JP2002537580A - 電気的に制御可能な液晶微細構造 - Google Patents
電気的に制御可能な液晶微細構造Info
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- G02F2203/28—Function characteristic focussing or defocussing
Abstract
(57)【要約】
本発明は電子光学デバイスの剛直な、もしくは可とう性の配列を組立てる方法に関する。相分離複合構造法はＬＣ細滴のランダム分散の代わりに特定の構成のポリマーおよび液晶（ＬＣ）の隣接する領域を生じる。上述のデバイスは光ポリマーからＬＣの異方性層分離を用いて、はじめにＵＶ露光によって、ポリマー領域（５８）の隣りにＬＣ構造（５６）の部分を生じさせることにより調製されうる。セル内のこれらの領域の形状、大きさおよび配置はポリマーの化学組成を調節し、配列層（２８）を用いることにより容易に制御されうる。
Description
【０００１】 技術分野 本発明は、複合有機材料を用いる光変調、シャッタリング（ｓｈｕｔｔｅｒｉ
ｎｇ）、ビームステアリング（ｓｔｅｅｒｉｎｇ）、および焦点調節デバイスの
技術に関する。特に、本発明は、光学材料の複合層がプレポリマーおよび低分子
量有機流体もしくは第２の架橋可能なプレポリマーの溶液の相分離によって形成
されるデバイスに関する。それは複合材料の必要な内部構造を組立てる特定の方
法を教示し、所望の用途に依存して、液晶とポリマーの平行膜、またはポリマー
領域で囲まれた特定形状の液晶領域でありうる。液晶領域は１次元および２次元
格子、電気的にアドレスを指定できるマイクロレンズ、または境界づけられ（ｂ
ｏｕｎｄｅｄ）、そして定まった（ｄｅｆｉｎｅｄ）微細構造として作用するよ
うに形づくられ、パターン化されていてもよい。 背景技術 電気光学デバイス（ｅｌｅｃｔｒｏ−ｏｐｔｉｃａｌ ｄｅｖｉｃｅｓ）は、
高速の光学的およびディジタル通信の今日の時代に必要不可欠である。これらの
用途は高帯域（ｂａｎｄｗｉｄｔｈ）、低スキュー（ｓｋｅｗ）およびクロスト
ーク（ｃｒｏｓｓ ｔａｌｋ）、ならびに高相互接続密度（ｉｎｔｅｒ−ｃｏｎ
ｎｅｃｔ ｄｅｎｓｉｔｙ）を要求する。μｍもしくはサブμｍサイズの光学素
子を開発する努力が進行している。しかし、これらの素子は、再プログラム可能
な相互接続、角度多重変換、データ記憶、および動的に可変な焦点距離デバイス
に不可欠である切り替え可能（ｓｗｉｔｃｈａｂｌｅ）ではない。
ｎｇ）、ビームステアリング（ｓｔｅｅｒｉｎｇ）、および焦点調節デバイスの
技術に関する。特に、本発明は、光学材料の複合層がプレポリマーおよび低分子
量有機流体もしくは第２の架橋可能なプレポリマーの溶液の相分離によって形成
されるデバイスに関する。それは複合材料の必要な内部構造を組立てる特定の方
法を教示し、所望の用途に依存して、液晶とポリマーの平行膜、またはポリマー
領域で囲まれた特定形状の液晶領域でありうる。液晶領域は１次元および２次元
格子、電気的にアドレスを指定できるマイクロレンズ、または境界づけられ（ｂ
ｏｕｎｄｅｄ）、そして定まった（ｄｅｆｉｎｅｄ）微細構造として作用するよ
うに形づくられ、パターン化されていてもよい。 背景技術 電気光学デバイス（ｅｌｅｃｔｒｏ−ｏｐｔｉｃａｌ ｄｅｖｉｃｅｓ）は、
高速の光学的およびディジタル通信の今日の時代に必要不可欠である。これらの
用途は高帯域（ｂａｎｄｗｉｄｔｈ）、低スキュー（ｓｋｅｗ）およびクロスト
ーク（ｃｒｏｓｓ ｔａｌｋ）、ならびに高相互接続密度（ｉｎｔｅｒ−ｃｏｎ
ｎｅｃｔ ｄｅｎｓｉｔｙ）を要求する。μｍもしくはサブμｍサイズの光学素
子を開発する努力が進行している。しかし、これらの素子は、再プログラム可能
な相互接続、角度多重変換、データ記憶、および動的に可変な焦点距離デバイス
に不可欠である切り替え可能（ｓｗｉｔｃｈａｂｌｅ）ではない。
【０００２】 コンピューター使用および通信技術の進歩につれて、高密度の光学相互接続、
ビームステアリングおよび変調デバイスにおいて使用するための高速光学スイッ
チ（ｆａｓｔ ｏｐｔｉｃａｌ ｓｗｉｔｃｈｅｓ）、回折格子（ｄｉｆｆｒａ
ｃｔｉｖｅ ｇｒａｔｉｎｇｓ）およびマイクロレンズ配列、のような実時間の
再構成できる（ｒｅａｌ−ｔｉｍｅ ｒｅｃｏｎｆｉｇｕｒａｂｌｅ）光学素子
に対する増大する、重要な要求がある。これらのデバイスの動作を電気的に切り
替え／制御する能力は重要な要件である。今までに、種々の技術が、液晶、ポリ
マーおよび固体材料にもとづいてそのようなデバイスを組立てようとする試みに
用いられてきた。たとえば、受動素子は表面レリーフ（ｒｅｌｉｅｆ）構造を用
いて組立てられた。能動（ａｃｔｉｖｅ）マイクロレンズ配列を組立てる方法は
（ｉ）受動固体平面光学素子および液晶（ＬＣ）変調器の組合せ、および（ii）
特に設計された電極パターンで発生された軸対称電場で切り替えられる液晶の勾
配屈折率（ＧＲＩ）プロフィールを含む。切り替え可能な光学格子は液晶のポリ
マー分散を用いて製造され、ＰＤＬＣ法として知られている。それらの性能はそ
の内部構造および高い作動電圧の必要性により、高光散乱のような要因により損
われる。さらに、ＰＤＬＣにおける細滴（ｄｒｏｐｌｅｔ）の大きさは、高多分
散性を伴う数μｍの範囲にあるが、これらの微細構造の大きさに比較的低い制限
を与える。第２のアプローチは交互に並べられたＬＣの線状ドメインもしくはラ
インを使用する。これらのデバイスは面倒な方法で組立てられる。さらに、この
方法は高い相互接続密度が必要な２次元配列には使用され得ない。
ビームステアリングおよび変調デバイスにおいて使用するための高速光学スイッ
チ（ｆａｓｔ ｏｐｔｉｃａｌ ｓｗｉｔｃｈｅｓ）、回折格子（ｄｉｆｆｒａ
ｃｔｉｖｅ ｇｒａｔｉｎｇｓ）およびマイクロレンズ配列、のような実時間の
再構成できる（ｒｅａｌ−ｔｉｍｅ ｒｅｃｏｎｆｉｇｕｒａｂｌｅ）光学素子
に対する増大する、重要な要求がある。これらのデバイスの動作を電気的に切り
替え／制御する能力は重要な要件である。今までに、種々の技術が、液晶、ポリ
マーおよび固体材料にもとづいてそのようなデバイスを組立てようとする試みに
用いられてきた。たとえば、受動素子は表面レリーフ（ｒｅｌｉｅｆ）構造を用
いて組立てられた。能動（ａｃｔｉｖｅ）マイクロレンズ配列を組立てる方法は
（ｉ）受動固体平面光学素子および液晶（ＬＣ）変調器の組合せ、および（ii）
特に設計された電極パターンで発生された軸対称電場で切り替えられる液晶の勾
配屈折率（ＧＲＩ）プロフィールを含む。切り替え可能な光学格子は液晶のポリ
マー分散を用いて製造され、ＰＤＬＣ法として知られている。それらの性能はそ
の内部構造および高い作動電圧の必要性により、高光散乱のような要因により損
われる。さらに、ＰＤＬＣにおける細滴（ｄｒｏｐｌｅｔ）の大きさは、高多分
散性を伴う数μｍの範囲にあるが、これらの微細構造の大きさに比較的低い制限
を与える。第２のアプローチは交互に並べられたＬＣの線状ドメインもしくはラ
インを使用する。これらのデバイスは面倒な方法で組立てられる。さらに、この
方法は高い相互接続密度が必要な２次元配列には使用され得ない。
【０００３】 液晶の量のよく定められた（ｄｅｆｉｎｅｄ）形状の光学変調器を組立てるた
めに、具体的な方法が提案された。電気光学媒体はフォトマスクでＵＶ露光を用
いて液晶をポリマー壁内に閉じ込めることにより得られうる。しかし、この方法
では相分離がＵＶ露光領域のみでＵＶ露光により促進される。液晶に富む構造は
非ＵＶ露光領域のみで形成されるので、その構造は不均一である。さらに、電気
光学デバイスは、電場をかけるがＵＶ露光を用いて、ポリマー壁により閉じ込め
られた液晶を用いることにより製造されうる（Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．
Ｖ７２，２２５３頁（１９９８））。しかし、この場合には、ポリマー壁はポリ
マーからＬＣを分離するために高（１０Ｖμｍ）電場をかけることにより製造さ
れ、ついでポリマー壁はＵＶ露光により開始される重合により形づくられる。セ
ルに垂直な方向のＬＣ領域はその利用を制限することを制御され得ない。あるい
は、ディスプレイ媒体は微小滴内に液晶を閉じ込めることにより得られうる。こ
の方法では、液晶は微小滴に閉じ込められ、そして比較的高電圧が液晶の配向を
変えるために用いられる。しかし、それらの内側で微小滴の形状およびＬＣ配向
ベクトル（ｄｉｒｅｃｔｏｒ）の形態を制御するのは不可能である。
めに、具体的な方法が提案された。電気光学媒体はフォトマスクでＵＶ露光を用
いて液晶をポリマー壁内に閉じ込めることにより得られうる。しかし、この方法
では相分離がＵＶ露光領域のみでＵＶ露光により促進される。液晶に富む構造は
非ＵＶ露光領域のみで形成されるので、その構造は不均一である。さらに、電気
光学デバイスは、電場をかけるがＵＶ露光を用いて、ポリマー壁により閉じ込め
られた液晶を用いることにより製造されうる（Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．
Ｖ７２，２２５３頁（１９９８））。しかし、この場合には、ポリマー壁はポリ
マーからＬＣを分離するために高（１０Ｖμｍ）電場をかけることにより製造さ
れ、ついでポリマー壁はＵＶ露光により開始される重合により形づくられる。セ
ルに垂直な方向のＬＣ領域はその利用を制限することを制御され得ない。あるい
は、ディスプレイ媒体は微小滴内に液晶を閉じ込めることにより得られうる。こ
の方法では、液晶は微小滴に閉じ込められ、そして比較的高電圧が液晶の配向を
変えるために用いられる。しかし、それらの内側で微小滴の形状およびＬＣ配向
ベクトル（ｄｉｒｅｃｔｏｒ）の形態を制御するのは不可能である。
【０００４】 明らかに、比較的容易に、そして低重圧で作動されうる、低コスト、高速、そ
して高性能の電気光学デバイスに対する要求がある。有望な方法が、米国特許第
５，９４９，５０８号明細書に開示されており、引用によりここに組入れられる
。この特許は、純粋なＬＣおよびポリマーの平行な層を生じ、ＬＣ光軸の所望の
配向を有する、相分離した複合膜（ＰＳＣＯＦ）の形成を教示する。電場はそれ
らの性能を制御するために光軸を制御するように使用されうる。ＰＳＣＯＦの構
造は他の方法で製造されたデバイスで従来みられない非常に望ましい性質を有す
る。このようなデバイスは、機械的変形に優れた許容性を有する剛直な、ならび
に可とう性の基体で製造されうる。
して高性能の電気光学デバイスに対する要求がある。有望な方法が、米国特許第
５，９４９，５０８号明細書に開示されており、引用によりここに組入れられる
。この特許は、純粋なＬＣおよびポリマーの平行な層を生じ、ＬＣ光軸の所望の
配向を有する、相分離した複合膜（ＰＳＣＯＦ）の形成を教示する。電場はそれ
らの性能を制御するために光軸を制御するように使用されうる。ＰＳＣＯＦの構
造は他の方法で製造されたデバイスで従来みられない非常に望ましい性質を有す
る。このようなデバイスは、機械的変形に優れた許容性を有する剛直な、ならび
に可とう性の基体で製造されうる。
【０００５】 前述のとおり、ポリマー材料により正確に定められ、そして境界づけされた液
晶微細構造に対するこの分野での要求は明らかである。さらに、高密度の電気光
学デバイスでの使用のために安定なパッケージ内に、電気的に制御可能で、収容
される微細構造に対する要求もある。 発明の開示 前述に照らして、電気的に制御可能な液晶微細構造およびその製造方法を提供
することは本発明の第１の態様である。
晶微細構造に対するこの分野での要求は明らかである。さらに、高密度の電気光
学デバイスでの使用のために安定なパッケージ内に、電気的に制御可能で、収容
される微細構造に対する要求もある。 発明の開示 前述に照らして、電気的に制御可能な液晶微細構造およびその製造方法を提供
することは本発明の第１の態様である。
【０００６】 １，２もしくは３次元形態の液晶微細構造を提供することは本発明のもう１つ
の態様である。このような微細構造は種々の形状で電場をかけ、および／または
除去することにより制御される。このような微細構造は多くの種類の液晶材料と
ともに使用され得、いかなる厚さの、もしくは結合された形状に配置され得、そ
して２つの剛直もしくは可とう性基体の間に収容される。このような微細構造の
大きさは３０００Å程度に小さくてよく、そしてもっと小さくてもよい。
の態様である。このような微細構造は種々の形状で電場をかけ、および／または
除去することにより制御される。このような微細構造は多くの種類の液晶材料と
ともに使用され得、いかなる厚さの、もしくは結合された形状に配置され得、そ
して２つの剛直もしくは可とう性基体の間に収容される。このような微細構造の
大きさは３０００Å程度に小さくてよく、そしてもっと小さくてもよい。
【０００７】 上述のように、相分離された複合有機膜法を用いて形成される、電気的に制御
可能な液晶微細構造を提供することも本発明のさらなる態様であり、ネマチック
および強誘電体ＬＣのような液晶材料を用いて１および２次元の切り替え可能な
格子ならびに３次元のマイクロレンズが製造されうる。光散乱を生じるようなＬ
Ｃ領域内の下部構造（ｓｕｂ−ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）を持たない、このようなデ
バイスは１００kHz 、およびおそらくもっと高速の速度で、高い効率および光流
量を付与する。さらに、相分離された複合有機膜法は、所望ならば薄い、可とう
性プラスチック基体を用いて機械的に安定な微細構造の形成を可能にする。
可能な液晶微細構造を提供することも本発明のさらなる態様であり、ネマチック
および強誘電体ＬＣのような液晶材料を用いて１および２次元の切り替え可能な
格子ならびに３次元のマイクロレンズが製造されうる。光散乱を生じるようなＬ
Ｃ領域内の下部構造（ｓｕｂ−ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）を持たない、このようなデ
バイスは１００kHz 、およびおそらくもっと高速の速度で、高い効率および光流
量を付与する。さらに、相分離された複合有機膜法は、所望ならば薄い、可とう
性プラスチック基体を用いて機械的に安定な微細構造の形成を可能にする。
【０００８】 上述のとおり、１次元の格子を提供することも本発明のなおもう１つの態様で
あり、格子の次元構造は正確に制御され、格子は互いに隣接する平行な線に形成
されうる。このような格子は最終用途による指示どおり、液晶量を次第に広く、
または次第に薄くして付与されうる。このような構造は、円筒形状レンズを形成
するのにも使用されうる。このような構造はフォトマスク、および紫外光の適用
、または光もしくはレーザー光の視準（ｃｏｌｌｉｍａｔｅｄ）ビームを用いて
形成される。熱誘起もしくは溶媒誘起相分離のような他の相分離方法も上述の、
そして他の微細構造を製造することができる。
あり、格子の次元構造は正確に制御され、格子は互いに隣接する平行な線に形成
されうる。このような格子は最終用途による指示どおり、液晶量を次第に広く、
または次第に薄くして付与されうる。このような構造は、円筒形状レンズを形成
するのにも使用されうる。このような構造はフォトマスク、および紫外光の適用
、または光もしくはレーザー光の視準（ｃｏｌｌｉｍａｔｅｄ）ビームを用いて
形成される。熱誘起もしくは溶媒誘起相分離のような他の相分離方法も上述の、
そして他の微細構造を製造することができる。
【０００９】 上述のとおり、１次元格子におけるのとほとんど同じ方法で形成される２次元
格子を形成することも本発明のさらにもう１つの態様であるが、２次元マスクは
液晶材料の配量および境界づけを制御するために用いられる。
格子を形成することも本発明のさらにもう１つの態様であるが、２次元マスクは
液晶材料の配量および境界づけを制御するために用いられる。
【００１０】 上述のとおり、径が数μｍの、または最終用途により要求されるような大きさ
で、円形開口を有するフォトマスクを用いて、３次元の微細構造もしくはマイク
ロレンズを提供することは本発明の、なおもう１つの目的である。相分離プロセ
スを制御することにより、曲った界面が微結晶内のポリマー材料および液晶材料
の間で得られうる。これは、光がマイクロレンズを通過するにつれて、または光
がマイクロレンズにより反射されるにつれて、光の集中／拡散を可能にする。
で、円形開口を有するフォトマスクを用いて、３次元の微細構造もしくはマイク
ロレンズを提供することは本発明の、なおもう１つの目的である。相分離プロセ
スを制御することにより、曲った界面が微結晶内のポリマー材料および液晶材料
の間で得られうる。これは、光がマイクロレンズを通過するにつれて、または光
がマイクロレンズにより反射されるにつれて、光の集中／拡散を可能にする。
【００１１】 上述のとおり、ガラスもしくはプラスチック基体の間にこのような微細構造を
提供することは、本発明のなおさらなる目的であり、基体の１つは液晶もしくは
低分子量有機材料と適合しうる配列層を備える。
提供することは、本発明のなおさらなる目的であり、基体の１つは液晶もしくは
低分子量有機材料と適合しうる配列層を備える。
【００１２】 双安定な（ｂｉｓｔａｂｌｅ）特性を示す配列層に隣接する、ポリマーで境界
づけられた微細構造を形成することは、本発明のなおもう１つの目的である。実
質的に純粋なポリマー領域に閉じ込められるが、微細構造は配列層上に定まった
パターンを有さない。しかも、もし両基体が配列層を備えると、ポリマーで境界
づけられた微細構造は使用される相分離法により指示されるように各基体に結合
（ｂｏｎｄ）されうる。
づけられた微細構造を形成することは、本発明のなおもう１つの目的である。実
質的に純粋なポリマー領域に閉じ込められるが、微細構造は配列層上に定まった
パターンを有さない。しかも、もし両基体が配列層を備えると、ポリマーで境界
づけられた微細構造は使用される相分離法により指示されるように各基体に結合
（ｂｏｎｄ）されうる。
【００１３】 上述のとおり、各基体上に電極を設けることは本発明のさらなる目的であり、
各電極は電力源に接続され、低分子量／液晶材料の切り替えを与える。このよう
な材料の電気的制御は微細構造の焦点距離の調整を与え、それによりこのような
デバイスでの光ビームの制御を可能にする。
各電極は電力源に接続され、低分子量／液晶材料の切り替えを与える。このよう
な材料の電気的制御は微細構造の焦点距離の調整を与え、それによりこのような
デバイスでの光ビームの制御を可能にする。
【００１４】 本発明の前述の、そして他の目的は、詳細な説明が進行するにつれて明らかに
なろうが、光変調セルにより達成され、１対の対立する基体、プレポリマーおよ
び低分子量（ＬＭＷ）有機材料溶液からなり、溶液は相分離されて、基体の１つ
に主に隣接するポリマー材料層、ならびに基体の残りに主に隣接するＬＭＷ有機
材料の定まった微細構造を形成する。
なろうが、光変調セルにより達成され、１対の対立する基体、プレポリマーおよ
び低分子量（ＬＭＷ）有機材料溶液からなり、溶液は相分離されて、基体の１つ
に主に隣接するポリマー材料層、ならびに基体の残りに主に隣接するＬＭＷ有機
材料の定まった微細構造を形成する。
【００１５】 本発明の他の態様は、１対の対立する基体、ならびにポリマー材料により境界
づけられた少くとも１つの液晶微細構造からなるセルにより得られ、液晶微細構
造は基体の１つの隣りであり、ポリマー材料は基体の残りの主に隣りであり、そ
して基体の双方に接触している。
づけられた少くとも１つの液晶微細構造からなるセルにより得られ、液晶微細構
造は基体の１つの隣りであり、ポリマー材料は基体の残りの主に隣りであり、そ
して基体の双方に接触している。
【００１６】 本発明のさらにもう１つの態様は、低分子量微細構造の製造方法により達成さ
れ、プレポリマーおよび低分子量（ＬＭＷ）有機材料の溶液を調製すること、該
溶液を１対の基体の間に配置すること、ならびに溶液の相分離を誘起させること
、の段階を含み、少くとも１つのＬＭＷ微細構造は基体の１つの上に形成される
。
れ、プレポリマーおよび低分子量（ＬＭＷ）有機材料の溶液を調製すること、該
溶液を１対の基体の間に配置すること、ならびに溶液の相分離を誘起させること
、の段階を含み、少くとも１つのＬＭＷ微細構造は基体の１つの上に形成される
。
【００１７】 本発明のこれらおよび他の目的ならびに現存する従来技術の形態を超えるその
利点は、続く記述から明らかになろうが、後述され、請求項に規定される改良に
より達成される。 発明を実施するための最良の形態 本発明は、光変調、ビームステアリング、および焦点調節素子として使用する
ための相分離複合有機構造（ＰＳＣＯＳ）からなる新規な電気光学デバイスを組
立てる方法を提供する。液晶材料およびポリマーに富む領域の位置、形状および
大きさ、ならびに均一性は、ここに開示される方法により容易に制御される。ネ
マチック、コレステリック、スメクチック（たとえば、キラルスメクチックＡ相
、強誘電体および反強誘電体）、または他の液晶が本発明にもとづくデバイスを
構成するのに使用されうる。
利点は、続く記述から明らかになろうが、後述され、請求項に規定される改良に
より達成される。 発明を実施するための最良の形態 本発明は、光変調、ビームステアリング、および焦点調節素子として使用する
ための相分離複合有機構造（ＰＳＣＯＳ）からなる新規な電気光学デバイスを組
立てる方法を提供する。液晶材料およびポリマーに富む領域の位置、形状および
大きさ、ならびに均一性は、ここに開示される方法により容易に制御される。ネ
マチック、コレステリック、スメクチック（たとえば、キラルスメクチックＡ相
、強誘電体および反強誘電体）、または他の液晶が本発明にもとづくデバイスを
構成するのに使用されうる。
【００１８】 本発明のデバイスはＬＣの異方性重合誘起された相分離（ＡＰＩＰＳ）により
そのプレポリマー溶液から製造される。その溶液は電極および配列層がデバイス
の所望の特性にもとづきその上に予め配置された２つの基体（ガラスもしくはプ
ラスチック）の間に置かれる。所望のパターンを有するフォトマスクはＵＶ源と
セルの間に置かれる。異方性相分離は選択された領域の紫外線（ＵＶ）露光によ
り開始され、基体もしくは基体上の配列層の表面ぬれ性により助けられる。相分
離は基体に平行方向のみならず垂直方向でも、すなわち０〜３次元で生じる。所
望のＬＣ／ポリマー形態は露光領域、非露光領域もしくは両方で、試料の厚さ、
ＬＣの濃度、露光領域の大きさ、およびＵＶ強度に依存して形成されうる。露光
および非露光領域はフォトマスクの使用により制御されうる。所望の構成に依存
して、二重ＵＶ露光法が使用されうる。
そのプレポリマー溶液から製造される。その溶液は電極および配列層がデバイス
の所望の特性にもとづきその上に予め配置された２つの基体（ガラスもしくはプ
ラスチック）の間に置かれる。所望のパターンを有するフォトマスクはＵＶ源と
セルの間に置かれる。異方性相分離は選択された領域の紫外線（ＵＶ）露光によ
り開始され、基体もしくは基体上の配列層の表面ぬれ性により助けられる。相分
離は基体に平行方向のみならず垂直方向でも、すなわち０〜３次元で生じる。所
望のＬＣ／ポリマー形態は露光領域、非露光領域もしくは両方で、試料の厚さ、
ＬＣの濃度、露光領域の大きさ、およびＵＶ強度に依存して形成されうる。露光
および非露光領域はフォトマスクの使用により制御されうる。所望の構成に依存
して、二重ＵＶ露光法が使用されうる。
【００１９】 相分離の代替法も使用されうる。基体の所定の領域に熱を加えることにより、
熱的に誘起された相分離が生じる。溶媒誘起された相分離もいくつかの微細構造
の形成に適用されうる。
熱的に誘起された相分離が生じる。溶媒誘起された相分離もいくつかの微細構造
の形成に適用されうる。
【００２０】 基体表面でのＬＣの配列は配列層により制御されうる。ポリマー壁において、
ＬＣの配列はプレポリマーの化学構造および濃度を制御することにより決定され
うる。さらに、境界における定着（ａｎｃｈｏｒｉｎｇ）条件は、相分離の間に
、電場、磁場、もしくは機械的せん断力を用いることにより与えられうる。
ＬＣの配列はプレポリマーの化学構造および濃度を制御することにより決定され
うる。さらに、境界における定着（ａｎｃｈｏｒｉｎｇ）条件は、相分離の間に
、電場、磁場、もしくは機械的せん断力を用いることにより与えられうる。
【００２１】 図面、特に図１Ａを参照すると、電気的に制御可能な液晶微細構造の製造のた
めの装置および関連する方法が数字２０により全体的に示されるのがわかる。こ
のような微細構造は数字２２で一般的に示されるセルにより担持もしくは支持さ
れる。セル２２はガラス、プラスチックまたは液晶ディスプレイセルの製造にお
いて通常使用される硬いもしくは可とう性の他の基体材料であってもよい、１対
の対立する基体２４を含む。各基体２４は電源２７に接続される電極２６を含む
。少くとも１つの基体２４は電極２６にわたって配置される配列層２８を備える
。
めの装置および関連する方法が数字２０により全体的に示されるのがわかる。こ
のような微細構造は数字２２で一般的に示されるセルにより担持もしくは支持さ
れる。セル２２はガラス、プラスチックまたは液晶ディスプレイセルの製造にお
いて通常使用される硬いもしくは可とう性の他の基体材料であってもよい、１対
の対立する基体２４を含む。各基体２４は電源２７に接続される電極２６を含む
。少くとも１つの基体２４は電極２６にわたって配置される配列層２８を備える
。
【００２２】 好適な態様において、配列層２８はポリビニルアルコール（ＰＶＡ）のラビン
グされた（ｒｕｂｂｅｄ）膜である。もちろん、他の種類の配列層および材料が
この分野で資料で裏づけられるように、用いられうる。基体は、ネマチック液晶
セルについて径５μｍ、そして強誘電体液晶セルについて径３μｍのガラス繊維
もしくはビードスペーサ（図示せず）を用いて間隔をあけられるのが通常である
。他の適切な大きさも使用されうる。一般的に数字３０で示される液晶／プレポ
リマー溶液もしくは混合物は液晶材料の等方性相に対応する温度で毛管作用によ
り基体間に配置される。以下で検討される試料について、Ｍｅｒｋ Ｃｈｅｍｉ
ｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙにより供給されるネマチックＥ−４８およびｔｈｅ Ｈ
ｏｅｃｈｓｔ Ｃｏｍｐａｎｙにより供給される強誘電体Ｆｅｌｉｘ−１５−１
００が、ｔｈｅ Ｎｏｒｌａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙにより供給される光硬化性プ
レポリマーＮＯＡ−６５とともに使用された。混合物３０は、強誘電体液晶材料
について４０：６０、そしてネマチック液晶材料について６０：４０の質量比で
用意されうる。米国特許第５，９４９，５０８号明細書で検討されるように、プ
レポリマーに対する液晶材料の濃度は、所望の最終構造に依存して約１０〜９０
％で変動されうる。基体が混合物３０で充たされると、それは適切な支持設備で
保持され、その上にフォトマスク３２が基体２４の１つの外表面にわたってかけ
られうる。マスク３２は基体に直接にかけられるか、または基体から所定の距離
をおいて平行に配置して位置されうる。光源３４はその間にフォトマスク３２を
有する基体２４の上方に配置される。光源は紫外光、レーザー光、もしくは混合
物３０内のプレポリマーを重合を生じさせる、他の種類の放射源でありうる。も
し可視光源が重合を誘起させるために使用されると、染料がＵＶから可視放射に
光感受性を変えるために溶液に混合される。
グされた（ｒｕｂｂｅｄ）膜である。もちろん、他の種類の配列層および材料が
この分野で資料で裏づけられるように、用いられうる。基体は、ネマチック液晶
セルについて径５μｍ、そして強誘電体液晶セルについて径３μｍのガラス繊維
もしくはビードスペーサ（図示せず）を用いて間隔をあけられるのが通常である
。他の適切な大きさも使用されうる。一般的に数字３０で示される液晶／プレポ
リマー溶液もしくは混合物は液晶材料の等方性相に対応する温度で毛管作用によ
り基体間に配置される。以下で検討される試料について、Ｍｅｒｋ Ｃｈｅｍｉ
ｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙにより供給されるネマチックＥ−４８およびｔｈｅ Ｈ
ｏｅｃｈｓｔ Ｃｏｍｐａｎｙにより供給される強誘電体Ｆｅｌｉｘ−１５−１
００が、ｔｈｅ Ｎｏｒｌａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙにより供給される光硬化性プ
レポリマーＮＯＡ−６５とともに使用された。混合物３０は、強誘電体液晶材料
について４０：６０、そしてネマチック液晶材料について６０：４０の質量比で
用意されうる。米国特許第５，９４９，５０８号明細書で検討されるように、プ
レポリマーに対する液晶材料の濃度は、所望の最終構造に依存して約１０〜９０
％で変動されうる。基体が混合物３０で充たされると、それは適切な支持設備で
保持され、その上にフォトマスク３２が基体２４の１つの外表面にわたってかけ
られうる。マスク３２は基体に直接にかけられるか、または基体から所定の距離
をおいて平行に配置して位置されうる。光源３４はその間にフォトマスク３２を
有する基体２４の上方に配置される。光源は紫外光、レーザー光、もしくは混合
物３０内のプレポリマーを重合を生じさせる、他の種類の放射源でありうる。も
し可視光源が重合を誘起させるために使用されると、染料がＵＶから可視放射に
光感受性を変えるために溶液に混合される。
【００２３】 最も簡単な場合において、フォトマスクを用いないで、混合物３０で充たされ
た後に、セル２０は紫外光の垂直入射（ｎｏｒｍａｌｌｙ ｉｎｃｉｄｅｎｔ）
ビームに露光される。紫外線強度における勾配は基体表面に垂直なＺ−方向に沿
う異方性相分離を生じさせ、基体に平行な２つの隣接相をもたらす。すなわち、
ポリマー材料層はＵＶ光源に最も近い基体の隣りに形成されるが、液晶材料層は
配列層２８を有する基体上に形成される。ポリマーおよび液晶膜の厚さは使用さ
れるスペーサの大きさならびに混合物３０内の２つの成分の相対的量に直接に依
存する。液晶層は隣りの基体２４上の配列層２８により指示される方向に配列さ
れる。十分な相分離が生じ、相分離された複合有機膜構造を形成する容易さも配
列層の化学的性質に依存する。もし配列層が、液晶材料は容易に配列層をぬらす
ようなものであれば、セル２２は比較的高速度の重合により形成されうる。この
ために、十分な相分離の責任を負うメカニズムは重合および表面誘起異方性相分
離といわれる。得られるセルにおいて、ポリマー膜はその中に捕促された液晶材
料をほとんど含まず、そして液晶材料はほとんどポリマーを含まない。液晶−ポ
リマー界面は液晶部分に侵入し、対立する基体と結合することがある。これは、
セルに機械的強度を付与し、機械的変形がセルの性能に影響するのを困難にする
。
た後に、セル２０は紫外光の垂直入射（ｎｏｒｍａｌｌｙ ｉｎｃｉｄｅｎｔ）
ビームに露光される。紫外線強度における勾配は基体表面に垂直なＺ−方向に沿
う異方性相分離を生じさせ、基体に平行な２つの隣接相をもたらす。すなわち、
ポリマー材料層はＵＶ光源に最も近い基体の隣りに形成されるが、液晶材料層は
配列層２８を有する基体上に形成される。ポリマーおよび液晶膜の厚さは使用さ
れるスペーサの大きさならびに混合物３０内の２つの成分の相対的量に直接に依
存する。液晶層は隣りの基体２４上の配列層２８により指示される方向に配列さ
れる。十分な相分離が生じ、相分離された複合有機膜構造を形成する容易さも配
列層の化学的性質に依存する。もし配列層が、液晶材料は容易に配列層をぬらす
ようなものであれば、セル２２は比較的高速度の重合により形成されうる。この
ために、十分な相分離の責任を負うメカニズムは重合および表面誘起異方性相分
離といわれる。得られるセルにおいて、ポリマー膜はその中に捕促された液晶材
料をほとんど含まず、そして液晶材料はほとんどポリマーを含まない。液晶−ポ
リマー界面は液晶部分に侵入し、対立する基体と結合することがある。これは、
セルに機械的強度を付与し、機械的変形がセルの性能に影響するのを困難にする
。
【００２４】 セル２２を形成する代替法が図１Ｂに示される。紫外光源およびフォトマスク
の使用に代えて、数字３８で示されるレーザービームの視準（ｃｏｌｌｉｍａｔ
ｅｄ）ビームもしくは干渉パターンが使用されうる。重合はビームが混合物３０
に衝突する領域で生じる。これは、ビームが衝突しない微細構造の形成をもたら
す。
の使用に代えて、数字３８で示されるレーザービームの視準（ｃｏｌｌｉｍａｔ
ｅｄ）ビームもしくは干渉パターンが使用されうる。重合はビームが混合物３０
に衝突する領域で生じる。これは、ビームが衝突しない微細構造の形成をもたら
す。
【００２５】 従来の光源もしくはレンズからのＵＶもしくは可視光の干渉の使用は、セル中
に強度勾配を生じる空間的に種々のパターンを生じさせるのに用いられうる。こ
れはマスクで可能なよりももっと小さい微細構造を創り出す。この方法も微細構
造の正確な形づくりを可能にしうる。
に強度勾配を生じる空間的に種々のパターンを生じさせるのに用いられうる。こ
れはマスクで可能なよりももっと小さい微細構造を創り出す。この方法も微細構
造の正確な形づくりを可能にしうる。
【００２６】 フォトマスク３２は、空間的に周期的な速度の重合、そして格子線に垂直方向
に空間的に化学ポテンシャルを生じさせるために、周期的線状格子のような微細
構造を生成させるために用いられうる。たとえば図２にみられるように、一般に
数字４０で示されるフォトマスクは、同じピッチを有しうるか、または一連の狭
いピッチ部４２および広いピッチ部４４を含みうる。マスク３２は狭い露出４６
の対応する狭い領域および広い露出４８の領域を形成する。ＵＶ露光により高い
化学ポテンシャル領域から低い化学ポテンシャル領域への液晶材料の拡散が生じ
る。もし重合速度が紫外線強度を低下させることにより誘起され、液晶分子の拡
散速度と同等もしくはそれよりおそくされると、大部分の液晶材料は露出領域４
６および４８から追出され、非露出領域４２および４４に移動し、ほとんど純ポ
リマーの領域をあとに残す。水平および垂直方向に沿う分離の結果として、非露
出領域における液晶材料の濃度は増大される。このようにして得られる微細構造
はほとんど純ポリマーの領域、ならびに垂直に相分離された液晶およびポリマー
領域の交互領域からなる切り替え可能な線状格子である。マスク領域のピッチお
よび幅に依存して、ある場合には、フォトマスクなしの次の紫外線露光が実施さ
れ、前に露出されていない領域において主にＺ方向に沿って相分離を生じさせう
る。
に空間的に化学ポテンシャルを生じさせるために、周期的線状格子のような微細
構造を生成させるために用いられうる。たとえば図２にみられるように、一般に
数字４０で示されるフォトマスクは、同じピッチを有しうるか、または一連の狭
いピッチ部４２および広いピッチ部４４を含みうる。マスク３２は狭い露出４６
の対応する狭い領域および広い露出４８の領域を形成する。ＵＶ露光により高い
化学ポテンシャル領域から低い化学ポテンシャル領域への液晶材料の拡散が生じ
る。もし重合速度が紫外線強度を低下させることにより誘起され、液晶分子の拡
散速度と同等もしくはそれよりおそくされると、大部分の液晶材料は露出領域４
６および４８から追出され、非露出領域４２および４４に移動し、ほとんど純ポ
リマーの領域をあとに残す。水平および垂直方向に沿う分離の結果として、非露
出領域における液晶材料の濃度は増大される。このようにして得られる微細構造
はほとんど純ポリマーの領域、ならびに垂直に相分離された液晶およびポリマー
領域の交互領域からなる切り替え可能な線状格子である。マスク領域のピッチお
よび幅に依存して、ある場合には、フォトマスクなしの次の紫外線露光が実施さ
れ、前に露出されていない領域において主にＺ方向に沿って相分離を生じさせう
る。
【００２７】 露出された領域と保護された領域の大きさに依存して、ＰＳＣＯＦ／ＰＤＬＣ
，ＰＳＣＯＦ／ポリマー、およびＰＳＣＯＦ／ＰＳＣＯＦの周期的層のような電
気的に制御可能な光学格子を製造することは可能である。厚さ５０μｍの試料に
おいてネマチック液晶材料を用いる拡大ＰＳＣＯＦ／ＰＤＬＣ格子の例が図３に
示される。ＰＳＣＯＦ構造は非露出領域を示すために図３において大文字Ａで示
されるが、そのＰＳＣＯＦ構造は配列層を有する基体に隣接する液晶部分、およ
び他の基体に隣接するポリマー部分を備える。格子の大きさは図の右側について
約１８０μｍ、図の左側部分で９０μｍである。大文字Ｂの指示は実質的に純ポ
リマーの領域を示す。
，ＰＳＣＯＦ／ポリマー、およびＰＳＣＯＦ／ＰＳＣＯＦの周期的層のような電
気的に制御可能な光学格子を製造することは可能である。厚さ５０μｍの試料に
おいてネマチック液晶材料を用いる拡大ＰＳＣＯＦ／ＰＤＬＣ格子の例が図３に
示される。ＰＳＣＯＦ構造は非露出領域を示すために図３において大文字Ａで示
されるが、そのＰＳＣＯＦ構造は配列層を有する基体に隣接する液晶部分、およ
び他の基体に隣接するポリマー部分を備える。格子の大きさは図の右側について
約１８０μｍ、図の左側部分で９０μｍである。大文字Ｂの指示は実質的に純ポ
リマーの領域を示す。
【００２８】 図４は厚さ３μｍの試料において強誘電体液晶材料を用いて調製された、ＰＳ
ＣＯＦおよび純ポリマーの交互の線を有する格子の例を示す。格子の大きさは左
下および右上領域においてそれぞれ９０μｍおよび１８０μｍである。ＰＳＣＯ
Ｆ領域は大文字Ａで示され、そして紫外線保護領域で形成される。図２に示され
るフォトマスクはこのようなパターンを有するセルを生成するために用いられう
る。
ＣＯＦおよび純ポリマーの交互の線を有する格子の例を示す。格子の大きさは左
下および右上領域においてそれぞれ９０μｍおよび１８０μｍである。ＰＳＣＯ
Ｆ領域は大文字Ａで示され、そして紫外線保護領域で形成される。図２に示され
るフォトマスクはこのようなパターンを有するセルを生成するために用いられう
る。
【００２９】 このような周期的線状格子のさらのもう１つの例は図５Ａおよび５Ｂに示され
る。示される１次元ネマチック液晶格子は厚さ５μｍセル中に２００／１００μ
ｍのピッチを有する。これらの内部構造を比較するために、図５Ａはポリマー分
散液晶（ＰＤＬＣ）の線に隣接するポリマーの線の直線状配列を示し、そして図
５ＢはＰＳＣＯＦで調製されたポリマーおよびＰＳＣＯＦ構造線を示す。ＰＤＬ
Ｃ線に対する内部構造がはっきりとみえる。相分離の間に、液晶材料は基体の１
つ上の配列層により指示された方向に配向し、そして液晶−ポリマー界面上で適
合する定着条件を与える。したがって、液晶配向ベクトルは均一に配向される。
電極２６の使用により配向ベクトルの配向、そして液晶材料の線により提供され
る光路長を変えるために電場をかけることが付与される。このように切り替え可
能な格子が組立てられうる。ＰＤＬＣ法で調製されるものよりもＰＳＣＯＦ法で
このような構造を調製する大部分の利点の１つは、通常光の高度散乱を生じさせ
、したがって効率を低下させるような液晶材料微細小滴がないので、光学的に非
常に透明な線状構造が得られることである。この差異は、開示される方法で得ら
れた格子のもっと高い透過および効率を付与する。Ｈｅ−Ｎｅレーザービームで
得られる光学回折パターンとともに２５μｍピッチの１次元格子の顕微鏡観察が
図５Ｃ〜Ｅに示される。特に図５Ｃは電圧をかけない回折ビーム像を示し、図５
Ｄは３ボルトでの像を示し、そして図５Ｅは１０Ｖをかけた格子を示す。明らか
に、回折の程度は、これらの格子の有効なピッチを増加しうるあらゆる他の線の
ような特定のパターン（連続）において、格子線を選択的にアドレス指定するこ
とにより電気的に制御可能である。みられるように、ＰＳＣＯＦ格子は内部構造
を有さず、光の散乱がない。
る。示される１次元ネマチック液晶格子は厚さ５μｍセル中に２００／１００μ
ｍのピッチを有する。これらの内部構造を比較するために、図５Ａはポリマー分
散液晶（ＰＤＬＣ）の線に隣接するポリマーの線の直線状配列を示し、そして図
５ＢはＰＳＣＯＦで調製されたポリマーおよびＰＳＣＯＦ構造線を示す。ＰＤＬ
Ｃ線に対する内部構造がはっきりとみえる。相分離の間に、液晶材料は基体の１
つ上の配列層により指示された方向に配向し、そして液晶−ポリマー界面上で適
合する定着条件を与える。したがって、液晶配向ベクトルは均一に配向される。
電極２６の使用により配向ベクトルの配向、そして液晶材料の線により提供され
る光路長を変えるために電場をかけることが付与される。このように切り替え可
能な格子が組立てられうる。ＰＤＬＣ法で調製されるものよりもＰＳＣＯＦ法で
このような構造を調製する大部分の利点の１つは、通常光の高度散乱を生じさせ
、したがって効率を低下させるような液晶材料微細小滴がないので、光学的に非
常に透明な線状構造が得られることである。この差異は、開示される方法で得ら
れた格子のもっと高い透過および効率を付与する。Ｈｅ−Ｎｅレーザービームで
得られる光学回折パターンとともに２５μｍピッチの１次元格子の顕微鏡観察が
図５Ｃ〜Ｅに示される。特に図５Ｃは電圧をかけない回折ビーム像を示し、図５
Ｄは３ボルトでの像を示し、そして図５Ｅは１０Ｖをかけた格子を示す。明らか
に、回折の程度は、これらの格子の有効なピッチを増加しうるあらゆる他の線の
ような特定のパターン（連続）において、格子線を選択的にアドレス指定するこ
とにより電気的に制御可能である。みられるように、ＰＳＣＯＦ格子は内部構造
を有さず、光の散乱がない。
【００３０】 ここで図６を参照すると、数字５０で一般的に示されるセルは本発明の境界づ
けされた微細構造を形成することがみられうる。図１Ａおよび１Ｂですでに示さ
れた特徴に加えて、マスク５１の使用は基体２６の両内側表面の間に伸びるポリ
マー壁５２を含む微細構造の形成をもたらし、ポリマー壁５２は設けられた配列
層２８と接触する。ポリマー壁５２が形成されない領域では、数字５４により一
般的に示される液晶領域が形成される。液晶領域５４は配列層２８に隣接する液
晶材料５６の部分および他の基体２４に隣接するポリマー材料５８の部分を含む
。界面６０は液晶材料５６およびポリマー材料５８の間に形成される。界面６０
は放射線もしくはいかなる他の均一な曲線型の形状でありうる。界面の形状は微
細構造の作用に重要であると考えられる。いかに界面６０が形成されるかは少な
くとも混合物３０に使用される材料、配列層２８、ＬＣおよびポリマー分子の拡
散速度、基体の間隔、もし使用されればフォトマスク、重合速度およびいかに重
合が開始されるか、により指示される。
けされた微細構造を形成することがみられうる。図１Ａおよび１Ｂですでに示さ
れた特徴に加えて、マスク５１の使用は基体２６の両内側表面の間に伸びるポリ
マー壁５２を含む微細構造の形成をもたらし、ポリマー壁５２は設けられた配列
層２８と接触する。ポリマー壁５２が形成されない領域では、数字５４により一
般的に示される液晶領域が形成される。液晶領域５４は配列層２８に隣接する液
晶材料５６の部分および他の基体２４に隣接するポリマー材料５８の部分を含む
。界面６０は液晶材料５６およびポリマー材料５８の間に形成される。界面６０
は放射線もしくはいかなる他の均一な曲線型の形状でありうる。界面の形状は微
細構造の作用に重要であると考えられる。いかに界面６０が形成されるかは少な
くとも混合物３０に使用される材料、配列層２８、ＬＣおよびポリマー分子の拡
散速度、基体の間隔、もし使用されればフォトマスク、重合速度およびいかに重
合が開始されるか、により指示される。
【００３１】 ここで図７を参照すると、数字７０により一般的に示される２次元フォトマス
クがセル５０を形成するために使用されうることがわかる。２次元マスク７０は
多数の正方形の開口７４を備える配列７２を含む。図８にみられるように、強誘
電体液晶材料を用いて、そして厚さ３μｍを有する長四角形の開口（図示せず）
を有するマスクを用いて調製されたセルが示される。この場合、最大強度勾配の
方向は、水平方向に沿う露出された長四角形開口の境界に垂直である。マスクに
よる露光の間、強誘導体液晶材料は外側に移行し、マスクの影で移動する。その
結果、露光された領域はほとんどポリマー１００％である。液晶およびポリマー
は非露光領域で照明の方向に沿って分離された領域を形成する。液晶材料は隣接
の基体上の配列層により一様に配列されており、その光軸は電極２６により付与
された電場の助けにより再配向されうる。それ自体で、これは切り替え可能な２
次元格子として作用するデバイスを形成する。
クがセル５０を形成するために使用されうることがわかる。２次元マスク７０は
多数の正方形の開口７４を備える配列７２を含む。図８にみられるように、強誘
電体液晶材料を用いて、そして厚さ３μｍを有する長四角形の開口（図示せず）
を有するマスクを用いて調製されたセルが示される。この場合、最大強度勾配の
方向は、水平方向に沿う露出された長四角形開口の境界に垂直である。マスクに
よる露光の間、強誘導体液晶材料は外側に移行し、マスクの影で移動する。その
結果、露光された領域はほとんどポリマー１００％である。液晶およびポリマー
は非露光領域で照明の方向に沿って分離された領域を形成する。液晶材料は隣接
の基体上の配列層により一様に配列されており、その光軸は電極２６により付与
された電場の助けにより再配向されうる。それ自体で、これは切り替え可能な２
次元格子として作用するデバイスを形成する。
【００３２】 図８は偏光顕微鏡下で、誘電体液晶材料を用いた微小ドメインの配列組織を示
す。文字Ｂで示されるＰＳＣＯＦ構造は紫外線保護領域で形成され、分離された
ＬＣおよびポリマー領域からなる。暗い（非複屈折）領域は純ポリマー領域を有
する。したがって、対応するフォトマスクで任意の形状を形成することが可能で
ある。図９Ａ、ＢおよびＣは図８に示される２次元格子への電場の作用として得
られた回折ビーム像を示す。図９Ａは２次元格子へ１０ボルトの印加にもとづく
明白な２次元回折パターンを示し、図９Ｂはセルへの０ボルト印加にもとづく減
少した強度を示し、そして図９Ｃは−１０ボルトでほとんど全く回折が存在しな
いことを示す。これらの２次元格子はマイクロ秒のオーダーでの高速切り替えを
もつ高密度相互接続におけるとても大きな利点を付与するはじめの８つの回折最
大強度［（±１，０）（０，±１）、および（±１，±１）］の総計が測定され
、ゼロ次最大値の約２６％である。適切な制御および構造形成法の最適化により
ほとんど１００％に回折効率を増加させることが可能であろう。
す。文字Ｂで示されるＰＳＣＯＦ構造は紫外線保護領域で形成され、分離された
ＬＣおよびポリマー領域からなる。暗い（非複屈折）領域は純ポリマー領域を有
する。したがって、対応するフォトマスクで任意の形状を形成することが可能で
ある。図９Ａ、ＢおよびＣは図８に示される２次元格子への電場の作用として得
られた回折ビーム像を示す。図９Ａは２次元格子へ１０ボルトの印加にもとづく
明白な２次元回折パターンを示し、図９Ｂはセルへの０ボルト印加にもとづく減
少した強度を示し、そして図９Ｃは−１０ボルトでほとんど全く回折が存在しな
いことを示す。これらの２次元格子はマイクロ秒のオーダーでの高速切り替えを
もつ高密度相互接続におけるとても大きな利点を付与するはじめの８つの回折最
大強度［（±１，０）（０，±１）、および（±１，±１）］の総計が測定され
、ゼロ次最大値の約２６％である。適切な制御および構造形成法の最適化により
ほとんど１００％に回折効率を増加させることが可能であろう。
【００３３】 これらの２次元格子は、所望の用途および使用される液晶材料に依存する受動
もしくは能動マトリックス・アドレス指定設計を用いて駆使されうる。このよう
な格子の主な用途は光学投影システム、高速ビームステアリング、および高密度
相互接続にある。これらの構成を形成する境界づけられた領域において、強誘電
体液晶材料の切り替え特性は双安定であり得、それらを高密度光学記憶デバイス
における使用の第１の候補にする。
もしくは能動マトリックス・アドレス指定設計を用いて駆使されうる。このよう
な格子の主な用途は光学投影システム、高速ビームステアリング、および高密度
相互接続にある。これらの構成を形成する境界づけられた領域において、強誘電
体液晶材料の切り替え特性は双安定であり得、それらを高密度光学記憶デバイス
における使用の第１の候補にする。
【００３４】 ここで図１０を参照すると、マイクロレンズの例が数字８０により一般的に示
される。配列８０は１対の基体８２を含み、下方の電極接続８４が破線ストライ
プとして示され、そして上方の基体電極接続８６が示される。両方の基体上の固
体電極は透明であるからである。ひどくおおわれた領域は能動マトリックスのた
めの薄膜トランジスタでありうるマイクロレンズ電極バッド８８を示し、露出領
域は３次元マイクロレンズ９０を形成する。すなわち、各基体は他の基体上の対
応する電極パッドと離れて間隔をあけた電極パッドを有する。各マイクロレンズ
９０は交差する電極パッド８８の間に形成される。それ自体で、２つの基体間の
切り替えうるマイクロレンズは配列されているレンズの選択的な切り替えを与え
る。マイクロレンズ配列８０は能動もしくは受動マトリックス作用法で切り替え
られうる。切り替え可能なマイクロレンズは、基体および境界づけされた相分離
した複合有機膜法で製造されたポリマーに富む領域により境界づけされた、顕微
鏡の、よく定まった位置にある部分の素子９０の内部で液晶の屈折率の電気的に
制御可能ならせん状分布を利用する。このような構造は概略的に図１１に示され
る。示されるようにセル８０は曲った界面６０を有するマイクロレンズを付与し
、電極にわたる電圧の印加に指示されるように、数字１００で一般的に示される
入射光の方向を与える。印加電圧の変化は、界面とともに、セルを通過する光の
特性を変えるＬＣ材料の光軸形態を変化させる。このような構造は優れた機械的
安定性で要求に応じて焦点適合と非焦点状態の間を切り替える能力を有するマイ
クロレンズの新たな形成を付与する。このようなマイクロレンズは焦点適合と非
焦点状態で透明のままである。その焦点距離は曲った界面６０の適切な形づくり
および電極パッド８８にわたって印加される電場を変えることにより制御可能で
ある。
される。配列８０は１対の基体８２を含み、下方の電極接続８４が破線ストライ
プとして示され、そして上方の基体電極接続８６が示される。両方の基体上の固
体電極は透明であるからである。ひどくおおわれた領域は能動マトリックスのた
めの薄膜トランジスタでありうるマイクロレンズ電極バッド８８を示し、露出領
域は３次元マイクロレンズ９０を形成する。すなわち、各基体は他の基体上の対
応する電極パッドと離れて間隔をあけた電極パッドを有する。各マイクロレンズ
９０は交差する電極パッド８８の間に形成される。それ自体で、２つの基体間の
切り替えうるマイクロレンズは配列されているレンズの選択的な切り替えを与え
る。マイクロレンズ配列８０は能動もしくは受動マトリックス作用法で切り替え
られうる。切り替え可能なマイクロレンズは、基体および境界づけされた相分離
した複合有機膜法で製造されたポリマーに富む領域により境界づけされた、顕微
鏡の、よく定まった位置にある部分の素子９０の内部で液晶の屈折率の電気的に
制御可能ならせん状分布を利用する。このような構造は概略的に図１１に示され
る。示されるようにセル８０は曲った界面６０を有するマイクロレンズを付与し
、電極にわたる電圧の印加に指示されるように、数字１００で一般的に示される
入射光の方向を与える。印加電圧の変化は、界面とともに、セルを通過する光の
特性を変えるＬＣ材料の光軸形態を変化させる。このような構造は優れた機械的
安定性で要求に応じて焦点適合と非焦点状態の間を切り替える能力を有するマイ
クロレンズの新たな形成を付与する。このようなマイクロレンズは焦点適合と非
焦点状態で透明のままである。その焦点距離は曲った界面６０の適切な形づくり
および電極パッド８８にわたって印加される電場を変えることにより制御可能で
ある。
【００３５】 好適な態様において、径が約５００μｍの円形領域を有するマスクによる紫外
線露光は液晶材料の円形領域を形成する。紫外光への露光は液晶の露出領域から
非露出領域への移行を生じさせ、おおわれた領域下もしくは近くに濃度勾配を創
り出す。液晶およびプレポリマー分子の濃度勾配および拡散を制限された移行の
ために、液晶およびポリマー間の曲った界面が得られる。使用された配列層を有
する液晶材料のぬれ特性は処理パラメータおよび界面形状の決定に重大な役割を
果たす。これらの界面づけされた液晶領域において、液晶配向ベクトルは配列層
にしたがって配列される。界面の形状および液晶光軸の配列のために、屈折率勾
配すなわちＧＲＩは円形レンズ領域の外側端からそれぞれの中心に向って創り出
される。ＧＲＩのプロフィールはレンズ領域の中心から端に色彩を変化させる直
交偏光子下で明らかである。
線露光は液晶材料の円形領域を形成する。紫外光への露光は液晶の露出領域から
非露出領域への移行を生じさせ、おおわれた領域下もしくは近くに濃度勾配を創
り出す。液晶およびプレポリマー分子の濃度勾配および拡散を制限された移行の
ために、液晶およびポリマー間の曲った界面が得られる。使用された配列層を有
する液晶材料のぬれ特性は処理パラメータおよび界面形状の決定に重大な役割を
果たす。これらの界面づけされた液晶領域において、液晶配向ベクトルは配列層
にしたがって配列される。界面の形状および液晶光軸の配列のために、屈折率勾
配すなわちＧＲＩは円形レンズ領域の外側端からそれぞれの中心に向って創り出
される。ＧＲＩのプロフィールはレンズ領域の中心から端に色彩を変化させる直
交偏光子下で明らかである。
【００３６】 図１２Ａ〜Ｄは偏光顕微鏡下で本発明の開示により調製されたマイクロレンズ
の異なる状態もしくは外観を示す。図１２Ａにおいて、配列層のラビング（rubb
ing）方向は、直交偏光子の方向に対して４５°である。図１２Ｂは、ラビング
方向が直交偏光子の方向に対して０°である点を除けば図１２Ａと同一である。
各マイクロレンズの円形領域の外側はポリマーが分散した液晶構造である。この
領域は少量％の液晶材料を有するポリマー材料を主として含む。プロセスパラメ
ータを制御することにより、および／または前述のニ重露光法を用いることによ
りこの領域を全くＬＣを含まなくすることも可能である。図１２Ｃおよび１２Ｄ
は、図１２ＡおよびＢと同じマイクロレンズの外観を示し、０．５ｖ／μｍの電
場は図１２Ｃのマイクロレンズに印加され、そして１．０ｖ／μｍが図１２Ｄの
マイクロレンズに印加される。
の異なる状態もしくは外観を示す。図１２Ａにおいて、配列層のラビング（rubb
ing）方向は、直交偏光子の方向に対して４５°である。図１２Ｂは、ラビング
方向が直交偏光子の方向に対して０°である点を除けば図１２Ａと同一である。
各マイクロレンズの円形領域の外側はポリマーが分散した液晶構造である。この
領域は少量％の液晶材料を有するポリマー材料を主として含む。プロセスパラメ
ータを制御することにより、および／または前述のニ重露光法を用いることによ
りこの領域を全くＬＣを含まなくすることも可能である。図１２Ｃおよび１２Ｄ
は、図１２ＡおよびＢと同じマイクロレンズの外観を示し、０．５ｖ／μｍの電
場は図１２Ｃのマイクロレンズに印加され、そして１．０ｖ／μｍが図１２Ｄの
マイクロレンズに印加される。
【００３７】 図１３Ａ〜Ｃは、ヘリウム−ネオンレーザービームが異なる距離で図１２に示
されるマイクロレンズの１つを通過した後に、ＣＣＤカメラで得られたヘリウム
−ネオンレーザービームの強度プロフィールを示す。図１３Ａは４ｃｍの距離で
のセルの外観を示す。図１３Ｂは、ビームがマイクロレンズから５ｃｍの距離に
焦点が明確に合っていることを示し、そして図１３Ｃはビームが１０ｃｍの距離
で焦点をはずれていることを示す。これらの結果はマイクロレンズの焦点距離が
約５cmであることを示す。異なる距離での強度プロフィールの図は、図１４に示
される。
されるマイクロレンズの１つを通過した後に、ＣＣＤカメラで得られたヘリウム
−ネオンレーザービームの強度プロフィールを示す。図１３Ａは４ｃｍの距離で
のセルの外観を示す。図１３Ｂは、ビームがマイクロレンズから５ｃｍの距離に
焦点が明確に合っていることを示し、そして図１３Ｃはビームが１０ｃｍの距離
で焦点をはずれていることを示す。これらの結果はマイクロレンズの焦点距離が
約５cmであることを示す。異なる距離での強度プロフィールの図は、図１４に示
される。
【００３８】 分子への電圧の印加は、焦点距離が変化されるので、透過ビームの外観を変化
させることもわかる。図１５Ａ〜Ｃは、電圧が増大するにつれて、マイクロレン
ズから５ｃｍの距離の検出器がビームの焦点をはずれ、そして焦点に合う特性を
あらわすことを示す。図１５Ａは０ボルトを追加したレンズによりビームが焦点
に合っていることを示し、図１５Ｂは３ボルトの印加で焦点をはずれはじめる光
ビームの外観を示し、そして図１５Ｃは５ボルト印加でビームの焦点からの完全
なはずれを示す。したがって、焦点距離は電圧の増加とともに５ｃｍから無限大
に次第に移動する。図１６は異なる電圧印加に対する強度の図を示す。曲線型界
面の適切な形づくりはまずマスクを用いてポリマー領域壁を形成し、ついでマス
クを除去し、そして重合するＵＶ光を再度適用することにより得ることができる
。ＵＶビームの強度により決定される重合速度は曲った界面の形状、そしてした
がって焦点距離を調節する。１．８ｍｍ〜１０ｃｍの範囲の非常に異なる焦点距
離が、本発明によりすでに達成されている。
させることもわかる。図１５Ａ〜Ｃは、電圧が増大するにつれて、マイクロレン
ズから５ｃｍの距離の検出器がビームの焦点をはずれ、そして焦点に合う特性を
あらわすことを示す。図１５Ａは０ボルトを追加したレンズによりビームが焦点
に合っていることを示し、図１５Ｂは３ボルトの印加で焦点をはずれはじめる光
ビームの外観を示し、そして図１５Ｃは５ボルト印加でビームの焦点からの完全
なはずれを示す。したがって、焦点距離は電圧の増加とともに５ｃｍから無限大
に次第に移動する。図１６は異なる電圧印加に対する強度の図を示す。曲線型界
面の適切な形づくりはまずマスクを用いてポリマー領域壁を形成し、ついでマス
クを除去し、そして重合するＵＶ光を再度適用することにより得ることができる
。ＵＶビームの強度により決定される重合速度は曲った界面の形状、そしてした
がって焦点距離を調節する。１．８ｍｍ〜１０ｃｍの範囲の非常に異なる焦点距
離が、本発明によりすでに達成されている。
【００３９】 基体間に捕捉された混合物を重合する方法は境界づけされた微細構造の形状お
よび大きさを決定するのに重要である。レンズは適切なフォトマスクを用いて５
０，０００Å（５μｍ）程度の小さい径で製造されうると考えられる。マスクの
代わりに紫外光レーザー光干渉パターンの使用は約３０００Åの大きさのレンズ
を付与しうるが、可視光レーザービーム干渉パターンは、約５，０００Åの大き
さのレンズを与えるであろう。従来技術はどれも電気的に制御されうる可変の焦
点距離もしくは特性を有するこのような大きさの液晶で境界づけされた微細構造
を提供していないことが述べられる。
よび大きさを決定するのに重要である。レンズは適切なフォトマスクを用いて５
０，０００Å（５μｍ）程度の小さい径で製造されうると考えられる。マスクの
代わりに紫外光レーザー光干渉パターンの使用は約３０００Åの大きさのレンズ
を付与しうるが、可視光レーザービーム干渉パターンは、約５，０００Åの大き
さのレンズを与えるであろう。従来技術はどれも電気的に制御されうる可変の焦
点距離もしくは特性を有するこのような大きさの液晶で境界づけされた微細構造
を提供していないことが述べられる。
【００４０】 このような３次元マイクロレンズはすべての電圧で、そして焦点が合っていて
も焦点をはずれた状態であっても透明のままである。所望ならば、マイクロレン
ズもしくはここに存在するいかなる微細構造の前後に置かれる偏光子および検光
子（analyzers）の組合わせが焦点が合っていない状態でその組合わせに不透明
を与えるのに使用されうる。これは、焦点を合わせる作用ならびに電場内で光透
過の水準を制御する独特の利点を与え、独自に１つのデバイスで、焦点を合わせ
およびシャッタリングの特性を組合わせる。以前には、これは、異なる技術で製
造された２つのデバイスの使用によって達成されたにすぎなかった。ＧＲＩプロ
フィールはセルの厚さ、液晶とポリマーの相対的拡散速度、および重合速度を変
えることにより制御されうるので、異なる焦点距離のマイクロレンズを製造する
ことが可能である。このようなレンズの密度およびそれらの配置は上述の適切な
フォトマスクの使用により制御されうる。液晶ディスプレイに一般的に用いられ
る周知のマトリックスアドレス指定の概要は前述のデバイスをきわめて万能にす
る。
も焦点をはずれた状態であっても透明のままである。所望ならば、マイクロレン
ズもしくはここに存在するいかなる微細構造の前後に置かれる偏光子および検光
子（analyzers）の組合わせが焦点が合っていない状態でその組合わせに不透明
を与えるのに使用されうる。これは、焦点を合わせる作用ならびに電場内で光透
過の水準を制御する独特の利点を与え、独自に１つのデバイスで、焦点を合わせ
およびシャッタリングの特性を組合わせる。以前には、これは、異なる技術で製
造された２つのデバイスの使用によって達成されたにすぎなかった。ＧＲＩプロ
フィールはセルの厚さ、液晶とポリマーの相対的拡散速度、および重合速度を変
えることにより制御されうるので、異なる焦点距離のマイクロレンズを製造する
ことが可能である。このようなレンズの密度およびそれらの配置は上述の適切な
フォトマスクの使用により制御されうる。液晶ディスプレイに一般的に用いられ
る周知のマトリックスアドレス指定の概要は前述のデバイスをきわめて万能にす
る。
【００４１】 ここで図１７Ａ〜Ｂを参照すると、一般的に数字１１０で示されるセルは境界
づけされた相分離した複合有機構造であることがみられる。図１Ａ〜Ｂに示され
るセルに類似してセル１１０は互いの上に電極２６を有する対立する基体２４を
含む。少なくとも１つの基体は配列層２８有する。相分離プロセスはランダムに
位置され、境界づけされた液晶微細構造１１２を形成するために実施される。各
微細構造は配列層２８を有する基体に隣接する。相分離プロセスおよび他の基体
上の配列層の適切な制御により、微細構造１１２は図１７Ｂにみられるように両
方の基体に隣接されうると考えられる。実質的なポリマー領域１１４は互いに基
体に結合し、そして本質的に２つの基体間にポリマー膜もしくは層を形成する。
この態様において、微細構造１１４はポリマーにより境界づけされるが、特定の
曲線型界面は形成されない。もし相分離速度が比較的速いが、ＰＤＬＣ構造を生
じる速度よりもおそいと、液晶は配列層を有する基体の方へ移行する。しかし相
分離の速度のために、ＬＣは基体およびポリマーにより境界づけされた領域内に
閉じ込められたままである。これらの細滴内のＬＣは配列層により配列される。
電場の印加はそれらの光軸を配向させ、そしてそのようなデバイスはディスプレ
イ用途に使用されうる。もしスメクチック（強誘電体、反強誘電体等）ＬＣが使
用されると、セルは双安定に切り替り、そしてグレーのうろこ状態(grey scale)
を有する。
づけされた相分離した複合有機構造であることがみられる。図１Ａ〜Ｂに示され
るセルに類似してセル１１０は互いの上に電極２６を有する対立する基体２４を
含む。少なくとも１つの基体は配列層２８有する。相分離プロセスはランダムに
位置され、境界づけされた液晶微細構造１１２を形成するために実施される。各
微細構造は配列層２８を有する基体に隣接する。相分離プロセスおよび他の基体
上の配列層の適切な制御により、微細構造１１２は図１７Ｂにみられるように両
方の基体に隣接されうると考えられる。実質的なポリマー領域１１４は互いに基
体に結合し、そして本質的に２つの基体間にポリマー膜もしくは層を形成する。
この態様において、微細構造１１４はポリマーにより境界づけされるが、特定の
曲線型界面は形成されない。もし相分離速度が比較的速いが、ＰＤＬＣ構造を生
じる速度よりもおそいと、液晶は配列層を有する基体の方へ移行する。しかし相
分離の速度のために、ＬＣは基体およびポリマーにより境界づけされた領域内に
閉じ込められたままである。これらの細滴内のＬＣは配列層により配列される。
電場の印加はそれらの光軸を配向させ、そしてそのようなデバイスはディスプレ
イ用途に使用されうる。もしスメクチック（強誘電体、反強誘電体等）ＬＣが使
用されると、セルは双安定に切り替り、そしてグレーのうろこ状態(grey scale)
を有する。
【００４２】 このようなセルの例は図１８に示され、その透過および応答時間特性は図１９
Ａ〜Ｂに示される。セル１１０は優れた機械的安定性の特性を有する電気的双安
定性を示す。すなわち、微細構造１１２は電場もしくは磁場等の印加により安定
状態に切り替えられ得、そして場の除去によりその安定状態のままである。この
ようなセルはポリマー領域１１４のために機械的に安定である。
Ａ〜Ｂに示される。セル１１０は優れた機械的安定性の特性を有する電気的双安
定性を示す。すなわち、微細構造１１２は電場もしくは磁場等の印加により安定
状態に切り替えられ得、そして場の除去によりその安定状態のままである。この
ようなセルはポリマー領域１１４のために機械的に安定である。
【００４３】 自由なままの（free standing）複合構造は、プレポリマーおよびＬＣ溶液を
開口にわたるセッケン泡のように拡散させ、ついで両側からＵＶ照明を用いて相
分離を開始することにより形成されうる。これは基体なしにＰＳＣＯＳ構造の製
造を可能にする。これらの自由なままの構造は電気光学デバイスに隣接する他の
表面上に置かれうる。
開口にわたるセッケン泡のように拡散させ、ついで両側からＵＶ照明を用いて相
分離を開始することにより形成されうる。これは基体なしにＰＳＣＯＳ構造の製
造を可能にする。これらの自由なままの構造は電気光学デバイスに隣接する他の
表面上に置かれうる。
【００４４】 上述のこのような装置の使用および利点は容易に明らかである。それらは簡易
で低コストの方法を用いて、高効率の製造、ならびに電気的に制御された１およ
び２次元格子、マイクロレンズ配列および境界づけられた微細構造の透過を可能
にする。上述の方法を用いて、これらのデバイスは高い機械的応力に耐える能力
を有し、そしてさらに可とう性の、薄い、そして低質量基体で、または基体なし
に自立性(self-supporting)膜として、調製されうる。これらのデバイスは焦点
ビームステアリング、高密度光学通信のための能動繊維スターカップラー、光学
的なコンピュータ利用、神経ネットワークのための平行相互接続、および光学リ
ミター(limiters)ならびに他の軍および高度に専門化した用途に価値があると考
えられる。
で低コストの方法を用いて、高効率の製造、ならびに電気的に制御された１およ
び２次元格子、マイクロレンズ配列および境界づけられた微細構造の透過を可能
にする。上述の方法を用いて、これらのデバイスは高い機械的応力に耐える能力
を有し、そしてさらに可とう性の、薄い、そして低質量基体で、または基体なし
に自立性(self-supporting)膜として、調製されうる。これらのデバイスは焦点
ビームステアリング、高密度光学通信のための能動繊維スターカップラー、光学
的なコンピュータ利用、神経ネットワークのための平行相互接続、および光学リ
ミター(limiters)ならびに他の軍および高度に専門化した用途に価値があると考
えられる。
【００４５】 このように、本発明の目的は上述の構造および使用法により充たされたとみら
れうる。特許法にしたがって、最良の態様および好適な態様のみが詳細に説明さ
れるが、本発明はそれらにもしくはそれらにより限定されないと理解されるべき
である。したがって、本発明の真の範囲および幅については、特許請求範囲を参
照すべきである。
れうる。特許法にしたがって、最良の態様および好適な態様のみが詳細に説明さ
れるが、本発明はそれらにもしくはそれらにより限定されないと理解されるべき
である。したがって、本発明の真の範囲および幅については、特許請求範囲を参
照すべきである。
【図１Ａ】 フォトマスクとともに視準光源を用いて境界づけされた微細構造の調製を示す
概略図である。
概略図である。
【図１Ｂ】 フォトマスクなしに可視光もしくはＵＶレーザビームの干渉パターンを用いて
、境界づけされた微細構造の調製を示す概略図である。
、境界づけされた微細構造の調製を示す概略図である。
【図２】 １次元格子の形成に用いられる２つの異なる線幅およびピッチを有するフォト
マスクの拡大平面図である。
マスクの拡大平面図である。
【図３】 厚さ５０μｍの試料においてネマチック液晶材料を用いて,変化するピッチの
相分離した複合有機膜の１次元格子の顕微鏡写真である。
相分離した複合有機膜の１次元格子の顕微鏡写真である。
【図４】 厚さ３μｍの試料において強誘電体液晶材料を用いて、変化するピッチの相分
離した複合有機膜格子の顕微鏡写真である。
離した複合有機膜格子の顕微鏡写真である。
【図５Ａ】 ポリマー分散液晶法を用いて厚さ５μｍのセルにおけるピッチ２００／１００
μｍを有する１次元ネマチック液晶格子の顕微鏡写真である、ＬＣ線は光散乱に
責任を負う内部構造を有する。
μｍを有する１次元ネマチック液晶格子の顕微鏡写真である、ＬＣ線は光散乱に
責任を負う内部構造を有する。
【図５Ｂ】 相分離複合有機膜法を用いて厚さ５ｍｍのセルにおけるピッチ２００／１００
μｍを有する１次元ネマチック液晶格子の顕微鏡写真であり,格子は内部構造を
有さず光散乱がない。
μｍを有する１次元ネマチック液晶格子の顕微鏡写真であり,格子は内部構造を
有さず光散乱がない。
【図５Ｃ】 ０ボルト印加での１次元格子により得られた回折ビーム像の写真である。
【図５Ｄ】 格子への３ボルト印加の効果を示す。
【図５Ｅ】 格子への１０ボルト印加で回折の消滅を示す。
【図６】 基体の１つに隣接して位置される２次元フォトマスクで得られた、境界づけさ
れた微細構造の概略図である。ＬＣ領域の平凸（plano-convex）形状は光ビーム
の焦点合わせをする能力に責任を負う。
れた微細構造の概略図である。ＬＣ領域の平凸（plano-convex）形状は光ビーム
の焦点合わせをする能力に責任を負う。
【図７】 ２次元微細構造の形成に使用されるフォトマスクの拡大平面図である。
【図８】 偏光顕微鏡下での強誘電体液晶を用いる２次元微細構造の顕微鏡写真である。
暗い領域（Ａ）は非複屈折の純ポリマー領域であり、明るい領域（Ｂ）はその中
でＬＣによる複屈折である。
暗い領域（Ａ）は非複屈折の純ポリマー領域であり、明るい領域（Ｂ）はその中
でＬＣによる複屈折である。
【図９Ａ】 ２次元強誘電体格子による回折レーザービームを示す写真であり、１０Ｖの印
加の影響を示す。
加の影響を示す。
【図９Ｂ】 ２次元強誘電体格子による回折レーザービームを示す写真であり、０Ｖの印加
の影響を示す。
の影響を示す。
【図９Ｃ】 ２次元強誘電体格子による回折レーザービームを示す写真であり、−１０Ｖの
印加の影響を示す。
印加の影響を示す。
【図１０】 マイクロレンズを制御するためのマイクロレンズの配列を有するセルの概略平
面図である。
面図である。
【図１１】 本発明のコンセプトにより製造されたマイクロレンズおよび下方からの平行入
射の焦点合わせの概略図である。
射の焦点合わせの概略図である。
【図１２Ａ】 偏光顕微鏡下でマイクロレンズを有するセルの微視的組織の顕微鏡写真であり
、ラビング方向／液晶配列は、直交偏光子の１つに対し４５°である。
、ラビング方向／液晶配列は、直交偏光子の１つに対し４５°である。
【図１２Ｂ】 偏光顕微鏡下でマイクロレンズを有するセルの微視的組織の顕微鏡写真であり
、ラビング方向／液晶配列は、直交偏光子の１つに対し０°である。
、ラビング方向／液晶配列は、直交偏光子の１つに対し０°である。
【図１２Ｃ】 偏光顕微鏡下でマイクロレンズを有するセルの微視的組織の顕微鏡写真であり
、マイクロレンズに０．５ボルト／μｍ印加された場合である。
、マイクロレンズに０．５ボルト／μｍ印加された場合である。
【図１２Ｄ】 偏光顕微鏡下でマイクロレンズを有するセルの微視的組織の顕微鏡写真であり
、マイクロレンズに１ボルト／μｍ印加された場合である。
、マイクロレンズに１ボルト／μｍ印加された場合である。
【図１３Ａ】 図１２Ａ〜Ｄに示されるマイクロレンズの１つを通過した後にＣＣＤカメラで
観察されたＨｅ−Ｎｅレーザービームの強度プロフィールを示す顕微鏡写真であ
り、４ｃｍの距離で通過する光を示す。
観察されたＨｅ−Ｎｅレーザービームの強度プロフィールを示す顕微鏡写真であ
り、４ｃｍの距離で通過する光を示す。
【図１３Ｂ】 図１２Ａ〜Ｄに示されるマイクロレンズの１つを通過した後にＣＣＤカメラで
観察されたＨｅ−Ｎｅレーザービームの強度プロフィールを示す顕微鏡写真であ
り、５ｃｍの距離で通過し焦点を合わされた光を示す。
観察されたＨｅ−Ｎｅレーザービームの強度プロフィールを示す顕微鏡写真であ
り、５ｃｍの距離で通過し焦点を合わされた光を示す。
【図１３Ｃ】 図１２Ａ〜Ｄに示されるマイクロレンズの１つを通過した後にＣＣＤカメラで
観察されたＨｅ−Ｎｅレーザービームの強度プロフィールを示す顕微鏡写真であ
り、１０ｃｍの距離で通過する光を示す。
観察されたＨｅ−Ｎｅレーザービームの強度プロフィールを示す顕微鏡写真であ
り、１０ｃｍの距離で通過する光を示す。
【図１４】 図１３Ａ〜Ｃに示されるマイクロレンズに対して異なる距離での種々の測定強
度を示す図である。
度を示す図である。
【図１５Ａ】 図１２Ａ〜Ｄに示されるマイクロレンズの１つを通過した後に、マイクロレン
ズの１つから５ｃｍに置かれたＣＣＤカメラにより観察されたＨｅ−Ｎｅレーザ
ービームの強度プロフィールを示す顕微鏡写真であり、ビームは印加電圧の関数
として５ｃｍの距離に焦点を合わされ、０Ｖの印加を示す。
ズの１つから５ｃｍに置かれたＣＣＤカメラにより観察されたＨｅ−Ｎｅレーザ
ービームの強度プロフィールを示す顕微鏡写真であり、ビームは印加電圧の関数
として５ｃｍの距離に焦点を合わされ、０Ｖの印加を示す。
【図１５Ｂ】 図１２Ａ〜Ｄに示されるマイクロレンズの１つを通過した後に、マイクロレン
ズの１つから５ｃｍに置かれたＣＣＤカメラにより観察されたＨｅ−Ｎｅレーザ
ービームの強度プロフィールを示す顕微鏡写真であり、ビームは印加電圧の関数
として５ｃｍの距離に焦点を合わされ、３Ｖの印加を示す。
ズの１つから５ｃｍに置かれたＣＣＤカメラにより観察されたＨｅ−Ｎｅレーザ
ービームの強度プロフィールを示す顕微鏡写真であり、ビームは印加電圧の関数
として５ｃｍの距離に焦点を合わされ、３Ｖの印加を示す。
【図１５Ｃ】 図１２Ａ〜Ｄに示されるマイクロレンズの１つを通過した後に、マイクロレン
ズの１つから５ｃｍに置かれたＣＣＤカメラにより観察されたＨｅ−Ｎｅレーザ
ービームの強度プロフィールを示す顕微鏡写真であり、ビームは印加電圧の関数
として５ｃｍの距離に焦点を合わされ、５Ｖの印加を示す。
ズの１つから５ｃｍに置かれたＣＣＤカメラにより観察されたＨｅ−Ｎｅレーザ
ービームの強度プロフィールを示す顕微鏡写真であり、ビームは印加電圧の関数
として５ｃｍの距離に焦点を合わされ、５Ｖの印加を示す。
【図１６】 図２に示されるマイクロレンズの１つを通過する先のビームの測定強度プロフ
ィールを示す図である。
ィールを示す図である。
【図１７Ａ】 本発明のコンセプトにより製造された境界づけされた、相分離した有機膜微細
構造セルの概略図である。
構造セルの概略図である。
【図１７Ｂ】 本発明のコンセプトにより製造された境界づけされた、相分離した有機膜微細
構造セルの概略図である。
構造セルの概略図である。
【図１８】 境界づけられた微細構造セルの顕微鏡写真である。
【図１９Ａ】 純強誘電体液晶材料、相分離複合有機膜および境界づけられた相分離複合有機
膜の光透過および応答時間を示す図である。
膜の光透過および応答時間を示す図である。
【図１９Ｂ】 純強誘電体液晶材料、相分離複合有機膜および境界づけられた相分離複合有機
膜の光透過および応答時間を示す図である。
膜の光透過および応答時間を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ， ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，Ｃ Ｚ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ， ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，Ｌ Ｒ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ， ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，Ｔ Ｒ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ Ｆターム(参考） 2H049 AA33 AA43 AA51 AA59 2H088 EA33 EA42 EA44 EA48 FA30 GA04 GA10 JA04 2H089 HA04 JA03 QA05 QA11 RA13 UA01
Claims (32)
- 【請求項１】 １対の対立する基体； プレポリマーおよび低分子量（ＬＭＷ）有機材料の溶液であり、該溶液は基体
の間に置かれ、相分離されて： 該基体の１つに主に隣接するポリマー材料の層；ならびに 該基体の残りに主に隣接するＬＭＶ有機材料の定まった微細構造を形成する、
を含む光変調セル。 - 【請求項２】 該定まった微細構造がポリマー材料の層から伸びるポリマー
材料により境界づけられる請求項１記載のセル。 - 【請求項３】 該定まった微細構造に作用するように該基体の残りに配置さ
れた配列層をさらに含む請求項２記載のセル。 - 【請求項４】 該層の両方に面する各該基体上に配置された電極層；ならび
にセルの光学的外観を変えるために電場をかけるように該電極層に接続された電
力源、 をさらに含む請求項３記載のセル。 - 【請求項５】 定まった微細構造が１次元線状格子である請求項４記載のセ
ル。 - 【請求項６】 該１次元線状格子が電気的に切り替え可能な請求項５記載の
セル。 - 【請求項７】 該１次元線状格子が多数の様々な幅の格子を含む請求項６記
載のセル。 - 【請求項８】 該定まった微細構造が２次元格子である請求項４記載のセル
。 - 【請求項９】 該２次元格子が電気的に切り替え可能な請求項８記載のセル
。 - 【請求項１０】 該定まった微細構造がマイクロレンズの配列である請求項
４記載のセル。 - 【請求項１１】 該マイクロレンズの配列における各マイクロレンズは、ポ
リマー領域に隣接する液晶領域を含み、該液晶領域および該ポリマー領域の間に
曲った界面を有する請求項１０記載のセル。 - 【請求項１２】 該マイクロレンズのそれぞれは電気的に制御可能であり、
そして各マイクロレンズのそれぞれにかけられた電場の変化はその焦点距離を変
化させる請求項１１記載のセル。 - 【請求項１３】 該定まった微細構造が、該配列層上にランダムに配置され
た、境界づけされた相分離した複合体有機微細構造である請求項４記載のセル。 - 【請求項１４】 該基体の１つに配列層をさらに含み、そして該定まった微
細構造は該基体の両方の該配列層上にランダムに配置された、境界づけされた相
分離した複合体有機微細構造である請求項１３記載のセル。 - 【請求項１５】 該定まった微細構造は曲線型の界面により分離されたポリ
マー部分およびＬＭＷ有機材料部分を有する請求項２記載のセル。 - 【請求項１６】 １対の対立する基体；ならびにポリマー材料により境界づ
けされた少くとも１つの液晶微細構造を含み、該液晶微細構造が該基体の１つに
隣接しており、該ポリマー材料は該基体の残りに主に隣接し、該基体の両方に接
触しているセル。 - 【請求項１７】 該少くとも１つの液晶微細構造に隣接する該基体上に配置
された配列層をさらに含む請求項１６記載のセル。 - 【請求項１８】 該複合材料は、溶液中の全質量の約１０％〜約９０％がプ
レポリマーである、プレポリマーとＬＭＷ有機材料からの相分離により実質的に
平面形状であることをさらに含む請求項１７記載のセル。 - 【請求項１９】 該微細構造が電気的に制御可能な請求項１８記載のセル。
- 【請求項２０】 該微細構造のそれぞれがその間に曲った界面を有するポリ
マー領域に隣接する液晶領域を含む請求項１９記載のセル。 - 【請求項２１】 プレポリマーおよび低分子量（ＬＭＷ）有機材料の溶液を
調製すること； 該溶液を１対の基体の間に配置すること；ならびに 該溶液の相分離を誘起させ、少くとも１つのＬＭＷ微細構造が該基体の１つの
上に形成されること、 の段階を含む、低分子量微細構造の製造方法。 - 【請求項２２】 誘起させる該段階が該溶液を加熱することによる請求項２
１記載の方法。 - 【請求項２３】 誘起させる該段階が該溶液中に溶媒を含むことによる請求
項２１記載の方法。 - 【請求項２４】 誘起させる該段階が該基体の１つの上方に光源を置くこと
による請求項２１記載の方法。 - 【請求項２５】 該光源および該基体の間にマスクを配置する段階をさらに
含み、該マスクの開口が該基体の間に該光源からの光を導入し、該プレポリマー
を重合させ、そして該ＬＭＷ微細構造を境界づける請求項２４記載の方法。 - 【請求項２６】 該ＬＭＷ微細構造の形態を制御するために該光源の使用を
変更する段階をさらに含む請求項２５記載の方法。 - 【請求項２７】 該ＬＭＷ微細構造が配列層を有する該基体を形成するよう
に該基体の１つの上に該配列層を設ける段階をさらに含む請求項２１記載の方法
。 - 【請求項２８】 互いに向かい会う該基体のそれぞれの上に電極を設けるこ
と；ならびに 該ＬＭＷ微細構造のＬＭＷ材料を電気的に制御するために該電極に動力源を接
続させる、ことをさらに含む請求項２５記載の方法。 - 【請求項２９】 該マスクを除去すること； 該光源および該基体の間に第２のマスクを配置すること；ならびに 相分離を終了させるために該光源を照明すること、そしてさらに該ＬＭＶ微細
構造の形態を制御することの段階をさらに含む、請求項２５記載の方法。 - 【請求項３０】 該光源が紫外線である請求項２５記載の方法。
- 【請求項３１】 該溶液中で可視光放射に敏感な染料を混合する段階をさら
に含み、そして該光源は可視光を発生する、請求項２５記載の方法。 - 【請求項３２】 セル中に対応する強度の勾配を生じさせる空間的に多様な
パターンを発生させるために該光源の干渉パターンを設ける段階をさらに含む請
求項２５記載の方法。
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