JP2002502026A - 独立した負荷発生機構を有する材料試験装置 - Google Patents
独立した負荷発生機構を有する材料試験装置Info
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Abstract
(57)【要約】
試験標本(12)に選択した力及びモーメントを加える材料試験装置(10)は該試験標本に連結可能なベース集成体を含む。このベース集成体(14)は支持部材(20)及び第1の負荷発生機構を含み、この第1の負荷発生機構は試験標本(12)に第1の負荷を加えるように構成される。反応構造体(16)は試験標本(12)に加えられた第1の負荷に反応する。この反応構造体(16)は反応支持体(6)を含み、この反応支持体は支持部材(20)に接合される。可動ヘッド(62)は試験標本(12)に連結可能であり且つ反応支持体(60)に対して移動自在である。第2の負荷発生機構(64、120)は可動ヘッド(62)及び反応支持体(60)に連結される。この第2の負荷発生機構(64、120)は選択した負荷を試験標本(12)に対して少なくとも2自由度で加えるようにされている。
Description
【0001】
本発明は、機械的負荷(即ち、力及び/またはモーメント)を試験標本に加え
る材料試験装置またはシステムに関する。より詳細には、本発明は多数の負荷を
同時に加える材料試験装置に関する。
る材料試験装置またはシステムに関する。より詳細には、本発明は多数の負荷を
同時に加える材料試験装置に関する。
【0002】
試験標本を使用し、アクチュエータを使用して張力及び/または圧縮力負荷を
加える材料の物理試験は良く知られている。一般的には、単一のアクチュエータ
を使用して、適切な制御を行って単一の経時変動単軸力を加えることができる。
しかしながら、標本に単一の源から単一の周波数で力が負荷されることはまれで
ある。典型的には、多数の負荷源が存在しており、各々が異なる周波数の経時変
動負荷を加える。従って、多数の単軸力負荷を同時に加えるための試験機械が開
発された。斯かる試験機械の1つが米国特許第5,425,276号に開示され
ている。
加える材料の物理試験は良く知られている。一般的には、単一のアクチュエータ
を使用して、適切な制御を行って単一の経時変動単軸力を加えることができる。
しかしながら、標本に単一の源から単一の周波数で力が負荷されることはまれで
ある。典型的には、多数の負荷源が存在しており、各々が異なる周波数の経時変
動負荷を加える。従って、多数の単軸力負荷を同時に加えるための試験機械が開
発された。斯かる試験機械の1つが米国特許第5,425,276号に開示され
ている。
【0003】 材料または試験標本の単軸試験に加えて、多数の機械的負荷、力及び/または
モーメントを複数の自由度で同時に加える必要性がかなりある。この方法では、
試験機械が試験標本に加えられる現実の力及びモーメントをより正確にシミュレ
ートすることができる。例えば、車両用のエンジンマウントの動的な特徴付けを
適切に行うにはエンジンマウントを車両に取り付けた時のエンジンマウントに加
わる全ての力及びモーメントを可能な限り正確に繰り返すまたはシミュレートす
ることが必要である。これには、エンジンの重量から加わる静的力をシミュレー
トすること、車両運転時にエンジンマウントに加わる低周波力及びモーメント(
およそ0乃至100Hzの範囲)をシミュレートすること、及び、例えば、動い
ているエンジン部品に起因する高周波力及びモーメント(およそ100乃至70
0Hzの範囲)をシミュレートすることが含まれる。
モーメントを複数の自由度で同時に加える必要性がかなりある。この方法では、
試験機械が試験標本に加えられる現実の力及びモーメントをより正確にシミュレ
ートすることができる。例えば、車両用のエンジンマウントの動的な特徴付けを
適切に行うにはエンジンマウントを車両に取り付けた時のエンジンマウントに加
わる全ての力及びモーメントを可能な限り正確に繰り返すまたはシミュレートす
ることが必要である。これには、エンジンの重量から加わる静的力をシミュレー
トすること、車両運転時にエンジンマウントに加わる低周波力及びモーメント(
およそ0乃至100Hzの範囲)をシミュレートすること、及び、例えば、動い
ているエンジン部品に起因する高周波力及びモーメント(およそ100乃至70
0Hzの範囲)をシミュレートすることが含まれる。
【0004】 3本の直交軸線に沿って多数の力負荷を同時に加える試験機械が開発された。
ミネソタ州エデン・プレーリー市(Eden Prairie, Minnes
ota)のMTSシステム社(MTS System Corporation
)から市販されているモデル833トライアキシアル(3軸)試験装置は撓み連
結アクチュエータを含んでおり、3本の直交軸線に沿って力負荷を標本に加える
ことができる。しかしながら、この試験機械は試験標本にモーメントを加えるこ
とができないし、また、高周波負荷を加えることもできない。
ミネソタ州エデン・プレーリー市(Eden Prairie, Minnes
ota)のMTSシステム社(MTS System Corporation
)から市販されているモデル833トライアキシアル(3軸)試験装置は撓み連
結アクチュエータを含んでおり、3本の直交軸線に沿って力負荷を標本に加える
ことができる。しかしながら、この試験機械は試験標本にモーメントを加えるこ
とができないし、また、高周波負荷を加えることもできない。
【0005】
従って、試験標本にモーメントを含んだ負荷を同時に加えることのできる改良
された試験装置が必要とされる。また、複数の自由度について高周波数の機械的
負荷を加えることのできる試験装置が必要である。
された試験装置が必要とされる。また、複数の自由度について高周波数の機械的
負荷を加えることのできる試験装置が必要である。
【0006】
本発明の第1の実施形態では、試験標本に選択した力及びモーメント負荷を加
える材料試験装置が提供される。この材料試験装置は、試験標本に連結可能なベ
ース集成体を含む。このベース集成体は支持部材及び第1の負荷発生機構を含み
、この第1の負荷発生機構は試験標本に第1の負荷を加えるようにされている。
反応構造体は試験標本に加えられた前記第1の負荷に反応する。反応構造体は反
応支持体を含み、この反応支持体は支持部材に接合される。可動ヘッドが試験標
本に連結可能であり、反応支持体に対して移動自在となる。第2の負荷発生機構
が可動ヘッド及び反応支持体に連結可能である。第2の負荷発生機構は少なくと
も2自由度で試験標本に選択した負荷を加えられるようにされている。
える材料試験装置が提供される。この材料試験装置は、試験標本に連結可能なベ
ース集成体を含む。このベース集成体は支持部材及び第1の負荷発生機構を含み
、この第1の負荷発生機構は試験標本に第1の負荷を加えるようにされている。
反応構造体は試験標本に加えられた前記第1の負荷に反応する。反応構造体は反
応支持体を含み、この反応支持体は支持部材に接合される。可動ヘッドが試験標
本に連結可能であり、反応支持体に対して移動自在となる。第2の負荷発生機構
が可動ヘッド及び反応支持体に連結可能である。第2の負荷発生機構は少なくと
も2自由度で試験標本に選択した負荷を加えられるようにされている。
【0007】 本発明の別の態様では、試験標本に選択した力及びモーメント負荷を加える材
料試験装置が提供される。この材料試験装置はベース集成体を含み、斯かるベー
ス集成体は試験標本に連結可能となる。ベース集成体は支持部材及び第1の負荷
発生機構を含み、この第1の負荷発生機構は試験標本に第1の負荷を加えるよう
にされている。反応構造体は試験標本に加えられる第1の負荷に反応する。反応
構造体は反応支持体を含み、この反応支持体は支持部材に接合される。可動ヘッ
ドは試験標本に連結可能となり且つ反応支持体に対して移動可能となる。複数の
隔置されたアクチュエータが可動ヘッドを反応支持体へ連結する。この複数の隔
置されたアクチュエータは少なくとも2自由度で選択した負荷を試験標本に加え
るような向きにされ、各アクチュエータが該アクチュエータの軸線に沿って直線
的な力を加えるように構成されている。
料試験装置が提供される。この材料試験装置はベース集成体を含み、斯かるベー
ス集成体は試験標本に連結可能となる。ベース集成体は支持部材及び第1の負荷
発生機構を含み、この第1の負荷発生機構は試験標本に第1の負荷を加えるよう
にされている。反応構造体は試験標本に加えられる第1の負荷に反応する。反応
構造体は反応支持体を含み、この反応支持体は支持部材に接合される。可動ヘッ
ドは試験標本に連結可能となり且つ反応支持体に対して移動可能となる。複数の
隔置されたアクチュエータが可動ヘッドを反応支持体へ連結する。この複数の隔
置されたアクチュエータは少なくとも2自由度で選択した負荷を試験標本に加え
るような向きにされ、各アクチュエータが該アクチュエータの軸線に沿って直線
的な力を加えるように構成されている。
【0008】
材料試験装置10の第1の実施例を図1及び図2に示す。全体として、この材
料試験装置は選択した力及び/またはモーメント負荷を試験標本12に加える。
材料試験装置10はベース集成体14および反応構造体16を含む。ベース集成
体14は第1の負荷(力またはモーメント)を試験標本12に加える。反応構造
体16は試験標本12に加えられた第1の負荷に反応すると共に、試験標本12
に第2の負荷を与え、ベース集成体14がこれに反応する。全体として、ベース
集成体14は変位が大きく且つ動作周波数が低い力及びモーメント負荷を加える
ことができ、一方、反応構造体16は変位が少なく且つ動作周波数の高い力及び
モーメント負荷を与えることができる。この様にすれば、材料試験装置10が広
範囲の動作要件に亘る力及びモーメント負荷を与えることが可能となり、現実の
力及びモーメントをシミュレートして試験標本12に同時に加えることができる
。
料試験装置は選択した力及び/またはモーメント負荷を試験標本12に加える。
材料試験装置10はベース集成体14および反応構造体16を含む。ベース集成
体14は第1の負荷(力またはモーメント)を試験標本12に加える。反応構造
体16は試験標本12に加えられた第1の負荷に反応すると共に、試験標本12
に第2の負荷を与え、ベース集成体14がこれに反応する。全体として、ベース
集成体14は変位が大きく且つ動作周波数が低い力及びモーメント負荷を加える
ことができ、一方、反応構造体16は変位が少なく且つ動作周波数の高い力及び
モーメント負荷を与えることができる。この様にすれば、材料試験装置10が広
範囲の動作要件に亘る力及びモーメント負荷を与えることが可能となり、現実の
力及びモーメントをシミュレートして試験標本12に同時に加えることができる
。
【0009】 例示した実施例では、ベース集成体14はベースプレート18及び垂直支持構
造体20を含み、この垂直支持構造体20は本実施例では隔置した支持体22で
ある。斯かる垂直支持構造体20は反応構造体16をベースプレート18に連結
する。当業者には理解でくることであるが、垂直支持構造体20は単一のコラム
であってもまたは多数の支持コラム22の中の任意の1つであっても良い。例示
した本実施例では、4つの支持コラム22がベースプレート18の隅に設けられ
る。好適な実施例では、支持コラム22は長手方向に調整自在となって、異なる
高さの試験標本12を収容できるようにされ、各支持コラムはアクチュエータま
たはその他の適当な変位装置を含んで試験標本12に張力及び/または圧縮力負
荷を加えるようにされている。クランプ23を設けて所望な場合には支持コラム
22を選択的に所定の位置に係止することができる。
造体20を含み、この垂直支持構造体20は本実施例では隔置した支持体22で
ある。斯かる垂直支持構造体20は反応構造体16をベースプレート18に連結
する。当業者には理解でくることであるが、垂直支持構造体20は単一のコラム
であってもまたは多数の支持コラム22の中の任意の1つであっても良い。例示
した本実施例では、4つの支持コラム22がベースプレート18の隅に設けられ
る。好適な実施例では、支持コラム22は長手方向に調整自在となって、異なる
高さの試験標本12を収容できるようにされ、各支持コラムはアクチュエータま
たはその他の適当な変位装置を含んで試験標本12に張力及び/または圧縮力負
荷を加えるようにされている。クランプ23を設けて所望な場合には支持コラム
22を選択的に所定の位置に係止することができる。
【0010】 ベース集成体14は、また、2軸並進テーブル24を含むことが可能である。
この並進テーブル24は下部プレート26を含み、この下部プレートはベースプ
レート18に固定される。中間プレート28は下部プレート26上で摺動自在で
あり、下部プレート26及び中間プレート28は適当なスロットの付いた結合3
0を含む。例示した本実施例では、このスロットの付いた結合30はレール32
及びスロット34を含み、レール32は下部プレート26上に設けられ、スロッ
ト34は中間プレート28に形成される。
この並進テーブル24は下部プレート26を含み、この下部プレートはベースプ
レート18に固定される。中間プレート28は下部プレート26上で摺動自在で
あり、下部プレート26及び中間プレート28は適当なスロットの付いた結合3
0を含む。例示した本実施例では、このスロットの付いた結合30はレール32
及びスロット34を含み、レール32は下部プレート26上に設けられ、スロッ
ト34は中間プレート28に形成される。
【0011】 上部プレート36は中間プレート28に連結されて、下部プレート26上の中
間プレート28の変位に対して垂直方向に摺動変位できるようにされている。上
部プレート36は前記のスロットの付いた結合と類似のスロットの付いた結合3
8により中間プレート28に連結される。
間プレート28の変位に対して垂直方向に摺動変位できるようにされている。上
部プレート36は前記のスロットの付いた結合と類似のスロットの付いた結合3
8により中間プレート28に連結される。
【0012】 例示した本実施例では、ベース集成体14は、また、回転変位集成体40を含
む。この回転変位集成体40はベース部42及び一部円筒状部材44を含み、こ
のベース部42は上部プレート36に固定される。一部円筒状部材44は軸線4
6を中心に回転する(図2)。並進テーブル24及び回転変位集成体40は当業
界では公知であり、適当なアクチュエータまたはその他の変位装置を含んで、上
記に説明した構成部品の各々を移動させて試験標本12上で選択した力及びモー
メントを発生するように構成されている。説明の目的上、直交座標システムを画
成する。この直交座標システムにおいては、X軸52Aは中間プレート28に対
する上部プレート36の動きに整列しており、Y軸52Bは下部プレート26に
対する中間プレート28の動きに整列しており、Z軸52Cは支持コラム22の
長手方向軸線に整列する。例示した本実施例では、一部円筒状部材44のベース
部42に対する動きはX軸52Aの回りに加えられるモーメントに対応する。所
望であれば、ベース部42を90度回転してY軸52Bの回りにモーメントを発
生させることも可能である。同様に、所望であれば、回転変位集成体40は別の
一部円筒状部材及び図示したベース部に類似のベース部を含んで、X軸52A及
びY軸52Bのまわりに同時にモーメントを発生させることが可能である。尚、
所望であれば、適当な捩じれアクチュエータをベース集成体14に設けて、Z軸
52Cのまわりにモーメントを発生させることも可能である。
む。この回転変位集成体40はベース部42及び一部円筒状部材44を含み、こ
のベース部42は上部プレート36に固定される。一部円筒状部材44は軸線4
6を中心に回転する(図2)。並進テーブル24及び回転変位集成体40は当業
界では公知であり、適当なアクチュエータまたはその他の変位装置を含んで、上
記に説明した構成部品の各々を移動させて試験標本12上で選択した力及びモー
メントを発生するように構成されている。説明の目的上、直交座標システムを画
成する。この直交座標システムにおいては、X軸52Aは中間プレート28に対
する上部プレート36の動きに整列しており、Y軸52Bは下部プレート26に
対する中間プレート28の動きに整列しており、Z軸52Cは支持コラム22の
長手方向軸線に整列する。例示した本実施例では、一部円筒状部材44のベース
部42に対する動きはX軸52Aの回りに加えられるモーメントに対応する。所
望であれば、ベース部42を90度回転してY軸52Bの回りにモーメントを発
生させることも可能である。同様に、所望であれば、回転変位集成体40は別の
一部円筒状部材及び図示したベース部に類似のベース部を含んで、X軸52A及
びY軸52Bのまわりに同時にモーメントを発生させることが可能である。尚、
所望であれば、適当な捩じれアクチュエータをベース集成体14に設けて、Z軸
52Cのまわりにモーメントを発生させることも可能である。
【0013】 図3乃至図5を参照すると、反応構造体16は反応支持体60をふくみ、この
反応支持体60は垂直支持構造体20に接合される。可動ヘッド62は試験標本
12に連結可能であり且つ反応支持体60に対して移動自在となる。負荷発生機
構または集成体64は可動ヘッド62を反応支持体60へ連結する。負荷発生機
構は高周波数を含む広範な動作周波数に亘る選択したモーメントまたは力を試験
標本12に加えるようにされている。図1乃至図5に例示の実施例では、負荷発
生機構64はX軸52Aのまわりにモーメントを発生させる他に、Y軸52B及
びZ軸52Cに沿って負荷を加える構成にされている。
反応支持体60は垂直支持構造体20に接合される。可動ヘッド62は試験標本
12に連結可能であり且つ反応支持体60に対して移動自在となる。負荷発生機
構または集成体64は可動ヘッド62を反応支持体60へ連結する。負荷発生機
構は高周波数を含む広範な動作周波数に亘る選択したモーメントまたは力を試験
標本12に加えるようにされている。図1乃至図5に例示の実施例では、負荷発
生機構64はX軸52Aのまわりにモーメントを発生させる他に、Y軸52B及
びZ軸52Cに沿って負荷を加える構成にされている。
【0014】 負荷発生機構64は複数の隔置されたアクチュエータ集成体70を含む。例示
の実施例では、4つの隔置されたアクチュエータ集成体70A、70B、70C
及び70Dが使用される。各アクチュエータ集成体70A乃至70Dは可動ヘッ
ド62に設けた平面に係合する。可動ヘッド62は凹所71に取り付けられ、凹
所71は反応支持体60に設けられる。1実施例では、アクチュエータ70の各
々がサブフレーム73中に取り付けられ、このサブフレーム73は反応支持体6
0に設けた凹所75内に取り付けられる。一般に、アクチュエータ集成体70は
凹所71を中心に配置されて可動ヘッド62を選択した自由度で変位させるよう
にされている。
の実施例では、4つの隔置されたアクチュエータ集成体70A、70B、70C
及び70Dが使用される。各アクチュエータ集成体70A乃至70Dは可動ヘッ
ド62に設けた平面に係合する。可動ヘッド62は凹所71に取り付けられ、凹
所71は反応支持体60に設けられる。1実施例では、アクチュエータ70の各
々がサブフレーム73中に取り付けられ、このサブフレーム73は反応支持体6
0に設けた凹所75内に取り付けられる。一般に、アクチュエータ集成体70は
凹所71を中心に配置されて可動ヘッド62を選択した自由度で変位させるよう
にされている。
【0015】 上述の力及びモーメントを発生するには、アクチュエータ集成体70A乃至7
0Dが対にグループ分けされ、アクチュエータ集成体70Aのアクチュエータ軸
線はアクチュエータ集成体70Cのアクチュエータ軸線に平行であり、該軸線か
らオフセットしており、且つ、アクチュエータ集成体70Bのアクチュエータ軸
線はアクチュエータ集成体70Bのアクチュエータ軸線はアクチュエータ集成体
70Dのアクチュエータ軸線に平行であり、該軸線からオフセットしている。ア
クチュエータの軸線をオフセットすることで可動ヘッド62がX軸52Aを中心
に回転することが可能となる。例示の実施例では、アクチュエータ集成体70A
のアクチュエータ軸線はまた軸52A乃至52Cと直交する。例えば、好適な実
施例では、アクチュエータ集成体70A乃至70Dのアクチュエータ軸線の各々
は軸52A乃至52Cとおよそ45度の角度で交差する。
0Dが対にグループ分けされ、アクチュエータ集成体70Aのアクチュエータ軸
線はアクチュエータ集成体70Cのアクチュエータ軸線に平行であり、該軸線か
らオフセットしており、且つ、アクチュエータ集成体70Bのアクチュエータ軸
線はアクチュエータ集成体70Bのアクチュエータ軸線はアクチュエータ集成体
70Dのアクチュエータ軸線に平行であり、該軸線からオフセットしている。ア
クチュエータの軸線をオフセットすることで可動ヘッド62がX軸52Aを中心
に回転することが可能となる。例示の実施例では、アクチュエータ集成体70A
のアクチュエータ軸線はまた軸52A乃至52Cと直交する。例えば、好適な実
施例では、アクチュエータ集成体70A乃至70Dのアクチュエータ軸線の各々
は軸52A乃至52Cとおよそ45度の角度で交差する。
【0016】 アクチュエータ集成体70A乃至70Dの各々はまた静圧軸受集成体76を含
む。各静圧軸受集成体76は平面可動ヘッドを含み、可動ヘッド62がアクチュ
エータ集成体70A乃至70Dの各々に対して平面動作をするのを可能にする。
静圧軸受集成体76はまた回転静圧軸受を含み、これは円筒状または球状静圧軸
受等であり、可動ヘッド62がアクチュエータ集成体70A乃至70Dの各々に
対して回転動作をするのを可能にする。例示の実施例では、平面静圧軸受は可動
ヘッド62及び軸受要素78間にあり、回転静圧軸受は軸受要素78及びキャッ
プ80間にあり、このキャップはアクチュエータ集成体70A乃至70Dのピス
トンに取り付けられている。図4を参照すると、平面静圧軸受82A及び82B
が更に可動ヘッド62の両側に設けられて、可動ヘッド62がX軸52Aに沿っ
て変位し且つ52B及び52Cのまわりに回転変位するのを抑制する。所望であ
れば、平面静圧軸受82A及び82Bを追加のアクチュエータと交換してヘッド
62がX軸52Aに沿って変位すると共に軸52Cのまわりに回転変位する様に
することが可能である。所望であれば、負荷発生機構64は追加のアクチュエー
タを含むことが可能であり、可動ヘッド62は適当な面を備えるように構成して
Y軸52Bのまわりに回転変位する様にすることが可能であることを理解してお
く必要がある。
む。各静圧軸受集成体76は平面可動ヘッドを含み、可動ヘッド62がアクチュ
エータ集成体70A乃至70Dの各々に対して平面動作をするのを可能にする。
静圧軸受集成体76はまた回転静圧軸受を含み、これは円筒状または球状静圧軸
受等であり、可動ヘッド62がアクチュエータ集成体70A乃至70Dの各々に
対して回転動作をするのを可能にする。例示の実施例では、平面静圧軸受は可動
ヘッド62及び軸受要素78間にあり、回転静圧軸受は軸受要素78及びキャッ
プ80間にあり、このキャップはアクチュエータ集成体70A乃至70Dのピス
トンに取り付けられている。図4を参照すると、平面静圧軸受82A及び82B
が更に可動ヘッド62の両側に設けられて、可動ヘッド62がX軸52Aに沿っ
て変位し且つ52B及び52Cのまわりに回転変位するのを抑制する。所望であ
れば、平面静圧軸受82A及び82Bを追加のアクチュエータと交換してヘッド
62がX軸52Aに沿って変位すると共に軸52Cのまわりに回転変位する様に
することが可能である。所望であれば、負荷発生機構64は追加のアクチュエー
タを含むことが可能であり、可動ヘッド62は適当な面を備えるように構成して
Y軸52Bのまわりに回転変位する様にすることが可能であることを理解してお
く必要がある。
【0017】 アクチュエータ集成体70Aの略図を図6に例示する。例示の実施例では、ア
クチュエータ集成体70Aは静圧アクチュエータであり、反応支持体60に固定
されたハウジング84を有する。ピストン86はこのハウジング84内で変位自
在であり、第1室88及び第2室90を形成する。例示の実施例では、アクチュ
エータ集成体70Aはその他のアクチュエータ集成体70B乃至70Dと同様に
圧縮力のみを可動ヘッド62と反応支持体60との間に加える。第1のバルブ9
2とサーボバルブ等であり、室88への流体の流れを規制し、該室を適当な圧力
に維持してベース集成体14からの負荷に反応するようにされている。第2のバ
ルブ96もサーボバルブ等であり、室90への流体の流れを規制すると共に、変
動して高周波数を含む所望の周波数でピストン86をハウジング84内で変位さ
せる。室90の容積は室88の容積より略小さくして動的応答を高めるのが好適
である。
クチュエータ集成体70Aは静圧アクチュエータであり、反応支持体60に固定
されたハウジング84を有する。ピストン86はこのハウジング84内で変位自
在であり、第1室88及び第2室90を形成する。例示の実施例では、アクチュ
エータ集成体70Aはその他のアクチュエータ集成体70B乃至70Dと同様に
圧縮力のみを可動ヘッド62と反応支持体60との間に加える。第1のバルブ9
2とサーボバルブ等であり、室88への流体の流れを規制し、該室を適当な圧力
に維持してベース集成体14からの負荷に反応するようにされている。第2のバ
ルブ96もサーボバルブ等であり、室90への流体の流れを規制すると共に、変
動して高周波数を含む所望の周波数でピストン86をハウジング84内で変位さ
せる。室90の容積は室88の容積より略小さくして動的応答を高めるのが好適
である。
【0018】 図1に戻ると、コントローラ100はフィードバック信号を受信しすると共に
、アクチュエータ集成体70A乃至70D及びベース集成体14にて使用される変
位装置へコントロール信号を送る。図示していないが、適当な変位センサがベー
ス集成体14上に設けられてベース集成体14の移動構成部品の各々の相対変位
を測定する。信号ライン102はベース集成体14のフィードバック位置測定を
表し、一方、信号ライン104はベース集成体14の変位装置に送られたコント
ロール信号を表し、これには支持コラム22各々に対する信号を含む。ベース集
成体14から試験標本に加えられた力はアクチュエータ集成体70A乃至70D
の各々の室88の圧力として測定することができる。信号ライン106はアクチ
ュエータ70Cからの圧力信号を表す。
、アクチュエータ集成体70A乃至70D及びベース集成体14にて使用される変
位装置へコントロール信号を送る。図示していないが、適当な変位センサがベー
ス集成体14上に設けられてベース集成体14の移動構成部品の各々の相対変位
を測定する。信号ライン102はベース集成体14のフィードバック位置測定を
表し、一方、信号ライン104はベース集成体14の変位装置に送られたコント
ロール信号を表し、これには支持コラム22各々に対する信号を含む。ベース集
成体14から試験標本に加えられた力はアクチュエータ集成体70A乃至70D
の各々の室88の圧力として測定することができる。信号ライン106はアクチ
ュエータ70Cからの圧力信号を表す。
【0019】 負荷発生機構64のコントロール信号及び、特に、アクチュエータ集成体70
A乃至70Dのバルブ92及び96のコントロール信号は信号ライン108によ
り表される。フィードバックは信号ライン109上で試験標本12の加速として
与えられる。例示の実施例では、加速度計110A、110B及び110C(図
3)が可動ヘッド62に設けられて、可動ヘッドの軸線52Aを中心とした回転
及び軸線52B及び52Cに沿った移動の加速度を測定する。所望であれば、フ
ィードバックはまた信号ライン114上で変換器集成体112により測定される
負荷出力として与えることができる。1実施例では、アクチュエータ70のコン
トロール信号は信号ライン106により表されるような圧力フィードバックを含
む。
A乃至70Dのバルブ92及び96のコントロール信号は信号ライン108によ
り表される。フィードバックは信号ライン109上で試験標本12の加速として
与えられる。例示の実施例では、加速度計110A、110B及び110C(図
3)が可動ヘッド62に設けられて、可動ヘッドの軸線52Aを中心とした回転
及び軸線52B及び52Cに沿った移動の加速度を測定する。所望であれば、フ
ィードバックはまた信号ライン114上で変換器集成体112により測定される
負荷出力として与えることができる。1実施例では、アクチュエータ70のコン
トロール信号は信号ライン106により表されるような圧力フィードバックを含
む。
【0020】 図7は可動ヘッド122を変位させる負荷発生集成体120の第2の実施例を
例示する。この負荷発生集成体120は3つの隔置されたアクチュエータ集成体
126A、126B及び126Cを含み、軸線52B及び52Cに沿って可動ヘ
ッド122を選択的に変位させる。本実施例では、可動ヘッド122は三角形を
なし、平面122A、122B及び122Cを有する。アクチュエータ集成体1
26A乃至126cの各々は平面静圧軸受け128を含み、可動ヘッド122が
軸線52B及び52Cに沿って変位する野を可能にする一方で軸線52Aを中心
として回転するのを抑制するようにされている。平面静圧軸受け82A乃至82
Bは図4に図示したような軸受であり、その他の一切の自由度を抑制する為に設
けられる。
例示する。この負荷発生集成体120は3つの隔置されたアクチュエータ集成体
126A、126B及び126Cを含み、軸線52B及び52Cに沿って可動ヘ
ッド122を選択的に変位させる。本実施例では、可動ヘッド122は三角形を
なし、平面122A、122B及び122Cを有する。アクチュエータ集成体1
26A乃至126cの各々は平面静圧軸受け128を含み、可動ヘッド122が
軸線52B及び52Cに沿って変位する野を可能にする一方で軸線52Aを中心
として回転するのを抑制するようにされている。平面静圧軸受け82A乃至82
Bは図4に図示したような軸受であり、その他の一切の自由度を抑制する為に設
けられる。
【0021】 本発明の材料試験装置10は高静負荷またはゆっくりと経時変動する負荷があ
る場合の高周波の機械的負荷に特に適している。静負荷またはゆっくりと経時変
動する負荷(ベース集成体14により加えられる)を高周波負荷(負荷発生機構
64または120により加えられる)から分離することでこの材料試験装置10
は広範な動作範囲を有することができる。好適な実施例では、ベース集成体14
が1乃至125mmに規制された変位を可能にすると共に凡そ0乃至20Hzの
周波数範囲で動作することが可能となる。反対に、負荷発生機構64または12
0による可動ヘッド62または122の最大変位はベース集成体14の最大変位
より小さく、例えば、0.005乃至5mmであり、一方動作周波数範囲はベー
ス集成体14の動作周波数範囲より大きく、例えば、凡そ0.1乃至700Hz
である。1実施例では、ベース集成体14の構成部品の最大変位は少なくとも可
動ヘッド62の最大変位の5倍であり、一方別の実施例では、ベース集成体14
の構成部品の最大変位は少なくとも可動ヘッド62の最大変位の10倍である。
同様に、1実施例では、負荷発生機構64または120から加えられる負荷の最
大動作周波数はベース集成体14から加えられる負荷の最大動作周波数の少なく
とも10倍である。更に別の実施例では、負荷発生機構64または120から加
えられる負荷の最大動作周波数はベース集成体14から加えられる負荷の最大動
作周波数の少なくとも15倍である。
る場合の高周波の機械的負荷に特に適している。静負荷またはゆっくりと経時変
動する負荷(ベース集成体14により加えられる)を高周波負荷(負荷発生機構
64または120により加えられる)から分離することでこの材料試験装置10
は広範な動作範囲を有することができる。好適な実施例では、ベース集成体14
が1乃至125mmに規制された変位を可能にすると共に凡そ0乃至20Hzの
周波数範囲で動作することが可能となる。反対に、負荷発生機構64または12
0による可動ヘッド62または122の最大変位はベース集成体14の最大変位
より小さく、例えば、0.005乃至5mmであり、一方動作周波数範囲はベー
ス集成体14の動作周波数範囲より大きく、例えば、凡そ0.1乃至700Hz
である。1実施例では、ベース集成体14の構成部品の最大変位は少なくとも可
動ヘッド62の最大変位の5倍であり、一方別の実施例では、ベース集成体14
の構成部品の最大変位は少なくとも可動ヘッド62の最大変位の10倍である。
同様に、1実施例では、負荷発生機構64または120から加えられる負荷の最
大動作周波数はベース集成体14から加えられる負荷の最大動作周波数の少なく
とも10倍である。更に別の実施例では、負荷発生機構64または120から加
えられる負荷の最大動作周波数はベース集成体14から加えられる負荷の最大動
作周波数の少なくとも15倍である。
【0022】 本発明を好適な実施例を参照して説明してきたが、当業者には本発明の趣旨及
び範囲を逸脱しなければ形態及び詳細に就いて種々の変更をすることが可能なこ
とは周知のことである。
び範囲を逸脱しなければ形態及び詳細に就いて種々の変更をすることが可能なこ
とは周知のことである。
【図1】 一部が除去された本発明の実施例の正面図である。
【図2】 一部が除去された図1の実施例の側面図である。
【図3】 図1の実施例の負荷発生機構の拡大正面図である。
【図4】 図3の線4−4に沿った断面図である。
【図5】 図3の線5−5に沿った断面図である。
【図6】 図3の負荷発生機構に使用されるアクチュエータの略図である。
【図7】 負荷発生機構の第2の実施例の一部の拡大正面図である。
【手続補正書】
【提出日】平成13年3月12日(2001.3.12)
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図1
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フラー,マーク・ジェイ アメリカ合衆国ミネソタ州55346,エデ ン・プレイリー,リーズボロ・アベニュー 6600 (72)発明者 オレンジ,ロバート・ジェイ アメリカ合衆国ミネソタ州55437,ブルー ミントン,リッチ・アベニュー・サウス 10832 Fターム(参考) 2G061 AA02 AA07 AA08 AA17 AB06 DA01 DA03 EA02 EA09
Claims (20)
- 【請求項1】 選択された力とモーメント負荷とを試験標本に印加する材料
試験装置において、 前記試験標本に連結可能なベース集成体であって、 前記試験標本に第1の負荷を印加するように構成された、第1の負荷発生機
構と、 支持部材と、 を備える、前記ベース集成体と、 前記試験標本に印加された前記第1の負荷に反応する反応構造体であって、 前記支持部材に接合された反応支持体と、 前記試験標本に連結可能で、且つ、前記反応支持体に対して移動可能な、可
動ヘッドと、 前記可動ヘッドと前記反応支持体とに連結されると共に、前記試験標本に選
択した負荷を少なくとも2自由度で印加されるように構成された、第2の負荷発
生機構と、 を備える、前記反応構造体と、 を有することを特徴とする、材料試験装置。 - 【請求項2】 前記第1の負荷発生機構は、前記試験標本に少なくとも2自
由度で負荷を印加するように構成された、請求項1に記載の材料試験装置。 - 【請求項3】 前記第2の負荷発生機構は、前記試験標本に少なくとも2自
由度で負荷を印加するように構成された、請求項2に記載の材料試験装置。 - 【請求項4】 前記支持部材は隔置された支持体を有し、前記隔置された支
持体は前記反応支持体に連結されている、請求項1に記載の材料試験装置。 - 【請求項5】 前記隔置された支持体は長手方向に調整可能である、請求項
4に記載の材料試験装置。 - 【請求項6】 前記第2の負荷発生機構は、隔置されたアクチュエータを複
数個備える、請求項1に記載の材料試験装置。 - 【請求項7】 前記第2の負荷発生機構は、隔置されたアクチュエータを3
個備える、請求項6に記載の材料試験装置。 - 【請求項8】 前記複数のアクチュエータは、対を成すようにグループ分け
され、前記対を成すアクチュエータは、それぞれ、前記可動ヘッドの対向する表
面に係合する、請求項6に記載の材料試験装置。 - 【請求項9】 前記各アクチュエータは平面静圧軸受を含む、請求項6に記
載の材料試験装置。 - 【請求項10】 前記各アクチュエータは回転静圧軸受を含む、請求項9に
記載の材料試験装置。 - 【請求項11】 前記対を成すアクチュエータは、第1の対を成す平行なア
クチュエータラインを画成する第1の対を成すアクチュエータと、第2の対を成
す平行なアクチュエータラインを画成する第2の対を成すアクチュエータとを備
え、前記第1の対のアクチュエータラインは、前記第2の対のアクチュエータラ
インに直交する、請求項8に記載の材料試験装置。 - 【請求項12】 前記第1の対のアクチュエータラインは、互いにオフセッ
トされ、前記第2の対のアクチュエータラインは、互いにオフセットされている
、請求項11に記載の材料試験装置。 - 【請求項13】 前記各アクチュエータは、第1室と第2室とを形成するハ
ウジング内を移動可能なピストンを含み、前記第1室は、動的な力を印加する流
体を収容可能であり、前記第2室は、前記第1の負荷に反応する流体を収容する
ことが可能である、請求項6に記載の材料試験装置。 - 【請求項14】 前記第1室は、前記ピストンと前記可動ヘッドの表面との
間で動作するように形成され、前記第2室は、前記ピストンと前記反応支持体と
の間で動作するように形成された、請求項13に記載の材料試験装置。 - 【請求項15】 前記第1の負荷発生機構は、第1の最大変位と前記第1の
負荷とを印加する第1の最大動作周波数を有し、前記第2の負荷発生機構は、第
2の最大変位と前記第2の負荷とを加える第2の最大動作周波数を有し、前記第
1の最大変位は前記第2の最大変位より大きく、前記第2の最大動作周波数は前
記第1の最大周波数より大きい、請求項1に記載の材料試験装置。 - 【請求項16】 前記第1の最大変位は前記第2の最大変位の少なくとも5
倍である、請求項15に記載の材料試験装置。 - 【請求項17】 前記第2の最大動作周波数は前記第1の最大動作周波数の
少なくとも10倍である、請求項16に記載の材料試験装置。 - 【請求項18】 前記第1の最大変位は前記第2の最大変位の少なくとも1
0倍である、請求項17に記載の材料試験装置。 - 【請求項19】 前記第2の最大動作周波数は前記第1の最大動作周波数の
少なくとも15倍である、請求項18に記載の材料試験装置。 - 【請求項20】 選択された力とモーメント負荷とを試験標本に印加する材
料試験装置において、 前記試験標本に連結可能なベース集成体であって、 前記試験標本に第1の負荷を印加するように構成された、第1の負荷発生機
構と、 支持部材と、 を備える、前記ベース集成体と、 前記試験標本に印加された前記第1の負荷に反応する反応構造体であって、 前記支持部材に接合された反応支持体と、 前記試験標本に連結可能であり、かつ、前記反応支持体に対して移動可能に
構成された、可動ヘッドと、 隔置された複数のアクチュエータであって、前記可動ヘッドと前記反応支持
体とに連結され、選択された負荷を前記試験標本に少なくとも2自由度で印加す
るように構成され、前記アクチュエータは、それぞれ、前記アクチュエータの長
手方向軸線に沿って直線状の力を印加する、隔置された複数のアクチュエータと
、 を備えた、前記反応構造体と、 を有することを特徴とする、材料試験装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/017,837 | 1998-02-03 | ||
US09/017,837 US6058784A (en) | 1998-02-03 | 1998-02-03 | Material testing apparatus having separated load generating mechanisms |
PCT/US1999/002218 WO1999039177A1 (en) | 1998-02-03 | 1999-02-02 | Material testing apparatus having separated load generating mechanisms |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002502026A true JP2002502026A (ja) | 2002-01-22 |
Family
ID=21784814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000529588A Pending JP2002502026A (ja) | 1998-02-03 | 1999-02-02 | 独立した負荷発生機構を有する材料試験装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6058784A (ja) |
JP (1) | JP2002502026A (ja) |
KR (1) | KR20010024891A (ja) |
DE (1) | DE19982815T1 (ja) |
GB (1) | GB2348966B (ja) |
WO (1) | WO1999039177A1 (ja) |
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