JP2002543985A - マイクロウエーブプラズマバーナー - Google Patents

マイクロウエーブプラズマバーナー

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    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、高温のプラズマを発生させるマイクロウエーブプラズマバーナーに関するものである。マイクロウエーブプラズマバーナーはウエーブガイド共振器２００の内部でマグネトロン１００のアンテナ１１０からマイクロウエーブを受信および案内して噴射したガスが放出される間マイクロウエーブにより噴射したガスの振動を引き起こして高温のプラズマを発生させる誘導管２１０を含む。本発明に係るマイクロウエーブプラズマバーナーは、次のような成果を提供する。真空を必要としない構造により強力な高温のプラズマを発生することができる。空気の振動により発生した熱気により炎が発生するので点火器を必要としない。高温の炎が発生するので本発明のバーナーを溶接および切断に使用することができる。振動により発生する熱によって完全燃燒が行なわれるので空気の汚染を防止することができる。希望する気体を選択して使用することができるので溶接時における酸化を防止することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は、マイクロウエーブプラズマバーナーに関するもので、詳細には、高
温のプラズマを発生させるマイクロウエーブプラズマバーナーに関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】
マイクロウエーブは、３０ＭＨｚから３０ＧＨｚまでの周波数範囲に属し、電
子レンジなど多くの装置に幅広く利用される。特に、マイクロウエーブはプラズ
マの発生に使われる。 プラズマは、気体が高度に電離され、陽イオンと陰イオンが同一の密度として
存在し、かつ電気的にバランスを取って中性となっている。放電管やアーク柱が
その典型的な例である。 マイクロウエーブを利用することによってプラズマを発生させるために、従来
はチャンバー内を高真空状態とし、真空チャンバー内に気体や混合気体を噴射し
、マイクロウエーブをチャンバー内部に照射することで、チャンバー内部にプラ
ズマを発生させている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、このような従来の方式は、マイクロウエーブが照射されるチャンバー
の内部を高真空状態としなければならず、高真空を形成するためには精密なチャ
ンバー設計が必要であり、実質的にチャンバー製作を非常に難しくしている。し
かも、溶接バーナーでは点火装置が必要になり使いづらいという欠点がある。
【０００４】 本発明は、上記従来技術の問題点を解決するためのものであり、本発明の目的
は、高真空状態を形成しなくてもマイクロウエーブを導入することによって高温
のプラズマを発生させるためのマイクロウエーブプラズマバーナーを提供するこ
とにある。 本発明の他の目的は、点火装置を必要とせず、使いやすいマイクロウエーブプ
ラズマバーナーを提供するためのものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
前記の目的を達成するために、本発明に係るマイクロウエーブプラズマバーナ
ーは、ウエーブガイド共振器の内部にあるマグネトロンのアンテナからのマイク
ロウエーブを受信および案内し、気体を外部に噴射放出しながらマイクロウエー
ブによりガスが振動するようにすることによって高温度および高温のプラズマを
発生させるウエーブ誘導管を含む。 また、本発明に係るマイクロウエーブプラズマバーナーは、アンテナを通して
マイクロウエーブを送信するマグネトロン、アンテナから出たマイクロウエーブ
を共振させるウエーブガイド共振器、アンテナから出たマイクロウエーブを受信
および案内するために、気体を噴射放出しながら高熱および高熱のプラズマを発
生させかつマイクロウエーブガイド共振器の内部に設置されている誘導管を含む
。 以下、添付図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。
【０００６】
【発明の実施の形態】
図１はマイクロウエーブプラズマバーナーの構造図である。図示のごとく本発
明に係るマイクロウエーブプラズマバーナーは、ウエーブガイド共振器２００の
内部にあるマグネトロン１００のアンテナ１１０から出たマイクロウエーブを受
信および案内し、噴射する形で気体を放出しながらマイクロウエーブにより噴射
させたガスを振動させることによって高温のプラズマを発生させるウエーブ誘導
管２１０からなる。 前記誘導管２１０の寸法は、アンテナ１１０の寸法に比例し、かつアンテナ１
１０の形状に類似の形状を有す。特に前記誘導管２１０の、ウエーブガイド共振
器２００の内部に位置する部分はマグネトロンのアンテナ１１０と形態が同じで
、大きさはアンテナ１１０の二倍である。
【０００７】 つまり、本発明に係るマイクロウエーブプラズマバーナーは、アンテナ１１０
を通してマイクロウエーブを出力するマグネトロン１００、アンテナ１１０から
送信され、マイクロウエーブを共振させるウエーブガイド共振器２００、ウエー
ブガイド共振器２００の内部に設置されてアンテナ１１０からマイクロウエーブ
を受信および案内し、噴射する気体を端部２１１に放出しながら高熱および高温
プラズマが発生するように、噴射したガスを振動させるためにマイクロウエーブ
を受信および案内するウエーブ誘導管２１０（誘導管２１０の端部２１１から発
生される）と、高熱を集中させるために誘導管２１０を取り囲むガイド管３２０
（誘導管２１０の端部２１１から放出される）と、マイクロウエーブの消失を防
止するためにガイド管３２０とを取り囲む外部電極管３３０から構成される。
【０００８】 前記誘導管２１０の寸法はアンテナ１１０の寸法に比例し、かつ銅のような導
体からなる。ガイド管３２０は高温の炎を集中させるため、石英のような熱に抵
抗できる絶縁材でなければならない。外部電極管３３０はステンレス鋼のような
強い導体からなる。 前記ウエーブガイド共振器２００の内部に位置した誘導管２１０の一部分２２
０はセラミックスのような不導体からなっているので、誘導管２１０とウエーブ
ガイド共振器２００との間に伝導されない。 マグネトロン１００とウエーブガイド共振器２００を收容するハウジング４０
０は鋼鐵からなっているので、ハウジング４００は接地手段として利用すること
ができ、またマイクロウエーブが外部に放出しないようにする。
【０００９】 前記ハウジング４００と誘導管２１０間の接触部分４１０は不導体からなって
いる。前記誘導管２１０がハウジング４００の外部に支持されるようにするガイ
ド３５０は不導体からなっているので、誘導管２１０への伝導が発生しない。ガ
イド３５０の外部に位置し、ガイド管３２０と電極管３３０を固定させるための
固定部材３４０は導体からなっている。 前記ハウジング４００と誘導管２１０間の接触部分４１０は、固定部材３４０
に接するようにする。また、マグネトン１００はさらに多くの熱を発生させるの
で発生した熱を放出するようにファン１２０を設置してエアクーリングさせる。
【００１０】 以下、前記のように構成された本発明に係るマイクロウエーブプラズマバーナ
ーの作動について説明する。 マグネトロン１００にパワーが供給されるとマイクロウエーブが発生する。発
生したマイクロウエーブはアンテナ１１０を通してウエーブガイド共振器２００
に供給されて共振するようになる。 前記ウエーブガイド共振器２００の内部で共振されたマイクロウエーブは誘導
管２１０によって端部２１１に案内される。誘導管２１０へ気体が供給されると
気体は誘導管２１０に沿って端部２１１に放出される。
【００１１】 前記誘導管２１０の端部２１１に放出される気体は、誘導管２１０の表面に沿
って案内されたマイクロウエーブによって振動する。この過程で高熱が発生し、
発生した熱により炎５００が生じる。噴射した気体の種類にしたがって端部２１
１の温度は異なる。特別に、大気中の空気を噴射した場合には端部２１１の炎の
温度が約３、０００℃になる。また、炎５００の周りにプラズマ６００が形成さ
れる。
【００１２】 一方、誘導管２１０を取り囲んでいるガイド管３２０は発生した炎を集中させ
、外部電極管３３０はマイクロウエーブが外部に放出させないようにする。 このように、高熱により誘導管２１０の端部で炎５００が発生する。このとき
放出した気体の種類によって熱の温度は違ってくるので必要によって気体の種類
を選ぶことができる。 たとえば、溶接作業をする間被溶接材の物質によって温度は多様にすることが
できる。つまり、酸化の防止と温度を上げるためには窒素、炭素、アルゴンの中
の一つを適宜に選択すればよい。
【００１３】 また、大気中の空気を誘導管２１０に噴射した場合、マイクロウエーブの振動
により高熱と高温のプラズマが発生する。このような状態では、マイクロウエー
ブの振動により誘導管２１０の端部２１１で自動的に炎が発生するようになり、
別の点火装置は必要ない。
【００１４】 以上のごとく本発明に係るマイクロウエーブプラズマバーナーは、次のような
成果を提供する。真空を必要としない構造により強力な高温のプラズマを発生す
ることができる。空気の振動により発生した熱気により炎が発生するので点火器
を必要としない。高温の炎が発生するので本発明のバーナーを溶接および切断に
使用することができる。振動により発生する熱によって完全燃焼が行なわれるの
で空気の汚染を防止することができる。希望する気体を選択して使用することが
できるので溶接時における酸化を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 図１は、本発明に係るマイクロウエーブプラズマバーナーの構造図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ， ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，Ｃ Ｒ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ， ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，Ｋ Ｚ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ， ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，Ｓ Ｋ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 グリツィーニン， エス． アイ． 大韓民国、 キョンギ−ド 464−890、 カンジュ−グン、 オポ−ミョン、 チュ ジャ−ニ、 389−１ (72)発明者 コッシ， イーゴール 大韓民国、 キョンギ−ド 464−890、 カンジュ−グン、 オポ−ミョン、 チュ ジャ−ニ、 389−１ Ｆターム(参考） 4E001 ME01 ME11 4E082 AA09 EA02 EA20

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ウエーブガイド共振器の内部でマグネトロンのアンテナから
    のマイクロウエーブを受信および案内し、気体を噴射放出しながらマイクロウエ
    ーブにより振動を引き起こすことによって、高温のプラズマを発生させる誘導管
    からなることを特徴とするマイクロウエーブプラズマバーナー。
  2. 【請求項２】 前記誘導管は前記アンテナの大きさに比例して同一の形とし
    てなることを特徴とする請求項１記載のマイクロウエーブプラズマバーナー。
  3. 【請求項３】 アンテナを通してマイクロウエーブを出力するマグネトロン
    と、上記アンテナから送信させたマイクロウエーブを共振させるウエーブガイド
    共振器と、前記ウエーブガイド共振器の内部に少なくとも一部設置して前記アン
    テナからのマイクロウエーブを受信および案内しながら気体を噴射放出しながら
    高熱および高温のプラズマが発生するように噴射したガスを振動させる誘導管を
    含めて構成されることを特徴とするマイクロウエーブプラズマバーナー。
  4. 【請求項４】 前記誘導管は前記アンテナの大きさに比例して同一の形とし
    てなることを特徴とする請求項３記載のマイクロウエーブプラズマバーナー。
  5. 【請求項５】 前記誘導管の端部から発生される高熱を集中させるために前
    記誘導管の外部を囲むガイド管と、さらに前記誘導管の端部から放出されるマイ
    クロウエーブの消失を防止するために前記ガイド管を囲む外部電極管を含めてな
    ることを特徴とする請求項３記載マイクロウエーブプラズマバーナー。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005099322A1 (ja) * 2004-03-31 2005-10-20 Adtec Plasma Technology Co., Ltd. 同軸形マイクロ波プラズマトーチ
JP2007323900A (ja) * 2006-05-31 2007-12-13 Sekisui Chem Co Ltd プラズマ処理装置
KR101355835B1 (ko) 2013-01-10 2014-01-29 주식회사 라이트브릿지 플라즈마 레인지

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2398976B (en) * 2003-02-28 2006-03-08 Samsung Electronics Co Ltd Neural network decoder
DE102004026636B3 (de) * 2004-06-01 2005-07-21 Daimlerchrysler Ag Vorrichtung und Verfahren zum Umschmelzen von metallischen Oberflächen
US7164095B2 (en) * 2004-07-07 2007-01-16 Noritsu Koki Co., Ltd. Microwave plasma nozzle with enhanced plume stability and heating efficiency
US7806077B2 (en) * 2004-07-30 2010-10-05 Amarante Technologies, Inc. Plasma nozzle array for providing uniform scalable microwave plasma generation
US20060052883A1 (en) * 2004-09-08 2006-03-09 Lee Sang H System and method for optimizing data acquisition of plasma using a feedback control module
KR100689037B1 (ko) * 2005-08-24 2007-03-08 삼성전자주식회사 마이크로파 공명 플라즈마 발생장치 및 그것을 구비하는플라즈마 처리 시스템
US9681529B1 (en) * 2006-01-06 2017-06-13 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Microwave adapting plasma torch module
TW200742506A (en) * 2006-02-17 2007-11-01 Noritsu Koki Co Ltd Plasma generation apparatus and work process apparatus
US7921804B2 (en) * 2008-12-08 2011-04-12 Amarante Technologies, Inc. Plasma generating nozzle having impedance control mechanism
US20100201272A1 (en) * 2009-02-09 2010-08-12 Sang Hun Lee Plasma generating system having nozzle with electrical biasing
US20100254853A1 (en) * 2009-04-06 2010-10-07 Sang Hun Lee Method of sterilization using plasma generated sterilant gas
FR2952786B1 (fr) * 2009-11-17 2012-06-08 Centre Nat Rech Scient Torche a plasma et procede de stabilisation d'une torche a plasma
KR101967646B1 (ko) * 2012-03-21 2019-04-10 엘지전자 주식회사 마이크로웨이브 가스버너
US10477665B2 (en) * 2012-04-13 2019-11-12 Amastan Technologies Inc. Microwave plasma torch generating laminar flow for materials processing
CN114845454A (zh) * 2022-03-24 2022-08-02 吉林大学 一种微波耦合等离子体与高温火焰融合激发源
KR102629240B1 (ko) 2023-03-28 2024-01-26 최병렬 양자 이론 기반 재생원유와 바이오디젤과 바이오에탄올 생산 시스템

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS64725A (en) * 1987-03-20 1989-01-05 Canon Inc Plasma treatment method and device therefor
FR2616614B1 (fr) * 1987-06-10 1989-10-20 Air Liquide Torche a plasma micro-onde, dispositif comportant une telle torche et procede pour la fabrication de poudre les mettant en oeuvre
AU598147B2 (en) * 1987-08-13 1990-06-14 Connell Wagner Pty Ltd Pulverised fuel burner
US5083004A (en) * 1989-05-09 1992-01-21 Varian Associates, Inc. Spectroscopic plasma torch for microwave induced plasmas
US5051557A (en) 1989-06-07 1991-09-24 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Department Of Health And Human Services Microwave induced plasma torch with tantalum injector probe
JP2527150B2 (ja) 1989-07-25 1996-08-21 豊信 吉田 マイクロ波熱プラズマ・ト―チ
DE4037091C2 (de) * 1990-11-22 1996-06-20 Leybold Ag Vorrichtung für die Erzeugung eines homogenen Mikrowellenfeldes
JPH065384A (ja) * 1992-06-17 1994-01-14 Hitachi Ltd マイクロ波プラズマ発生トーチ管
DE4239843A1 (de) * 1992-11-27 1994-06-01 Leybold Ag Vorrichtung für die Erzeugung von Plasma, insbesondere zum Beschichten von Substraten
US5389153A (en) * 1993-02-19 1995-02-14 Texas Instruments Incorporated Plasma processing system using surface wave plasma generating apparatus and method
KR960011635B1 (ko) * 1993-02-26 1996-08-24 현대전자산업 주식회사 마이크로웨이브 파워 발생 시스템
JPH06290896A (ja) * 1993-03-31 1994-10-18 Hitachi Ltd 高周波プラズマヒータおよびその運転方法
US5479254A (en) * 1993-10-22 1995-12-26 Woskov; Paul P. Continuous, real time microwave plasma element sensor
US5565118A (en) * 1994-04-04 1996-10-15 Asquith; Joseph G. Self starting plasma plume igniter for aircraft jet engine
TW285746B (ja) * 1994-10-26 1996-09-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd
JPH09199294A (ja) * 1996-01-17 1997-07-31 Fujitsu Ltd プラズマ形成方法
US6029602A (en) * 1997-04-22 2000-02-29 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for efficient and compact remote microwave plasma generation
RU2171554C2 (ru) * 1999-04-07 2001-07-27 Корчагин Юрий Владимирович Способ генерации плазмы и устройство для его осуществления
US6225745B1 (en) * 1999-12-17 2001-05-01 Axcelis Technologies, Inc. Dual plasma source for plasma process chamber

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005099322A1 (ja) * 2004-03-31 2005-10-20 Adtec Plasma Technology Co., Ltd. 同軸形マイクロ波プラズマトーチ
US7858899B2 (en) 2004-03-31 2010-12-28 Adtec Plasma Technology Co., Ltd. Coaxial microwave plasma torch
JP2007323900A (ja) * 2006-05-31 2007-12-13 Sekisui Chem Co Ltd プラズマ処理装置
KR101355835B1 (ko) 2013-01-10 2014-01-29 주식회사 라이트브릿지 플라즈마 레인지

Also Published As

Publication number Publication date
KR19990068381A (ko) 1999-09-06
EP1190605A4 (en) 2006-08-23
KR20020015989A (ko) 2002-03-02
WO2000069230A1 (en) 2000-11-16
AU5251600A (en) 2000-11-21
US6734385B1 (en) 2004-05-11
EP1190605A1 (en) 2002-03-27
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