JP2002512995A - 無水酢酸の製造方法 - Google Patents
無水酢酸の製造方法Info
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Abstract
Description
カルボニル化方法に関する。更に詳しくは、本発明は、(i)酢酸メチル、ジメ
チルエーテル又はこれらの混合物から選ばれる反応剤化合物、(ii)ヨウ化メチ
ル(iii)ロジウム及び1種又はそれ以上の助触媒を含む触媒成分並びに(iv)
溶解一酸化炭素の混合物を、液体反応混合物中の一酸化炭素の濃度を増大させる
方式で、一酸化炭素を混合物の表面よりも下には供給せずにカルボニル化ゾーン
内で接触させることによる無水酢酸の液相製造に関する。前記混合物中に存在す
る酢酸メチル及び/又はジメチルエーテル、ヨウ化メチル並びに一酸化炭素が反
応して無水酢酸を生成し、それによって混合物中の一酸化炭素の濃度を著しく低
下させる。得られた反応混合物を、無水酢酸を分離し、回収する従来のフラッシ
ュ蒸留に付すと、より少ない一酸化炭素が生成系から失われる。
合物を一酸化炭素と、ロジウム触媒の存在下に接触させることによる無水酢酸の
製造は、特許文献に幅広く報告されている。例えば、米国特許第3,927,0
78号、同第4,046,807号、同第4,115,444号、同第4,25
2,741号、同第4,374,070号、同第4,430,273号、同第4
,559,183号、同第5,003,104号及び同第5,292,948号
並びにヨーロッパ特許第8396号、同第87,869号及び同第87,870
号を参照されたい。これらの特許には、触媒系に、ある種のアミン及び第四級ア
ンモニウム化合物、ホスフィン及びホスホニウム化合物並びにアルカリ金属塩、
例えばヨウ化リチウムのような無機化合物のような助触媒が含まれている場合に
、反応速度を上昇できることが開示されている。通常、反応(プロセス)混合物
及び粗製生成物の両方は、酢酸のような不活性溶媒中の反応剤及び触媒成分の溶
液からなる実質的に無水の均一な液体である。従って、このような無水酢酸プロ
セスから得られる粗製液状生成物は、プロセス溶媒として酢酸を使用する結果と
して、典型的に無水酢酸と酢酸との混合物を含む。酢酸は、生成系にメタノール
及び/又は水を供給することにより、例えば、無水酢酸を含むプロセス再循環流
に、及び/又はカルボニル化反応器に、メタノール及び/又は水を供給すること
により、本プロセスに於いて共生成され得る。
はこれらの混合物から選ばれる反応剤化合物、(ii)ヨウ化メチル並びに(iii
)ロジウム及び1種又はそれ以上の助触媒を含む触媒成分の液体混合物を含む反
応ゾーンに一酸化炭素を供給することによって実施される。一酸化炭素は、微細
に分割された形態で、例えば、気体散布装置の手段によって液体混合物の表面よ
りも下に供給して、反応混合物中の一酸化炭素の濃度を最大にする。通常、この
方法は、無水酢酸及び/又は酢酸中に溶解された反応剤化合物、ヨウ化メチル、
酢酸のような不活性溶媒及び触媒成分並びに一酸化炭素を、反応ゾーンに連続的
に供給し、そして反応ゾーンから、無水酢酸及び酢酸を含む粗製生成物混合物を
連続的に取り出すことによって運転される。この粗製生成物混合物にはまた、粗
製生成物中に溶解された、反応剤化合物、ヨウ化メチル、酢酸溶媒及び触媒成分
並びに一酸化炭素も含まれている。この粗製生成物は、第一分離ゾーンに連続的
に供給し、そこで圧力が低下し、粗製生成物はフラッシュ蒸留されて、(i)反
応剤化合物、ヨウ化メチル、酢酸溶媒、無水酢酸生成物及び一酸化炭素を含む蒸
気流出物並びに(ii)無水酢酸及び酢酸の混合物中に溶解触媒成分を含む液体流
出物を作る。この蒸気流出物は、典型的に、第一分離ゾーンに供給された粗製生
成物の約30〜90重量%からなる。この液体流出物は反応ゾーンに再循環され
、この蒸気流出物は生成物回収ゾーンに供給され、そこで無水酢酸(及び任意の
共生成された酢酸)は分離され、生成系から取り出される。他の凝縮性成分(酢
酸メチル、ヨウ化メチル及び酢酸溶媒)は回収され、反応ゾーンに再循環される
。
収することができる。例えば、パージガスの再圧縮及び再循環による一酸化炭素
回収は、回収されたガスの不活性不純物成分、例えば、水素、メタン、二酸化炭
素、窒素及びアルゴンが、反応系内に蓄積し、一酸化炭素分圧を低下させるので
望ましくない。一酸化炭素からの不純物の除去には、極低温蒸留、吸着又は膜分
離並びにその後の再圧縮のような複雑で資本集約的な方法が含まれる。排出され
た一酸化炭素の精製及び再圧縮のための装置の資本費用は、一酸化炭素の価値を
超える。従って、第一分離ゾーンからの蒸気流出物中に含まれている一酸化炭素
は、典型的には回収されず、著しい費用でプロセスから失われる。回収されない
一酸化炭素は、反応ゾーンに供給される全一酸化炭素の10体積%以下を構成す
る。一酸化炭素が回収されない場合、気体状流出物を処理又は燃焼しなくてはな
らない。従って、粗製反応生成物中に存在する一酸化炭素を利用するための経済
的な手段は、このプロセスの総括経済性を改良することになる。
給される一酸化炭素の単位当たり生産される無水酢酸(及び任意の共生成された
酢酸)の収率を増大させる、無水酢酸製造プロセスを開発した。即ち、本発明は
、 (1)第一反応ゾーンに、(i)酢酸メチル、ジメチルエーテル又はこれらの
混合物から選ばれる反応剤化合物、(ii)ヨウ化メチル、(iii)ロジウム及び
1種又はそれ以上の助触媒を含む溶解触媒成分、(iv)酢酸溶媒並びに(v)一
酸化炭素を連続的に供給する工程(この工程においては、成分(i),(ii)及
び(iv)を含む液体反応混合物の表面よりも下に一酸化炭素を供給し、そして反
応剤化合物は無水酢酸に転化して、(i)酢酸メチル、ジメチルエーテル又はこ
れらの混合物から選ばれる反応剤化合物、(ii)ヨウ化メチル、(iii)ロジウ
ム及び1種又はそれ以上の助触媒を含む溶解触媒成分、(iv)酢酸溶媒、(v)
溶解一酸化炭素並びに(vi)無水酢酸生成物を含む第一液体反応混合物を生成す
る)、 (2)第一反応ゾーンから第一液体反応混合物を取り出し、これを、その中で
第一液体反応混合物を含む液相とオーバーヘッド蒸気相とが維持されている少な
くとも1個の反応容器からなる第二反応ゾーン(ここで、約10〜30絶対バー
ル(bara)の一酸化炭素分圧が維持され、一酸化炭素は液相の表面よりも下には
供給されず、第二反応ゾーン内の液相の滞留時間は少なくとも2分間、好ましく
は約4〜10分間である)に供給して、(i)酢酸メチル、ジメチルエーテル又
はこれらの混合物から選ばれる反応剤化合物、(ii)ヨウ化メチル、(iii)ロ
ジウム及び1種又はそれ以上の助触媒を含む溶解触媒成分、(iv)酢酸溶媒、(
v)溶解一酸化炭素並びに(vi)無水酢酸生成物を含む第二液体反応混合物を生
成する工程、並びに (3)第二反応ゾーンから第二液体反応混合物を取り出す工程 を含む、実質的に無水条件下における無水酢酸の液相製造方法であって、この方
法における一酸化炭素の利用度が増加する、即ち、第二液体反応混合物中の一酸
化炭素の濃度が、第一液体反応混合物中の一酸化炭素の濃度よりも低い方法を提
供する。典型的には、第二液体反応混合物中の一酸化炭素の濃度は、第一液体反
応混合物中の一酸化炭素濃度の、約50体積%又はそれ未満、好ましくは約5〜
50体積%である。
ル及び水を含む反応液体の存在下に、メタノールを一酸化炭素でカルボニル化す
る工程 (2)その中に溶解した一酸化炭素を有する反応液体を、第一反応器から取り
出し、それを第二反応器の中に導入する工程 (3)第二反応器内で、メタノールを反応液体中に溶解された一酸化炭素で、
7〜30秒の滞留時間及び150〜250℃の温度でカルボニル化し、そして粗
製酢酸混合物を生成する工程、並びに (4)この粗製酢酸混合物をフラッシュゾーンの中に導入して、それを蒸気相
と液相とに分離する工程 を含んでなる、酢酸の製造方法に関する。
とも2分間の滞留時間を使用する、実質的に無水条件下における無水酢酸の製造
方法を意図していない。更に、この'744号特許には、本発明の方法の第二反
応ゾーン内で使用される特別の反応系を使用することの重要性は開示されていな
い。
ジウム触媒作用カルボニル化方法の改良である。従って、本発明者らの新規な方
法は、第一反応ゾーンに、(i)酢酸メチル、ジメチルエーテル又はこれらの混
合物から選ばれる反応剤化合物、(ii)ヨウ化メチル、(iii)ロジウム及び1
種又はそれ以上の助触媒を含む溶解触媒成分、(iv)酢酸溶媒並びに(v)一酸
化炭素を連続的に供給し、その際、一酸化炭素を液体反応媒体の表面よりも下に
供給することによって実施することができる。カルボニル化ゾーンへの供給物に
は、また、ヨーロッパ特許出願公開第87,869号及び同第87,870号に
記載されているように無水酢酸と酢酸とを共生成するために、メタノール及び/
又は水を含有させることができる。本発明の方法は、実質的に無水条件下に、即
ち、水を検出できないか又は微量でのみ検出できる定常状態運転条件下で運転さ
れる。この方法に供給される任意の水は、無水酢酸の全てを酢酸に転化させるた
めに必要な量よりも著しく少ない量で供給される。
器を含んでいてよい。この容器設計は、管型反応器、カラム、槽、撹拌槽又は他
のデザインであってもよい。第一反応ゾーンは、少なくとも1個の、1個又はそ
れ以上の内部バッフルを取り付けた一般的に円筒状の容器を含み、この内部バッ
フルは、一酸化炭素ガススパージャー供給装置と組合わさって、非常に撹拌され
た再循環反応混合物を作る。第一反応ゾーン内の反応剤の滞留時間は、通常少な
くとも20分間であり、好ましくは、約30〜50分間の範囲内である。
無水酢酸を生成し、(i)酢酸メチル、ジメチルエーテル又はこれらの混合物か
ら選ばれる反応剤化合物、(ii)ヨウ化メチル、(iii)ロジウム及び1種又は
それ以上の助触媒を含む溶解触媒成分、(iv)酢酸溶媒、(v)溶解一酸化炭素
並びに(vi)無水酢酸生成物を含む第一液体反応混合物を生成する。この第一反
応混合物を、第一液体反応混合物からなる液相とオーバーヘッド蒸気相とを含む
少なくとも1個の反応容器を含んでなる第二反応ゾーンに供給する。第二反応ゾ
ーンを構成する容器(群)は、カラム又は槽設計のものであってよく、その中に
含有されている液相を撹拌する手段が備えられていてよい。一酸化炭素消耗は、
撹拌した槽反応器設計に対して、プラグフロー設計について大きいので、撹拌し
ないプラグフロー反応器が好ましい。
応混合物から消耗される一酸化炭素の量は、触媒的に活性のロジウム錯体及び反
応混合物中のその溶解度に対する可能性のある有害な影響になる、全部の又は殆
ど全部の消耗を回避するために、予定のレベルに制御することができる。オーバ
ーヘッド蒸気空間と共に反応器液体レベルを、蒸気空間が全反応器体積の約5〜
30%であるように維持することが、重要な実際的な設計特徴である。この設計
特徴によって、反応器が「封じ込められた」場合に、圧縮性ガスクッションが得
られる。封じ込めが起きたとき、溶解した一酸化炭素の反応が完結まで進むので
温度が上昇し、反応器液体の体積膨張が起こるであろう。ガスクッションが存在
することにより、ガスは、反応器の水圧レリーフ(hydraulic relief)を有する
よりも圧縮されるであろう。
は約30〜50baraの範囲内である。一酸化炭素は、ガスクッション及び所望の
全反応圧力を維持するために、第二反応ゾーンの蒸気空間に供給することができ
る。これは、第二反応ゾーンを構成する反応器の上部の液体が、一酸化炭素の飽
和限界よりも著しく低くなり(溶解した一酸化炭素が反応するので)、蒸気空間
からの一酸化炭素がガスから液体の中に拡散するので必要であろう。追加の生成
が、溶解一酸化炭素からと同様に、添加した一酸化炭素から達成されるであろう
。第二反応ゾーンに於いて、一酸化炭素は液相の表面よりも下には供給しない。
〜10分間である。第一反応混合物中に溶解されている反応剤化合物、ヨウ化メ
チル及び一酸化炭素は、第二反応ゾーン内で反応して、追加の無水酢酸を生成し
、それによって液相中の一酸化炭素の濃度を低下させる。第一反応混合物には、
通常、第二反応ゾーンに於いて一酸化炭素と反応し、一酸化炭素を消費するため
に十分な反応剤化合物が含まれている。反応剤化合物は典型的に、第一反応混合
物の全重量基準で、少なくとも5重量%の濃度で、好ましくは約20〜40重量
%の範囲内の濃度で存在している。必要により又は所望により、追加の反応剤化
合物を、第二反応ゾーンに添加することができる。
化合物、(ii)ヨウ化メチル、(iii)ロジウム及び1種又はそれ以上の助触媒
を含む溶解触媒成分、(iv)酢酸溶媒、(v)溶解一酸化炭素並びに(vi)生成
無水酢酸生成物を含む第二液体反応混合物を、第二反応ゾーンから取り出し、分
離ゾーンに供給し、そこで生成物の無水酢酸と任意の共生成された酢酸とを回収
する。前記のように、第二液体反応混合物中の一酸化炭素の濃度は、第一液体反
応混合物中の一酸化炭素濃度の、約50体積%又はそれ未満、好ましくは約5〜
50体積%である。
メチル成分の転化は、この混合物を第二反応ゾーンのガス状空間に、微細に分割
された形態で、例えば、スプレー又は乱流液体として供給することによって最大
にすることができる。第二液体反応混合物は、第二反応ゾーンの反対側端部(底
)から取り出す。この運転様式によって、ガス状空間における一酸化炭素の吸収
又は消費が増大し、従って、第一液体反応混合物中の溶解一酸化炭素を減少する
という主な目的を達成しながら、無水酢酸の生成が増大する。
〜4000ポンド/平方インチ、ゲージ−psig)のような高い温度及び全圧力で
維持されるが、175〜220℃及び35.5〜104.4bara(500〜15
00psig)の範囲内の温度及び全圧が、更に一般的である。典型的に、第二反応
ゾーン内での溶解一酸化炭素の反応が断熱的に起こることが可能であり、僅かな
温度上昇、例えば、約5℃以下の上昇になる。カルボニル化ゾーンに供給された
ガスは、本質的に一酸化炭素又は一酸化炭素と水素との混合物、例えば、一酸化
炭素と7体積%以下の水素との混合物からなっていてよい。
又はロジウムカルボニル錯体、例えば〔Rh(CO)2I〕2(これから、可溶性
触媒活性ロジウム錯体が生成される)のような種々の形態で、方法に供給するこ
とができる。例えば、米国特許第4,374,070号及びRoth等、Chem. Tech
., 1971年、第600頁の触媒説明を参照されたい。反応ゾーン内に含有さ
れる液体混合物中のロジウム濃度は、250〜1300ppmであってよいが、4
00〜1000ppmの濃度が典型的に使用される。
四級有機リン化合物若しくは有機窒素化合物のヨウ化物塩又は(2)カルボニル
化ゾーン内でヨウ化物塩を生成する無機化合物又は有機リン化合物若しくは有機
窒素化合物であってよい。有機リン又は有機窒素ヨウ化物は、ヨウ化ホスホニウ
ム、ヨウ化アンモニウム及び少なくとも1個の環へテロ原子が第四級窒素原子で
ある複素環式芳香族化合物から選ぶことができる。このようなリン含有ヨウ化物
及び窒素含有ヨウ化物の例には、トリブチル(メチル)ホスホニウムヨーダイド
、テトラブチルホスホニウムヨーダイド、テトラオクチルホスホニウムヨーダイ
ド、トリフェニル(メチル)ホスホニウムヨーダイド、テトラフェニルホスホニ
ウムヨーダイド等のようなテトラ(ヒドロカルビル)ホスホニウムヨーダイド;
テトラブチルアンモニウムヨーダイド及びトリブチル(メチル)アンモニウムヨ
ーダイドのようなテトラ(ヒドロカルビル)アンモニウムヨーダイド並びにN−
メチルピリジニウムヨーダイド、N,N′−ジメチルイミダゾリウムヨーダイド
、N−メチル−3−ピコリニウムヨーダイド、N−メチル−2,4−リチジニウ
ムヨーダイド、N−メチル−2,4−ルチジニウムヨーダイド及びN−メチルキ
ノリニウムヨーダイドのような複素環式芳香族化合物が含まれる。好ましいヨウ
化化合物塩助触媒は、ヨウ化リチウム並びにテトラアルキルホスホニウムヨーダ
イド、トリフェニル(アルキル)ホスホニウムヨーダイド、テトラアルキルアン
モニウムヨーダイド及びN,N′−ジアルキルイミダゾリウムヨーダイド(但し
、アルキル基は8個以下の炭素原子を含有する)からなる。
る化合物として供給することができる。従って、助触媒化合物は、最初はそれら
の対応する酢酸塩、水酸化物、塩化物若しくは臭化物の形態で供給することがで
き又はリン含有助触媒及び窒素含有助触媒は、リン又は窒素原子が三価である化
合物として、例えば、トリブチルホスフィン、トリブチルアミン、ピリジン、イ
ミダゾール、N−メチルイミダゾール等として供給することができ、これらはカ
ルボニル化ゾーン内に存在するヨウ化メチルによって四級化される。
用される特別の助触媒に実質的に依存して変化させることができる。例えば、反
応混合物中のヨウ化リチウムの濃度は、175〜5000ppm Li、好ましく
は1500〜3700ppm Liの範囲であってよく、これに対してリン含有助
触媒及び窒素含有助触媒は、それらのヨウ化物塩として計算し、反応混合物、即
ちカルボニル化ゾーンの含有物の全重量基準で、0.5〜25重量%の濃度で存
在してよい。反応混合物中に存在する他の材料、例えば、酢酸、無水酢酸、ヨウ
化メチル、酢酸メチル及び/又はジメチルエーテルの量は、例えば、カルボニル
化速度、滞留時間並びにヨウ化物塩助触媒及び酢酸溶媒の濃度に実質的に依存し
て変化する。
チル及び/又はジメチルエーテル、酢酸並びに無水酢酸からなる大部分と、酢酸
及び無水酢酸の混合物中の触媒成分の溶液からなる小部分とに分離する。この小
部分はカルボニル化ゾーンに再循環し、この大部分は一連の蒸留によってその成
分部分に分離する。
他の方法で示さない限り重量部で与える。パーセントは、他の方法で示さない限
り重量基準である。
よって、一酸化炭素を反応混合物の表面よりも下に供給している、1個又はそれ
以上の邪魔板を取り付けた逆混合反応容器からなる第一反応ゾーンに、下記の速
度で連続的に供給する。
し、第一反応ゾーン内に含まれる液体混合物中の400〜1000ppm〔Rh〕
及び1000〜2500ppm〔Li〕の濃度を得る。第一反応ゾーンの容量は、
約40分間の滞留時間を得るように設計されている。約190〜210℃の温度
及び約40〜50baraの全圧を、第一ゾーン内で維持する。
に取り出し、一酸化炭素を頂部の蒸気空間に供給している槽反応容器からなる第
二反応ゾーンの蒸気空間に供給する。第一液体反応混合物の組成は、ほぼ、30
%の酢酸メチル、12%のヨウ化メチル、22%の酢酸、29%の無水酢酸およ
び0.7体積%の一酸化炭素である。第一液体反応混合物のほぼ7%は、二酢酸
エチリデン、タール、アセトン、不活性物質等のような他の成分からなっている
。一酸化炭素を、第二反応ゾーンの蒸気空間に、約40〜50baraの全圧を維持
するように供給する。第二反応ゾーン内での滞留時間は、ほぼ4〜6分間である
。第二反応ゾーンに供給される一酸化炭素の量は、約20部/分である。第二反
応ゾーンに於いて、約190〜210℃の温度及び約40〜50baraの全圧を維
持する。
的に取り出し、第一分離ゾーンに供給し、そこで圧力を2〜5baraまで低下させ
て、供給混合物の約80%をフラッシュ蒸留させる。第二液体反応混合物の組成
は、ほぼ、29%の酢酸メチル、12%のヨウ化メチル、22%の酢酸、31%
の無水酢酸、0.2%の一酸化炭素及び約7%の他の物質である。蒸発しない第
二液体反応混合物のこの部分は、約37%の酢酸、45%の無水酢酸、ロジウム
及びリチウム触媒成分並びにタール及びその他の高沸点物からなる。第一液体反
応混合物中に溶解している一酸化炭素の約70%が、第二反応ゾーンで反応した
。これによって、一酸化炭素の総括利用が約90%から約95%にまで増加した
。
が本発明の精神及び範囲内で実施できることはいうまでもない。
Claims (6)
- 【請求項1】 (1)第一反応ゾーンに、(i)酢酸メチル、ジメチルエー
テル又はこれらの混合物から選ばれる反応剤化合物、(ii)ヨウ化メチル、(ii
i)ロジウム及び1種又はそれ以上の助触媒を含む溶解触媒成分、(iv)酢酸溶
媒並びに(v)一酸化炭素を連続的に供給する工程(この工程において、成分(
i),(ii)及び(iv)を含む液体反応混合物の表面よりも下に一酸化炭素を供
給し、そして反応剤化合物は無水酢酸に転化し、(i)酢酸メチル、ジメチルエ
ーテル又はこれらの混合物から選ばれる反応剤化合物、(ii)ヨウ化メチル、(
iii)ロジウム及び1種又はそれ以上の助触媒を含む溶解触媒成分、(iv)酢酸
溶媒、(v)溶解一酸化炭素並びに(vi)無水酢酸生成物を含む第一液体反応混
合物を生成せしめる)、 (2)第一反応ゾーンから第一液体反応混合物を取り出し、これを、第一液体
反応混合物を含む液相とオーバーヘッド蒸気空間とが維持されている少なくとも
1個の反応容器を含んでなる第二反応ゾーン(第二反応ゾーンは、約40〜50
絶対バール圧(bara)の全圧を維持し、一酸化炭素は液相の表面よりも下には供
給せず、第二反応ゾーン内の液相の滞留時間は少なくとも2分間である)に供給
して、(i)酢酸メチル、ジメチルエーテル又はこれらの混合物から選ばれる反
応剤化合物、(ii)ヨウ化メチル、(iii)ロジウム及び1種又はそれ以上の助
触媒からなる溶解触媒成分、(iv)酢酸溶媒、(v)溶解一酸化炭素並びに(vi
)無水酢酸生成物からなる第二液体反応混合物を生成する工程並びに (3)第二反応ゾーンから第二液体反応混合物を取り出す工程 を含んでなり、それによって、本製造方法での一酸化炭素の利用度を増大させる
、実質的に無水条件下の液相中で無水酢酸を製造する方法。 - 【請求項2】 第二液体反応混合物中の一酸化炭素の濃度が、第一液体反応
混合物中の一酸化炭素濃度の約5〜50体積%である、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 約100〜300℃の温度及び約21.7〜276.7bara
の圧力(全圧)で本製造方法を実施し、そして第二反応ゾーン内の滞留時間が約
4〜20分間である請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】 約175〜220℃の温度及び約35.5〜104.4bara
の圧力(全圧)で本製造方法を実施し、第二反応ゾーン内の滞留時間が約4〜1
0分間であり、そして第二反応ゾーンに供給される第二液体反応混合物が約20
〜40重量%の酢酸メチルを含む請求項1に記載の方法。 - 【請求項5】 (1)第一反応ゾーンに、(i)酢酸メチル、ジメチルエー
テル又はこれらの混合物から選ばれる反応剤化合物、(ii)ヨウ化メチル、(ii
i)ロジウム及び1種又はそれ以上の助触媒を含む溶解触媒成分、(iv)酢酸溶
媒並びに(v)一酸化炭素を連続的に供給する工程(この工程において、成分(
i),(ii)及び(iv)を含む液体反応混合物の表面よりも下に一酸化炭素を供
給し、そして反応剤化合物は無水酢酸に転化し、(i)酢酸メチル、ジメチルエ
ーテル又はこれらの混合物から選ばれる反応剤化合物、(ii)ヨウ化メチル、(
iii)ロジウム及び1種又はそれ以上の助触媒を含む溶解触媒成分、(iv)酢酸
溶媒、(v)溶解一酸化炭素並びに(vi)無水酢酸生成物を含む第一液体反応混
合物を生成せしめる)、 (2)第一反応ゾーンから第一液体反応混合物を取り出し、これを、微細に分
割された形態で、第一液体反応混合物を含む液相とオーバーヘッド蒸気空間とが
維持されている少なくとも1個の反応容器を含んでなる第二反応ゾーン(第二反
応ゾーンでは、約40〜50絶対バール(bara)の全圧を維持し、一酸化炭素は
蒸気空間に供給し、一酸化炭素は液相の表面よりも下には供給せず、第二反応ゾ
ーン内の液相の滞留時間は少なくとも2分間である)の蒸気空間に供給して、(
i)酢酸メチル、ジメチルエーテル又はこれらの混合物から選ばれる反応剤化合
物、(ii)ヨウ化メチル、(iii)ロジウム及び1種又はそれ以上の助触媒を含
んでなる溶解触媒成分、(iv)酢酸溶媒、(v)溶解一酸化炭素並びに(vi)無
水酢酸生成物を含む第二液体反応混合物を生成せしめる工程並びに (3)第二反応ゾーンから第二液体反応混合物を取り出す工程 を含む、約175〜220℃の温度及び約35.5〜104.4baraの圧力(全
圧)で実質的に無水条件下の液相中で無水酢酸を製造する方法であって、第二液
体反応混合物中の一酸化炭素の濃度を、第一液体反応混合物中の一酸化炭素濃度
の約5〜50体積%とする方法。 - 【請求項6】 第二反応ゾーン内の滞留時間が約4〜10分間であり、そし
て第二反応ゾーンに供給する第二液体反応混合物が、約20〜40重量%の酢酸
メチルを含む請求項5に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/066,985 | 1998-04-24 | ||
US09/066,985 US5922911A (en) | 1998-04-24 | 1998-04-24 | Process for the manufacture of acetic anhydride |
PCT/US1999/008026 WO1999055658A1 (en) | 1998-04-24 | 1999-04-13 | Process for the manufacture of acetic anhydride |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002512995A true JP2002512995A (ja) | 2002-05-08 |
JP2002512995A5 JP2002512995A5 (ja) | 2006-06-15 |
JP4662624B2 JP4662624B2 (ja) | 2011-03-30 |
Family
ID=22073004
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000545819A Expired - Lifetime JP4662624B2 (ja) | 1998-04-24 | 1999-04-13 | 無水酢酸の製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5922911A (ja) |
EP (1) | EP1073619B1 (ja) |
JP (1) | JP4662624B2 (ja) |
CN (1) | CN1135212C (ja) |
BR (1) | BR9909840B1 (ja) |
DE (1) | DE69917896T2 (ja) |
WO (1) | WO1999055658A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014503493A (ja) * | 2010-11-12 | 2014-02-13 | イーストマン ケミカル カンパニー | 酢酸と無水酢酸の同時製造 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6222070B1 (en) | 1999-09-07 | 2001-04-24 | Eastman Chemical Company | Method for reducing EDA in acetic anhydride production |
US6596781B1 (en) * | 2002-05-02 | 2003-07-22 | Chevron U.S.A. Inc. | Integrated process for preparing Fischer-Tropsch products and acetic acid from synthesis gas |
EP1548085A4 (en) * | 2002-10-04 | 2010-05-19 | Nok Corp | MATERIAL OF SEALING |
US7737298B2 (en) * | 2006-06-09 | 2010-06-15 | Eastman Chemical Company | Production of acetic acid and mixtures of acetic acid and acetic anhydride |
US7582792B2 (en) * | 2006-06-15 | 2009-09-01 | Eastman Chemical Company | Carbonylation process |
US7253304B1 (en) | 2006-06-20 | 2007-08-07 | Eastman Chemical Company | Carbonylation process |
US7629491B2 (en) * | 2006-06-26 | 2009-12-08 | Eastman Chemical Company | Hydrocarboxylation process |
US20090247783A1 (en) * | 2008-04-01 | 2009-10-01 | Eastman Chemical Company | Carbonylation process |
BR112013011438A2 (pt) | 2010-11-12 | 2016-08-09 | Eastman Chem Co | processo para refinar uma mistura de acetilas bruta |
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1998
- 1998-04-24 US US09/066,985 patent/US5922911A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-04-13 WO PCT/US1999/008026 patent/WO1999055658A1/en active IP Right Grant
- 1999-04-13 EP EP99916651A patent/EP1073619B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-13 CN CNB998053821A patent/CN1135212C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-13 BR BRPI9909840-7A patent/BR9909840B1/pt not_active IP Right Cessation
- 1999-04-13 DE DE69917896T patent/DE69917896T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-13 JP JP2000545819A patent/JP4662624B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BR9909840A (pt) | 2000-12-19 |
EP1073619B1 (en) | 2004-06-09 |
EP1073619A1 (en) | 2001-02-07 |
US5922911A (en) | 1999-07-13 |
DE69917896T2 (de) | 2004-10-28 |
WO1999055658A1 (en) | 1999-11-04 |
BR9909840B1 (pt) | 2011-11-01 |
JP4662624B2 (ja) | 2011-03-30 |
CN1298380A (zh) | 2001-06-06 |
CN1135212C (zh) | 2004-01-21 |
DE69917896D1 (de) | 2004-07-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060412 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060412 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090331 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090618 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090625 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090929 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100330 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100630 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110104 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140114 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
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