JP2003005200A - 真空チャンバ及びその真空チャンバを用いた液晶注入装置 - Google Patents
真空チャンバ及びその真空チャンバを用いた液晶注入装置Info
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Abstract
空チャンバ、及びその真空チャンバを有した液晶注入装
置の提供。 【解決手段】 真空チャンバ11に、液晶セル1と液晶
皿2とを相対的に接近させる液晶皿昇降機構16と、内
部を真空排気するための真空ポンプ13とN2ガスを導
入して大気圧に戻すためのN2源とが設けられ、真空チ
ャンバ11内を真空ポンプ13で真空状態にして液晶セ
ル1を真空引きした後に、液晶昇降機構16で液晶セル
1の液晶注入口が液晶皿2の液晶に接触するよう相対的
に接近してからN2ガスで真空チャンバ11内を大気圧
に戻すと共に、真空チャンバ11の外壁面18に設けた
加熱・冷却機構20で加熱することにより、液晶セル1
への液晶の注入を促進する。
Description
ル等のワークを加熱する真空チャンバと、その真空チャ
ンバ内で液晶セルに液晶を注入する液晶注入装置に関す
る。
置について、図4を用いて説明する。動作開始前、真空
バルブ、N2導入バルブは閉じられた状態、真空ポンプ
は動作状態となっている。
晶セル1、及び液晶を収容した液晶皿2を真空チャンバ
11へ搬送し、扉12を閉める。そして、真空バルブ1
4を開き、真空チャンバ11内を真空引きし、所定圧に
達するか又は所定時間が経過したら、液晶皿昇降機構1
6を上昇させ、液晶セル1の液晶注入口に液晶を接液さ
せる。そして、真空バルブ14を閉め、N2導入バルブ
15を開き、真空チャンバ11内を大気圧に戻すこと
で、真空となっている液晶セル1内に液晶が浸入しはじ
める。
真空チャンバ11内に設けられた加熱ヒータ(図示省
略)でチャンバ内雰囲気温度(約60度)に昇温する。
また、液晶の注入が完了すると、オペレータが液晶セル
1の取り出しができるように、真空チャンバ11内に設
けられ冷却水ジャケット(図示省略)に冷却水を循環す
ることで冷却し、真空チャンバ11内を約30度まで降
温している。なお、真空チャンバ11内では、ファンに
よる循環を行なうことで、これら加熱や冷却の均一化、
効率化を促進している。
うな加熱ヒータや冷却水ジャケットは真空チャンバ11
の内部に設けられており、真空チャンバ11内でダスト
が発生しやすくなり、液晶へのダストの混入という問題
点がある。また、冷却水の真空チャンバ11への導入部
において、水漏れが発生しやすいという問題点がある。
さらに、真空チャンバ11内に、加熱ヒータや冷却水ジ
ャケットのスペースを確保しなければならず、また、熱
交換を良くするために、真空チャンバ11内でスペース
を確保する必要があって、真空チャンバ11が大型化す
るし、さらに、真空チャンバ11内に、加熱ヒータや冷
却水ジャケットを導くため、密閉性の確保が難しいとい
う問題点もある。
く、収容する液晶セル等のワークに影響を与えることな
く、かつ、装置構成の簡単な真空チャンバおよびその真
空チャンバを利用した液晶注入装置を提供することを目
的とする。
は、収容したワークを加熱する真空チャンバであって、
真空チャンバの外壁面を加熱・冷却機構で加熱若しくは
冷却することを特徴とする。
いて、真空チャンバの外壁面に当接した冷却水ジャケッ
トに冷却媒体を適宜循環して真空チャンバの外壁面を冷
却すると共に、冷却水ジャケットを加熱ヒータで適宜加
熱し、冷却媒体を加熱することで真空チャンバの外壁面
を加熱することを特徴とする。
された液晶を液晶セルに注入する液晶注入装置であっ
て、上記第1発明若しくは第2発明の真空チャンバに、
液晶セルと液晶皿とを相対的に接近させる移動機構と、
内部を真空排気するための真空排気系と不活性ガスを導
入して大気圧に戻すための不活性ガス導入系とが設けら
れ、真空チャンバ内を真空排気系で真空状態にして液晶
セルを真空引きした後に、移動機構で液晶セルの液晶注
入口が液晶皿の液晶に接触するよう相対的に接近してか
ら不活性ガス導入系で注入室内を大気圧に戻すと共に、
加熱・冷却機構で加熱することにより、液晶を液晶セル
に注入する。
実施の形態を詳細に説明する。図1は本実施例の真空チ
ャンバの外観図、図2は真空チャンバに設けられた加熱
・冷却機構の部分断面図、図3は本実施例の真空チャン
バを使用する液晶注入装置の概略構成を示した図であ
る。
セル1及び液晶皿2が搬送される真空チャンバ11に
は、液晶セル1の保持機構(図示省略)と、保持された
液晶セル11に対して、液晶皿2を接液状態とするよう
に移動する液晶皿昇降機構16とを備える。真空チャン
バ11には、内部を真空排気する真空ポンプ13が真空
バルブ14を介して接続され、また、内部を大気圧に戻
す際に供給されるN2源がN2導入バルブ15を介して
接続されている。
は、真空チャンバの強度を強化するため、図1の外観図
で示すように、格子状にリブ17が設けられている。そ
して、外壁面18のうち、1つの面は、上記したよう
に、開閉可能な扉12として構成されており、扉12の
開閉により、液晶セル1と液晶皿2が真空チャンバ11
内へ収容される。
線部)には、それぞれ、図2に示すような加熱・冷却機
構20が設けられている。外壁面18には、冷却水ジャ
ケット21が当接して設けられており、この冷却水ジャ
ケット21を通過して冷却水が循環されるよう、流入ポ
ート22と流出ポート23とが設けられている。また、
冷却水ジャケット21における外壁面18との反対側の
面には、冷却水を加熱するために、シースヒータ24が
設けられ、さらに、SUS板25、テフロン板26の順
で、シースヒータ24は覆われている。なお、SUS板
25には、熱電対(図示省略)が設けられており、温度
信号を利用した温度調節が行なわれる。
の循環をON/OFFすることが適宜可能であると共
に、シースヒータ24における加熱のON/OFFも適
宜可能であり、真空チャンバ11を加熱する時は、冷却
水の循環を停止すると共に、シースヒータをONして、
冷却水を加熱することで、加熱された冷却水でチャンバ
11内を加熱する。また、真空チャンバ11内を冷却す
る時は、シースヒータをOFFすると共に、冷却水を循
環して熱交換することで、真空チャンバ11内を冷却す
る。
る。動作開始前、真空バルブ14、N2導入バルブ15
は閉じられた状態、真空ポンプ13は動作状態となって
いる。まず、扉12を開け、液晶を注入すべき液晶セル
1、及び液晶を収容した液晶皿2を離した状態でチャン
バ11へ搬入し扉12を閉じ、真空チャンバ11内を密
閉する。
空引きし所定圧に達するか、所定時間が経過したら、液
晶皿昇降機構16を上昇させ、液晶セル1の液晶注入口
に液晶を接液する。そして、真空バルブ14を閉じ、N
2導入バルブ15を開き、真空チャンバ11を大気圧に
戻すと、真空となっている液晶セル1内に液晶が注入し
はじめる。
をONとすることで、循環するのを停止されている冷却
水ジャケット21の冷却水を加熱する。このとき、シー
スヒータ24はSUS板25、さらにはテフロン(登録
商標)板26に覆われているので、外部へ熱が逃げるの
が抑制されると共に、SUS板25へ伝わった熱で、冷
却水ジャケット21の表面を均一に加熱するので、エネ
ルギー効率が向上する。なお、テフロン板26で覆うこ
とで、高温化するSUS板25が露出しないので、安全
性も十分に確保される。
共に冷却水を加熱することで、その熱が真空チャンバ1
1の外壁面18に伝わり、真空チャンバ11内も約60
度まで加熱することが可能となり、真空チャンバ11内
での液晶の注入を促進することができる。
る所定時間経過後、シースヒータ24をOFFすると共
に、冷却水ジャケット21に冷却水を循環し、真空チャ
ンバ11の外壁面18を冷却することで、オペレータ
が、液晶セル1と液晶皿2を取り出し可能な約30度ま
で真空チャンバ11内を冷却する。
1にシースヒータ24を設け、加熱時は、循環しない冷
却水を加熱し、冷却時はシースヒータ24をOFFし、
冷却水を循環したが、シースヒータ24をなくし、冷却
水ジャケット21の外部で、冷水や温水を用意して、適
宜それらを循環するよう構成してもよい。
使用しているが、水以外の冷却媒体を使用しても実施可
能である。
ァン(図示省略)を設け、真空チャンバ内をファンによ
って循環して、加熱や冷却を均一化しているので、収容
したワーク、特に、液晶セルや液晶皿の温度分布の差が
±3度以内に収まり、温度ムラによってワークに及ぼさ
れる影響が抑制される。
・冷却機構が真空チャンバの外部に設けらるので、真空
チャンバ内でダストが発生しにくくなるので、加熱すべ
きワーク、特に、液晶や液晶セルへのダストの混入が防
止できるし、冷却水等冷却媒体の漏れがなくなる。ま
た、真空チャンバ内の密閉性の確保も容易となる。さら
に、真空チャンバ内に、加熱・冷却機構を設置するため
のスペースが不要となるので、真空チャンバが大型化し
ない。
機構の部分断面図
概略構成図。
Claims (3)
- 【請求項1】 収容したワークを加熱する真空チャンバ
において、真空チャンバの外壁面を加熱若しくは冷却す
る加熱・冷却機構を備えたことを特徴とする真空チャン
バ。 - 【請求項2】 前記加熱・冷却機構は、前記真空チャン
バの外壁面に当接され、冷却媒体を適宜循環する冷却水
ジャケットと共に、前記冷却水ジャケットを適宜加熱す
る加熱ヒータからなることを特徴とする請求項1に記載
の真空チャンバ。 - 【請求項3】 液晶皿に収容された液晶を液晶セルに注
入する液晶注入装置であって、請求項1若しくは請求項
2に記載の真空チャンバを具備すると共に、前記真空チ
ャンバには、前記液晶セルと前記液晶皿とを相対的に接
近させる移動機構と、内部を真空排気するための真空排
気系と不活性ガスを導入して大気圧に戻すための不活性
ガス導入系とが設けられ、前記真空チャンバを前記真空
排気系で真空状態にして前記液晶セルを真空引きした後
に、前記移動機構で前記液晶セルの液晶注入口が前記液
晶皿の液晶に接触するよう相対的に接近してから前記不
活性ガス導入系で前記真空チャンバ内を大気圧に戻すと
共に、前記加熱・冷却機構で加熱することにより、液晶
を前記液晶セルに注入することを特徴とする液晶注入装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001185799A JP4003412B2 (ja) | 2001-06-20 | 2001-06-20 | 真空チャンバ及びその真空チャンバを用いた液晶注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003005200A true JP2003005200A (ja) | 2003-01-08 |
JP4003412B2 JP4003412B2 (ja) | 2007-11-07 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP4003412B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007073542A (ja) * | 2005-09-02 | 2007-03-22 | Tokyo Electron Ltd | 真空チャンバおよび真空処理装置 |
-
2001
- 2001-06-20 JP JP2001185799A patent/JP4003412B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2007073542A (ja) * | 2005-09-02 | 2007-03-22 | Tokyo Electron Ltd | 真空チャンバおよび真空処理装置 |
TWI406332B (zh) * | 2005-09-02 | 2013-08-21 | Tokyo Electron Ltd | Vacuum chamber and vacuum treatment device |
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---|---|
JP4003412B2 (ja) | 2007-11-07 |
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