度数から欠陥サイズを算出する欠陥サイズ算出
手段と、前記ビットエラー発生部位算出手段と前記欠陥
サイズ算出手段の算出結果から光記録媒体の記録面に対
応する表示画面にビットエラーの発生部位と欠陥サイズ
をプロットする欠陥部位・サイズ表示手段と、を有する
ことを特徴とするものからなる。
In order to solve the above problems, an inspection apparatus for an optical recording medium of the present invention records data of a preset pattern on the optical recording medium, and reproduces the reproduced data and the recorded data. From a bit error detecting means for comparing patterns to detect a bit error, a bit error occurrence area calculating means for calculating an occurrence area of the bit error on the optical recording medium, and a spread or occurrence frequency of the bit error occurrence area. Defect size calculating means for calculating the defect size, the bit error occurrence area calculating means, and the calculation result of the defect size calculating means, the bit error occurrence area and the defect size are plotted on the display screen corresponding to the recording surface of the optical recording medium. And a defective portion / size display means for performing the same.

【0005】また、本発明に係る光記録媒体の検査方法
は、光記録媒体に予め設定したパターンのデータを記録
し、再生したデータと記録したデータのパターンを比較
してビットエラーを検出するビットエラー検出ステップ
と、該ビットエラーの光記録媒体上の発生部位を算出す
るビットエラー発生部位算出ステップと、前記ビットエ
ラーの発生部位のひろがりまたは発生度数から欠陥サイ
ズを算出する欠陥サイズ算出ステップと、前記ビットエ
ラー発生部位算出ステップと前記欠陥サイズ算出ステッ
プの算出結果から光記録媒体の記録面に対応する表示画
面にビットエラーの発生部位と欠陥サイズをプロットす
る欠陥部位・サイズ表示ステップと、を有することを特
徴とする方法からなる。
The optical recording medium inspection method according to the present invention is a bit for detecting a bit error by recording data of a preset pattern on the optical recording medium and comparing the reproduced data with the recorded data pattern. An error detection step, a bit error occurrence site calculation step for calculating the occurrence site of the bit error on the optical recording medium, and a defect size calculation step for calculating a defect size from the spread or occurrence frequency of the bit error occurrence site, And a defect site / size display step of plotting the site where the bit error has occurred and the defect size on the display screen corresponding to the recording surface of the optical recording medium from the calculation results of the bit error occurrence site calculation step and the defect size calculation step. The method is characterized by that.

【0006】さらに、本発明に係る光記録媒体の製造方
法は、このような光記録媒体の検査方法に基づく検査工
程を有する方法からなる。
Further, the method for manufacturing an optical recording medium according to the present invention comprises a method having an inspection step based on such an optical recording medium inspection method.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の望ましい実施の
形態を、図面を参照して説明する。図1は、本発明の一
実施態様に係る光記録媒体の検査装置を示している。図
において、1は光記録媒体(たとえば、相変化型光記録
媒体)を示しており、2はその記録面を示している。こ
の検査対象としての光記録媒体1がドライブ装置3によ
って高速で回転される。回転する光記録媒体1の記録面
2に、ビットエラー検出手段4の光学ヘッド5からのレ
ーザ光6によって、予め設定したパターンのデータが記
録され、記録面2からの反射光によって再生(データ読
み出し)が行われる。再生したデータと記録したデータ
のパターンを比較し、光記録媒体1のビットエラーの発
生が検出される。たとえば、セクタ単位にビットエラー
の発生の有無や発生度数が検出されてもよく、単位面積
の微小領域内でのビットエラーの発生回数(「発生度
数」という)を算出してもよい。このビットエラーの検
出には、通常光ディスクの検査工程で使用されているビ
ットエラーレート検査装置を用いることができる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT A preferred embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows an inspection apparatus for an optical recording medium according to an embodiment of the present invention. In the figure, 1 indicates an optical recording medium (for example, a phase change type optical recording medium), and 2 indicates a recording surface thereof. The optical recording medium 1 to be inspected is rotated at high speed by the drive device 3. Data of a preset pattern is recorded on the recording surface 2 of the rotating optical recording medium 1 by the laser light 6 from the optical head 5 of the bit error detecting means 4 and reproduced by the reflected light from the recording surface 2 (data reading). ) Is done. By comparing the pattern of the reproduced data with the pattern of the recorded data, occurrence of a bit error in the optical recording medium 1 is detected. For example, the presence / absence of occurrence of a bit error and the frequency of occurrence of the bit error may be detected for each sector, and the number of times of occurrence of the bit error (referred to as “occurrence frequency”) in a minute area of the unit area may be calculated. To detect this bit error, a bit error rate inspection device usually used in the optical disc inspection process can be used.

【0008】上記ビットエラー検出手段4からの信号
が、コンピュータコントローラ7のビットエラー発生部
位算出手段8と欠陥サイズ算出手段9に送られる。コン
ピュータコントローラ7は、たとえばマイクロコンピュ
ータからなり、該コンピュータ内に以下に説明するよう
な手段がプログラムとして組み込まれている。ビットエ
ラー発生部位算出手段8では、たとえばビットエラーが
発生した記録面2のセクタアドレスと、セクタ内のビッ
トエラー発生バイト位置から該ビットエラーが発生した
記録面上の半径位置および基準位置(たとえば角度0°
の位置)からの角度を演算する。つまり、検出されたビ
ットエラーの発生に関する情報を、セクタアドレスとセ
クタ内のエラー発生バイト情報によりビットエラー発生
部位を記録面2上の実際の物理的位置情報に変換する。
The signal from the bit error detecting means 4 is sent to the bit error occurrence portion calculating means 8 and the defect size calculating means 9 of the computer controller 7. The computer controller 7 is composed of, for example, a microcomputer, and the means described below is incorporated in the computer as a program. In the bit error occurrence portion calculating means 8, for example, the sector address of the recording surface 2 where the bit error occurred, and the radial position and reference position (for example, angle) on the recording surface where the bit error occurred from the bit error occurrence byte position in the sector. 0 °
Position) is calculated. That is, the information on the detected occurrence of the bit error is converted into the actual physical position information on the recording surface 2 by the sector address and the error occurrence byte information in the sector.

【0009】上記欠陥サイズ算出手段9では、検出した
上記ビットエラー発生部位の空間的なひろがりや単位面
積あたりの発生回数から欠陥サイズを演算する。この欠
陥サイズは、実サイズとして演算してもよいが、欠陥の
重篤度としてもとらえてもよい。欠陥の表示に際して
は、多少増幅して誇張したサイズに演算しておく方が、
後述の視覚による欠陥の認識、検査が楽である。
The defect size calculating means 9 calculates the defect size from the spatial spread of the detected bit error occurrence portion and the number of occurrences per unit area. This defect size may be calculated as an actual size, or may be calculated as the severity of the defect. When displaying a defect, it is better to calculate it to an exaggerated size with some amplification.
It is easy to visually recognize and inspect defects, which will be described later.

【0010】上記ビットエラー発生部位算出手段8と欠
陥サイズ算出手段9からの信号は、対応位置・サイズ算
出手段10に送られる。対応位置・サイズ算出手段10
では、後述のプロッタ11にて描かせる、光記録媒体1
の記録面2に対応する平面図あるいはワイヤーフレーム
図、立体棒グラフ等の三次元図等の表示画面(図2、図
3)上へのプロットの実際の位置、サイズを決める。し
たがって、この信号に基づいて、プロッタ11により図
2、図3に示すような、欠陥を表示した表示画面が作成
される。
The signals from the bit error occurrence portion calculating means 8 and the defect size calculating means 9 are sent to the corresponding position / size calculating means 10. Corresponding position / size calculating means 10
Then, the optical recording medium 1 to be drawn by the plotter 11 described later
The actual position and size of the plot on the display screen (FIGS. 2 and 3) such as a plan view corresponding to the recording surface 2 of FIG. Therefore, based on this signal, the plotter 11 creates a display screen displaying defects as shown in FIGS.

【0011】上記対応位置・サイズ算出手段10の信号
を拡大手段12で処理することにより、プロッタ11で
描かせる表示画面を単に拡大したり、部分的に切り取っ
て拡大表示したりすることができる。これら対応位置・
サイズ算出手段10、プロッタ11および拡大手段12
は、本発明でいう欠陥部位・サイズ表示手段13を構成
している。但し、上記拡大手段12は特に設けなくても
よい。また、表示手段13はプロッタ等のハードコピー
装置であってもよく、ディスプレイ装置などのソフトコ
ピー装置であってもよい。
By processing the signal of the corresponding position / size calculating means 10 by the enlarging means 12, the display screen drawn by the plotter 11 can be simply enlarged or can be partially cut and enlarged and displayed. These corresponding positions
Size calculating means 10, plotter 11 and enlarging means 12
Constitutes the defective portion / size display means 13 in the present invention. However, the enlarging means 12 may not be provided in particular. The display means 13 may be a hard copy device such as a plotter or a soft copy device such as a display device.

【0012】さらに、本実施態様では、コンピュータコ
ントローラ7内に共通欠陥検出手段14が設けられてい
る。この共通欠陥検出手段14では、複数の光記録媒体
が検査工程を流れていく場合、前記ビットエラー発生部
位算出手段8による算出結果に基づき、複数の光記録媒
体に共通するビットエラー発生位置を割り出す。そして
この共通欠陥検出手段14によるモードを選択すれば、
プロッタ11によって上記複数の光記録媒体に共通する
ビットエラー発生位置が表示されるようになっている。
Further, in this embodiment, the common defect detecting means 14 is provided in the computer controller 7. When a plurality of optical recording media flow through the inspection process, the common defect detecting means 14 determines the bit error occurrence position common to the plurality of optical recording media based on the calculation result by the bit error occurrence part calculating means 8. . If the mode selected by the common defect detecting means 14 is selected,
The plotter 11 displays the bit error occurrence position common to the plurality of optical recording media.

【0013】上記のように構成された光記録媒体の検査
装置を用いた検査方法および光記録媒体の製造方法にお
いては、従来のCCDカメラ等の画像処理装置を用いる
場合に比べ、格段に小さい単位で、つまりビットサイズ
での検査が可能になる。したがって、極めて高精度で正
確な欠陥検査が可能となる。
In the inspection method and the optical recording medium manufacturing method using the optical recording medium inspection apparatus configured as described above, the unit is significantly smaller than that in the case of using the conventional image processing apparatus such as a CCD camera. Therefore, it is possible to inspect at bit size. Therefore, extremely accurate and accurate defect inspection is possible.

【0014】また、この検査は、実際に記録、再生した
データの比較により行われるので、光記録媒体1の記録
層自身の欠陥や、基板成形時に発生するトラック溝の欠
陥などまで測定できる。つまり、反射率が一定の場合に
あっても、他のばらつき要因や欠陥による、記録、再生
上の欠陥まで測定できる。あるいは、基板の情報記録面
側に形成されたミクロンオーダーの微小なトラック溝形
状の転写不良等により引起される記録再生上の欠陥まで
測定できる。さらに、レーザ光のパワー(記録パワー)
を変えれば、反射率特性まで含めた特性を高精度で測定
することが可能である。
Further, since this inspection is carried out by comparing actually recorded and reproduced data, it is possible to measure the defect of the recording layer itself of the optical recording medium 1 and the defect of the track groove generated at the time of molding the substrate. In other words, even if the reflectance is constant, it is possible to measure defects in recording and reproduction due to other variation factors and defects. Alternatively, it is possible to measure even a recording / reproduction defect caused by a transfer defect of a microscopic track groove shape formed on the information recording surface side of the substrate. In addition, laser light power (recording power)
By changing, it is possible to measure the characteristics including the reflectance characteristics with high accuracy.

【0015】また、上記高精度で検出される欠陥情報を
プロッタ11によって、光記録媒体1の記録面2に対応
する表示画面上に描くので、欠陥分布を視覚的に(つま
り一目で)容易に確認できる。たとえば図2および図3
に欠陥情報をプロットした平面図の例21、22を示す
が、図2に示す例では、外周近傍の位置で、かつ、基準
位置(0°位置)から約90°〜240°の位置に、欠
陥が断続的かつ集中的に発生している。図3に示す例で
は、欠陥の集中箇所が全くなく、ビットエラーレートと
しても均一で小さく、実用上問題なく優れた製品である
ことが判る。このように、欠陥の発生状況、分布が一目
で確認できる。
Further, since the defect information detected with high accuracy is drawn on the display screen corresponding to the recording surface 2 of the optical recording medium 1 by the plotter 11, the defect distribution can be visually (ie, at a glance) easily. I can confirm. For example, FIGS. 2 and 3
Examples 21 and 22 of the plan view in which the defect information is plotted are shown in FIG. 2, but in the example shown in FIG. 2, at a position near the outer periphery and at a position of about 90 ° to 240 ° from the reference position (0 ° position), Defects occur intermittently and intensively. In the example shown in FIG. 3, it can be seen that there are no defect concentration points, the bit error rate is uniform and small, and it is an excellent product with no practical problems. In this way, the occurrence status and distribution of defects can be confirmed at a glance.

【0016】また、拡大手段12により、ある部分、た
とえば図2のプロットされた平面図21の外周部分23
を図4に示すように拡大して表示すれば、欠陥の分布が
局部的にもさらに明確になる。
Further, by the enlarging means 12, a certain portion, for example, an outer peripheral portion 23 of the plotted plan view 21 of FIG.
By enlarging and displaying as shown in FIG. 4, the distribution of defects becomes even clearer locally.

【0017】図2や図4に示されるような欠陥の発生情
報は、光記録媒体の製造工程にフィードバックできる。
たとえば、大きく広がった欠陥の分布や図3に示される
欠陥のポイントの分布数が異常に多くなったりした場合
には、製造プロセス中での膜の剥離や、成膜時、ハンド
リング時のゴミ付着等によるピンホール欠陥の増大など
が、推定可能となり、同一スタンパで複数のディスクの
同じ箇所に欠陥が発生する場合には、光記録媒体の基板
成形用のスタンパに欠陥がある等の推定が可能となる。
また、記録に悪影響を与える、例えばハードコート層、
オーバーコート層の塗布層に発生した欠陥、更には、ハ
ンドリング治具の不良により搬送ディスクに傷を付ける
場合なども検出できるため、適切なフィードバックにつ
なげることができる。
The defect occurrence information as shown in FIGS. 2 and 4 can be fed back to the manufacturing process of the optical recording medium.
For example, if the distribution of defects that have spread widely or the number of distributions of defect points shown in FIG. 3 increases abnormally, the film may peel during the manufacturing process, or dust may adhere during film formation or during handling. It is possible to estimate an increase in pinhole defects due to the above, etc., and if defects occur at the same location on multiple disks with the same stamper, it is possible to estimate that there is a defect in the stamper for molding the optical recording medium substrate. Becomes
Further, it adversely affects recording, for example, a hard coat layer,
Since it is possible to detect defects that occur in the coating layer of the overcoat layer, and also when the transport disc is scratched due to a defective handling jig, it is possible to provide appropriate feedback.

【0018】また、欠陥の分布のみならずそのサイズも
表示させているので、たとえば湿熱テストを行いその前
後、あるいは途中の状態を表示させることにより、湿熱
条件下での欠陥の発生や成長の過程を把握することも可
能である。たとえば、記録層界面の接着剥がれによる欠
陥、ピンホールからの腐食の進行などを経時的に追うこ
とにより原因を絞り込み、適切な対策に結びつけること
ができる。
Further, since not only the distribution of defects but also the size thereof is displayed, for example, by displaying a state before, after, or in the middle of a wet heat test, the process of occurrence and growth of defects under wet heat conditions. It is also possible to grasp. For example, it is possible to narrow down the cause by chronologically tracking the defects due to the peeling of the adhesive at the interface of the recording layer, the progress of corrosion from the pinholes, and take appropriate measures.

【0019】さらに、共通欠陥検出手段14のモードを
用いれば、複数の光記録媒体の共通欠陥データを抽出す
ることができ、その欠陥が製造のどの工程に起因して発
生しているかを、より正確に把握することが可能とな
る。たとえば、同一スタンパで一連に作られた光記録媒
体の複数ディスクの同一箇所に欠陥が発生する場合に
は、光記録媒体の基板成形用のスタンパに欠陥がある等
の推定が可能となる。
Further, by using the mode of the common defect detecting means 14, the common defect data of a plurality of optical recording media can be extracted, and it is possible to determine which manufacturing process causes the defect. It becomes possible to grasp it accurately. For example, when defects occur at the same location on a plurality of optical recording medium discs made in series with the same stamper, it is possible to estimate that the stamper for molding the substrate of the optical recording medium has a defect.

【0020】したがって、上述のような高精度でかつ正
確な、しかも光記録媒体1の記録面と対応した欠陥情報
が判れば、光記録媒体の製造工程への迅速でかつ適切な
フィードバックか可能となる。その結果、高精度な検査
のみならず、不良品を発生させないための製造工程の適
切な処理が可能となり、より高品質の光記録媒体の製造
や収率の向上に寄与することができる。
Therefore, if the defect information corresponding to the recording surface of the optical recording medium 1 with high precision and accuracy as described above is known, it is possible to provide quick and appropriate feedback to the manufacturing process of the optical recording medium. Become. As a result, not only high-accuracy inspection but also appropriate processing of the manufacturing process for preventing defective products can be performed, which can contribute to manufacturing of higher quality optical recording medium and improvement of yield.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光記録媒
体の検査装置、検査方法および光記録媒体の製造方法に
よるときは、従来にない高精度で欠陥を検査することが
できるとともに、該欠陥の位置、サイズ、形状、分布を
視覚的に容易に認識することができ、欠陥の分析と光記
録媒体製造工程への早期のフィードバックを容易に行う
ことができる。その結果、より高い検査精度によるより
確実な品質保証、製造工程への的確なフィードバックに
よる生産性の向上をはかることができる。
As described above, according to the optical recording medium inspection apparatus, inspection method, and optical recording medium manufacturing method of the present invention, defects can be inspected with an unprecedentedly high precision, and The position, size, shape, and distribution of defects can be easily visually recognized, and defect analysis and early feedback to the optical recording medium manufacturing process can be easily performed. As a result, more reliable quality assurance can be achieved by higher inspection accuracy, and productivity can be improved by appropriate feedback to the manufacturing process.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施態様に係る光記録媒体の検査装
置の概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an optical recording medium inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の装置による検査結果の一例を示す光記録
媒体記録面の平面図である。
FIG. 2 is a plan view of a recording surface of an optical recording medium showing an example of inspection results by the apparatus of FIG.

【図3】図1の装置による別の検査結果を示す光記録媒
体記録面の平面図である。
FIG. 3 is a plan view of a recording surface of an optical recording medium showing another inspection result by the apparatus of FIG.

【図4】図2の平面図の一部を拡大した部分平面図であ
る。
FIG. 4 is a partial plan view in which a part of the plan view of FIG. 2 is enlarged.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光記録媒体 2 記録面 3 ドライブ装置 4 ビットエラー検出手段 5 光学ヘッド 6 レーザ光 7 コンピュータコントローラ 8 ビットエラー発生部位算出手段 9 欠陥サイズ算出手段 10 対応位置・サイズ算出手段 11 プロッタ 12 拡大手段 13 欠陥部位・サイズ表示手段 14 共通欠陥検出手段 21、22 表示画面としての記録面平面図 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical recording medium 2 Recording surface 3 Drive device 4 Bit error detection means 5 Optical head 6 Laser light 7 Computer controller 8 Bit error occurrence site calculation means 9 Defect size calculation means 10 Corresponding position / size calculation means 11 Plotter 12 Enlargement means 13 Defects Part / size display means 14 Common defect detection means 21, 22 Plan view of recording surface as display screen

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G11B 20/18 572 9558−5D G11B 20/18 572F ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI technical display location G11B 20/18 572 9558-5D G11B 20/18 572F

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光記録媒体に予め設定したパターンのデ
ータを記録し、再生したデータと記録したデータのパタ
ーンを比較してビットエラーを検出するビットエラー検
出手段と、該ビットエラーの光記録媒体上の発生部位を
算出するビットエラー発生部位算出手段と、前記ビット
エラーの発生部位のひろがりまたは発生度数から欠陥サ
イズを算出する欠陥サイズ算出手段と、前記ビットエラ
ー発生部位算出手段と前記欠陥サイズ算出手段の算出結
果から光記録媒体の記録面に対応する表示画面にビット
エラーの発生部位と欠陥サイズをプロットする欠陥部位
・サイズ表示手段と、を有することを特徴とする光記録
媒体の検査装置。
1. A bit error detecting means for detecting a bit error by recording data of a preset pattern on an optical recording medium, comparing reproduced data with the pattern of the recorded data, and an optical recording medium having the bit error. Bit error occurrence site calculation means for calculating the above occurrence site, defect size calculation means for calculating a defect size from the spread or occurrence frequency of the bit error occurrence site, the bit error occurrence site calculation means and the defect size calculation An optical-recording-medium inspection apparatus, comprising: a defective portion / size display means for plotting a portion where a bit error has occurred and a defective size on a display screen corresponding to the recording surface of the optical recording medium based on the calculation result of the means.
【請求項2】 複数の光記録媒体についての前記ビット
エラー発生部位算出手段による算出結果に基づき、前記
複数の光記録媒体に共通するビットエラー発生部位を割
り出す共通欠陥検出手段を有する、請求項1の光記録媒
体の検査装置。
2. A common defect detecting means for deciding a bit error occurrence portion common to the plurality of optical recording media based on a calculation result by the bit error occurrence portion calculating means for a plurality of optical recording media. Optical recording medium inspection device.
【請求項3】 前記欠陥部位・サイズ表示手段が、前記
表示画面のプロット部位の一部を拡大表示する機能を有
している、請求項1または2の光記録媒体の検査装置。
3. The optical recording medium inspection apparatus according to claim 1, wherein the defective portion / size display means has a function of enlarging and displaying a part of a plot portion of the display screen.
【請求項4】 光記録媒体に予め設定したパターンのデ
ータを記録し、再生したデータと記録したデータのパタ
ーンを比較してビットエラーを検出するビットエラー検
出ステップと、該ビットエラーの光記録媒体上の発生部
位を算出するビットエラー発生部位算出ステップと、前
記ビットエラーの発生部位のひろがりまたは発生度数か
ら欠陥サイズを算出する欠陥サイズ算出ステップと、前
記ビットエラー発生部位算出ステップと前記欠陥サイズ
算出ステップの算出結果から光記録媒体の記録面に対応
する表示画面にビットエラーの発生部位と欠陥サイズを
プロットする欠陥部位・サイズ表示ステップと、を有す
ることを特徴とする光記録媒体の検査方法。
4. A bit error detection step of recording data of a preset pattern on an optical recording medium, comparing the reproduced data and the pattern of the recorded data to detect a bit error, and an optical recording medium of the bit error. A bit error occurrence site calculation step for calculating the above occurrence site, a defect size calculation step for calculating a defect size from the spread or occurrence frequency of the bit error occurrence site, the bit error occurrence site calculation step and the defect size calculation A method for inspecting an optical recording medium, comprising: a defect site / size display step of plotting a site where a bit error has occurred and a defect size on a display screen corresponding to the recording surface of the optical recording medium based on the calculation result of the step.
【請求項5】 請求項4の光記録媒体の検査方法に基づ
く検査工程を有することを特徴とする光記録媒体の製造
方法。
5. A method of manufacturing an optical recording medium, which comprises an inspection step based on the method of inspecting an optical recording medium according to claim 4.
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