JP2002535126A - ダイオキシンなどの，有害物質が含まれる有害ガスの浄化方法及び装置 - Google Patents
ダイオキシンなどの，有害物質が含まれる有害ガスの浄化方法及び装置Info
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Abstract
(57)【要約】
有害ガスの浄化方法及び装置が開示される。本装置の処理では，有害ガスは，液の渦流と同一方向にタワー内の浄化液中に噴出され,形成されたガス気泡は，渦流と共に対流し，破壊される。本装置は，有害ガスが浄化液と接触に導かれる時間が増加するので，ガス浄化効率が改善される。本装置では, 有害ガスは，各ガス噴出管から各ガス噴出管の前方に配置された他のガス噴出管に噴出され，従って，各ガス噴出管の噴出方向の略垂直方向にはね飛ばされて，微小サイズのガス気泡が形成される。ガス噴出管はタワー内の２以上の水平面上に配置され，多層ガス噴出配置が形成され，ガス気泡を互いに衝突させることができる。これは，最終的に，さらにタワー内の液の渦流を活発化させる。ガス気泡は，急速に破壊され，例えばダイオキシンや塵などのガスの有害物質は，より効果的に液中に吸収され溶解される。
Description
【０００１】
技術分野 本発明は，一般に,ダイオキシンなどの，有害物質が含まれる有害ガスの浄化
方法及び装置に関し，さらに詳細には，好ましくは，焼却システムの各種毒物に
含まれる排気ガスの浄化に使用され，あるいは,無塵清浄空気を半導体製造装置
などの製造工場のクリンルームに供給するために空気を浄化するためのガス浄化
方法及び装置に関する。
方法及び装置に関し，さらに詳細には，好ましくは，焼却システムの各種毒物に
含まれる排気ガスの浄化に使用され，あるいは,無塵清浄空気を半導体製造装置
などの製造工場のクリンルームに供給するために空気を浄化するためのガス浄化
方法及び装置に関する。
【０００２】
背景技術 当業者に既知であるように,ダイオキシンや亜硫酸ガスなどの有害物質は，様
々な産業分野で発生し,重大な大気汚染を引き起こす。即ち,石油精製工程や重油
燃焼工程は大量の亜硫酸ガスが発生するので，焼却システムの排気ガスには大量
のダイオキシンが含まる。即ち,かかる石油精製工程や石油燃焼工程の間, 石油
あるいは油の中の硫黄は酸化されて亜硫酸ガスを形成し, 排気ガスと共に大気中
に放出される。特に,油が近年の重要なエネルギ資源であり, 大量に使用される
ので,油燃焼工程により発生する有害物質は，日毎に,深刻に大気を汚染する。
々な産業分野で発生し,重大な大気汚染を引き起こす。即ち,石油精製工程や重油
燃焼工程は大量の亜硫酸ガスが発生するので，焼却システムの排気ガスには大量
のダイオキシンが含まる。即ち,かかる石油精製工程や石油燃焼工程の間, 石油
あるいは油の中の硫黄は酸化されて亜硫酸ガスを形成し, 排気ガスと共に大気中
に放出される。特に,油が近年の重要なエネルギ資源であり, 大量に使用される
ので,油燃焼工程により発生する有害物質は，日毎に,深刻に大気を汚染する。
【０００３】 かかる有害物質に起因する大気汚染を制御するために,排気ガス中に含まれる
有害物質の許容量は厳格に規制される。従って, 排気ガス中に含まれる有害物質
の許容量のかかる厳格な規則に適合するガス浄化装置を提供することが必要であ
る。また,半導体製造, 高集積電子デバイス製造,光工学技術, 遺伝子工学技術,
宇宙空間工学技術あるいは非常に高精度が要求される医療薬が処理されるクリー
ンルームに対して清浄空気を供給することも必要である。かかる清浄空気により
，クリーンルームを，塵,バクテリアあるいは他の異物質が完全に存在しない最
適な環境とすることができる。
有害物質の許容量は厳格に規制される。従って, 排気ガス中に含まれる有害物質
の許容量のかかる厳格な規則に適合するガス浄化装置を提供することが必要であ
る。また,半導体製造, 高集積電子デバイス製造,光工学技術, 遺伝子工学技術,
宇宙空間工学技術あるいは非常に高精度が要求される医療薬が処理されるクリー
ンルームに対して清浄空気を供給することも必要である。かかる清浄空気により
，クリーンルームを，塵,バクテリアあるいは他の異物質が完全に存在しない最
適な環境とすることができる。
【０００４】 上記要求を実現する成果として，種々のタイプの空気浄化装置が提案された。
【０００５】 かかる従来の空気浄化装置は，大略,２つのタイプ,即ち,湿式装置と乾式装置
に分類される。
に分類される。
【０００６】 かかる湿式ガス浄化装置の代表例は，大型タワーの下側部分にガス噴出管が具
備され，ガス噴出管上部の複数の異なる高さ位置でタワー内に水平に取り付けら
れた複数の金網を具備する充装タワー式装置である。粒子は,所定の厚さを有す
る金網上に均一に積層され，各金網上に粒子層が形成されている。さらに, 複数
の浄化液スプレイ管が粒子層上に設置され,粒子層表面に浄化液を均一にスプレ
イして,粒子層を湿らせる。
備され，ガス噴出管上部の複数の異なる高さ位置でタワー内に水平に取り付けら
れた複数の金網を具備する充装タワー式装置である。粒子は,所定の厚さを有す
る金網上に均一に積層され，各金網上に粒子層が形成されている。さらに, 複数
の浄化液スプレイ管が粒子層上に設置され,粒子層表面に浄化液を均一にスプレ
イして,粒子層を湿らせる。
【０００７】 上記充装タワー式ガス浄化装置の処理においては,粒子層を通り抜けている間, 有害ガスは，ガス噴出管からタワー内に噴出され，粒子層を通過してタワー内
の上方に流れる。有害ガスが，湿った粒子層を上方に通り抜ける際には，粒子層
の浄化液と接触するように導かれる。ガスの有害物質は浄化液中に溶解され,浄
化空気がタワー内で上方に上昇した後，タワーから大気中に放出される。
の上方に流れる。有害ガスが，湿った粒子層を上方に通り抜ける際には，粒子層
の浄化液と接触するように導かれる。ガスの有害物質は浄化液中に溶解され,浄
化空気がタワー内で上方に上昇した後，タワーから大気中に放出される。
【０００８】 しかしながら,上記充装タワー式ガス浄化装置は，以下ような問題がある。 有害ガスが粒子層を通り抜けるときだけ, 有害ガスが限定的に浄化液と接触する
ので,タワー内の有害ガスの浄化液接触領域が限定される。これは，結果的に，
装置のガス浄化効率を低下させ, 装置の大きさを拡大することになる。
ので,タワー内の有害ガスの浄化液接触領域が限定される。これは，結果的に，
装置のガス浄化効率を低下させ, 装置の大きさを拡大することになる。
【０００９】 湿式ガス浄化装置他のの例は，ガス噴出管が浄化液タワーの下方位置に具備さ
れ，ガス噴出管の上方位置でタワー内に取り付けられた電動プロペラを有する，
攪拌式装置である。上記攪拌式ガス浄化装置の処理においては，プロペラにより
攪拌されている間,ガス噴出管から放出されるガス気泡は浄化液と接触するよう
に導かれる。ガスの有害物質は，浄化液中にこのように溶解され,浄化空気がタ
ワー内で上方に流れた後，タワーから大気中に放出される。
れ，ガス噴出管の上方位置でタワー内に取り付けられた電動プロペラを有する，
攪拌式装置である。上記攪拌式ガス浄化装置の処理においては，プロペラにより
攪拌されている間,ガス噴出管から放出されるガス気泡は浄化液と接触するよう
に導かれる。ガスの有害物質は，浄化液中にこのように溶解され,浄化空気がタ
ワー内で上方に流れた後，タワーから大気中に放出される。
【００１０】 しかしながら,上記攪拌式ガス浄化装置は，以下ような問題がある。ガス気泡
の浮力が，プロペラにより形成された浄化液の攪拌力よりも高いので,ガス気泡
はタワー内で急速に上昇する。これは，結果的に，ガス気泡が浄化液と接触する
時間を制限することになる。従って,有害ガスが，必要な長時間の間，浄化液と
接触することは，ほとんど不可能である。さらに，装置のガス浄化効率は低減す
る。また,タワー径と同一直径の大型プロペラを設置することも必要である。か
かる大型プロペラは，装置周囲に動作振動や人々に迷惑な雑音を発生させ,さら
に電力を浪費する大容量モータを必要とする。さらに, プロペラの中央部分及び
縁部分に位置するガス気泡は，トルクの影響なしでタワー内を上昇する。このこ
とは，装置のガス浄化効率をさらに低下させる。
の浮力が，プロペラにより形成された浄化液の攪拌力よりも高いので,ガス気泡
はタワー内で急速に上昇する。これは，結果的に，ガス気泡が浄化液と接触する
時間を制限することになる。従って,有害ガスが，必要な長時間の間，浄化液と
接触することは，ほとんど不可能である。さらに，装置のガス浄化効率は低減す
る。また,タワー径と同一直径の大型プロペラを設置することも必要である。か
かる大型プロペラは，装置周囲に動作振動や人々に迷惑な雑音を発生させ,さら
に電力を浪費する大容量モータを必要とする。さらに, プロペラの中央部分及び
縁部分に位置するガス気泡は，トルクの影響なしでタワー内を上昇する。このこ
とは，装置のガス浄化効率をさらに低下させる。
【００１１】 乾式ガス浄化装置の例は，制御集塵機である。しかしながら, かかる制御集塵
機は, 湿式ガス浄化装置と比較して，処理効率が低く,設置費用が増大する点で
問題がある。
機は, 湿式ガス浄化装置と比較して，処理効率が低く,設置費用が増大する点で
問題がある。
【００１２】 上述のように,従来のガス浄化装置は，設置費用が増大するという点で問題が
ある。上記装置も，必要なガス浄化効果を達成することができないので，大気汚
染を引き起こし, 実際の使用には余り適していない。その結果,より効果的にか
かる有害ガスを処理することが可能なガス浄化装置を提供することが必要である
。
ある。上記装置も，必要なガス浄化効果を達成することができないので，大気汚
染を引き起こし, 実際の使用には余り適していない。その結果,より効果的にか
かる有害ガスを処理することが可能なガス浄化装置を提供することが必要である
。
【００１３】 本発明の発明者は，韓国特許公告番号９１−４４７において，「有害ガスの浄
化方法及び装置」を提案した。 上記韓国の装置は，添付図面１及び２に示され
る。
化方法及び装置」を提案した。 上記韓国の装置は，添付図面１及び２に示され
る。
【００１４】 図に示すように, 上記韓国のガス浄化装置は，筒状の浄化液タワーを有し，そ
の中に，ガス浄化液が渦流を形成するためにスプレイされ，有害ガスも渦流と同
一方向に噴射される。上記韓国の装置の処理では, ガス浄化液中に溶解している
ガス有害物質を有する有害ガス気泡は, 徐々に延伸されて薄くなり，最終的に破
裂する。
の中に，ガス浄化液が渦流を形成するためにスプレイされ，有害ガスも渦流と同
一方向に噴射される。上記韓国の装置の処理では, ガス浄化液中に溶解している
ガス有害物質を有する有害ガス気泡は, 徐々に延伸されて薄くなり，最終的に破
裂する。
【００１５】 従って，上記韓国の装置は，有害ガスが，タワー内を高速で渦巻くガス浄化液
中に，妨害されずに滑らかに挿入されるように設計することが必要である。この
装置は,また，ガス浄化液の渦巻力がガス気泡の浮力よりも高なるように，従っ
て，有害ガス気泡を徐々に延伸して薄くし，最終的に破裂できるように設計しな
ければならない。このようにして，有害物質を反応させ,ガス浄化液中に溶解す
ることができる。
中に，妨害されずに滑らかに挿入されるように設計することが必要である。この
装置は,また，ガス浄化液の渦巻力がガス気泡の浮力よりも高なるように，従っ
て，有害ガス気泡を徐々に延伸して薄くし，最終的に破裂できるように設計しな
ければならない。このようにして，有害物質を反応させ,ガス浄化液中に溶解す
ることができる。
【００１６】 上記韓国のガス浄化装置は，有害ガスは，主としてガス気泡になり，渦巻きな
がらタワー内の長い通路に沿って上昇する点で効果がある。このように，この装
置中の有害ガスは，従来の湿式ガス浄化装置と比較して，必要な長時間の間，効
果的にガス浄化液と接触することができる。従って,ガスの有害物質がガス浄化
液中に効果的に溶解するので,従来の湿式ガス浄化装置と比較して, この装置の
ガス浄化効果が改善される。この韓国の装置は，また,大きさを小型化して, 近
年のコンパクト化傾向を実現し，製造コストを低減する。
がらタワー内の長い通路に沿って上昇する点で効果がある。このように，この装
置中の有害ガスは，従来の湿式ガス浄化装置と比較して，必要な長時間の間，効
果的にガス浄化液と接触することができる。従って,ガスの有害物質がガス浄化
液中に効果的に溶解するので,従来の湿式ガス浄化装置と比較して, この装置の
ガス浄化効果が改善される。この韓国の装置は，また,大きさを小型化して, 近
年のコンパクト化傾向を実現し，製造コストを低減する。
【００１７】
近年においては，排気ガス中に含まれるダイオキシン,塵などの有害物質の許
容量は,かかる有害物質に起因する大気汚染を抑制するために，さらに厳密に規
制される。さらに,ダイオキシンなどの非常に浄化が困難な有害物質量の増加を
ともなって工業が発達がなされる。従って, 高い処理効率を達成すると同時に，
大量の有害ガスを処理するように設計されたガス浄化装置を提供することが必要
である。かかる浄化装置は,また，人々から反感を買うことのない設置費用に低
減すると同時に，限られた領域中に容易に設置することができる所定のコンパク
ト化を達成するように設計する必要がある。
容量は,かかる有害物質に起因する大気汚染を抑制するために，さらに厳密に規
制される。さらに,ダイオキシンなどの非常に浄化が困難な有害物質量の増加を
ともなって工業が発達がなされる。従って, 高い処理効率を達成すると同時に，
大量の有害ガスを処理するように設計されたガス浄化装置を提供することが必要
である。かかる浄化装置は,また，人々から反感を買うことのない設置費用に低
減すると同時に，限られた領域中に容易に設置することができる所定のコンパク
ト化を達成するように設計する必要がある。
【００１８】
【課題を解決するための手段】 発明の開示 従って, 本発明は，従来技術に起因する上記課題を留意し,本発明の目的は，
大量の有害ガスを処理するように設計する同時に，高い処理効率及び近年のコン
パクト化傾向を共に実現する有害ガス浄化方法及びその装置を提供することにあ
る。
大量の有害ガスを処理するように設計する同時に，高い処理効率及び近年のコン
パクト化傾向を共に実現する有害ガス浄化方法及びその装置を提供することにあ
る。
【００１９】 上記目的を達成するために,本発明は，有害ガスの浄化法及び装置を提供する
。 本方法及び装置においては,有害ガスは，複数のガス噴出管からタワー内に
充填されている浄化液の渦流に噴射される。かかる場合には,各ガス噴出管から
噴射される有害ガスは，各ガス噴出管の前方に位置する他のガス噴出管と衝突し
て，各ガス噴出管のガス放出方向の略垂直方向にはね飛ばされる際に，微小サイ
ズのガス気泡を形成する。ガス気泡は浄化液の渦流と共に対流するので，ガスの
有害物質をより活発に浄化液中に吸収して溶解することができる。本方法と装置
においては，ガス気泡は，また，相互に衝突するように導かれるので，ガスの有
害物質をより活発に浄化液中に吸収して溶解することが可能な付加的渦流が形成
される。
。 本方法及び装置においては,有害ガスは，複数のガス噴出管からタワー内に
充填されている浄化液の渦流に噴射される。かかる場合には,各ガス噴出管から
噴射される有害ガスは，各ガス噴出管の前方に位置する他のガス噴出管と衝突し
て，各ガス噴出管のガス放出方向の略垂直方向にはね飛ばされる際に，微小サイ
ズのガス気泡を形成する。ガス気泡は浄化液の渦流と共に対流するので，ガスの
有害物質をより活発に浄化液中に吸収して溶解することができる。本方法と装置
においては，ガス気泡は，また，相互に衝突するように導かれるので，ガスの有
害物質をより活発に浄化液中に吸収して溶解することが可能な付加的渦流が形成
される。
【００２０】
発明を実施するための最良な形態 図３は，本発明の好ましい実施例にかかるガスガス浄化装置の図である。
【００２１】 図に示すように,本発明のガス浄化装置は，浄化液が供給される浄化液タワー
１を有する。オーバフロータンク２は,タワー１内の下側中央部分に設置され,
タワー１内の浄化液の必要なレベルを維持するために使用される。排水ポート３
は,オーバフロータンク２の周囲位置でタワー１の底部壁に形成され,予め設定さ
れた量の浄化液を，タワー１から排水するために使用される。複数の浄化液スプ
レイ管４が,タワー１内に規則的に垂直に設置され,タワー１に浄化液をスプレイ
するために使用される。ポンプ５は，全ての浄化液スプレイ管４に接続され，強
制的に，浄化液スプレイ管４に浄化液を供給する。輪状のガス給送ダクト６は，
タワー１の側壁外部表面の周囲に形成される。複数のガス噴出管７は，ガス供給
ダクト６からタワー１内に放射状に内方向に延びている。上記構成は，従来のガ
ス浄化装置のもの同様である。本発明の装置は，ガス噴出管７がタワー１内の同
一平面上に配置され, 多層のガス噴出管配置を形成する点に特徴がある。複数の
上部及び下部ガス噴出ノズル８，９は，各ガス噴出管７の側壁の２つの縦直線に
沿って規則的に形成される。本装置の処理においては，各ガス噴出管７の上部及
び下部ガス噴出ノズル８，９は，有害ガスを各ガス噴出管７の前方にある他のガ
ス噴出管上に噴出し，そのガスは，ガスの噴出方向の略垂直方向にはじき飛ばさ
れる。かかる場合において,有害ガスは，扇子の骨の形ではね飛ばされる。さら
に,複数の液体スプレイノズル１０は，各浄化液管４の側壁に，多層のガス噴出
管７の間の位置で形成される。
１を有する。オーバフロータンク２は,タワー１内の下側中央部分に設置され,
タワー１内の浄化液の必要なレベルを維持するために使用される。排水ポート３
は,オーバフロータンク２の周囲位置でタワー１の底部壁に形成され,予め設定さ
れた量の浄化液を，タワー１から排水するために使用される。複数の浄化液スプ
レイ管４が,タワー１内に規則的に垂直に設置され,タワー１に浄化液をスプレイ
するために使用される。ポンプ５は，全ての浄化液スプレイ管４に接続され，強
制的に，浄化液スプレイ管４に浄化液を供給する。輪状のガス給送ダクト６は，
タワー１の側壁外部表面の周囲に形成される。複数のガス噴出管７は，ガス供給
ダクト６からタワー１内に放射状に内方向に延びている。上記構成は，従来のガ
ス浄化装置のもの同様である。本発明の装置は，ガス噴出管７がタワー１内の同
一平面上に配置され, 多層のガス噴出管配置を形成する点に特徴がある。複数の
上部及び下部ガス噴出ノズル８，９は，各ガス噴出管７の側壁の２つの縦直線に
沿って規則的に形成される。本装置の処理においては，各ガス噴出管７の上部及
び下部ガス噴出ノズル８，９は，有害ガスを各ガス噴出管７の前方にある他のガ
ス噴出管上に噴出し，そのガスは，ガスの噴出方向の略垂直方向にはじき飛ばさ
れる。かかる場合において,有害ガスは，扇子の骨の形ではね飛ばされる。さら
に,複数の液体スプレイノズル１０は，各浄化液管４の側壁に，多層のガス噴出
管７の間の位置で形成される。
【００２２】 図４は，上記装置のガス浄化処理を示す図である。
【００２３】 図に示すように,ガス浄化液は，液体スプレイ管４からタワー１にスプレイさ
れ，タワー１の渦流を形成する。浄化液の渦流のため,ガス噴出管７から放出さ
れる有害ガスは気泡になり，浄化液に渦巻かれ，従来のガス浄化装置のものと同
様の方法で吸収されて溶解される。しかしながら, 本発明の装置は，各ガス噴出
管７から放出される有害ガスが,各パイプ７の前方に配置される他のパイプ７に
衝突するように導かれ，各パイプ７のガス噴射方向の略垂直方向にはじき飛ばさ
れる点に特徴がある。かかる場合には,ガスは扇子の骨の形ではね飛ばされて,大
量の数のガス気泡”Ａ”が浄化液中に形成される。ガス気泡”Ａ”は，浄化液に
より形成された渦流に巻き込まれて, 急速に破壊され,液体から破裂される。ダ
イオキシンなどのガスの有害物質は，このようにして浄化液中に吸収されて,溶
解される。
れ，タワー１の渦流を形成する。浄化液の渦流のため,ガス噴出管７から放出さ
れる有害ガスは気泡になり，浄化液に渦巻かれ，従来のガス浄化装置のものと同
様の方法で吸収されて溶解される。しかしながら, 本発明の装置は，各ガス噴出
管７から放出される有害ガスが,各パイプ７の前方に配置される他のパイプ７に
衝突するように導かれ，各パイプ７のガス噴射方向の略垂直方向にはじき飛ばさ
れる点に特徴がある。かかる場合には,ガスは扇子の骨の形ではね飛ばされて,大
量の数のガス気泡”Ａ”が浄化液中に形成される。ガス気泡”Ａ”は，浄化液に
より形成された渦流に巻き込まれて, 急速に破壊され,液体から破裂される。ダ
イオキシンなどのガスの有害物質は，このようにして浄化液中に吸収されて,溶
解される。
【００２４】 本装置の処理においては,ガス気泡”Ａ”は，さらに互いに衝突するように導
かれるので,ガス気泡”Ａ”はより効果的に破壊される。
かれるので,ガス気泡”Ａ”はより効果的に破壊される。
【００２５】 本発明の装置は,ガス噴出管７から噴射される有害ガスが,より効果的に,及び
より急速に浄化液中に吸収され,溶解することができる。このことは，最終的に
，タワー１の大きさを拡大することなく，浄化液タワー１内に必要な数のガス噴
出管７を設置することができる。従って,本発明の装置に関して,ガス浄化効率は
著しく改善され,ガス浄化量も高めることができる。
より急速に浄化液中に吸収され,溶解することができる。このことは，最終的に
，タワー１の大きさを拡大することなく，浄化液タワー１内に必要な数のガス噴
出管７を設置することができる。従って,本発明の装置に関して,ガス浄化効率は
著しく改善され,ガス浄化量も高めることができる。
【００２６】 有害物質が含まれる浄化液は，液体スプレイ管４からの液の連続噴射により，
タワー１内のレベルが徐々に上昇すると，オーバフロータンク２に流入する。
タワー１内のレベルが徐々に上昇すると，オーバフロータンク２に流入する。
【００２７】 オーバフロータンク２に流入された液は，その後，タンク２の底部に設置され
た第１の排水バルブの制御下でタンク２から排出され,タワー１内で予め設定さ
れた液体レベルを維持することができる。 他方では,タワー１内の液体レベル
が極めて高い場合には，排水ポート３が第２の排水バルブにより好適に開放され
，タワー１から必要量の液を排出し,タワー１内で好適な液体レベルの液体が維
持される。かかる排水バルブの操作は，従来のレベルセンサにより自動的に制御
することもできる。
た第１の排水バルブの制御下でタンク２から排出され,タワー１内で予め設定さ
れた液体レベルを維持することができる。 他方では,タワー１内の液体レベル
が極めて高い場合には，排水ポート３が第２の排水バルブにより好適に開放され
，タワー１から必要量の液を排出し,タワー１内で好適な液体レベルの液体が維
持される。かかる排水バルブの操作は，従来のレベルセンサにより自動的に制御
することもできる。
【００２８】 本発明の装置の処理においては，可溶性の有害物質は，各ガス噴出管７から噴
射される際，及びガス気泡”Ａ”を形成するための他のパイプ７との衝突に導か
れて扇子の骨の形ではね飛ばされる際に，容易に浄化液中に溶解され,タワー１
内の液の渦流共に循環する。他方では,非可溶性有害物質あるいは塵は，上記と
同様の工程を介して処理される際に液中に吸収される。可溶性あるいは非可溶性
の有害物質は，浄化液によりガスから除去され,液と共にタワー１から排出され
る。かかる有害物質あるいは塵が除去されたガスは，タワー１内を上昇して大気
中に排出される。
射される際，及びガス気泡”Ａ”を形成するための他のパイプ７との衝突に導か
れて扇子の骨の形ではね飛ばされる際に，容易に浄化液中に溶解され,タワー１
内の液の渦流共に循環する。他方では,非可溶性有害物質あるいは塵は，上記と
同様の工程を介して処理される際に液中に吸収される。可溶性あるいは非可溶性
の有害物質は，浄化液によりガスから除去され,液と共にタワー１から排出され
る。かかる有害物質あるいは塵が除去されたガスは，タワー１内を上昇して大気
中に排出される。
【００２９】 本発明の装置と方法は，ガスからダイオキシン, 亜硫酸ガス及び塵などの有害
物質を取り除いて，排気ガスを浄化し，浄化ガスを大気中に排出する。本発明の
装置及び方法は，焼却システムあるいはクリーンルームに対する清浄空気供給シ
ステムで使用されるのが好ましい。
物質を取り除いて，排気ガスを浄化し，浄化ガスを大気中に排出する。本発明の
装置及び方法は，焼却システムあるいはクリーンルームに対する清浄空気供給シ
ステムで使用されるのが好ましい。
【００３０】 本発明においては, ガス噴出管７を近接して配置するのが好ましく，このよう
パイプ７の近接配置はガスの跳ね角度を拡大し，各ガス噴出管７から噴出したガ
スが他のパイプ７への衝突に導かれた際に，タワー１内でより効果的に小さいサ
イズのガス気泡”Ａ”を形成するからである。
パイプ７の近接配置はガスの跳ね角度を拡大し，各ガス噴出管７から噴出したガ
スが他のパイプ７への衝突に導かれた際に，タワー１内でより効果的に小さいサ
イズのガス気泡”Ａ”を形成するからである。
【００３１】 実験によれば, タワー１内のガス噴出管７を，パイプ７間の間隔２０ｍｍ−２
５ｍｍで形成するのが好ましい。かかるパイプ７間の間隔は，ガス跳ね角度を最
大にして, タワー１内のガス気泡”Ａ”を最も効果的に形成する。 本発明の好
ましい実施例においては,水を浄化液として使用するのが好ましい。ダイオキシ
ンが効果的に浄化液中に吸収されるためには,液化活性炭素を浄化液として使用
するのがより好ましい。有機物質が含まれる有害ガスを浄化する場合には,浄化
液中にパラフィンを加えるのが好ましい。簡単な説明では,本発明のガス浄化方
法及び装置は, 浄化液の成分及び構成を変えることにより，様々な有害物質で汚
染されるガスを処理するために使用されるのが好ましい。
５ｍｍで形成するのが好ましい。かかるパイプ７間の間隔は，ガス跳ね角度を最
大にして, タワー１内のガス気泡”Ａ”を最も効果的に形成する。 本発明の好
ましい実施例においては,水を浄化液として使用するのが好ましい。ダイオキシ
ンが効果的に浄化液中に吸収されるためには,液化活性炭素を浄化液として使用
するのがより好ましい。有機物質が含まれる有害ガスを浄化する場合には,浄化
液中にパラフィンを加えるのが好ましい。簡単な説明では,本発明のガス浄化方
法及び装置は, 浄化液の成分及び構成を変えることにより，様々な有害物質で汚
染されるガスを処理するために使用されるのが好ましい。
【００３２】 上記のように,本発明は，有害ガスの浄化方法及び装置を提供する。本装置の
処理においては，有害ガスは，タワー内の浄化液中に液の渦流と同一方向に噴出
され，形成されたガス気泡は渦流と共に対流し,破壊される。本装置は，有害ガ
スが浄化液と接触させる時間を増大させるので，ガス浄化効率が改善される。
処理においては，有害ガスは，タワー内の浄化液中に液の渦流と同一方向に噴出
され，形成されたガス気泡は渦流と共に対流し,破壊される。本装置は，有害ガ
スが浄化液と接触させる時間を増大させるので，ガス浄化効率が改善される。
【００３３】 本発明の装置においては，有害ガスが各ガス噴出管から各ガス噴出管の前方に
配置される他のガス噴出管に向けて噴出され，形成された微小サイズのガス気泡
が各ガス噴射管の噴出方向の略垂直方向にはね飛ばされる。かかる場合において
は,ガス気泡は，扇子の骨の形ではね飛ばされる。かかるガス気泡は，また，互
いに衝突するように導かれ，さらに，タワー内の液の渦流を活発化し，活発化し
た渦流と共に対流する。ガス気泡は，このように，より急速に破壊される。この
ことにより，最終的に，ダイオキシンや塵などのガスの有害物質が, より効果的
に液中に吸収され溶解することができる。本発明の方法及び装置は，かかるダイ
オキシンや塵（従来のガス浄化装置により浄化することが困難であったダイオキ
シンや塵）をより効果的に除去する。本発明の方法及び装置の他の利点は，大量
の有害ガスを処理することができると同時に，高い処理効率及び近年のコンパク
ト化傾向を実現する点にある。
配置される他のガス噴出管に向けて噴出され，形成された微小サイズのガス気泡
が各ガス噴射管の噴出方向の略垂直方向にはね飛ばされる。かかる場合において
は,ガス気泡は，扇子の骨の形ではね飛ばされる。かかるガス気泡は，また，互
いに衝突するように導かれ，さらに，タワー内の液の渦流を活発化し，活発化し
た渦流と共に対流する。ガス気泡は，このように，より急速に破壊される。この
ことにより，最終的に，ダイオキシンや塵などのガスの有害物質が, より効果的
に液中に吸収され溶解することができる。本発明の方法及び装置は，かかるダイ
オキシンや塵（従来のガス浄化装置により浄化することが困難であったダイオキ
シンや塵）をより効果的に除去する。本発明の方法及び装置の他の利点は，大量
の有害ガスを処理することができると同時に，高い処理効率及び近年のコンパク
ト化傾向を実現する点にある。
【００３４】 本発明の好ましい実施例を説明の目的のために開示したが, 従属請求項に開示
するように，本発明の範囲及び精神から離れることなく，当業者は,各種の修正,
追加及び変更が可能である。
するように，本発明の範囲及び精神から離れることなく，当業者は,各種の修正,
追加及び変更が可能である。
図面の簡単な説明 本発明の上記及び他の目的，特徴及び他の利点は，添付図面と関連付けられる
以下の詳細な説明により より明確に理解されるであろう。
以下の詳細な説明により より明確に理解されるであろう。
【図１】 図１は，従来のガス浄化装置の断面図である；
【図２】 図２は，図１の装置をガス浄化処理を示めす斜視図ある;
【図３】 図３は，本発明の好ましい実施形態にかかるガス浄化装置の断面図である;
【図４】 図４は，図３の装置のガス浄化処理を示す図である；及び
【図５】 図５は，図３の装置の平面図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｄ 319/24 Ｂ０１Ｄ 53/34 ＺＡＢ
Claims (5)
- 【請求項１】 有害ガスを，複数のガス噴出管から，各ガス噴出管から噴出
された有害ガスが各ガス噴出管の前方に配置された他のガス噴出管に衝突するよ
うに導かれるように，タワー内に充填された浄化液の渦流に噴出し，従って，各
ガス噴出管の噴出方向の略垂直方向にはね飛ばされて，微小サイズのガス気泡を
形成し，前記ガス気泡は，前記浄化液の渦流と共に対流し，従って，ガスの有害
物質が前記浄化液中に活発に吸収及び溶解する，工程を有することを特徴とする
有害ガスの浄化方法。 - 【請求項２】 前記ガス気泡は，互いに衝突するように導かれ，従って，ガ
スの有害物質が前記浄化液中により活発に吸収及び溶解することが可能な付加的
な渦流を形成する，ことを特徴とする請求項１に記載の有害ガスの浄化方法。 - 【請求項３】 浄化液タワーと，前記タワー内の下部中央位置に設置され，
タワー内の必要な浄化液レベルを維持するために使用されるオーバフロータンク
と，前記タワーの底部壁に形成され，予め設定された浄化液量をタワーから排水
するために使用される排水ポートと，前記タワー内に規則的に垂直に設置され，
浄化液をタワー内にスプレイするために使用される複数の浄化液スプレイ管と，
全ての液体スプレイ管と接続され，浄化液を浄化液スプレイ管に供給するための
液体ポンプと，タワーの側壁外部の周囲に形成される輪状の供給ダクトと，及び
，ガス供給ダクトからタワー内に放射状に内部方向に延びており，有害ガスをタ
ワー内の浄化液の渦流に噴出するために使用される，複数のガス噴出管と，を有
する有害ガスの浄化装置であって，前記ガス噴出管は，タワー内の少なくとも１
つの水平面上に配置され，前記各ガス噴出管の側壁の２つの縦直線に沿って規則
的に形成される複数の上部及び下部ガス噴出ノズルを有し，各ガス噴出ノズルの
上部及び下部ノズルは，各ガス噴出管の前方に配置されて，有害ガスを他のガス
噴出管上に噴出し，有害ガスが各ガス噴出管のガス噴出方向の略垂直方向にはね
飛ばされる，ことを特徴とする，有害ガスの浄化装置。 - 【請求項４】 前記ガス噴出管は，タワー内の２以上の水平面上に配置され
，従って，多層ガス噴出管が形成され，ガス噴出管から噴出されたガス気泡は，
互いに衝突するように導かれて，付加的な渦流を形成する，ことを特徴とする，
請求項３に記載の有害ガスの浄化装置。 - 【請求項５】 前記浄化液スプレイ管は，水平配置されたガス噴出管の間の
位置に複数の液体スプレイノズルを有する，ことを特徴とする，請求項３に記載
の有害ガスの浄化装置。
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN101822942B (zh) * | 2010-05-26 | 2012-09-19 | 刘阳生 | 一种固体废物焚烧烟气中二噁英、重金属湿法净化方法 |
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| CN109569210A (zh) * | 2019-02-01 | 2019-04-05 | 王全龄 | 二恶英消除系统 |
| CN109793279A (zh) * | 2019-03-29 | 2019-05-24 | 曾德润 | 一种裂泡净化水烟、应用及裂泡式气体净化方法 |
| KR102266333B1 (ko) * | 2021-04-29 | 2021-06-18 | 주식회사 호원 | 가스 미세화 기능을 갖는 탈취 장치 |
| CN113307352B (zh) * | 2021-06-07 | 2023-09-26 | 华东理工大学 | 一种强化含硫废水氧化的装置及方法 |
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|---|---|---|---|---|
| KR910002321Y1 (ko) * | 1987-06-03 | 1991-04-11 | 문홍식 | 도어클로저의 도어개방각도 조절장치 |
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-
1999
- 1999-01-28 KR KR1019990002785A patent/KR100274815B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-01-25 WO PCT/KR2000/000054 patent/WO2000044473A1/en active Application Filing
- 2000-01-25 AU AU23295/00A patent/AU2329500A/en not_active Abandoned
- 2000-01-25 JP JP2000595765A patent/JP3372246B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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