JP2003005197A - Method and device for producing liquid crystal display element - Google Patents

Method and device for producing liquid crystal display element

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JP2003005197A
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正美 尊田
Makoto Onizuka
誠 鬼塚
Hiroshi Onodera
博 小野寺
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display element which has cell gap uniformity in a liquid crystal cell. SOLUTION: A manufacturing method for obtaining an aligned substrate having a desired cell gap by aligning a substrate 14 which has image display parts 3A1 to 2An formed almost in matrix and a substrate 12 together is characterized by comprising the stages of applying a main sealant 15 to the circumference of an image display part formed on one substrate; applying an outer circumferential sealant 16 so that the outermost circumference of an area where the main sealants 15 are arranged is surrounded with the sealant 16; temporarily aligning the two substrates under a vacuum while pressing and holding them by upper and lower surface plates 27 and 28 and forming a sealed space between the two substrates with the outer circumferential sealant; forming the aligned substrate 31 by causing a leak from the vacuum atmosphere to the atmospheric pressure in the temporary aligning state and pressing the two substrates until the desired cell gasp is obtained; measuring the cell gap of the aligned substrate; and performing regular alignment by irradiating the aligned substrate with the desired cell gap with ultraviolet rays.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プロジェクター,
プロジェクションTV等の基幹部品である液晶表示素子
に関し、特に、高精度なセルギャップの均一性が要求さ
れる貼合せ工程に関する液晶表示素子の製造装置及びそ
の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a projector,
The present invention relates to a liquid crystal display element which is a basic component of a projection TV or the like, and more particularly to a manufacturing apparatus and a manufacturing method of the liquid crystal display element in a laminating step that requires highly accurate cell gap uniformity.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、シリコンIC(ウエハー)基板と
ガラス基板を貼り合わせた液晶表示素子は、プロジェク
ターやプロジェクションTV、ヘッドマウントディスプ
レイ等への応用が進み、その生産量はますます拡大して
いる。そして、かかる用途に適応した液晶表示素子に関
する出願を、本出願人は、先に特願2001−8643
号(平成13年1月17日出願 以下、先の出願と呼
ぶ)として行っている。以下、図9、図10を参照して
かかる液晶表示素子10について概説する。
2. Description of the Related Art In recent years, a liquid crystal display device in which a silicon IC (wafer) substrate and a glass substrate are bonded together has been applied to a projector, a projection TV, a head mounted display, etc., and the production amount thereof is expanding more and more. . The applicant previously filed an application for a liquid crystal display device adapted to such a use, in Japanese Patent Application No. 2001-8643.
No. (filed on January 17, 2001, hereinafter referred to as the previous application). Hereinafter, the liquid crystal display element 10 will be outlined with reference to FIGS. 9 and 10.

【0003】先の出願に記載された液晶表示素子10
は、図9、図10に示すように、透明導電膜1を表面に
有するガラス基板2と、画素電極(表示エリア)3を表
面に有するシリコンIC基板4を相対向させ、その隙間
(セルギャップ)に後述する液晶5とこのセルギャップ
を決めるために、接着剤とスペーサ6とよりなるシール
接着剤7で固着し、前記したガラス基板2の表面に反射
防止膜8を設けて構成している。なお、9は封止部とな
る液晶注入口である。この両図より明らかな如く、先の
出願に記載された液晶表示素子10には、2枚の貼り合
わされた液晶セル内に、隙間を保つためのスペーサは設
けられていないものである。
Liquid crystal display device 10 described in the previous application
As shown in FIGS. 9 and 10, the glass substrate 2 having the transparent conductive film 1 on the surface and the silicon IC substrate 4 having the pixel electrode (display area) 3 on the surface are opposed to each other, and the gap (cell gap In order to determine the cell gap with the liquid crystal 5 which will be described later, it is fixed by a seal adhesive 7 composed of an adhesive and a spacer 6, and an antireflection film 8 is provided on the surface of the glass substrate 2 described above. . A liquid crystal injection port 9 serves as a sealing portion. As is clear from these figures, the liquid crystal display element 10 described in the previous application does not include a spacer for maintaining a gap in the two liquid crystal cells bonded together.

【0004】ところで、高精細表示等に適用される液晶
表示素子にあっては、前記したガラス基板2と、シリコ
ンIC基板4間のセルギャップの均一性をいかに制御で
きるかが表示品質、とりわけ画面の明るさの均一性に対
して重要である。セルギャップの均一性は、前記したガ
ラス基板2と、シリコンIC基板4間の貼合せ工程で決
定されるといっても過言ではない。
By the way, in a liquid crystal display device applied to high-definition display or the like, how to control the uniformity of the cell gap between the glass substrate 2 and the silicon IC substrate 4 is a display quality, especially a screen. Is important for brightness uniformity. It is no exaggeration to say that the uniformity of the cell gap is determined in the bonding step between the glass substrate 2 and the silicon IC substrate 4 described above.

【0005】より具体的にその点について説明すると、
昨今では液晶表示素子の画像表示に高速応答が求めら
れ、液晶表示素子のセルギャップが従来の5μm以上か
ら3μm、さらには1μm近くまで小さくなっており、
それに従ってセルギャップの均一性への要求が厳しくな
ってきているからである。これは、前記した如く、表示
画像の明暗ムラ,色ムラを低減する要求があるためであ
る。
More specifically, that point will be described.
In recent years, high-speed response is required for image display of liquid crystal display elements, and the cell gap of liquid crystal display elements has been reduced from 5 μm or more in the past to 3 μm, and even to 1 μm,
This is because the requirement for the uniformity of the cell gap has become stricter accordingly. This is because, as described above, there is a demand to reduce the uneven brightness and the uneven color of the display image.

【0006】一方、従来から、薄膜トランジスタを基板
表面に形成するアクティブマトリクス型や、CMOSト
ランジスタ駆動になる反射型の液晶表示素子の製造工程
において、2枚の基板を貼り合せて液晶セルを形成する
場合、(1)の方法として、基板の両外側から定盤によ
ってプレスする方法、(2)の方法として、エアバッグ
や可撓性シートで2枚の基板を包み、その内部内を減圧
状態にしてエアバッグの外側からの大気圧でプレスする
方法、(3)の方法として、2枚の基板の内側(シール
剤によって閉じられた空間)の圧力と大気圧との差圧を
利用してプレスする方法等がある。
On the other hand, conventionally, in the process of manufacturing an active matrix type liquid crystal display device in which a thin film transistor is formed on the surface of a substrate or a reflection type liquid crystal display device driven by a CMOS transistor, two substrates are bonded together to form a liquid crystal cell. , (1) method of pressing from both outer sides of the substrate with a surface plate, and (2) method of wrapping the two substrates with an air bag or a flexible sheet and depressurizing the inside. As a method of pressing at the atmospheric pressure from the outside of the airbag, and as a method of (3), the pressing is performed by using the pressure difference between the pressure inside the two substrates (the space closed by the sealant) and the atmospheric pressure. There are ways.

【0007】(1)の方法としては、例えば、特開平6
−18829号公報や特開平9−243982号公報等
に記載のものがある。これら両公報に記載の如く、上、
下定盤を剛体で構成したものによるプレス方法では、
上、下定盤の平坦度や平行度が重要であり、定盤の平行
度や平坦度の影響を受けないように基板変位及びセルギ
ャップ測定の結果を、プレス圧にフィードバックした
り、一方の定盤に溝つけを行って、基板と定盤間に異物
が入ってもセルギャップの均一性が悪化しないようにし
ている。
As the method (1), for example, Japanese Patent Laid-Open No.
-18829 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-243982. As described in both of these publications,
In the pressing method using a rigid lower platen,
The flatness and parallelism of the upper and lower stools are important, and the results of substrate displacement and cell gap measurement are fed back to the press pressure or one of the slabs is measured so that the parallelism and flatness of the stool are not affected. The board is grooved so that the uniformity of the cell gap does not deteriorate even if foreign matter enters between the substrate and the surface plate.

【0008】また(2)の方法としては、特開平10−
115830号公報や特開平11−337954号公報
等に記載のものがある。これら両公報に記載の如くの方
法は、可撓性の気密シートにより2枚の基板を包んで気
密シート内を減圧状態にして、外側から大気圧により貼
り合せるものである。
The method (2) is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 10-
There are those described in JP-A-115830, JP-A-11-337954 and the like. In the methods as described in both of these publications, two substrates are wrapped with a flexible airtight sheet so that the inside of the airtight sheet is depressurized, and the airtight sheets are bonded from the outside by atmospheric pressure.

【0009】さらに(3)の方法としては、特開平5−
34653号公報、特開平8−201747号公報、特
開平11−194352号公報、特開平11−2819
88号公報等に記載のものがある。これら各公報に記載
の如くの方法は、2枚の基板とその内側に施したシール
剤によって閉じられた空間(空セルに相当)の圧力を減
圧して、基板の外側の大気圧との差圧により基板全体を
プレス成型するものである。
Further, as the method (3), Japanese Patent Laid-Open No.
No. 34653, No. 8-201747, No. 11-194352, and No. 11-2819.
There is one described in Japanese Patent No. 88, etc. In the methods as described in these publications, the pressure in the space (corresponding to an empty cell) closed by the two substrates and the sealing agent applied to the inside of the substrates is reduced to obtain the difference from the atmospheric pressure outside the substrates. The whole substrate is press-molded by pressure.

【0010】ところで、これらの方法によりプレス成型
された基板は、次工程での液晶注入工程へ1枚の液晶表
示素子として進める場合と、複数個の液晶表示素子にす
るため、前記プレスした基板を複数個に分断した後、液
晶注入工程へ送る場合とがある。近年では、液晶表示素
子のサイズが大型化しているため複数個を取る場合、プ
レスする基板も大型化が進んでいる。
By the way, the substrate press-molded by these methods is used for the liquid crystal injecting process in the next process as one liquid crystal display device, and in order to make a plurality of liquid crystal display devices, the pressed substrate is used. In some cases, it is sent to the liquid crystal injection step after being divided into a plurality of pieces. In recent years, the size of liquid crystal display elements has increased, and when a plurality of liquid crystal display elements are used, the substrates to be pressed are also increasing in size.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、(1)
の場合であって大型基板の場合、定盤のサイズも必然的
に大きくなるため、基板プレス後のセルギャップの均一
性を良好に保つために、定盤表面の平行度や平坦度をミ
クロンオーダーの高精度に仕上げることが要求されてい
るが、大型定盤では、ミクロンオーダーの高精度を実現
することは困難である。さらに大面積になると、基板全
体への加圧も通常のエアーシリンダによるプレス圧では
足りなくなり、これを達成するためには益々大きな加圧
方法が必要となり、装置の大型化を余儀なくされる。
[Problems to be Solved by the Invention] However, (1)
In the case of a large substrate, the size of the surface plate will inevitably become large, so in order to maintain good cell gap uniformity after pressing the substrate, the parallelism and flatness of the surface plate surface are in the micron order. However, it is difficult to achieve micron-order high precision with a large surface plate. When the area is further increased, the pressure applied to the entire substrate is insufficient with the press pressure of a normal air cylinder. To achieve this, an even larger pressurizing method is required, and the size of the apparatus is inevitably increased.

【0012】(2)の方法は(1)の改善といえるが、
その構造上、エアバッグ(可撓性シート)が基板に密着し
た時点から、このエアバッグから基板へのプレス圧力に
不均一が生じ、これが基板面内におけるセルギャップ不
均一の原因となる。つまり、基板端面でのシート形状に
よっては、基板の表面方向(ズリ方向)に張力がかか
り、基板面内で均一な押圧が生まれないといった欠点を
有する。
The method (2) can be said to be an improvement of (1),
Due to its structure, from the time when the airbag (flexible sheet) is in close contact with the substrate, the pressing pressure from the airbag to the substrate becomes non-uniform, which causes non-uniformity of the cell gap in the surface of the substrate. That is, depending on the shape of the sheet on the end face of the substrate, there is a drawback that tension is applied in the surface direction (sliding direction) of the substrate and uniform pressing is not generated in the substrate surface.

【0013】更に(3)の場合は、基板内圧と大気圧と
の差圧が基板表面に均一にかかるため、セルギャップの
均一性を良好に実現することが可能であるが、2枚の基
板の平坦度にばらつきがあると、これら2枚の基板で形
成される空間の内圧を制御することが難しく、生産時の
再現性が得られない。
Further, in the case of (3), since the differential pressure between the substrate internal pressure and the atmospheric pressure is uniformly applied to the substrate surface, it is possible to favorably realize the uniformity of the cell gap. If there is variation in the flatness, it is difficult to control the internal pressure of the space formed by these two substrates, and reproducibility during production cannot be obtained.

【0014】そこで、この内圧の制御のためにシール剤
の塗布幅や粘性を変え、一定時間の後に大気圧にリーク
する方法も見られるが、生産性(タクトタイム及び材料
管理)及び品質の再現性に課題が残る。特に、後述する
本発明の如く、セルギャップ間にスペーサの無い液晶表
示素子にこの技術を用いた場合は、高精度な内圧コント
ロールが必要であり、前記公報に開示された方法では、
生産時の再現性を得ることは困難である。
Therefore, there is also a method of changing the coating width and viscosity of the sealing agent to control the internal pressure and leaking to the atmospheric pressure after a certain period of time. However, productivity (tact time and material control) and quality reproduction Sexual issues remain. In particular, when this technique is used for a liquid crystal display element having no spacer between cell gaps, as in the present invention described later, highly accurate internal pressure control is necessary, and in the method disclosed in the above publication,
It is difficult to obtain reproducibility during production.

【0015】以上の如くの問題点を考察して行くと、前
記した如くの高精度なセルギャップの均一性を得るため
には、液晶セル製造段階、特に貼合せ工程におけるセル
ギャップの管理が重要であり、その製造工程において時
間の経過と共に変化するセルギャップの変化を正確にモ
ニターすれば最終工程を終えた液晶セルのギャップは、
求める範囲内のものとして得られているはずであるとい
う知見が生まれることになる。
Considering the problems as described above, in order to obtain the highly accurate uniformity of the cell gap as described above, it is important to control the cell gap in the liquid crystal cell manufacturing stage, particularly in the laminating step. Therefore, if the change in the cell gap that changes with the passage of time is accurately monitored in the manufacturing process, the gap of the liquid crystal cell after the final process is
The knowledge that it should have been obtained within the required range will be born.

【0016】そこで、本発明者等は鋭意検討した結果、
貼合せ工程時、液晶表示素子を形成する2枚の基板とシ
ール剤によって形成される密閉空間の内圧を高精度にコ
ントロールすることにより、高精度なセルギャップ均一
性を得ることが可能な液晶表示素子の製造装置及び液晶
表示素子の製造方法を案出したもので、本発明は、かか
る液晶表示素子の製造装置及び液晶表示素子の製造方法
を提供することを目的とするものである。
Therefore, as a result of diligent study by the present inventors,
A liquid crystal display capable of obtaining a highly accurate cell gap uniformity by precisely controlling the internal pressure of a sealed space formed by two substrates forming a liquid crystal display element and a sealant during a laminating process. The present invention has devised a device manufacturing apparatus and a liquid crystal display device manufacturing method, and an object of the present invention is to provide such a liquid crystal display device manufacturing apparatus and a liquid crystal display device manufacturing method.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明は、かかる目的を
達成するためになされたものであり、請求項1に係る発
明は、略マトリックス状に画像表示部3A1〜3Anが形
成された一方の基板14と、他方の基板12とを貼合わ
せることにより所望のセルギャップが形成された貼合わ
せ基板31を作製するための液晶表示素子の製造方法で
あって、少なくとも前記一方の基板14に略マトリック
ス状に形成された画像表示部3A1〜3Anの周囲にメイ
ンシール剤15を塗布すると共に、このメインシール剤
15が並ぶ領域の最外周を囲む状態で外周シール剤16
を塗布する工程と、前記2枚の基板12,14を、真空
雰囲気中で上、下定盤27,28での加圧保持により仮
貼合わせを行なうことで、前記外周シール剤16により
前記2枚の基板12,14間に密閉空間を形成する工程
と、前記仮貼合せの状態から真空雰囲気を大気圧までリ
ークすることにより、前記2枚の基板12,14を所望
のセルギャップまで加圧して、貼合わせ基板31を形成
する工程と、前記貼合わせ基板31のセルギャップを測
定する工程と、前記所望のセルギャップが形成された貼
合わせ基板31に紫外線を照射して本貼合わせを行う工
程とよりなることを特徴とする。
The present invention has been made in order to achieve the above object, and in the invention according to claim 1, the image display portions 3A 1 to 3A n are formed in a substantially matrix shape. A method for manufacturing a liquid crystal display device for producing a bonded substrate 31 in which a desired cell gap is formed by bonding one substrate 14 and the other substrate 12 to each other. The main sealant 15 is applied to the periphery of the image display portions 3A 1 to 3A n formed in a substantially matrix shape, and the outer peripheral sealant 16 is provided so as to surround the outermost periphery of the region where the main sealant 15 is lined up.
And a step of applying the two substrates 12 and 14 in a vacuum atmosphere by temporarily holding the upper and lower surface plates 27 and 28 under pressure so that the outer sealing agent 16 can apply the two sheets. And forming a hermetically sealed space between the substrates 12 and 14 by pressing the two substrates 12 and 14 to a desired cell gap by leaking the vacuum atmosphere from the temporary bonding state to the atmospheric pressure. A step of forming a bonded substrate 31; a step of measuring a cell gap of the bonded substrate 31; and a step of irradiating the bonded substrate 31 having the desired cell gap with ultraviolet rays to perform a main bonding. It is characterized in that

【0018】請求項2に係る発明は、略マトリックス状
に形成された画像表示部3A1〜3Anの周囲にメインシ
ール剤15を塗布すると共に、このメインシール剤15
が並ぶ領域の最外周を囲む状態で外周シール剤16を塗
布した一方の基板14と、他方の基板12を貼合わせる
ことにより所望のセルギャップが形成された貼合わせ基
板31を作製するための液晶表示素子の製造装置20で
あって、前記2枚の基板12,14を真空雰囲気中で加
圧保持して、前記2枚の基板12,14間に密閉空間を
形成するための上、下定盤27,28と、前記上、下定
盤27,28及び前記2枚の基板12,14を設けた真
空チャンバー21と、前記真空チャンバー21内の真空
度を制御することにより、前記2枚の基板12,14を
所望のセルギャップまで加圧して、貼合わせ基板31を
形成するための制御機構24,36,37と、前記貼合
わせ基板31のセルギャップを測定する測定システム2
3,33,34と、前記所望のセルギャップが形成され
た貼合わせ基板31に紫外線を照射する紫外線照射シス
テム25とを具備したことを特徴とする。
According to the second aspect of the present invention, the main sealant 15 is applied to the periphery of the image display portions 3A 1 to 3A n formed in a substantially matrix shape, and the main sealant 15 is also applied.
A liquid crystal for producing a bonded substrate 31 in which a desired cell gap is formed by bonding one substrate 14 coated with the outer peripheral sealant 16 in a state of enclosing the outermost periphery of the region where A display device manufacturing apparatus 20 comprising: an upper and lower surface plate for pressurizing and holding the two substrates 12 and 14 in a vacuum atmosphere to form a closed space between the two substrates 12 and 14. 27 and 28, the vacuum chamber 21 provided with the upper and lower surface plates 27 and 28, and the two substrates 12 and 14, and the two substrates 12 by controlling the degree of vacuum in the vacuum chamber 21. , 14 to a desired cell gap to form a bonded substrate 31, and control systems 24, 36, 37 for measuring the cell gap of the bonded substrate 31.
3, 33, and 34, and an ultraviolet irradiation system 25 for irradiating the bonded substrate 31 having the desired cell gap with ultraviolet rays.

【0019】請求項3に係る発明は、略マトリックス状
に画像表示部3A1〜3Anが形成された一方の基板14
aと、他方の基板12とを貼合わせることにより所望の
セルギャップが形成された貼合わせ基板を作製するため
の液晶表示素子の製造方法であって、少なくとも前記一
方の基板14aに略マトリックス状に形成された画像表
示部3A1〜3Anの周囲にメインシール剤15を塗布す
ると共に、このメインシール剤15が並ぶ領域の最外周
を囲む状態で外周シール剤16を一部通気口17を設け
て塗布する工程と、前記2枚の基板12,14aを、大
気圧下で上、下定盤27,28の加圧保持によって仮貼
合わせを行う工程と、前記仮貼合わせを行った2枚の基
板12,14aの雰囲気を所定の真空雰囲気まで減圧す
る工程と、前記通気口17を封止して前記2枚の基板1
2,14aと前記外周シール剤16とによる密閉空間を
形成する工程と、前記仮貼合せの状態下における所定の
真空雰囲気を大気圧までリークして、前記仮貼合わせ時
の不均一なセルギャップを均一に修正することにより貼
合わせ基板を形成する工程と、前記均一なセルギャップ
が形成された貼合わせ基板に紫外線を照射して本貼合わ
せを行う工程とよりなることを特徴とする。
According to the third aspect of the present invention, the one substrate 14 on which the image display portions 3A 1 to 3A n are formed in a substantially matrix shape.
A method for manufacturing a liquid crystal display element for manufacturing a bonded substrate having a desired cell gap formed by bonding a and the other substrate 12 together, wherein at least one substrate 14a is formed into a substantially matrix shape. The main sealant 15 is applied around the formed image display portions 3A 1 to 3A n , and a part of the outer peripheral sealant 16 is provided with a ventilation hole 17 so as to surround the outermost periphery of the region where the main sealant 15 is lined up. And applying the two substrates 12 and 14a under atmospheric pressure by temporarily holding the upper and lower platens 27 and 28 under pressure to perform temporary bonding, and the two substrates subjected to the temporary bonding. The step of depressurizing the atmosphere of the substrates 12 and 14a to a predetermined vacuum atmosphere, and the vent hole 17 being sealed so that the two substrates 1
2, 14a and the step of forming a closed space by the outer peripheral sealing agent 16, and leaking a predetermined vacuum atmosphere to the atmospheric pressure in the state of the temporary bonding to generate a non-uniform cell gap during the temporary bonding. And a step of forming a bonded substrate by uniformly correcting, and performing a main bonding by irradiating the bonded substrate having the uniform cell gap with ultraviolet rays.

【0020】請求項4に係る発明は、略マトリックス状
に形成された画像表示部3A1〜3Anの周囲にメインシ
ール剤15を塗布すると共に、このメインシール剤15
が並ぶ領域の最外周を囲む状態で外周シール剤16を一
部通気口17を設けて塗布した一方の基板14aと、他
方の基板12を貼合わせることにより所望のセルギャッ
プが形成された貼合わせ基板を作製するための液晶表示
素子の製造装置20Aであって、前記2枚の基板12,
14aを大気圧下で加圧保持して、前記2枚の基板1
2,14a間に密閉空間を形成するための上、下定盤2
7,28と、前記上、下定盤27,28及び前記2枚の
基板12,14aを設けた真空チャンバー21と、前記
真空チャンバー21内の真空度を制御することにより、
前記2枚の基板12,14aを所望のセルギャップまで
加圧して、貼合わせ基板を形成するための制御機構2
4,36,37と、前記貼合わせ基板のセルギャップを
測定する測定システム23,33,34と、前記貼合わ
せ基板を構成する前記一方の基板14aの通気口17に
封止剤を塗布する塗布機構26とを具備したことを特徴
とする。
In the invention according to claim 4, the main sealant 15 is applied to the periphery of the image display portions 3A 1 to 3A n formed in a substantially matrix shape, and the main sealant 15 is also applied.
Bonding in which a desired cell gap is formed by bonding one substrate 14a to which the outer peripheral sealant 16 is partially provided with a ventilation hole 17 and the other substrate 12 so as to surround the outermost periphery of the region A manufacturing apparatus 20A of a liquid crystal display element for manufacturing a substrate, comprising the two substrates 12,
14a is pressurized and held under atmospheric pressure, and the two substrates 1
Upper and lower surface plate 2 for forming a closed space between 2 and 14a
7, 28, the vacuum chamber 21 provided with the upper and lower surface plates 27, 28 and the two substrates 12, 14a, and by controlling the degree of vacuum in the vacuum chamber 21,
Control mechanism 2 for pressing the two substrates 12, 14a to a desired cell gap to form a bonded substrate
4, 36, 37, a measurement system 23, 33, 34 for measuring the cell gap of the bonded substrate, and a coating for applying a sealant to the vent hole 17 of the one substrate 14a constituting the bonded substrate. And a mechanism 26.

【0021】請求項5に係る発明は、請求項1記載の液
晶表示素子の製造方法であって、前記2枚の基板12,
14を真空雰囲気中で仮貼合せを行うことにより、前記
2枚の基板12,14間に密閉空間を形成するための
上、下定盤27,28は、それぞれ相対向する面に凹,
凸面部27a〜27c,271〜274、28a〜28
c,281〜284を形成すると共に、それぞれの凹,凸
面部27a〜27c,271〜274、28a〜28c,
281〜284が前記基板12,14を介して相対向する
如く配置され、加圧時、前記少なくとも一方の凸面部2
1〜284は、前記基板14の画像表示部3A1〜3An
以外を加圧するようにしたことを特徴とする。
The invention according to claim 5 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 1, wherein the two substrates 12,
The upper and lower stools 27 and 28 for forming a closed space between the two substrates 12 and 14 by temporarily bonding 14 in a vacuum atmosphere have concave portions on the surfaces facing each other.
Convex portion 27a~27c, 27 1 ~27 4, 28a~28
c, 28 1 to 28 4 are formed, and concave and convex portions 27 a to 27 c, 27 1 to 27 4 , 28 a to 28 c, respectively, are formed.
28 1 to 28 4 are arranged so as to face each other with the substrates 12 and 14 interposed therebetween, and at the time of pressurization, the at least one convex surface portion 2
8 1 to 28 4 are the image display portions 3A 1 to 3A n of the substrate 14.
It is characterized in that the other parts are pressurized.

【0022】請求項6に係る発明は、請求項2記載の液
晶表示素子の製造装置20であって、前記2枚の基板1
2,14を真空雰囲気中で仮貼合せを行うことにより、
前記2枚の基板12,14間に密閉空間を形成するため
の上、下定盤27,28は、それぞれ相対向する面に
凹,凸面部27a〜27c,271〜274、28a〜2
8c,281〜284を形成すると共に、それぞれの凹,
凸面部27a〜27c,271〜274、28a〜28
c,281〜284が前記基板12,14を介して相対向
する如く配置され、加圧時、前記少なくとも一方の凸面
部281〜284は、前記基板14の画像表示部3A1
3An以外を加圧するよう構成したことを特徴とする。
The invention according to claim 6 is the manufacturing apparatus 20 for a liquid crystal display element according to claim 2, wherein the two substrates 1
By temporarily bonding 2 and 14 in a vacuum atmosphere,
The top to form a sealed space between the two substrates 12 and 14, lower platen 27 and 28, concave opposing surfaces, respectively, convex portions 27a~27c, 27 1 ~27 4, 28a~2
8c, 28 1 to 28 4 are formed,
Convex portion 27a~27c, 27 1 ~27 4, 28a~28
c, 28 1 to 28 4 are arranged so as to face each other with the substrates 12 and 14 interposed therebetween, and at the time of pressurization, the at least one convex surface portion 28 1 to 28 4 has the image display portion 3A 1 to
It is characterized by being configured to pressurize other than 3A n .

【0023】請求項7に係る発明は、請求項3記載の液
晶表示素子の製造方法であって、前記2枚の基板12,
14aを大気圧下で仮貼合せを行うことにより、前記2
枚の基板12,14a間に密閉空間を形成するための
上、下定盤27,28は、それぞれ相対向する面に凹,
凸面部27a〜27c,271〜274、28a〜28
c,281〜284を形成すると共に、それぞれの凹,凸
面部27a〜27c,271〜274、28a〜28c,
281〜284が前記基板12,14aを介して相対向す
る如く配置され、加圧時、前記少なくとも一方の凸面部
281〜284は、前記基板14aの画像表示部3A1
3An以外を加圧するようにしたことを特徴とする。
The invention according to claim 7 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 3, wherein the two substrates 12,
By temporarily bonding 14a under atmospheric pressure, the
The upper and lower stools 27 and 28 for forming a closed space between the substrates 12 and 14a each have a concave surface,
Convex portion 27a~27c, 27 1 ~27 4, 28a~28
c, 28 1 to 28 4 are formed, and concave and convex portions 27 a to 27 c, 27 1 to 27 4 , 28 a to 28 c, respectively, are formed.
28 1 to 28 4 are arranged so as to face each other via the substrates 12 and 14 a, and at the time of pressurization, the at least one convex surface portion 28 1 to 28 4 has the image display unit 3 A 1 to the substrate 14 a.
It is characterized in that a pressure other than 3A n is applied.

【0024】請求項8に係る発明は、請求項4記載の液
晶表示素子の製造装置20Aであって、前記2枚の基板
12,14aを大気圧下で加圧保持して、前記2枚の基
板12,14a間に密閉空間を形成するための上、下定
盤27,28は、それぞれ相対向する面に凹,凸面部2
7a〜27c,271〜274、28a〜28c,281
〜284を形成すると共に、それぞれの凹,凸面部27
a〜27c,271〜274、28a〜28c,281
284が前記基板12,14aを介して相対向する如く
配置され、加圧時、前記少なくとも一方の凸面部281
〜284は、前記基板14aの画像表示部3A1〜3An
以外を加圧するよう構成したことを特徴とする。
The invention according to claim 8 is the manufacturing apparatus 20A for a liquid crystal display element according to claim 4, wherein the two substrates 12 and 14a are pressurized and held under atmospheric pressure, and the two substrates The upper and lower stools 27 and 28 for forming a closed space between the substrates 12 and 14a have concave and convex portions 2 on the surfaces facing each other.
7a~27c, 27 1 ~27 4, 28a~28c , 28 1
To 28 4 to form a respective concave convex portion 27
a~27c, 27 1 ~27 4, 28a~28c , 28 1 ~
28 4 are arranged so as to face each other with the substrates 12 and 14a interposed therebetween, and at the time of pressurization, the at least one convex surface portion 28 1
To 28 4, the image display unit 3A 1 to 3 A n of the substrate 14a
It is characterized in that it is configured to pressurize other parts.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な一実施例を
添付図面に基づいて説明する。なお、以下に述べる実施
例は本発明の好適な具体例であるから、技術的に好まし
い種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下
の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限
り、これらの態様に限られるものではない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT A preferred embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In addition, since the examples described below are preferable specific examples of the present invention, various technically preferable limitations are given, but the scope of the present invention particularly limits the present invention in the following description. Unless stated otherwise, the present invention is not limited to these embodiments.

【0026】図1は、本発明に係る液晶表示素子の製造
装置の好ましい一実施例の説明図、図2は、本発明に係
る液晶表示素子の製造装置の他の実施例の説明図、図3
は、液晶表示素子を構成する上基板と下基板の斜視図、
図4は、液晶表示素子を構成する上基板と下基板の他の
例を示す斜視図、図5は、液晶表示素子を構成する透明
基板とシリコンIC基板の斜視図、図6は、液晶表示素
子を構成する透明基板とシリコンIC基板の他の例を示
す斜視図、図7は、本実施例に係る液晶表示素子の製造
装置に用いられる上、下定盤と基板との関連構成を示す
側面図、図8は、貼り合わせ工程の実施結果(セルギャ
ップ測定結果)を示す説明図である。なお、前記した構
成部分と同一部分は、同一符号を用い、その詳細な説明
は省略する。
FIG. 1 is an explanatory view of a preferred embodiment of the liquid crystal display element manufacturing apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is an explanatory view of another embodiment of the liquid crystal display element manufacturing apparatus according to the present invention. Three
Is a perspective view of an upper substrate and a lower substrate constituting a liquid crystal display element,
FIG. 4 is a perspective view showing another example of an upper substrate and a lower substrate which form a liquid crystal display element, FIG. 5 is a perspective view of a transparent substrate and a silicon IC substrate which form a liquid crystal display element, and FIG. FIG. 7 is a perspective view showing another example of a transparent substrate and a silicon IC substrate that form an element, and FIG. 7 is a side view showing a related configuration of an upper surface plate and a substrate used in a manufacturing apparatus for a liquid crystal display element according to this embodiment. FIG. 8 and FIG. 8 are explanatory diagrams showing the results of the bonding process (cell gap measurement results). The same parts as those described above are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0027】図1は、本実施例に係る液晶表示素子の製
造装置20の好ましい一実施例の説明図である。図1に
おいて21は、真空チャンバー、22は、本貼合せチャ
ンバーであり、これら両チャンバー21,22により本
実施例に係る液晶表示素子の製造装置20は大略構成さ
れている。なお35は、真空チャンバー21、本貼合せ
チャンバー22間に設けられた仕切り扉である。以下、
真空チャンバー21、本貼合せチャンバー22の具体的
構成につき説明する。
FIG. 1 is an explanatory view of a preferred embodiment of a liquid crystal display element manufacturing apparatus 20 according to this embodiment. In FIG. 1, reference numeral 21 is a vacuum chamber, 22 is a main bonding chamber, and these chambers 21 and 22 roughly constitute a liquid crystal display device manufacturing apparatus 20 according to the present embodiment. Reference numeral 35 is a partition door provided between the vacuum chamber 21 and the main bonding chamber 22. Less than,
Specific configurations of the vacuum chamber 21 and the main bonding chamber 22 will be described.

【0028】真空チャンバー21には、セルギャップ測
定システム23、排気コントロールシステム24が、前
者は光ファイバー33を介して後述する上定盤27に接
続され、後者は圧力測定ゲージ36、調整弁37等を介
してそれぞれチャンバー内21aへと接続されている。
なお、34は、上定盤27内に挿入された前記した光フ
ァイバー33の先端部である。
In the vacuum chamber 21, a cell gap measuring system 23 and an exhaust control system 24 are connected to the upper surface plate 27, which will be described later, via an optical fiber 33, and in the latter, a pressure measuring gauge 36, a regulating valve 37, etc. Each of them is connected to the inside 21a of the chamber.
Incidentally, 34 is the tip of the above-mentioned optical fiber 33 inserted into the upper surface plate 27.

【0029】また、この真空チャンバー21内には、前
記した上定盤27、この上定盤27に対峙する如く配置
された下定盤28、この下定盤28に連結されているエ
アーシリンダー29が配置されていると共に、前記した
下定盤28上には後述するシール剤15,16等を設け
た下基板14が載置されている。そして、前記した上定
盤27、下定盤28間には、上基板12が、基板保持部
32により保持された形で配置されている。
In the vacuum chamber 21, the above-mentioned upper surface plate 27, the lower surface plate 28 arranged so as to face the upper surface plate 27, and the air cylinder 29 connected to the lower surface plate 28 are arranged. In addition, the lower substrate 14 provided with sealing agents 15 and 16 described later is placed on the lower surface plate 28. The upper substrate 12 is arranged between the upper surface plate 27 and the lower surface plate 28 so as to be held by the substrate holding portion 32.

【0030】一方、前記した本貼合せチャンバー22内
には、紫外線照射システム25、後述する工程で貼合さ
れた貼合せ基板31を載置するためのテーブル30が配
置されている。なお、説明の便宜上、貼合せ基板31は
テーブル30上に配置されている図として表示してあ
る。
On the other hand, in the main bonding chamber 22 described above, an ultraviolet irradiation system 25 and a table 30 for mounting a bonded substrate 31 bonded in a process described later are arranged. For convenience of explanation, the bonded substrate 31 is shown as a diagram arranged on the table 30.

【0031】図2は、本発明に係る液晶表示素子の製造
装置20Aの他の実施例の説明図である。なお、前記し
た図1と同一部分は同一符号を用い、その詳細な説明は
省略する。この図2において前記した図1と異なる部分
は、後述する通気口17を封止するための紫外線照射シ
ステム25aがケーブル38を介して直接真空チャンバ
ー内21aに接続されると共に、封止剤ディスペンスシ
ステム26が、チューブ39を介してこれまた直接真空
チャンバー内21aに接続されていることである。
FIG. 2 is an explanatory view of another embodiment of the liquid crystal display device manufacturing apparatus 20A according to the present invention. The same parts as those in FIG. 1 described above are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. 2 is different from that shown in FIG. 1 in that the ultraviolet irradiation system 25a for sealing the vent 17 described later is directly connected to the inside of the vacuum chamber 21a via the cable 38, and the sealant dispensing system is used. 26 is directly connected to the inside of the vacuum chamber 21a via the tube 39.

【0032】なお、本発明に係る液晶表示素子の製造装
置20Aにも図1と同様の、本貼合わせチャンバー22
を接続しても勿論良いものである。
The apparatus 20A for manufacturing a liquid crystal display element according to the present invention has the same bonding chamber 22 as in FIG.
Of course, it is good to connect.

【0033】次に、貼り合される対象である上基板1
2、下基板14等の構成につき、図3以降を参照して説
明する。図3は、液晶表示素子を構成する上基板12と
下基板14の斜視図である。この図3において、下基板
14上には、略マトリックス状に画像表示部(エリア)
3A1〜3Anが設けられてあり、それぞれの画像エリア
3A1〜3Anの周囲に、予めメインシール剤15が塗布
されている。
Next, the upper substrate 1 to be bonded
2, the configuration of the lower substrate 14 and the like will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a perspective view of the upper substrate 12 and the lower substrate 14 which constitute the liquid crystal display element. In FIG. 3, image display portions (areas) are formed in a matrix on the lower substrate 14.
3A 1 to 3A n are provided, and the main sealant 15 is applied in advance around the respective image areas 3A 1 to 3A n .

【0034】更に、この下基板14上でメインシール剤
15が並ぶ領域の最外周を囲む状態で、外周シール剤1
6が塗布されている。そして、これらのメイン,外周シ
ール剤15,16には、予めセルギャップを決めるため
の図示しないスペーサが混入してあるものである。な
お、本実施例では、画像エリア3A1〜3Anの配列とし
て、略マトリックス状に配置した例で説明しているが、
前記した如く、この実施例に限定されるものではない。
Further, in a state where the outermost periphery of the region where the main sealant 15 is lined up on the lower substrate 14 is surrounded, the outer peripheral sealant 1
6 is applied. Then, spacers (not shown) for previously determining the cell gap are mixed in the main and outer peripheral sealing agents 15 and 16. In the present embodiment, the image areas 3A 1 to 3A n are arranged in a matrix, as an example.
As described above, the present invention is not limited to this embodiment.

【0035】図4は、液晶表示素子を構成する上基板1
2と下基板14aの他の例を示す斜視図である。この図
4において前記した図3と異なる部分は、前記したメイ
ンシール剤15が並ぶ領域の最外周を囲む状態で、外周
シール剤16が、一部通気口部17を設ける如く塗布さ
れていることである。そして、これらのメイン,外周シ
ール剤15,16には、前記したと同様、予めセルギャ
ップを決めるための図示しないスペーサが混入してある
ものである。
FIG. 4 shows an upper substrate 1 which constitutes a liquid crystal display element.
It is a perspective view showing other examples of 2 and lower substrate 14a. In FIG. 4, the portion different from FIG. 3 described above is such that the outer peripheral sealant 16 is applied so as to partially provide the vent hole portion 17 in a state of enclosing the outermost periphery of the region where the main sealant 15 is lined up. Is. And, as described above, spacers (not shown) for determining the cell gap are mixed in these main and outer peripheral sealing agents 15 and 16.

【0036】図5は、液晶表示素子を構成する前記した
上基板12と下基板14を具体化したもので、上基板1
2を透明基板2に、下基板14をシリコンIC基板4に
それぞれ具体化したものの説明図であり、具体的構成は
前記したものと同一なので、その説明は省略する。な
お、この図5において、31〜3nは、前記したと同様複
数の画像エリアである。
FIG. 5 is a specific example of the above-mentioned upper substrate 12 and lower substrate 14 which constitute the liquid crystal display element.
2 is a transparent substrate 2 and the lower substrate 14 is a silicon IC substrate 4, respectively, and FIG. In FIG. 5, 3 1 to 3 n are a plurality of image areas as described above.

【0037】図6も前記した図5と同様、液晶表示素子
を構成する前記した上基板12と下基板14を具体化し
たもので、上基板12を透明基板2に、下基板14をシ
リコンIC基板4aにそれぞれ具体化したものの他の例
を示す説明図であり、この図6において前記した図5と
異なる部分は、前記したメインシール剤15が並ぶ領域
の最外周を囲む状態で、外周シール剤16が、一部通気
口部17を設ける如く塗布されていることである。
Similar to FIG. 5 described above, FIG. 6 also embodies the above-mentioned upper substrate 12 and lower substrate 14 constituting the liquid crystal display element. The upper substrate 12 is the transparent substrate 2 and the lower substrate 14 is the silicon IC. It is explanatory drawing which shows the other example of what was each materialized in the board | substrate 4a, and the part different from FIG. 5 mentioned above in this FIG. 6 is the outer peripheral seal in the state which surrounds the outermost periphery of the area | region where the said main sealant 15 is located in a line. That is, the agent 16 is applied so as to partially provide the vent hole portion 17.

【0038】図7は、本実施例に係る液晶表示素子の製
造装置20、20Aに用いられる上、下定盤27,28
と上、下基板12,14との関連構成を示す側面図であ
る。なお、説明の都合上、前記した上基板12を保持す
るための基板保持部32は省略してある。
FIG. 7 shows upper and lower surface plates 27 and 28 used in the manufacturing apparatus 20 or 20A of the liquid crystal display device according to this embodiment.
3 is a side view showing a configuration related to the upper and lower substrates 12 and 14. FIG. For convenience of description, the substrate holding portion 32 for holding the upper substrate 12 is omitted.

【0039】上定盤27は、下面側、すなわち、上、下
基板12,14を介して下定盤28と対峙する側に凸面
部271〜274を有すると共に、この凸面部271と2
2との間(説明の便宜上、この1ヶ所のみを例示して
説明するが他の凸面部間も同様である)に、凹面部27
aを設けたものである。なお、この凹面部27aの凹み
量は、貼り合せの際の異物の大きさにより異なるもので
あるが、各種の実験の結果、100μm以上に設定して
おけば、良いものと思われる。
The upper surface plate 27 has convex surface portions 27 1 to 27 4 on the lower surface side, that is, the side facing the lower surface plate 28 through the upper and lower substrates 12 and 14, and the convex surface portions 27 1 and 2
7 2 (for the sake of convenience of explanation, only one place will be described as an example, but the same applies to other convex surface portions).
a is provided. The amount of depression of the concave portion 27a varies depending on the size of the foreign matter at the time of bonding, but as a result of various experiments, it is considered to be good if it is set to 100 μm or more.

【0040】一方、下定盤28はその上面側、すなわ
ち、上、下基板12,14を介して上定盤27と対峙す
る側に凸面部281〜284を有すると共にこの凸面部2
1と282との間(説明の便宜上、この1ヶ所のみを例
示して説明するが他の凸面部間も同様である)に、凹面
部28aを設けたものである。なお、この凹面部28a
の凹み量も、前記した上定盤27と同様、100μm以
上に設定しておけば、良いものと思われる。
On the other hand, the lower surface plate 28 has convex surface portions 28 1 to 28 4 on the upper surface side thereof, that is, on the side facing the upper surface plate 27 via the upper and lower substrates 12 and 14, and the convex surface portion 2
A concave surface portion 28a is provided between 8 1 and 28 2 (for the sake of convenience of description, only one place is illustrated and described, but the other convex surface portions are also the same). In addition, this concave portion 28a
As with the upper surface plate 27 described above, it is considered to be good if the depression amount is set to 100 μm or more.

【0041】また、前記した下基板14の上面(上基板
12側)に形成されるメインシール剤15、15間に
は、画像表示部3A1〜3Anが形成されるものである。
The image display portions 3A 1 to 3A n are formed between the main sealants 15 and 15 formed on the upper surface of the lower substrate 14 (on the upper substrate 12 side).

【0042】この図7のように、具体的構成になる上、
下定盤27、28を、その凸面部271〜274、281
〜284同士及び凹面部27a〜27c、28a〜28
c同士を相対向(対峙)させ、これら上、下定盤27、
28間に上、下基板12、14を配置し、それを図1、
図2の如くの真空チャンバー21内で、上、下定盤2
7、28にて貼り合せる場合、仮に、上定盤27と上基
板12間に異物、ゴミ等が混入したとしても、それら
は、前記した凹面部27a〜27c内に収まるので、局
所的なセルギャプの不均一は起こりにくくなるものであ
る。
As shown in FIG. 7, in addition to the specific structure,
The lower surface plates 27 and 28 are provided with convex portions 27 1 to 27 4 and 28 1 thereof.
To 28 4 and between concave portions 27a~27c, 28a~28
c are opposed to each other (opposed to each other), and the upper and lower surface plates 27,
The upper and lower substrates 12 and 14 are arranged between the two 28, which are shown in FIG.
In the vacuum chamber 21 as shown in FIG. 2, the upper and lower surface plates 2
7 and 28, even if foreign matter, dust, and the like are mixed between the upper surface plate 27 and the upper substrate 12, they are accommodated in the concave portions 27a to 27c, so that the local cell gap is prevented. Is less likely to occur.

【0043】なお、下定盤28と下基板14間に異物、
ゴミ等が混入した場合も同様、それらは、前記した凹面
部28a〜28c内に収まるので、局所的なセルギャプ
の不均一は起こりにくくなるものである。
It should be noted that foreign matter between the lower surface plate 28 and the lower substrate 14,
Similarly, when dust or the like is mixed, the dust and the like are settled in the concave portions 28a to 28c, so that local nonuniformity of the cell gap hardly occurs.

【0044】なお、例えば、下定盤28の凸面部281
〜284と下基板14との接触部の構成は、基板14側
において、メイン,外周シール剤15、16を塗布する
裏側(上基板12側)であるのが望ましい(図7の構
成)。しかしながら、その形状は、前記した如く、本実
施例に示したものに限定されるものではない。
Incidentally, for example, the convex surface portion 28 1 of the lower surface plate 28
To 28 4 to the configuration of the contact portion of the lower substrate 14, the substrate 14 side, the main (structure of FIG. 7) the peripheral sealing material 15, 16 to a back side (upper substrate 12 side) it is desirably to apply. However, the shape is not limited to that shown in this embodiment, as described above.

【0045】ここで、図3,図5の如くの構成になる上
基板12,2と下基板14,4を、図1の液晶表示素子
の製造装置20を用いて貼合わせる方法について、主と
して図1を参照して説明する。なお、説明の便宜上、図
3を例にとって説明するが、図5も上基板12と下基板
14が、透明基板2と、シリコンIC基板4にそれぞれ
具体化したのみで、他は全く同一構成なので、ここで
は、その説明は敢えてしないものであるが、当然の如く
それと同等の効果を奏するものである。
Here, a method of attaching the upper substrates 12 and 2 and the lower substrates 14 and 4 having the configurations as shown in FIGS. 3 and 5 by using the liquid crystal display device manufacturing apparatus 20 of FIG. 1 will be mainly described. This will be described with reference to FIG. For convenience of explanation, FIG. 3 will be described as an example, but in FIG. 5 as well, the upper substrate 12 and the lower substrate 14 are embodied as the transparent substrate 2 and the silicon IC substrate 4, respectively, and the other configurations are exactly the same. Although the description is not made here intentionally, the same effect is naturally obtained.

【0046】まず、下基板14の上面に略マトリックス
状に形成されたそれぞれの画像エリア3A1〜3Anの周
囲にメインシール剤15を塗布すると共に、このメイン
シール剤15が並ぶ領域の最外周を囲む状態で外周シー
ル剤16を連続的に塗布する。
First, the main sealant 15 is applied around the image areas 3A 1 to 3A n formed in a matrix on the upper surface of the lower substrate 14, and the outermost periphery of the area where the main sealant 15 is lined up. The outer peripheral sealant 16 is continuously applied in a state of enclosing.

【0047】次に、真空チャンバー21内に設けられて
いる下定盤28上に、前記した略マトリックス状に形成
された画像エリア3A1〜3Anを有し、それぞれの画像
エリア3A1〜3Anの周囲にメインシール剤15及びそ
のメインシール剤15が並ぶ領域の最外周を囲む状態で
外周シール剤16が塗布されている下基板14を、前記
したメイン,外周シール剤15、16が上定盤27側に
なるようにした状態で載置(セット)し、そして、貼り
合わされる他方の基板である上基板12を基板保持部3
2上にセット(載置)する。しかる後、この真空チャン
バー21内を、排気コントロールシステム24により前
記した調整弁37を制御することで真空排気する。
Next, on the lower surface plate 28 which is provided in the vacuum chamber 21 has the image area 3A 1 to 3 A n formed in a substantially matrix shape with the respective image area 3A 1 to 3 A n The main sealant 15 and the outer sealant 15 are applied to the lower substrate 14 coated with the outer sealant 16 so as to surround the outermost periphery of the main sealant 15 and the region where the main sealant 15 is lined up. The upper substrate 12, which is the other substrate to be bonded, is placed (set) in a state of being on the board 27 side, and the substrate holding unit 3
Set (place) on 2. After that, the inside of the vacuum chamber 21 is evacuated by controlling the adjusting valve 37 by the exhaust control system 24.

【0048】ここでの排気圧力Pは、後述する所望の差
圧によって異なるが、大気圧からー95kPaまで制御
可能に構成されている。なお、この制御は、前記した圧
力測定ゲージ36を用いて行なわれることは勿論であ
る。また、前記した如く、これらのメイン,外周シール
剤15、16には、予め、セルギャップを決めるための
スペーサが混入してあるものである。
The exhaust pressure P here is configured to be controllable from atmospheric pressure to -95 kPa, although it depends on a desired differential pressure which will be described later. It is needless to say that this control is performed using the pressure measuring gauge 36 described above. Further, as described above, spacers for determining the cell gap are mixed in advance in the main and outer peripheral sealing agents 15 and 16.

【0049】しかる後、エアシリンダー29が作動する
ことにより、これに連結されている下基板14を載置し
た下定盤28が上動し、基板保持部32にセットされて
いる上基板12をこの下基板14の上に載せた状態で上
定盤27に押し当てて、これら上、下基板12、14の
仮貼合わせ(一次貼合わせ)を行うことにより、外周シ
ール剤16により密封空間が形成される。
Thereafter, the air cylinder 29 is actuated to move the lower platen 28 on which the lower substrate 14 connected thereto is moved upward, so that the upper substrate 12 set in the substrate holding portion 32 is moved to the upper substrate 12. The outer peripheral sealing agent 16 forms a sealed space by pressing the upper surface plate 27 while being placed on the lower substrate 14 and temporarily bonding (primary bonding) the upper and lower substrates 12 and 14 together. To be done.

【0050】この仮貼合わせにより、上、下基板12,
14に、仮に、反りやうねり等があったとしても、それ
は矯正された状態でこの上、下基板12,14が貼り合
されることになる。
By this temporary bonding, the upper and lower substrates 12,
Even if there is a warp or a swell in 14, the upper and lower substrates 12 and 14 will be bonded together in a corrected state.

【0051】このように、上、下基板12,14の反り
やうねり等が矯正された状態で貼合わされ密封空間が形
成される工程の途中で、これら上、下基板12,14間
のセルギャップを、前記したセルギャップ測定システム
23により、以下の方法で測定する。
As described above, during the process of bonding the upper and lower substrates 12 and 14 in a state where the warps and undulations are corrected to form a sealed space, a cell gap between the upper and lower substrates 12 and 14 is formed. Is measured by the following method by the cell gap measuring system 23 described above.

【0052】すなわち、前記した如く、セルギャップ測
定システム23は光ファイバー33により上定盤27内
に接続されており、その先端部34は、図示していない
が仮貼合わせが終了した上、下基板12,14内に挿入
される如く構成されている。
That is, as described above, the cell gap measuring system 23 is connected to the inside of the upper surface plate 27 by the optical fiber 33, and the tip portion 34 of the upper substrate 27 is not shown, but the temporary bonding is completed, and the lower substrate. It is configured to be inserted into the inside of 12, 12.

【0053】従って、この仮貼合わせ中、セルギャップ
測定システム23を作動させることにより、光ファイバ
ー33の先端部34より、例えば、レーザ光が発射さ
れ、これは上基板12内を通って下基板14表面で反射
され、戻り光として前記セルギャップ測定システム23
内に戻ることになる。セルギャップ測定システム23内
では、この戻り光(干渉光)を取り出すことにより、セ
ルギャップ値Dを得る事となる。
Therefore, during the temporary bonding, by operating the cell gap measuring system 23, for example, laser light is emitted from the tip portion 34 of the optical fiber 33, which passes through the inside of the upper substrate 12 and the lower substrate 14. The cell gap measuring system 23, which is reflected by the surface and is used as return light
Will return to inside. In the cell gap measurement system 23, the cell gap value D is obtained by taking out this return light (interference light).

【0054】ところで、このようにして測定されたセル
ギャップ値Dと、外周シール剤16で形成される密閉空
間の面積Sとの関係で、この密閉空間の体積がV=S×
Dと決定されるものである。
By the way, based on the relationship between the cell gap value D thus measured and the area S of the closed space formed by the outer peripheral sealant 16, the volume of the closed space is V = S ×
It is determined to be D.

【0055】ここでの体積決定の考え方は以下のとうり
である。すなわち、最終的に得られるセルギャップ(設
計値)をD0とし、外周シール剤16で形成される面積
をSとした場合、そこで得られる体積V0はV0=S×D
0である。最終的には、真空チャンバー21は大気圧に
リークされるため、前記外周シール剤16で形成される
密封空間(V0)内の圧力が大気圧に等しくならない
と、2枚の貼合わせた基板のセルギャップを均一に保つ
ことはできない。つまり、大気圧をPAとすると、PA×
0は一定であるから、真空チャンバー21内の真空排
気圧力をPとすると、PA×V0=P×Vの関係が成り立
つ。
The concept of volume determination here is as follows. That is, when the cell gap (design value) finally obtained is D 0 and the area formed by the outer peripheral sealant 16 is S, the volume V 0 obtained there is V 0 = S × D
It is 0 . Finally, since the vacuum chamber 21 is leaked to the atmospheric pressure, unless the pressure in the sealed space (V 0 ) formed by the outer peripheral sealant 16 becomes equal to the atmospheric pressure, the two bonded substrates It is not possible to maintain a uniform cell gap. That is, if the atmospheric pressure is P A , P A ×
Since V 0 is constant, assuming that the vacuum exhaust pressure in the vacuum chamber 21 is P, the relationship of P A × V 0 = P × V holds.

【0056】すなわち、真空チャンバー21内の真空排
気圧力がPの場合は、仮貼合わせ時の所望するセルギャ
ップは、おのずからD=V/Sと決まるものである。従
って、エアシエリンダ29によりセルギャップ値がDと
なるように押圧力を与えることにより、真空チャンバー
21を大気圧にリークした際、所望のセルギャップD 0
が得られるものである。
That is, the vacuum exhaust in the vacuum chamber 21
If the air pressure is P, the desired Ser
Up is naturally determined as D = V / S. Servant
The cell gap value is D
Vacuum chamber by applying pressing force to
When 21 leaks to atmospheric pressure, the desired cell gap D 0
Is obtained.

【0057】本実施例では、かかる知見によりセルギャ
ップ測定システム23と、エアーシリンダ29と、排気
コントロールシステム24とを図示しないフィードバッ
クループで連結することにより、それぞれをコントロ−
ル可能に構成しているものである。
In the present embodiment, based on such knowledge, the cell gap measuring system 23, the air cylinder 29, and the exhaust control system 24 are connected by a feedback loop (not shown) to control them.
It is configured to be possible.

【0058】次に、このように、その基板面全体が所望
のセルギャップにまで加圧された貼合わせ基板31を本
貼合せチャンバー22に移送して、この貼合わせ基板3
1を、この本貼合せチャンバー22内のテーブル30上
に載置した後、このテーブル30の上部に設けた紫外線
照射システム25により、前記した貼合わせ基板31に
紫外線を照射する。これにより、真空チャンバー21に
て均一に貼合わされた貼合わせ基板31が完全に固着し
て、貼合わせが完了する。そして、この貼合わせが完了
した基板を、後工程である分断工程に送るものである。
Next, the bonded substrate stack 31 whose entire surface is pressed to the desired cell gap is transferred to the main bonding chamber 22 and the bonded substrate stack 3 is then transferred.
After 1 is placed on the table 30 in the main bonding chamber 22, the ultraviolet irradiation system 25 provided on the table 30 irradiates the bonded substrate 31 with ultraviolet light. As a result, the bonded substrate 31 that is evenly bonded in the vacuum chamber 21 is completely fixed and the bonding is completed. Then, the substrate on which the bonding is completed is sent to a cutting process which is a post process.

【0059】次に、図4,図6の如くの構成になる上基
板12,2と下基板14a,4aを、図2の液晶表示素
子の製造装置20Aを用いて貼合わせる方法について、
主として図2を参照して説明する。なお、説明の便宜
上、図4を例にとって説明するが、図6も上基板12と
下基板14aが、透明基板2と、シリコンIC基板4a
にそれぞれ具体化したのみで、他は全く同一構成なの
で、ここでは、その説明は敢えてしないものであるが、
当然の如くそれと同等の効果を奏するものである。
Next, a method of bonding the upper substrates 12 and 2 and the lower substrates 14a and 4a having the configurations as shown in FIGS. 4 and 6 by using the liquid crystal display device manufacturing apparatus 20A shown in FIG.
A description will be given mainly with reference to FIG. Although FIG. 4 is taken as an example for convenience of explanation, in FIG. 6 as well, the upper substrate 12 and the lower substrate 14a are the transparent substrate 2 and the silicon IC substrate 4a.
However, since the other configurations are the same, the explanation is omitted here.
As a matter of course, it has the same effect.

【0060】まず、下基板14aの上面に形成された略
マトリックス状の画像エリア3A1〜3Anの周囲にメイ
ンシール剤15を塗布すると共に、このメインシール剤
15が並ぶ領域の最外周を囲む状態で塗布される外周シ
ール剤16が、一部通気口部17を設ける如くこれを連
続的に塗布する。
First, the main sealant 15 is applied around the substantially matrix-shaped image areas 3A 1 to 3A n formed on the upper surface of the lower substrate 14a, and the outermost periphery of the area where the main sealant 15 is lined up is surrounded. The peripheral sealing agent 16 applied in this state is applied continuously so that a part of the vent hole 17 is provided.

【0061】次に、真空チャンバー21内に設けられて
いる下定盤28上に、前記した略マトリックス状の画像
エリア3A1〜3Anを有し、それぞれの画像エリア3A
1〜3Anの周囲にメインシール剤15及びそのメインシ
ール剤15が並ぶ領域の最外周を囲む状態で塗布される
外周シール剤16が、一部通気口部17を設ける如くこ
れを連続的に塗布した下基板14aを、前記したメイ
ン,外周シール剤15、16が上定盤27側になるよう
にした状態で載置(セット)し、貼り合わされる他方の
基板である上基板12を基板保持部32上にセット(載
置)する。
Next, on the lower surface plate 28 provided in the vacuum chamber 21, the above-mentioned substantially matrix-shaped image areas 3A 1 to 3A n are provided, and the respective image areas 3A are formed.
The main sealant 15 and the outer peripheral sealant 16 applied so as to surround the outermost periphery of the region where the main sealant 15 is lined up around 1 to 3A n are continuously provided so that a part of the vent hole 17 is provided. The coated lower substrate 14a is placed (set) in a state where the main and outer peripheral sealing agents 15 and 16 are on the upper surface plate 27 side, and the upper substrate 12 that is the other substrate to be bonded is the substrate. It is set (placed) on the holding part 32.

【0062】しかる後、エアシリンダー29が作動する
ことにより、これに連結されている下基板14aを載置
した下定盤28が上動し、基板保持部32にセットされ
ている上基板12をこの下基板14aの上に載せた状態
で上定盤27に押し当てて、これら上、下基板12、1
4aの仮貼合わせ(一次貼合わせ)を行うことにより、
外周シール剤16により、内圧をコントロールするため
の空間を形成する。
Thereafter, when the air cylinder 29 is operated, the lower platen 28 on which the lower substrate 14a connected to the air cylinder 29 is placed is moved upward, and the upper substrate 12 set in the substrate holding portion 32 is moved to the upper substrate 12. While being placed on the lower substrate 14a, the upper substrate 27 is pressed against the upper and lower substrates 12, 1
By performing temporary bonding (primary bonding) of 4a,
The outer peripheral sealant 16 forms a space for controlling the internal pressure.

【0063】この仮貼合わせにより、上、下基板12,
14aに、仮に、反りやうねり等があったとしても、そ
れは矯正された状態でこの上、下基板12,14aが貼
り合されることになる。
By this temporary bonding, the upper and lower substrates 12,
Even if the 14a has a warp or a swell, the upper and lower substrates 12 and 14a are bonded together in a corrected state.

【0064】このように、上、下基板12,14aの反
りやうねり等が矯正された状態で貼合わされ、前記内圧
をコントロールするための空間が形成されたこれら上、
下基板12,14a間のセルギャップを、前記したセル
ギャップ測定システム23により、以下の方法で測定す
る。
As described above, the upper and lower substrates 12 and 14a are laminated in a state in which the warp, undulation and the like are corrected, and a space for controlling the internal pressure is formed on them.
The cell gap between the lower substrates 12 and 14a is measured by the cell gap measuring system 23 described above by the following method.

【0065】すなわち、前記した如く、セルギャップ測
定システム23は光ファイバー33により上定盤27内
に接続されており、その先端部34は、図示していない
が仮貼合わせが終了した上、下基板12,14a内に挿
入される如く構成されている。
That is, as described above, the cell gap measuring system 23 is connected to the inside of the upper surface plate 27 by the optical fiber 33, and the tip 34 of the cell gap measuring system 23 is not shown in the drawing, but after the temporary bonding is completed, the lower substrate is formed. It is configured to be inserted into the inside of 12, 14a.

【0066】従って、この仮貼合わせ後、セルギャップ
測定システム23を作動させることにより、光ファイバ
ー33の先端部34より、例えば、レーザ光が発射さ
れ、これは上基板12内を通って下基板14a表面で反
射し、戻り光として前記セルギャップ測定システム23
内に戻ることになる。セルギャップ測定システム23内
では、この戻り光(干渉光)を取り出すことにより、得
られたセルギャップ値が所定の範囲内(1.1μm〜2
0μm)のものであるか否かを判定することができる。
Therefore, after the temporary bonding, by operating the cell gap measuring system 23, for example, laser light is emitted from the tip portion 34 of the optical fiber 33, which passes through the inside of the upper substrate 12 and the lower substrate 14a. The cell gap measuring system 23, which is reflected by the surface and returns as a return light
Will return to inside. In the cell gap measuring system 23, the cell gap value obtained by extracting this return light (interference light) is within a predetermined range (1.1 μm to 2).
0 μm) can be determined.

【0067】以下、その点を詳述すると、前記した如く
の方法によりセルギャップ(値)が形成された上、下基
板12、14aの仮貼合わせ(一次貼合わせ)が終了す
る。前記した如く、セルギャップ(値)と、外周シール
剤16で形成される空間の関係で、この空間の体積が決
定されるものである。
The point will be described in detail below. After the cell gap (value) is formed by the method as described above, the temporary bonding (primary bonding) of the lower substrates 12 and 14a is completed. As described above, the volume of this space is determined by the relationship between the cell gap (value) and the space formed by the outer peripheral sealant 16.

【0068】本実施例では、前記した如く、外周シール
剤16を一部通気口17が設けられる如くに塗布してあ
るため、前記実施例とは異なり、セルギャップ(値)が
形成された上、下基板12、14aの仮貼合わせ(一次
貼合わせ)が終了すると、排気コントロールシステム2
4にて空間体積内、すなわち、真空チャンバー内21a
の圧力を更に制御して所望の値である、P(P×V=P
A×V0)に設定する。
In this embodiment, as described above, since the outer peripheral sealant 16 is applied so that the ventilation holes 17 are partially provided, unlike the above embodiment, a cell gap (value) is formed. When the temporary bonding (primary bonding) of the lower substrates 12 and 14a is completed, the exhaust control system 2
4, inside the space volume, that is, inside the vacuum chamber 21a
Further control the pressure of P to obtain a desired value, P (P × V = P
A × V 0 ).

【0069】そして、真空チャンバー内21aの圧力を
所望の値に設定した状態のままで、仮貼合わせが終了し
た下基板14aに設けられた通気口17の側面に、チュ
ーブ39を介して封止剤ディスペンスシステム26によ
り紫外線硬化型の封止剤を塗布し、しかる後、紫外線照
射システム25aによりケーブル38を介して紫外線を
照射して前記した封止剤を硬化させることにより、前記
した通気口17部を完全に封止する。なお、封止剤の粘
性が高く通気口17部を十分封止保持できる場合は、紫
外線照射システム25aによる紫外線照射は不要であ
る。
Then, with the pressure in the vacuum chamber 21a set to a desired value, the side surface of the ventilation hole 17 provided in the lower substrate 14a for which the temporary bonding has been completed is sealed via a tube 39. The ultraviolet-curable sealant is applied by the agent dispensing system 26, and then the ultraviolet-irradiation system 25a irradiates ultraviolet rays through the cable 38 to cure the above-mentioned sealant. The part is completely sealed. If the sealing agent has a high viscosity and can sufficiently seal and hold the vent hole 17 portion, the ultraviolet irradiation by the ultraviolet irradiation system 25a is not necessary.

【0070】このように、下基板14aに設けられた通
気口17部が完全に封止されると、排気コントロールシ
ステム24により、前記した調整弁37を制御すること
で、例えば、真空チャンバー内21aを大気圧までリー
クする。そして、このリーク時の圧力と大気圧との差圧
により、シール剤中のスペーサできまるセルギャップま
で、貼合わせ基板面全体に均一に押圧力が加えられる。
すなわち、初期真空度と大気圧との差圧により、貼合わ
せ基板面全体が所望のセルギャップ(1μm〜5μm)
にまで加圧された貼合わせ基板(図示せず)が得られ
る。そして、この貼合わせが完了した基板を、後工程で
ある分断工程に送るものである。
In this way, when the vent hole 17 provided in the lower substrate 14a is completely sealed, the exhaust control system 24 controls the adjusting valve 37, for example, in the vacuum chamber 21a. Leak to atmospheric pressure. Then, due to the pressure difference between the pressure at the time of leak and the atmospheric pressure, a pressing force is uniformly applied to the entire surface of the bonded substrate up to the cell gap formed by the spacer in the sealant.
That is, due to the pressure difference between the initial vacuum degree and the atmospheric pressure, the entire bonded substrate surface has a desired cell gap (1 μm to 5 μm).
A bonded substrate (not shown) that has been pressed up to 1 is obtained. Then, the substrate on which the bonding is completed is sent to a cutting process which is a post process.

【0071】なお、本各実施例では、前記した図3〜図
6に示す上,下基板12,14等を、真空チャンバー2
1内で上、下定盤27,28にて貼り合わせる場合、
上、下定盤27,28と上,下基板12,14間に、仮
に、異物,ゴミ等が混入したとしても、画像エリア31
〜3nを傷つけたり、貼り合わせ後のセルギャップ均一
性を悪化させたりしないように、前記した図7に示すよ
うな構造の上、下定盤27,28を用いるものである。
なお、上、下定盤27,28の上,下基板12,14等
との接触部は、例えば、下基板14においてメイン,外
周シール剤15,16を塗布する裏側であるのが望まし
いが、その形状等は何ら限定されるものではない。
In each of the embodiments, the upper and lower substrates 12 and 14 shown in FIGS.
When the upper and lower surface plates 27 and 28 are attached in one,
Even if foreign matter or dust is mixed between the upper and lower surface plates 27 and 28 and the upper and lower substrates 12 and 14, the image area 3 1
The lower surface plates 27 and 28 are used in addition to the structure shown in FIG. 7 so as not to damage 3 to 3 n or deteriorate the cell gap uniformity after bonding.
It should be noted that the upper and lower surface plates 27, 28 and the contact portions with the lower substrates 12, 14 and the like are preferably, for example, the back side of the lower substrate 14 on which the main and outer peripheral sealing agents 15, 16 are applied. The shape and the like are not limited at all.

【0072】次に、本発明の好ましい一実施例の作用に
ついて、図1〜図7、必要に応じて図9,図10を参照
して説明する。図1に示す真空チャンバー21内には、
前記した如く、エアシリンダー29によって上下動する
下定盤28と上定盤27が設けられている。この下定盤
28と上定盤27には、例えば、図5に示すシリコンウ
エハー基板4と透明基板であるガラス基板2を設置す
る。
Next, the operation of the preferred embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 7 and, if necessary, FIGS. 9 and 10. In the vacuum chamber 21 shown in FIG.
As described above, the lower surface plate 28 and the upper surface plate 27 that are vertically moved by the air cylinder 29 are provided. On the lower surface plate 28 and the upper surface plate 27, for example, the silicon wafer substrate 4 and the transparent glass substrate 2 shown in FIG. 5 are installed.

【0073】シリコンウエハー基板4は、約1インチサ
イズの画像エリア31を複数個有する如く略マトリック
ス状に構成されている。このシリコンウエハー基板4の
表面には、前記した液晶5を配向させるための図示しな
い配向膜を施した後、それぞれの画像エリア31〜3n
周囲にメインシール剤15が塗布されている。
The silicon wafer substrate 4 is formed in a substantially matrix shape so as to have a plurality of image areas 3 1 each having a size of about 1 inch. On the surface of the silicon wafer substrate 4, an alignment film (not shown) for aligning the liquid crystal 5 is applied, and then a main sealant 15 is applied around the respective image areas 3 1 to 3 n .

【0074】このメインシール剤15は、例えば、協立
化学産業(株)製の接着剤WRシリーズを用いる。な
お、この接着剤中には、例えば、ヤクシ化成(株)製S
Wシリーズのスペーサボールが混入してある。さらに外
周シール剤16は、メインシール剤15と同じものを用
い、それを塗布した。これらメイン,外周シール剤1
5,16の塗布厚は、約20μmとした。
As the main sealant 15, for example, an adhesive WR series manufactured by Kyoritsu Chemical Industry Co., Ltd. is used. In this adhesive, for example, S manufactured by Yakushi Kasei Co., Ltd.
W series spacer balls are mixed. Further, the same peripheral sealant 16 as the main sealant 15 was used and was applied. These main and perimeter sealant 1
The coating thickness of 5 and 16 was about 20 μm.

【0075】透明基板としてのガラス基板2は、コーニ
ング社製 型番1737ガラス 0.7mm厚のものを
用いた。このガラス基板2には、予め片側に反射防止膜
を、他側には透明電極膜と、この透明電極膜の上に配向
膜が施してある。
The glass substrate 2 used as a transparent substrate was a Corning Model No. 1737 glass 0.7 mm thick. The glass substrate 2 is provided with an antireflection film on one side, a transparent electrode film on the other side, and an alignment film on the transparent electrode film.

【0076】下定盤28にシリコンウエハー基板4をセ
ットし、基板保持部32には前記ガラス基板2をセット
して、真空チャンバー21内を−70kPaに排気した
後、エアシリンダー29にてガラス基板2をシリコンウ
エハー基板4上に載せて上定盤27に押しつけた。その
時の押しつけ圧力は、約0.2kPaであった。
The silicon wafer substrate 4 is set on the lower surface plate 28, the glass substrate 2 is set on the substrate holding portion 32, the inside of the vacuum chamber 21 is evacuated to -70 kPa, and then the glass substrate 2 is set by the air cylinder 29. Was placed on the silicon wafer substrate 4 and pressed against the upper surface plate 27. The pressing pressure at that time was about 0.2 kPa.

【0077】この状態から排気コントロールシステム2
4にて大気圧まで段階的に圧力上昇(圧力解放)した。
大気圧への圧力上昇(圧力解放)後、基板面全体が所望
のセルギャップにまで加圧された貼合せ基板を本貼合せ
チャンバー22に移送して、この貼合わせ基板を、この
本貼合せチャンバー22内のテーブル30上に載置した
後、このテーブル30の上部に設けた紫外線照射システ
ム25により、前記した貼合わせ基板のメイン,外周シ
ール剤15,16部へ3000mJ以上の紫外線照射を
行ってシール剤を硬化固着させた。
From this state, the exhaust control system 2
At 4, the pressure was gradually increased to atmospheric pressure (pressure release).
After the pressure is increased (released) to the atmospheric pressure, the bonded substrate having the entire substrate surface pressed to a desired cell gap is transferred to the main bonding chamber 22, and the bonded substrate is bonded to the main bonded chamber. After being placed on the table 30 in the chamber 22, an ultraviolet irradiation system 25 provided on the table 30 irradiates ultraviolet rays of 3000 mJ or more to the main and peripheral sealing agents 15 and 16 parts of the above-mentioned bonded substrate. The sealing agent was cured and fixed.

【0078】貼り合わせ完了した基板上で、シリコンウ
エハー基板4内に20箇所以上有する画像エリア31
nのうち、7箇所について貼り合わせ後のセルギャッ
プ測定を行った。その結果を図8に示す。
Image areas 3 1 to 20 having 20 or more locations in the silicon wafer substrate 4 on the substrates that have been bonded to each other.
Of 3 n , cell gap measurement after bonding was performed at 7 points. The result is shown in FIG.

【0079】この図8の結果より明らかな如く、1つの
画像エリアの中で4箇所の周辺部の平均値と中心部との
セルギャップ均一性は、0.11μm〜0.38μmの
範囲の凹形状で、このレベルの均一性は非常に良好で、
後工程の個々の液晶表示セルへの分断工程、液晶注入工
程、注入口封止工程にて十分修正が可能で、最終的な液
晶表示素子のセルギャップの均一性を0.05μm以下
に抑えられるものである。
As is clear from the results shown in FIG. 8, the cell gap uniformity between the central portion and the average value of the four peripheral portions in one image area is 0.11 μm to 0.38 μm. In shape, this level of uniformity is very good,
Sufficient corrections can be made in the subsequent process of dividing individual liquid crystal display cells, liquid crystal injection process, and injection port sealing process, and the final cell gap uniformity of the liquid crystal display device can be suppressed to 0.05 μm or less. It is a thing.

【0080】[0080]

【発明の効果】請求項1に係る発明は、略マトリックス
状に画像表示部が形成された一方の基板と、他方の基板
とを貼合わせることにより所望のセルギャップが形成さ
れた貼合わせ基板を作製するための液晶表示素子の製造
方法であって、少なくとも前記一方の基板に略マトリッ
クス状に形成された画像表示部の周囲にメインシール剤
を塗布すると共に、このメインシール剤が並ぶ領域の最
外周を囲む状態で外周シール剤を塗布する工程と、前記
2枚の基板を、真空雰囲気中で上、下定盤の加圧保持に
より仮貼合わせを行なうことで、前記外周シール剤によ
り前記2枚の基板間に密閉空間を形成する工程と、前記
仮貼合せの状態から真空雰囲気を大気圧までリークする
ことにより、前記2枚の基板を所望のセルギャップまで
加圧して、貼合わせ基板を形成する工程と、前記貼合わ
せ基板のセルギャップを測定する工程と、前記所望のセ
ルギャップが形成された貼合わせ基板に紫外線を照射し
て本貼合わせを行う工程とよりなるものであるから、液
晶表示素子のセルギャップ及びその均一性が精度良く制
御でき、従って、プロジェクターやプロジェクションT
Vの液晶表示素子として必要な高精度なセルギャップの
均一性を得ることが可能となるので、これをプロジェク
ターやプロジェクションTVの基幹部品として用いた場
合、映像の明暗ムラや色ムラが非常に少なく高品質な映
像を提供できるものである。
The invention according to claim 1 provides a bonded substrate having a desired cell gap formed by bonding one substrate having an image display portion formed in a substantially matrix shape and the other substrate. A method for manufacturing a liquid crystal display element for manufacturing, comprising applying a main sealant around at least one of the substrates around an image display part formed in a substantially matrix shape, and at the The step of applying the outer peripheral sealant in a state of enclosing the outer periphery, and the two substrates are temporarily bonded by holding the upper and lower platens under pressure in a vacuum atmosphere, so that the two outer peripheral sealants are bonded together. And forming a sealed space between the substrates, and by leaking the vacuum atmosphere from the temporary bonding state to the atmospheric pressure, pressurizing the two substrates to a desired cell gap to bond the two substrates. It comprises a step of forming a substrate, a step of measuring a cell gap of the bonded substrate, and a step of irradiating an ultraviolet ray to the bonded substrate having the desired cell gap to perform the main bonding. Therefore, the cell gap of the liquid crystal display element and its uniformity can be controlled with high accuracy. Therefore, the projector and the projection T
Since it is possible to obtain the highly accurate uniformity of the cell gap required for a V liquid crystal display element, when this is used as a basic component of a projector or a projection TV, the uneven brightness and color unevenness of the image are very small. It is possible to provide high quality images.

【0081】請求項2に係る発明は、略マトリックス状
に形成された画像表示部の周囲にメインシール剤を塗布
すると共に、このメインシール剤が並ぶ領域の最外周を
囲む状態で外周シール剤を塗布した一方の基板と、他方
の基板を貼合わせることにより所望のセルギャップが形
成された貼合わせ基板を作製するための液晶表示素子の
製造装置であって、前記2枚の基板を真空雰囲気中で加
圧保持して、前記2枚の基板間に密閉空間を形成するた
めの上、下定盤と、前記上、下定盤及び前記2枚の基板
を設けた真空チャンバーと、前記真空チャンバー内の真
空度を制御することにより、前記2枚の基板を所望のセ
ルギャップまで加圧して、貼合わせ基板を形成するため
の制御機構と、前記貼合わせ基板のセルギャップを測定
するための測定システムと、前記所望のセルギャップが
形成された貼合わせ基板に紫外線を照射する紫外線照射
システムとを具備したものであるから、液晶表示素子の
セルギャップ及びその均一性が精度良く制御でき、従っ
て、プロジェクターやプロジェクションTVの液晶表示
素子として必要な高精度なセルギャップの均一性を得る
ことが可能となるので、これをプロジェクターやプロジ
ェクションTVの基幹部品として用いた場合、映像の明
暗ムラや色ムラが非常に少なく高品質な映像を提供でき
るものである。
According to the second aspect of the present invention, the main sealant is applied to the periphery of the image display portion formed in a substantially matrix shape, and the outer peripheral sealant is applied so as to surround the outermost periphery of the region where the main sealant is lined up. A liquid crystal display device manufacturing apparatus for producing a bonded substrate in which a desired cell gap is formed by bonding the coated one substrate and the other substrate together in a vacuum atmosphere. And pressurizing and holding to form a closed space between the two substrates, a lower stool, a vacuum chamber in which the upper and lower stools and the two substrates are provided, and the inside of the vacuum chamber. By controlling the vacuum degree, the two substrates are pressed to a desired cell gap to form a bonded substrate, and a measurement system for measuring the cell gap of the bonded substrate. System and an ultraviolet irradiation system for irradiating the bonded substrate on which the desired cell gap is formed with ultraviolet rays, the cell gap of the liquid crystal display element and its uniformity can be accurately controlled, and therefore, Since it is possible to obtain the highly accurate cell gap uniformity required for a liquid crystal display element of a projector or a projection TV, when this is used as a basic component of a projector or a projection TV, uneven brightness and color of an image may occur. It can provide very few high quality images.

【0082】請求項3に係る発明は、略マトリックス状
に画像表示部が形成された一方の基板と、他方の基板と
を貼合わせることにより所望のセルギャップが形成され
た貼合わせ基板を作製するための液晶表示素子の製造方
法であって、少なくとも前記一方の基板に略マトリック
ス状に形成された画像表示部の周囲にメインシール剤を
塗布すると共に、このメインシール剤が並ぶ領域の最外
周を囲む状態で外周シール剤を一部通気口を設けて塗布
する工程と、前記2枚の基板を、大気圧下で上、下定盤
の加圧保持によって仮貼合わせを行う工程と、前記仮貼
合わせを行った2枚の基板の雰囲気を所定の真空雰囲気
まで減圧する工程と、前記通気口を封止して前記2枚の
基板と前記外周シール剤とによる密閉空間を形成する工
程と、前記仮貼合わせの状態下における所定の真空雰囲
気を大気圧までリークして、前記仮貼合わせ時の不均一
なセルギャップを均一に修正することにより貼合わせ基
板を形成する工程と、前記均一なセルギャップが形成さ
れた貼合わせ基板に紫外線を照射して本貼合わせを行う
工程とよりなるものであるから、液晶表示素子のセルギ
ャップ及びその均一性が精度良く制御でき、従って、プ
ロジェクターやプロジェクションTVの液晶表示素子と
して必要な高精度なセルギャップの均一性を得ることが
可能となるので、これをプロジェクターやプロジェクシ
ョンTVの基幹部品として用いた場合、映像の明暗ムラ
や色ムラが非常に少なく高品質な映像を提供できるもの
である。
According to a third aspect of the present invention, a bonded substrate having a desired cell gap is produced by bonding one substrate having an image display portion formed in a substantially matrix shape and the other substrate. A method for manufacturing a liquid crystal display element for applying a main sealant to at least the periphery of an image display portion formed in a matrix on one of the substrates and at the outermost periphery of a region where the main sealant is lined up. A step of partially applying an outer peripheral sealant in a surrounding state by providing a ventilation port; a step of temporarily bonding the two substrates by holding pressure on upper and lower surface plates under atmospheric pressure; Depressurizing the atmosphere of the combined two substrates to a predetermined vacuum atmosphere, sealing the vent hole to form a sealed space by the two substrates and the outer peripheral sealant, Temporary bonding A step of forming a bonded substrate by leaking a predetermined vacuum atmosphere under a barred state to atmospheric pressure and uniformly correcting the non-uniform cell gap during the temporary bonding, and the uniform cell gap is The step of irradiating the formed bonded substrate with ultraviolet rays to perform the main bonding allows the cell gap of the liquid crystal display element and its uniformity to be accurately controlled, and therefore the liquid crystal of the projector or projection TV. Since it is possible to obtain the highly accurate cell gap uniformity required for a display element, when this is used as a basic component of a projector or a projection TV, there is very little unevenness in brightness and color of an image and high quality. It can provide video.

【0083】請求項4に係る発明は、略マトリックス状
に形成された画像表示部の周囲にメインシール剤を塗布
すると共に、このメインシール剤が並ぶ領域の最外周を
囲む状態で外周シール剤を一部通気口を設けて塗布した
一方の基板と、他方の基板を貼合わせることにより所望
のセルギャップが形成された貼合わせ基板を作製するた
めの液晶表示素子の製造装置であって、前記2枚の基板
を大気圧下で加圧保持して、前記2枚の基板間に密閉空
間を形成するための上、下定盤と、前記上、下定盤及び
前記2枚の基板を設けた真空チャンバーと、前記真空チ
ャンバー内の真空度を制御することにより、前記2枚の
基板を所望のセルギャップまで加圧して、貼合わせ基板
を形成するための制御機構と、前記貼合わせ基板のセル
ギャップを測定する測定システムと、前記貼合わせ基板
を構成する前記一方の基板の通気口に封止剤を塗布する
塗布機構とを具備したものであるから、液晶表示素子の
セルギャップ及びその均一性が精度良く制御でき、従っ
て、プロジェクターやプロジェクションTVの液晶表示
素子として必要な高精度なセルギャップの均一性を得る
ことが可能となるので、これをプロジェクターやプロジ
ェクションTVの基幹部品として用いた場合、映像の明
暗ムラや色ムラが非常に少なく高品質な映像を提供でき
るものである。
In the invention according to claim 4, the main sealant is applied to the periphery of the image display portion formed in a substantially matrix shape, and the outer peripheral sealant is applied in a state of enclosing the outermost periphery of the region where the main sealant is lined up. A manufacturing apparatus of a liquid crystal display element for manufacturing a bonded substrate in which a desired cell gap is formed by bonding one substrate coated with a partial ventilation hole and the other substrate to each other. An upper and lower platen for forming a closed space between the two substrates by pressurizing and holding the two substrates under atmospheric pressure, and a vacuum chamber provided with the upper and lower platens and the two substrates. And controlling the degree of vacuum in the vacuum chamber to pressurize the two substrates to a desired cell gap to form a bonded substrate and a cell gap of the bonded substrate. Measure Since the measurement system and the coating mechanism for coating the sealant on the ventilation hole of the one of the substrates constituting the bonded substrate are provided, the cell gap of the liquid crystal display element and its uniformity can be accurately controlled. Therefore, it is possible to obtain the highly accurate cell gap uniformity required for a liquid crystal display element of a projector or a projection TV. Therefore, when this is used as a basic component of a projector or a projection TV, uneven brightness of an image can be obtained. It is possible to provide high quality images with very little color unevenness.

【0084】請求項5に係る発明は、請求項1記載の液
晶表示素子の製造方法であって、前記2枚の基板を真空
雰囲気中で仮貼合せを行うことにより、前記2枚の基板
間に密閉空間を形成するための上、下定盤は、それぞれ
相対向する面に凹,凸面部を形成すると共に、それぞれ
の凹,凸面部が前記基板を介して相対向する如く配置さ
れ、加圧時、前記少なくとも一方の凸面部は、前記基板
の画像表示部以外を加圧するようにしたので、仮貼合わ
せの際、前記基板に反りやうねりがあったとしても、貼
合わせ初期にそれが矯正でき、従って、均一なプレスの
実現が図れる。
The invention according to claim 5 is the method of manufacturing a liquid crystal display element according to claim 1, wherein the two substrates are temporarily bonded together in a vacuum atmosphere, and the two substrates are bonded together. The upper and lower stools for forming a closed space are formed with concave and convex parts on the opposite surfaces, and the concave and convex parts are arranged so as to oppose each other through the substrate, and the pressure is applied. At this time, since the at least one convex surface portion presses other than the image display portion of the substrate, even if there is a warp or a swell in the substrate at the time of temporary bonding, it is corrected in the initial stage of bonding. Therefore, a uniform press can be realized.

【0085】また、前記した如く凹面部を形成したの
で、仮に上、下定盤と2枚の基板間に異物、ゴミ等が混
入したとしても、それらは、凹面部内に収まるので、局
所的なセルギャップの不均一が起こることもない。更に
加圧時、凸面部は、前記基板の画像表示部以外を加圧す
るようにしているので、画像表示部に悪影響を与えるよ
うなこともないものである。
Further, since the concave surface portion is formed as described above, even if foreign matter, dust or the like is mixed between the upper and lower surface plates and the two substrates, they are accommodated in the concave surface portion, so that the local cell No gap non-uniformity occurs. Further, when the pressure is applied, the convex surface portion presses the portions other than the image display portion of the substrate, so that the image display portion is not adversely affected.

【0086】請求項6に係る発明は、請求項2記載の液
晶表示素子の製造装置であって、前記2枚の基板を真空
雰囲気中で加圧保持して、前記2枚の基板間に密閉空間
を形成するための上、下定盤は、それぞれ相対向する面
に凹凸面部を形成すると共に、それぞれの凹凸面部が前
記基板を介して相対向する如く配置され、加圧時、前記
少なくとも一方の凸面部は、前記基板の画像表示部以外
を加圧するよう構成したので、仮貼合わせの際、前記基
板に反りやうねりがあったとしても、貼合わせ初期にそ
れが矯正でき、従って、均一なプレスの実現が図れる。
The invention according to claim 6 is the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 2, wherein the two substrates are pressure-held in a vacuum atmosphere and hermetically sealed between the two substrates. The upper and lower stools for forming a space are provided with concave and convex surface portions on their respective surfaces facing each other, and the concave and convex surface portions are arranged so as to face each other via the substrate. Since the convex surface portion is configured to press the portion other than the image display portion of the substrate, even if there is a warp or undulation in the substrate at the time of temporary bonding, it can be corrected in the initial stage of bonding, and thus, uniform The press can be realized.

【0087】また、前記した如く凹面部を形成したの
で、仮に上、下定盤と2枚の基板間に異物、ゴミ等が混
入したとしても、それらは、凹面部内に収まるので、局
所的なセルギャップの不均一が起こることもない。更に
加圧時、凸面部は、前記基板の画像表示部以外を加圧す
るようにしているので、画像表示部に悪影響を与えるよ
うなこともないものである。
Further, since the concave surface portion is formed as described above, even if foreign matter, dust or the like is mixed between the upper and lower surface plates and the two substrates, they are accommodated in the concave surface portion, so that the local cell No gap non-uniformity occurs. Further, when the pressure is applied, the convex surface portion presses the portions other than the image display portion of the substrate, so that the image display portion is not adversely affected.

【0088】請求項7に係る発明は、請求項3記載の液
晶表示素子の製造方法であって、前記2枚の基板を大気
圧下で仮貼合せを行うことにより、前記2枚の基板間に
密閉空間を形成するための上、下定盤は、それぞれ相対
向する面に凹,凸面部を形成すると共に、それぞれの
凹,凸面部が前記基板を介して相対向する如く配置さ
れ、加圧時、前記少なくとも一方の凸面部は、前記基板
の画像表示部以外を加圧するようにしたので、仮貼合わ
せの際、前記基板に反りやうねりがあったとしても、貼
合わせ初期にそれが矯正でき、従って、均一なプレスの
実現が図れる。
The invention according to claim 7 is the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 3, wherein the two substrates are temporarily bonded together under atmospheric pressure, and the two substrates are bonded together. The upper and lower stools for forming a closed space are formed with concave and convex parts on the opposite surfaces, and the concave and convex parts are arranged so as to oppose each other through the substrate, and the pressure is applied. At this time, since the at least one convex surface portion presses other than the image display portion of the substrate, even if there is a warp or a swell in the substrate at the time of temporary bonding, it is corrected in the initial stage of bonding. Therefore, a uniform press can be realized.

【0089】また、前記した如く凹面部を形成したの
で、仮に上、下定盤と2枚の基板間に異物、ゴミ等が混
入したとしても、それらは、凹面部内に収まるので、局
所的なセルギャップの不均一が起こることもない。更に
加圧時、凸面部は、前記基板の画像表示部以外を加圧す
るようにしているので、画像表示部に悪影響を与えるよ
うなこともないものである。
Further, since the concave surface portion is formed as described above, even if foreign matter, dust or the like is mixed between the upper and lower surface plates and the two substrates, they are accommodated in the concave surface portion, so that the local cell No gap non-uniformity occurs. Further, when the pressure is applied, the convex surface portion presses the portions other than the image display portion of the substrate, so that the image display portion is not adversely affected.

【0090】請求項8に係る発明は、請求項4記載の液
晶表示素子の製造装置であって、前記2枚の基板を大気
圧下で加圧保持して、前記2枚の基板間に密閉空間を形
成するための上、下定盤は、それぞれ相対向する面に
凹,凸面部を形成すると共に、それぞれの凹,凸面部が
前記基板を介して相対向する如く配置され、加圧時、前
記少なくとも一方の凸面部は、前記基板の画像表示部以
外を加圧するよう構成したので、仮貼合わせの際、前記
基板に反りやうねりがあったとしても、貼合わせ初期に
それが矯正でき、従って、均一なプレスの実現が図れ
る。
The invention according to claim 8 is the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 4, wherein the two substrates are pressure-held under atmospheric pressure and sealed between the two substrates. The upper and lower stools for forming a space are formed such that concave and convex portions are formed on the respective surfaces facing each other, and the concave and convex portions are arranged so as to face each other via the substrate, and when pressure is applied, Since the at least one convex surface portion is configured to press a portion other than the image display portion of the substrate, even when there is a warp or undulation in the substrate during temporary bonding, it can be corrected in the initial bonding stage, Therefore, a uniform press can be realized.

【0091】また、前記した如く凹面部を形成したの
で、仮に上、下定盤と2枚の基板間に異物、ゴミ等が混
入したとしても、それらは、凹面部内に収まるので、局
所的なセルギャップの不均一が起こることもない。更に
加圧時、凸面部は、前記基板の画像表示部以外を加圧す
るようにしているので、画像表示部に悪影響を与えるよ
うなこともないものである。
Further, since the concave portion is formed as described above, even if foreign matter, dust or the like is mixed between the upper and lower surface plates and the two substrates, they are accommodated in the concave portion, so that the local cell No gap non-uniformity occurs. Further, when the pressure is applied, the convex surface portion presses the portions other than the image display portion of the substrate, so that the image display portion is not adversely affected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る液晶表示素子の製造装置の好まし
い一実施例の説明図である。
FIG. 1 is an explanatory view of a preferred embodiment of a liquid crystal display device manufacturing apparatus according to the present invention.

【図2】本発明に係る液晶表示素子の製造装置の他の実
施例の説明図である。
FIG. 2 is an explanatory view of another embodiment of the liquid crystal display device manufacturing apparatus according to the present invention.

【図3】液晶表示素子を構成する上基板と下基板の斜視
図である。
FIG. 3 is a perspective view of an upper substrate and a lower substrate that form a liquid crystal display element.

【図4】液晶表示素子を構成する上基板と下基板の他の
例を示す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing another example of an upper substrate and a lower substrate which form a liquid crystal display element.

【図5】液晶表示素子を構成する透明基板とシリコンI
C基板の斜視図である。
FIG. 5: Transparent substrate and silicon I that constitute a liquid crystal display element
It is a perspective view of a C board.

【図6】液晶表示素子を構成する透明基板とシリコンI
C基板の他の例を示す斜視図である。
FIG. 6 is a transparent substrate and silicon I constituting a liquid crystal display device.
It is a perspective view which shows the other example of C board | substrate.

【図7】本発明に係る液晶表示素子の製造装置に用いら
れる上、下定盤と基板との関連構成を示す側面図であ
る。
FIG. 7 is a side view showing a related configuration of an upper surface plate and a substrate used in the liquid crystal display device manufacturing apparatus according to the present invention.

【図8】貼り合わせ工程の実施結果を示す説明図であ
る。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing a result of performing a bonding step.

【図9】液晶表示素子の構造を示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing a structure of a liquid crystal display element.

【図10】液晶表示素子の構造を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a structure of a liquid crystal display element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明導電膜 2 ガラス基板 3 画素電極(表示エリア) 31〜3n 画像エリア 3A1〜3An 画像エリア 4 シリコンIC基板 5 液晶 6 スペーサ 7 シール接着剤 8 反射防止膜 9 液晶注入口(封止部) 10 液晶表示素子 12 上基板 14 下基板 14a 下基板 15 メインシール剤 16 外周シール剤 161〜163 画像表示部 17 通気口 20 液晶表示素子の製造装置 21 真空チャンバー 21a チャンバー内 22 本貼合わせチャンバー 23 セルギャップ測定システム 24 排気コントロールシステム 25 紫外線照射システム 25a 紫外線照射システム 26 封止剤ディスペンスシステム 27 上定盤 271〜274 凸面部 27a〜27c 凹面部 28 下定盤 281〜284 凸面部 28a〜28c 凹面部 29 エアーシリンダ 30 テーブル 31 貼合わせ基板 32 基板保持部 33 光ファイバー 34 光ファイバー先端部 35 仕切り扉 36 圧力測定ゲージ 37 仕切り弁 38 ケーブル 39 チューブ1 transparent conductive film 2 glass substrate 3 pixel electrode (display area) 3 1 to 3 n image area 3A 1 to 3A n image area 4 silicon IC substrate 5 liquid crystal 6 spacer 7 seal adhesive 8 antireflection film 9 liquid crystal injection port (sealing) Stop part 10 Liquid crystal display element 12 Upper substrate 14 Lower substrate 14a Lower substrate 15 Main sealant 16 Peripheral sealant 16 1 to 16 3 Image display section 17 Vent 20 Liquid crystal display element manufacturing device 21 Vacuum chamber 21a 22 inside chamber Lamination chamber 23 Cell gap measuring system 24 Exhaust control system 25 Ultraviolet irradiation system 25a Ultraviolet irradiation system 26 Sealant dispensing system 27 Upper surface plate 27 1 to 27 4 Convex surface portion 27a to 27c Concave surface portion 28 Lower surface plate 28 1 to 28 4 Convex part 28a-28c Concave part 29 Air cylinder 30 Table 31 Lamination Was the substrate 32 substrate holder 33 optical fibers 34 fiber tip 35 partition door 36 pressure measuring gauge 37 gate valve 38 cable 39 Tube

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鬼塚 誠 神奈川県横浜市神奈川区守屋町3丁目12番 地 日本ビクター株式会社内 (72)発明者 小野寺 博 神奈川県横浜市神奈川区守屋町3丁目12番 地 日本ビクター株式会社内 Fターム(参考) 2H088 EA10 EA12 FA03 FA05 FA16 FA30 HA01 MA17 2H089 LA01 LA24 LA41 NA22 QA14 TA01 UA05    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Makoto Onizuka             3-12 Moriya-cho, Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa             Local Victor Company of Japan, Ltd. (72) Inventor Hiroshi Onodera             3-12 Moriya-cho, Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa             Local Victor Company of Japan, Ltd. F term (reference) 2H088 EA10 EA12 FA03 FA05 FA16                       FA30 HA01 MA17                 2H089 LA01 LA24 LA41 NA22 QA14                       TA01 UA05

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】略マトリックス状に画像表示部が形成され
た一方の基板と、他方の基板とを貼合わせることにより
所望のセルギャップが形成された貼合わせ基板を作製す
るための液晶表示素子の製造方法であって、 少なくとも前記一方の基板に略マトリックス状に形成さ
れた画像表示部の周囲にメインシール剤を塗布すると共
に、このメインシール剤が並ぶ領域の最外周を囲む状態
で外周シール剤を塗布する工程と、 前記2枚の基板を、真空雰囲気中で上、下定盤の加圧保
持により仮貼合わせを行なうことで、前記外周シール剤
により前記2枚の基板間に密閉空間を形成する工程と、 前記仮貼合せの状態から真空雰囲気を大気圧までリーク
することにより、前記2枚の基板を所望のセルギャップ
まで加圧して、貼合わせ基板を形成する工程と、 前記貼合わせ基板のセルギャップを測定する工程と、 前記所望のセルギャップが形成された貼合わせ基板に紫
外線を照射して本貼合わせを行う工程とよりなることを
特徴とする液晶表示素子の製造方法。
1. A liquid crystal display device for producing a bonded substrate having a desired cell gap by bonding one substrate having an image display portion formed in a substantially matrix shape to the other substrate. A method of manufacturing, wherein at least one of the substrates is coated with a main sealant around an image display part formed in a substantially matrix shape, and the outer peripheral sealant is surrounded by the outermost periphery of a region where the main sealants are arranged. And a step of applying the two substrates in a vacuum atmosphere by temporarily holding the upper and lower platens under pressure to form a sealed space between the two substrates by the peripheral sealing agent. And a step of forming a bonded substrate by pressurizing the two substrates to a desired cell gap by leaking a vacuum atmosphere from the temporarily bonded state to atmospheric pressure. Manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a step of measuring a cell gap of the bonded substrate; and a step of irradiating the bonded substrate on which the desired cell gap is formed with ultraviolet rays to perform a main bonding. Method.
【請求項2】略マトリックス状に形成された画像表示部
の周囲にメインシール剤を塗布すると共に、このメイン
シール剤が並ぶ領域の最外周を囲む状態で外周シール剤
を塗布した一方の基板と、他方の基板を貼合わせること
により所望のセルギャップが形成された貼合わせ基板を
作製するための液晶表示素子の製造装置であって、 前記2枚の基板を真空雰囲気中で加圧保持して、前記2
枚の基板間に密閉空間を形成するための上、下定盤と、 前記上、下定盤及び前記2枚の基板を設けた真空チャン
バーと、 前記真空チャンバー内の真空度を制御することにより、
前記2枚の基板を所望のセルギャップまで加圧して、貼
合わせ基板を形成するための制御機構と、 前記貼合わせ基板のセルギャップを測定するための測定
システムと、 前記所望のセルギャップが形成された貼合わせ基板に紫
外線を照射する紫外線照射システムとを具備したことを
特徴とする液晶表示素子の製造装置。
2. A substrate on which a main sealant is applied to the periphery of an image display portion formed in a substantially matrix shape, and one outer peripheral sealant is applied so as to surround the outermost periphery of the region where the main sealant is lined up. A device for manufacturing a liquid crystal display element for producing a bonded substrate having a desired cell gap formed by bonding the other substrate, wherein the two substrates are pressurized and held in a vacuum atmosphere. , The above 2
By forming a closed space between the two substrates, a lower platen, a vacuum chamber in which the upper and lower platens and the two substrates are provided, and by controlling the degree of vacuum in the vacuum chamber,
A control mechanism for pressurizing the two substrates to a desired cell gap to form a bonded substrate, a measurement system for measuring the cell gap of the bonded substrate, and a desired cell gap formed. An apparatus for manufacturing a liquid crystal display element, comprising: an ultraviolet irradiation system for irradiating the bonded substrate thus bonded with ultraviolet rays.
【請求項3】略マトリックス状に画像表示部が形成され
た一方の基板と、他方の基板とを貼合わせることにより
所望のセルギャップが形成された貼合わせ基板を作製す
るための液晶表示素子の製造方法であって、 少なくとも前記一方の基板に略マトリックス状に形成さ
れた画像表示部の周囲にメインシール剤を塗布すると共
に、このメインシール剤が並ぶ領域の最外周を囲む状態
で外周シール剤を一部通気口を設けて塗布する工程と、 前記2枚の基板を、大気圧下で上、下定盤の加圧保持に
よって仮貼合せを行う工程と、 前記仮貼合せを行った2枚の基板の雰囲気を所定の真空
雰囲気まで減圧する工程と、 前記通気口を封止して前記2枚の基板と前記外周シール
剤とによる密閉空間を形成する工程と、 前記仮貼合せの状態下における所定の真空雰囲気を大気
圧までリークして、前記仮貼合せ時の不均一なセルギャ
ップを均一に修正することにより貼合わせ基板を形成す
る工程と、 前記均一なセルギャップが形成された貼合わせ基板に紫
外線を照射して本貼合わせを行う工程とよりなることを
特徴とする液晶表示素子の製造方法。
3. A liquid crystal display element for producing a bonded substrate having a desired cell gap by bonding one substrate having an image display portion formed in a substantially matrix shape and the other substrate. A method of manufacturing, wherein at least one of the substrates is coated with a main sealant around an image display part formed in a substantially matrix shape, and the outer peripheral sealant is surrounded by the outermost periphery of a region where the main sealant is lined up. A part of the substrate is provided with a vent, and the two substrates are temporarily bonded by holding pressure on upper and lower platens under atmospheric pressure; The step of depressurizing the atmosphere of the substrate to a predetermined vacuum atmosphere, the step of sealing the vent hole to form a closed space by the two substrates and the outer peripheral sealant, and the temporary bonding state. Prescribed in A step of forming a bonded substrate by leaking a vacuum atmosphere to atmospheric pressure and uniformly correcting the non-uniform cell gap at the time of the temporary bonding, and a bonded substrate on which the uniform cell gap is formed. A method of manufacturing a liquid crystal display element, which comprises the step of irradiating with ultraviolet rays to perform the main bonding.
【請求項4】略マトリックス状に形成された画像表示部
の周囲にメインシール剤を塗布すると共に、このメイン
シール剤が並ぶ領域の最外周を囲む状態で外周シール剤
を一部通気口を設けて塗布した一方の基板と、他方の基
板を貼合わせることにより所望のセルギャップが形成さ
れた貼合わせ基板を作製するための液晶表示素子の製造
装置であって、 前記2枚の基板を大気圧下で加圧保持して、前記2枚の
基板間に密閉空間を形成するための上、下定盤と、 前記上、下定盤及び前記2枚の基板を設けた真空チャン
バーと、 前記真空チャンバー内の真空度を制御することにより、
前記2枚の基板を所望のセルギャップまで加圧して、貼
合わせ基板を形成するための制御機構と、 前記貼合わせ基板のセルギャップを測定する測定システ
ムと前記貼合わせ基板を構成する前記一方の基板の通気
口に封止剤を塗布する塗布機構とを具備したことを特徴
とする液晶表示素子の製造装置。
4. A main sealant is applied to the periphery of an image display portion formed in a substantially matrix shape, and a part of the outer peripheral sealant is provided with ventilation holes so as to surround the outermost periphery of the area where the main sealant is lined up. A liquid crystal display device manufacturing apparatus for manufacturing a bonded substrate in which a desired cell gap is formed by bonding one substrate coated by applying An upper and lower stool for pressurizing and holding below to form a closed space between the two substrates, a vacuum chamber in which the upper and lower stools and the two substrates are provided, and the inside of the vacuum chamber By controlling the vacuum degree of
A control mechanism for pressurizing the two substrates to a desired cell gap to form a bonded substrate, a measurement system for measuring the cell gap of the bonded substrate, and one of the ones constituting the bonded substrate. An apparatus for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a coating mechanism that coats a sealing agent on a ventilation hole of a substrate.
【請求項5】前記2枚の基板を真空雰囲気中で仮貼合せ
を行うことにより、前記2枚の基板間に密閉空間を形成
するための上、下定盤は、 それぞれ相対向する面に凹,凸面部を形成すると共に、
それぞれの凹,凸面部が前記基板を介して相対向する如
く配置され、 加圧時、前記少なくとも一方の凸面部は、前記基板の画
像表示部以外を加圧するようにしたことを特徴とする請
求項1記載の液晶表示素子の製造方法。
5. The upper and lower platens for forming a closed space between the two substrates by temporarily bonding the two substrates in a vacuum atmosphere, and the upper and lower stools are recessed on opposite surfaces, respectively. , While forming the convex part,
The concave and convex portions are arranged so as to face each other with the substrate interposed therebetween, and at the time of pressurization, the at least one convex surface portion presses a portion other than the image display portion of the substrate. Item 2. A method for manufacturing a liquid crystal display element according to item 1.
【請求項6】前記2枚の基板を真空雰囲気中で加圧保持
して、前記2枚の基板間に密閉空間を形成するための
上、下定盤は、 それぞれ相対向する面に凹,凸面部を形成すると共に、
それぞれの凹,凸面部が前記基板を介して相対向する如
く配置され、 加圧時、前記少なくとも一方の凸面部は、前記基板の画
像表示部以外を加圧するよう構成したことを特徴とする
請求項2記載の液晶表示素子の製造装置。
6. The upper and lower surface plates for holding the two substrates under pressure in a vacuum atmosphere to form a closed space between the two substrates are concave and convex on opposite surfaces, respectively. Forming a part,
The concave and convex portions are arranged so as to face each other through the substrate, and at the time of pressurization, the at least one convex portion is configured to press a portion other than the image display portion of the substrate. Item 2. A liquid crystal display device manufacturing apparatus according to item 2.
【請求項7】前記2枚の基板を大気圧下で仮貼合せを行
うことにより、前記2枚の基板間に密閉空間を形成する
ための上、下定盤は、 それぞれ相対向する面に凹,凸面部を形成すると共に、
それぞれの凹,凸面部が前記基板を介して相対向する如
く配置され、 加圧時、前記少なくとも一方の凸面部は、前記基板の画
像表示部以外を加圧するようにしたことを特徴とする請
求項3記載の液晶表示素子の製造方法。
7. The upper and lower surface plates for forming a closed space between the two substrates by temporarily bonding the two substrates under atmospheric pressure, and the upper and lower stools have concave portions on opposite surfaces, respectively. , While forming the convex part,
The concave and convex portions are arranged so as to face each other with the substrate interposed therebetween, and at the time of pressurization, the at least one convex surface portion presses a portion other than the image display portion of the substrate. Item 4. A method for manufacturing a liquid crystal display element according to item 3.
【請求項8】前記2枚の基板を大気圧下で加圧保持し
て、前記2枚の基板間に密閉空間を形成するための上、
下定盤は、 それぞれ相対向する面に凹,凸面部を形成すると共に、
それぞれの凹,凸面部が前記基板を介して相対向する如
く配置され、 加圧時、前記少なくとも一方の凸面部は、前記基板の画
像表示部以外を加圧するよう構成したことを特徴とする
請求項4記載の液晶表示素子の製造装置。
8. A method for pressurizing and holding the two substrates under atmospheric pressure to form a closed space between the two substrates,
The lower platen has concave and convex parts on the opposite surfaces,
The concave and convex portions are arranged so as to face each other through the substrate, and at the time of pressurization, the at least one convex portion is configured to press a portion other than the image display portion of the substrate. Item 4. An apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to item 4.
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