JP2002005474A - エアワッシャ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 空気調和機の運転停止を伴ったメンテナンス
を不要とすることができるエアワッシャを提供する。 【解決手段】 空気入口４２と空気出口４３とを有し、
空気入口４２から空気出口４３に向かって空気流Ａが生
じる水噴霧室４１と、水噴霧室４１の空気入口側に配置
する第１ワッシャメディア４４と、水噴霧室４１の空気
出口側に配置する第２ワッシャメディア４５と、第１ワ
ッシャメディア４４より上流側に位置し、空気流Ａの順
逆方向に向けて第１ワッシャメディア４４に達する噴霧
水を噴霧する第１段ノズル４６と、第２ワッシャメディ
ア４５より上流側に位置し、空気流とは逆方向に向けて
第１ワッシャメディア４４に達する噴霧水を噴霧する第
２段ノズル４７と、水噴霧室内に位置して流下する噴霧
水を受け止める貯水槽４９と、貯水槽４９の内部の循環
水を第１段ノズル４６および第２段ノズル４７に循環供
給する循環水供給系５０とを備えた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、エアワッシャに関
し、半導体工場等において空気中の塵埃や有害ガスを除
去するとともに、飽和効率の高い加湿を行なう外気処理
用の空気調和機の技術に係るものである。

【０００２】

【従来の技術】従来のエアワッシャとしては、例えば、
図１２〜図１４に示すものがある。図１２に示すよう
に、空気調和機１には、空気流Ａの流れ方向に沿って上
流側から順次に、粗フィルタ２ａ、中性能フィルタ２
ｂ、予冷コイル３、エアワッシャ４、冷却コイル５、送
風機６、再熱コイル７、ケミカルフィルタ８、超高性能
フィルタ９を配置している。

【０００３】図１３〜図１４に示すように、エアワッシ
ャ４は、矩形の流路断面を有する本体ケーシング１１の
内部に、所定長さの水噴霧室１２を有している。水噴霧
室１２は、その一端に形成した空気入口１３ａにおいて
ダクト（図示せず）に接続しており、このダクトから流
入する空気流Ａが水噴霧室１２の流路を通って他端に形
成した空気出口１３ｂから流出する。

【０００４】水噴霧室１２には、空気入口１３ａの側に
第１ワッシャメディア１４を配置し、空気出口１３ｂの
側に第２ワッシャメディア１５を配置しており、各ワッ
シャメディア１４、１５は、本体ケーシング１１の流路
断面とほぼ等しい形状を有し、ポリ塩化ビニルデン系繊
維やステンレスの線材等からなり、たとえば２５ｍｍ〜
５０ｍｍ程度の厚みを有するマット状のものである。

【０００５】水噴霧室１２の内部には、後述する循環水
供給系に連通する複数の第１段ノズル１６を第１ワッシ
ャメディア１４より下流側に位置して配置するととも
に、後述する補給水供給系に連通する複数の第２段ノズ
ル１７を第１段ノズル１６とほぼ同じ位置に配置してい
る。第１段ノズル１６は、空気流とは逆方向に向けて第
１ワッシャメディア１４に達する噴霧水を噴霧するもの
であり、第２段ノズル１７は、空気流と順方向に向けて
第２ワッシャメディア１５に噴霧水を噴霧するものであ
る。

【０００６】水噴霧室１２の下部には流下する噴霧水を
受け止める貯水槽１８が設けてあり、貯水槽１８に滞留
する循環水を第１段ノズル１６に循環供給する循環水供
給系１９を貯水槽１８の下部に連通して設けてある。

【０００７】第２段ノズル１７に補給水として純水を供
給する補給水供給系２０は、清浄水供給装置（図示せ
ず）もしくは純水供給装置（図示せず）に接続してい
る。水噴霧室１２の下流側には、水噴霧室１２を通過し
た空気に含まれる水滴等を除去するエリミネータ２１が
配置してあり、水噴霧室１２の空気出口１３ｂには、水
噴霧室１２と同様の流路断面形状を有する所定長さの冷
却室２２が接続している。冷却室２２の内部には冷却器
として冷却コイル２３が設けてあり、冷却室２２の下方
にはドレンパン２４を形成し、ドレンパン２４の凹みに
冷却室２２の外部へ通じるドレンパイプ２５を接続して
いる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、半導体工場
等では年間に１〜３日程度しか操業を停止しないで殆ど
連続操業しており、それに伴って空気調和機１も連続運
転が要求されるので、フィルタの洗浄、交換等のメンテ
ナンスを極力少なくする必要がある。しかし、中性能フ
ィルタ３は年間に２〜３回のメンテナンスを要し、その
度に空気調和機１を停止する必要がある。この中性能フ
ィルタは洗浄して再利用できるようになったが、その洗
浄作業は煩雑で手数がかかるので、現状においては殆ど
が産業廃棄物として使い捨てられており、その処置が環
境問題となっている。

【０００９】本発明は上記した課題を解決するものであ
り、空気調和機の運転停止を伴ったメンテナンスを不要
とすることができるエアワッシャを提供することを目的
とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記した課題を解決する
ために、請求項１に係る本発明のエアワッシャは、空気
入口と空気出口とを有し、空気入口から空気出口に向か
って空気流が生じる水噴霧室と、水噴霧室の空気入口側
に配置する第１ワッシャメディアと、水噴霧室の空気出
口側に配置する第２ワッシャメディアと、第１ワッシャ
メディアより上流側に位置し、空気流の順方向に向けて
第１ワッシャメディアに達する噴霧水を噴霧する第１段
ノズルと、第２ワッシャメディアより上流側に位置し、
空気流とは逆方向に向けて第１ワッシャメディアに達す
る噴霧水を噴霧する第２段ノズルと、水噴霧室内に位置
して流下する噴霧水を受け止める貯水槽と、貯水槽内の
循環水を第１段ノズルおよび第２段ノズルに循環供給す
る循環水供給系とを備えたものである。

【００１１】上記した構成により、空気流は水噴霧室の
空気入口から第１ワッシャメディアを通して水噴霧室に
流入する。このとき、第１ワッシャメディアはその上流
側面を第１段ノズルから噴霧する噴霧水によって常に水
洗しているので、空気流中の大半の塵埃は第１ワッシャ
メディアに捕捉されて後に、付着して乾燥することなく
洗い流されて噴霧水とともに貯水槽へ流下することにな
り、第１ワッシャメディアのメンテナンスが殆ど不要と
なる。

【００１２】次に、第１ワッシャメディアを通して水噴
霧室に流入する空気流に対し、その流れに対向するよう
に貯水槽からの水を第２段ノズルから噴霧する。この噴
霧水は空気中の塵埃や有害ガスに衝突し、衝突した空気
中の塵埃や有害ガスが噴霧水とともに第１ワッシャメデ
ィアに達し、第１ワッシャメディアが塵埃や有害ガスを
伴った噴霧水を捕捉する。

【００１３】第１ワッシャメディアに達した噴霧水は、
第１ワッシャメディアに付着した塵埃を洗い流して流下
するとともに有害ガスを取り込んで貯水槽へ流入し、流
下する過程において蒸発して空気を加湿する。

【００１４】第ｌワッシャメディアに衝突しなかった噴
霧水は、一部が水噴霧室の天井面、壁面または貯水面に
衝突するが、それ以外は空気流に乗って移動し、その過
程において蒸発して空気を加湿するとともに、空気中の
塵埃や有害ガスを取り込んで第２ワッシャメディアに達
し、第２ワッシャメディアが塵埃や有害ガスを伴った噴
霧水を捕捉する。貯水槽に滞留する循環水は、循環水供
給系を通って循環し、再び第１段ノズルおよび第２段ノ
ズルから噴霧する。

【００１５】第２ワッシャメディアも常に噴霧水で洗い
流されており、塵埃が堆積することがなく、メンテナン
スが不要である。このため、従来のような煩雑で手数が
かかる洗浄作業を必要とする中性能フィルタを使用せず
とも必要な塵埃除去性能を発揮できるので、環境問題と
なる産業廃棄物が発生せず、しかも空気調和機の運転停
止を伴ったメンテナンスが不要となる。

【００１６】請求項２に係る本発明のエアワッシャは、
貯水槽内にその内部領域を第１ワッシャメディアから流
下する噴霧水を受け止める第１領域と第２ワッシャメデ
ィアから流下する噴霧水を受け止める第２領域とに仕切
る水槽仕切壁を設け、水槽仕切壁に第１領域と第２領域
を連通する連通孔を設け、第１領域の循環水を第１段ノ
ズルに循環供給する第１循環水供給系と第２領域の循環
水を第２段ノズルに循環供給する第２循環水供給系とを
備えたものである。

【００１７】上記した構成により、貯水槽の第１領域の
循環水が第１循環水供給系を通して第１段ノズルに循環
し、貯水槽の第２領域の循環水が第２循環水供給系を通
して第２段ノズルに循環するので、第１領域より第２領
域の方が清浄な水質を維持することができる。

【００１８】請求項３に係る本発明のエアワッシャは、
第１ワッシャメディアの下流側もしくは貯水槽の第２領
域に対応する位置に補助ワッシャメディアを配置し、第
２段ノズルが空気流とは逆方向に向けて補助ワッシャメ
ディアに達する噴霧水を噴霧するものである。

【００１９】上記した構成により、有害ガスおよび塵埃
の除去性能が更に向上する。請求項４に係る本発明のエ
アワッシャは、貯水槽の上流側底部に排水管を設け、排
水管に電動弁を設けるとともに、電動弁を定期的に所定
時間開く制御手段を設けたものである。

【００２０】上記した構成により、貯水槽の循環水は電
動弁を定期的に所定時間開くことで排水管を通して排水
し、循環水の水質を一定基準以上に維持することによ
り、粉塵除去性能の劣化を防止する。

【００２１】請求項５に係る本発明のエアワッシャは、
一対の貯水槽をケーシングとは別途に設け、ケーシング
の底部と各貯水槽とを連通する配管系を設け、配管系に
各貯水槽に対する流路を切り替える切替電動弁を設ける
とともに、切替電動弁を制御して各貯水槽への流路を定
期的に切り替えて所定時間開く制御手段を設けたもので
ある。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。 実施形態１ 図１に示すように、空気調和機３１には、空気流Ａの流
れ方向に沿って上流側から順次に、粗フィルタ３２、予
冷コイル３３、エアワッシャ３４、冷却コイル３５、送
風機３６、再熱コイル３７、ケミカルフィルタ３８、超
高性能フィルタ３９を配置している。

【００２３】図２〜図５に示すように、エアワッシャ３
４は、矩形の流路断面を有する本体ケーシング４０の内
部に、所定長さの水噴霧室４１を有している。水噴霧室
４１は、その一端に形成した空気入口４２においてダク
ト（図示せず）に接続しており、このダクトから流入す
る空気流Ａが水噴霧室４１の流路を通って他端に形成し
た空気出口４３から流出する。

【００２４】水噴霧室４１には、空気入口４２の近傍に
位置して第１ワッシャメディア４４を配置し、空気出口
４３に位置して第２ワッシャメディア４５を配置してい
る。各ワッシャメディア４４、４５は、空気流Ａの流路
断面とほぼ等しい形状を有し、ポリ塩化ビニルデン系繊
維やステンレスの線材等からなり、たとえば２５ｍｍ〜
５０ｍｍ程度の厚みを有するマット状のものである。

【００２５】水噴霧室４１の内部には複数の第１段ノズ
ル４６を第１ワッシャメディア４４より上流側に配置す
るとともに、複数の第２段ノズル４７を第２ワッシャメ
ディア４５より上流側に配置し、第２段ノズル４７と同
位置に複数の第３段ノズル４８を配置している。

【００２６】第１段ノズル４６は空気流Ａの順方向に向
けて第１ワッシャメディア４４に達する噴霧水を噴霧す
るものであり、第２段ノズル４７は空気流と逆方向に向
けて第２ワッシャメディア４５に達する噴霧水を噴霧す
るものであり、第３段ノズル４８は空気流の順方向に向
けて第２ワッシャメディア４５に達する噴霧水を噴霧す
るものである。

【００２７】第２段ノズル４７の噴霧水の圧力と、第２
段ノズル４７と第１ワッシャメディア４４の距離は、所
定の噴霧角度（６０度〜７０度）程度が確保され、水噴
霧室４１に所定流量の空気を流しているときに噴霧水の
一部（１／３程度）が第１ワッシャメディア４４に衝突
する程度に設定する。また、残りの水の一部（１／３程
度）が、水噴霧室４１において天井面、壁面等に衝突
し、その残りの水（全水量の１／３）が空気流Ａに乗っ
て移動し、第２ワッシャメディア４５に衝突するように
設定する。

【００２８】第１段ノズル４６および第３段ノズル４８
は、水噴霧室４１に所定流量の空気流Ａを流していると
きに、噴霧水がそれぞれ第１ワッシャメディア４４もし
くは第２ワッシャメディア４５に広く拡散して衝突する
ように、例えば噴霧角度６０度〜７０度程度で水噴霧室
４１の上部位置に斜め下向に設定する。

【００２９】水噴霧室４１の下部には流下する噴霧水を
受け止める貯水槽４９が設けてあり、貯水槽４９に滞留
する循環水を第１段ノズル４６および第２段ノズル４７
に循環供給する循環水供給系５０が貯水槽４９の下部に
連通して設けてある。

【００３０】循環水供給系５０は、貯水槽４９の下部に
開口する吸込管５１と、吸込管５１に接続した循環ポン
プ５２と、循環ポンプ５２を駆動するモータ５３と、循
環ポンプ５３の吐出口に接続した吐出管５４と、吐出管
５４から分岐して水噴霧室４１内に水平方向に配設した
複数の第１段分岐管５５、吐出管５４から分岐して水噴
霧室４１に垂直方向に配設した複数の第２段分岐管５６
とからなり、各第１段分岐管５５に前述した複数の第１
段ノズル４６を設け、第２段分岐管５６に第２段ノズル
４７を設けている。第３段ノズル４８は水噴霧室４１内
に水平方向に配設した純水供給管５７に設けており、純
水供給管５７は清浄水供給装置（図示せず）もしくは純
水供給装置（図示せず）に接続している。

【００３１】貯水槽４９には、オバーフロー管５８と、
補給水として清浄水を供給する補給水供給管５９が連通
し、補給水供給管５９は清浄水供給装置（図示せず）に
連通している。

【００３２】水噴霧室４１の下流側には、水噴霧室４１
を通過した空気に含まれる水滴等を除去するエリミネー
タ６０が配置してあり、水噴霧室４１の空気出口４３に
は水噴霧室４１と同様の流路断面形状を有する所定長さ
の冷却室６１を接続している。冷却室６１の内部には冷
却器として冷却コイル６２が設けてあり、冷却室６１の
下方にはドレンパン６３を形成し、ドレンパン６３の凹
みに冷却室６１の外部へ通じるドレンパイプ６４を接続
している。水噴霧室４１の下流側には送風機（図示せ
ず）が配置してあり、この送風機を作動することによっ
て水噴霧室４１の流路に空気を導く。

【００３３】上記した構成における作用を説明する。空
気流Ａは空気入口４２から第１ワッシャメディア４４を
通して水噴霧室４１に流入する。このとき、第１ワッシ
ャメディア４４はその上流側面を第１段ノズル４６から
噴霧する噴霧水によって常に水洗しているので、空気流
中の大半の塵埃は第１ワッシャメディア４４に捕捉され
て後に、付着して乾燥することなく洗い流されて噴霧水
とともに貯水槽４９へ流下することになり、第１ワッシ
ャメディア４４のメンテナンスが殆ど不要となる。

【００３４】次に、水噴霧室４１に流入した空気流Ａに
対し、その流れに対向するように貯水槽４９の循環水を
第２段ノズル４７から噴霧する。噴霧水は空気中の塵埃
や有害ガスに衝突し、衝突した空気中の塵埃や有害ガス
が噴霧水とともに第１ワッシャメディア４４に達し、第
１ワッシャメディア４４が塵埃や有害ガスを伴った噴霧
水を捕捉する。第１ワッシャメディア４４では、噴霧水
が第１ワッシャメディア４４に付着した塵埃を洗い流し
て流下するとともに、有害ガスを取り込んで貯水槽４９
へ流入する。噴霧水は流下する過程において蒸発して空
気を加湿する。

【００３５】第ｌワッシャメディア４４に衝突しなかっ
た噴霧水は、一部が水噴霧室４１の天井面、壁面または
貯水面に衝突するが、それ以外は空気流Ａに乗って移動
し、その過程において蒸発して空気を加湿するととも
に、空気中の塵埃や有害ガスを取り込んで第２ワッシャ
メディア４５に達し、第２ワッシャメディア４５が塵埃
や有害ガスを伴った噴霧水を捕捉する。

【００３６】そして、水噴霧室４１の空気流Ａに対し
て、清浄水もしくは純水を第３段ノズル４８から噴霧す
ると、清浄水もしくは純水の噴霧水が空気中に残存する
塵埃や有害ガスとともに第２ワッシャメディア４５に達
し、第２ワッシャメディア４５が塵埃や有害ガスを伴っ
た噴霧水を捕捉する。

【００３７】第２ワッシャメディア４５では、噴霧水が
第２ワッシャメディア４５に付着した塵埃を洗い流して
流下するとともに、有害ガスを取り込んで貯水槽４９へ
流入する。噴霧水は流下する過程において蒸発して空気
を加湿する。貯水槽４９へ流入した清浄水もしくは純水
は、補給水として循環水に合流し、循環水供給系５０を
通って第１段ノズル４６および第２段ノズル４７から循
環水として噴霧する。

【００３８】第２ワッシャメディア４５も常に噴霧水で
洗い流されており、塵埃が堆積することがなく、メンテ
ナンスが不要である。このため、従来のような煩雑で手
数がかかる洗浄作業を必要とする中性能フィルタを使用
せずとも必要な塵埃除去性能を発揮できるので、環境問
題となる産業廃棄物が発生せず、しかも空気調和機の運
転停止を伴ったメンテナンスが不要となる。表１は、従
来の中性能フィルタと本実施の形態におけるエアワッシ
ャとにおける大気中の塵埃捕集効率の比較を示すもので
ある。表１において中性能フィルタの捕集効率は一般的
な中性能フィルタのカタログデータを示し、エアワッシ
ャの捕集効率は実験データを示している。

【００３９】

【表１】 第２ワッシャメディア４５を通過した空気は、浄化して
十分に加湿した清浄な空気として空気出口４３からエリ
ミネータ６０に流入し、エリミネータ６０において空気
中の水滴を除去する。エリミネータ６０から流出する空
気は冷却室６１に導き、冷却コイル６２によって冷却す
る。

【００４０】上述した過程において、循環水は空気の加
湿に伴って減少するので、この循環水の減少量を補うと
ともに、循環水中の有害ガス濃度や塵埃濃度を一定値以
下に維持するのに必要な必要補給水量を第３段ノズル４
８で噴霧する。補給水供給管５９は貯水槽４９の水位が
異常に低下した場合に補給水を供給するものである。補
給水量から加湿される量を引いた余分な水は、捕捉した
有害ガス、塵埃とともにオーバーフロー管より排出され
る。

【００４１】実施形態２ 図６は、本発明の他の実施形態を示すものであり、先の
実施形態と同様の作用を行なう部材は同一番号を付して
説明を省略する。図６において、貯水槽４９は上流側底
部に接続して排水管６５を設けてあり、排水管６５に電
動弁６６を設けるとともに、電動弁６６に定期的に所定
時間開く操作を行なうタイマー等の制御手段（図示省
略）を設けている。

【００４２】この構成により、貯水槽４９の循環水は電
動弁６６を定期的に所定時間開くことで排水管６５を通
して排水し、循環水の水質を一定基準以上に維持するこ
とにより、粉塵除去性能の劣化を防止する。

【００４３】実施形態３ 図７〜図８は、本発明の他の実施形態を示すものであ
り、先の実施形態と同様の作用を行なう部材は同一番号
を付して説明を省略する。図７〜図８において、貯水槽
４９には水槽仕切壁６７を設けている。この水槽仕切壁
６７は貯水槽４９の内部領域を第１ワッシャメディア４
４から流下する噴霧水を受け止める第１領域４９ａと第
２ワッシャメディア４５から流下する噴霧水を受け止め
る第２領域４９ｂとに仕切っており、第１領域４９ａと
第２領域４９ｂを連通する連通孔６８を有している。

【００４４】第１領域４９ａには循環水を第１段ノズル
４６に循環供給する第１循環水供給系５０ａと第２領域
４９ｂの循環水を第２段ノズル４７に循環供給する第２
循環水供給系５０ｂとを備えたものである。

【００４５】第１循環水供給系５０ａは、貯水槽４９の
第１領域４９ａの下部に開口する吸込管５１ａと、吸込
管５１ａに接続した循環ポンプ５２ａと、循環ポンプ５
２ａを駆動するモータ５３ａと、循環ポンプ５３ａの吐
出口に接続した吐出管５４ａと、吐出管５４ａから分岐
して水噴霧室４１内に水平方向に配設した複数の第１段
分岐管５５ａとからなり、各第１段分岐管５５ａに複数
の第１段ノズル４６を設けている。

【００４６】第２循環水供給系５０ｂは、貯水槽４９の
第２領域４９ｂの下部に開口する吸込管５１ｂと、吸込
管５１ｂに接続した循環ポンプ５２ｂと、循環ポンプ５
２ｂを駆動するモータ５３ｂと、循環ポンプ５３ｂの吐
出口に接続した吐出管５４ｂと、吐出管５４ｂから分岐
して水噴霧室４１内に垂直方向に配設した複数の第２段
分岐管５６ｂとからなり、第２段分岐管５６ｂに複数の
第２段ノズル４７を設けている。

【００４７】上記した構成により、貯水槽４９の第１領
域４９ａの循環水が第１循環水供給系５０ａを通して第
１段ノズル４６に循環し、貯水槽４９の第２領域４９ｂ
の循環水が第２循環水供給系５０ｂを通して第２段ノズ
ル４７に循環するので、第１領域４９ａより第２領域４
９ｂの方が清浄な水質を維持することができる。オーバ
ーフロー管は貯水槽４９の第１領域４９ａに設けてあ
る。

【００４８】実施形態４ 図９は、本発明の他の実施形態を示すものであり、先の
実施形態と同様の作用を行なう部材は同一番号を付して
説明を省略する。図９において、第１ワッシャメディア
４４の下流側で貯水槽４９の第２領域４９ｂに対応する
位置には、補助ワッシャメディア６９を配置しており、
第２段ノズル４７は空気流とは逆方向に向けて補助ワッ
シャメディア６９に達する噴霧水を噴霧する。

【００４９】上記した構成により、有害ガス、塵埃の除
去性能が更に高まる。 実施形態５ 図１０は、本発明の他の実施形態を示すものであり、先
の実施形態と同様の作用を行なう部材は同一番号を付し
て説明を省略する。図１０において、エアワッシャ３４
は、空気流に沿って二連のエアワッシャ部７０、７１を
有しており、各エアワッシャ部７０、７１に水噴霧室４
１と、第２ワッシャメディア４５と、第２段ノズル４７
と、貯水槽４９と、循環水供給系５０とを設けている。

【００５０】上流側のエアワッシャ部７０には第１ワッ
シャメディア４４と第１段ノズル４６を設け、下流側の
エアワッシャ部７１には第３段ノズル４８と、補助ワッ
シャメディア６９を設けており、上流側のエアワッシャ
部７０の貯水槽４９と下流側のエアワッシャ部７１の貯
水槽４９とを連絡管７２を介して連通している。

【００５１】上記した構成により、流入する空気を各エ
アワッシャ部７０、７１で多段に浄化でき、しかも空気
流の下流になる程、清浄度の高い水を噴霧するので、ガ
ス除去効果が高まり、大気の有害ガス濃度が高濃度であ
る地域においても使用することができる。

【００５２】実施形態６ 図１１は、本発明の他の実施形態を示すものであり、先
の実施形態と同様の作用を行なう部材は同一番号を付し
て説明を省略する。図１１において、一対の貯水槽７
３、７４は本体ケーシング４０とは別途に設けており、
本体ケーシング４０の底部と各貯水槽７３、７４とを連
通して配管系７５を設けている。配管系７５には各貯水
槽７３、７４に対する流路を切り替える切替電動弁７６
ａ、７７ａを設けており、吸込管５１、補給水供給管５
７のそれぞれに切替電動弁７６ｂ、７７ｂ、７６ｃ、７
７ｃを設け、排水管６５に電動弁６６ａ、６６ｂを設け
ている。また、各切替電動弁７６ａ、７７ａ、７６ｂ、
７７ｂ、７６ｃ、７７ｃを制御して各貯水槽７３、７４
への流路を定期的に切り替えて所定時間開くとともに、
排水管６５に設けた電動弁６６ａ、６６ｂを定期的に所
定時間開くタイマー等の制御手段（図示省略）を設けて
いる。

【００５３】上記した構成により、各貯水槽７３、７４
の循環水は電動弁６６ａ、６６ｂを定期的に所定時間開
くことで排水管６５を通して排水し、循環水の水質を一
定基準以上に維持することにより、粉塵除去性能の劣化
を防止する。各切替電動弁７６ａ、７７ａ、７６ｂ、７
７ｂ、７６ｃ、７７ｃを制御して各貯水槽７３、７４へ
の流路を定期的に切り替えることで、空気調和機３１の
運転を停止することなく各貯水槽７３、７４の洗浄等の
メンテナンスを行なうことができ、各貯水槽７３、７４
における循環水を清浄な水質に維持して第２段ノズル４
７から噴霧する噴霧水から塵埃が再飛散することを防止
する。

【００５４】

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、第１
ワッシャメディアの上流側面を第１段ノズルから噴霧す
る噴霧水によって常に水洗することにより、空気流中の
塵埃を第１ワッシャメディアで捕捉するとともに、捕捉
した塵埃を洗い流して噴霧水とともに貯水槽へ流下させ
ることができ、捕捉した塵埃が乾燥して固着することを
防止できるので、第１ワッシャメディアのメンテナンス
が殆ど不要となる。このため、従来のような煩雑で手数
がかかる洗浄作業を必要とする中性能フィルタを使用せ
ずとも必要な塵埃除去性能を発揮できるので、環境問題
となる産業廃棄物が発生せず、しかも空気調和機の運転
停止を伴ったメンテナンスが不要となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態における空気調和機の正面
図である。

【図２】同実施の形態におけるエアワッシャの平面断面
図である。

【図３】同エアワッシャの正面断面図である。

【図４】同エアワッシャの側面図である。

【図５】同エアワッシャの作用を示す模式図である。

【図６】本発明の他の実施の形態におけるエアワッシャ
の正面断面図である。

【図７】本発明の他の実施の形態におけるエアワッシャ
の正面断面図である。

【図８】同エアワッシャの平面断面図である。

【図９】本発明の他の実施の形態におけるエアワッシャ
の正面断面図である。

【図１０】本発明の他の実施の形態におけるエアワッシ
ャの正面断面図である。

【図１１】本発明の他の実施の形態におけるエアワッシ
ャの正面断面図である。

【図１２】従来の空気調和機の正面図である。

【図１３】従来のエアワッシャの正面断面図である。

【図１４】同エアワッシャの作用を示す模式図である。

【符号の説明】 ３１ 空気調和機 ３３ 中性能フィルタ ３４ エアワッシャ ４０ 本体ケーシング ４１ 水噴霧室 ４２ 空気入口 ４３ 空気出口 ４４ 第１ワッシャメディア ４５ 第２ワッシャメディア ４６ 第１段ノズル ４７ 第２段ノズル ４９ 貯水槽 ５０ 循環水供給系 ６５ 排水管 ６６ 電動弁

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山形 允和 東京都千代田区有楽町１−４−１ 三機工 業株式会社内 (72)発明者 秋田 州三 栃木県宇都宮市平出工業団地28 クボタ空 調株式会社栃木工場内 (72)発明者 篠原 正明 栃木県宇都宮市平出工業団地28 クボタ空 調株式会社栃木工場内 (72)発明者 鈴木 正 栃木県宇都宮市平出工業団地28 クボタ空 調株式会社栃木工場内 (72)発明者 小野寺 功介 栃木県宇都宮市平出工業団地28 クボタ空 調株式会社栃木工場内 Ｆターム(参考） 3L053 BD02 3L055 AA07 BB02 DA05

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 空気入口と空気出口とを有し、空気入口
   から空気出口に向かって空気流が生じる水噴霧室と、水
   噴霧室の空気入口側に配置する第１ワッシャメディア
   と、水噴霧室の空気出口側に配置する第２ワッシャメデ
   ィアと、第１ワッシャメディアより上流側に位置し、空
   気流の順方向に向けて第１ワッシャメディアに達する噴
   霧水を噴霧する第１段ノズルと、第２ワッシャメディア
   より上流側に位置し、空気流とは逆方向に向けて第１ワ
   ッシャメディアに達する噴霧水を噴霧する第２段ノズル
   と、水噴霧室内に位置して流下する噴霧水を受け止める
   貯水槽と、貯水槽内の循環水を第１段ノズルおよび第２
   段ノズルに循環供給する循環水供給系とを備えたことを
   特徴とするエアワッシャ。
2. 【請求項２】 貯水槽内にその内部領域を第１ワッシャ
   メディアから流下する噴霧水を受け止める第１領域と第
   ２ワッシャメディアから流下する噴霧水を受け止める第
   ２領域とに仕切る水槽仕切壁を設け、水槽仕切壁に第１
   領域と第２領域を連通する連通孔を設け、第１領域の循
   環水を第１段ノズルに循環供給する第１循環水供給系と
   第２領域の循環水を第２段ノズルに循環供給する第２循
   環水供給系とを備えたことを特徴とする請求項１に記載
   のエアワッシャ。
3. 【請求項３】 第１ワッシャメディアの下流側もしくは
   貯水槽の第２領域に対応する位置に補助ワッシャメディ
   アを配置し、第２段ノズルが空気流とは逆方向に向けて
   補助ワッシャメディアに達する噴霧水を噴霧することを
   特徴とする請求項１又は２に記載のエアワッシャ。
4. 【請求項４】 貯水槽の上流側底部に排水管を設け、排
   水管に電動弁を設けるとともに、電動弁を定期的に所定
   時間開く制御手段を設けたことを特徴とする請求項１〜
   ３の何れか１項に記載のエアワッシャ。
5. 【請求項５】 一対の貯水槽をケーシングとは別途に設
   け、ケーシングの底部と各貯水槽とを連通する配管系を
   設け、配管系に各貯水槽に対する流路を切り替える切替
   電動弁を設けるとともに、切替電動弁を制御して各貯水
   槽への流路を定期的に切り替えて所定時間開く制御手段
   を設けたことを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に
   記載のエアワッシャ。