JP2002504889A

JP2002504889A - 改良された金属―リガンド錯体触媒されるプロセス

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Publication number: JP2002504889A
Application number: JP52144497A
Authority: JP
Inventors: ロバートブライアント，デイビッド; クレアニコルソン，ジェイムズ
Original assignee: ユニオンカーバイドケミカルズアンドプラスティックステクノロジーコーポレイション
Priority date: 1995-12-06
Filing date: 1996-12-05
Publication date: 2002-02-12
Also published as: AU720052B2; EA001547B1; CN1203574A; US5789625A; SK68998A3; EP0865418B1; CA2239570A1; WO1997020799A1; EP1108707A1; MX203410B; AU1281297A; DE69616586D1; DE69616586T2; EA199800514A1; CZ174798A3; MX9804496A; EP0865418A1; PL327112A1

Abstract

(57)【要約】本発明は、一種又はそれ以上のリン酸性化合物、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドを含有する反応生成物流体から一種又はそれ以上のリン酸性化合物を分離する方法であって、（ａ）該反応生成物流体を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の水で処理しかつ（ｂ）該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水を、該水から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の酸除去物質で処理することを含む方法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】改良された金属−リガンド錯体触媒されるプロセス発明の簡単な要約技術分野本発明は、改良された金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒されるプロセスに関する。一層特には、本発明は、一種又はそれ以上の酸除去物質を、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒されるプロセスにおいて形成されるリン酸性化合物を除き、それによりかかるプロセスのオルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させるために用いることに関する。発明の背景一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の存在において反応させることによって種々の生成物を製造し得ることは当分野において知られている。しかし、触媒及びオルガノホスフィットリガンドを安定化させることは、依然当分野の主要な関心のままである。触媒安定性が、いずれの触媒を採用する際のキーの問題であるのは自明のことである。極めて費用のかかる金属触媒の望ましくない反応による触媒又は触媒活性の損失は、所望の生成物を製造するのに不利になり得る。同様に、プロセスの間に採用されるオルガノホスフィットリガンドの崩壊は、毒作用性オルガノホスフィット化合物又はインヒビター又は酸性副生物に至り得、金属触媒の触媒活性を低下させ得る。その上に、触媒の生産性が低下する場合に、生成物の生産費が増大するのは自明のことである。例えば、オルガノホスフィットリガンド崩壊及び金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒されるヒドロポルミル化プロセスの触媒失活の主要な原因は、オルガノホスフィットリガンドの加水分解不安定性による。すべてのオルガノホスフィットは、どっちみち加水分解を受け、オルガノホスフィットの加水分解速度は、オルガノホスフィットの立体化学的性質に依存するのが普通である。リン原子の回りの立体環境が大きい程、加水分解速度は遅くなるのが普通である。例えば、トリフェニルホスフィットのような第三級トリオルガノホスフィットは、米国特許第４，７３７，５８８号に開示されているようなジオルガノホスフィットや米国特許第４，７４８，２６１号及び同第４，７６９，４９８号に開示されているようなオルガノポリホスフィットに比べて一層加水分解を受けやすい。その上に、そのような加水分解反応はすべて、必ずリン酸性化合物を生成し、リン酸性化合物は加水分解反応を触媒する。例えば、第三級オルガノホスフィットの加水分解は、ホスホン酸ジエステルを生成し、これはホスホン酸モノエステルに加水分解可能であり、これは立ち代わってＨ₃ＰＯ₃酸に加水分解可能である。その上に、ホスホン酸ジエステルとアルデヒドとの間又は所定のオルガノホスフィットリガンドとアルデヒドとの間のような副反応の補助生成物の加水分解は、望ましくない強アルデヒド酸、例えばｎ−Ｃ₃Ｈ₇ＣＨ（ＯＨ）Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）₂ を生成するに至り得る。実際、例えば米国特許第５，２８８，９１８号及び同第５，３６４，９５０号に示されている通りに、大して加水分解可能でない極めて望ましい立体障害されるオルガノビスホスフィットは、アルデヒド生成物と反応して毒作用性オルガノホスフィット、例えばオルガノモノホスフィットを形成し得、これらは触媒インヒビターになるばかりでなく、ずっと一層加水分解及びそのようなアルデヒド酸副生物、例えばヒドロキシアルキルホスホン酸の形成を受けやすい。更に、オルガノホスフィットリガンドの加水分解は、そのようなリン酸性化合物、例えばＨ₃ ＰＯ₃、ヒドロキシアルキルホスホン酸のようなアルデヒド酸、Ｈ₃ＰＯ₄、等を生成することに鑑みて、自触媒性であると考えられ得、かつ調べられないままにされるならば、連続液体循環ヒドロホルミル化プロセスの触媒システムは、経時的にますます酸性になることになる。こうして、やがては、かかるリン酸性物質が終局的に容認し得ない量で蓄積して、存在するオルガノホスフィットの全破壊を引き起こし、それによりヒドロホルミル化触媒を完全に効果のない（失活された）ものにしかつ有用なロジウム金属に、例えば沈殿及び／又は反応装置の壁上への付着による損失を受けさせ得る。ヒドロホルミル化プロセスに付随する別の問題は、金属塩汚染に関係する。例えば、米国特許第４，１４３，０７５号を参照。ヒドロホルミル化反応生成物流体中の金属塩汚染物、例えば鉄、亜鉛、カルシウム塩、等は、アルデヒドの自己縮合を助成する。そのような所望されないアルデヒドの縮合生成物は、分子量が分子量に換算してダイマー構造からテトラマー構造及びそれ以上に変わるアルドール縮合生成物を含む。ＵＳ−Ａ−４５９９２０６は、遷移金属ジオルガノホスフィット錯体触媒されるカルボニル化プロセス及びヒドロホルミル化の間のヒドロキシアルキルリン酸の生成及びリガンド分解の望ましくないことについて開示している。その明細書は、そのような酸を塩基性アニオン交換樹脂で又は第三級アミンを用いることによって制御する又は除く方法について開示している。よって、そのようなオルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させる良好な結果を得る代わりの方法は、当分野に極めて望ましいであろう。発明の開示今、一種又はそれ以上の酸除去物質、例えば金属の酸化物、水酸化物、カーボネート及び／又はカルボキシレートが、有効にかかるリン酸性化合物を除き、これより金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒を採用するプロセスの間に時間経過にわたって起き得るオルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させるのに採用し得ることを見出した。所定の酸除去物質の酸度除去能力を、金属塩の反応生成物流体への移動を最少にして用いることができることを見出した。また、驚くべきことに、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒を含有する反応生成物流体を酸除去物質に接触させ又は水に接触させかつ接触させた水を、次いで高い温度においてさえ酸除去物質で処理する場合に、生じるオルガノホスフィットリガンドの損失が最少であることを見出した。本発明は、一部分、一種又はそれ以上のリン酸性化合物、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドを含有する反応生成物流体から一種又はそれ以上のリン酸性化合物を分離する方法であって、（ａ）該反応生成物流体を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の水で処理しかつ（ｂ）該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水を、該水から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の酸除去物質で処理することを含む方法に関する。本発明は、また、一部分、オルガノホスフィットリガンドを加水分解崩壊に対して及び／又は金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒を失活に対して安定化する方法であって、（ａ）金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドを含有しかつまた一種又はそれ以上のリン酸性化合物も含有する反応生成物流体を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の水で処理しかつ（ｂ）該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水を、該水から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の酸除去物質で処理することを含む方法にも関する。本発明は、更に、一部分、オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び／又は金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させる方法であって、（ａ）金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドを含有しかつまた一種又はそれ以上のリン酸性化合物も含有する反応生成物流体を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の水で処理しかつ（ｂ）該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水を、該水から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の酸除去物質で処理することを含む方法にも関する。本発明は、なお更に、一部分、一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上の生成物を含む反応生成物流体を生成することを含む改良されたプロセスであって、該プロセスに由来しかつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理することによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法に関する。本発明は、また、一部分、（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上の生成物を含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上の生成物を分離することを含む一種又はそれ以上の生成物を製造する改良されたプロセスであって、（ａ）少なくとも１つのスクラバー域において、該プロセスに由来しかつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の水で処理しかつ（ｂ）少なくとも１つの酸除去域において、該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水の少なくとも一部を、該水から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理することによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法に関する。本発明は、更に、一部分、（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上の生成物を含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上の生成物を分離することを含む一種又はそれ以上の生成物を製造する改良されたプロセスであって、（ａ）少なくとも１つの酸除去域において、該プロセスに由来しかつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理し、かつ（ｂ）処理した反応生成物流体を該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域に戻すことによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法に関する。本発明は、なお更に、一部分、（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上の生成物を含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上の生成物を分離することを含む一種又はそれ以上の生成物を製造する改良されたプロセスであって、（ａ）少なくとも１つのスクラバー域において、該プロセスに由来しかつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の水で処理し、（ｂ）処理した反応生成物流体を該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域に戻し、（ｃ）少なくとも１つの酸除去域において、該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水の少なくとも一部を、該水から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理し、かつ（ｄ）処理した水を該少なくとも１つのスクラバー域に戻すことによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法に関する。本発明は、また、一部分、（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上の生成物を含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上の生成物を分離することを含む一種又はそれ以上の生成物を製造する改良されたプロセスであって、（ａ）該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域から、該プロセスに由来しかつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する反応生成物流体の少なくとも一部を抜き出し、（ｂ）少なくとも１つの酸除去域において、該プロセスに由来しかつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する抜き出した反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理し、（ｃ）処理した反応生成物流体を該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域に戻し、かつ（ｄ）必要に応じて該一種又はそれ以上の酸除去物質を取り代えることによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法に関する。本発明は、更に、一部分、（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上の生成物を含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上の生成物を分離することを含む一種又はそれ以上の生成物を製造する改良されたプロセスであって、（ａ）該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域から、該プロセスに由来しつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を抜き出し、（ｂ）少なくとも１つのスクラバー域において、該プロセスに由来しかつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する抜き出した反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の水で処理し、（ｃ）処理した反応生成物流体を該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域に戻し、（ｄ）少なくとも１つのスクラバー域から、該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する該水の少なくとも一部を抜き出し、（ｅ）少なくとも１つの酸除去域において、該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する抜き出した水の少なくとも一部を、該水から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理し、（ｆ）処理した水を該少なくとも１つのスクラバー域に戻し、かつ（ｇ）必要に応じて該一種又はそれ以上の酸除去物質を取り代えることによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法に関する。本発明は、なお更に、一部分、（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上の生成物を含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上の生成物を分離することを含む一種又はそれ以上の生成物を製造する改良されたプロセスであって、該プロセスに由来しかつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質を該少なくとも１つの反応域及び／又は該少なくとも１つの分離域に導入することによって処理することによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法に関する。本発明は、また、一部分、（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上の生成物を含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上の生成物を分離することを含む一種又はそれ以上の生成物を製造する改良されたプロセスであって、（ａ）該プロセスに由来しかつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の水を該少なくとも１つの反応域及び／又は該少なくとも１つの分離域に導入することによって処理しかつ（ｂ）少なくとも１つの酸除去域において、該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水の少なくとも一部を、該水から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理することによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属 −オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法に関する。本発明は、更に、一部分、（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上の生成物を含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上の生成物を分離することを含む一種又はそれ以上の生成物を製造する改良されたプロセスであって、（ａ）該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域から、該プロセスに由来しかつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する反応生成物流体の少なくとも一部を抜き出し、（ｂ）少なくとも１つのスクラバー域において、該プロセスに由来しかつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する抜き出した該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の水で処理し、（ｃ）処理した反応生成物流体を該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域に戻し、（ｄ）該少なくとも１つのスクラバー域において、該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水の少なくとも一部を、該水から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理し、かつ（ｅ）必要に応じて該一種又はそれ以上の酸除去物質を取り代えることによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法に関する。本発明は、一部分、一種又はそれ以上のリン酸性化合物、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドを含有するヒドロホルミル化反応生成物流体から一種又はそれ以上のリン酸性化合物を分離するプロセスであって、（ａ）該ヒドロホルミル化反応生成物流体を、該ヒドロホルミル化反応生成物流体から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の水で処理しかつ（ｂ）該ヒドロホルミル化反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水を、該水から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の酸除去物質で処理することを含む方法に関する。本発明は、また、一部分、オルガノホスフィットリガンドを加水分解崩壊に対して及び／又は金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒を失活に対して安定化する方法であって、（ａ）金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドを含有しかつまた一種又はそれ以上のリン酸性化合物も含有するヒドロホルミル化反応生成物流体を、該ヒドロホルミル化反応生成物流体から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の水で処理しかつ（ｂ）該ヒドロホルミル化反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水を、該水から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の酸除去物質で処理することを含む方法にも関する。本発明は、更に、一部分、オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させる方法であって、（ａ）金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドを含有しかつまた一種又はそれ以上のリン酸性化合物も含有するヒドロホルミル化反応生成物流体を、該ヒドロホルミル化反応生成物流体から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の水で処理しかつ（ｂ）該ヒドロホルミル化反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水を、該水から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の酸除去物質で処理することを含む方法に関する。本発明は、なお更に、一部分、一種又はそれ以上のオレフィン系不飽和化合物を一酸化炭素及び水素と金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上のアルデヒドを含む反応生成物流体を生成することを含む改良されたヒドロホルミル化プロセスであって、該ヒドロホルミル化プロセスに由来しかつまた該ヒドロホルミル化プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理することによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法に関する。本発明は、また、一部分、（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上のオレフィン系不飽和化合物を一酸化炭素及び水素と金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上のアルデヒドを含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上のアルデヒドを分離することを含む一種又はそれ以上のアルデヒドを製造する改良されたヒドロホルミル化プロセスであって、（ａ）少なくとも１つのスクラバー域において、該ヒドロホルミル化プロセスに由来しかつまた該ヒドロホルミル化プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の水で処理しかつ（ｂ）少なくとも１つの酸除去域において、該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水の少なくとも一部を、該水から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理することによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法に関する。本発明は、更に、一部分、（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上のオレフィン系不飽和化合物を一酸化炭素及び水素と金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上のアルデヒドを含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上のアルデヒドを分離することを含む一種又はそれ以上のアルデヒドを製造する改良されたヒドロホルミル化プロセスであって、（ａ）少なくとも１つの酸除去域において、該ヒドロホルミル化プロセスに由来しかつまた該ヒドロホルミル化プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理しかつ（ｂ）処理した反応生成物流体を該少なくとも１つの分離域又は該少なくとも１つの反応域に戻すことによって該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法に関する。本発明は、なお更に、一部分、（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上のオレフィン系不飽和化合物を一酸化炭素及び水素と金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上のアルデヒドを含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上のアルデヒドを分離することを含む一種又はそれ以上のアルデヒドを製造する改良されたヒドロホルミル化プロセスであって、（ａ）少なくとも１つのスクラバー域において、該ヒドロホルミル化プロセスに由来しかつまた該ヒドロホルミル化プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の水で処理し、（ｂ）処理した反応生成物流体を該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域に戻し、（ｃ）少なくとも１つの酸除去域において、該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水の少なくとも一部を、該水から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理し、かつ（ｄ）処理した水を該少なくとも１つのスクラバー域に戻すことによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法に関する。本発明は、また、一部分、（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上のオレフィン系不飽和化合物を一酸化炭素及び水素と金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上のアルデヒドを含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上のアルデヒドを分離することを含むアルデヒドを製造する改良されたヒドロホルミル化プロセスであって、（ａ）該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域から、該ヒドロホルミル化プロセスに由来しかつまた該ヒドロホルミル化プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を抜き出し、（ｂ）少なくとも１つの酸除去域において、いずれの該ヒドロホルミル化プロセスに由来しかつまた該ヒドロホルミル化プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する抜き出した反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理し、（ｃ）処理した反応生成物流体を該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域に戻し、かつ（ｄ）必要に応じて該一種又はそれ以上の酸除去物質を取り代えることによって該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法に関する。本発明は、更に、一部分、（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上のオレフィン系不飽和化合物を一酸化炭素及び水素と金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上のアルデヒドを含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上のアルデヒドを分離することを含むアルデヒドを製造する改良されたヒドロホルミル化プロセスであって、（ａ）該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域から、該ヒドロホルミル化プロセスに由来しかつまた該ヒドロホルミル化プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を抜き出し、（ｂ）少なくとも１つのスクラバー域において、該ヒドロホルミル化プロセスに由来しかっまた該ヒドロホルミル化プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する抜き出した該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の水で処理し、（ｃ）処理した反応生成物流体を該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域に戻し、（ｄ）少なくとも１つのスクラバー域から、該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する該水の少なくとも一部を抜き出し、（ｅ）少なくとも１つの酸除去域において、該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する抜き出した水の少なくとも一部を、該水から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理し、（ｆ）処理した水を該少なくとも１つのスクラバー域に戻し、かつ（ｇ）必要に応じて該一種又はそれ以上の酸除去物質を取り代えることによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法に関する。本発明は、なお更に、一部分、（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上のオレフィン系不飽和化合物を一酸化炭素及び水素と金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上のアルデヒドを含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上のアルデヒドを分離することを含む一種又はそれ以上の生成物を製造する改良されたプロセスであって、該ヒドロホルミル化プロセスに由来しかつまた該ヒドロホルミル化プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質を該少なくとも１つの反応域及び／又は該少なくとも１つの分離域に導入することによって処理することによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法に関する。本発明は、また、一部分、（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上のオレフィン系不飽和化合物を一酸化炭素及び水素と金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上のアルデヒドを含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上のアルデヒドを分離することを含む一種又はそれ以上のアルデヒドを製造する改良されたヒドロホルミル化プロセスであって、（ａ）該ヒドロホルミル化プロセスに由来しかつまた該ヒドロホルミル化プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の水を該少なくとも１つの反応域及び／又は該少なくとも１つの分離域に導入することによって処理しかつ（ｂ）少なくとも１つの酸除去域において、該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水の少なくとも一部を、該水から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理することによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法に関する。本発明は、更に、一部分、（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上のオレフィン系不飽和化合物を一酸化炭素及び水素と金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上のアルデヒドを含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は該少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上のアルデヒドを分離することを含むアルデヒドを製造する改良されたヒドロホルミル化プロセスであって、（ａ）該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域から、該ヒドロホルミル化プロセスに由来しかつまた該ヒドロホルミル化プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を抜き出し、（ｂ）少なくとも１つのスクラバー域において、該ヒドロホルミル化プロセスに由来しかつまた該ヒドロホルミル化プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する抜き出した該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の水で処理し、（ｃ）処理した反応生成物流体を該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域に戻し、（ｄ）少なくとも１つのスクラバー域において、該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水の少なくとも一部を、該水から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理し、かつ（ｅ）必要に応じて該一種又はそれ以上の酸除去物質を取り代えることによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法に関する。図面の簡単な説明図１は、本発明に従う、水抽出によって取り出した一種又はそれ以上のアルデヒドを回収しかつヒドロホルミル化プロセスに戻すプロセスの簡単なプロセスフローダイヤグラムである。詳細な記述全般的な手順本発明のプロセスは、不斉でも又は非不斉でもよく、任意の連続又は半連続様式で実施してよくかつ所望する任意の触媒液体及び／又はガス循環作業を伴うことができ、好適なプロセスは非不斉である。一種又はそれ以上の反応体から生成物を製造する特定のプロセス、並びにプロセスの反応条件及び成分は、本発明の臨界的な特徴ではない。本発明の処理加工技術は、従来慣用のプロセスにおいて採用される既知の処理加工技術のいずれかに一致してよい。例えば、プロセスは、液状状態又はガス状状態でかつ連続、半連続又はバッチ様式のいずれかで実施することができかつ液体循環及び／又はガス循環作業又はそのようなシステムの組合せを所望の通りに伴うことができる。同様に、反応成分、触媒及び溶媒を添加する仕方又は順序もまた臨界的なものではなく、任意慣用の様式で行ってよい。本明細書中に用いる通りの「反応生成物流体」なる用語は、下記の内のいずれか一種又はそれ以上をかなりの量で含有する反応混合物を含むことを意図し、これに限定しない：（ａ）金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒、（ｂ）遊離のオルガノホスフィットリガンド、（ｃ）反応において形成される一種又はそれ以上のリン酸性化合物、（ｄ）反応において形成される生成物、（ｅ）未反応の反応体、及び（ｆ）該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び該遊離のオルガノホスフィットリガンド用の有機可溶化剤。反応生成物流体は、下記を包含し、これらに限定しない：（ａ）反応域中の反応媒体、（ｂ）分離域に向かう途中の反応媒体流、（ｃ）分離域中の反応媒体、（ｄ）分離域と反応域との間の循環流、（ｅ）水で処理するために反応域又は分離域から抜き出された反応媒体、（ｆ）水で処理する抜き出された反応媒体、（ｇ）反応域又は分離域に戻す処理された反応媒体、及び（ｈ）外部クーラー中の反応媒体。本発明は、既知の慣用の合成を、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒を用いて慣用の様式で実施することを包含し、ここで該プロセスから出かつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒含有反応生成物流体を、（ａ）該反応生成物流体から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を中和しかつ除く程の水で処理し及び（ｂ）該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水を、水で処理した該一種又はそれ以上のリン酸性化合物の少なくともいくらかの量を該水から除く程の酸除去物質で処理してオルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させる。プロセスの具体例は、例えば、ヒドロホルミル化、ヒドロアシル化（分子内及び分子間）、ヒドロシアン化、ヒドロアミド化、ヒドロエステル化、アミノリシス、アルコーリシス、カルボニル化、オレフィン異性化、転移水素化、等を含む。好適なプロセスは、有機化合物を一酸化炭素と、又は一酸化炭素及び第三の反応体、例えば水素と、又はシアン化水素と、触媒量の金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の存在において反応させることを含む。最も好適なプロセスは、ヒドロホルミル化、ヒドロシアン化及びカルボニル化を含む。ヒドロホルミル化は、当分野で知られている慣用の手順に従って実施することができる。例えば、アルデヒドは、オレフィン系化合物、一酸化炭素及び水素を本明細書中に記載する金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の存在においてヒドロホルミル化条件下で反応させることによって調製することができる。別法として、ヒドロキシアルデヒドは、エポキシド、一酸化炭素及び水素を本明細書中に記載する金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の存在においてヒドロホルミル化条件下で反応させることによって調製することができる。ヒドロキシアルデヒドは、水素化してジオールにすることができ、例えばヒドロキシプロピオンアルデヒドは、水素化してプロパンジオールにすることができる。ヒドロホルミル化プロセスを、本明細書中以下に一層完全に説明する。分子内ヒドロアシル化は、当分野で知られている慣用の手順に従って実施することができる。例えば、オレフィン基を炭素３〜７隔てて含有するアルデヒドを、本明細書中に記載する金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の存在においてヒドロアシル化条件下で環状ケトンに転化させることができる。分子間ヒドロアシル化は、当分野で知られている慣用の手順に従って実施することができる。例えば、ケトンを、オレフィンとアルデヒドとを本明細書中に記載する金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の存在においてヒドロアシル化条件下で反応させることによって調製することができる。ヒドロシアン化は、当分野で知られている慣用の手順に従って実施することができる。例えば、ニトリル化合物を、オレフィン系化合物とシアン化水素とを本明細書中に記載する金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の存在においてヒドロシアン化条件下で反応させることによって調製することができる。好適なヒドロシアン化プロセスは、非共役の非環状脂肪族モノオレフィン、エステル基に結合されたモノオレフィン、例えばメチルペンタ−２−エネオエート、又はニトリル基に結合されたモノオレフィン、例えば３−ペンテンニトリルをシアン化水素源とゼロ価のニッケル及び二座ホスフィットリガンドを含む触媒プリカーサー組成物の存在において反応させて末端オルガノニトリル、例えばアジポニトリル、アルキル５−シアノバレレート又は３−（ペルフルオロアルキル）プロピオニトリルを製造することを含む。反応は、ルイス酸プロモーターの存在において実施するのが好ましい。ヒドロシアン化プロセスの例は、米国特許第５，５２３，４５３号及びＷＯ９５／１４６５９に開示されており、これらの開示を本明細書中に援用する。ヒドロアミド化は、当分野で知られている慣用の手順に従って実施することができる。例えば、アミドを、オレフィン、一酸化炭素及び第一級又は第二級アミン又はアンモニアを本明細書中に記載する金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の存在においてヒドロアミド化条件下で反応させることによって調製することができる。ヒドロエステル化は、当分野で知られている慣用の手順に従って実施することができる。例えば、エステルを、オレフィン、一酸化炭素及びアルコールを本明細書中に記載する金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の存在においてヒドロエステル化条件下で反応させることによって調製することができる。アミノリシス化は、当分野で知られている慣用の手順に従って実施することができる。例えば、アミンを、オレフィンと第一級又は第二級アミンとを本明細書中に記載する金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の存在においてアミノリシス条件下で反応させることによって調製することができる。アルコーリシスは、当分野で知られている慣用の手順に従って実施することができる。例えば、エーテルを、オレフィンとアルコールとを本明細書中に記載する金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の存在においてアルコーリシス条件下で反応させることによって調製することができる。カルボニル化は、当分野で知られている慣用の手順に従って実施することができる。例えば、ラクトンを、アリル系アルコールを一酸化炭素で本明細書中に記載する金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の存在においてカルボニル化条件下で処理することによって調製することができる。異性化は、当分野で知られている慣用の手順に従って実施することができる。例えば、アリル系アルコールを本明細書中に記載する金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の存在において異性化条件下で異性化させてアルデヒドを調製することができる。転移水素化は、当分野で知られている慣用の手順に従って実施することができる。例えば、アルコールを、ケトンとアルコールとを本明細書中に記載する金属 −オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の存在において転移水素化条件下で反応させることによって調製することができる。本発明のプロセスが包含する許容し得る出発原料反応体は、所望する特定のプロセスに応じて選ぶのはもちろんである。そのような出発原料は、当分野で良く知られており、慣用の方法に従って慣用の量で用いることができる。出発原料反応性の例は、例えば下記を含む：置換された及び未置換のアルデヒド（分子内ヒドロアシル化）、オレフィン（ヒドロホルミル化、カルボニル化、分子間ヒドロアシル化、ヒドロシアン化、ヒドロアミド化、ヒドロエステル化、アミノリシス、アルコーリシス）、ケトン（転移水素化）、エポキシド（ヒドロホルミル化、ヒドロシアン化）、アルコール（カルボニル化）、等。本発明のプロセスを実施するために適した反応体の例は、Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ，ＥｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａｏｆＣｈｅｍｉｃａｌＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、第４版、１９９６に記載されており、それの関係する部分を本明細書中に援用する。本発明が包含するプロセスにおいて用いることが可能な金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒並びにそれらの製造方法の例は、当分野で良く知られており、下記に挙げる特許に開示されているものを含む。通常、そのような触媒は、かかる参考文献に記載されている通りに予備形成又は現場で形成され、本質的にオルガノホスフィットリガンドと錯体結合している金属からなり得る。活性な種は、また、金属に直接結合された一酸化炭素及び／又は水素も含有し得る。プロセスにおいて有用な触媒は、光学的に活性な又は光学的に活性でない金属 −オルガノホスフィットリガンド錯体触媒を含む。金属−オルガノホスフィットリガンド錯体を構成する許容し得る金属は、ロジウム（Ｒｈ）、コバルト（Ｃｏ）、イリジウム（Ｉｒ）、ルテニウム（Ｒｕ）、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、白金（ｐｔ）、オスミウム（Ｏｓ）及びこれらの混合物から選ぶ８、９及び１０族金属を含み、好適な金属は、ロジウム、コバルト、イリジウム及びルテニウム、一層好ましくはロジウム、コバルト及びルテニウム、特にロジウムである。その他の許容し得る金属は、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）及びこれらの混合物から選ぶ１１族金属、並びにまたクロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）及びこれらの混合物から選ぶ６族金属も含む。また、６、８、９、１０及び１１族からの金属の混合物も本発明において用いてよい。金属−オルガノホスフィットリガンド錯体及び遊離のオルガノホスフィットリガンドを構成する許容し得るオルガノホスフィットリガンドは、モノ−、ジ−、トリ−及び一層高級なポリオルガノホスフィットを含む。そのようなリガンドの混合物を、所望ならば金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び／又は遊離のリガンドにおいて用いてよく、かかる混合物は又は異なってもよい。本発明は、許容し得るオルガノホスフィットリガンド又はこれらの混合物によっていささかも制限されることを意図しない。本発明の良好な結果を得る実施は、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体種の正確な構造に依存せずかつそれに予測されず、かかる金属−オルガノホスフィットリガンド錯体種は、それらの一核、二核及び／又はそれよりも多い核状態の形態で存在してよいことに留意すべきである。実際、正確な構造は、知られていない。本発明では、理論又は機構上の考察に何ら束縛されるつもりはないが、触媒種は、用いる際に、その最も簡単な形態で、金属が本質的にオルガノホスフィットリガンド及び一酸化炭素及び／又は水素と錯体結合してなるようである。本明細書中及び請求の範囲において用いる通りの「錯体」なる用語は、独立に存在することができる１つ又はそれ以上の電子的に富む分子又は原子と１つ又はそれ以上の電子的に貧の分子又は原子であって、それらの各々もまた独立に存在することができるものとを結び付けることによって形成される配位化合物を意味する。例えば、本発明において採用することができるオルガノホスフィットリガンドは、１つ又はそれ以上のリンドナー原子であって、各々は、各々独立に又はおそらく金属と共同して（例えば、キレートにより）配位共有結合を形成することができる１つの利用可能な又は未共有の電子対を有するものを保持してよい。一酸化炭素（また、適宜にリガンドと分類される）もまた存在しかつ金属と錯形成されることができる。錯体触媒の終局の組成は、また、更なるリガンド、例えば水素又は金属の配位座又は核電荷を満たすアニオンも含有してよい。更なるリガンドの例は、例えば下記を含む：ハロゲン（Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、アルキル、アリール、置換されたアリール、アシル、ＣＦ₃、Ｃ₂Ｆ₅、ＣＮ、（Ｒ）₂ＰＯ及びＲＰ（Ｏ）（ＯＨ）Ｏ（ここで、各々のＲは同じであり又は異なりかつ置換された又は未置換の炭化水素ラジカルであり、例えばアルキル又はアリールである）、アセテート、アセチルアセトネート、ＳＯ₄、ＰＦ₄、ＰＦ₆、ＮＯ₂、ＮＯ₃、ＣＨ₃Ｏ、ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂、ＣＨ₃ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂、Ｃ₆Ｈ₅ＣＮ、ＣＨ₃ＣＮ、ＮＨ₃、ピリジン、（Ｃ₂Ｈ₅）₃Ｎ、モノ−オレフィン、ジオレフィン及びトリオレフィン、テトラヒドロフラン、等。錯体種には、触媒を被毒し又は触媒性能に対して過度の悪影響を及ぼすことになり得る更なる有機リガンド又はアニオンが何ら存在しないのが好ましいことが理解されるべきであるのはもちろんである。金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒されるプロセス、例えばヒドロホルミル化では、活性な触媒には、金属に直接結合されるハロゲンやイオウが存在しないことが好適であるが、そのようなことは、絶対に必要というわけではない。そのような金属上の利用可能な配位座の数は、当分野において良く知られている。これより、触媒種は、錯体触媒混合物を、それらのモノマー、ダイマー又はそれよりも多い核状態の形態で含んでよく、かかる形態は、金属、例えばロジウム１分子当り少なくとも１個のオルガノホスフィット含有分子が錯化されていることを特徴とするのが好ましい。例えば、ヒドロホルミル化反応において用いる好適な触媒の触媒種は、一酸化炭素及び水素ガスがヒドロホルミル化反応によって用いられることに鑑みて、オルガノホスフィットリガンドに加えて、一酸化炭素及び水素と錯形成され得ることが考えられる。プロセスの金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒のリガンド及び／又は遊離のリガンドとして働くことができるオルガノホスフィット並びに本発明の反応生成物流体は、アキラル（光学的に不活性な）タイプでも又はキラル（光学的に活性な）タイプでもよく、当分野において良く知られている。「遊離リガンド」とは、錯体触媒の金属、例えば金属原子と錯形成（金属に接合又は結合）されないリガンドを意味する。本明細書中に述べた通りに、本発明のプロセス、特にヒドロホルミル化プロセスは、遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において実施することができる。アキラルオルガノホスフィットが好適である。本発明の金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒含有流体反応生成物及び／又はまた該反応生成物流体中に存在し得る任意の遊離のオルガノホスフィットリガンドのリガンドとして働くことができるオルガノホスフィットの中に、モノオルガノホスフィット、ジオルガノホスフィット、トリオルガノホスフィット及びオルガノポリホスフィット化合物がある。本発明において用いることが可能なそのようなオルガノホスフィットリガンド及び／又はそれらの製造方法は、当分野において良く知られている。代表的なモノオルガノホスフィットは、下記の式を有するものを含むことができる：式中、Ｒ¹は、三価の非環状及び三価の環状ラジカル、例えば１，２，２−トリメチロールプロパン、等に由来するもののような三価のアルキレンラジカル、又は１，３，５−トリヒドロキシシクロヘキサン、等に由来するもののような三価のシクロアルキレンラジカルのような、炭素原子４〜４０又はそれ以上を含有する置換された又は未置換の三価の炭化水素ラジカルを表わす。そのようなモノオルガノホスフィットは、例えば米国特許第４，５６７，３０６号に一層詳細に記載されているのが認められ、同特許の開示を本明細書中に援用する。代表的なジオルガノホスフィットは、下記の式を有するものを含むことができる：式中、Ｒ²は、炭素原子４〜４０又はそれ以上を含有する置換された又は未置換の二価の炭化水素ラジカルを表わし、Ｗは、炭素原子１〜１８又はそれ以上を含有する置換された又は未置換の一価の炭化水素ラジカルを表わす。上記の（１１）式においてＷによって表わされる代表的な置換された及び未置換の一価の炭化水素ラジカルは、アルキル及びアリールラジカルを含み、Ｒ²によって表わされる代表的な置換された及び未置換の二価の炭化水素ラジカルは、二価の非環状ラジカル及び二価の芳香族ラジカルを含む。二価の非環状ラジカルの例は、例えばアルキレン、アルキレン−オキシ−アルキレン、アルキレン−ＮＲ⁴−アルキレン（ここで、Ｒ⁴は、水素もしくは置換された又は未置換の一価の炭化水素ラジカル、例えば炭素原子１〜４を有するアルキルラジカルである）；アルキレン−Ｓ−アルキレン、及びシクロアルキレンラジカル、等を含む。一層好適な二価の非環状ラジカルは、例えば米国特許第３，４１５，９０６号及び同第４，５６７，３０６号に一層完全に開示されているような二価のアルキレンラジカル、等であり、これらの特許の開示を本明細書中に援用する。二価の芳香族ラジカルの例は、例えばアリーレン、ビスアリーレン、アリーレン−アルキレン、アリーレン−アルキレン−アリーレン、アリーレン−オキシ−アリーレン、アリーレン−ＮＲ⁴−アリーレン（ここで、Ｒ⁴は、上に規定した通りである）、アリーレン−Ｓ−アリーレン、アリーレン−Ｓ−アルキレン、等を含む。Ｒ²は、例えば米国特許第４，５９９，２０６号、同第４，７１７，７７５号及び同第４，８３５，２９９号に一層完全に開示されているような二価の芳香族ラジカル、等であるのが一層好ましく、これらの特許の開示を本明細書中に援用する。一層好適なクラスのジオルガノホスフィットの代表は、下記の式のものである：式中、Ｗは、上に規定した通りであり、各々のＡｒ基は、同じであり或は異なり、置換された又は未置換のアリールラジカルを表わし、各々のｙは、同じであり或は異なり、０又は１の値であり、Ｑは、−Ｃ（Ｒ³）₂−、−Ｏ−、−Ｓ−−ＮＲ⁴−、−Ｓｉ（Ｒ⁵）₂−及び−ＣＯ−から選ぶ二価のブリッジング基を表わし、ここで各々のＲ³は、同じであり或は異なり、水素、炭素原子１〜１２を有するアルキルラジカル、フェニル、トリル、及びアニシルであり、Ｒ⁴は、上に規定した通りであり、各々のＲ⁵は、同じであり或は異なり、水素又はメチルラジカルを表わし、ｍは、０又は１の値である。そのようなジオルガノホスフィットは、例えば米国特許第４，５９９，２０６号、同第４，７１７，７７５号、及び同第４，８３５，２９９号に一層詳細に記載されており、これらの特許の間示を本明細書中に援用する。代表的なトリオルガノホスフィットは、下記の式を有するものを含むことができる：式中、各々のＲ⁶は、同じであり或は異なり、置換された又は未置換の一価の炭化水素ラジカル、例えば炭素原子１〜２４を含有することができるアルキル、シクロアルキル、アリール、アルカリール及びアラルキルラジカルである。トリオルガノホスフィットの例は、例えば下記を含む：トリアルキルホスフィット、ジアルキルアリールホスフィット、アルキルジアリールホスフィット、トリアリールホスフィット、等、例えばトリメチルホスフィット、トリエチルホスフィット、ブチルジエチルホスフィット、トリ−ｎ−プロピルホスフィット、トリ−ｎ− ブチルホスフィット、トリ−２−エチルヘキシルホスフィット、トリ−ｎ−オクチルホスフィット、トリ−ｎ−ドデシルホスフィット、ジメチルフェニルホスフィット、ジエチルフェニルホスフィット、メチルジフェニルホスフィット、エチルジフェニルホスフィット、トリフェニルホスフィット、トリナフチルホスフィット、ビス（３，６，８−トリ−ｔ−ブチル−２−ナフチル）メチルホスフィット、ビス（３，６，８−トリ−ｔ−ブチル−２−ナフチル）シクロヘキシルホスフィット、トリス（３，６−ジ−ｔ−ブチル−２−ナフチル）ホスフィット、ビス（３，６，８−トリ−ｔ−ブチル−２−ナフチル）（４−ビフェニル）ホスフィット、ビス（３，６，８−トリ−ｔ−ブチル−２−ナフチル）フェニルホスフィット、ビス（３，６，８−トリ−ｔ−ブチル−２−ナフチル）（４−ベンゾイルフェニル）ホスフィット、ビス（３，６，８−トリ−ｔ−ブチル−２−ナフチル）（４−スルホニルフェニル）ホスフィット、等。最も好適なトリオルガノホスフィットは、トリフェニルホスフィットである。そのようなトリオルガノホスフィットは、例えば米国特許第３，５２７，８０９号及び同第５，２７７，５３２号に一層詳細に記載されており、これらの特許の開示を本明細書中に援用する。代表的なオルガノポリホスフィットは、第三級（三価）リン原子を２個又はそれ以上含有し、下記の式を有するものを含むことができる：式中、Ｘは、炭素原子２〜４０を含有する置換された又は未置換のｎ価の有機ブリッジングラジカルを表わし、各々のＲ⁷は、同じであり或は異なり、炭素原子４〜４０を含有する二価の有機ラジカルを表わし、各々のＲ⁸は、同じであり或は異なり、炭素原子１〜２４を含有する置換された又は未置換の一価の炭化水素ラジカルを表わし、ａ及びｂは、同じになり或は異なり、各々０〜６の値を有することができ、但しａ＋ｂの合計は、２〜６でありかつｎは、ａ＋ｂに等しい。ａが２又はそれ以上の値を有する場合に、各々のＲ⁷ラジカルが、同じでも或は異なってもよいことが理解されるべきことはもちろんである。各々のＲ⁸ラジカルもまた、同じ或は異なる任意の所定の化合物でよい。上記のＸによって表わされる代表的なｎ価の（好ましくは二価の）有機ブリッジングラジカル及びＲ⁷によって表わされる代表的な二価の有機ラジカルは、アルキレン、アルキレン−Ｑ_m−アルキレン、シクロアルキレン、アリーレン、ビスアリーレン、アリーレン−アルキレン、及びアリーレン−（ＣＨ₂）_y−（Ｑ）_m −（ＣＨ₂）_y−アリーレンラジカル、等のような非環状ラジカル及び芳香族ラジカルの両方を含み、ここで、各々のＱ、ｙ及びｍは上に（ＩＩＩ）式において規定した通りである。上記のＸ及びＲ⁷によって表わされる一層好適な非環状ラジカルは、二価のアルキレンラジカルであり、上記のＸ及びＲ⁷によって表わされる一層好適な芳香族ラジカルは、二価のアリーレン及びビスアリーレンラジカルであり、例えば米国特許第４，７６９，４９８号；同第４，７７４，３６１号；同第４，８８５，４０１号；同第５，１７９，０５５号；同第５，１１３，０２２号：同第５，２０２，２９７号；同第５，２３５，１１３号；同第５，２６４，６１６号；及び同第５，３６４，９５０号、並びにヨーロッパ特許出願公表第６６２，４６８号、等に一層完全に開示されているようなものであり、これらの開示を本明細書中に援用する。上記の各々のＲ⁸ラジカルによって表わされる代表的な好適な一価の炭化水素ラジカルは、アルキル及び芳香族ラジカルを含む。好適なオルガノポリホスフィットの例は、下記の（ＶＩ）〜（ＶＩＩＩ）式のようなビスホスフィットを含むことができる：ここで、（ＶＩ）〜（ＶＩＩＩ）式の各々のＲ⁷、Ｒ⁸及びＸは、（Ｖ）式について上に規定したのと同じである。各々のＲ⁷及びＸは、アルキレン、アリーレン、アリーレン−アルキレン−アリーレン、及びビスアリーレンから選ぶ二価の炭化水素ラジカルを表わし、各々のＲ⁸ラジカルは、アルキル及びアリールラジカルから選ぶ一価の炭化水素ラジカルを表わすのが好ましい。そのような（Ｖ）〜（ＶＩＩＩ）式のオルガノホスフィットリガンドは、例えば米国特許第４，６６８，６５１号；同第４，７４８，２６１号；同第４，７６９，４９８号；同第４，７７４，３６１号；同第４，８８５，４０１号；同第５，１１３，０２２号；同第５，１７９，０５５号；同第５，２０２，２９７号；同第５，２３５，１１３号；同第５，２５４，７４１号；同第５，２６４，６１６号；同第５，３１２、９９６号；同第５，３６４，９５０号；及び同第５，３９１，８０１号に開示されているのを認めることができ、これらの特許のすべての開示を本明細書中に援用する。一層好適なクラスのオルガノビスホスフィットの代表は、下記の（ＩＸ）〜（ＸＩ）式のものである：式中、Ａｒ、Ｑ、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｘ、ｍ、及びｙは、上に規定した通りである。Ｘは、二価のアリール−（ＣＨ₂）_y−（Ｑ）_m−（ＣＨ₂）_y−アリールラジカル（式中、各々のｙは、個々に０又は１の値を有し；ｍは、０又は１の値を有し；Ｑは、−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｃ（Ｒ³）₂−（式中、各々のＲ³は、同じであり或は異なり、水素又はメチルラジカルを表わす））を表わすのが最も好ましい。一層好ましくは、上に規定したＲ⁸基の各々のアルキルラジカルは、炭素原子１〜２４を含有することができ、上記の（ＩＸ）〜（ＸＩ）式の上に規定したＡｒ、Ｘ、Ｒ⁷及びＲ⁸基の各々のアリールラジカルは、炭素原子６〜１８を含有することができ、該ラジカルは同じでも或は異なってもよく、一方Ｘの好適なアルキレンラジカルは、炭素原子２〜１８を含有することができ、Ｒ⁷の好適なアルキレンラジカルは、炭素原子５〜１８を含有することができる。加えて、上記の式の二価のＡｒラジカル及びＸの二価のアリールラジカルは、フェニレンラジカルであって、該ラジカルにおいて−（ＣＨ₂）_y−（Ｑ）_m−（ＣＨ₂）_y−によって表わされるブリッジング基が、該フェニレンラジカルに、フェニレンラジカルを式のそれらのリン原子に接続する式の酸素原子に対してオルトに位置に結合されるものであるのが好ましい。また、いずれの置換基ラジカルも、かかるフェニレンラジカル上に存在する場合に、所定の置換されたフェニレンラジカルをリン原子に結合する酸素原子に対してフェニレンラジカルのパラ及び／又はオルト位に結合されるのが好ましい。上記の（Ｉ）〜（ＸＩ）式のかかるオルガノホスフィットのＲ¹、Ｒ²、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｗ、Ｘ、Ｑ及びＡｒラジカルのいずれも、所望ならば本発明のプロセスの所望の結果に過度に悪影響を与えない、炭素原子１〜３０を含有する任意の適した置換基で置換されてよいのはもちろんである。もちろん、アルキル、アリール、アラルキル、アルカリール、シクロヘキシル置換基のような対応する炭化水素ラジカルに加えて、該ラジカル上に存在することができる置換基は、例えば下記を含むことができる：−Ｓｉ（Ｒ¹⁰）₃のようなシリルラジカル；−Ｎ（Ｒ¹ ⁰ ）₂のようなアミノラジカル；−アリール−Ｐ（Ｒ¹⁰）₂のようなホスフィンラジカル；−Ｃ（Ｏ）Ｒ¹⁰のようなアシルラジカル；−ＯＣ（Ｏ）Ｒ¹⁰のようなアシルオキシラジカル；−ＣＯＮ（Ｒ¹⁰）₂及び−Ｎ（Ｒ¹⁰）ＣＯＲ¹⁰のようなアミドラジカル；−ＳＯ₂Ｒ¹⁰のようなスルホニルラジカル；−ＯＲ¹⁰のようなアルコキシラジカル；−ＳＯＲ¹⁰のようなスルフィニルラジカル；−ＳＲ¹⁰のようなスルフェニルラジカル；−Ｐ（Ｏ）（Ｒ¹⁰）₂のようなホスホニルラジカル、並びにハロゲン、ニトロ、シアノ、トリフルオロメチル、ヒドロキシラジカル、等、ここで各々のＲ¹⁰ラジカルは、個々に炭素原子１〜１８を有する同じ又は異なる一価炭化水素ラジカル（例えば、アルキル、アリール、アラルキル、アルカリール及びシクロヘキシルラジカル）を表わし、但し−Ｎ（Ｒ¹⁰）₂のようなアミノ置換基では、各々のＲ¹⁰は、また一緒になって窒素原子と共に複素環式ラジカルを形成する二価のブリッジング基を表わすこともでき、かつ−ＣＯＮ（Ｒ¹⁰ ）₂及び−Ｎ（Ｒ¹⁰）ＣＯＲ¹⁰のようなアミド置換基では、Ｎに結合した各々のＲ¹⁰はまた水素になることができる。特定の所定のオルガノホスフィットを構成する置換された又は未置換の炭化水素ラジカルグループのいずれもが同じでも或は異なってもよいことが了解されるべきであるのはもちろんである。置換基の一層具体的な例は、下記を含む：第一級、第二級及び第三級アルキルラジカル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ブチル、sec −ブチル、ｔ−ブチル、neo−ペンチル、ｎ−ヘキシル、アミル、sec−アミル、ｔ−アミル、イソ−オクチル、デシル、オクタデシル、等；アリールラジカル、例えばフェニル、ナフチル、等；アラルキルラジカル、例えばベンジル、フェニルエチル、トリフェニルメチル、等；アルカリールラジカル、例えばトリル、キシリル、等；脂環式ラジカル、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル、１−メチルシクロヘキシル、シクロオクチル、シクロヘキシルエチル、等；アルコキシラジカル、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ｔ−ブトキシ、−ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂）₂ＯＣＨ₃、−Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂）₃ＯＣＨ₃、等；アリールオキシラジカル、例えばフェノキシ、等；並びにシリルラジカル、例えば-Si(CH₃)₃、-Si(OCH₃)₃、-Si(C₃H₇)₃、等；アミノラジカル、例えば-NH₂、- N(CH₃)₂、-NHCH₃、-NH(C₂H₅)、等；アリールホスフィンラジカル、例えば-P(C₆H₅ )₂、等；アシルラジカル、例えば-C(O)CH₃、-C(O)C₂H₅、-OC(O)C₆H₅、等；カルボニルオキシラジカル、例えば-C(O)OCH₃、等；オキシカルボニルラジカル、例えば-O(CO)C₆H₅、等；アミドラジカル、例えば-CONH₂、-CON(CH₃)₂、-NHC(O)CH₃ 、等；スルホニルラジカル、例えば-S(O)₂C₂H₅、等：スルフィニルラジカル、例えば-S(O)CH₃、等；スルフェニルラジカル、例えば-SCH₃、-SC₂H₅、-SC₆H₅、等；ホスホニルラジカル、例えば-P(O)(C₆H₅)₂、-P(O)(CH₃)₂、-P(O)(C₂H₅)₂、-P( O)(C₃H₇)₂、-P(O)(C₄H₉)₂、-P(O)(C₆H₁₃)₂、-P(O)CH₃(C₆H₅)、-P(O)(H)(C₆H₅)、等。そのようなオルガノホスフィットの特定の具体例は、下記を含む：下記式を有する２−ｔ−ブチル−４−メトキシフェニル（３，３’−ジ−ｔ−ブチル−５，５’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット：下記式を有するメチル（３，３’−ジ−ｔ−ブチル−５，５’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット：下記式を有する６，６’−［［４，４’−ビス（１，１−ジメチルエチル）−［１，１’−ビナフチル］−２，２’−ジイル］ビス（オキシ）］ビス−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］−ジオキサホスフェピン：下記式を有する６，６’−［［３，３’−ビス（１，１−ジメチルエチル）−５，５’−ジメトキシ−［１，１’−ビフェニル］−２，２’−ジイル］ビス（オキシ）］ビス−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］−ジオキサホスフェピン：下記式を有する６，６’−［［３，３’，５，５’−テトラキス（１，１−ジメチルプロピル）−［１，１’−ビフェニル］−２，２’−ジイル］ビス（オキシ）］ビス−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］−ジオキサホスフェピン：下記式を有する６，６’−［［３，３’，５，５’−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）−１，１’−ビフェニル］−２，２’−ジイル］ビス（オキシ）］ビス−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］−ジオキサホスフェピン：下記式を有する（２Ｒ，４Ｒ）−ジ［２，２’−（３，３’，５，５’−テトラキス−ｔ−アミル−１，１’−ビフェニル）］−２，４−ペンチルジホスフィット：下記式を有する（２Ｒ，４Ｒ）−ジ［２，２’−（３，３’，５，５’−テトラキス−ｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル）］−２，４−ペンチルジホスフィット：下記式を有する（２Ｒ，４Ｒ）−ジ［２，２’−（３，３’−ジ−アミル−５，５’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル）］−２，４−ペンチルジホスフィット：下記式を有する（２Ｒ，４Ｒ）−ジ［２，２’−（３，３’−ジ−ｔ−ブチル− ５，５’−ジメチル−１，１’−ビフェニル）］−２，４−ペンチルジホスフィット：下記式を有する（２Ｒ，４Ｒ）−ジ［２，２’−（３，３’−ジ−ｔ−ブチル− ５，５’−ジエトキシ−１，１’−ビフェニル）］−２，４−ペンチルジホスフィット：下記式を有する（２Ｒ，４Ｒ）−ジ［２，２’−（３，３’−ジ−ｔ−ブチル− ５，５’−ジエチル−１，１’−ビフェニル）］−２，４−ペンチルジホスフィット：下記式を有する（２Ｒ，４Ｒ）−ジ［２，２’−（３，３’−ジ−ｔ−ブチル− ５，５’−ジメトキシ−１，１’−ビフェニル）］−２，４−ペンチルジホスフィット：下記式を有する６−［［２’−［（４，６−ビス（１，１−ジメチルエチル）− １，３，２−ベンゾジオキサホスホル−２−イル）オキシ］−３，３’−ビス（１，１−ジメチルエチル）−５，５’−ジメトキシ［１，１’−ビフェニル］− ２−イル］オキシ］−４，８−ビス（１，１−ジメチルエチル）−２，１０−ジメトキシジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］−ジオキサホスフェピン：下記式を有する６−［［２’−［１，３，２−ベンゾジオキサホスホル−２−イル）オキシ］−３，３’−ビス（１，１−ジメチルエチル）−５，５’−ジメトキシ［１，１’−ビフェニル］−２−イル］オキシ］−４，８−ビス（１，１− ジメチルエチル）−２，１０−ジメトキシジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］− ジオキサホスフェピン：下記式を有する６−［［２’−［（５，５−ジメチル−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−イル）オキシ］−３，３’−ビス（１，１−ジメチルエチル） −５，５’−ジメトキシ［１，１’−ビフェニル］−２−イル］オキシ］−４，８−ビス（１，１−ジメチルエチル）−２，１０−ジメトキシジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］−ジオキサホスフェピン：下記式を有する亜リン酸の２’−［［４，８−ビス（１，１−ジメチルエチル） −２，１０−ジメトキシジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］−ジオキサホスフェピン−６−イル］オキシ］−３，３’−ビス（１，１−ジメチルエチル）−５，５’−ジメトキシ［１，１’−ビフェニル］−２−イルビス（４−ヘキシルフェニル）エステル下記式を有する亜リン酸の２−［［２−［［４，８−ビス（１，１−ジメチルエチル）−２，１０−ジメトキシジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］−ジオキサホスフェピン−６−イル］オキシ］−３−（１，１−ジメチルエチル）−５−メトキシフェニル］メチル］−４−メトキシ、６−（１，１−ジメチルエチル）フェニル）ジフェニルエステル下記式を有する亜リン酸の３−メトキシ−１，３−シクロヘキサメチレンテトラキス［３，６−ビス（１，１−ジメチルエチル）−２−ナフタレニル］エステル下記式を有する亜リン酸の２，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−１，４− フェニレンテトラキス［２，４−ビス（１，１−ジメチルエチル）フェニル］エステル下記式を有する亜リン酸のメチレンジ−２，１−フェニレンテトラキス［２，４ −ビス（１，１−ジメチルエチル）フェニル］エステル下記式を有する亜リン酸の［１，１’−ビフェニル］−２，２’−ジイルテトラキス［２−（１，１−ジメチルエチル）−４−メトキシフェニル］エステル上述した通りに、本発明において用いることが可能な金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒は、当分野において知られている方法によって形成してよい。金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒は、均一な形態でもまたは不均一な形態でもよい。例えば、予備形成したロジウムヒドリド−カルボニル−オルガノホスフィットリガンド触媒を調製して特定のプロセスの反応混合物中に導入することができる。一層好ましくは、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒をロジウム触媒プリカーサーから誘導することができ、後者は活性触媒を現場形成するために反応媒体中に導入してよい。例えば、ロジウムジカルボニルアセチルアセトネート、Rh₂O₃、Rh₄(CO)₁₂、Rh₆(CO)₁₆、Rh(NO₃)₃、等のようなロジウム触媒プリカーサーを、反応混合物中にオルガノホスフィットリガンドと共に活性触媒を現場で形成するために導入してもよい。本発明の好適な実施態様では、ロジウムジカルボニルアセチルアセトネートをロジウムプリカーサーとして用い、溶媒の存在においてオルガノホスフィットリガンドと反応させて触媒のロジウム−オルガノホスフィットリガンド錯体プリカーサーを形成し、これを反応域中に、過剰の（遊離）オルガノホスフィットリガンドと共に導入して、活性触媒をその場で形成する。何にしても、一酸化炭素、水素及びオルガノホスフィット化合物が、金属と錯形成させることができるすべてのリガンドでありかつ活性な金属−オルガノホスフィットリガンド触媒を反応混合物にヒドロホルミル化反応において用いる条件下で存在させることが、本発明の目的に十分である。一層特には、本質的に可溶化された金属−オルガノホスフィットリガンド錯体プリカーサー触媒、有機溶媒及び遊離オルガノホスフィットリガンドからなる触媒プリカーサー組成物を形成することができる。そのようなプリカーサー組成物は、本明細書中に規定する通りのオルガノホスフィットリガンドと錯体結合していても或はしていなくてもよい、ロジウム酸化物、水素化物、カルボニル又は塩、例えば硝酸塩のようなロジウム出発原料の溶液を形成することによって調製してもよい。任意の適したロジウム出発原料は、例えば下記を採用してよい：ロジウムジカルボニルアセチルアセトネートRh₂O₃、Rh₄(CO)₁₂、Rh₆(CO)₁₆、Rh(NO₃)₃ 、及びオルガノホスフィットリガンドロジウムジカルボニルヒドリド。カルボニル及びオルガノホスフィットリガンドは、すでに初めのロジウムで錯形成されていないならば、プロセスの前か又はプロセスの間に現場でのいずれかでロジウムに錯形成され得る。例として、本発明の好適な触媒プリカーサー組成物は、本質的にロジウムジカルボニルアセチルアセトネート、有機溶媒及び本明細書中に規定する通りのオルガノホスフィットリガンドの溶液を形成することによって調製する可溶化されたロジウムカルホニルオルガノホスフィットリガンド錯体プリカーサー触媒、溶媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドからなる。オルガノホスフィットリガンドは、一酸化炭素ガスが発生することが証拠となる通りに、室温で容易にロジウムアセチルアセトネート錯体プリカーサーのカルボニルリガンドの内の一つに取って代わる。この置換反応は、所望ならば溶液を加熱することによって助成してもよい。ロジウムジカルボニルアセチルアセトネート錯体プリカーサー及びロジウムオルガノホスフィットリガンド錯体プリカーサーの両方が可溶性の任意の適した有機溶媒を用いることができる。そのような触媒プリカーサー組成物中に存在するロジウム錯体触媒プリカーサー、有機溶媒及びオルガノホスフィットリガンドの量、並びにそれらの好適な実施態様が、本発明のプロセスにおいて用いることが可能なそれらの量に一致し得るのは自明である。経験は、プロセス、例えばヒドロホルミル化が異なるリガンド、例えば水素、一酸化炭素又はオルガノホスフィットリガンドで始めた後に、上で説明した通りにプリカーサー触媒のアセチルアセトネートリガンドが置換されて活性な錯体触媒を形成することを示した。ヒドロホルミル化条件下でプリカーサー触媒から取り去られるアセチルアセトンは、生成物アルデヒドと共に反応媒体から除かれ、これよりヒドロホルミル化プロセスにいささかも有害にならない。そのような好適なロジウム錯体触媒プリカーサー組成物を用いることは、ロジウムプリカーサーロジウム及びヒドロホルミル化始動を取り扱う簡単、経済的かつ効率的な方法を提供する。よって、本発明のプロセスにおいて用いる金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒は、本質的に一酸化炭素で錯形成された金属、すなわちヒドロホルミル化、及びオルガノホスフィットリガンドからなり、該リガンドは、金属にキレート化された及び／又はキレート化されない様式で結合（錯形成）される。そのに上に、本明細書中で用いる通りの「本質的にからなる」なる述語は、一酸化炭素及びオルガノホスフィットリガンドに加えて、金属と錯形成される水素を排除せずに、むしろ含む。更に、かかる述語は、また金属と錯形成され得るその他の有機リガンド及び／又はアニオンの可能性を排除しない。触媒を過度に悪く被毒する又は過度に失活する量の物質は望ましくなく、それで触媒には金属結合されたハロゲン（例えば、塩素、等）のような汚染物が存在しないのが最も望ましいが、そのようなことは絶対に必要というわけではない。活性な金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の水素及び／又はカルボニルリガンドは、プリカーサー触媒に結合されるリガンドが存在する結果として及び／又は例えば、本発明のヒドロホルミル化プロセスにおいて水素及び一酸化炭素を用いることにより、現場で形成される結果として存在し得る。上述した通りに、オルガノホスフィットリガンドは、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒のリガンド並びに本発明のプロセスの反応媒体中に存在することができる遊離のオルガノホスフィットリガンドの両方として用いることができる。加えて、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒のオルガノホスフィットリガンド及び好ましくは本発明の所定のプロセスに存在する過剰の遊離オルガノホスフィットリガンドは、通常同じタイプのリガンドであるが、所望ならば、異なるタイプのオルガノホスフィットリガンド、並びに二種又はそれ以上の異なるオルガノホスフィットリガンドの混合物を、任意の所定のプロセスにおいて各々の目的のために用いてよいことは理解されるべきである。本発明の所定のプロセスの反応媒体中に存在する金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の量は、単に、用いるのを所望する所定の金属濃度をもたらすのに必要でありかつ所望する特定のプロセスを触媒するのに必要な少なくともその触媒量の金属についてのベーシスを供することになるその最少量にする必要があるだけである。一般に、遊離金属として計算して、金属濃度約１部／百万〜約１０，０００部／百万の範囲、及び触媒溶液中のリガンド対金属のモル比約１：１又はそれ以下〜約２００：１又はそれ以上の範囲が、ほとんどのプロセスについて十分なはずである。上述した通りに、本発明のプロセス、特にヒドロホルミル化プロセスは、金属 −オルガノホスフィットリガンド錯体触媒に加えて、遊離オルガノホスフィットリガンドの存在において行うことができる。本発明のプロセスは、所望する任意の過剰量の遊離オルガノホスフィットリガンドで実施してよいが、遊離オルガノホスフィットリガンドの使用は、絶対に必要とし得るものではない。よって、反応媒体中に存在する金属（例えば、ロジウム）１モル当り所望ならば約１．１又はそれ以下〜約１００モル又はそれ以上のリガンドの量が、大概ほとんどの目的に、特にロジウム触媒されるヒドロホルミル化に関して適するはずであり、該リガンドの使用量は、存在する金属に結合される（錯形成される）リガンドの量及び存在する遊離の（錯形成されない）リガンドの量の両方の合計である。所望するならば、メークアップリガンドをプロセスの反応媒体に、任意の時にかつ任意の適した様式で供給して反応媒体中に所定のレベルの遊離リガンドを保つことができるのはもちろんである。上に示した通りに、触媒は、反応の間及び／又は生成物分離の間不均一な形態になることができる。そのような触媒は、オレフィンをヒドロホルミル化して高沸点の又は熱感応性のアルデヒドを生成するのに特に有利であり、それで触媒は、低い温度でろ過又はデカンテーションすることにより生成物と分離することができる。例えば、ロジウム触媒を担体に結合させ、それで触媒はヒドロホルミル化及び分離の両方の段階の間その固体形態を保ち、或は高い温度の液体反応媒体中に可溶性であり、次いで冷却時に沈殿させてもよい。例示として、ロジウム触媒を、無機酸化物（すなわち、アルミナ、シリカ、チタニア、又はジルコニア）、カーボンのような任意の固体担体、又はイオン交換樹脂に含浸させてもよい。触媒は、ゼオライト、ガラス又はクレー上に担持しても又はそれらの細孔の内部に装入してもよく；触媒は、また、液体フィルムに溶解して該ゼオライト又はガラスの細孔を被覆してもよい。そのようなゼオライト担持された触媒は、セオライトの細孔サイズによって求められる通りに、一種又はそれ以上の位置異性アルデヒドを高い選択率で製造するのに特に有利である。初期湿潤度のような、触媒を固体上に担持させるための技術が、当業者に知られることになる。このようにして形成された固体触媒は、依然上に規定したリガンドの内の一種又はそれ以上と錯形成され得る。そのような固体触媒の記述は、例えば下記に見ることができる：Ｊ．Ｍｏｌ．Ｃａｔ．１９９１、７０、３６３〜３６８：Ｃａｔａｌ．Ｌｅｔｔ．１９９１、８、２０９〜２１４：Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．１９９１、４０３、２２１〜２２７；Ｎａｔｕｒｅ、１９８９、３３９、４５４〜４５５；Ｊ．Ｃａｔａｌ．１９８５、９６、５６３〜５７３；Ｊ．Ｍｏｌ．Ｃａｔ．１９８７、３９、２４３〜２５９。金属、例えばロジウム、触媒は、例えばＪ．Ｍｏｌ．Ｃａｔ．１９９０、６３、２１３〜２２１に記載される通りに、セルロースアセテート又はポリフェニレンスルホンのような薄いフィルム又は膜担体上に結合させてもよい。金属、例えばロジウム、触媒は、ポリマー中に組み込むホスフィットのようなオルガノリン含有リガンドを通して不溶性のポリマー担体に結合させてもよい。担持された触媒は、それに組み込むポリマー又はリン含有種の選定によって制限されない。ポリマー担持された触媒の記述は、例えば下記に見ることができる：Ｊ．Ｍｏｌ．Ｃａｔ．１９９３、８３、１７〜３５；Ｃｈｅｍｔｅｃｈ１９８３、４６；Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９８７、１０９、７１２２〜７１２７。上記した不均一な触媒では、触媒は、その全プロセス及び触媒分離プロセスの間その不均一な形態のままになり得る。発明の別の実施態様では、触媒をポリマー上に担持させ、その分子量の性質により、高い温度の反応媒体に可溶性であるが、冷却時に沈殿し、こうして反応混合物からの触媒の分離を容易にしもよい。そのような「可溶性」のポリマー担持された触媒は、例えば下記に記載されている：Ｐｏｍｅｒ、１９９２、３３、１６１；Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９８９、５４、２７２６〜２７３０。ヒドロホルミル化反応は、生成物の沸点が高いことによりかつアルデヒド生成物の分解を避けるために、スラリー相で実施するのが一層好ましい。触媒は、次いで、例えばろ過又はデカンテーションすることにより生成混合物と分離することができる。反応生成物流体は、不均質な金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒、例えばスラリーを含有してよく、或は反応生成物流体の少なくとも一部は、特定のプロセスの間固定された不均質な金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒に接触してもよい。本発明の実施態様では、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒を反応生成物流体にスラリー化させてもよい。本発明のプロセスで用いることができる許容し得る反応条件は、所望する特定の合成に応じて選ぶのはもちろんである。そのようなプロセス条件は、当分野において良く知られている。本発明のプロセスのすべては、当分野において知られている慣用の手順に従って実施することができる。本発明のプロセスを実施するための反応条件の例は、例えばＫｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ，ＥｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａｏｆＣｈｅｍｉｃａｌＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、第４版、１９９６に記載されており、それの関係する部分を本明細書中に援用する。特定のプロセスに応じて、作業温度は約−８０℃又はそれ以下〜約５００℃又はそれ以上の範囲にすることができ、作業圧力は約１ｐｓｉｇ（０．０７kg/cm²Ｇ）又はそれ以下〜約１０，０００ｐｓｉｇ（７００kg/cm²Ｇ）又はそれ以上の範囲にすることができる。本発明のプロセスは、所望する生成物を生成する程の期間行う。採用する正確な反応時間は、一部温度、圧力、出発原料の性質及び割合、等のような要因に依存する。反応時間は、大概約３０分〜約２００時間又はそれ以上の範囲内にし、約１時間よりも短い〜約１０時間の範囲内にするのが好ましい。本発明のプロセス、好ましくはヒドロホルミル化プロセスは、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒用の有機溶媒の存在において行うことができる。溶媒は、また溶解水を飽和限界まで含有してよい。適した有機溶媒は、用いる特定の触媒及び反応体に応じて、例えばアルコール、アルカン、アルケン、アルキン、エーテル、アルデヒド、ケトン、エステル、アミド、アミン、芳香族、等を含む。意図するプロセスを過度に悪く妨げない任意の適した溶媒を用いることができ、そのような溶媒は、既知の金属触媒によるプロセスにおいて従来一般に用いられているものを含むことができる。溶媒の誘電率又は極性が増大すると、一般に反応速度を大きくするのに有利になる傾向になり得る。一種又はそれ以上の異なる溶媒の混合物を、所望するならば用いてよいのはもちろんである。溶媒の使用量は、主題の発明にとって臨界的なものでなく、単に反応媒体に所定のプロセスについて所望される特定の金属濃度を付与する程のその量にする必要があるだけである。使用する場合の溶媒の量は、大概、反応混合物出発原料の全重量を基準にして約５重量％から約９９重量％まで又はそれ以上の範囲にすることができる。本発明のプロセスは、置換された及び未置換の光学的に活性な及び光学的に活性でない化合物を調製するために有用である。本発明のプロセスによって調製される化合物の例は、例えば置換された及び未置換のアルコール又はフェノール；アミン；アミド；エーテル又はエポキシド；エステル；ケトン；アルデヒド及びニトリルを含む。本発明のプロセスによって調製することができる適した光学的に活性な及び光学的に活性でない化合物（本明細書中上に記載する通りの出発原料化合物を含む）の例は、Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ，ＥｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａｏｆＣｈｅｍｉｃａｌＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、第４版、１９９６（それの関係する部分を本明細書中に援用する）、及びＴｈｅＭｅｒｃｋＩｎｄｅｘ，ＡｎＥｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａｏｆＣｈｅｍｉｃａｌｓ，ＤｒｕｇｓａｎｄＢｉｏｌｏｇｉｃａｌｓ、第１１版、１９８９（それの関係する部分を本明細書中に援用する）に記載されているそれらの許容し得る化合物を含む。本発明の所望の生成物は、任意の慣用の方法で回収してよく、所望の反応生成物を粗製反応生成物流体から回収するのに１つ又はそれ以上の分離装置又は分離域を任意の所定のプロセスにおいて採用してよい。適した分離方法は、例えば溶媒抽出、結晶化、蒸留、気化、ワイプ式フィルム蒸発、流下式膜蒸発、等を含む。生成物を粗製反応混合物から、形成されると、公表された特許協カ条約特許出願ＷＯ８８／０８８３５に記載されている通りの捕獲剤を使用することによって除くことが所望されるかもしれない。生成混合物を粗製反応混合物の他の成分と分離する好適な方法は、膜分離による。そのような膜分離は、上に挙げた米国特許第５，４３０，１９４号及び１９９５年５月５日に出願した同時継続米国特許出願第０８／４３０，７９０号に記載される通りにして達成することができる。本発明のプロセスは、例えば固定床反応装置、流動床反応装置、連続撹拌槽反応装置（ＣＳＴＲ）又はスラリー反応装置を使用して実施することができる。触媒の最適なサイズ及び形状は、使用反応装置のタイプに依存することになる。流動床反応装置については、通常、小さい球形の触媒粒子が、流動化を容易にするために好適である。固定床反応装置に関しては、一層大きな触媒粒子が好適であり、それで反応装置内の背圧が適度に低く保たれるよウになる。本発明において用いる少なくとも１つの反応域は、単一の容器にしても又は２つ又はそれ以上の離散した容器を含んでもよい。本発明において用いる少なくとも１つの分離域は、単一の容器にしても又は２つ又はそれ以上の離散した容器を含んでもよい。本発明において用いる少なくとも１つのスクラバー域は、単一の容器にしても又は２つ又はそれ以上の離散した容器を含んでもよい。本発明において用いる少なくとも１つの酸除去域は、単一の容器にしても又は２つ又はそれ以上の離散した容器を含んでもよい。本発明において用いる反応域及び分離域は、同じ容器中に在っても又は異なる容器中に在ってもよいことは理解されるべきである。例えば、反応性蒸留、反応性膜分離、等のような反応性分離技術は、反応域において行われることができる。本発明のプロセスは、バッチ又は連続様式で実施することができ、要求するならば、未消費の出発原料を循環させることができる。反応は、単一の反応域で又は複数の反応域で、直列又は平行で実施することができもしくは反応は、細長い管型域又はそのような域を直列にしてバッチ様式で又は連続に実施してもよい。用いる建造材料は、反応の間出発原料に対して不活性であるべきでありかつ装置の構造物は反応温度及び圧力に耐えることができるべきである。反応の過程中にバッチ様式で又は連続に反応域に導入する出発原料又は成分の量を導入する及び／又は調節する手段を、特に出発原料の所望のモル比を保つために、プロセスにおいて簡便に利用することができる。反応工程は、出発原料の内の一種を他方に増分添加することによって行ってもよい。また、反応工程は、出発原料をジョイント添加することによって組み合わせることもできる。完全な転化が所望されない又は得ることができない場合には、出発原料を、例えば蒸留によって生成物から分離し、次いで出発原料を循環させて反応域に戻すことができる。プロセスは、ライニングを施したグラス、ステンレスチール又は同様のタイプの反応装置のいずれかで行ってよい。反応域に、過度の温度変動を制御するために、或は任意の可能な「ランナウエイ」反応温度を防ぐために、内部及び／又は外部熱交換器を１つ又はそれ以上装着してよい。本発明のプロセスは、１つ又はそれ以上の工程又は段で実施することができる。反応工程又は段の正確な数は、資本経費と高い触媒選択性、活性、寿命及び作業性の容易を達成することとの最良の折衷、並びに当該出発原料の固有の反応性、出発原料及び所望の反応生成物の反応条件への安定性によって支配されることになる。一実施態様では、本発明において有用なヒドロホルミル化プロセスは、例えば本出願と同じ日に出願した同時継続中の米国特許出願第号（Ｄ−１７４２５− １）に記載されているような多段式反応装置において実施することができ、同特許出願の開示を本明細書中に援用する。そのような多段式反応装置は、容器当り１つよりも多くの反応性理論段を生じる内部の物理的バリヤーを有するようにデザインすることができる。事実上、それは、単一の連続撹拌槽反応装置容器内部に反応装置を多数有するようなものである。単一容器内の複数の反応性段は、反応装置容器容積を使用する原価効率的なやり方である。それは、その他のやり方で、同じ結果を達成するのに要求されるのに比べて、容器の数を有意に減少させる。容器が少ない程、要する総括の資本並びに分離容器及び撹拌装置に関する保全問題は低減する。ヒドロホルミル化プロセス本発明において有用な好適なプロセスは、ヒドロホルミル化である。オルガノホスフィットリガンドのそのような加水分解崩壊及び触媒失活を経験し得る金属 −オルガノホスフィットリガンド錯体触媒によるヒドロホルミル化プロセスの例は、例えば米国特許第４，１４８，８３０号；同第４，５９３，１２７号；同第４，７６９，４９８号；同第４，７１７，７７５号；同第４，７７４，３６１号；同第４，８８５，４０１号；同第５，２６４，６１６号；同第５，２８８、９１８号；同第５，３６０，９３８号；同第５，３６４，９５０号；及び同第５，４９１，２６６号に記載されているようなプロセスを含み、これらの特許の開示を本明細書中に援用する。よって、本発明のヒドロホルミル化処理技術は、任意の知られている処理技術に一致してよい。好適なプロセスは、触媒液体循環ヒドロホルミル化プロセスを伴うものである。そのような触媒液体循環ヒドロホルミル化プロセスは、オレフィン系不飽和化合物を一酸化炭素及び水素と、また触媒及びリガンド用有機溶媒も含有する液体媒体中で金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の存在において反応させることによるアルデヒドの製造を含むのが普通である。遊離のオルガノホスフィットリガンドもまた液体ヒドロホルミル化反応媒体中に存在するのが好ましい。循環手順は、触媒及びアルデヒド生成物を含有する液体反応媒体の一部をヒドロホルミル化反応装置（すなわち、反応域）から連続にか又は間欠にのいずれかで抜き出し、かつそれからアルデヒド生成物を、米国特許第５，４３０，１９４号及び１９９５年５月５日に出願した同時継続米国特許出願第０８／４３０，７９０号（これらの開示を本明細書中に援用する）に開示されるような複合膜を使用することにより、又はそれを分離蒸留域において、１つ又はそれ以上の段で常圧、減圧又は高い圧力下で適する通りに蒸留する（すなわち、気化分離する）ことの一層慣用のかつ好適な方法によって回収することを伴うのが普通であり、非揮発金属触媒含有残分を、例えば米国特許第５，２８８，９１８号に開示されている通りに反応域に循環させる。揮発された物質の凝縮及び分離及びそれ以上のそれの回収、例えばそれ以上の蒸留による回収を、慣用の方式で実施することができ、粗製アルデヒド生成物を、所望ならばそれ以上精製及び異性体分離するために先に進めることができ、いずれの回収された反応体、例えばオレフィン性出発原料及び合成ガスを、任意の所望の方式でヒドロホルミル化域（反応装置）に循環させることができる。そのような膜分離の回収された金属触媒含有ラフィネート又はそのような気化分離の回収された非揮発金属触媒含有残分を、任意の所望の慣用の方式でヒドロホルミル化域（反応装置）に循環させることができる。好適な実施態様では、本発明において用いることが可能なヒドロホルミル化反応生成物流体は、４つの異なる主成分、すなわちアルデヒド生成物、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒、有利のオルガノホスフィットリガンド並びに該触媒及び該遊離リガンド用の有機可溶化剤を少なくともいくらかの量で含有する任意の対応するヒドロホルミル化プロセスに由来する任意の流体を含み、該成分は、ヒドロホルミル化反応混合物出発原料が由来し得るヒドロホルミル化プロセスによって用いられる及び／又は生成されるものに一致する。本発明において用いることが可能なヒドロホルミル化反応混合物組成物が、ヒドロホルミル化プロセスにおいてわざと用いられてきたか又は該プロセスの間に現場形成されてきたかのいずれかのもののような更なる成分を従たる量で含有することができるかつ通常含有することになることは理解されるべきである。また存在することができるそのような成分の例は、未反応のオレフィン出発原料、一酸化炭素及び水素ガス、並びにオレフィン出発原料に対応する飽和炭化水素及び／又は未反応の異性化されたオレフィンのような現場形成されるタイプの生成物、及び高沸点液体アルデヒド縮合副生物、並びに用いるならば、その他の不活性な補助溶剤タイプの物質又は炭化水素添加剤を含む。本発明のヒドロホルミル化プロセス（及びその他の適したプロセス）において用い得る置換された又は未置換のオレフィン反応体は、炭素原子２〜４０、好ましくは４〜２０を含有する光学的に活性な（プロキラル及びキラル）及び光学的に不活性な（アキラル）オレフィン系不飽和化合物を共に含む。そのようなオレフィン系不飽和化合物は、末端又は内部不飽和にすることができ、直鎖、枝分れ鎖又は環状構造のもの、並びにオレフィン混合物、例えばプロペン、ブテン、イソブテン、等のオリゴマー化から得られるもの（例えば、米国特許第４，５１８，８０９号及び同第４，５２８，４０３号に開示されているようないわゆるダイマー、トリマー又はテトラマープロピレン、等のような）のようなものにすることができる。その上に、そのようなオレフィン化合物は、更にエチレン系不飽和基を１つ又はそれ以上含有してよく、所望ならば、二種又はそれ以上の異なるオレフィン系不飽和化合物の混合物を出発原料として用いてよいのはもちろんである。例えば、炭素原子を４又はそれ以上含有する商用アルファオレフィンは、対応する内部オレフィン及び／又はそれらの対応する飽和炭化水素を従たる量で含有し得、そのような商用オレフィンは、必ずしも反応させる前に精製する必要はない。ヒドロホルミル化反応において用いることができるオレフィン出発原料の混合物の例は、例えば混合ブテン、例えばＲａｆｆｉｎａｔｅ１及びＩＩを含む。更に、そのようなオレフィン系不飽和化合物及びそれらに由来する対応する生成物は、また、例えば米国特許第３，５２７，８０９号、同第４，７６９，４９８号、等に記載されているような、本発明のプロセスに過度に悪影響を与えない基又は置換基を１つ又はそれ以上含有してもよい。主題の発明は、炭素原子２〜３０、好ましくは４〜２０を含有するアキラルアルファ−オレフィン及び炭素原子４〜２０を含有するアキラル内部オレフィン並びにかかるアルファ−オレフィンと内部オレフィンとの出発原料混合物をヒドロホルミル化することによって、光学的に不活性なアルデヒドを製造するために特に有用である。アルファ及び内部オレフィンの例は、例えば下記を含む：エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−ノネン、１ −デセン、１−ウンデセン、１−ドデセン、１−トリデセン、１−テトラデセン、１−ペンタデセン、１−ヘキサデセン、１−ヘプタデセン、１−オクタデセン、１−ノナデセン、１−エイコセン、２−ブテン、２−メチルプロペン（イソブチレン）、２−メチルブテン、２−ペンテン、２−ヘキセン、３−ヘキサン、２ −へプテン、２−オクテン、シクロヘキセン、プロピレンダイマー、プロピレントリマー、プロピレンテトラマー、ブタジエン、ピペリレン、イソプレン、２− エチル−１−ヘキセン、スチレン、４−メチルスチレン、４−イソプロピルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、アルファ−メチルスチレン、４−ｔ−ブチル− アルファ−メチルスチレン、１，３−ジイソプロペニルベンゼン、３−フェニル −１−プロペン、１，４−ヘキジエン、１，７−オクタジエン、３−シクロヘキシル−１−ブテン、等、並びに１，３−ジエン、ブタジエン、アルキルアルケノエート、例えばメチルペンテノエート、アルケニルアルカノエート、アルケニルアルキルエーテル、アルケノール、等、例えばペンテノール、アルケナール、例えばペンテナール、等、例えばアリルアルコール、アリルブチレート、ヘキサー１−エン−４−オール、オクタ−１−エン−４−オール、ビニルアセテート、アリルアセテート、３−ブテニルアセテート、ビニルプロピオネート、アリルプロピオネート、メチルメタクリレート、ビニルエチルエーテル、ビニルメチルエーテル、アリルエチルエーテル、ｎ−プロピル−７−オクテノエート、３−ブテンニトリル、５−ヘキセンアミド、オイゲノール、イソ−オイゲノール、サフロール、イソ−サフロール、アネトール、４−アリルアニソール、インデン、リモネン、ベータ−ピエネン、ジシクロペンタジエン、シクロオクタジエン、カンフェン、リナロオール、等。本発明が包含することができるエナンショマー性生成混合物を製造するのに採用することができる不斉ヒドロホルミル化プロセス（及びその他の不斉プロセス）において有用なプロキラル及びキラルオレフィンの例は、下記の式によって表わされるものを含む：式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は、同じであり或は異なり（但し、Ｒ₁はＲ₂と異なり又はＲ₃はＲ₄と異なる）、下記から選ぶ：水素；アルキル；置換されたアルキル、該置換は、下記から選ぶ：ベンジルアミノ及びジベンジルアミノのようなジアルキルアミノ、メトキシ及びエトキシのようなアルコキシ、アセトキシのようなアシルオキシ、ハロ、ニトロ、ニトリル、チオ、カルボニル、カルボキシアミド、カルボキシアルデヒド、カルボキシル、カルボン酸エステル；フェニルを含むアリール；フェニルを含む置換されたアリール、該置換は、下記から選ぶ：アルキル、ベンジルアミノ及びジベンジルアミノのようなアルキルアミノ及びジアルキルアミノを含むアミノ、ヒドロキシ、メトキシ及びエトキシのようなアルコキシ、アセトキシのようなアシルオキシ、ハロ、ニトリル、ニトロ、カルボキシル、カルボキシアルデヒド、カルボン酸エステル、カルボニル、及びチオ；アセトキシのようなアシルオキシ；メトキシ及びエトキシのようなアルコキシ；ベンジルアミノ及びジベンジルアミノのようなアルキルアミノ及びジアルキルアミノを含むアミノ；アセチルベンジルアミノ及びジアセチルアミノのようなアシルアミノ及びジアシルアミノ；ニトロ；カルボニル；ニトリル；カルボキシル；カルボキシアミド；カルボキシアルデヒド；カルボン酸エステル；及びメチルメルカプトのようなアルキルメルカプト。この定義のプロキラル及びキラルオレフィンが、また、上記の一般式において、Ｒ基が接続されて環化合物、例えば３−メチル−１−シクロヘキセン、等を形成する分子も含むことは理解される。本発明の不斉ヒドロホルミル化プロセス（及びその他の不斉プロセス）において有用な光学的に活性な又はプロキラルオレフィン性化合物の例は、例えば下記を含む：ｐ−イソブチルスチレン、２−ビニル−６−メトキシ−２−ナフチレン、３−エテニルフェニルフェニルケトン、４−エテニルフェニル−２−チエニルケトン、４−エテニル−２−フルオロビフェニル、４−（１，３−ジヒドロ−１ −オキソ−２Ｈ−イソインドール−２−イル）スチレン、２−エテニル−５−ベンゾイルチオフェン、３−エテニルフェニルフェニルエーテル、プロペニルベンゼン、イソブチル−４−プロペニルベンゼン、フェニルビニルエーテル、等。その他のオレフィン性化合物は、例えば米国特許第４，３２９，５０７号、同第５，３６０，９３８号及び同第５，４９１，２６６号に記載されているような置換されたアリールエチレンを含み、これらの特許の開示を本明細書中に援用する。適した置換された及び未置換のオレフィン系出発原料化合物の例は、Ｋｉｒｋ −Ｏｔｈｍｅｒ，ＥｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａｏｆＣｈｅｍｉｃａｌＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、第４版、１９９６（それの関係する部分を本明細書中に援用する）に記載されているそれらの許容し得る置換された及び未置換のオレフィン性化合物を含む。上述した通りに、本発明のヒドロホルミル化プロセスは、本明細書中上記した通りの金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒を使用することを伴う。ヒドロホルミル化触媒は、反応の間及び／又は生成物分離の間均一な形態でも又は不均一な形態でもよい。所望ならば、そのような触媒の混合物もまた採用することができるのはもちろんである。本発明が包含する所定のヒドロホルミル化プロセスの反応媒体中に存在する金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の量は、単に、用いることを所望する所定の金属濃度をもたらすのに必要でありかつ例えば上述した特許に開示されているような関与する特定のヒドロホルミル化プロセスを触媒するのに必要な少なくとも触媒量の金属についてのベーシスを供することになるその最少量にする必要があるだけである。一般に、ヒドロホルミル化反応媒体中、遊離ロジウムとして計算して、金属、例えばロジウム濃度約１０〜約１０００部／百万の範囲が、大概ほとんどのプロセスについて十分なはずであり、一方金属、例えばロジウム約１０〜約５００部／百万を使用するのが通常好適であり、金属、例えばロジウム２５〜３５０部／百万を使用するのが一層好ましい。金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒に加えて、遊離オルガノホスフィットリガンド（すなわち、金属と錯形成されないリガンド）もまたヒドロホルミル化の反応媒体中に存在してよい。遊離オルガノホスフィットリガンドは、本発明で用いることができる上に規定したオルガノホスフィットリガンドのいずれかに一致してよい。遊離オルガノホスフィットリガンドは、用いる金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒のオルガノホスフィットリガンドと同じであるのが好適である。しかし、そのようなリガンドは、任意の所定のプロセスにおいて同じにする必要はない。本発明のヒドロホルミル化プロセスは、ヒドロホルミル化反応媒体中金属１モル当り約０．１モル又はそれ以下〜約１００モル又はそれ以上の遊離オルガノホスフィットリガンドを含むことができる。本発明のヒドロホルミル化プロセスは、反応媒体中に存在する金属１モル当り約１〜約５０モルのオルガノホスフィットリガンドの存在において実施するのが好ましく、オルガノポリホスフィットリガンドについて、反応媒体中に存在する金属１モル当り約１．１〜約４モルのオルガノポリホスフィットリガンドの存在において実施するのが一層好ましく；オルガノポリホスフィットリガンドの該量は、存在する金属に結合される（錯形成される）オルガノホスフィットリガンドの量及び存在する遊離の（錯形成されない）オルガノホスフィットリガンドの量の両方の合計である。アキラルオレフィンをヒドロホルミル化することによって光学的に不活性なアルデヒドを製造するのが一層好適であるので、一層好適なオルガノホスフィットリガンドは、アキラルタイプのオルガノホスフィットリガンド、特に上記の（Ｖ）式によって包含されるもの、一層好ましくは上記の（ＶＩ）〜（ＩＸ）式のものである。所望するならば、メークアップ又は追加のオルガノホスフィットリガンドをヒドロホルミル化プロセスの反応媒体に、例えば任意の時にかつ任意の適した様式で供給して反応媒体中に所定のレベルの遊離リガンドを保つことができるのはもちろんである。本発明が包含するヒドロホルミル化プロセスの反応条件は、光学的に活性な及び／又は光学的に不活性なアルデヒドを製造するために従来採用された任意の適したタイプのヒドロホルミル化条件を含んでよい。例えば、ヒドロホルミル化プロセスの水素、一酸化炭素及びオレフィン出発化合物の全ガス圧は、約１〜約１０，０００ｐｓｉａ（０．０７〜７００kg/cm²Ａ）の範囲にすることができる。しかし、通常、プロセスを、水素、一酸化炭素及びオレフィン出発化合物の全ガス圧を約２０００ｐｓｉａ（１４０kg/cm²Ａ）よりも低くして、一層好ましくは約５００ｐｓｉａ（３５kg/cm²Ａ）よりも低くして作動させるのが好適である。最小の全圧は、主に所望の反応速度を得るのに必要な反応体の量によって制限される。より詳しくは、本発明のヒドロホルミル化プロセスの一酸化炭素分圧は、約１〜約１０００ｐｓｉａ（０．０７〜７０kg/cm²Ａ）が好ましく、約３〜約８００ｐｓｉａ（０．２１〜５６kg/cm²Ａ）が一層好ましく、他方水素分圧は、約５〜約５００ｐｓｉａ（０．３５〜３５kg/cm²Ａ）が好ましく、約１０〜約３００ｐｓｉａ（０．７〜２１kg/cm²Ａ）が一層好ましい。ガス状水素対一酸化炭素のＨ₂：ＣＯモル比は、一般に約１：１０〜１００：１又はそれ以上の範囲にすることができ、一層好適な水素対一酸化炭素のモル比は、約１：１０〜約１０：１である。更に、ヒドロホルミル化プロセスは、反応温度約−２５℃〜約２００ ℃で行うことができる。通常のヒドロホルミル化では、反応温度約５０℃〜約１２０℃が、すべてのタイプのオレフィン系出発原料について好適である。光学的に不活性なアルデヒド生成物を所望する場合には、アキラルタイプのオレフィン出発原料及びオルガノホスフィットリガンドを用い、光学的に活性なアルデヒド生成物を所望する場合には、プロキラル又はキラルタイプのオレフィン出発原料及びオルガノホスフィットリガンドを用いることが理解されるべきことはもちろんである。また、採用するヒドロホルミル化反応条件は、所望するアルデヒド生成物のタイプによって支配されることになるのが理解されるべきことももちろんである。本発明が包含するヒドロホルミル化プロセスは、また、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び遊離オルガノホスフィットリガンド用の有機溶媒の存在において行う。溶媒は、また溶解水を飽和限界まで含有してよい。適した有機溶媒は、用いる特定の触媒及び反応体に応じて、例えばアルコール、アルカン、アルケン、アルキン、エーテル、アルデヒド、一層沸点の高いアルデヒド縮合副生物、ケトン、エステル、アミド、第三級アミン、芳香族、等を含む。意図するヒドロホルミル化反応を過度に悪く妨げない任意の適した溶媒を用いることができ、そのような溶媒は、既知の金属触媒によるヒドロホルミル化反応において従来一般に用いられていると開示されるものを含むことができる。一種又はそれ以上の異なる溶媒の混合物を、所望するならば用いてよい。通常、アキラル（光学的に不活性な）アルデヒドの製造に関しては、当分野で一般的である通りに、製造するのを所望するアルデヒド生成物及び／又は一層沸点の高いアルデヒド縮合副生物に相当するアルデヒド化合物を主有機溶媒として用いるのが好適である。そのようなアルデヒド縮合副生物は、また所望ならば予備成形して適宜に使用することができる。アルデヒドの製造において用いることができる好適な溶媒の例は、ケトン（例えば、アセトン及びメチルエチルケトン）、エステル（例えば、エチルアセテート）、炭化水素（例えば、トルエン）、ニトロ炭化水素（例えば、ニトロベンゼン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ））及びスルホランを含む。適した溶媒は、米国特許第５，３１２，９９６号に開示されている。溶媒の使用量は、主題の発明にとって臨界的なものでなく、単に処理すべきヒドロホルミル化反応混合物の触媒及び遊離リガンドを可溶化する程のその量にする必要があるだけである。使用する場合の溶媒の量は、大概、ヒドロホルミル化反応混合物出発原料の全重量を基準にして約５重量％から約９９重量％まで又はそれ以上の範囲にすることができる。よって、光学的に不活性なアルデヒドアルデヒド生成物の例は、例えば下記を含む：プロピオンアルデヒド、ｎ−ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、ｎ−バレルアルデヒド、２−メチル１−ブチルアルデヒド、ヘキサナール、ヒドロキシヘキサナール、２−メチルバレルアルデヒド、ヘプタナール、２−メチル１−ヘキサナール、オクタナール、２−メチル１−ヘプタナール、ノナナール、２−メチル−１−オクタナール、２−エチル１−ヘプタナール、３−プロピル１ −ヘキサナール、デカナール、アジポアルデヒド、２−メチルグルタルアルデヒド、２−メチルアジポアルデヒド、３−メチルアジポアルデヒド、３−ヒドロキシプロピオンアルデヒド、６−ヒドロキシヘキサナール、アルケナール、例えば２−、３−及び４−ペンテナール、アルキル５−ホルミルバレレート、２−メチル１−ノナナール、ウンデカナール、２−メチル１−デカナール、ドデカナール、２−メチル１−ウンデカナール、トリデカナール、２−メチル１−トリデカナール、２−エチル１−ドデカナール、３−プロピル１−ウンデカナール、ペンタデカナール、２−メチル１−テトラデカナール、ヘキサデカナール、２−メチル１−ペンタデカナール、ヘプタデカナール、２−メチル１−ヘキサデカナール、オクタデカナール、２−メチル１−ヘプタデカナール、ノノデカナール、２−メチル１−オクタデカナール、２−エチル１−ヘプタデカナール、３−プロピル１ −ヘキサデカナール、エイコサナール、２−メチル１−ノナデカナール、ヘンエイコサナール、２−メチル１−エイコサナール、トリコサナール、２−メチル１ −ドコサナール、テトラコサナール、２−メチル１−トリコサナール、ペンタコサナール、２−メチル１−テトラコサナール、２−エチル１−トリコサナール、３−プロピル１−ドコサナール、ヘプタコサナール、２−メチル１−オクタコサナール、ノナコサナール、２−メチル１−オクタコサナール、ヘントリアコンタナール、２−メチル１−トリアコンタナール、等。光学的に活性なアルデヒドアルデヒド生成物の例は、例えば下記のような本発明の不斉ヒドロホルミル化プロセスによって調製される（エナンショマー性）アルデヒド化合物を含む：Ｓ−２−（ｐ−イソブチルフェニル）−プロピオンアルデヒド、Ｓ−２−（６−メトキシ−２−ナフチル）プロピオンアルデヒド、Ｓ− ２−（３−ベンゾイルフェニル）−プロピオンアルデヒド、Ｓ−２−（ｐ−チエノイルフェニル）プロピオンアルデヒド、Ｓ−２−（３−フルオロ−４−フェニル）フェニルプロピオンアルデヒド、Ｓ−２−［４−（１，３−ジヒドロ−１− オキソ−２Ｈ−イソインドール−２−イル）フェニル］プロピオンアルデヒド、Ｓ−２−（２−メチルアセトアルデヒド）−５−ベンゾイルチオフェン、等。適した置換された及び未置換のアルデヒド生成物の例は、Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ，ＥｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａｏｆＣｈｅｍｉｃａｌＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、第４版、１９９６（それの関係する部分を本明細書中に援用する）に記載されているそれらの許容し得る置換された及び未置換のアルデヒド化合物を含む。上に示した通りに、本発明のヒドロホルミル化プロセスを連続様式で実施するのが一般に好適である。連続ヒドロホルミル化プロセスは、一般に当分野において良く知られており、下記を含むことができる：（ａ）オレフィン系出発原料を一酸化炭素及び水素により、溶媒、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び遊離オルガノホスフィットリガンドを含む液体均質反応混合物中でヒドロホルミル化し；（ｂ）オレフィン系出発原料のヒドロホルミル化に好都合な反応温度及び圧力条件を保ち；（ｃ）オレフィン系出発原料、一酸化炭素及び水素のメークアップ量を、それらの反応体が消費されると、反応媒体に供給し；及び（ｄ）所望のアルデヒドヒドロホルミル化生成物を所望の任意の方式で回収する。連続プロセスは、単一パスモードで実施することができる、すなわち、未反応のオレフィン系出発原料及び気化されたアルデヒド生成物を含む蒸気状混合物を、アルデヒド生成物が回収される液体反応混合物から取り出し、かつメークアップオレフィン系出発原料、一酸化炭素及び水素を、未反応のオレフィン系出発原料を循環させないで次の単一パススルーのために液体反応媒体に供給する。そのようなタイプの循環手順は、当分野において良く知られており、例えば米国特許第４，１４８，８３０号に開示されているような所望のアルデヒド反応生成物から分離した金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒流体の液体循環又は例えば、米国特許第４，２４７，４８６号に間示されているようなガス循環手順、並びに所望ならば液体循環手順とガス循環手順との両方の組合せを含むことができる。該米国特許第４，１４８，８３０号及び同第４，２４７，４８６号の開示を本明細書中に援用する。本発明の最も好適なヒドロホルミル化プロセスは、連続液体触媒循環プロセスを含む。適した液体触媒循環手順は、例えば米国特許第４，６６８，６５１号；同第４，７７４，３６１号；同第５，１０２，５０５号；及び同第５，１１０，９９０号に開示されている。本発明の一実施態様では、アルデヒド生成混合物を、アルデヒド混合物が任意の適した方法によって製造される粗製反応混合物の他の成分から分離してよい。適した分離方法は、例えば溶媒抽出、相分離、結晶化、蒸留、気化、ワイプ式フィルム蒸発、流下式膜蒸発、等を含む。アルデヒド生成物を粗製反応混合物から、形成されると、公表された特許協カ条約特許出願ＷＯ８８／０８８３５に記載されている通りの捕獲剤を使用することによって除くことが所望されるかもしれない。アルデヒド混合物を粗製反応混合物の他の成分と分離する好適な方法は、膜分離による。そのような膜分離は、上に挙げた米国特許第５，４３０，１９４号及び１９９５年５月５日に出願した同時継続米国特許出願第０８／４３０，７９０号に記載される通りにして達成することができる。上に示した通りに、本発明のプロセスの終りに（又は間に）、所望のアルデヒドを本発明のプロセスにおいて用いる反応混合物から回収してよい。例えば米国特許第４，１４８，８３０号及び同第４，２４７，４８６号に開示されている回収技術を用いることができる。例えば、連続液体触媒循環プロセスでは、反応域から取り出した液体反応混合物（アルデヒド生成物、触媒、等を含有する）、すなわち反応生成物流体の一部を、分離域、例えば気化装置／分離装置に通し、そこで所望のアルデヒド生成物を、１又はそれ以上の段で、常圧、減圧或は高い圧力下で蒸留することにより液体反応流体から分離し、凝縮させて生成物レシーバーに収集し、所望ならば更に精製することができる。残留する非揮発触媒含有液体反応混合物を、次いで、凝縮されたアルデヒド生成物から、例えば蒸留することによって分離した後に液体反応中に溶解されるいずれの水素及び一酸化炭素と共に任意の慣用の方式で循環させて化反応域に戻してよく、所望ならば他の揮発性物質もそうしてよい。触媒含有反応混合物から所望のアルデヒドを、通常、オルガノホスフィットリガンド及び反応生成物の可能な分解を避けるように減圧下でかつ低い温度で分離するのが好適である。アルファ−モノ−オレフィン反応体もまた用いる場合には、それのアルデヒド誘導体もまた上記の方法によって分離するすることができる。一層特には、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒含有反応生成物流体からの所望のアルデヒド生成物の蒸留及び分離は、所望の任意の適した温度で行ってよい。通常、そのような蒸留は、１５０℃よりも低い温度のような比較的低い温度、一層好ましくは約５０°〜約１４０℃の範囲の温度で行うのが勧められる。また、そのようなアルデヒド蒸留は、減圧下で、例えば、低沸点アルデヒド（例えば、Ｃ₄〜Ｃ₆アルデヒド）が関係する場合、ヒドロホルミル化する間に用いる全ガス圧よりも相当に低い全ガス圧下で或は高沸点アルデヒド（例えば、Ｃ₇又はそれよりも高級）が関係する場合、真空下で行うのが通常勧められる。例えば、慣例は、ヒドロホルミル化反応域から取り出した液体反応生成物媒体に圧力低下を施し、それで今、含有する合成ガス濃度がヒドロホルミル化反応媒体中に存在していたのに比べてずっと低い液体媒体に溶解される未反応ガスの相当部分を揮発させて蒸留域、例えば気化装置／分離装置にむけるようにし、そこで所望のアルデヒド生成物を蒸留する。真空圧から全ガス圧約５０ｐｓｉｇ（３．５Kg/cm²Ｇ）までの範囲の蒸留圧力が、通常、ほとんどの目的について十分なはずである。水及び酸除去処理上述した通りに、主題の発明は、本明細書中で検討した通りの加水分解的分解及びロジウム触媒の失活を、プロセスから出かつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理することによって防ぐ又は低減させることを見出したことに在る。反応生成物流体中の金属塩汚染物、例えば鉄、亜鉛、カルシウム塩、等は、望ましくないことにアルデヒドの自己縮合を助成することから、本発明の利点は、所定の酸除去物質の酸度除去能力を、金属塩の反応生成物流体への移動を最少にして用いることができることである。金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒によるプロセスにおいて形成されるリン酸性化合物を除くために一種又はそれ以上の酸除去物質を、かかるプロセスのオルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させるために使用することは、本出願と同じ日に出願した同時継続中の米国特許出願第号（Ｄ−１７６５２）に開示されており、同特許出願の開示を本明細書中に援用する。反応、例えばヒドロホルミル化、システムからリン酸性化合物、例えばＨ₃ＰＯ₃、ヒドロキシアルキルホスホン酸のようなアルデヒド酸、Ｈ₃ＰＯ₄の少なくともいくらかの量を除くことは、反応媒体の酸度を調節し、それによりそれの加水分解的分解を防ぐ又は低減させることによって有用なオルガノホスフィットリガンドを安定にさせることを可能にする。オルガノホスフィットで助成される金属触媒によるヒドロホルミル化において酸度を調節する必要性については、上で説明した。これより、主題の発明の目的は、有用なオルガノホスフィットリガンドの消費が、触媒酸度を生産レベルに保ちながら、許容し得ない速度で加水分解崩壊しないように、反応生成物流体において適度の酸度レベルを保つために、触媒システムから過度の酸度を除く又は低減するにある。主題の発明は、そのような酸度を調節するための最良の手段が、一種又はそれ以上の酸除去物質を収容する１つ又はそれ以上の酸除去域において反応生成物流体からかかるリン酸性物質を除くことであることを述べる。このようにして、酸性物質を、単に掃去する及び／又は中和するのと対照して本明細書中に開示する通りにして除きかつ反応媒体中に残留させ、それによりそのような掃去された及び／又は中和された副生物の蓄積を回避し、かつそれ以上の可能性のある必要な二次ケミストリー又は反応装置域、分離装置域及び／又はスクラバー域での塩付着物の体積を防ぐ。金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒含有反応生成物流体の水による該処理は、該反応生成物流体が由来したベーシックプロセスに過度に悪影響を与えない任意の適した方式又は様式で行ってよい。例えば、水処理は、少なくとも１つの反応域又は少なくとも１つの分離域から取り出した処理すべき所望の反応生成物流体のすべて又はいずれかの一部に関して行ってよい。処理した接触された水を、次いで１つ又はそれ以上の酸除去域に送っても或は少なくとも１つの反応域又は少なくとも１つの分離域に戻してもよい。別法として、水を少なくとも１つの反応域又は少なくとも１つの分離域中にスプレーし又はその他の方法で少なくとも１つの反応域又は少なくとも１つの分離域に加えて酸度調節を達成してもよい。形成された水層を、次いで反応生成物流体からデカントすることができる。水の使用を伴う本発明は、特に米国特許第５，２８８，９１８号の発明を採用する連続液体触媒循環ヒドロホルミル化プロセスにおいて用いるために適応可能であり、同特許の発明は、そのプロセスを触媒的に活性な増進用添加剤の存在において実施することからなり、該添加剤は、添加水、弱酸性化合物（例えば、ビフェノール）、又は添加水と弱酸性化合物との両方からなるクラスから選ばれる。増進用添加剤は、所定のプロセスの間に形成され得かつ本明細書中で説明した通りに金属触媒を被毒させる望ましくないモノホスフィット副生物を選択的に加水分解してそれの蓄積を防ぐのを助けるのに用いられる。それでも、本発明の好適なプロセス、すなわち（ａ）少なくとも１つのスクラバー域において、該ヒドロプロセスから出かつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の水で処理しかつ（ｂ）少なくとも１つの酸除去域において、該反応生成物流体から取り出したリン酸性化合物を含有する水の少なくとも一部を、該水から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理することによってオルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを含む実施態様は、依然本質的に「非水性の」プロセスである、すなわち、反応媒体中に存在する水は、反応又は該媒体のいずれかを、有機相に加えて別の水性又は水相又は層を包含すると考えさせる程の量で存在しないと考えられることを理解すべきである。また、本発明の別の好適なプロセス、すなわちプロセスから出かつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質を該少なくとも１つの反応域及び／又は該少なくとも１つの分離域に導入することにより処理することによってオルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを含む実施態様もまた本質的に「非水性の」プロセスであると考えられることを理解すべきである。これより、例えば水を、反応域から取り出した連続液体触媒循環ヒドロホルミル化プロセスの反応生成物流体のすべて又は一部を、アルデヒド生成物をそこから分離する前又は分離した後の任意の時に処理するのに用いてよい。該水処理は、所望のアルデヒド生成物のできるだけ多くを蒸留した後に得られる反応生成物流体のすべて又は一部を、例えば該反応生成物流体を反応域に循環させる前に又は間に処理することを伴うのが一層好ましい。例えば、好適なモードは、反応域に循環させている循環される反応生成物流体のすべて又は一部（例えば、スリップストリーム）を、該触媒含有残分を反応域に再び入れるつもりの直前に、水を収容する液体抽出装置を連続して通過させることになる。これより、水で処理すべき金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒含有反応生成物流体は、触媒錯体及びその有機溶媒に加えて、生成物、遊離オルガノホスフィットリガンド、未反応の反応体、及び該反応生成物流体が由来するプロセスの反応媒体と調和する任意のその他の成分又は添加剤を含有し得ることは理解されるべきである。その上に、所望の生成物を取り出すことは、反応生成物流体のその他の成分の濃度を、比例して増大させ得る。これより、例えば本発明のプロセスに従って水で処理すべき金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒含有反応生成物流体中のオルガノホスフィットリガンド濃度は、反応生成物流体の全重量を基準にして約０．００５〜１５重量％の範囲にすることができる。リガンド濃度は、その基準で０．０１〜１０重量％が好ましく、約０．０５〜５重量％が一層好ましい。同様に、本発明のプロセスに従って水で処理すべき金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒含有反応生成物流体中の金属の濃度は、反応生成物流体の重量を基準にして重量により約５０００部／百万程に高くすることができる。金属濃度は、反応生成物流体の重量を基準にして重量により約５０〜２５００部／百万が好ましく、反応生成物流体の重量を基準にして重量により約７０〜２０００部／百万が一層好ましい。金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒含有反応生成物流体と水とを接触させる方式、並びに水の量、温度、圧力及び接触時間のような処理条件は、狭い臨界的なものではなく、自明のことに単に所望の結果を得る程にする必要があるだけである。例えば、該処理は、任意の適した容器において実施してよく、例えば、有機反応生成物流体と水とを完全に接触させるための適した手段になる任意の慣用の液体抽出装置を本発明において用いてよい。通常、有機反応生成物流体を、シーブトレー抽出装置カラム中の水を向流様式で通すのが好適である。主題の発明が用いる水の量及び反応生成物流体との接触の時間は、単に望ましいオルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊を引き起こすリン酸性化合物の少なくともいくらかの量を除く程のものにする必要があるだけである。水の量は、少なくともかかる酸性化合物の濃度を、オルガノホスフィットリガンドの急速な崩壊を引き起こすしきい値よりも低く保つ程にするのが好ましい。例えば、水の好適な量は、オルガノホスフィットリガンドのいずれの崩壊も、ＪｏｕｒｎａｌｏｆＣｈｅｍｉｃａｌＥｄｕｃａｔｉｏｎ、６４巻、１１号、１９８７年１１月、９２５〜９２７頁、Ｍａｔａ−Ｐｅｒｅｚ等により「T ｈｅＫｉｎｅｔｉｃＲａｔｅＬａｗｆｏｒＡｕｔｏｃａｔａｌｙｔｉｃＲｅａｃｔｉｏｎｓ」に記載されている「触媒機構」によるよりもむしろ、該論文に記載されている通りの「非触媒機構」によって進行するのを確実にする量である。最大の水濃度は、実用上の事情によって支配されるだけであるのが典型的である。注記した通りに、温度、圧力及び接触時間のような処理条件もまた大きく変えることができ、かかる条件の任意の適した組合せを本発明において用いてよい。例えば、かかる条件の内の一つの低下を他の条件の内の一つ又は両方によって埋め合わせてよく、他方反対の補正もまた当てはまる。通常、液体温度約１０°〜約１２０℃、好ましくは約２０°〜約８０℃、一層好ましくは約２５ °〜約６０℃が、ほとんどの場合について適しているはずであるが、所望ならば、一層低い又は一層高い温度を用いることができよう。上述した通りに、驚くべきことに、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒を含有する反応生成物流体を酸除去物質に接触させ又は水に接触させかつ接触させた水を次いで高い温度においてさえ酸除去物質で処理する場合に、起きるオルガノホスフィットリガンドの損失が最少になることを見出した。処理は、周囲圧〜反応圧の範囲の圧力下で実施し、接触時間は、数秒又は数分〜数時間又はそれ以上程の範囲になり得るのが普通である。その上に、主題の発明に従って反応生成物流体からリン酸性化合物を除く際に良好な結果を得ることは、反応媒体中に存在するオルガノホスフィットリガンドの崩壊（消費）速度を測定することによって求めてもよい。消費速度は、広い範囲にわたって、例えば約≦０．６〜約５グラムのリガンド／リットル／日まで変えることができ、リガンドの費用と加水分解を自触媒レベルよりも低く保つ処理頻度との間の最良の折衷によって支配されることになる。本発明の酸除去物質及び水処理は、プロセスの反応媒体中に存在する所望のオルガノホスフィットリガンドの消費を、許容し得る速度、例えば≦０．５グラムのリガンド／リットル／日に保つのが好ましく、≦０．１グラムのリガンド／リットル／日に保つのが一層好ましく、≦０．０６グラムのリガンド／リットル／日に保つのが最も好ましい。リン酸性化合物を中和して水の中に抽出するのが進行するにつれて、水のｐＨは低下してますます酸性になることになる。水が許容し得ない酸度レベルに達すると、単純に新しい水に代えてよい。本発明の好適な作業方法は、アルデヒドを除く前の反応生成物流体又はアルデヒドを除いた後の反応生成物流体コンセントレーションのすべて又は一部を、水を通過させかつ接触させた水を、１つ又はそれ以上の酸除去物質床を通過させることである。別法として、水を少なくとも１つの反応域又は少なくとも１つの分離域中にスプレーし又はその他の方法で少なくとも１つの反応域又は少なくとも１つの分離域に加えて酸度調節を達成してもよい。形成された水層を、次いで反応生成物流体から分離、例えばデカントし、１つ又はそれ以上の酸除去物質床に送ってもよい。このスキームの利点は、酸度が反応生成物流体において形成するならば、抽出能力が直ぐに利用可能であることである。本発明は、反応生成物流体を水に接触させる又は水を酸除去物質に接触させる（反応域、分離域、スクラバー域又は酸除去域の内部又は外部のいずれか）ための許容手段によって何ら制限されることを意図しない。本発明の目的から、「非接触水」とは、反応生成物流体に接触させなかった水を含む意図であり、「接触水」とは、反応生成物流体及び／又は酸除去物質に接触させた水を含む意図である。水に触媒毒、インヒビター、又は触媒溶液中で望ましくない副反応を助成する化合物が実質的に存在しない限り、本発明のプロセスに関して用いるための非接触水を調製するための任意の手段を用いることができる。水処理技術の要約は、Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ，ＥｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａｏｆＣｈｅｍｉｃａｌＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、第４版、１９９６に見出すことができる。水処理は、プロセスについての水品質要求を評価することから始めるべきである。金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒を含有する反応生成物流体からの酸抽出については、要求される水の品質は、ボイラー品質又はそれよりも良好にするのが普通である。精製するための水の源は、純度が原木、沈泥やその他の破壊屑を含有する川水から比較的に純なスチームコンデンセートまで大きく変わることができる。川水を使用するつもりならば、精製は、最も大きな片をろ過することから始める。この第一精製工程については、ふるい（ｇｒａｔｅ）又はスクリーンを使用することができる。水中に存在し得るその他の固形分を除くのに、下記を含む数多くの技術を用いることができる：沈降、遠心分離、ろ過、凝析、フロキュレーション、磁気分離、又はこれらの組合せ。透明になった水が得られた後に、残留する溶解される固形分もまた数多くのやり方で処理することができる。蒸留が依然一般に実施される。溶解される塩をその他の酸又は塩基で処理して所定の化合物を沈殿させてもよい。加える酸又は塩基は、生成されることになる化合物の溶解度に基づいて選ぶ。イオン交換は、溶解される塩を除くための別の普及している方法である。最も一般的なイオン交換法は、ナトリウムをカチオンとして用いる。また、プロトン又は水酸化物イオンによるその他のイオン交換技術も採用してよい。存在し得るいくらかの金属塩や有機化合物を除くのに、吸着を用いることができる。活性炭が一般に吸着剤として用いられる。膜は、溶解される塩又はその他のコロイド状粒子を除くのに用いられ得る更に別の技術である。膜は、サイズ、電子の電荷、疎水性又はその他の物理的−化学的性質の差異に基づいて分離する。逆浸透は、膜を用いて水を精製する例である。酸素のような溶解ガスが存在するならば、水をスチーム又は窒素でストリップし或は水に真空を施して溶解ガスを除く又は置換することができる。酸除去のために必要な非接触水を精製するための好適なプロセスは、前述した技術の内のいくつかの組合せになろう。抽出において用いるための非接触水を調製するのに、また、不純物の有害な作用に反作用させるのに添加剤を使用するインターナル技法もまた用いることができるが、先のパラグラフに記載するエクスターナル技法が一層好適である。本発明において用いることができる接触水は、任意の適した水を、接触水のｐＨが約２〜約１２、好ましくは約２．５〜約１１、−層好ましくは約３〜約１０の範囲になるように含むことができる。抽出装置を通す水の流量及び／又は水を少なくとも１つの反応域及び／又は少なくとも１つの分離域に加える流量は、水のｐＨを所望のレベルに調製する程にすべきである。抽出装置を通す水の流量を増大させると、プロセスから一種又はそれ以上のアルデヒド生成物のある量を取り出す、すなわち水流出物により、原因になり得る。本発明の好適な実施態様では、水抽出によって取り出した一種又はそれ以上のアルデヒド生成物を図１のプロセスフローダイヤグラムに示す通りに回収してプロセスに戻すことができる。例えば、抽出装置から水流出物をスチームストリップさせかつ凝縮されたストリッパーヘッドの有機相をヒドロホルミル化プロセスに戻すことによって一種又はそれ以上のアルデヒド生成物をヒドロホルミル化プロセスに戻してもよい。ストリッパーヘッドの水性相をストリッパー供給に戻してもよい。ストリッパーのテールは、触媒からの酸性分解生成物を含有し得る。反応生成物流体から取り出したリン酸性化合物を含有する水の一種又はそれ以上の酸除去物質による該処理は、該反応生成物流体が由来したベーシックプロセスに過度に悪影響を与えない任意の適した方式又は様式で行ってよい。例えば酸除去処理は、少なくとも１つのスクラバー域から取り出した処理すべき水のすべて又は一部に関して行ってよい。処理した水を、次いで１つ又はそれ以上のスクラバー域に戻してよい。別法として、水を少なくとも１つの反応域又は少なくとも１つの分離域中にスプレーし又はその他の方法で少なくとも１つの反応域又は少なくとも１つの分離域に加えて酸度調節を達成してもよい。形成された水層を、次いで反応生成物流体から分離、例えばデカントし、一種又はそれ以上の酸除去物質で処理してリン酸性化合物を除いてよい。処理した水を、次いで少なくとも１つの反応域又は少なくとも１つの分離域に戻してよい。反応生成物流体から取り出したリン酸性化合物を含有する水と一種又はそれ以上の酸除去物質とを接触させる方式、並びに水の量、酸除去物質の数及びタイプ、温度、圧力及び接触時間のような処理条件は、狭い臨界的なものではなく、自明のことに単に所望の結果を得る程にする必要があるだけである。例えば、該処理は、水と一種又はそれ以上の酸除去物質とを完全に接触させるための適した手段になる任意の適した容器において実施してよく、本発明において用いてよい。主題の発明が用いる水及び酸除去物質の量並びに接触の時間は、単に望ましいオルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊を引き起こすリン酸性化合物の少なくともいくらかの量を除く程のものにする必要があるだけである。水及び酸除去物質の量は、少なくともかかるリン酸性化合物の濃度を、オルガノホスフィットリガンドの急速な崩壊を引き起こすしきい値よりも低く保つ程にするのが好ましい。また、好ましくは、スクラバー域から酸除去域に送る水のフラクションを、スクラバー域内の水のｐＨに基づいて調節してもよい。反応生成物流体の一種又はそれ以上の酸除去物質による該処理は、該反応生成物流体が由来したベーシックプロセスに過度に悪影響を与えない任意の適した方式又は様式で行ってよい。例えば、酸除去処理は、少なくとも１つの反応域又は少なくとも１つの分離域から取り出した処理すべき反応生成物流体のすべて又は一部に関して行ってよい。処理した反応生成物流体を、次いで少なくとも１つの反応域又は少なくとも１つの分離域に戻してもよい。別法として、酸除去処理、例えば炭酸カルシウム粉末を、少なくとも１つの反応域又は少なくとも１つの分離域に加えて酸度調節を達成してもよい。形成された沈殿を、次いで少なくとも１つの反応域又は少なくとも１つの分離域から取り出すことができる。用いる酸除去物質は、反応生成物流体から取り出したリン酸性化合物を含有する水への限られた溶解度を有すべきである。本発明の広い実施では、「不溶性」とは、本発明の実施において用いる温度において不溶性を意味する。本発明において有用な酸除去物質の例は、例えば金属の酸化物、水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩及びカルボキシレートを含む。好適な酸除去物質は、炭酸カルシウムのような炭酸塩を含む。本発明において有用な酸除去物質は、狭い臨界的なものではなく、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒によるプロセスにおいて形成されるかかるリン酸性化合物を有効に除き、それにより金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒を採用するプロセスの間に時間の経過にわたって起き得るオルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることができる任意の化合物にすることができる。好適な酸除去物質は、水への低い溶解度を有しかつまた水への極めて低い溶解度を有するリン酸性塩をもたらす。酸除去物質を構成する許容し得る金属は、カルシウム（Ｃａ）、銀（Ａｇ）、亜鉛（Ｚｎ）、等から選ぶ２、１１及び１２族金属を含む。本発明において有用な金属酸化物の例は、例えば酸化カルシウム、酸化銀、酸化亜鉛、等を含む。本発明において有用な水酸化物の例は、例えば水酸化カルシウム、水酸化亜鉛、等を含む。本発明において有用な炭酸塩の例は、例えば炭酸カルシウム、炭酸銀、炭酸亜鉛、等を含む。本発明において有用なカルボキシレートの例は、例えばカルシウム２−エチルヘキサノエートを含む。適した酸除去物質の例は、Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ，ＥｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａｏｆＣｈｅｍｉｃａｌＴｅｃｈｎ。ｌｏｇｙ、第４版、１９９６（それの関係する部分を本明細書中に援用する）に記載されているそれらの許容し得る酸除去物質を含む。上に示した通りに、反応生成物流体は、少なくともいくらかの量の種々のリン酸性化合物、例えばＨ₃ＰＯ₃、ヒドロキシアルキルホスホン酸のようなアルデヒド酸、Ｈ₃ＰＯ₄、等及びその他の酸性化合物、例えば酪酸、等のようなカルボン酸を含み得る。一種又はそれ以上の酸除去物質がカルボン酸で飽和されるようになるならば、本発明のプロセスは、依然望ましい程に低いレベルのリン酸性化合物において操業することができる。リン酸性化合物が強い程、本発明の操業において酸除去物質から一層弱いカルボン酸を置換することが可能になる。プロセスから出かつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体又は該接触水から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質を少なくとも１つの反応域、少なくとも１つの分離域、少なくとも１つのスクラバー域及び／又は少なくとも１つの酸除去域に導入することによって処理することを含む本発明の実施態様では、種々の域における塩の沈殿をろ過によって除いても又は支持体上に付着させて機械的手段によって除いてもよい。また、カルボキシレートについては、カルボン酸を種々の域に加えかつ現場でカルボキシレートに転化させても又はカルボキシレートそれ自体を直接種々の域に加えてもよい。本発明に従って反応生成物流体又は水からリン酸性化合物を除くことは、簡単に反応生成物流体又は水を一種又はそれ以上の酸除去物質に接触させることによって達成することができる。反応生成物流体又は水に対する酸除去物質の量は、反応生成物流体又は水中のリン酸性化合物の量に依存することになる。酸除去物質の量は、単にリン酸性化合物濃度を所望の値に低下させる程にする必要があるだけである。リン酸性化合物濃度約１０部／百万を有する反応生成物流体又は水基準に基づいて、酸除去物質約１０ミリリットル／処理すべき反応生成物流体又は水１リットルの酸除去物質の容積による量が、反応生成物流体又は水からリン酸性化合物を除くために満足すべきものであるはずである。一種又はそれ以上の酸除去物質と反応生成物流体から取り出したリン酸性化合物を含有する反応生成物流体又は水との間の接触時間は、単に水から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程にする必要があるだけである。リン酸性化合物を含有する反応生成物流体及び水を一種又はそれ以上の酸除去物質にバッチ又は連続（半連続）モードで接触させることができる。バッチモードで操業する場合、接触は、リン酸性化合物を含有する反応生成物流体又は水と一種又はそれ以上の酸除去物質との混合物を約０．０１〜約１０時間、一層典型的には約０．１〜約５時間撹拌した後に、任意の既知の分離技術、例えば沈降、遠心分離、ろ過、等を伴うのが好ましい。発明は、リン酸性化合物を含有する反応生成物流体又は水を、酸除去物質の１つ又はそれ以上の含まれている床、例えば固定床、移動床又は流動床を液流量約０．１〜約１００床容積／時、一層典型的には約１〜約２０床容積／時の範囲で通して流すことによって連続モードで実施するのが好ましい。発明は、酸除去サービス用にデザインする任意の慣用の装置を採用ことができ、特種のデザインを要しない。一種又はそれ以上の酸除去物質とリン酸性化合物を含有する反応生成物流体又は水との間の適度の接触が、最良の結果を得るのに重要であるのは自明のことである。当業者ならば認める通りに、１つ又はそれ以上の酸除去物質床を使用して、反応生成物流体又は水からリン酸性化合物を、１つ又はそれ以上の酸除去物質床を出る処理された反応生成物流体又は水中のリン酸性化合物のレベル（濃度）が所望の値に低下するまで除く。本発明において使用することができる酸除去物質床の数は、狭い臨界的なものではない。１つ又はそれ以上の酸除去物質床、例えば一連のかかる床を採用してよく、そのような任意の床を、要求又は所望の通りに容易に取り去り及び／又は取り替えてよい。必要に応じて、例えば米国特許第４，５６７，３０６号に教示される通りにオルガノホスフィットの加水分解時に形成される酸性加水分解副生物を掃去するために、有機窒素化合物を反応生成物流体、例えばヒドロホルミル化反応生成物流体に加えてよい。そのような有機窒素化合物は、反応域中に反応、例えばヒドロホルミル化、条件下で存在する間に、酸性化合物と転化生成物塩を形成し、それにより金属、例えばロジウム、を酸性加水分解副生物と錯生成させないようにし、こうして金属、例えばロジウム触媒の活性を保護するのを助けることによって、酸性化合物と反応しかつ酸性化合物を中和するのに用いることができる。この機能のための有機窒素化合物の選定は、一部反応媒体に可溶性でありかつアルドールやその他の縮合生成物の形成を有意の速度で触媒する又は生成物、例えばアルデヒドと過度に反応する傾向にない塩基性物質を使用することの望みによって指図される。そのような有機窒素化合物は、炭素原子２〜３０、好ましくは炭素原子２〜２４を含有することができる。第一級アミンは、該有機窒素化合物として用いることから排除されるべきである。好適な有機窒素化合物は、有機相への溶解に都合の良い分配係数を持つべきである。通常、本発明の反応生成物流体中に存在するリン酸性化合物を掃去するために有用な一層好適な有機窒素化合物は、使用する接触水のｐＨの±３の範囲内のｐＫａ値を有するものを含む。有機窒素化合物のｐＫａ値は、本質的に使用する水のｐＨとほぼ同じにするのが一層好ましい。任意の所定のプロセスにおいてかかる有機窒素化合物を一種だけ一度に使用するのが好適かもしれないが、所望ならば、二種又はそれ以上の異なる有機窒素化合物の混合物もまた任意の所定のプロセスにおいて用いてよいことが理解されるべきであるのはもちろんである。有機窒素化合物の例は、例えば下記を含む：トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−イソ−−ブチルアミン、トリ− イソ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、ジメチル−イソ−プロピルアミン、ジメチル−ヘキサデルアミン、メチル−ジ −ｎ−オクチルアミン、等のようなトリアルキルアミン、並びにそれらのヒドロキシ基のような非妨害置換基を１個又はそれ以上含有する置換された誘導体、例えばトリエタノールアミン、Ｎ−メチル−ジ−エタノールアミン、トリス−（３ −ヒドロキシプロピル）−アミン、等。また、ピリジン、ピコリン、ルチジン、コリジン、Ｎ−メチル−ピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−２’−ヒドロキシエチルモルホリン、キノリン、イソ−キノリン、キノキサリン、アクリジエン、キノクリジン、並びにジアゾール、トリアゾール、ジアジン及びトリアジン化合物、等のような複素環式アミンもまた用いることができる。また、Ｎ，Ｎ− ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジン、Ｎ，Ｎ−メチルジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１−ナフチルアミン、等のような芳香族第三級アミンも可能な使用用に適する。また、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチルエチレンジアミンやトリエチレンジアミン（すなわち、１，４−ジアザビシクロ−［２．２，２］−オクタン）のようなアミノ基を２個又はそれ以上含有する化合物も挙げることができる。本発明の反応生成物流体中に存在するリン酸性化合物を掃去するために有用な好適な有機窒素化合物は、本出願と同じ日に出願した同時継続中の米国特許出願第号（Ｄ−１７４２３−１）に開示されておりかつ使用されているような、ジアゾール、トリアゾール、ジアジン及びトリアジンからなる群より選ぶ複素環式化合物であり、同特許出願の開示を本明細書中に援用する。例えば、ベンゾイミダゾールやベンゾトリアゾールが、このような使用用の好適な候補である。適した有機窒素化合物の例は、Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ，ＥｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａｏｆＣｈｅｍｉｃａｌＴｅｃｈｎｏ１ｏｇｙ、第４版、１９９６（それの関係する部分を本明細書中に援用する）に記載されているそれらの許容し得る有機窒素化合物を含む。本発明の反応生成物流体中に存在するリン酸性化合物を掃去するために反応生成物流体中に存在させることができる有機窒素化合物の量は、反応生成物流体１リットル当り少なくとも約０．０００１モルの遊離有機窒素化合物の濃度をもたらす程にするのが典型的である。有機窒素化合物対全オルガノホスフィットリガンド（ロジウムと結合されていようと或は遊離オルガノホスフィットとして存在していようと）の比は、少なくとも約０．１：１にするのが普通であり、少なくとも約０．５：１にするのが更に一層好ましい。有機窒素化合物の使用量に関する上限は、主に経済的な事情によってのみ支配される。有機窒素化合物：オルガノホスフィットモル比少なくとも約１：１〜約５：１までが、ほとんどの目的について十分なはずである。該リン酸性化合物を掃去するのに用いる有機窒素化合物は、上に挙げる同時継続中の米国特許出願第号（Ｄ−１７４２３−１）に教示されているような、生成物、例えばアルデヒド、気化装置−分離装置中に存在するような過酷な条件下で金属触媒を保護するのに用いられる複素環式窒素化合物と同じにする必要がないことは理解されるべきである。しかし、該有機窒素化合物と該複素環式窒素化合物とを同じにしかつ所定のプロセスにおいて該機能の両方を発揮することを所望するならば、またプロセス、例えばヒドロホルミル化気化装置−分離装置において所望する該機能の両方を達成させることを可能にすることになる量の遊離複素環式窒素化合物ももたらす程の量の複素環式窒素化合物が反応媒体中に存在することになるのを確かめるように注意を払うべきである。よって、水は、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒含有反応生成物流体から遊離のリン酸性化合物を除くことになるばかりでなく、水は、また驚くべきことに、用いる場合に有機窒素化合物掃去剤を使用することによって形成される転化生成物塩のリン酸性物質も除く、すなわち該転化生成物塩のリン酸は、水中に後に残り、他方処理された反応生成物流体は、再活性化される（遊離の）有機窒素化合物と共に反応域に戻される。オルガノポリホスフィットリガンド助成される金属触媒が、気化装置−分離装置を経てアルデヒドを回収するような過酷な条件を伴うプロセス、例えば連続液体触媒循環ヒドロホルミル化プロセスにおいて採用される場合に観測されてきた別の問題、すなわち触媒の触媒活性ののろい損失は、少なくとも一部その反応生成物流体からアルデヒド生成物を分離及び回収する際に用いられる気化装置において存在するような過酷な条件によると考えられる。例えば、オルガノポリホスフィット助成されるロジウム触媒を高い温度や低い一酸化炭素分圧のような過酷な条件下に置く場合に、触媒は、不活性な又は活性の一層低いロジウム種を形成し、不活性な又は活性の一層低いロジウム種は、またかかる過酷な条件に長く暴露されて沈殿を受け得ることにもっともなりそうであることにより、経時的に促進されるペースで失活するのが分かった。そのような証拠は、また、ヒドロホルミル化条件下で、ロジウム、オルガノホスフィット、一酸化炭素及び水素の錯体を含むと考えられる活性な触媒が、気化において遭遇されるような過酷な条件に暴露される間にその配位される一酸化炭素リガンドの少なくともいくらかを失い、それが触媒的に不活性な又は活性の一層低いロジウム種を形成するルートとなるという見解と一致する。そのような触媒失活及び／又は沈殿を防ぐ又は最少にするための手段は、上に挙げる同時継続中の米国特許出願第号（Ｄ−１７４２３−１）に記載及び教示されている発明を実施することを伴い、それは、ヒドロホルミル化プロセスをそこに開示されている通りの遊離の複素環式窒素化合物の存在において低い一酸化炭素分圧の条件下で実施することを含む。それ以上の説明として、遊離の複素環式窒素化合物は、失われる一酸化炭素リガンドに代わる交換リガンドとして働き、それによりそのような過酷な条件、例えば気化分離の間に金属、オルガノポリホスフィット、複素環式窒素化合物及び水素の錯体を含む中性の中間金属種を形成し、それによりいずれのかかる上述した触媒的に不活性な又は活性の一層低い金属種の形成を防ぐ又は最少にすると考えられる。更に、かかる連続液体触媒循環ヒドロホルミル化の進行中ずっと触媒活性を維持する、又はその失活を維持することは、関与される特定のヒドロホルミル化プロセスの反応装置（すなわち、ヒドロホルミル化反応域）中の該中性の中間金属種から活性な触媒を再生することによるものと理論化される。反応装置内の合成ガス圧力が一層高いヒドロホルミル化条件下で、金属、例えばロジウム、オルガノポリホスフィット、一酸化炭素及び水素を含む活性な触媒錯体は、反応体合成ガス中の一酸化炭素のいくらかが、循環される中性の中間ロジウム種の複素環式窒素リガンドに代わる結果再生されると考えられる。すなわち、ロジウムについて一層強いリガンド親和力を有する一酸化炭素は、上述した気化分離の間に形成された循環される中性の中間ロジウム種の一層弱く結合される複素環式窒素リガンドに代わり、それによりヒドロホルミル化反応装置中で活性な触媒を形成する。このように、そのような過酷な条件による金属触媒失活の可能性は、炭素原子２〜５及び窒素原子２〜３からなり、該窒素原子の内の少なくとも１つは二重結合を含有する５又は６員の複素環を有する遊離の複素環式窒素化合物の加えた存在において金属−オルガノポリホスフィットリガンド触媒含有反応生成物流体からの所望の生成物のかかる蒸留を実施することによって最少にする又は防ぐと言われる。そのような遊離の複素環式窒素化合物は、例えば、ベンゾイミダゾール又はベンゾトリアゾール、等のようなジアゾール、トリアゾール、ジアジン及びトリアジン化合物からなるクラスより選ぶのがよい。該複素環式窒素化合物に適用する通りの「遊離」なる用語は、本明細書中かかる複素環式窒素化合物のいずれの酸性塩、すなわち本明細書中上に検討する通りの反応生成物流体中に存在するいずれかのリン酸性化合物とかかる遊離の複素環式窒素化合物との反応によって形成される塩化合物を除くのに用いる。任意の所定のプロセスにおいて遊離の複素環式窒素化合物を一度に一種だけ使用するのが好適かもしれないが、所望ならば、二種又はそれ以上の異なる遊離の複素環式窒素化合物の混合物もまた任意の所定のプロセスにおいて用いてよいことは理解されるべきである。その上に、過酷な条件、例えば気化手順の間に存在するかかる遊離の複素環式窒素化合物の量は、単に、理想的な金属触媒による液体触媒循環ヒドロホルミル化プロセスを、アルデヒド生成物を気化分離する間に遊離の複素環式窒素化合物を何ら存在させないで本質的に同じ条件下で実施する結果起きるのが認められ得るような触媒失活を少なくともいくらか最少にするためのベーシスを供するのに必要なその最少の量にする必要があるだけである。かかる遊離の複素環式窒素化合物の量は、蒸留すべき反応生成物流体の全重量を基準にして約０．０１〜約１０重量％まで、所望ならばそれ以上の範囲がほとんどの目的について十分なはずである。酸度を反応生成物流体から水性フラクションに移す代わりの方法は、反応生成物流体及び水性フラクションの両方に不混和性になる程のサイズのフルオロカーボン又はシリコーン側鎖を有する複素環式アミンを中間使用することによる。複素環式アミンを、初めに反応生成物流体に接触させることができ、そこで反応生成物流体に存在する酸度が複素環式アミンの窒素に移されることになる。この複素環式アミン層を、次いで反応生成物流体からデカントし又はその他の方法で分離した後に、それを水性フラクションに接触させ、そこでそれが再び分離相として存在することになるようにしてもよい。複素環式アミン層を、次いで戻して反応生成物流体に接触させてもよい。本発明の目的から、「炭化水素」なる用語は、少なくとも１つの水素及び１つの炭素原子を有するすべての許容し得る化合物を含むことを意図する。そのような許容し得る化合物は、またヘテロ原子を１個又はそれ以上有してもよい。広い態様では、許容し得る炭化水素は、置換される又は未置換にすることができる、非環状（ヘテロ原子を有する又は有しない）及び環状の、枝分れした及び枝なしの、炭素環式及び複素環式の、芳香族及び非芳香族の有機化合物を含む。本明細書中で用いる通りの「置換される」なる用語は、その他に示さない場合には、有機化合物のすべての許容し得る置換基を含むことを意図する。広い態様では、許容し得る置換基は、有機化合物の非環状及び環状の、枝分れした及び枝なしの、炭素環式及び複素環式の、芳香族及び非芳香族の置換基を含む。置換基の例は、例えば、アルキル、アルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アミノ、アミノアルキル、ハロゲン及び炭素の数が１〜約２０又はそれ以上、好ましくは１〜約１２の範囲になることができる同様のものを含む。許容し得る置換基は、適した有機化合物について１個又はそれ以上にするかつ同じに又は異なることができる。本発明は、有機化合物の許容し得る置換基によっていささかも制限されることを意図しない。下記の例のいくつかを、本発明を更に例示するために挙げる。例１水からヒドロキシアミルホスホン酸を除くのに、アルミナ上の炭酸カルシウムを使用した。ステンレスチール容器中に、ヒドロキシアミルホスホン酸の１３０部／百万溶液をポンプでアルミナ床上の５％炭酸カルシウム上に送った。酸溶液の流量は、溶液０．３１グラム／担体上のＣａＣＯ₃ １グラムであった。これらの条件を２週間保った。酸除去床に流入する酸溶液のｐＨは、３．２であった。水流出物のｐＨは、９．２〜１１．３の範囲であり、読みの大部分は１０．５〜１１．０であった。リン及びカルシウムの濃度は、高周波誘導結合プラズマ技術によって測定した。流入する酸溶液中のリン及びカルシウムの濃度は、それぞれ重量により２４ｐｐｍ及び１ｐｐｍ未満であった。流出水中のリン及びカルシウムの濃度は、それぞれ重量により１．１部／百万よりも低い及び７０部／百万であった。（溶液０．３１グラム）／（ＣａＣＯ₃及び担体グラム）で２週間操業した後に、酸供給溶液の流量を、（溶液０．９３グラム）／（ＣａＣＯ₃及び担体グラム）に増大した。水流出物のｐＨは、１０．１に低下しかつ次の９日にわたって定常的に低下し続けて８．６５になった。例２この対照例は、添加酸又はベンゾイミダゾールの不存在においてブチルアルデヒド含有アルデヒドダイマー及びトリマー中に重量によりロジウム２００部／百万、及びリガンドＦ０．３９％を含有する溶液中でのリガンドＦ（本明細書中に身元を示す通りの）の安定性を例示する。透明な乾燥した２５ミリリットルバイアルに、上述したブチルアルデヒド溶液１２グラムを加えた。サンプルを、２４時間及び７２時間後に高性能液体クロマトグラフィーを使用してリガンドＦについて分析した。リガンドＦの重量％を、高性能液体クロマトグラフィーによりキャリブレーションカーブに対して求めた。２４時間又は７２時間のいずれかの後にリガンドＦの濃度の変化は観測されなかった。例３本例は、オルガノホスフィットの加水分解の間に形成され得る酸のタイプをシムレートするためにリン酸を加えた外は、例２と同様である。例２の手順を、リン酸（Ｈ₃ＰＯ₃）０．０１７グラムを溶液１２グラムに加える変更をして、反復した。リガンドＦの濃度は、２４時間後に０．３９重量％から０．１２重量％に低下していた；リガンドＦの濃度は、７２時間後に０．０４重量％に低下していた。このデータは、強酸がリガンドＦの分解を触媒することを示す。例４本例は、リン酸及びベンゾイミダゾールの両方を加えた外は、例２と同様である。例２の手順を、リン酸０．０１８グラム及びベンゾイミダゾール０．０３３７グラムを溶液に加える変更をして、反復した。２４時間又は７２時間のいずれかの後にリガンドＦの分解は観測されなかった。これは、ベンゾイミダゾールの添加が、強酸の作用を有効に緩衝し、それによりリガンドＦの急速な分解を防ぐことを示す。例５下記の一連の実験は、塩基のｐＫａの、等モルの酸水溶液と接触させた際に有機相中に残る塩基の有効性への関係を求めるために行った。すべての場合において、実験を、他に規定しない場合には、窒素下で行った。酸又は塩基を溶媒に、最終の濃度が０．１モル／リットルに等しくなるような量で溶解することによって、溶液を調製した。０．１モル／リットル溶液のアリコートを採取しかつ特定の濃度に希釈することによって、１×１０^-3モル／リットル溶液を調製した。０．１モル／リットル溶液に代えて１×１０^-3モル／リットル溶液のアリコートを使用する変更をして、１×１０^-3モル／リットル溶液と同じようにして、１×１０^-5モル／リットル溶液を調製した。各々の抽出実験において、ブチルアルデヒド中の塩基溶液５ミリリットルを透明な乾燥したバイアルに加えた。このバイアルに、等モルのＨ₃ＰＯ₃溶液５ミリリットルを加えた。生成した混合物を数分間急速に振盪し、次いで相分離させた。次いで、水性層の１ミリリットルアリコートを透明な乾燥したバイアルに移した。このバイアルに、ｐＨ７のナトリウム／カリウムホスフェート緩衝液１ミリリットル及びＴｅｒｇｉｔｏｌ（登録商標）１５−Ｓ−９界面活性剤０．１ミリリットルを加えた。溶液を激しく振盪し、アリコートを、塩基含量について高性能液体クロマトグラフィーによって分析した。次いで、塩基の量を、ジクロロメタン溶液と初期濃度で比べた。計算された分配係数は、塩基を有機相から水相に分配するためであり、Ｋ＝水相中の塩基の量／有機相中の塩基の量と定義される。抽出実験の結果を、表Ａにまとめる。データは、塩基のｐＫａが小さくなる程、有機相中に残る塩基が多くなることを示す。発明を先の例のいくつかによって例示したが、それによって制限されると解釈すべきでなく；むしろ、発明は本明細書中前に開示した通りの全体的な領域を包含する。種々の変更及び実施態様を、発明の精神及び範囲から逸脱しないでなすことができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号００８，２８９ (32)優先日平成７年12月６日(1995．12．6) (33)優先権主張国米国（ＵＳ） (31)優先権主張番号００８，７６３ (32)優先日平成７年12月６日(1995．12．6) (33)優先権主張国米国（ＵＳ） (31)優先権主張番号０８／７５６，７８６ (32)優先日平成８年11月26日(1996．11．26) (33)優先権主張国米国（ＵＳ） (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＺ，ＥＥ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＴ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＺ，ＶＮ (72)発明者ニコルソン，ジェイムズクレアアメリカ合衆国 25303 ウエストバージニア，サウスチャールストン，ウッドランドアベニュー 1204

Claims

【特許請求の範囲】１．ヒドロホルミル化、ヒドロアシル化（分子内及び分子間）、ヒドロシアン化、ヒドロアミド化、ヒドロエステル化、アミノリシス、アルコーリシス、カルボニル化、異性化又は転移水素化プロセスからの、一種又はそれ以上のリン酸性化合物、金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドを含有する反応生成物流体から一種又はそれ以上のリン酸性化合物を分離する方法であって、（ａ）該反応生成物流体を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の水で処理しかつ（ｂ）該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水を、該水から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の酸除去物質で処理することを含む方法。２．ヒドロホルミル化、ヒドロアシル化（分子内及び分子間）、ヒドロシアン化、ヒドロアミド化、ヒドロエステル化、アミノリシス、アルコーリシス、カルボニル化、異性化又は転移水素化プロセスにおいて、オルガノホスフィットリガンドを加水分解崩壊に対して及び／又は金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒を失活に対して安定化する方法であって、（ａ）金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドを含有しかつまた一種又はそれ以上のリン酸性化合物も含有する反応生成物流体を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の水で処理しかつ（ｂ）該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水を、該水から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の酸除去物質で処理することを含む方法。３．ヒドロホルミル化、ヒドロアシル化（分子内及び分子間）、ヒドロシアン化、ヒドロアミド化、ヒドロエステル化、アミノリシス、アルコーリシス、カルボニル化、異性化又は転移水素化プロセスにおいて、オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び／又は金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させる方法であって、（ａ）金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドを含有しかつまた一種又はそれ以上のリン酸性化合物も含有する反応生成物流体を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の水で処理しかつ（ｂ）該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水を、該水から少なくともいくらかの量の該一種又はそれ以上のリン酸性化合物を除く程の酸除去物質で処理することを含む方法。４．一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて反応生成物を生成することを含む改良されたヒドロホルミル化、ヒドロアシル化（分子内及び分子間）、ヒドロシアン化、ヒドロアミド化、ヒドロエステル化、アミノリシス、アルコーリシス、カルボニル化、異性化又は転移水素化プロセスであって、該プロセスから出かつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の量の２、１１又は１２族金属の酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩又はカルボキシレートである一種又はそれ以上の酸除去物質で処理することによって該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法。５．（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上の生成物を含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は該少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上の生成物を分離することを含む請求項４の改良されたプロセスであって、（ａ）少なくとも１つのスクラバー域において、該プロセスから出かつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の水で処理しかつ（ｂ）少なくとも１つの酸除去域において、該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水の少なくとも一部を、該水から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理することによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法。６．（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上の生成物を含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は該少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上の生成物を分離することを含む請求項４の改良されたプロセスであって、（ａ）少なくとも１つの酸除去域において、該プロセスから出かつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理し、かつ（ｂ）処理した反応生成物流体を該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域に戻すことによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法。７．（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上の生成物を含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は該少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上の生成物を分離することを含む請求項４の改良されたプロセスであって、（ａ）少なくとも１つのスクラバー域において、該プロセスから出かつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の水で処理し、（ｂ）処理した反応生成物流体を該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域に戻し、（ｃ）少なくとも１つの酸除去域において、該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水の少なくとも一部を、該水から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理し、かつ（ｄ）処理した水を該少なくとも１つのスクラバー域に戻すことによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法。８．（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上の生成物を含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は該少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上の生成物を分離することを含む請求項４の改良されたプロセスであって、（ａ）該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域から、該プロセスから出かつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する反応生成物流体の少なくとも一部を抜き出し、（ｂ）少なくとも１つの酸除去域において、該プロセスから出かつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する抜き出した反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理し、（ｃ）処理した反応生成物流体を該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域に戻し、かつ（ｄ）必要に応じて該一種又はそれ以上の酸除去物質を取り代えることによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属− オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法。９．（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上の生成物を含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は該少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上の生成物を分離することを含む請求項４の改良されたプロセスであって、（ａ）該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域から、該プロセスから出かつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を抜き出し、（ｂ）少なくとも１つのスクラバー域において、該プロセスから出かつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する抜き出した反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の水で処理し、（ｃ）処理した反応生成物流体を該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域に戻し、（ｄ）少なくとも１つのスクラバー域から、該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する該水の少なくとも一部を抜き出し、（ｅ）少なくとも１つの酸除去域において、該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する抜き出した水の少なくとも一部を、該水から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理し、（ｆ）処理した水を該少なくとも１つのスクラバー域に戻し、かつ（ｇ）必要に応じて該一種又はそれ以上の酸除去物質を取り代えることによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法。１０．（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上の生成物を含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は該少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上の生成物を分離することを含む請求項４の改良されたプロセスであって、該プロセスから出かつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質を該少なくとも１つの反応域及び／又は該少なくとも１つの分離域に導入することによって処理することによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法。１１．（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上の生成物を含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は該少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上の生成物を分離することを含む請求項４の改良されたプロセスであって、（ａ）該プロセスから出かつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の水を該少なくとも１つの反応域及び／又は該少なくとも１つの分離域に導入することによって処理しかつ（ｂ）少なくとも１つの酸除去域において、該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水の少なくとも一部を、該水から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理することによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法。１２．（ｉ）少なくとも１つの反応域において、一種又はそれ以上の反応体を金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒及び随意に遊離のオルガノホスフィットリガンドの存在において反応させて一種又はそれ以上の生成物を含む反応生成物流体を生成しかつ（ｉｉ）少なくとも１つの分離域又は該少なくとも１つの反応域において、該反応生成物流体から一種又はそれ以上の生成物を分離することを含む請求項４の改良されたプロセスであって、（ａ）該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域から、該プロセスから出かつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する反応生成物流体の少なくとも一部を抜き出し、（ｂ）少なくとも１つのスクラバー域において、該プロセスから出かつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する抜き出した該反応生成物流体の少なくとも一部を、該反応生成物流体から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の水で処理し、（ｃ）処理した反応生成物流体を該少なくとも１つの反応域又は該少なくとも１つの分離域に戻し、（ｄ）該少なくとも１つのスクラバー域において、該反応生成物流体から除いたリン酸性化合物を含有する水の少なくとも一部を、該水から少なくともいくらかの量のリン酸性化合物を除く程の一種又はそれ以上の酸除去物質で処理し、かつ（ｅ）必要に応じて該一種又はそれ以上の酸除去物質を取り代えることによっていずれの該オルガノホスフィットリガンドの加水分解崩壊及び該金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒の失活を防ぐ及び／又は低減させることを特徴とする方法。１３．酸除去物質が、２、１１又は１２族金属の酸化物、水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩又はカルボキシレートである請求項１〜３のいずれか一の方法。１４．前記反応生成物流体が、均質な又は不均質な金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒を含有し或は該反応生成物流体の少なくとも一部が、前記プロセスの間固定された不均質な金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒に接触する請求項１〜１２のいずれか一の方法。１５．反応生成物流体からの一種又はそれ以上の前記分離が、前記プロセスから出かつまた該プロセスの間に形成されるリン酸性化合物も含有する反応生成物流体の少なくとも一部を水で処理する前に又は水で処理した後に行われる請求項５〜１２のいずれか一の方法。１６．前記金属−オルガノホスフィットリガンド錯体触媒が、ロジウムを、下記：（ｉ）下記式によって表わされるモノオルガノホスフィット：（式中、Ｒ¹は、炭素原子４〜４０又はそれ以上を含有する置換された又は未置換の三価の炭化水素ラジカルを表わす）；（ｉｉ）下記式によって表わされるジオルガノホスフィット：（式中、Ｒ²は、炭素原子４〜４０又はそれ以上を含有する置換された又は未置換の二価の炭化水素ラジカルを表わし、Ｗは、炭素原子１〜１８又はそれ以上を含有する置換された又は未置換の一価の炭化水素ラジカルを表わす）；（ｉｉｉ）下記式によって表わされるトリオルガノホスフィット：（式中、各々のＲ⁶は、同じであり或は異なり、置換された又は未置換の一価の炭化水素ラジカルを表わす）；及び（ｉｖ）下記式によって表わされる第三級（三価）リン原子を２個又はそれ以上含有するオルガノポリホスフィット；（式中、Ｘは、炭素原子２〜４０を含有する置換された又は未置換のｎ価の有機ブリッジングラジカルを表わし、各々のＲ⁷は、同じであり或は異なり、炭素原子４〜４０を含有する二価の有機ラジカルを表わし、各々のＲ⁸は、同じであり或は異なり、炭素原子１〜２４を含有する置換された又は未置換の一価の炭化水素ラジカルを表わし、ａ及びｂは、同じになり或は異なり、各々０〜６の値を有することができ、但しａ＋ｂの合計は、２〜６でありかつｎは、ａ＋ｂに等しい）から選ぶオルガノホスフィットリガンドで錯形成させてなる請求項１〜１２のいずれか一の方法。１７．反応生成物流体中に存在するリン酸性化合物を、また前記反応媒体中に存在する有機窒素化合物によって掃去し、該リン酸性化合物と該有機窒素化合物との間の反応の転化生成物のリン酸性化合物の少なくともいくらかの量もまた水処理によって除く請求項１〜１２のいずれか一の方法。１８．有機窒素化合物が、ジアゾール、トリアゾール、ジアジン又はトリアジンである請求項１７の方法。１９．有機窒素化合物が、ベンゾイミダゾール又はベンゾトリアゾールである請求項１８の方法。