JP2002518543A - ミクロ複製されたトポグラフ構造を有するクリングフィルムとその製造および使用方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 ミクロエンボス加工したパターンをフィルム層に接触させることにより、ミクロ複製されたトポグラフ構造を有するフィルムを製造する。そのフィルム層と支持基材との間に接着界面が形成されると、フィルム表面が有するそのトポグラフ構造がその接着界面の性能を制御する。ミクロチャネルを設けて有効期間の間流体を排出できる利点を備えた、ミクロ複製フィルム表面を有する物品も開示されている。複数のミクロエンボス加工パターンを用いると、流体排出用のミクロチャネルと改良されたフィルム性能用のぺグとを有するミクロ複製フィルム表面を製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 発明の分野 本発明は、ミクロチャネルを含む制御されたトポグラフ構造表面を有するクリ
ングフィルムとその製造および使用方法とに関する。

【０００２】 発明の背景 静電クリングフィルムとしても周知のクリングフィルム（ｃｌｉｎｇ ｆｉｌ
ｍ）は、窓および平滑な表面に適用されて、標示（ｓｉｇｎａｇｅ）あるいは、
日除けフィルムなどの他の機能的用途として一時的に使用されるものである。こ
の平滑な可撓性フィルムは、それ自体が有する接着力により十分な保持と同時に
容易な着脱とができるようになっている。適用時には、フィルム面を基材に接触
すれば瞬時に接着することができる。ただし平滑な表面全体に一様に接触させよ
うとしても、気泡や大きなエアロゾルポケットを取り込んでしまうことが多く、
これらは簡単には排除去できないものである。

【０００３】 壁紙を貼る経験をしたことのある人であれば、フィルムの下に入り込んだ空気
をなかなか取出せない時の苛立たしさも理解できるであろう。この問題の解決法
として最も一般的なものは、フィルムを剥離して再度適用する、あるいはフィル
ムに穴を開けて貼り込んだ空気を逃すことである。ただし基材に同じフィルムを
何度も接着しようとすれば、フィルムの外観が損なわれる可能性がある、あるい
はその基材に対して平坦ではなくなるあるいは位置がずれる可能性も高くなり、
フィルムを穿孔すればその外観が損なわれる。気泡を除去することも面倒な作業
である。

【０００４】 クリングフィルムについて、この問題に対するこれまでの一般的な対処法はフ
ィルムを剥離して再度適用することであるが、これはフィルムを汚す可能性があ
る。しかも気泡のいくつかを押出そうとしても、通常その効果には限度がある。
この問題の別の対処法として、適用前に基材あるいはフィルムを湿潤させること
が挙げられるが、これでは、適用の美観程度を許容範囲と認めるとしてもフィル
ムが表面を鉛直方向に摺動しがちである。基材にテクスチャを施し、適用の際に
流体を排出させることも考えられるが、テクスチャ表面では、その接触面積が十
分ではなく、クリングフィルムが所望期間の間粘着し続けられない可能性がある
。したがって、従来技術ではこの問題に対して良い解決法がない。

【０００５】 発明の概要 クリングフィルムの構造および適用に関する従来技術における問題を、フィル
ムの一方の主面に工夫してトポグラフ構造（ｔｏｐｏｇｒａｐｈｙ）を施すとい
う本発明により解決する。

【０００６】 クリングフィルムの表面にトポグラフ構造を施す際、望ましくは以下の要素を
考慮に入れるべきである。 （１）クリングフィルムに溝を具備していないと、特にフィルムが流体に対し
て不透過性である場合、フィルムと基材との間の界面でのＸ−Ｙ方向に流体を排
出する有効な経路が得られない。しかし、その溝が太すぎると、流体排出路が、
その流体あるいは他の流体に対して侵入路ともなる可能性がある。 （２）フィルムが含む溝の寸法を制限し、その形成方法にも制約を設ければ、
フィルム、特にその画像処理可能な外面が、選択したトポグラフ構造により悪影
響を受けることはないはずである。このフィルムには、画像処理および他の美観
上の理由から少なくとも１つの平坦かつ一様な表面が必要である。このフィルム
の反対側の主面に大型の溝を設けると、このフィルムの画像処理に使用する平坦
かつ一様な表面を乱すことになる。さらに、設けるトポグラフ構造の寸法が大き
すぎると、最終的に貼付した基材上におけるフィルムの外観に不当な起伏あるい
は他の不備が生じる。画像グラフィックにこのような起伏あるいは他の不備点が
あれば、大半の商業市場には、安価なクリングフィルム市場にさえも受け入れら
れないものとなってしまう。 （３）基材に実際に接触するクリングフィルムの面積とクリングフィルムの保
持力（例えば剪断及び剥離のクリング力）とが、基材に対するフィルムの接着性
能を左右する。保持力が低すぎるあるいはフィルムの接触面積が小さすぎる、ま
たはこれら２つの条件が重なっていれば、接着剤を使用せずにこのクリングフィ
ルムを接着しようとしても、その性能は全く不充分である。フィルムが基材に接
触する部分では、その接触状態は実質的に平坦でなければならない。

【０００７】 大型グラフィックに気泡および流体排出問題が関わることは容易に理解できる
が、経済面あるいは製造面の観点から適用速度が重要である小型グラフィックお
よび転写物にもこれらの問題は存在する。

【０００８】 Ｚ軸方向での流体排出が事実上なされないフィルムの場合は、この流体排出問
題は一層深刻である。

【０００９】 上記に列挙した３つの要素を鑑みて流体排出を制御する方法でクリングフィル
ムを簡便、迅速かつ均一に基材に適用できるようにする別の手法が、従来技術に
は明らかに必要である。従来技術には実際、フィルムの表面形状に設計を施して
、フィルムと基材との間の特定性能が必要な界面に、制御したトポグラフ構造を
設けることが必要である。さらに従来技術では、所望期間の間、基材に粘着する
フィルムの本質的な性能を損なうことなく流体の排出を制御できるクリングフィ
ルムを製造する必要がある。

【００１０】 本発明は、クリングフィルムとガラスなどの基材との間に封入された空気の問
題を、クリングフィルムの装着面上に、ミクロチャネルを設けたトポグラフ構造
を組入れることにより解決する。このトポグラフ構造は、周知のエンボス加工、
成形方法あるいはコーティングミクロ複製方法により、製造中に付与することが
できる。比較的平坦なクリング面を基材に接触する場合、細い溝を設けると空気
あるいは他の流体を排出することができる。さらに、細い溝であれば、基材に粘
着するというクリングフィルムの本質的な性能に悪影響を及ぼすこともない。

【００１１】 ミクロチャネルの形成に選択するパターンとして、正方形、ダイヤモンド、六
角形あるいは、丸、三角、台形あるいは長方形のいずれかである形状と平行なパ
ターンが可能である。パターンの寸法はクリングフィルムの厚さに依存し、幅約
０．１ｍｍ未満×深さ２５μｍ未満まで細くして軟性能設計を提案することがで
きる。ミクロチャネルの合計面積は、実質的な粘着ビニル部分の削減量を比較的
少なくして十分な接着面を提供できるように調節することができる。

【００１２】 本発明について、その具体的な性能として、画像処理を施すために平坦かつ一
様でなくてはならない画像処理可能な外面に所望する外観を損なうことなく、フ
ィルムと基材との間の界面のＸ−Ｙ方向に流体排出を行うことを含む必要がある
。さらに、流体の排出性と「クリング（付着）する」接合強度とのバランスをと
りながら界面を保持する、すなわち確実にフィルムがガラスにクリングし続けら
れるようにしなければならない。

【００１３】 本発明の一態様により、ミクロエンボス加工したパターンをクリングフィルム
の主面に接触させて複製表面を形成することにより、フィルムとそれを支持する
基材との間に界面が形成されるとき、そのフィルム表面のトポグラフ構造が、フ
ィルムとそれを支持する基材との間の界面の性能を制御することを含む、クリン
グフィルムのトポグラフ構造を制御する手段が得られる。

【００１４】 「クリングフィルム（付着フィルム、ｃｌｉｎｇ ｆｉｌｍ）」とは、支持す
る基材に適用すると、フィルムと基材との間に接着剤を適用せずとも、静電相互
作用によりその基材に付着する十分な性能を少なくとも１主面上に有するポリマ
ーフィルムのあらゆる形態を意味する。

【００１５】 本発明の別の態様により、成形、コーティング、あるいは圧縮技術などの接触
技術のいずれかによりミクロ複製して形成されたミクロ複製フィルム表面が得ら
れる。ミクロ複製は、（１）ミクロエンボス加工したパターンを有する工具を使
用して成形あるいは押出すこと、（２）そのミクロエンボス加工したパターンを
有する剥離ライナ上にフィルムをコーティングすること、あるいは（３）ニップ
ロール内を通過させることにより、フィルムをそのエンボス加工したパターンを
有する剥離ライナに対して圧縮すること、の少なくともいずれかにより実施可能
である。所望のエンボス加工トポグラフ構造は、数多くの周知の手法のいずれか
を用いて工具に形成することができ、その手法は工具材料および所望するトポグ
ラフ構造の特徴などに依存して選択する。その例として、エッチング（例えば化
学エッチング、機械エッチング、あるいはレーザアブレーションあるいは反応イ
オンエッチングなどの他の剥離手段によるもの）、フォトリソグラフィ、ステレ
オリソグラフィ、ミクロ機械加工、ローレット法（例えばローレット切りあるい
は酸強化ローレット）、刻み目付けあるいは切断などが挙げられる。

【００１６】 ミクロ複製したトポグラフ構造を、フィルムの少なくとも一方の主面上に設け
、任意に両方の主面上に設けることができる。フィルムの反対側に位置するそれ
ぞれの表面が界面（単数あるいは複数）の性能に与える作用は、当業者の所望に
応じて、同一でも異なっていてもよい。

【００１７】 ミクロエンボス加工を施したライナを使用する場合、このライナには、剥離ラ
イナ（接着剤用の剥離自在な保管ライナあるいは、フィルムを異なる位置間に移
動する移転ライナなど）あるいは自動巻取りロール上のテープ支持体を使用する
ことができる。このテープ支持体もライナとして利用可能であり、テープが解か
れると、テープ支持体のミクロエンボス加工表面が、曝露されたフィルム表面に
ミクロ複製を施すようになっている。

【００１８】 「ミクロエンボス加工」とは、連続フィルムの厚さ未満の深さの形成に有効な
立体パターンを有するライナあるいはキャスティング工具上のトポグラフ構造を
いう。このパターンは、相互連結されていても、あるいは連続的に平行状態であ
ってもよい。

【００１９】 「相互連結」とは、ミクロエンボス加工パターンの少なくとも２つの立体的構
成部分が交差することにより、フィルム表面におけるそのような立体構成部分の
逆であるミクロ凹部が交差していることをいう。

【００２０】 「ミクロ複製されたフィルム（ｍｉｃｒｏｒｅｐｌｉｃａｔｅｄ ｆｉｌｍ）
」とは、少なくとも一方の主たる連続表面にトポグラフ構造を有し、それはフィ
ルム表面が接触され少なくとも約３５％の接触面積を有するミクロエンボス加工
パターンの、完全である必要はないが本質的に裏返しのトポグラフ構造であるフ
ィルムをいう。

【００２１】 「パターン」とは、ユークリッド幾何学およびフラクタル幾何学を含むがこれ
らに限定しないすべての幾何学の理論を利用可能なエンボス加工のあらゆる構成
をいう。

【００２２】 任意に、ミクロエンボス加工パターンを複数にすることができる。「複数」と
は、２種類以上のエンボス加工パターンを工具あるいはライナ上に重ね合わせて
、エンボス加工による異なる深さあるいは高さを有する複合パターンを形成し、
異なる深さあるいは高さを含む複合パターンを有するミクロ複製フィルムを形成
することをいう。

【００２３】 本発明による別の態様は、本発明によるミクロ複製クリングフィルムを有する
物品である。

【００２４】 本発明によるミクロ複製フィルムの製造に使用するミクロエンボス加工を施し
たライナ、工具あるいはニップロールにより、多数のミクロエンボス加工パター
ン、多くのエンボス加工、およびさまざまな利用可能材料を利用した膨大な量の
ミクロ複製の組み合わせが得られる。

【００２５】 本発明によるミクロ複製フィルムの１つの特徴は、エンボス加工されたパター
ンが、所期使用に際して有効期間の間ミクロ複製フィルム上に保持されることで
ある。このミクロ複製の保持期間は、選択したフィルムのレオロジーおよび適用
条件に依存して、分単位から年単位までの範囲で変化可能である。流体の排出は
、限定された時間にのみ所望可能である。

【００２６】 本発明は、フィルムに立体的なトポグラフ構造を提供するのみでなく、クリン
グ性ビニル材料の特異な性能を有することから、その流動特性を設計することが
できる。したがって、本発明は、ポリマーの化学的性質および基材適用技術を有
効に利用して、第４の次元すなわち、基材適用後、フィルム表面の立体構造がど
れだけの時間継続するかを制御することも考慮している。そのトポグラフ構造は
永久的である必要はない。例えば、十分な流体排出が完了した後、フィルムと基
材との間の界面のいずれかの部分が崩壊すると望ましい場合もある。

【００２７】 ミクロ複製による接着性トポグラフ構造の別の特徴は、大型画像グラフィック
からのエアブリード、プラスチック材料からの可塑剤移行経路および、接着剤表
面からのＺ軸方向ではなく、界面のＸ−Ｙ方向における流体の移送が必要である
他の用途など所望する使用向けに、界面の設計を制御できることである。言いか
えれば、フィルム界面の空気力学を所望に応じて設計することができる。

【００２８】 複数のミクロエンボス加工パターンを利用する場合、このミクロ複製フィルム
の任意特徴の１つは、米国特許第５，２９６，２７７号および同第５，３６２，
５１６号（どちらもＷｉｌｓｏｎ他に付与）、同第５，１４１，７９０号（Ｃａ
ｌｈｏｕｎ他に付与）および同第５，７９５，６３６号（Ｋｅｌｌｅｒ他に付与
）に開示されているような接着剤の位置決め能（ｐｏｓｉｔｉｏｎａｂｉｌｉｔ
ｙ）など、複合フィルム使用向けにトポグラフ構造内の異なる深さを有する凹部
に投入する材料の種類を制御できることである。

【００２９】 本発明の利点の１つは、別の材料に移動あるいは接着されると制御期間の間、
特定の所期使用に利用可能となるように設計したクリングフィルム表面を形成で
きることである。

【００３０】 本発明のもう１つの利点は、このクリングフィルムが、基材にクリング（付着
）される際にその外観を損なうことなく効率良く流体を排出できるクリングフィ
ルムであることである。

【００３１】 本発明の別の利点は、フィルムの具体的な組成物あるいは配合物とは無関係に
、付着表面の平面から、気体、封入された空気、可塑剤あるいは湿気などの流体
をフィルム表面（単数あるいは複数）が排出できることである。

【００３２】 本発明の別の利点は、その性能上の理由、装飾上の理由、あるいはこれら双方
の理由から、フィルムの互いに反対側に位置する主面のそれぞれに同じあるいは
異なる接着性トポグラフ構造を形成できることである。例えば、一方のフィルム
界面では１設計トポグラフ構造により可塑剤を流入させ、反対側の主面では第２
の設計トポグラフ構造により流体を排出させることが可能である。

【００３３】 本発明の別の利点は、所望時間にフィルム表面（単数あるいは複数）内に流体
を調節しながら流入することにより、これを着脱可能とする、その表面特徴を変
更する、矯正処理を追加することなど、界面（単数あるいは複数）に対して影響
を及ぼすことができるようになる点である。

【００３４】 他の特徴および利点は、以下に図面を参照しながら説明する本発明の実施態様
により明白になるであろう。

【００３５】 発明の実施態様 パターンをクリングフィルムの表面（単数あるいは複数）に適用するに際し、
国際特許出願第ＷＯ９８／２９５１６号および同第ＷＯ９８／２９２３１号の開
示内容を用いることができる。

【００３６】 図１は、ライナあるいは工具上に形成可能な複合トポグラフ構造の一例を示し
たものである。この走査型電子顕微鏡写真は、エンボス加工による第１のパター
ン２４および任意にエンボス加工による第２のパターン２６を具備する表面２２
を有する平面あるいは円柱状の工具２０を示している。工具が平面状であればバ
ッチ式エンボス加工処理に使用可能であり、円柱状（例えばベルトあるいはドラ
ム）であれば連続式エンボス加工処理に使用可能である。フィルムをこの工具上
で注型することができる。別の方法として、このパターンの逆トポグラフ構造を
ライナ上に形成し、これを用いてフィルムを流延してもよい。どちらの場合も、
フィルム表面に設計および制御したトポグラフ構造を施すことができる。

【００３７】 図１を注意して見ると、パターン２４は、比較的平坦な陸部２７、すなわち工
具２０の初期表面２２から一段低くなっている大きな正方形と、エンボス加工処
理により陸部２７から移動した材料により形成された隆起部２８とを含むことが
わかる。パターン２６が陥没部２９の配列を形成している。

【００３８】 複数のエンボス加工パターンを所望する場合、製造処理ではエンボス加工の順
序を逆にして、必要となるパターン（単数あるいは複数）が最後にくるようにす
る。二重にエンボス加工する工具２０の製造では実際に、第２のエンボスパター
ン２６をまず形成した後、２番目に、必要とされている第１のエンボスパターン
２４を形成しなくてはならない。この２種類のエンボスパターンを製造する合間
に、米国特許第５，２９６，２７７号（Ｗｉｌｓｏｎ他に付与）に開示されてい
るような方法で、ガラスビーズなどの所望材料を任意の第２のエンボスパターン
２６内に投入することができる。

【００３９】 こうして得られる複合ミクロエンボス加工を施した工具２０は、合計面積「Ｔ
」、パターン２４のエンボス加工時に形成された陸部２７の第１の面積「Ａ」、
およびパターン２４のエンボス加工時に形成された隆起部２８の面積「Ｂ」を有
し、陥没部２９の面積「Ｃ」は陸部２７および隆起部２８の双方に属している。
したがって、Ｔ＝Ａ＋Ｂであり、かつ面積Ｃのすべてが面積ＡあるいはＢまたは
これら双方の面積内に含まれる。

【００４０】 複数のパターンは互いに重なり合うとの認識がある業界での要望にしたがって
、パターン２４および２６を変更することができる。例えば、図１では、パター
ン２４を形成するための工具上の個々の突起部が互いに交差していないため、陸
部２７は不連続状である。同様に、パターン２６を形成するための工具上の個々
の突起部が互いに交差していないため、陥没部２９は不連続状である。

【００４１】 パターン２４から得られるトポグラフ構造は互いに分離している陸部２７であ
り、パターン２６から得られるトポグラフ構造は互いに分離している陥没部２９
である。相互連結している隆起部２８は、分離された陸部２７をエンボス加工し
たことによる副産物である。

【００４２】 形成に使用する工具（単数あるいは複数）のトポグラフ構造は、ミクロ複製フ
ィルム表面が具備する最終トポグラフ構造を裏返した彫像であるため、工具２０
を、工具（単数あるいは複数）の彫像をミクロ複製フィルムに転写するための逆
彫像として利用することができる。したがって、工具２０をエンボス加工する工
具（単数あるいは複数）のトポグラフ構造（単数あるいは複数）は、本質的にミ
クロ複製フィルムのトポグラフ構造である。

【００４３】 フィルムを直接エンボス加工する場合、エンボス加工工具（単数あるいは複数
）が含むトポグラフ構造は、フィルムのトポグラフ構造とは逆の彫像である。

【００４４】 図１でわかるように、パターン２４および２６から製造されるフィルムの実施
態様について、陸部２７の表面２２に対する（Ｔに対するＡの）面積比率として
は約３５％〜約９９％の範囲が可能である。この比率が約５０％〜約９８％であ
れば望ましく、約６０％〜約９７％であれば好ましい。この比率が約７０％〜約
９６％であればより好ましく、Ｔに対するＡの比率を約８５％〜約９５％として
、支持基材に対する接着力に悪影響を及ぼさずに適切な流体排出が可能となれば
最も好ましい。言いかえれば、Ｔに対するＡの比率が、支持基材に対するミクロ
複製フィルムの接触面積を本質的に特定する。相互連結した隆起部２８の表面２
２に対する（Ｔに対するＢの）面積比率はそれぞれ、それぞれの残りの比率であ
る。この段落に記載した比率内で操作する限り、クリングフィルムに用いるポリ
マーを適切に選択していればクリングフィルムの基材に対する粘着力を損なうこ
とはない。

【００４５】 陥没部２９の表面２２に対する（Ｔに対するＣの）面積比率としては、約１％
〜約７０％の範囲が可能である。この比率が約２％〜約２５％であれば好ましく
、Ｔに対するＣの面積比率が約３％〜約１５％であれば最も好ましい。

【００４６】 工具２０について記したこれらの比率により、ミクロ複製フィルムが具備する
逆のトポグラフ構造もおよそ同じ比率を有することになる。しかしながら、陥没
部２９の容積あるいはこれらの陥没部を得るために用いる形状の形成に際して、
陥没部２９の面積に関するこれらの比率は本発明を制限するものではない。言い
換えれば、陥没部２９は、上記の面積比率内であれば、当業者が所望するいずれ
の立体幾何学形状であってもよい。

【００４７】 パターン２４をエンボス加工して陸部２７を形成すると、材料が移動して隆起
部２８が形成される。山の形成と同様に、大量の陸部材料の移動により、隆起部
２８が表面２２から盛上るのである。陸部のエンボス加工により得られる深さは
数マイクロメートルのみであるが、表面２２から盛上る隆起部の高さは約３〜約
７５μｍであり、約５〜約５０μｍであれば好ましく、約６〜約４０μｍであれ
ば最も好ましい。

【００４８】 エンボス加工により得られる任意パターン２６の深さは約４〜約２００μｍで
あり、約８〜約１００μｍであれば好ましく、約１０〜約３０μｍであれば最も
好ましい。パターン２６のエンボス加工はパターン２４のエンボス加工前である
ことから、ここで特定する深さは、双方のエンボス加工による累積結果であり、
必ずしもエンボス工具の高さであるとは限らない。

【００４９】 さらに、エンボス加工を施す工具２０に粘弾性性能があるため、必要なエンボ
ス加工工具の寸法は、所望のエンボス加工の深さを超えていてもよいことは当業
者には明白のはずである。

【００５０】 パターン２４、パターン２６、あるいはこれらの組合わせに対するエンボス加
工の「側壁部」は、一定の極率半径から、パターン２４あるいは２６内に少なく
とも２表面を含む多角形まで所望通りいずれの形状でもよい。断面におけるエン
ボス加工形状の例として、湾曲、長方形、台形、三角形、複峰形などが挙げられ
るがこれらに限定するものではない。米国特許第５，２９６，２７７号（Ｗｉｌ
ｓｏｎ他に付与）には、ミクロ複製フィルム内にぺグを設けるために陥没部２９
の形成時に考えられるさまざまな形状の幾例かが記載されている。

【００５１】 パターン２４、パターン２６あるいはこれらの組み合わせのいずれにおけるエ
ンボス加工においてもその幅は必要に応じて変更可能である。例えば、図１にお
いて、陸部２７および陥没部２９を形成するエンボス加工の幅は表面２２では比
較的均一である。しかしながら、分水界の支流構造と同じように、流体を排出す
るように表面２２全体にわたりパターンを変化させることができる。

【００５２】 例えば、流体排出用にミクロチャネルを形成するには、パターン２４を有する
工具２０を使用して、その底部における最終的な幅が粘弾性が平衡点に達した後
約４００μｍ未満、好ましくは約５０〜２００μｍとなる隆起部２８を形成すれ
ばよい。図１の隆起部２８の幅は約１００μｍである。

【００５３】 工具２０が具備するトポグラフ構造の形成に際して、さまざまな機械加工技術
を利用することによりその精度を実現することができる。工作機械工業では、当
業者が所望するいずれのパターンを備えた工具も形成可能である。ステップ数に
関わらず、エンボス加工突起が備えるいずれのパターンの寸法、形状および深さ
を用いてユークリッド幾何学パターンを形成してもよい。

【００５４】 所望するパターン付けステップの採り方により、工具類の種類は平面プレスか
ら円柱ドラムおよび他の曲線形状までにおよぶ。

【００５５】 工具源の例として、フォトリソグラフィ印刷版およびシリンダ、精密写真印刷
版およびシリンダ、レーザ加工版およびシリンダなどの商業上の供給源が挙げら
れるがこれらに限定するものではない。

【００５６】 フィルムをさまざまな従来のポリマーフィルム系から選択して、本発明による
所望トポグラフ構造を得ることができる。この利点により、電位記録法、インク
ジェット、スクリーン印刷、フレキソ印刷、電子切断、あるいは他の像処理ある
いは印刷技術などのいずれの商業技術を用いてもフィルムに画像処理を施すこと
ができる。

【００５７】 フィルムの例として、ポリ塩化ビニルフィルム（可塑性あるいは可撓性を問わ
ず）、ポリウレタンフィルム、高密度ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフ
ィルム、二軸配向ポリプロピレンフィルム、粘着付与直線形低密度ポリエチレン
フィルム、アクリロニトリル／ブタジエン／イソプレンフィルム、アクリロニト
リル／ブタジエンコポリマー、スチレン／ブタジエンコポリマー（ランダムコポ
リマーあるいはブロックコポリマーを問わず）、スチレン／イソプレンコポリマ
ー（ランダムコポリマーあるいはブロックコポリマーを問わず）、スチレン／エ
チレンブチレンブロックコポリマー、およびこれらの組合わせ、ならびにクリン
グフィルムの製造に従来技術において周知の他のフィルムが挙げられるがこれら
に限定するものではない。このフィルムの化学的性質およびポリマー物性を利用
して、本発明による３次元を有するミクロ複製フィルムの第４の次元、すなわち
耐久期間を制御することができる。フィルムのクリープコンプライアンスなどの
レオロジーを理解しておくと、適用後にミクロチャネルが閉じる速度、あるいは
閉じるかどうかを制御しやすくなる。

【００５８】 このフィルムに複合組成物を用いることができる。フィルムのパターンコーテ
ィングについては国際特許出願第ＷＯ９６／１５７１５号（Ｙａｓｉｓ他に付与
）に見られる。

【００５９】 例えば、所与フィルムに対して複数の異なるレオロジー性能を具備したい場合
、例えば同心状にフィルム層をパターンコーティングして、ミクロチャネルの特
定部分を閉じる速度を制御することができる。支流型の形態では、パターンコー
ティングされたフィルム表面の比較的内部で、流動が迅速であり流体流入に対し
てミクロチャネルも閉鎖するが、表面の比較的周辺部におけるミクロチャネルは
、フィルム界面内部から周辺部に向けて流体を「排水」し続ける。

【００６０】 工具２０を使用する場合、これは、ミクロ複製パターンをエンボス加工する当
業者に周知の金属性あるいはポリマー製プレートあるいはシリンダ、あるいはベ
ルトであればいずれでもよい。

【００６１】 ライナを使用する場合、このライナは、当業者に周知の、フィルムと併用でき
、ミクロエンボス加工が可能な剥離ライナあるいは転写ライナであればいずれで
もよい。ライナの例として、ミネソタ州セントポールの３Ｍから販売されている
さまざまな商業用材料および、イリノイ州ＯａｋｂｒｏｏｋのＲｅｘａｍ Ｒｅ
ｌｅａｓｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎあるいはイリノイ州Ｗｅｓｔｃｈｅｓｔｅ
ｒのＤａｕｂｅｒｔ Ｃｏａｔｅｄ Ｐｒｏｄｕｃｔｓなどの他の商業用製造業
者によるライナ製品が挙げられるがこれらに限定するものではない。これらのラ
イナは通常、商業用シリコーン剥離コーティングを施したポリエチレンコーティ
ング紙、商業用シリコーン剥離コーティングを施したポリエチレンコーティング
ポリ（エチレンテレフタレート）フィルム、あるいはフィルム製造時にパターン
（単数あるいは複数）をエンボス加工し、その後商業用シリコーン剥離コーティ
ングを施した成形ポリオレフィンフィルムである。他に有用なライナは、Ｃａｌ
ｈｏｕｍ他およびＷｉｌｓｏｎ他に付与された特許で確認することができる。

【００６２】 別の方法として、フィルムの両方の主面を、同一あるいは異なる工具（単数あ
るいは複数）２０を用いてミクロ複製し、使用時の２つの異なるフィルム界面に
同一あるいは異なるフィルム性能特性を具備することもできる。

【００６３】 例えば、異なるフィルム界面に異なる種類の流体排出を所望することができる
。すなわち、一方の界面では気体を排出し、もう一方の界面では液体を排出する
ことも可能である。

【００６４】 発明の有用性 思いがけず、本発明のミクロ複製フィルム表面により、画像グラフィックフィ
ルムを改良することができる。本発明によるフィルム表面を有する画像グラフィ
ックフィルムを使用すると、フィルムのレオロジー（クリープコンプライアンス
、モジュラスなど）にしたがって予め定められた期間の間、確実に流体を排除す
ることができる。

【００６５】 例えば、当業者であれば、（ａ）適したフィルムを選択し、（ｂ）本発明によ
るトポグラフ構造を形成し、（ｃ）そのフィルムを支持基材に適切に適用するこ
とにより、流体の排出を制御しつつ、流体の流入を最小限にとどめることができ
る。これにより設置時にエアブリードし、その後はフィルムと支持基材との間の
界面をシールすることができる。

【００６６】 別の方法として、当業者であれば、異なるレオロジーのフィルムを選択するこ
とにより、そのフィルム表面のトポグラフ構造を最初の設置後もさらに長期間の
間保持させ、同一あるいは異なる支持体に複数回の設置を繰返す、あるいは流体
の排出に利用可能な経路を最大限にすることを可能にできる。

【００６７】 本発明のフィルム表面により、製造コストの削減、設置時の労働コストの削減
、およびフィルム界面の問題に必要となる整備コストの最小限化を図ることがで
きるため経済価値が向上する。

【００６８】 壁画類あるいはグラフィック類を支持基材に適用する際は通常、波面動作を用
いる。驚くべきことに、フィルムのミクロチャネルが、フィルムの基材への適用
時に流体排出を促進するだけでなく、一時的に高圧力を加える適用処理の後も継
続して存在して、残留するエアポケット用の流体排出経路となるため、これらの
グラフィックが本発明のフィルムトポグラフ構造を備えていると利点が得られる
。

【００６９】 他の特徴、利点および実施態様を以下の実施例内にて記載する。

【００７０】 実施例 １．１００部のポリ塩化ビニル（オハイオ州ＢｒｅｃｋｓｖｉｌｌｅのＧｅｏ
ｎ製）に対して約４２部のプラスチゾルジウンデシルフタレート可塑剤を含むプ
ラスチゾル５０ｇに、５ｇのＳａｎｔｉｃｉｚｅｒ７１１−Ｐ可塑剤（ミズーリ
州セントルイスのＭｏｎｓａｎｔｏ製）を添加した。この変性後のプラスチゾル
を、エッチングしたマグネシウム合金プレート上に厚い層として塗布した。この
プレート上には、２セットの平行な隆起部分が交差してダイヤモンド型格子パタ
ーンを形成している。この隆起部について、その中心間距離は１．２７ｍｍであ
り、その平坦な頂部（底部で丸みを帯びている）の幅は０．１５ｍｍであり、そ
の高さは名目上５０μｍであった。コーティングしたプレートを２０４℃のオー
ブン内に２分間配置し、冷却後、厚い半透明クリングフィルムをプレートから剥
離したところ、このクリングフィルムには、プレートの隆起部に対応して凹部と
なった溝のダイヤモンド型格子配列が形成されていた。このフィルムは部分的な
クリング性能を備えていた。このフィルムを手で窓ガラスに装着したところ、（
溝を介して横方向のエアブリードにより）気泡あるいはエアロゾルポケットを容
易に押出すことができた。

【００７１】 ２．４７．６ｇのプラスチゾルに１０．７ｇのＳａｎｔｉｃｉｚｅｒ７１１−
Ｐ可塑剤を添加し、この変性後のプラスチゾルを、Ｎｏ．７５Ｍｅｙｅｒコーテ
ィングロッドを用いて隆起部を備えたプレート上にコーティングした点を除き、
実施例１の手順にしたがったところ、良好なクリング性能を示す０．１９ｍｍ（
７．５ｍｉｌ）厚さの半透明フィルムが得られた。そのトポグラフ構造をＷＹＫ
Ｏ ＲＳＴ干渉計（アリゾナ州ＴｕｓｃｏｎのＷＹＫＯ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏ
ｎ製）および光学顕微鏡を用いて調べた。その溝の幅はフィルム面において約０
．３ｍｍ、平坦な底部において約０．１５ｍｍであり、深さは約４５〜４７マイ
クロメートルであった。エアポケットができるように（ただしフィルムに大きく
皺が寄ることは避けた）緩く窓ガラスに適用したところ、フィルムの下から横方
向にエアブリードして、エアポケットを容易に押出すことができた。

【００７２】 ３．第１の溶解ステップの後にプラスチゾルの層をもう１層加えてフィルムに
コーティングおよび融和した点を除き、実施例２を繰返したところ、０．２５４
ｍｍ（１０ｍｉｌ）厚さのフィルムを得た。同じようにフィルムを平坦な剥離ラ
イナ上で製造した。このミクロチャネルを備えたクリングフィルムを手でガラス
上に適用したところ、比較的容易に適用でき、ガラスに対して均一に接着できた
。このように接触させたフィルムの外観は、一様かつ滑らかで視覚的に許容され
るものであり、優れたクリング性能を有していた。比較例を適用したところ、そ
の適用は難しく、エアポケットが形成された。適用した比較例では多くの気泡を
取り込んでしまった。

【００７３】 ４．成形プレート上に、平行に連続して盛上っている２セットの隆起部を交差
して正方形格子パターンを設けた点を除き、実施例３を繰返した。中心間距離を
２．５４ｍｍ（すなわち、先の実施例では２０本であったのに比較して１０本／
ｉｎ）としたこれらの隆起部の幅は、その平坦な頂部で４０μｍであり、基部で
約８５〜１００μｍに広がり、その高さは３１μｍであった。融合したクリング
フィルムの一方の平坦面にはミクロ構造を含まず、もう一方の平坦面には、１０
本／ｉｎの割合で形成された、約３０μｍの深さ、約１００μｍの表面幅、約６
０μｍの底部幅である平行な凹部トポグラフ構造の溝が２セット交差していた。
このフィルムを平滑なガラス上に緩くかぶせたところ、気泡を封入せずにガラス
表面上に容易に平らに密着させることができた。フィルムを不均等に適用した際
に最初に形成されたエアポケットのいずれも容易に押し潰すことができた。こう
して適用されたフィルムは良好な均一の外観と、鉛直面に対する適用について良
好なクリング力とを示した。排気性能を損なうことなく、このフィルムを着脱お
よび再使用することも可能であった。

【００７４】 ５．商標名Ｎｉｐｏｌ ＤＮ−１２０１Ｌ（Ｚｅｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃ
ｏ．製）と同一である、アクリロニトリル３５重量％、ブタジエン５８重量％、
およびイソプレン７重量％を含むターポリマーを、２５重量％固形物濃度でメチ
ルエチルケトン内に溶解した。この溶融物を、表面内に隆起部をエンボス加工し
て設けたミクロリッジライナ上にコーティングした。この隆起部は名目上、１８
μｍの高さおよび９０μｍの幅を有し、中心間距離は１２７０μｍであった。こ
の溶液を湿潤状態のうちに名目上２００μｍの厚さでノッチバーコータを用いて
コーティングした後、６５℃で１０分間乾燥させた。得られたポリマーフィルム
は名目上５０μｍの厚さであり、ライナに接触するフィルム部分にミクロチャネ
ルを備えていた。このミクロチャネルは名目上、１８μｍの深さおよび９０μｍ
の幅を有し、中心間距離は１２７０μｍであった。このフィルムを、ガラス、金
属あるいは他のポリマーなどのさまざまな基材に接着することができた。ミクロ
チャネルを備えたことにより適用時に空気を逃すことができたため、フィルム下
に気泡を形成することがなかった。基材に依存して、このフィルムを永久的に接
着することも着脱自在とすることもできる。この現象については国際出願特許Ｐ
ＣＴ／ＵＳ９４／０２２３１にさらに詳しく説明されている。従来技術に対する
改良点は、ミクロチャネルを付加したことにより、フィルムを取り扱うためにフ
ィルム内あるいはフィルムの片面に適用する担体ウェブが無くても、Ｎｉｐｏｌ
ＤＮ１２０１−Ｌフィルムを直接適用できるようになったことである。これは
、原材料面および製造面の双方において大幅な費用削減が実現されたことを示し
ている。さらに、以上に記載してきた構造は従来技術に比較して薄く、追従性が
増しているため、広範囲の表面に適用可能となっている。

【００７５】 ６．実施例５で説明したフィルムを、米国ミネソタ州セントポールのＭｉｎｎ
ｅｓｏｔａ Ｍｉｎｉｎｇ ａｎｄ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｃｏｍｐａ
ｎｙが販売するＳｃｏｔｃｈＰｒｉｎｔ^TM転写方法により印刷した。実施例４に
よるライナ上のフィルム片およそ１５ｃｍ×３０ｃｍに、ＳｃｏｔｃｈＰｒｉｎ
ｔ^TM Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｍｅｄｉａ ８６０１の印刷片を、その印刷側をＮｉ
ｐｏｌ ＤＮ １２０１−Ｌフィルムに向けて加熱積層した。この構造物を、４
５ｃｍ／分の給送速度にて９６℃の３Ｍ Ｍｏｄｅｌ Ｃ ホットラミナネータ
内を４２６ｋＰａ（６４ＰＳＩ）で給送したところ、良好な転写が得られた。こ
うして得られた印刷済みフィルムを、グラフィック表示用に基材に適用すること
ができた。このグラフィックの製造に、他のフィルムあるいはコーティングは必
要ではなかった。

【００７６】 ７．ラミネータ内への給送速度を３００ｃｍ／分まで上昇した点を除き、実施
例６を繰返した。良好な転写が得られた。

【００７７】 ８．ＳｃｏｔｃｈＰｒｉｎｔ^TM Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｍｅｄｉａ ８６０３を
使用し、給送速度を１５０ｃｍ／分まで上昇した点を除き、実施例６を繰返した
。良好な転写が得られた。

【００７８】 給送速度を３８０ｃｍ／分まで上昇した点を除き、実施例８を繰返した。良好
な転写が得られた。

【００７９】 本発明は上記の実施態様により制限されるものではない。請求の範囲は別途記
載する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明のフィルム表面の製造に使用した、二重のミクロエンボス加工を施した
ライナあるいは工具の走査型電子顕微鏡写真である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ) ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ， ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，Ｄ Ｋ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ， ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，Ｌ Ｔ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ， ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，Ｕ Ａ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ Ｆターム(参考） 4F071 AA12X AA15 AA22X AA24 AA34X AA53 AA75 AA76 BB13 BC01 BC08 4J004 CA03 CA04 CA05 CC05 FA08

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 相互連結したミクロ複製表面を有するフィルム層を含む物品
   。
2. 【請求項２】 前記ミクロ複製されたフィルム表面が、異なる深さあるいは
   高さの複合パターンを有する請求項１に記載の物品。
3. 【請求項３】 異なる種類の材料が前記ミクロ複製されたフィルム表面上に
   含まれる請求項１または２に記載の物品。
4. 【請求項４】 前記フィルムのレオロジーにより、前記ミクロ複製されたフ
   ィルム表面が有効期間の間保持される請求項１〜３のいずれか１項に記載の物品
   。
5. 【請求項５】 支持基材と、該支持基材と前記ミクロ複製されたフィルム表
   面との間の界面とをさらに含み、該ミクロ複製されたフィルム表面が該界面から
   の流体排出を制御する請求項１〜４のいずれか１項に記載の物品。
6. 【請求項６】 前記層が、ミクロ複製されたフィルム表面とは反対側の主面
   をさらに含む請求項１〜５のいずれか１項に記載の物品。
7. 【請求項７】 前記ミクロ複製されたフィルム表面が、少なくとも２種類の
   ミクロエンボス加工パターンから形成される請求項１〜６のいずれか１項に記載
   の物品。
8. 【請求項８】 請求項１〜７のいずれか１項に記載の物品のトポグラフ構造
   を制御する方法であって、 ミクロエンボス加工パターンを前記フィルムの主面に接触させかつミクロ複製
   された表面を形成し、該フィルムと支持基材との間に界面が形成されるとき、該
   フィルム表面の該トポグラフ構造が、そのフィルムと該支持基材との間の該界面
   の性能を制御するステップを含む方法。
9. 【請求項９】 前記接触ステップが、成形技術、コーティング技術、および
   圧縮技術からなる群から選択される請求項８に記載の方法。
10. 【請求項１０】 前記ミクロエンボス加工パターンが、剥離ライナあるいは
    テープ支持体上に具備されている請求項８または９に記載の方法。
11. 【請求項１１】 前記ミクロエンボス加工パターンが複合的なミクロエンボ
    ス加工パターンであり、異なる種類の材料が、該複合的なミクロエンボス加工パ
    ターンが含む異なる深さの凹部内に導入される請求項８〜１０のいずれか１項に
    記載の方法。
12. 【請求項１２】 前記ミクロ複製されたフィルム表面を前記支持基材に接触
    させることにより、該フィルム表面と該支持基材との間の前記界面からの流体排
    出を制御できるようにする請求項８〜１１のいずれか１項に記載の方法。