JP2003004673A - X-ray fluorescent liquid analyzer - Google Patents
X-ray fluorescent liquid analyzerInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、蛍光Ｘ線液分析計
に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a fluorescent X-ray liquid analyzer.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図４は、既存の電気メッキラインのメッ
キ液分析系統１を模式的に示す説明図である。このメッ
キ液分析系統１は、(i) 図示しない電気メッキラインの
メッキ液収容槽に設けられたフィルタ装置２を介してオ
ーバーフロータンク３へメッキ液を供給するサンプリン
グ装置４と、(ii)オーバーフロータンク３から供給され
るメッキ液を収容するとともに駆動モータ５により駆動
される複数のサンプルホルダ６と、Ｗ管球7aおよびCr管
球7bを有するＸ線発生部７と、駆動モータ８により駆動
されてＸ線発生部７からの一次Ｘ線を遮光するシャッタ
９と、サンプルホルダ６により反射した反射Ｘ線を受光
する半導体検出器(SSD) からなるＸ線検出部10とを備え
る測定ヘッド部11と、(iii) Ｘ線検出部10からの検出信
号を加工処理する演算処理装置12と、演算処理装置12に
よる演算結果を表示する表示部13とを備えるメッキ液自
動分析装置14とを備える。サンプリング装置４によりサ
ンプリングされた試料であるメッキ液は、測定ヘッド部
11により蛍光Ｘ線による測定が行われ、メッキ液自動分
析装置14に測定結果が表示される。2. Description of the Related Art FIG. 4 is an explanatory view schematically showing a plating liquid analysis system 1 for an existing electroplating line. This plating liquid analysis system 1 includes (i) a sampling device 4 for supplying the plating liquid to an overflow tank 3 via a filter device 2 provided in a plating liquid storage tank of an electroplating line (not shown), and (ii) an overflow tank. A plurality of sample holders 6 that contain the plating liquid supplied from 3 and are driven by a drive motor 5, an X-ray generator 7 having a W tube 7a and a Cr tube 7b, and a drive motor 8 A measurement head unit 11 including a shutter 9 that shields the primary X-rays from the X-ray generation unit 7 and an X-ray detection unit 10 including a semiconductor detector (SSD) that receives the reflected X-rays reflected by the sample holder 6. (Iii) An automatic plating solution analyzer 14 including an arithmetic processing unit 12 for processing the detection signal from the X-ray detection unit 10 and a display unit 13 for displaying the arithmetic result of the arithmetic processing unit 12 is provided. . The plating liquid, which is the sample sampled by the sampling device 4, is
The measurement by the fluorescent X-ray is performed by 11, and the measurement result is displayed on the plating liquid automatic analyzer 14.
【０００３】このメッキ液分析系統１では、複数のメッ
キ槽からサンプリングしたメッキ液が、サンプルホルダ
６に連設された複数の測定セルにそれぞれ装入され、こ
れら複数の測定セルを駆動モータ５により移動すること
によって測定を行っていた。図５は、図４におけるＡ部
付近を拡大してさらに模式的に示す説明図である。すな
わち、複数のメッキ槽からサンプリングしたメッキ液を
収容する複数の測定セル15を有するサンプルホルダ６
は、駆動モータ５により図中の左右方向に直線的に駆動
され、固定配置された測定部16による測定位置（図中の
位置Ｂ）に停止した測定セル１５の測定が行われる。In this plating liquid analysis system 1, plating liquids sampled from a plurality of plating tanks are respectively charged into a plurality of measuring cells connected to a sample holder 6, and the plurality of measuring cells are driven by a drive motor 5. The measurement was performed by moving. FIG. 5 is an explanatory diagram further enlarged and schematically showing the vicinity of the portion A in FIG. That is, the sample holder 6 having a plurality of measuring cells 15 containing the plating liquid sampled from a plurality of plating tanks.
Is linearly driven in the left-right direction in the drawing by the drive motor 5, and the measurement cell 15 stopped at the measurement position (position B in the drawing) is measured by the measuring unit 16 fixedly arranged.
【０００４】図４および図５により示した例は、サンプ
ルホルダ６が移動するとともに測定部16が停止する場合
であるが、これとは逆に、例えば図６に示すように、サ
ンプルホルダ６が停止するとともに測定部16が図示しな
い駆動機構によって図中の矢印方向へ移動するように構
成する場合もある。In the example shown in FIGS. 4 and 5, the sample holder 6 moves and the measuring unit 16 stops, but conversely, as shown in FIG. In some cases, the measurement unit 16 may be configured to move in the direction of the arrow in the figure by a driving mechanism (not shown) while stopping.
【０００５】なお、このような従来のメッキ液自動分析
装置は、例えば特開昭61−207954号公報、特公昭60−48
598 号公報、特公平２−28819 号さらには特公平４−19
498号公報等にも開示されている。Incidentally, such a conventional automatic plating solution analyzer is disclosed in, for example, JP-A-61-207954 and JP-B-60-48.
Japanese Patent Publication No. 598, Japanese Patent Publication No. 2-28819, and Japanese Patent Publication No. 4-19
It is also disclosed in Japanese Patent Publication No. 498.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかし、図４〜図６に
示す従来のメッキ液分析系統１では、サンプルホルダ６
または測定部16の少なくともいずれか一方を移動させる
必要がある。このため、図７に模式的に示すように、サ
ンプルホルダ６に支持された複数の測定セル15と測定部
16との間には、移動時の干渉を防止するためにある程度
の距離ε0 の隙間を設ける必要があった。このため、Ｘ
線発生部７〜測定セル15の前面との間の距離L1と、測定
セル15の前面〜Ｘ線検出部10との間の距離L2との和であ
る測定光路L を小さく設定することができないととも
に、サンプルホルダ６または測定部16の少なくともいず
れか一方を移動させる度に測定光路L の距離が変動して
しまっていた。このため、所望の測定精度を得ることが
難しかった。However, in the conventional plating solution analysis system 1 shown in FIGS. 4 to 6, the sample holder 6 is used.
Alternatively, it is necessary to move at least one of the measuring units 16. Therefore, as schematically shown in FIG. 7, the plurality of measurement cells 15 supported by the sample holder 6 and the measurement unit
It was necessary to provide a gap of a certain distance ε 0 with 16 in order to prevent interference during movement. Therefore, X
The measurement optical path L, which is the sum of the distance L 1 between the line generation unit 7 and the front surface of the measurement cell 15 and the distance L 2 between the front surface of the measurement cell 15 and the X-ray detection unit 10, should be set small. In addition, the distance of the measuring optical path L fluctuates every time at least one of the sample holder 6 and the measuring unit 16 is moved. Therefore, it is difficult to obtain a desired measurement accuracy.
【０００７】また、測定するメッキ液の種類を増加する
には、測定セル15を保持するサンプルホルダ６を改造す
る必要があり、改造費用が嵩んでいた。さらに、メッキ
液収容槽から各測定セル15までへのメッキ液の搬送は、
圧送ポンプを用いて行っているが、この圧送にはある程
度の圧力を作用させる必要があり、測定セル15の前面に
設けられた測定窓を構成する膜15a の厚さt0（図７参
照）をある程度確保する必要もあった。このため、この
厚さt0にも起因して、所望の測定精度を得ることは難し
かった。Further, in order to increase the number of kinds of plating liquid to be measured, it is necessary to modify the sample holder 6 which holds the measuring cell 15, resulting in a high modification cost. Furthermore, the transport of the plating liquid from the plating liquid storage tank to each measurement cell 15 is
Although a pressure pump is used, it is necessary to apply a certain amount of pressure to this pressure transfer, and the thickness t 0 of the film 15a constituting the measurement window provided on the front surface of the measurement cell 15 (see FIG. 7). Had to be secured to some extent. Therefore, it was difficult to obtain the desired measurement accuracy due to the thickness t 0 .
【０００８】本発明の目的は、所望の測定精度を得るこ
とができる蛍光Ｘ線液分析計を安価に提供することであ
る。An object of the present invention is to inexpensively provide a fluorescent X-ray liquid analyzer capable of obtaining a desired measurement accuracy.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明者は上記課題を解
決するために鋭意検討を重ねた結果、測定セルを複数用
いるのではなく一つだけ用いることとして、Ｘ線発生部
〜測定セルの前面との間の距離と、測定セルの前面〜Ｘ
線検出部との間の距離とがいずれも固定化されるよう
に、Ｘ線発生部、測定セルおよびＸ線検出部を配置する
ことにより、所望の測定精度を確実に確保できることを
知見した。また、一つの測定セルに試料を供給する供給
系に複数種の液体試料を切り替えることができる機構を
設け、さらに液体試料を水頭差を利用して供給すること
により、さらに測定精度を向上できることを知見した。
本発明はこれらの知見に基づいてなされたものである。As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventor has determined that, instead of using a plurality of measurement cells, only one is used, and the X-ray generator to the measurement cell are used. Distance between the front and the front of the measuring cell ~ X
It has been found that by arranging the X-ray generation unit, the measurement cell, and the X-ray detection unit such that the distance to the line detection unit is fixed, the desired measurement accuracy can be ensured. Further, by providing a mechanism capable of switching a plurality of types of liquid samples in a supply system for supplying a sample to one measurement cell, and further supplying the liquid sample by utilizing the head difference, it is possible to further improve the measurement accuracy. I found out.
The present invention has been made based on these findings.
【００１０】本発明は、一次Ｘ線を発生するＸ線発生部
と、一次Ｘ線が入射する液体試料収容部と、液体試料収
容部からの反射Ｘ線を検出するＸ線検出部とをいずれも
備え、Ｘ線発生部と液体試料収容部との位置関係、およ
び液体試料収容部とＸ線検出部との位置関係のいずれも
が不変であることを特徴とする蛍光Ｘ線液分析計であ
る。According to the present invention, any one of an X-ray generation section for generating primary X-rays, a liquid sample storage section on which the primary X-rays enter, and an X-ray detection section for detecting reflected X-rays from the liquid sample storage section are provided. A fluorescent X-ray liquid analyzer characterized in that the positional relationship between the X-ray generation section and the liquid sample storage section and the positional relationship between the liquid sample storage section and the X-ray detection section are unchanged. is there.
【００１１】この本発明にかかる蛍光Ｘ線液分析計で
は、Ｘ線発生部、液体試料収容部およびＸ線検出部をい
ずれも固定して支持するハウジングを有することが例示
される。The fluorescent X-ray liquid analyzer according to the present invention is exemplified to have a housing for fixing and supporting all of the X-ray generator, the liquid sample container and the X-ray detector.
【００１２】また、これらの本発明にかかる蛍光Ｘ線液
分析計では、液体試料収容部へ複数種の液体試料を切り
替えて供給する液体試料供給系を備えることが、例示さ
れる。この場合に、液体試料供給系が、水頭差を利用し
て複数種の液体試料を供給することが、測定精度を向上
するためにはさらに望ましい。Further, it is exemplified that these fluorescent X-ray liquid analyzers according to the present invention are provided with a liquid sample supply system for switching and supplying a plurality of types of liquid samples to the liquid sample container. In this case, it is more desirable for the liquid sample supply system to supply a plurality of types of liquid samples by utilizing the head difference, in order to improve the measurement accuracy.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明にかかる蛍光Ｘ線液
分析計の実施の形態を添付図面を参照しながら詳細に説
明する。なお、以降の実施の形態の説明は、本発明にか
かる蛍光Ｘ線液分析計を、既存の電気メッキラインのメ
ッキ液分析系統に適用した場合を例にとって、行う。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of a fluorescent X-ray liquid analyzer according to the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. In addition, the following description of the embodiments will be made by taking the case where the fluorescent X-ray liquid analyzer according to the present invention is applied to a plating liquid analysis system of an existing electroplating line as an example.
【００１４】図１は、本実施の形態の蛍光Ｘ線液分析計
を適用された、電気メッキラインのメッキ液分析系統20
を模式的に、かつ一部を簡略化して示す説明図である。
このメッキ液分析系統20は、(i) 図示しない電気メッキ
ラインのメッキ液収容槽に設けられたフィルタ装置22を
介してオーバーフロータンク23へメッキ液を供給するフ
ィルタ装置24と、(ii)オーバーフロータンク23から供給
されるメッキ液を収容する測定セル25と、Rh管球からな
るＸ線発生部26と、測定セル25により反射した反射Ｘ線
を受光する半導体検出器(SSD) からなるＸ線検出部27と
を備える測定ヘッド部（蛍光Ｘ線液分析計）21と、(ii
i) Ｘ線検出部27からの検出信号を加工処理する演算処
理装置28と、演算処理装置28による演算結果を表示する
表示部29とを備えるメッキ液自動分析装置30とを備え
る。FIG. 1 shows a plating solution analysis system 20 of an electroplating line to which the fluorescent X-ray solution analyzer of this embodiment is applied.
It is explanatory drawing which shows typically, and simplifies a part.
This plating liquid analysis system 20 includes (i) a filter device 24 for supplying a plating liquid to an overflow tank 23 via a filter device 22 provided in a plating liquid storage tank of an electroplating line (not shown), and (ii) an overflow tank. X-ray detection consisting of a measuring cell 25 containing the plating solution supplied from 23, an X-ray generator 26 consisting of a Rh tube, and a semiconductor detector (SSD) receiving the reflected X-rays reflected by the measuring cell 25. Measuring head section (fluorescent X-ray liquid analyzer) 21 including a section 27, and (ii
i) An automatic plating solution analyzer 30 including an arithmetic processing unit 28 for processing the detection signal from the X-ray detecting unit 27 and a display unit 29 for displaying the arithmetic result of the arithmetic processing unit 28.
【００１５】フィルタ装置24によりサンプリングされた
試料であるメッキ液は、測定ヘッド部21により蛍光Ｘ線
による測定が行われ、メッキ液自動分析装置30によって
測定結果が表示される。The plating liquid sampled by the filter device 24 is measured by fluorescent X-rays by the measuring head portion 21, and the measurement result is displayed by the plating liquid automatic analyzer 30.
【００１６】図２は、図１に示す測定ヘッド部（蛍光Ｘ
線液分析計）21の近傍を抽出して示す説明図である。ま
た、図３は、この測定ヘッド21の要部を抽出して示す説
明図である。FIG. 2 shows the measuring head section (fluorescent X shown in FIG.
FIG. 2 is an explanatory view showing the vicinity of the liquid crystal analyzer) 21. In addition, FIG. 3 is an explanatory view showing a main portion of the measuring head 21 extracted.
【００１７】図２に示すように、本実施の形態の蛍光Ｘ
線液分析計21は、一次Ｘ線31を発生するＸ線発生部26
と、一次Ｘ線31が入射する液体試料収容部である測定セ
ル25と、測定セル25からの反射Ｘ線32を検出するＸ線検
出部27とをいずれも備える。As shown in FIG. 2, the fluorescence X according to the present embodiment.
The X-ray analyzer 21 includes an X-ray generation unit 26 that generates primary X-rays 31.
And a measurement cell 25, which is a liquid sample storage section on which the primary X-ray 31 enters, and an X-ray detection section 27, which detects reflected X-rays 32 from the measurement cell 25.
【００１８】なお、Ｘ線検出部27には液体窒素を所定量
（本実施の形態では９リットル）を収容した液体窒素瓶
33が接続されており、Ｘ線検出部27を所定の温度に冷却
している。また、測定セル25の前面のセル窓には、６μ
ｍの厚さのマイラー膜25a が装着されている。The X-ray detector 27 contains a liquid nitrogen bottle containing a predetermined amount of liquid nitrogen (9 liters in this embodiment).
33 is connected to cool the X-ray detection unit 27 to a predetermined temperature. In addition, the cell window on the front of the measuring cell 25 has 6 μ
A Mylar membrane 25a having a thickness of m is attached.
【００１９】この本実施の形態にかかる蛍光Ｘ線液分析
計21では、Ｘ線発生部26、測定セル25およびＸ線検出部
27は、いずれも、適宜材料により構成されたハウジング
34により固定支持されている。In the fluorescent X-ray liquid analyzer 21 according to the present embodiment, the X-ray generator 26, the measuring cell 25 and the X-ray detector are included.
27 is a housing made of an appropriate material
It is fixedly supported by 34.
【００２０】このため、本実施の形態では、Ｘ線発生部
26と測定セル25との位置関係、および測定セル25とＸ線
検出部27との位置関係のいずれもが不変である。すなわ
ち、本実施の形態によれば、図３に示すように、Ｘ線発
生部26〜測定セル25の前面との間の距離L1' と、測定セ
ル25の前面〜Ｘ線検出部27との間の距離L2' との和であ
る測定光路L'の設定の自由度を向上できる。すなわち、
測定光路L'を、Ｘ線発生部26およびＸ線検出部27それぞ
れの測定精度等に応じて、図７に示す従来の装置よりも
小さく設定することが可能となる。Therefore, in the present embodiment, the X-ray generator
Both the positional relationship between 26 and the measuring cell 25 and the positional relationship between the measuring cell 25 and the X-ray detection unit 27 are unchanged. That is, according to the present embodiment, as shown in FIG. 3, the distance L 1 ′ between the X-ray generation unit 26 and the front surface of the measurement cell 25, and the front surface of the measurement cell 25-the X-ray detection unit 27. The degree of freedom in setting the measurement optical path L ′, which is the sum of the distance L 2 ′ between them, can be improved. That is,
The measurement optical path L ′ can be set smaller than that of the conventional device shown in FIG. 7 according to the measurement accuracy of the X-ray generation unit 26 and the X-ray detection unit 27.
【００２１】また、本実施の形態によれば、測定セル25
またはＸ線発生部26等の少なくともいずれか一方を移動
させても、測定光路L'の距離が変動しない。このため、
測定光路L'の距離を従来よりも小さく設定することがで
きたことと相まって所望の測定精度を確実に得ることが
できる。Further, according to the present embodiment, the measuring cell 25
Alternatively, the distance of the measurement optical path L ′ does not change even if at least one of the X-ray generation unit 26 and the like is moved. For this reason,
Coupled with the fact that the distance of the measurement optical path L ′ can be set smaller than in the past, it is possible to reliably obtain the desired measurement accuracy.
【００２２】本実施の形態では、測定セル25には、複数
種の液体試料を切り替えて供給する液体試料供給系35が
設けられる。この液体試料供給系35は、オーバーフロー
タンク36a 〜36b と、手動測定用タンク36c と、各タン
ク36a 〜36c と配管38との間に設けられたバルブ37a 〜
37c と、バルブ39を介して測定セル25に接続された配管
40とを備える。In the present embodiment, the measurement cell 25 is provided with a liquid sample supply system 35 for switching and supplying a plurality of types of liquid samples. The liquid sample supply system 35 includes overflow tanks 36a to 36b, a manual measurement tank 36c, valves 37a to 36c provided between the tanks 36a to 36c and a pipe 38.
37c and piping connected to measuring cell 25 via valve 39
40 and.
【００２３】オーバーフロータンク36a には第１のメッ
キ液が収容され、一方オーバーフロータンク36b には第
２のメッキ液が収容されている。さらに、手動測定用タ
ンク36c には手動測定を行う際のメッキ液が収容されて
いる。The overflow tank 36a contains a first plating solution, while the overflow tank 36b contains a second plating solution. Further, the manual measurement tank 36c contains a plating solution for manual measurement.
【００２４】各配管38および40の内部にメッキ液が存在
せず、かつバルブ37a 〜37c が閉じられた状態で、バル
ブ39を閉じるとともにバルブ37a を開くと、オーバーフ
ロータンク36a に収容された第１のメッキ液が水頭差に
より配管38を介して測定セル25へ供給され、測定セル25
内に充填される。この状態で、Ｘ線発生部26およびＸ線
検出部27を起動させることにより、測定セル25内に充填
された第１のメッキ液の測定が行われる。When there is no plating liquid inside the pipes 38 and 40 and the valves 37a to 37c are closed, the valve 39 is closed and the valve 37a is opened. The plating liquid of is supplied to the measuring cell 25 through the pipe 38 due to the difference in the head, and the measuring cell 25
Filled inside. In this state, the X-ray generation unit 26 and the X-ray detection unit 27 are activated to measure the first plating liquid filled in the measurement cell 25.
【００２５】次に、バルブ37a を閉じるとともに、バル
ブ37b を開くと、オーバーフロータンク36b に収容され
た第２のメッキ液が水頭差により配管38を介して測定セ
ル25へ供給される。これにより、第１のメッキ液は第２
のメッキ液により押し出され、測定セル25内には第２の
メッキ液が充填される。この状態で、Ｘ線発生部26およ
びＸ線検出部27を起動させることにより、測定セル25内
に充填された第２のメッキ液の測定が行われる。Next, when the valve 37a is closed and the valve 37b is opened, the second plating solution contained in the overflow tank 36b is supplied to the measuring cell 25 via the pipe 38 due to the head difference. As a result, the first plating solution
And the second plating liquid is filled in the measuring cell 25. In this state, the X-ray generator 26 and the X-ray detector 27 are activated to measure the second plating solution filled in the measurement cell 25.
【００２６】このように、本実施の形態の液体試料供給
系35は、水頭差を利用して第１のメッキ液および第２の
メッキ液を供給する。このため、測定セル25内に供給さ
れる各メッキ液の圧力が過剰に上昇することを確実に抑
制することができる。したがって、本実施の形態によれ
ば、測定セル25の前面に設けられた測定窓25a を構成す
る膜25a の厚さt1（図３参照）を、図７に示す従来の装
置よりも小さく設定することができ、所望の測定精度を
得ることができる。As described above, the liquid sample supply system 35 of the present embodiment supplies the first plating liquid and the second plating liquid by utilizing the head difference. Therefore, it is possible to reliably prevent the pressure of each plating solution supplied into the measurement cell 25 from rising excessively. Therefore, according to the present embodiment, the thickness t 1 (see FIG. 3) of the film 25a constituting the measurement window 25a provided on the front surface of the measurement cell 25 is set smaller than that of the conventional device shown in FIG. It is possible to obtain a desired measurement accuracy.
【００２７】また、測定するメッキ液の種類を増加しよ
うとするには、配管38にバルブおよびオーバーフロータ
ンクを複数組追加するだけでよく、改造費用の上昇を抑
制できる。Further, in order to increase the number of kinds of plating liquid to be measured, it is sufficient to add a plurality of valves and overflow tanks to the pipe 38, and it is possible to suppress an increase in remodeling cost.
【００２８】また、本実施の形態では、ハウジング34
に、測定セル25と、Rh管球からなるＸ線発生部26と、測
定セル25により反射した反射Ｘ線を受光する半導体検出
器(SSD) からなるＸ線検出部27とを固定して配置してあ
るため、Ｘ線発生部26と測定セル25との間の距離、およ
び測定セル25とＸ線検出部27との間の距離を、いずれも
最小限に設定することができる。このため、Ｘ線発生
部26が出力するＸ線の強度が従来と同じであれば、上記
距離を最小限に設定できる分だけ検出精度を向上でき、
またＸ線発生部26が出力するＸ線の強度を従来よりも
低下しても所望の検出精度を維持でき、出力するＸ線の
強度を低下した分だけＸ線発生部26の延命を図ることも
できる。Further, in the present embodiment, the housing 34
The measurement cell 25, the X-ray generation unit 26 including the Rh tube, and the X-ray detection unit 27 including the semiconductor detector (SSD) that receives the reflected X-rays reflected by the measurement cell 25 are fixedly arranged. Therefore, both the distance between the X-ray generation unit 26 and the measurement cell 25 and the distance between the measurement cell 25 and the X-ray detection unit 27 can be set to the minimum. Therefore, if the intensity of the X-ray output from the X-ray generation unit 26 is the same as the conventional one, the detection accuracy can be improved by the amount that the distance can be set to the minimum.
Further, even if the intensity of the X-rays generated by the X-ray generator 26 is lowered as compared with the conventional one, desired detection accuracy can be maintained, and the life of the X-ray generator 26 is increased by the amount of the reduced intensity of the output X-rays. You can also
【００２９】なお、本実施の形態の蛍光Ｘ線液分析計
は、蛍光Ｘ線で測定することができる元素を含む液体で
あれば、いかなる液体であっても高精度で連続的に測定
することができる。The fluorescent X-ray liquid analyzer of the present embodiment is capable of continuously measuring any liquid with high accuracy as long as it is a liquid containing an element that can be measured by fluorescent X-rays. You can
【００３０】このように、本実施の形態によれば、所望
の測定精度を得ることができる蛍光Ｘ線分析計を安価に
提供できた。As described above, according to the present embodiment, the fluorescent X-ray analyzer capable of obtaining the desired measurement accuracy can be provided at low cost.
【００３１】[0031]
【実施例】さらに、本発明を実施例を参照しながらより
具体的に説明する。図１〜３に示す本実施の形態の蛍光
Ｘ線液分析計と、図４、５、７に示す従来の蛍光Ｘ線液
分析計とを、それぞれ既存の電気メッキラインのメッキ
液分析系統に適用し、メッキ液の分析を行った。EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to examples. The fluorescent X-ray liquid analyzer of the present embodiment shown in FIGS. 1 to 3 and the conventional fluorescent X-ray liquid analyzer shown in FIGS. 4, 5 and 7 are respectively added to the plating liquid analysis system of the existing electroplating line. It was applied and the plating solution was analyzed.
【００３２】なお、分析条件は、Ｘ線発生部26と、半導
体検出器(SSD) からなるＸ線検出部27とのそれぞれに関
して周知慣用な条件とした。分析結果を図８にグラフで
示す。図８(a) は従来の蛍光Ｘ液分析計による分析結果
であり、図８(b) は本実施の形態の蛍光Ｘ液分析計によ
る分析結果である。なお、図８(a) および図８(b) に示
すように、各グラフの｛（最大高さ）／（最大高さの半
分の値におけるグラフの横幅）｝の値が大きいほど、測
定精度が優れることを示している。また、図８(a) にお
ける領域ＣはNiのピークが現れる領域を示し、領域Ｄは
Znのピークが現れる領域を示す。The analysis conditions were the well-known and common conditions for the X-ray generator 26 and the X-ray detector 27 including a semiconductor detector (SSD). The analysis results are shown graphically in FIG. FIG. 8 (a) shows the analysis result by the conventional fluorescent X-liquid analyzer, and FIG. 8 (b) shows the analysis result by the fluorescent X-liquid analyzer of the present embodiment. As shown in FIGS. 8 (a) and 8 (b), the larger the value of {(maximum height) / (graph width at half the maximum height)} in each graph, the greater the measurement accuracy. Is superior. In addition, region C in FIG. 8A shows a region where the Ni peak appears, and region D represents
The area where the Zn peak appears is shown.
【００３３】図８(a) に示すように、従来の蛍光Ｘ液分
析計の測定結果では、Ni、Znそれぞれのピークが合成さ
れたピークP1が発生した。このため、従来の蛍光Ｘ液分
析計では、NiおよびZnの分析を行うことができなかっ
た。As shown in FIG. 8 (a), in the measurement result of the conventional fluorescent X-liquid analyzer, a peak P 1 in which peaks of Ni and Zn were synthesized was generated. Therefore, the conventional fluorescent X-liquid analyzer could not analyze Ni and Zn.
【００３４】これに対し、図８(b) に示すように、本実
施の形態の蛍光Ｘ液分析計の測定結果では、Fe、Niおよ
びZnそれぞれのピークが独立して明確に現れた。このた
め、本実施の形態の蛍光Ｘ液分析計では、NiおよびZnの
分析を正確に行うことができた。On the other hand, as shown in FIG. 8 (b), in the measurement results of the fluorescent X-liquid analyzer of the present embodiment, the respective peaks of Fe, Ni and Zn clearly appeared independently. Therefore, the fluorescent X-liquid analyzer of the present embodiment was able to accurately analyze Ni and Zn.
【００３５】このように、図８(a) および図８(b) に示
すグラフから、本発明により従来よりも測定精度を大幅
に向上でき、これにより、所望の精度でめっき液の分析
を行うことができた。As described above, from the graphs shown in FIGS. 8 (a) and 8 (b), the measurement accuracy of the present invention can be greatly improved as compared with the conventional method, and the plating solution can be analyzed with desired accuracy. I was able to.
【００３６】[0036]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
り、所望の測定精度を得ることができる蛍光Ｘ線分析計
を安価に提供することができた。As described above in detail, according to the present invention, the fluorescent X-ray analyzer capable of obtaining the desired measurement accuracy can be provided at a low cost.
【００３７】かかる効果を有する本発明の意義は、極め
て著しい。The significance of the present invention having such effects is extremely remarkable.
【図１】実施の形態の蛍光Ｘ線液分析計を適用された、
電気メッキラインのメッキ液分析系統を模式的に、かつ
一部を簡略化して示す説明図である。1 is a fluorescent X-ray liquid analyzer according to an embodiment,
It is explanatory drawing which shows the plating liquid analysis system of an electroplating line typically and simplifies a part.
【図２】図１に示す測定ヘッド部（蛍光Ｘ線液分析計）
の近傍を抽出して示す説明図である。FIG. 2 is a measurement head unit (fluorescent X-ray liquid analyzer) shown in FIG.
It is explanatory drawing which extracts and shows the vicinity of.
【図３】測定ヘッドの要部を抽出して示す説明図であ
る。FIG. 3 is an explanatory diagram showing a main part of a measuring head extracted.
【図４】既存の電気メッキラインのメッキ液分析系統を
模式的に示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory view schematically showing a plating solution analysis system of an existing electroplating line.
【図５】図４におけるＡ部付近を拡大してさらに模式的
に示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram schematically showing an enlarged view of a portion A in FIG. 4;
【図６】図４におけるＡ部付近を拡大してさらに模式的
に示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing an enlarged schematic view of a portion A in FIG. 4;
【図７】図４におけるＡ部付近を拡大してさらに模式的
に示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram schematically showing an enlarged view of a portion A in FIG. 4;
【図８】図８(a) は、従来の蛍光Ｘ液分析計による分析
結果を示すグラフであり、図８(b) は、本実施の形態の
蛍光Ｘ液分析計による分析結果を示すグラフである。FIG. 8 (a) is a graph showing an analysis result by a conventional fluorescent X-liquid analyzer, and FIG. 8 (b) is a graph showing an analysis result by the fluorescent X-liquid analyzer of the present embodiment. Is.
【符号の説明】 ２１ 蛍光Ｘ線液分析計 ２５ 液体試料収容部 ２６ Ｘ線発生部 ２７ Ｘ線検出部 ３１ 一次Ｘ線 ３２ 反射Ｘ線[Explanation of symbols] 21 Fluorescent X-ray liquid analyzer 25 Liquid sample container 26 X-ray generator 27 X-ray detector 31 Primary X-ray 32 Reflected X-ray
Claims (4)
一次Ｘ線が入射する液体試料収容部と、当該液体試料収
容部からの反射Ｘ線を検出するＸ線検出部とをいずれも
備え、 前記Ｘ線発生部と前記液体試料収容部との位置関係、お
よび前記液体試料収容部と前記Ｘ線検出部との位置関係
はいずれも不変であることを特徴とする蛍光Ｘ線液分析
計。1. An X-ray generation unit that generates primary X-rays, a liquid sample storage unit on which the primary X-rays are incident, and an X-ray detection unit that detects reflected X-rays from the liquid sample storage unit. And a positional relationship between the X-ray generation section and the liquid sample storage section, and a positional relationship between the liquid sample storage section and the X-ray detection section are both unchanged. Analyzer.
よび前記Ｘ線検出部をいずれも固定して支持するハウジ
ングを有することを特徴とする請求項１に記載された蛍
光Ｘ線液分析計。2. The fluorescent X-ray liquid analysis according to claim 1, further comprising a housing that fixes and supports all of the X-ray generation unit, the liquid sample storage unit, and the X-ray detection unit. Total.
液体試料を切り替えて供給する液体試料供給系を備える
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載された
蛍光Ｘ線液分析計。3. The fluorescent X-ray liquid analysis according to claim 1, further comprising a liquid sample supply system that switches and supplies a plurality of types of liquid samples to the liquid sample container. Total.
て前記複数種の液体試料を供給する請求項３に記載され
た蛍光Ｘ線液分析計。4. The fluorescent X-ray liquid analyzer according to claim 3, wherein the liquid sample supply system supplies the plurality of types of liquid samples by utilizing a head difference.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001182243A JP2003004673A (en) | 2001-06-15 | 2001-06-15 | X-ray fluorescent liquid analyzer |
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| JP2003004673A true JP2003004673A (en) | 2003-01-08 |
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