JP2002515310A - カニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダを受容するための扁平なドレッシング部分を有するドレッシング - Google Patents

カニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダを受容するための扁平なドレッシング部分を有するドレッシング

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JP2002515310A JP2000549333A JP2000549333A JP2002515310A JP 2002515310 A JP2002515310 A JP 2002515310A JP 2000549333 A JP2000549333 A JP 2000549333A JP 2000549333 A JP2000549333 A JP 2000549333A JP 2002515310 A JP2002515310 A JP 2002515310A
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ヴォーンハス シュテファン
イェッケル ラルフ
ヨルダン ジルヴィア
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ゲーイーペー メディツィンテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
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Abstract

(57)【要約】 個体に固定するために予定された、保持板（Ｈｐ）を有するカニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダの受容を可能にする扁平なドレッシング部分（Ｖｔ）を有するドレッシングにおいては、ドレッシング部分（Ｖｔ）は縁からドレッシング部分（Ｖｔ）のほぼ中心まで延びる主スリットを有し、該主スリットに当該保持板（Ｈｐ）が受容され、場合によっては固定されかつ主スリットの両側に該主スリットに対し反対方向に延びる付加スリットを有するスリットの切られたドレッシング部分（Ｖｔ）であるか又はカニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダ（Ｈａ）がドレッシング部分（Ｖｔ）に埋設されているドレッシング部分（Ｖｔ）である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は、保持プレートを有し、個体に固定するために予定されたカニューレ
、ゾンデ又はカテーテルホルダを受容する扁平なドレッシング部分を有するドレ
ッシングに関する。
【０００２】 前記形式のドレッシングはいわゆるエルランゲル（Erlanger）ドレッシングと
して公知である。このドレッシングは通常はスリットの切られた４角形のMullco
mpressen-ドレッシング部分から成り、該ドレッシング部分はその縁からほぼ該
ドレッシング部分中央までのびるスリットを有し、このスリットの領域に前述の
ホルダもしくは該ホルダから突出するホースが受容されるようになっている。さ
らに時にはスリット端部に小さな開口を備えているか又は当該スリット端部が分
岐させられて短いフォーク状の切込みを形成していることができる。このドレッ
シング形態はしばしば、個体にカニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダを満足
できる状態で受容しかつ固定することを可能にしない。何故ならばドレッシング
部分材料が当該ホルダの受容後膨出し、ひいては当該ホルダを正しく包み囲むこ
とができないからである。
【０００３】 さらに排液ホースを受容しかつ固定するための扁平なドレッシング部分を有す
るドレッシングが公知である（ＷＯ９７／２１４５９）。この公知のドレッシン
グにおいては扁平なドレッシング部分の上に、排液ホースを受容しかつ案内する
ための受容部分が設けられてる。排液ホースは接着ストリップで当該保持部分に
かつ扁平なドレッシング部分に保持される。当該受容部分はもっとも簡単な場合
には互いに間隔をおいて扁平なドレッシング部分の上に設けられた２つの案内ス
トリップによって形成されている。前記案内ストリップの間に排液ホースは受容
可能である。他の構成では当該保持部分は扁平なドレッシング部分に固定された
別個の成形部分から成っている。しかしながら前記公知のドレッシングにおける
欠点は、排液ホースが別個の接着テープで扁平なドレッシング部分の上で位置固
定されなければならず、この固定が確実な固定ではないことである。
【０００４】 さらにカテーテルクランプ装置であって、カテーテルホースを受容する保持プ
レートから成り、該保持プレートに当該カテーテルホースがクランプＵ字形部材
で固定的にクランプ可能であるものもすでに公知である（ＧＢ−２２８８５４２
−Ａ号）。保持プレート自体は下面に接着層を備え、該接着層は紙保護層で覆わ
れている。前述のクランプＵ字形部材でカテーテルホースは作業位置にクランプ
固定されるのでカテーテルホースはもはや移動できない。このような形式で前述
のホースを固定するために接着ストリップは必要とされなくなるが、前述の保持
プレートは当該公知のドレッシングの場合には下面側に前記の接着層しか有して
おらず、時によっては当該保持プレートが十分に固定されなくなることがある。
【０００５】 したがって本発明の課題は、冒頭に述べた形式のドレッシングを改良して、ド
レッシング部分により受容しようとするカニューレ、ゾンデ又はカテーテルホル
ダが従来の公知のドレッシングの場合に較べて改善されて包まれるようにするこ
とである。
【０００６】 先の課題は冒頭に述べた形式のドレッシングにおいては、本発明によれば、ド
レッシング部分がスリットの切られたドレッシング部分であって、該ドレッシン
グ部分がその縁からほぼ該ドレッシング部分の中央まで述べる主スリットを、当
該保持板を受容しかつ場合によっては固定するために有し、さらに該主スリット
の両側に付加スリットを有し、該付加スリットがドレッシング部分の前記主スリ
ットに対し逆向きに延びていることにより解決された。
【０００７】 本発明は、前述のスリットによって、前述のホルダの受容後に、ドレッシング
部分の下側で該ドレッシング部分が膨出することが回避されるという利点をもた
らす。むしろこの場合には当該ホルダの良好な包囲が可能になる。さらに本発明
は、当該ホルダがその縁部領域でドレッシング部分の付加スリットに導入される
ことで、当該ホルダがその縁部領域にて特に良好に包囲され、ひいては十分に固
定されることを可能にする。
【０００８】 有利には前記付加スリットは、スリットの切られたドレッシング部分の主スリ
ットに対し対称的に延びている。これは中心対称に構成されたホルダの場合には
特に有利である。
【０００９】 有利には付加スリットは、互いに平行に延びている。これによって有利な形式
で特に簡単な製作の可能性が与えられる。
【００１０】 しかしながら有利な形式で付加スリットを互いに傾斜して延びるようにするこ
ともできる。これは、より大きいホルダの場合には有利な形式で行うことができ
る。
【００１１】 付加スリットは有利にはスリットの切られたドレッシング部分の主スリットの
端部領域を越えて延びている。これにより有利な形式で、各ホルダはドレッシン
グ部分によって特に良好に包囲されるようになる。
【００１２】 有利な形式ではスリットの切られた前述の扁平なドレッシング部分はスリット
湿布である。これは従来使用されていた公知のスリット湿布を有利な形式で、各
ホルダに所望される包囲が改善されるように構成されるという利点をもたらす。
【００１３】 有利な形式で、スリットの切られたドレッシング部分はハイドロコロイドドレ
ッシング部分である。これは維持性の特に良い、長時間交換なしで使用できるド
レッシング部分をもたらす。
【００１４】 有利な形式で、スリットの切られたドレッシング部分はアルギン酸塩を含んで
いる。これはドレッシング部分の特に大きな吸収性をもたらすという利点を生ぜ
しめる。
【００１５】 他面においては前記課題は本発明によれば、冒頭に述べた形式のドレッシング
において、カニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダの保持板がドレッシング部
分に埋設されていることにより解決された。これは前記ホルダがドレッシング部
分に特に固定的に結合され、ひいては特に安定した固定が可能になるという利点
をもたらす。
【００１６】 保持板は有利にはシリコンから成っている。これはドレッシング全体に特に良
好なフレキシブル性をもたらす。
【００１７】 前記ホルダの保持板は有利にはドレッシング部分により少なくともその縁部領
域にて完全に取囲まれている。これにより特に形状の安定したドレッシングが可
能である。
【００１８】 前記ホルダの保持板はドレッシング部分の材料によって充填された少なくとも
１つの孔を有している。これはドレッシングにおける前記ホルダの位置の特に良
好な安定をもたらす。
【００１９】 ドレッシングにおける前記ホルダ位置を安定化する別の有利な手段は、前記ホ
ルダの保持板がそれから突出する少なくとも１つの突起を有し、該突起がドレッ
シング部分の材料によって取囲まれかつ／又は前記ホルダの保持板が少なくとも
１つの凹所を有し、該凹所がドレッシング部分の材料によって少なくとも部分的
に充たされていることである。
【００２０】 このドレッシングのドレッシング部分はハイドロコロイドドレッシングである
と有利である。これによりこのドレッシングは特に創傷ドレッシングとして適す
るようになる。
【００２１】 さらに有利であるのはドレッシング部分が上側に接着シートを保持していると
有利である。これによって当該ドレッシング部分は特に簡単な形式でその位置を
固定することができる。
【００２２】 有利にはドレッシング部分はアルギン酸塩を含んでいる。これはドレッシング
部分の吸収性を増大するという利点をもたらす。有利な形式で当該接着シートは
ドレッシング部分を運搬受容保持体に固定する。これによって特に簡単でかつ安
定した運搬の可能性がドレッシングに対して与えられる。
【００２３】 さらに有利であることは接着シートが付加的にドレッシング接着シートとして
用いられると有利である。これによって全体として特に形状の安定した、確実に
固定可能なドレッシングが得られる。
【００２４】 有利な形式で各ドレッシング部分は個体に取付けるために予定された側で自己
接着性であると合目的的である。
【００２５】 次に図面に基づき本発明の実施例を詳細に説明する。
【００２６】 図１から４までに示されたドレッシングはそれぞれ１つの薄膜の扁平なドレッ
シング部分Ｖｔを有している。このドレッシング部分Ｖｔは例えば１．５ｍｍの
厚さを有している。当該ドレッシング部分Ｖｔは綿沙圧縮材料から成るかハイド
ロコロイドドレッシング部分によって形成されかつ又はアルギン酸塩を含んでい
る。ドレッシング部分Ｖｔの下面側、つまり当該ドレッシング部分Ｖｔが個体に
取り付け可能である側は自己接着性である。
【００２７】 図１にて平面図でかつ図２で前面図で示されたドレッシングにおいては、ドレ
ッシング部分Ｖｔは実質的に正方形のドレッシング部分であって、該ドレッシン
グ部分Ｖｔのコーナは丸味付けされている。ドレッシング部分Ｖｔは主スリット
Ｈｓを有し、該主スリットはほぼドレッシング部分中心まで、この場合にはもち
ろんドレッシング部分中心の手前まで、上方のドレッシング部分縁から延びかつ
端孔Ｅｌで終わっている。当該主スリットＨｓに対し、反対の方向に当該ドレッ
シング部分Ｖｔの下縁から２つの付加スリットＺｓ１，Ｚｓ２が延びている。当
該付加スリットＺｓ１もしくはＺｓ２の端部Ｅｌ，Ｅ２は端孔Ｅｌから見てほぼ
主スリットＨｓの最後の１／３の領域に位置している。
【００２８】 図３には図１のように主スリットＨｓと付加スリットＺｓ１とＺｓ２とを有し
、付加スリットＺｓ１とＺｓ２の端部Ｅ１とＥ２が主スリットＨｓの端孔Ｅ１に
対し、図１と同じ相対位置を有するドレッシング部分Ｖｔの構造が示されている
。図１に示されたドレッシング部分とは異なって図３に示されたドレッシング部
分の形状はコーナに丸味が付けられた等辺３角形に相当している。
【００２９】 図４には外形が図１に示された４角形のドレッシング部分Ｖｔに相応している
ドレッシング部分Ｖｔが示されている。もちろんこの場合には主スリットＨｓの
ほぼ中央ドレッシング部分領域にある端部領域Ｅｔはフォーク状に延長されてお
り、付加スリットＺｓ１とＺｓ２は斜めにドレッシング部分Ｖｔに切られている
。この場合、付加スリットＺｓ１とＺｓ２は主スリットＨｓに向かって傾斜して
いる。
【００３０】 前記ドレッシングにおいては、付加スリットＺｓ１，Ｚｓ２は各ドレッシング
部分Ｖｔの主スリットに対し対称である。この場合、付加スリットは図１から３
によれば互いに平行にかつ主スリットＨｓに対して平行に延びることができる。
これに対し図４では当該付加スリットＺｓ１，Ｚｓ２は互いにかつ主スリットＨ
ｚに対し傾斜して延びていることが示されている。いずれの場合にもこのように
構成されたドレッシング部分は、個体に固定するために予定されたカニューレ、
ゾンデ又はカテーテルホルダをそれぞれの主スリットＨｓに良好に受容し、当該
ホルダの縁部領域を付加スリットＺｓ１，Ｚｓ２で良好に取囲み、しかもこの縁
部領域が、付加スリットによって固定されたドレッシング部分の外領域の下側に
位置し、ひいてはホルダの位置が良好に固定されることを可能にする。いずれの
場合にもドレッシング部分の不都合な膨らみは見られない。この場合にはカニュ
ーレ、ゾンデ又はカテーテルホルダとしては、図５と６に関連して示したホルダ
を使用することができる。
【００３１】 図５には、薄膜の扁平なドレッシング部分Ｖｔが平面図で示されている。この
ドレッシング部分はドレッシング材料としてハイドロコロイドと場合によっては
アルギン酸塩を含んでいる。ドレッシング部分Ｖｔには保持板Ｈｐを有するカニ
ューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダＨａが埋設されている。保持板Ｈｐの外縁
５は破線で示されている。この場合、該当するホルダＨａはその保持板Ｈｐで少
なくともその縁領域にて完全にドレッシング材料で取囲まれている。有利にはシ
リコンから成る保持板Ｈｐは、中央の領域にカニューレ、ゾンデ又はカテーテル
のための案内通路Ｆｋとこれに続く貫通孔Ｄ１を有している。上方の領域に保持
板Ｈｐは閉鎖部分を受容するための支承個所を有している。前記閉鎖部分で前述
のカニューレ、ゾンデ又はカテーテルの位置は保持板Ｈｐの上で固定可能である
。
【００３２】 図６には図５に示されたドレッシングが正面図で示されている。この図からは
ドレッシング部分Ｖｔが扁平にかつ薄膜に構成されている。ドレッシング部分は
縁部領域に例えば１ｍｍの厚さを有しかつ中央領域に例えば３．２ｍｍの厚さを
有している。下面においてはドレッシング部分Ｖｔは有利には自己接着性であり
、これによってドレッシング部分の特に簡単な使用が可能となっている。
【００３３】 図７から図１０までには、図５に記入した切断線Ｉ−Ｉに沿った拡大断面図で
、ドレッシング部分ＶｔにおけるホルダＨａの埋設の種々の形式が示されている
。この場合、各ホルダＨａの上方領域には図５と関連して述べた閉鎖部分を受容
する支承個所が示されている。
【００３４】 この場合、図７には保持板Ｈｐを有するホルダＨａが保持板Ｈｐの縁領域で完
全にドレッシング材料で取囲まれていることが示されている。
【００３５】 図８は、ホルダＨａの保持板Ｈｐが少なくとも１つの孔Ｌｏを有し、該孔Ｌｏ
がドレッシング部分材料で充たされている場合を示している。この孔は多数、例
えば図５に平面図で示したホルダＨａの各コーナ領域に設けられていることがで
きる。
【００３６】 図９には、ホルダＨａの保持板Ｈｐが該保持板Ｈｐから突出する少なくとも１
つの突起Ｖｏを有し、該突起Ｖｏがドレッシング部分材料により取囲まれている
場合が示されている。このような突起Ｖｏは多数、例えば図５に平面図で示した
ホルダＨａの各コーナ領域に設けられていることができる。
【００３７】 図１０には、ホルダＨａの保持板Ｈｐは少なくとも１つの凹所Ｖｅを有し、該
凹所Ｖｅがドレッシング部分材料によって少なくとも部分的に充たされているこ
とが示されている。前記凹所Ｖｅは図９の実施例の場合の突起Ｖｏのように個々
に又は多数、例えば図５に示したホルダＨａの各コーナ領域に設けられているこ
ともできる。
【００３８】 ホルダＨａの保持板Ｈｐは図７のようにドレッシング部分Ｖｔに埋設する場合
にはドレッシング部分に対する相対位置が、ホルダＨａがドレッシング部分Ｖｔ
に埋設されることだけでほぼ確保されているのに対し、この位置の確保は図８、
図９、図１０ではさらに改善されている。
【００３９】 図１１には図８に示されたホルダＨａの保持板Ｈｐがドレッシング部分Ｖｔの
いくらか異なる構成と共に示されている。この場合には保持板Ｈｐは全体として
扁平な部分として構成されたドレッシング部分に埋設され、ドレッシング部分の
内部における保持板Ｈｐの位置は、ドレッシング部分材料が保持板を取囲むだけ
ではなく、ドレッシング部分材料が保持板に設けられた少なくとも１つの孔を貫
くことで特に良好に固持される。図１１によればドレッシング部分Ｖｔは保持板
Ｈｐと一緒に、シェル状に構成された搬送受容保持体Ｔａに配置されている。こ
の搬送受容保持体Ｔａに当該ドレッシング部分Ｖｔはその保持板Ｈｐと共に接着
シートＫｆで固定されている。この接着シートは場合によっては付加的にドレッ
シング接着シートとしても使用されることができる。
【００４０】 図１１によれば保持板Ｈｐによっては閉鎖部分Ｖｔが受容されている。この閉
鎖部分Ｖｔは図５と関連して述べたように支承ピンＬｚで当該保持板Ｈｐの支承
個所に受容されている。閉鎖部分Ｖｔは、保持板の案内通路と共に閉鎖部分がカ
ニューレ、ゾンデ又はカテーテルを潰さないでこれらを完全に取囲むような内法
り横断面を有している。
【００４１】 本発明によるドレッシングの先に述べた実施例と関連して、ハイドロコロイド
及びアルギン酸塩とを使用した場合について付言しておくが、アルギン酸塩もハ
イドロコロイドも数週間から１カ月に亙たる長期の使用に際して、それぞれのド
レッシング部分を保持する個体もしくは患者の皮膚順応性が高い点ですぐれてい
る。従来のドレッシング接着剤においてもいわゆる皮膚にやさしいドレッシング
接着剤においても長期使用後にしばしば発生するアレルギー反応はここでは発生
しない。
【００４２】 本発明によるアルギン酸塩又はハイドロコロイドを使用したドレッシングを剥
離する場合には患者にドレッシング残留物が留まることはない。これに対しては
従来のガーゼドレッシングの場合にはその残留物は皮膚にやさしくない溶液、例
えば創傷ベンジンで擦り取られなければならず、これによりそのつどの皮膚個所
が強く乾燥しかつ付加的に負荷に晒されることになる。
【００４３】 ハイドロコロイドドレッシング部分も、アルギン酸塩も耐水性であるので、こ
れらのエレメントを含む本発明によるドレッシングを装着した患者の日常の身体
衛生管理が制約を受けることはない。
【００４４】 シャワーを浴びる場合も風呂を使う場合にも前述の如く構成されたドレッシン
グで処置された創傷は覆われたままである。当該ドレッシングは水処置のあとで
乾燥させることができかつ更新される必要はない。
【００４５】 本発明によるドレッシングにおけるハイドロコロイドもしくはアルギン酸塩と
関連し述べる価値のある別の利点はこのようなドレッシングでドレッシング交換
頻度が小さくなることで経済学的にも生物環境学的にも有益性が得られることで
ある。さらに当該材料の透明性はカニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダによ
って受容されたカニューレ、ゾンデ又はカテーテル部材又はホースの出口個所の
観察がドレッシングの剥離なしで可能にする。ハイドロコロイド材料は創瘍分泌
液を吸収しかつ結束させる特性を持つ。その際、当該材料は変色し、最終的に白
濁化する。これに対しドレッシングで処置された創瘍自体は乾いたままに保たれ
る。さらに材料の混濁化は本発明によるドレッシングで処置された滲出する創瘍
分泌液のための観察インディケータとしても有効である。
【００４６】 さらに最後に、従来は適当な固定可能性が欠如していたために若干のケースで
は、カニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダをそのカニューレ、ゾンデもしく
はカテーテルと共に患者の皮膚に縫い付けることが一般的であった（例えば恥骨
上の膀胱カテーテル）。上記縫い付け及びこれに伴う患者に対する高いリスクは
場合によってはアルギン酸塩を包含するハイドロコロイドドレッシングもしくは
ハイドロコロイドドレッシング部分によって回避できるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】 スリットの切られた扁平なドレッシング部分を有するドレッシング平面図もし
くは正面図で示した図。
【図２】 スリットの切られた扁平なドレッシング部分を有するドレッシング平面図もし
くは正面図で示した図。
【図３】 スリットの切られた扁平なドレッシング部分を有するドレッシング平面図もし
くは正面図で示した図。
【図４】 スリットの切られた扁平なドレッシング部分を有するドレッシング平面図もし
くは正面図で示した図。
【図５】 カニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダが埋設されているドレッシングを示
した図。
【図６】 カニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダが埋設されているドレッシングを示
した図。
【図７】 図５に示したドレッシングを、図５のＩ−Ｉ線に沿って断面して、ドレッシン
グ部分におけるカニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダの種々異なる埋設形式
を示した図。
【図８】 図５に示したドレッシングを、図５のＩ−Ｉ線に沿って断面して、ドレッシン
グ部分におけるカニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダの種々異なる埋設形式
を示した図。
【図９】 図５に示したドレッシングを、図５のＩ−Ｉ線に沿って断面して、ドレッシン
グ部分におけるカニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダの種々異なる埋設形式
を示した図。
【図１０】 図５に示したドレッシングを、図５のＩ−Ｉ線に沿って断面して、ドレッシン
グ部分におけるカニューレ、ゾンデ又はテーテルホルダの種々異なる埋設形式を
示した図。
【図１１】 図８と似た拡大断面図で閉鎖部分を付加的に有するいくらか異なったドレッシ
ング部分を示した図。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１２年６月２０日（２０００．６．２０）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【請求項４】 前記付加スリット（Ｚｓ１，Ｚｓ２）が、スリットの切られ
たドレッシング部分（Ｖｔ）の主スリット（Ｈｓ）の端部領域（Ｅｌ，Ｅｔ）を
越えて延びている、請求項１から３までのいずれか１項記載のドレッシング。
【請求項５】 スリットの切られた扁平なドレッシング部分（Ｖｔ）がスリ
ット湿布である、請求項１から４までのいずれか１項記載のドレッシング。
【請求項６】 スリットの切られた扁平なドレッシング部分（Ｖｔ）がハイ
ドロコロイドドレッシング部分である、請求項１から４までのいずれか１項記載
のドレッシング。
【請求項８】 扁平なドレッシング部分を有するドレッシングにおいて、
・ドレッシング部分が扁平にかつ薄膜に構成され、個体に固定することが予定さ
れているカニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダのための唯一の保持体を有し
ていること、 ・保持板がカニューレ、ゾンデ又はカテーテルのための案内通路と保持板と結
合されかつ固定可能な閉鎖部分とを有し、該閉鎖部分が保持板の案内通路と共に
、カニューレ、ゾンデ又はカテーテルを完全にかつ潰すことなく包囲する内法り
横断面を前記閉鎖部分が有していること、 ・カニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダの保持板がドレッシング部分によ
り少なくともその縁部領域で完全に取囲まれるように、前記保持板がドレッシン
グ部分に埋設されていることを特徴とする、カニューレ、ゾンデ又はカテーテル
ホルダを受容するための扁平なドレッシング部分を有するドレッシング。
【請求項９】 保持プレート（Ｈｐ）がシリコンから成っている、請求項８
記載のドレッシング。
【請求項１０】 カニューレ、ゾンデ又はカテーテル保持体（Ｈａ）が少な
くとも１つの孔（Ｌｏ）を有し、該孔（Ｌｏ）がドレッシング部分材料により充
たされている、請求項８から９までのいずれか１項記載のドレッシング。
【請求項１１】 カニューレ、ゾンデ又はカテーテル保持体（Ｈａ）の保持
プレート（Ｈｐ）がそれから突出する少なくとも１つの突起を有し、該突起がド
レッシング部分材料で包まれている、請求項８から９までのいずれか１項記載の
ドレッシング。
【請求項１２】 カニューレ、ゾンデ又はカテーテル保持体（Ｈａ）が少な
くとも１つの凹所（Ｖｅ）を有し、該凹所（Ｖｅ）がドレッシング部分材料で少
なくとも部分的に充たされている、請求項８から９までのいずれか１項又は１３
記載のドレッシング。
【請求項１３】 ドレッシング部分（Ｖｔ）がハイドロコロイドドレッシン
グである、請求項８から１２までのいずれか１項記載のドレッシング。
【請求項１４】 ドレッシング部分（Ｖｔ）がアルギン酸塩を含んでいる、
請求項８から１３までのいずれか１項記載のドレッシング。
【請求項１５】 ドレッシング部分（Ｖｔ）が表面に接着シート（Ｋｆ）を
保持している、請求項８から１４までのいずれか１項記載のドレッシング。
【請求項１６】 接着シート（Ｋｆ）がドレッシング部分（Ｖｔ）を搬送受
容保持体（Ｔａ）に固定する、請求項１５記載のドレッシング。
【請求項１７】 接着シート（Ｋｆ）が付加的にドレッシング接着シートと
して役立つ、請求項１５又は１６記載のドレッシング。
【請求項１８】 ドレッシング部分（Ｖｔ）が個体に取付けるために予定さ
れた側で、自己接着性である、請求項５から１７までのいずれか１項記載のドレ
ッシング。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の詳細な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は扁平なドレッシング部分を有するドレッシングに関する。
【０００２】 前記形式のドレッシングはいわゆるエルランゲル（Erlanger）ドレッシングと
して公知である。このドレッシングは通常はスリットの切られた４角形のMullco
mpressenドレッシング部分から成り、該ドレッシング部分はその縁からほぼ該ド
レッシング部分中央まで延びるスリットを有し、このスリットの領域に前述のホ
ルダもしくは該ホルダから突出するホースが受容されるようになっている。さら
に時にはスリット端部に小さな開口が設けられているか又は当該スリット端部が
分岐させられて短いフォーク状の切込みを形成していることもできる。このドレ
ッシング形態はしばしば、個体にカニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダを満
足できる状態で受容しかつ固定することを可能にしない。なぜならばドレッシン
グ部分材料は当該ホルダを受容したあとで膨出し、ひいては当該ホルダを正しく
包み囲むことができないからである。
【０００３】 さらに排液ホースを受容しかつ固定するための扁平なドレッシング部分を有す
るドレッシングが公知である（ＷＯ９７／２１４５９）。この公知のドレッシン
グにおいては扁平なドレッシング部分の上に、排液ホースを受容しかつ案内する
ための受容部分が設けられている。この場合、排液ホースは接着ストリップで当
該保持部分にかつ扁平なドレッシング部分に保持されている。当該受容部分はも
っとも簡単な場合には互いに間隔をおいて扁平なドレッシング部分の上に設けら
れた２つの案内ストリップによって形成されている。該案内ストリップの間に排
液ホースは受容可能である。さらに個体に取付けられる接触層とその上にある結
合板とが設けられ、該結合板の上に膏薬接着シートが施されている。この膏薬接
着シートは中心孔を有し、該中心孔内に前述の案内ストリップを形成する保持兼
案内部材が当該排液ホースのために設けられている。この保持兼案内部材は前述
の結合板の上に取付けられ、前述の膏薬接着シートの接着ストリップ部材によっ
て被われ、前記保持兼案内部材において案内された排液ホースを最終位置に固定
する。他の構成では当該保持部分は扁平なドレッシング部分に固定された成形部
分によって形成されている。しかしながら前記公知のドレッシングにおける欠点
は、排液ホースが別個の接着テープで扁平なドレッシング部分の上で位置固定さ
れなければならず、この固定が確実な固定ではないことである。さらに当該公知
のドレッシングにおいては、構成費用が比較的に高いにも拘わらず、前記排液ホ
ースの潰れることを常に回避することはできない。
【０００４】 さらにカテーテルクランプ装置であって、カテーテルホースを受容する保持プ
レートから成り、該保持プレートに当該カテーテルホースがクランプＵ字形部材
で固定的にクランプ可能であるものもすでに公知である（ＧＢ−２２８８５４２
−Ａ号）。保持プレート自体は下面に接着層を備え、該接着層は紙保護層で覆わ
れている。前述のクランプＵ字形部材でカテーテルホースは作業位置にクランプ
固定されるのでカテーテルホースはもはや移動できない。このような形式で前記
ホースを固定するために接着ストリップは必要とされなくなるが、前述の保持プ
レートは当該公知のドレッシングの場合には下面側に前述の接着層しか有してお
らず、時によっては当該保持プレートが十分に固定されなくなることがある。
【０００５】 したがって本発明の課題は、ドレッシング部分に固定により受容されたカニュ
ーレ、ゾンデもしくはカテーテルホルダが従来の公知のドレッシングよりも改善
されて取囲まれ、前述のホルダを受容したあとでドレッシング部分の下面側で該
ドレッシング部分が膨らまないようにすることである。
【０００６】 本発明の課題は扁平なドレッシング部分を有するドレッシングであって下記の
特徴を有するものによって解決された。
【０００７】 ・ドレッシング部分が個体に予定されたカニューレ、ゾンデ又はカテーテルホ
ルダを保持板と共に受容することを可能にしており、前記保持板が特に１つの案
内通路をカニューレ、ゾンデ又はカテーテルのために有し、かつ該保持板に結合
されかつ固定可能な閉鎖部分を有し、該閉鎖部分が保持板の案内通路と一緒にカ
ニューレ、ゾンデもしくはカテーテルを完全にかつ潰すことなく取囲むような内
法り横断面を前記閉鎖部分が有していること。
【０００８】 ・ドレッシング部分がスリットの切られたドレッシング部分であって、該ドレ
ッシング部分が縁から、ほぼドレッシング部分中心まで延びる主スリットを有し
、該主スリットが当該保持板を受容し、場合によっては固持するようになってお
り、前記主スリットの両側に付加スリットを有していること。
【０００９】 ・付加スリットが前記主スリットとは反対の方向に延びているか又は付加スリ
ットの端部が主スリットに向かって傾斜するようにドレッシング部分の当該スリ
ットに対して傾斜して延びていること。
【００１０】 本発明は、前述のスリットによって、前述のホルダの受容後に、ドレッシング
部分の下側で該ドレッシング部分が膨らむことが回避されるという利点をもたら
す。むしろこの場合には当該ホルダの良好な包囲が可能になる。さらに本発明は
、当該ホルダがその縁部領域でドレッシング部分の付加スリットに導入されるこ
とで、当該ホルダがその縁部領域にて特に良好に包囲され、ひいては十分に固定
されることを可能にする。
【００１１】 有利には前記付加スリットは、スリットの切られたドレッシング部分の主スリ
ットに対し対称的に延びている。これは中心対称に構成されたホルダの場合には
特に有利である。
【００１２】 有利には付加スリットは、互いに平行に延びている。これによって有利な形式
で特に簡単な製作の可能性が与えられる。
【００１３】 付加スリットは有利にはスリットの切られたドレッシング部分の主スリットの
端部領域を越えて延びている。これにより有利な形式で、各ホルダはドレッシン
グ部分によって特に良好に包囲されるようになる。
【００１４】 有利な形式ではスリットの切られた前述の扁平なドレッシング部分はスリット
湿布である。これは従来使用されていた公知のスリット湿布を有利な形式で、各
ホルダに所望される包囲が改善されるように構成されるという利点をもたらす。
【００１５】 有利な形式で、スリットの切られたドレッシング部分はハイドロコロイドドレ
ッシング部分である。これは維持性の特に良い、長時間交換なしで使用できるド
レッシング部分をもたらす。
【００１６】 有利な形式で、スリットの切られたドレッシング部分はアルギン酸塩を含んで
いる。これはドレッシング部分の特に大きな吸収性をもたらすという利点を生ぜ
しめる。
【００１７】 他面においては、前記課題は本発明によれば、扁平なドレッシング部分を有す
るドレッシングを改良して、ドレッシング部分により受容されるカニューレ、ゾ
ンデ又はカテーテルホルダの包囲が従来のドレッシングの場合に比較して改善さ
れかつ前述のホルダを受容したあとでドレッシング部分が膨れず、当該カニュー
レ、ゾンデ又はカテーテルホルダによって受容されたカニューレ、ゾンデもしく
はカテーテルの圧潰しが行われず、これによりホルダの良好な包囲、ひいては改
善された固定が可能になるようにすることである。
【００１８】 本発明の前記課題は、本発明によれば、扁平なドレッシング部分を有するドレ
ッシングが以下の特徴を有することにより解決された。
【００１９】 ・ドレッシング部分が扁平にかつ薄膜に構成され、個体に固定することが予定
されているカニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダのための唯一の保持体を有
していること。
【００２０】 ・保持板がカニューレ、ゾンデ又はカテーテルのための案内通路と保持板と結
合されかつ固定可能な閉鎖部分とを有し、該閉鎖部分が保持板の案内通路と共に
、カニューレ、ゾンデもしくはカテーテルを完全にかつ潰すことなく包囲する内
法り横断面を前記閉鎖部分が有していること。
【００２１】 ・カニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダの保持板がドレッシング部分によ
り少なくともその縁部領域で完全に取囲まれるように、前記保持板がドレッシン
グ部分に埋設されていること。
【００２２】 これにより、ホルダはドレッシング部分に特に固定的に包囲され、ひいては特
に安定した固定が可能であり、その際、各カニューレ、ゾンデ又はカテーテルが
潰れることなく包囲されるという利点が得られる。これにより特に形状の安定し
たドレッシングが可能になる。
【００２３】 保持板は有利にはシリコンから成っている。これはドレッシング全体の特に良
好なフレキシブル性をもたらす。
【００２４】 有利には前述のホルダの保持板はドレッシング材料により充たされる少なくと
も１つの孔を有している。これはドレッシングにおける前記ホルダに特に良好な
位置安定性を与える。
【００２５】 ドレッシングにおける前記ホルダ位置を安定化する別の有利な手段は、前記ホ
ルダの保持板がそれから突出する少なくとも１つの突起を有し、該突起がドレッ
シング部分の材料によって取囲まれかつ／又は前記ホルダの保持板が少なくとも
１つの凹所を有し、該凹所がドレッシング部分の材料によって少なくとも部分的
に充たされていることである。
【００２６】 このドレッシングのドレッシング部分はハイドロコロイドドレッシングである
と有利である。これによりこのドレッシングは特に創傷ドレッシングとして適す
るようになる。
【００２７】 さらに有利であるのはドレッシング部分が上側に接着シートを保持していると
有利である。これによって当該ドレッシング部分は特に簡単な形式でその位置を
固定することができる。
【００２８】 有利にはドレッシング部分はアルギン酸塩を含んでいる。これはドレッシング
部分の吸収性を増大するという利点をもたらす。有利な形式で当該接着シートは
ドレッシング部分を運搬受容保持体に固定する。これによって特に簡単でかつ安
定した運搬の可能性がドレッシングに対して与えられる。
【００２９】 さらに有利であることは接着シートが付加的にドレッシング接着シートとして
用いられると有利である。これによって全体として特に形状の安定した、確実に
固定可能なドレッシングが得られる。
【００３０】 有利な形式で各ドレッシング部分は個体に取付けるために予定された側で自己
接着性であると合目的的である。
【００３１】 次に図面に基づき本発明の実施例を詳細に説明する。
【００３２】 図１から４までに示されたドレッシングはそれぞれ１つの薄膜の扁平なドレッ
シング部分Ｖｔを有している。このドレッシング部分Ｖｔは例えば１．５ｍｍの
厚さを有している。当該ドレッシング部分Ｖｔは綿沙圧縮材料から成るかハイド
ロコロイドドレッシング部分によって形成されかつ又はアルギン酸塩を含んでい
る。ドレッシング部分Ｖｔの下面側、つまり当該ドレッシング部分Ｖｔが個体に
取り付け可能である側は自己接着性である。
【００３３】 図１にて平面図でかつ図２で前面図で示されたドレッシングにおいては、ドレ
ッシング部分Ｖｔは実質的に正方形のドレッシング部分であって、該ドレッシン
グ部分Ｖｔのコーナは丸味付けされている。ドレッシング部分Ｖｔは主スリット
Ｈｓを有し、該主スリットはほぼドレッシング部分中心まで、この場合にはもち
ろんドレッシング部分中心の手前まで、上方のドレッシング部分縁から延びかつ
端孔Ｅｌで終わっている。当該主スリットＨｓに対し、反対の方向に当該ドレッ
シング部分Ｖｔの下縁から２つの付加スリットＺｓ１，Ｚｓ２が延びている。当
該付加スリットＺｓ１もしくはＺｓ２の端部Ｅｌ，Ｅ２は端孔Ｅｌから見てほぼ
主スリットＨｓの最後の１／３の領域に位置している。
【００３４】 図３には図１のように主スリットＨｓと付加スリットＺｓ１とＺｓ２とを有し
、付加スリットＺｓ１とＺｓ２の端部Ｅ１とＥ２が主スリットＨｓの端孔Ｅ１に
対し、図１と同じ相対位置を有するドレッシング部分Ｖｔの構造が示されている
。図１に示されたドレッシング部分とは異なって図３に示されたドレッシング部
分の形状はコーナに丸味が付けられた等辺３角形に相当している。
【００３５】 図４には外形が図１に示された４角形のドレッシング部分Ｖｔに相応している
ドレッシング部分Ｖｔが示されている。もちろんこの場合には主スリットＨｓの
ほぼ中央ドレッシング部分領域にある端部領域Ｅｔはフォーク状に延長されてお
り、付加スリットＺｓ１とＺｓ２は斜めにドレッシング部分Ｖｔに切られている
。この場合、付加スリットＺｓ１とＺｓ２は主スリットＨｓに向かって傾斜して
いる。
【００３６】 前記ドレッシングにおいては、付加スリットＺｓ１，Ｚｓ２は各ドレッシング
部分Ｖｔの主スリットに対し対称である。この場合、付加スリットは図１から３
によれば互いに平行にかつ主スリットＨｓに対して平行に延びることができる。
これに対し図４では当該付加スリットＺｓ１，Ｚｓ２は互いにかつ主スリットＨ
ｚに対し傾斜して延びていることが示されている。いずれの場合にもこのように
構成されたドレッシング部分は、個体に固定するために予定されたカニューレ、
ゾンデ又はカテーテルホルダをそれぞれの主スリットＨｓに良好に受容し、当該
ホルダの縁部領域を付加スリットＺｓ１，Ｚｓ２で良好に取囲み、しかもこの縁
部領域が、付加スリットによって固定されたドレッシング部分の外領域の下側に
位置し、ひいてはホルダの位置が良好に固定されることを可能にする。いずれの
場合にもドレッシング部分の不都合な膨らみは見られない。この場合にはカニュ
ーレ、ゾンデ又はカテーテルホルダとしては、図５と６に関連して示したホルダ
を使用することができる。
【００３７】 図５には、薄膜の扁平なドレッシング部分Ｖｔが平面図で示されている。この
ドレッシング部分はドレッシング材料としてハイドロコロイドと場合によっては
アルギン酸塩を含んでいる。ドレッシング部分Ｖｔには保持板Ｈｐを有するカニ
ューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダＨａが埋設されている。保持板Ｈｐの外縁
５は破線で示されている。この場合、該当するホルダＨａはその保持板Ｈｐで少
なくともその縁領域にて完全にドレッシング材料で取囲まれている。有利にはシ
リコンから成る保持板Ｈｐは、中央の領域にカニューレ、ゾンデ又はカテーテル
のための案内通路Ｆｋとこれに続く貫通孔Ｄ１を有している。上方の領域に保持
板Ｈｐは閉鎖部分を受容するための支承個所を有している。前記閉鎖部分で前述
のカニューレ、ゾンデ又はカテーテルの位置は保持板Ｈｐの上で固定可能である
。
【００３８】 図６には図５に示されたドレッシングが正面図で示されている。この図からは
ドレッシング部分Ｖｔが扁平にかつ薄膜に構成されている。ドレッシング部分は
縁部領域に例えば１ｍｍの厚さを有しかつ中央領域に例えば３．２ｍｍの厚さを
有している。下面においてはドレッシング部分Ｖｔは有利には自己接着性であり
、これによってドレッシング部分の特に簡単な使用が可能となっている。
【００３９】 図７から図１０までには、図５に記入した切断線Ｉ−Ｉに沿った拡大断面図で
、ドレッシング部分ＶｔにおけるホルダＨａの埋設の種々の形式が示されている
。この場合、各ホルダＨａの上方領域には図５と関連して述べた閉鎖部分を受容
する支承個所が示されている。
【００４０】 この場合、図７には保持板Ｈｐを有するホルダＨａが保持板Ｈｐの縁領域で完
全にドレッシング材料で取囲まれていることが示されている。
【００４１】 図８は、ホルダＨａの保持板Ｈｐが少なくとも１つの孔Ｌｏを有し、該孔Ｌｏ
がドレッシング部分材料で充たされている場合を示している。この孔は多数、例
えば図５に平面図で示したホルダＨａの各コーナ領域に設けられていることがで
きる。
【００４２】 図９には、ホルダＨａの保持板Ｈｐが該保持板Ｈｐから突出する少なくとも１
つの突起Ｖｏを有し、該突起Ｖｏがドレッシング部分材料により取囲まれている
場合が示されている。このような突起Ｖｏは多数、例えば図５に平面図で示した
ホルダＨａの各コーナ領域に設けられていることができる。
【００４３】 図１０には、ホルダＨａの保持板Ｈｐは少なくとも１つの凹所Ｖｅを有し、該
凹所Ｖｅがドレッシング部分材料によって少なくとも部分的に充たされているこ
とが示されている。前記凹所Ｖｅは図９の実施例の場合の突起Ｖｏのように個々
に又は多数、例えば図５に示したホルダＨａの各コーナ領域に設けられているこ
ともできる。
【００４４】 ホルダＨａの保持板Ｈｐは図７のようにドレッシング部分Ｖｔに埋設する場合
にはドレッシング部分に対する相対位置が、ホルダＨａがドレッシング部分Ｖｔ
に埋設されることだけでほぼ確保されているのに対し、この位置の確保は図８、
図９、図１０ではさらに改善されている。
【００４５】 図１１には図８に示されたホルダＨａの保持板Ｈｐがドレッシング部分Ｖｔの
いくらか異なる構成と共に示されている。この場合には保持板Ｈｐは全体として
扁平な部分として構成されたドレッシング部分に埋設され、ドレッシング部分の
内部における保持板Ｈｐの位置は、ドレッシング部分材料が保持板を取囲むだけ
ではなく、ドレッシング部分材料が保持板に設けられた少なくとも１つの孔を貫
くことで特に良好に固持される。図１１によればドレッシング部分Ｖｔは保持板
Ｈｐと一緒に、シェル状に構成された搬送受容保持体Ｔａに配置されている。こ
の搬送受容保持体Ｔａに当該ドレッシング部分Ｖｔはその保持板Ｈｐと共に接着
シートＫｆで固定されている。この接着シートは場合によっては付加的にドレッ
シング接着シートとしても使用されることができる。
【００４６】 図１１によれば保持板Ｈｐによっては閉鎖部分Ｖｔが受容されている。この閉
鎖部分Ｖｔは図５と関連して述べたように支承ピンＬｚで当該保持板Ｈｐの支承
個所に受容されている。閉鎖部分Ｖｔは、保持板の案内通路と共に閉鎖部分がカ
ニューレ、ゾンデ又はカテーテルを潰さないでこれらを完全に取囲むような内法
り横断面を有している。
【００４７】 本発明によるドレッシングの先に述べた実施例と関連して、ハイドロコロイド
及びアルギン酸塩とを使用した場合について付言しておくが、アルギン酸塩もハ
イドロコロイドも数週間から１カ月に亙たる長期の使用に際して、それぞれのド
レッシング部分を保持する個体もしくは患者の皮膚順応性が高い点ですぐれてい
る。従来のドレッシング接着剤においてもいわゆる皮膚にやさしいドレッシング
接着剤においても長期使用後にしばしば発生するアレルギー反応はここでは発生
しない。
【００４８】 本発明によるアルギン酸塩又はハイドロコロイドを使用したドレッシングを剥
離する場合には患者にドレッシング残留物が留まることはない。これに対しては
従来のガーゼドレッシングの場合にはその残留物は皮膚にやさしくない溶液、例
えば創傷ベンジンで擦り取られなければならず、これによりそのつどの皮膚個所
が強く乾燥しかつ付加的に負荷に晒されることになる。
【００４９】 ハイドロコロイドドレッシング部分も、アルギン酸塩も耐水性であるので、こ
れらのエレメントを含む本発明によるドレッシングを装着した患者の日常の身体
衛生管理が制約を受けることはない。
【００５０】 シャワーを浴びる場合も風呂を使う場合にも前述の如く構成されたドレッシン
グで処置された創傷は覆われたままである。当該ドレッシングは水処置のあとで
乾燥させることができかつ更新される必要はない。
【００５１】 本発明によるドレッシングにおけるハイドロコロイドもしくはアルギン酸塩と
関連し述べる価値のある別の利点はこのようなドレッシングでドレッシング交換
頻度が小さくなることで経済学的にも生物環境学的にも有益性が得られることで
ある。さらに当該材料の透明性はカニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダによ
って受容されたカニューレ、ゾンデ又はカテーテル部材又はホースの出口個所の
観察がドレッシングの剥離なしで可能にする。ハイドロコロイド材料は創瘍分泌
液を吸収しかつ結束させる特性を持つ。その際、当該材料は変色し、最終的に白
濁化する。これに対しドレッシングで処置された創瘍自体は乾いたままに保たれ
る。さらに材料の混濁化は本発明によるドレッシングで処置された滲出する創瘍
分泌液のための観察インディケータとしても有効である。
【００５２】 さらに最後に、従来は適当な固定可能性が欠如していたために若干のケースで
は、カニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダをそのカニューレ、ゾンデもしく
はカテーテルと共に患者の皮膚に縫い付けることが一般的であった（例えば恥骨
上の膀胱カテーテル）。上記縫い付け及びこれに伴う患者に対する高いリスクは
場合によってはアルギン酸塩を包含するハイドロコロイドドレッシングもしくは
ハイドロコロイドドレッシング部分によって回避できるようになった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，Ｅ Ａ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，Ｇ Ｈ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ， ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，Ｍ Ｗ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ， ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ (72)発明者 ラルフ イェッケル ドイツ連邦共和国 ローゼンハイム シー スシュタットシュトラーセ １ (72)発明者 ジルヴィア ヨルダン ドイツ連邦共和国 プリーン イェンゼン シュトラーセ 19 Ｆターム(参考） 4C081 AA03 AA12 AC05 BB04 BB07 BC02 CA271 CD042 DA02 DA12 DC05 EA02 4C167 AA33 BB24 BB31 CC01 GG03 GG14 GG50 HH08 HH30

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 保持プレートを有し、個体に固定するために設けられたカニ
    ューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダの受容を可能にする扁平なドレッシング部
    分を有するドレッシングであって、前記ドレッシング部分（Ｖｔ）がスリットの
    切られたドレッシング部分（Ｖｔ）であり、該ドレッシング部分（Ｖｔ）がその
    縁部から該ドレッシング部分（Ｖｔ）のほぼ中央まで延びる主スリット（Ｈｓ）
    を有し、該主スリット（Ｈｓ）が当該保持プレート（Ｈｐ）を受容しかつ場合に
    よっては保持するようになっており、前記主スリット（Ｈｓ）の両側にさらに付
    加スリット（Ｚｓ１，Ｚｓ２）を有し、該付加スリット（Ｚｓ１，Ｚｓ２）がド
    レッシング部分（Ｖｔ）の前記主スリット（Ｈｓ）に対しほぼ反対方向に延びて
    いることを特徴とする、カニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダを受容するた
    めの扁平なドレッシング部分を有するドレッシング。
  2. 【請求項２】 前記付加スリット（Ｚｓ１，Ｚｓ２）が、スリットの切られ
    たドレッシング部分（Ｖｔ）の前記主スリット（Ｈｓ）に関し対称的に延びてい
    る、請求項１記載のドレッシング。
  3. 【請求項３】 前記付加スリット（Ｚｓ１，Ｚｓ２）が互いに平行に延びて
    いる、請求項２記載のドレッシング。
  4. 【請求項４】 前記付加スリット（Ｚｓ１，Ｚｓ２）が互いに傾斜して延び
    ている、請求項２記載のドレッシング。
  5. 【請求項５】 前記付加スリット（Ｚｓ１，Ｚｓ２）が、スリットの切られ
    たドレッシング部分（Ｖｔ）の主スリット（Ｈｓ）の端部領域（Ｅｌ，Ｅｔ）を
    越えて延びている、請求項１から４までのいずれか１項記載のドレッシング。
  6. 【請求項６】 スリットの切られた扁平なドレッシング部分（Ｖｔ）がスリ
    ット湿布である、請求項１から５までのいずれか１項記載のドレッシング。
  7. 【請求項７】 スリットの切られた扁平なドレッシング部分（Ｖｔ）がハイ
    ドロコロイドドレッシング部分である、請求項１から５までのいずれか１項記載
    のドレッシング。
  8. 【請求項８】 スリットの切られた扁平なドレッシング部分（Ｖｔ）がアル
    ギン酸塩を包んでいる、請求項１から７までのいずれか１項記載のドレッシング
    。
  9. 【請求項９】 保持プレートを有し、個体に固定するために設けられたカニ
    ューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダの受容を可能にする扁平なドレッシング部
    分を有するドレッシングにおいて、カニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダ（
    Ｈｐ）がドレッシング部分（Ｖｔ）に埋設されている、カニューレ、ゾンデ又は
    カテーテルホルダを受容する扁平なドレッシング部分を有するドレッシング。
  10. 【請求項１０】 保持プレート（Ｈｐ）がシリコンから成っている、請求項
    ９記載のドレッシング。
  11. 【請求項１１】 カニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダ（Ｈａ）がドレ
    ッシング部分（Ｖｔ）により少なくともその縁部領域にて完全に包囲されている
    、請求項９又は１０記載のドレッシング。
  12. 【請求項１２】 カニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダ（Ｈａ）が少な
    くとも１つの孔（Ｌｏ）を有し、該孔（Ｌｏ）がドレッシング部分材料により充
    たされている、請求項９から１１までのいずれか１項記載のドレッシング。
  13. 【請求項１３】 カニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダ（Ｈａ）の保持
    プレート（Ｈｐ）がそれから突出する少なくとも１つの突起を有し、該突起がド
    レッシング部分材料で包まれている、請求項９から１１までのいずれか１項記載
    のドレッシング。
  14. 【請求項１４】 カニューレ、ゾンデ又はカテーテルホルダ（Ｈａ）が少な
    くとも１つの凹所（Ｖｅ）を有し、該凹所（Ｖｅ）がドレッシング部分材料で少
    なくとも部分的に充たされている、請求項９から１１までのいずれか１項又は１
    ３記載のドレッシング。
  15. 【請求項１５】 ドレッシング部分（Ｖｔ）がハイドロコロイドドレッシン
    グである、請求項９から１４までのいずれか１項記載のドレッシング。
  16. 【請求項１６】 ドレッシング部分（Ｖｔ）がアルギン酸塩を含んでいる、
    請求項９から１５までのいずれか１項記載のドレッシング。
  17. 【請求項１７】 ドレッシング部分（Ｖｔ）が表面に接着シート（Ｋｆ）を
    保持している、請求項９から１６までのいずれか１項記載のドレッシング。
  18. 【請求項１８】 接着シート（Ｋｆ）がドレッシング部分（Ｖｔ）を搬送受
    容保持体（Ｔａ）に固定する、請求項１７記載のドレッシング。
  19. 【請求項１９】 接着シート（Ｋｆ）が付加的にドレッシング接着シートと
    して役立つ、請求項１７又は１８記載のドレッシング。
  20. 【請求項２０】 ドレッシング部分（Ｖｔ）が個体に取付けるために予定さ
    れた側で、自己接着性である、請求項６から１９までのいずれか１項記載のドレ
    ッシング。
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