JP2003001043A - 湿式汚染ガス除去装置の洗浄装置 - Google Patents
湿式汚染ガス除去装置の洗浄装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】湿式汚染ガス除去装置における微生物の繁殖を
簡単な方法で除去する。 【解決手段】噴霧ノズル４が配設された噴霧チャンバ７
と、噴霧チャンバの上流および下流側に配設されたエリ
ミネータ１２と、該エリミネータの噴霧チャンバ側に配
設されたシャッタと、前記噴霧ノズルに純水または過酸
化水素水を供給する噴霧水槽５とを備え、汚染物質を含
む空気を純水と接触させることにより汚染物質を除去す
る湿式汚染ガス除去装置であって、前記噴霧チャンバの
洗浄時には、前記シャッタを閉じるとともに噴霧ノズル
４に過酸化水素水を供給する。
簡単な方法で除去する。 【解決手段】噴霧ノズル４が配設された噴霧チャンバ７
と、噴霧チャンバの上流および下流側に配設されたエリ
ミネータ１２と、該エリミネータの噴霧チャンバ側に配
設されたシャッタと、前記噴霧ノズルに純水または過酸
化水素水を供給する噴霧水槽５とを備え、汚染物質を含
む空気を純水と接触させることにより汚染物質を除去す
る湿式汚染ガス除去装置であって、前記噴霧チャンバの
洗浄時には、前記シャッタを閉じるとともに噴霧ノズル
４に過酸化水素水を供給する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、クリーンルームな
どにおいて、空気中に存在する汚染物質を除去する汚染
物質除去装置に関する。
どにおいて、空気中に存在する汚染物質を除去する汚染
物質除去装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体、液晶などを製造するクリーンル
ームにおいて、その洗浄工程、露光工程、塗膜工程など
のあるエリアでは、その生産プロセスで使用する薬液か
ら気化した有機系のケミカルガスなどが空気中に含まれ
ている。この空気中の有機物質などは、製品の良品率に
悪影響を与えるため、除去する必要がある。従来、空気
中の有機物質などをクリーンルームから除去する方法と
して、本出願人は、特開平２０００−３３２２１号公報
の方法を提案している。これを図３により説明する。
ームにおいて、その洗浄工程、露光工程、塗膜工程など
のあるエリアでは、その生産プロセスで使用する薬液か
ら気化した有機系のケミカルガスなどが空気中に含まれ
ている。この空気中の有機物質などは、製品の良品率に
悪影響を与えるため、除去する必要がある。従来、空気
中の有機物質などをクリーンルームから除去する方法と
して、本出願人は、特開平２０００−３３２２１号公報
の方法を提案している。これを図３により説明する。
【０００３】クリーンルーム１は、製造装置２を設置し
た、例えば半導体や液晶などの製造工場であり、製造装
置２は、例えば半導体や液晶などの製造装置である。湿
式汚染ガス除去装置３は、汚染物質を除去すべき空気と
純水とを接触させ、汚染物質を純水への吸収、溶解など
によって除去するものであり、製造装置２から漏洩した
有機ガスなどの汚染物質を含むクリーンルーム１の室内
空気を吸引して汚染物質を除去し、清浄化した空気を送
風ファン６によりクリーンルーム１内に循環させる。こ
のように湿式汚染ガス除去装置３でクリーンルーム１の
室内空気を吸引し、その空気中に存在する特有の汚染物
質を除去し、清浄化した空気を再度クリーンルーム１に
循環させる。湿式汚染ガス除去装置３においては、噴霧
水槽５で冷水により純水を冷却して、その低温水を使用
して噴霧チャンバ７内で噴霧ノズル４で処理空気に接触
させることにより、汚染物質の除去性能を向上させると
同時に、処理後の空気をクリーンルーム内の空調（冷房
及び調湿）に利用している。
た、例えば半導体や液晶などの製造工場であり、製造装
置２は、例えば半導体や液晶などの製造装置である。湿
式汚染ガス除去装置３は、汚染物質を除去すべき空気と
純水とを接触させ、汚染物質を純水への吸収、溶解など
によって除去するものであり、製造装置２から漏洩した
有機ガスなどの汚染物質を含むクリーンルーム１の室内
空気を吸引して汚染物質を除去し、清浄化した空気を送
風ファン６によりクリーンルーム１内に循環させる。こ
のように湿式汚染ガス除去装置３でクリーンルーム１の
室内空気を吸引し、その空気中に存在する特有の汚染物
質を除去し、清浄化した空気を再度クリーンルーム１に
循環させる。湿式汚染ガス除去装置３においては、噴霧
水槽５で冷水により純水を冷却して、その低温水を使用
して噴霧チャンバ７内で噴霧ノズル４で処理空気に接触
させることにより、汚染物質の除去性能を向上させると
同時に、処理後の空気をクリーンルーム内の空調（冷房
及び調湿）に利用している。
【０００４】ところで、上記湿式汚染ガス除去装置３に
おいては、運転中に、噴霧ノズル４、その配管、噴霧チ
ャンバ７の内壁面等に微生物が繁殖し、除去性能の低下
や噴霧水量の低下などの不具合が生じる。これを防止す
るために抗菌処理の材料を使用したりＵＶ（紫外線）灯
を設置する方法もあるが完全に微生物の繁殖を防ぐこと
はできない。そこで、定期メンテナンスとして、これら
水が接触する部位すべてを清掃する必要がある。清掃方
法としては、ウオータージェットや人手による拭き取り
があるが、配管内の微生物は、１％程度の濃度の過酸化
水素水を循環させることが最も効果的であることが知ら
れている。
おいては、運転中に、噴霧ノズル４、その配管、噴霧チ
ャンバ７の内壁面等に微生物が繁殖し、除去性能の低下
や噴霧水量の低下などの不具合が生じる。これを防止す
るために抗菌処理の材料を使用したりＵＶ（紫外線）灯
を設置する方法もあるが完全に微生物の繁殖を防ぐこと
はできない。そこで、定期メンテナンスとして、これら
水が接触する部位すべてを清掃する必要がある。清掃方
法としては、ウオータージェットや人手による拭き取り
があるが、配管内の微生物は、１％程度の濃度の過酸化
水素水を循環させることが最も効果的であることが知ら
れている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、過酸化
水素水を循環・噴霧運転する際には、空調機の他のセク
ションに液滴が飛散しないように噴霧チャンバ７の入口
と出口をビニール等で養生しなければならず、また、洗
浄後の過酸化水素水を含んだ排水処理に手間がかかると
いう問題を有している。
水素水を循環・噴霧運転する際には、空調機の他のセク
ションに液滴が飛散しないように噴霧チャンバ７の入口
と出口をビニール等で養生しなければならず、また、洗
浄後の過酸化水素水を含んだ排水処理に手間がかかると
いう問題を有している。
【０００６】本発明は、上記問題を解決するものであっ
て、湿式汚染ガス除去装置における微生物の繁殖を簡単
な方法で除去することができる洗浄装置を提供すること
を目的とする。
て、湿式汚染ガス除去装置における微生物の繁殖を簡単
な方法で除去することができる洗浄装置を提供すること
を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の請求項１記載の湿式汚染ガス除去装置の洗
浄装置は、噴霧ノズルが配設された噴霧チャンバと、噴
霧チャンバの上流および下流側に配設されたエリミネー
タと、該エリミネータの噴霧チャンバ側に配設されたシ
ャッタと、前記噴霧ノズルに純水または過酸化水素水を
供給する噴霧水槽とを備え、汚染物質を含む空気を純水
と接触させることにより汚染物質を除去する湿式汚染ガ
ス除去装置であって、前記噴霧チャンバの洗浄時には、
前記シャッタを閉じるとともに噴霧ノズルに過酸化水素
水を供給することを特徴とし、請求項２記載の発明は、
請求項１において、噴霧水槽の上部はオーバーフロー管
を介して処理水槽に接続され、処理水槽において過酸化
水素分解処理剤が投入され、過酸化水素濃度モニタにて
所定濃度以下まで分解したことを確認した後、排水する
ことを特徴とする。
に、本発明の請求項１記載の湿式汚染ガス除去装置の洗
浄装置は、噴霧ノズルが配設された噴霧チャンバと、噴
霧チャンバの上流および下流側に配設されたエリミネー
タと、該エリミネータの噴霧チャンバ側に配設されたシ
ャッタと、前記噴霧ノズルに純水または過酸化水素水を
供給する噴霧水槽とを備え、汚染物質を含む空気を純水
と接触させることにより汚染物質を除去する湿式汚染ガ
ス除去装置であって、前記噴霧チャンバの洗浄時には、
前記シャッタを閉じるとともに噴霧ノズルに過酸化水素
水を供給することを特徴とし、請求項２記載の発明は、
請求項１において、噴霧水槽の上部はオーバーフロー管
を介して処理水槽に接続され、処理水槽において過酸化
水素分解処理剤が投入され、過酸化水素濃度モニタにて
所定濃度以下まで分解したことを確認した後、排水する
ことを特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しつつ説明する。図１は、本発明の湿式汚染ガス
除去装置の１実施形態を示す構成図である。なお、本発
明は、例えば、図３で説明したクリーンルーム汚染物質
除去システムに適用されるものである。
を参照しつつ説明する。図１は、本発明の湿式汚染ガス
除去装置の１実施形態を示す構成図である。なお、本発
明は、例えば、図３で説明したクリーンルーム汚染物質
除去システムに適用されるものである。
【０００９】図１において、湿式汚染ガス除去装置３
は、ハウジング１０と、ハウジング１０の下部に設置さ
れた噴霧水槽５を備え、ハウジング１０内には、送風フ
ァン１１と噴霧ノズル４が配設され、噴霧ノズル４はポ
ンプＰを介して噴霧水槽５に連結されている。ハウジン
グ１０内で噴霧ノズル４の上流および下流側には、エリ
ミネータ１２、１２が配設され、両エリミネータ１２、
１２の間に噴霧チャンバ７が形成されている。
は、ハウジング１０と、ハウジング１０の下部に設置さ
れた噴霧水槽５を備え、ハウジング１０内には、送風フ
ァン１１と噴霧ノズル４が配設され、噴霧ノズル４はポ
ンプＰを介して噴霧水槽５に連結されている。ハウジン
グ１０内で噴霧ノズル４の上流および下流側には、エリ
ミネータ１２、１２が配設され、両エリミネータ１２、
１２の間に噴霧チャンバ７が形成されている。
【００１０】図２に示すように、エリミネータ１２は、
金属または樹脂製の波形板１２ａを複数並べたものであ
り、空気の流路を曲げることにより空気中の余剰ミスト
を除去する機能をもたせている。各波型板１２ａの噴霧
チャンバ７側には、波形板１２ａの一部を回動可能とし
シャッタ１２ｂとしている。シャッタ１２ｂの開閉は、
シャッタ１２ｂの軸を手動もしくはモータにより駆動す
る機構を採用する。なお、各シャッタ１２ｂを設ける代
わりに一つのシャッタを波形板１２ａの前方に摺動可能
に設けるようにしてもよい。
金属または樹脂製の波形板１２ａを複数並べたものであ
り、空気の流路を曲げることにより空気中の余剰ミスト
を除去する機能をもたせている。各波型板１２ａの噴霧
チャンバ７側には、波形板１２ａの一部を回動可能とし
シャッタ１２ｂとしている。シャッタ１２ｂの開閉は、
シャッタ１２ｂの軸を手動もしくはモータにより駆動す
る機構を採用する。なお、各シャッタ１２ｂを設ける代
わりに一つのシャッタを波形板１２ａの前方に摺動可能
に設けるようにしてもよい。
【００１１】噴霧水槽５には、純水供給管１３および過
酸化水素水供給管１４が接続され、また、噴霧水槽５の
底部は排水管１５を介して処理水槽１６に接続され、さ
らに、噴霧水槽５の上部はオーバーフロー管１７を介し
て処理水槽１６に接続されている。
酸化水素水供給管１４が接続され、また、噴霧水槽５の
底部は排水管１５を介して処理水槽１６に接続され、さ
らに、噴霧水槽５の上部はオーバーフロー管１７を介し
て処理水槽１６に接続されている。
【００１２】クリーンルームなどにおいて、空気中に存
在する特有の汚染物質として除去の対象となる物質に
は、例えばレジストに含まれる、乳酸エチル、などの有
機物質、リンスに含まれる、プロピレングリコールモノ
メチルエーテルなどの有機物質、洗浄用イソプロピルア
ルコールＩＰＡ、ＳＯ4 2- 、ＮＨ4 + などの無機イオン
がある。
在する特有の汚染物質として除去の対象となる物質に
は、例えばレジストに含まれる、乳酸エチル、などの有
機物質、リンスに含まれる、プロピレングリコールモノ
メチルエーテルなどの有機物質、洗浄用イソプロピルア
ルコールＩＰＡ、ＳＯ4 2- 、ＮＨ4 + などの無機イオン
がある。
【００１３】上記構成からなる湿式汚染ガス除去装置３
の作用について説明する。噴霧水槽５には純水が供給さ
れ、ポンプＰにより噴霧ノズル４から噴霧チャンバ７内
に純水が噴霧される。汚染物質を含む空気は、先ず上流
側に設けたエリミネータ１２において、噴霧された水に
より波形板１２ａが濡らされており、水への溶解性の高
いガス成分が荒取りされる。噴霧チャンバ７内において
は噴霧ノズル４による純水と接触させられ、汚染物質は
純水への吸収、溶解などによって除去される。汚染物質
が除去された空気は、下流側のエリミネータ１２によ
り、余剰ミストが除去され汚染ガス成分の除去率を上げ
るようにし、下流へのミストの飛散を防ぐようにしてい
る。
の作用について説明する。噴霧水槽５には純水が供給さ
れ、ポンプＰにより噴霧ノズル４から噴霧チャンバ７内
に純水が噴霧される。汚染物質を含む空気は、先ず上流
側に設けたエリミネータ１２において、噴霧された水に
より波形板１２ａが濡らされており、水への溶解性の高
いガス成分が荒取りされる。噴霧チャンバ７内において
は噴霧ノズル４による純水と接触させられ、汚染物質は
純水への吸収、溶解などによって除去される。汚染物質
が除去された空気は、下流側のエリミネータ１２によ
り、余剰ミストが除去され汚染ガス成分の除去率を上げ
るようにし、下流へのミストの飛散を防ぐようにしてい
る。
【００１４】次に、噴霧チャンバ７内の洗浄方法につい
て説明する。洗浄時には、エリミネータ１２のシャッタ
１２ｂを回動して噴霧チャンバ７を密閉状態とし、噴霧
水槽５内に過酸化水素を供給し、噴霧ノズル４により噴
霧チャンバ７内に過酸化水素水を噴霧し洗浄する。洗浄
後の過酸化水素水は、噴霧水槽５に戻されをオーバーフ
ロー管１７を介して処理水槽１６に送られる。処理水槽
１６には、過酸化水素分解処理剤が投入され、過酸化水
素濃度モニタ１９にて所定濃度以下まで分解したことを
確認した後、排水する。洗浄が終了すると、噴霧水槽５
内の過酸化水素水を排水管１５を経て処理水槽１６に送
り、同様にして過酸化水素水を処理する。
て説明する。洗浄時には、エリミネータ１２のシャッタ
１２ｂを回動して噴霧チャンバ７を密閉状態とし、噴霧
水槽５内に過酸化水素を供給し、噴霧ノズル４により噴
霧チャンバ７内に過酸化水素水を噴霧し洗浄する。洗浄
後の過酸化水素水は、噴霧水槽５に戻されをオーバーフ
ロー管１７を介して処理水槽１６に送られる。処理水槽
１６には、過酸化水素分解処理剤が投入され、過酸化水
素濃度モニタ１９にて所定濃度以下まで分解したことを
確認した後、排水する。洗浄が終了すると、噴霧水槽５
内の過酸化水素水を排水管１５を経て処理水槽１６に送
り、同様にして過酸化水素水を処理する。
【００１５】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、噴霧チャンバ内を密閉して洗浄するため、噴
霧チャンバ以外のセクションに過酸化水素水の液滴を飛
散しないようにすることができる。また、洗浄作業にお
ける準備、段取り作業を大幅に短縮することができ、過
酸化水素水の循環、噴霧に多くの時間を割り当てること
ができる。さらに、分解処理剤による処理を噴霧チャン
バ内部で行わないため、残留薬剤による二次的なケミカ
ル汚染を防止することができる。また、過酸化水素水の
濃度をモニタリングすることにより排水処理設備へのダ
メージを確実に防止することができる。
によれば、噴霧チャンバ内を密閉して洗浄するため、噴
霧チャンバ以外のセクションに過酸化水素水の液滴を飛
散しないようにすることができる。また、洗浄作業にお
ける準備、段取り作業を大幅に短縮することができ、過
酸化水素水の循環、噴霧に多くの時間を割り当てること
ができる。さらに、分解処理剤による処理を噴霧チャン
バ内部で行わないため、残留薬剤による二次的なケミカ
ル汚染を防止することができる。また、過酸化水素水の
濃度をモニタリングすることにより排水処理設備へのダ
メージを確実に防止することができる。
【図１】本発明における湿式汚染ガス除去装置の１実施
形態を示す構成図である。
形態を示す構成図である。
【図２】図１のエリミネータの構成を示す模式的断面図
である。
である。
【図３】本発明が適用されるクリーンルーム汚染物質除
去システムの１例を示す構成図である。
去システムの１例を示す構成図である。
３…湿式汚染ガス除去装置
４…噴霧ノズル
５…噴霧水槽
７…噴霧チャンバ
１２…エリミネータ
１２ｂ…シャッタ
１６…処理水槽
１７…オーバーフロー管
１９…過酸化水素濃度モニタ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｆ２４Ｆ 7/06 Ｆ２４Ｆ 7/06 Ｃ
Ｆターム(参考） 3B201 AA23 AA46 BB21 BB93 BB96
CD11 CD24 CD33
3L058 BD00 BF09 BG01 BG03 BG05
4D020 AA08 AA10 BA23 CB25
4D032 AC01 BA03 BB01
4D038 AA08 AB26 BA02 BA04 BA06
Claims (2)
- 【請求項１】噴霧ノズルが配設された噴霧チャンバと、
噴霧チャンバの上流および下流側に配設されたエリミネ
ータと、該エリミネータの噴霧チャンバ側に配設された
シャッタと、前記噴霧ノズルに純水または過酸化水素水
を供給する噴霧水槽とを備え、汚染物質を含む空気を純
水と接触させることにより汚染物質を除去する湿式汚染
ガス除去装置であって、前記噴霧チャンバの洗浄時に
は、前記シャッタを閉じるとともに噴霧ノズルに過酸化
水素水を供給することを特徴とする湿式汚染ガス除去装
置の洗浄装置。 - 【請求項２】噴霧水槽の上部はオーバーフロー管を介し
て処理水槽に接続され、処理水槽において過酸化水素分
解処理剤が投入され、過酸化水素濃度モニタにて所定濃
度以下まで分解したことを確認した後、排水することを
特徴とする請求項１記載の湿式汚染ガス除去装置の洗浄
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001183213A JP2003001043A (ja) | 2001-06-18 | 2001-06-18 | 湿式汚染ガス除去装置の洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001183213A JP2003001043A (ja) | 2001-06-18 | 2001-06-18 | 湿式汚染ガス除去装置の洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003001043A true JP2003001043A (ja) | 2003-01-07 |
Family
ID=19023191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001183213A Pending JP2003001043A (ja) | 2001-06-18 | 2001-06-18 | 湿式汚染ガス除去装置の洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003001043A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006150208A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 大気浄化装置 |
| EP1832817A2 (en) * | 2006-03-08 | 2007-09-12 | SANYO ELECTRIC Co., Ltd. | Air filtering apparatus |
| EP1890089A2 (en) * | 2006-08-07 | 2008-02-20 | SANYO ELECTRIC Co., Ltd. | air filtering apparatus |
| EP1930664A3 (en) * | 2006-10-30 | 2010-09-29 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Air filtering apparatus |
| JP2018111073A (ja) * | 2017-01-12 | 2018-07-19 | 有限会社ファミーユ | 気体浄化装置 |
| KR102028943B1 (ko) * | 2019-02-20 | 2019-10-08 | 장현수 | 미세먼지 제거 등 공기재생 기능을 구비한 공기처리기 |
-
2001
- 2001-06-18 JP JP2001183213A patent/JP2003001043A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006150208A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 大気浄化装置 |
| JP4531536B2 (ja) * | 2004-11-29 | 2010-08-25 | 三菱重工メカトロシステムズ株式会社 | 大気浄化装置 |
| EP1832817A2 (en) * | 2006-03-08 | 2007-09-12 | SANYO ELECTRIC Co., Ltd. | Air filtering apparatus |
| EP1832817A3 (en) * | 2006-03-08 | 2009-10-14 | SANYO ELECTRIC Co., Ltd. | Air filtering apparatus |
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| EP1890089A3 (en) * | 2006-08-07 | 2009-10-14 | SANYO ELECTRIC Co., Ltd. | air filtering apparatus |
| US7896947B2 (en) | 2006-08-07 | 2011-03-01 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Air filtering apparatus |
| EP1930664A3 (en) * | 2006-10-30 | 2010-09-29 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Air filtering apparatus |
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| JP2018111073A (ja) * | 2017-01-12 | 2018-07-19 | 有限会社ファミーユ | 気体浄化装置 |
| KR102028943B1 (ko) * | 2019-02-20 | 2019-10-08 | 장현수 | 미세먼지 제거 등 공기재생 기능을 구비한 공기처리기 |
| WO2020171331A1 (ko) * | 2019-02-20 | 2020-08-27 | 장현수 | 미세먼지 제거 등 공기재생 기능을 구비한 공기처리기 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| A02 | Decision of refusal |
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