JP2002525436A5

JP2002525436A5 -

Info

Publication number: JP2002525436A5
Application number: JP2000572423A
Authority: JP
Filing date: 1999-09-23
Publication date: 2006-10-19
Anticipated expiration: 2019-09-23

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】面平行フレークを製造するための装置であって、
大気圧よりも低い圧力が形成される蒸着チャンバと、
前記蒸着チャンバの少なくとも一部を通るエンドレス軌道上を可動な基材と、
前記基材の上に分離剤を適用するために前記蒸着チャンバ内に設けられる第１の蒸発手段と、
前記分離剤が適用された基材に少なくとも一つの層を適用するために、前記蒸着チャンバ内に設けられる第２の蒸発手段と、
前記蒸着チャンバ内よりも高い圧力と、大気圧よりも低い圧力とが形成されるストリッピングチャンバと、
前記適用された分離剤が溶解した状態で存在しまた前記少なくとも一つの層が面平行フレークの形で存在するサスペンジョンを形成するために、前記ストリッピングチャンバに設けられたストリッピング手段と、
を有する装置。
【請求項２】前記基材が、ステンレススチール合金と、ニッケルと、別の金属の電気蒸着あるいは熱硬化性あるいは熱可塑性材料の有機保護コーティングを有する金属と、ポリアミドフィルムとから成るグループから選択される材料で形成される請求項１記載の装置。
【請求項３】前記基材が20〜2000μmの厚みを有する請求項２記載の装置。
【請求項４】前記蒸着チャンバと前記ストリッピングチャンバとの間に、動的にポンピングされるロックが設けられている請求項１記載の装置。
【請求項５】面平行フレークを製造するための方法であって、
（ａ）大気圧よりも低い圧力でエンドレスな基材に分離剤を蒸着して、エンドレス基材に分離剤層を形成する段階と、
（ｂ）大気圧よりも低い圧力で分離剤層の上に少なくとも一つの層を蒸着する段階と、
（ｃ）前記分離剤の層を溶剤中で溶解して、前記少なくとも一つの層が面平行フレークの形で存在するようなサスペンジョンを形成する段階と、
を有し、前記段階（ｃ）が、段階（ａ）及び（ｂ）における圧力よりも高くて大気圧よりも低い圧力で実行される方法。
【請求項６】前記分離剤が第１の分離剤であり、前記分離剤層が第１の分離剤層であり、前記段階（ｂ）が、
（ｂ．１）前記第１の分離剤層の上に第１の層を蒸着する段階と、
（ｂ．２）この第１の層の上に第２の分離剤を蒸着して、第２の分離剤層を形成する段階と、
（ｂ．３）前記第２の分離剤層の上に第２の層を蒸着する段階と、
を有し、第１及び第２の層が前記段階（ｃ）で形成されたサスペンジョン中に存在する請求項５記載の方法。
【請求項７】前記溶剤が水を含んでおり、前記分離剤が高真空中で分解せずに蒸発可能な水溶性の物質であり、前記少なくとも一つの層が金属及び別の蒸発可能な物質を有している請求項５記載の方法。
【請求項８】前記基材が、ステンレススチール合金と、ニッケルと、別の金属の電気蒸着あるいは熱硬化性あるいは熱可塑性材料の有機保護コーティングを有する金属と、ポリアミドフィルムとから成るグループから選択された材料で形成される請求項５記載の方法。
【請求項９】前記段階（ｂ）が、前記分離剤上に第１の層及び少なくとも第２の層を蒸着する段階を有しており、前記分離剤が前記第１の層と前記少なくとも第２の層との間に介在している請求項５の方法。