JP2002368186A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2002368186A
JP2002368186A JP2001169796A JP2001169796A JP2002368186A JP 2002368186 A JP2002368186 A JP 2002368186A JP 2001169796 A JP2001169796 A JP 2001169796A JP 2001169796 A JP2001169796 A JP 2001169796A JP 2002368186 A JP2002368186 A JP 2002368186A
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JP
Japan
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semiconductor chip
substrate
pad
terminal
semiconductor
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Application number
JP2001169796A
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Japanese (ja)
Inventor
Mitsuyoshi Endo
光芳 遠藤
Katsuhiko Oyama
勝彦 尾山
Takashi Yamazaki
尚 山崎
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/23Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
    • H01L24/24Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of an individual high density interconnect connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
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    • H01L2224/24Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of an individual high density interconnect connector

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device, on which multiple chips can be mounted with the reduced number of wiring layers by reducing intersecting of wirings between semiconductor chips. SOLUTION: The semiconductor chip is integrally formed, by stacking in the thickness direction and second semiconductor chips 11 and 16 having terminal surfaces 11A and 16A, which are respectively provide with terminals and first and second substrates 12 and 17, which are respectively connected o the terminals and have conductive vias 15 or via lands 15L for making electrically connectings in the thickness direction and the chips 11 and 16 are stacked with the surfaces 11A and 16A facing in directions opposite to each other, with respect to the thickness direction.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、厚さ方向に複数
の半導体チップを積層し内蔵するマルチチップパッケー
ジ(またはマルチチップモジュール)に関するものであ
り、特に異種の半導体チップを混載する場合に使用され
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multi-chip package (or a multi-chip module) in which a plurality of semiconductor chips are stacked in a thickness direction and built in, and is used particularly when mixed different types of semiconductor chips. Things.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、マルチチップパッケージは、IC
カード、携帯電話などの薄型化、小型化が要求される製
品に多く使用されている。前記マルチチップパッケージ
は、厚さ方向に複数の半導体チップを積層し内蔵したパ
ッケージであり、薄型化、小型化に適したパッケージで
ある。
2. Description of the Related Art In recent years, multi-chip packages have become
It is widely used in products that require thinning and miniaturization, such as cards and mobile phones. The multi-chip package is a package in which a plurality of semiconductor chips are stacked and built in the thickness direction, and is suitable for thinning and miniaturization.

【0003】図11は、従来のマルチチップモジュール
の構造を示す断面図である。
FIG. 11 is a sectional view showing the structure of a conventional multichip module.

【0004】図に示すように、マルチチップモジュール
には2つの半導体チップ101、102が搭載されてい
る。半導体チップ101は、配線基板103に実装され
ている。この配線基板103には、半導体チップ101
の端子に電気的に接続された配線層104が形成されて
いる。半導体チップ101の端子が形成された一方の主
面を以下、デバイス面という。
As shown in the figure, a multi-chip module has two semiconductor chips 101 and 102 mounted thereon. The semiconductor chip 101 is mounted on the wiring board 103. The wiring board 103 includes a semiconductor chip 101
The wiring layer 104 electrically connected to the terminal is formed. One main surface of the semiconductor chip 101 on which the terminals are formed is hereinafter referred to as a device surface.

【0005】また、半導体チップ102は、配線基板1
05に実装されている。この配線基板105には、半導
体チップ102の端子に電気的に接続された配線層10
6が形成されている。半導体チップ102の端子が形成
された一方の主面を、同様に以下、デバイス面という。
2つの半導体チップ101、102は、厚さ方向に重な
るように積層されており、さらにこれら半導体チップ1
01、102の端子が形成されたデバイス面は、同一方
向を向くように配置されている。
The semiconductor chip 102 is mounted on the wiring board 1.
05. The wiring board 105 includes a wiring layer 10 electrically connected to terminals of the semiconductor chip 102.
6 are formed. One main surface of the semiconductor chip 102 on which the terminals are formed is hereinafter referred to as a device surface.
The two semiconductor chips 101 and 102 are stacked so as to overlap in the thickness direction.
The device surfaces on which the terminals 01 and 102 are formed are arranged so as to face in the same direction.

【0006】前記配線基板103と配線基板105との
間の半導体チップ101の周囲には、ガラスエポキシ基
板などからなるプリプレグ107が設けられている。ま
た、半導体チップ102のデバイス面に対向する他方の
主面上には、基板108が形成されている。配線基板1
05と基板108との間の半導体チップ102の周囲に
は、ガラスエポキシ基板などからなるプリプレグ109
が設けられている。
A prepreg 107 made of a glass epoxy substrate or the like is provided around the semiconductor chip 101 between the wiring board 103 and the wiring board 105. A substrate 108 is formed on the other main surface of the semiconductor chip 102 facing the device surface. Wiring board 1
A prepreg 109 made of a glass epoxy substrate or the like is provided around the semiconductor chip 102 between the substrate 05 and the substrate 108.
Is provided.

【0007】さらに、基板108上には、外部接続用の
バンプ110が形成されている。プリプレグ107、配
線基板105、プリプレグ109、及び基板108に
は、配線層104、106とバンプ110とを電気的に
接続するビア111が設けられている。
Further, a bump 110 for external connection is formed on the substrate 108. The prepreg 107, the wiring substrate 105, the prepreg 109, and the substrate 108 are provided with vias 111 for electrically connecting the wiring layers 104 and 106 and the bumps 110.

【0008】複数の同種の半導体チップをマルチチップ
化する場合は、全てのチップのインナーパッドの位置が
同じである。このため、図11に示すような構造にする
ことにより、全ての半導体チップに対する配線層を同じ
にできるなどの利点がある。
When a plurality of semiconductor chips of the same type are formed into a multichip, the positions of the inner pads of all the chips are the same. Therefore, the structure as shown in FIG. 11 has an advantage that the wiring layers for all the semiconductor chips can be made the same.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、既存の
ロジックチップと既存のメモリチップをマルチチップ化
する場合、図11に示す構造を用いると、交差配線が多
数発生し、図12に示すように、少なくとも2層以上の
配線引き回し層112、113を設けなければならなく
なる。これは、既存チップでは、図13に示すように、
半導体チップ101、102のそれぞれをシングルチッ
プパッケージに搭載し、これを実装ボードに平面的に配
置することを想定して、半導体チップ101、102の
各々のインナーパッドの配置が決定されていることが大
きな要因である。
However, when an existing logic chip and an existing memory chip are to be made into multi-chips, the structure shown in FIG. 11 causes a large number of cross wirings, as shown in FIG. At least two or more wiring routing layers 112 and 113 must be provided. This is because, in the existing chip, as shown in FIG.
Assuming that each of the semiconductor chips 101 and 102 is mounted on a single chip package and that these are arranged two-dimensionally on a mounting board, the arrangement of the inner pads of each of the semiconductor chips 101 and 102 may be determined. It is a big factor.

【0010】そこでこの発明は、前記課題に鑑みてなさ
れたものであり、半導体チップ間の配線が交差するのを
低減し、少ない配線層でマルチチップ化が可能な半導体
装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide a semiconductor device capable of reducing crossing of wiring between semiconductor chips and forming a multichip with a small number of wiring layers. And

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、この発明に係る第1の半導体装置は、それぞれ端子
が形成された端子面を有する第1、第2の半導体チップ
と、それぞれ前記端子と電気的に接続され、厚さ方向に
電気的接続を行うための導電ビアまたはビアランドを有
する第1、第2の基板とを厚さ方向に積層することで一
体化された半導体装置であって、前記第1の半導体チッ
プと前記第2の半導体チップとは、前記厚さ方向に関
し、端子面を互いに反対方向に向けて積層されているこ
とを特徴とする。
To achieve the above object, a first semiconductor device according to the present invention comprises first and second semiconductor chips each having a terminal surface on which a terminal is formed. A semiconductor device which is electrically connected to terminals and is integrated by laminating in a thickness direction first and second substrates having conductive vias or via lands for making electrical connection in a thickness direction. The first semiconductor chip and the second semiconductor chip are stacked with their terminal surfaces facing in opposite directions in the thickness direction.

【0012】前記目的を達成するために、この発明に係
る第2の半導体装置は、それぞれ端子が形成された端子
面を有し、厚さ方向に積層された第1、第2の半導体チ
ップと、前記第1の半導体チップが実装され、前記端子
が接続されるパッドと、厚さ方向に電気的接続を行うた
めの導電ビアまたはビアランドと、前記パッドと前記導
電ビアまたはビアランドとの間に形成された第1配線層
とを有する第1の基板と、前記第2の半導体チップが実
装され、前記端子が接続されるパッドと、厚さ方向に電
気的接続を行うための導電ビアまたはビアランドと、前
記パッドと前記導電ビアまたはビアランドとの間に形成
された第2配線層とを有する第2の基板とを具備し、前
記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップとは、
前記厚さ方向に関し、端子面を互いに反対方向に向けて
積層されていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a second semiconductor device according to the present invention has a terminal surface on which a terminal is formed, and first and second semiconductor chips stacked in a thickness direction. A pad on which the first semiconductor chip is mounted and to which the terminal is connected; a conductive via or via land for making an electrical connection in a thickness direction; and a pad formed between the pad and the conductive via or via land. A first substrate having a first wiring layer formed thereon, a pad on which the second semiconductor chip is mounted, and a pad to which the terminal is connected, and a conductive via or via land for making electrical connection in a thickness direction. A second substrate having a second wiring layer formed between the pad and the conductive via or via land, wherein the first semiconductor chip and the second semiconductor chip are:
The semiconductor device is characterized in that the terminals are stacked with the terminal surfaces facing each other in the thickness direction.

【0013】前記目的を達成するために、この発明に係
る第3の半導体装置は、それぞれ端子が形成された端子
面を有し、厚さ方向に積層された第1、第2の半導体チ
ップと、前記第1の半導体チップが実装され、前記端子
が接続されるパッドと、厚さ方向に電気的接続を行うた
めの導電ビアまたはビアランドと、前記パッドと前記導
電ビアまたはビアランドとの間に形成された第1配線層
とを有する第1の基板と、前記第2の半導体チップが実
装され、前記端子が接続されるパッドと、厚さ方向に電
気的接続を行うための導電ビアまたはビアランドと、前
記パッドと前記導電ビアまたはビアランドとの間に形成
された第2配線層とを有する第2の基板とを具備し、前
記第1の半導体チップの端子面と前記第2の半導体チッ
プの端子面とは、互いに向き合うように配置されている
ことを特徴とする。
In order to achieve the above object, a third semiconductor device according to the present invention has a terminal surface on which terminals are formed, and a first and a second semiconductor chips stacked in a thickness direction. A pad on which the first semiconductor chip is mounted and to which the terminal is connected; a conductive via or via land for making an electrical connection in a thickness direction; and a pad formed between the pad and the conductive via or via land. A first substrate having a first wiring layer formed thereon, a pad on which the second semiconductor chip is mounted, and a pad to which the terminal is connected, and a conductive via or via land for making electrical connection in a thickness direction. And a second substrate having a second wiring layer formed between the pad and the conductive via or via land, wherein a terminal surface of the first semiconductor chip and a terminal of the second semiconductor chip are provided. What is a surface? Characterized in that it is arranged so as to face are.

【0014】前記目的を達成するために、この発明に係
る第4の半導体装置は、それぞれ端子が形成された端子
面を有し、厚さ方向に積層された第1、第2の半導体チ
ップと、前記第1の半導体チップが実装され、前記端子
が接続されるパッドと、厚さ方向に電気的接続を行うた
めの導電ビアまたはビアランドと、前記パッドと前記導
電ビアまたはビアランドとの間に形成された第1配線層
とを有する第1の基板と、前記第2の半導体チップが実
装され、前記端子が接続されるパッドと、厚さ方向に電
気的接続を行うための導電ビアまたはビアランドと、前
記パッドと前記導電ビアまたはビアランドとの間に形成
された第2配線層とを有する第2の基板とを具備し、前
記第1の半導体チップの端子面と前記第2の半導体チッ
プの端子面とは、互いに相反する外側を向くように配置
されていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a fourth semiconductor device according to the present invention has a terminal surface on which terminals are formed, and first and second semiconductor chips stacked in a thickness direction. A pad on which the first semiconductor chip is mounted and to which the terminal is connected; a conductive via or via land for making an electrical connection in a thickness direction; and a pad formed between the pad and the conductive via or via land. A first substrate having a first wiring layer formed thereon, a pad on which the second semiconductor chip is mounted, and a pad to which the terminal is connected, and a conductive via or via land for making electrical connection in a thickness direction. And a second substrate having a second wiring layer formed between the pad and the conductive via or via land, wherein a terminal surface of the first semiconductor chip and a terminal of the second semiconductor chip are provided. What is a surface? Characterized in that it is arranged so as to face opposite outer are.

【0015】前記目的を達成するために、この発明に係
る第5の半導体装置は、それぞれ端子が形成された端子
面を有する第1、第2の半導体チップと、第1の主面上
に、前記第1の半導体チップの端子が接続されるパッド
とこのパッドに接続された第1配線層を有し、前記第1
の主面に対向する第2の主面上に、前記第2の半導体チ
ップの端子が接続されるパッドとこのパッドに接続され
た第2の配線層を有し、厚さ方向に前記第1配線層と第
2配線層とを電気的に接続する第1の導電ビアを有して
おり、前記第1、第2の主面上の各々にそれぞれ第1、
第2の半導体チップが実装された第1の基板と、前記第
1の導電ビアと電気的に接続されて、厚さ方向に電気的
接続を行うための第2の導電ビアを有する第2の基板と
を厚さ方向に積層することで一体化したことを特徴とす
る。
In order to achieve the above object, a fifth semiconductor device according to the present invention comprises a first and a second semiconductor chips each having a terminal surface on which a terminal is formed; A pad connected to a terminal of the first semiconductor chip and a first wiring layer connected to the pad;
A pad connected to a terminal of the second semiconductor chip and a second wiring layer connected to the pad on a second main surface opposite to the main surface of the first semiconductor chip; A first conductive via for electrically connecting the wiring layer and the second wiring layer, and a first conductive via on the first and second main surfaces, respectively.
A second substrate having a first substrate on which a second semiconductor chip is mounted and a second conductive via electrically connected to the first conductive via for making electrical connection in a thickness direction; It is characterized by being integrated by laminating a substrate in the thickness direction.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】まず、この発明の実施の形態を説
明する前に、この発明が適用されるマルチチップパッケ
ージの基本構造を図1〜図4を用いて詳細に説明してお
く。説明に際し、全図にわたり、共通する部分には共通
する参照符号を付す。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Before describing the embodiments of the present invention, the basic structure of a multichip package to which the present invention is applied will be described in detail with reference to FIGS. In the description, common parts are denoted by common reference symbols throughout the drawings.

【0017】図1は、マルチチップパッケージの基本構
造を示す断面図である。ここでは、2つの半導体チップ
が搭載された例を示す。
FIG. 1 is a sectional view showing the basic structure of a multi-chip package. Here, an example in which two semiconductor chips are mounted is shown.

【0018】図に示すように、半導体チップ11は、配
線基板12の第1の主面上にフリップチップ法などを用
いて実装されている。半導体チップ11の第1の主面
(デバイス面)11A上には、このチップ内に形成され
た回路の端子が設けられている。配線基板12の第1の
主面上には、半導体チップ11の端子が接続される接続
用パッド13、配線パターン14、及びビアランド14
Lが形成されている。さらに、配線基板12には、この
配線基板の厚さ方向に導電する導電ビア(以下、ビアと
記す)15、このビア15上に形成されたビアランド1
5Lが形成されている。前記実装では、半導体チップ1
1の端子が設けられたデバイス面11Aと、配線基板1
2の第1の主面とが向き合うように配置され、半導体チ
ップ11の端子が接続用パッド13に電気的に接続され
る。なお、ビアランド14L、15Lは、基板に設けら
れたビアとの電気的接続を確実にするために、基板上の
ビアの周囲またはビアが接続される他の基板上に形成さ
れるパターンである。
As shown in the figure, a semiconductor chip 11 is mounted on a first main surface of a wiring board 12 by using a flip chip method or the like. On a first main surface (device surface) 11A of the semiconductor chip 11, terminals of a circuit formed in the chip are provided. On the first main surface of the wiring board 12, connection pads 13 to which terminals of the semiconductor chip 11 are connected, wiring patterns 14, and via lands 14
L is formed. Further, the wiring board 12 has a conductive via (hereinafter referred to as a via) 15 which is conductive in the thickness direction of the wiring board, and a via land 1 formed on the via 15.
5L are formed. In the mounting, the semiconductor chip 1
Device surface 11A provided with one terminal and wiring board 1
The terminals of the semiconductor chip 11 are electrically connected to the connection pads 13. The via lands 14L and 15L are patterns formed around the via on the substrate or on another substrate to which the via is connected in order to ensure electrical connection with the via provided on the substrate.

【0019】また、半導体チップ16は、配線基板17
の第1の主面上にフリップチップ法などを用いて実装さ
れている。半導体チップ16の第1の主面(デバイス
面)16A上には、このチップ内に形成された回路の端
子が設けられている。配線基板17の第1の主面上に
は、半導体チップ16の端子が接続される接続用パッド
18、配線パターン19、及びビアランド19Lが形成
されている。さらに、配線基板17には、この配線基板
の厚さ方向に導電するビア15、このビア15上に形成
されたビアランド15Lが形成されている。前記実装で
は、半導体チップ16の端子が設けられたデバイス面1
6Aと、配線基板17の第1の主面とが向き合うように
配置され、半導体チップ16の端子が接続用パッド18
に電気的に接続される。
The semiconductor chip 16 is connected to a wiring board 17.
Is mounted on the first main surface of the substrate by using a flip chip method or the like. On a first main surface (device surface) 16A of the semiconductor chip 16, terminals of a circuit formed in the chip are provided. On the first main surface of the wiring board 17, connection pads 18 to which terminals of the semiconductor chip 16 are connected, wiring patterns 19, and via lands 19L are formed. Further, a via 15 that is conductive in the thickness direction of the wiring board and a via land 15L formed on the via 15 are formed in the wiring board 17. In the mounting, the device surface 1 provided with the terminals of the semiconductor chip 16 is provided.
6A and the first main surface of the wiring board 17 are arranged to face each other, and the terminals of the semiconductor chip 16 are connected to the connection pads 18.
Is electrically connected to

【0020】さらに、半導体チップ11の第1の主面に
対向する第2の主面上には、配線基板20が配置されて
いる。また、配線基板17上には基板21が配置されて
いる。配線基板12と配線基板20との間の半導体チッ
プ11の周囲には、プリプレグ22が配置されている。
プリプレグ22には、厚さ方向に導電するビア15、こ
のビア15上のビアランド15Lや、さらには必要に応
じてビア15間を接続する配線パターンが形成されてい
る。
Further, a wiring board 20 is arranged on a second main surface of the semiconductor chip 11 opposite to the first main surface. A board 21 is disposed on the wiring board 17. A prepreg 22 is arranged around the semiconductor chip 11 between the wiring board 12 and the wiring board 20.
The prepreg 22 is formed with a via 15 that is conductive in the thickness direction, a via land 15L on the via 15, and a wiring pattern for connecting the vias 15 as necessary.

【0021】また、配線基板12と配線基板17との間
の半導体チップ16の周囲には、プリプレグ23が配置
されている。プリプレグ23には、厚さ方向に導電する
ビア15、このビア15上のビアランド15Lや、さら
には必要に応じてビア15間を接続する配線パターン1
5Pが形成されている。プリプレグ22、23は、例え
ばガラスクロスに樹脂を含浸させたガラスエポキシ基板
などからなる。
A prepreg 23 is disposed around the semiconductor chip 16 between the wiring board 12 and the wiring board 17. The prepreg 23 includes vias 15 that are conductive in the thickness direction, via lands 15L on the vias 15, and wiring patterns 1 that connect the vias 15 as necessary.
5P is formed. The prepregs 22 and 23 are made of, for example, a glass epoxy substrate in which a glass cloth is impregnated with a resin.

【0022】前記配線基板20には、この配線基板の厚
さ方向に導電するビア15が形成されている。配線基板
20上にはパッド24が設けられている。さらに、パッ
ド24上には、外部接続用のバンプ25が形成されてい
る。このバンプ25は、配線基板17、プリプレグ2
3、配線基板12、プリプレグ22、及び配線基板20
にそれぞれ設けられた内部接続用のビア15や、ビアラ
ンド15L、及びパッド24により、少なくとも配線パ
ターン14を介して半導体チップ11の端子に、あるい
は配線パターン19を介して半導体チップ16の端子に
電気的に接続されている。
The wiring board 20 is provided with a via 15 that is conductive in the thickness direction of the wiring board. Pads 24 are provided on the wiring board 20. Further, a bump 25 for external connection is formed on the pad 24. The bumps 25 are connected to the wiring board 17 and the prepreg 2.
3, wiring board 12, prepreg 22, and wiring board 20
Are electrically connected to at least the terminals of the semiconductor chip 11 via the wiring pattern 14 or to the terminals of the semiconductor chip 16 via the wiring pattern 19 by the vias 15 for internal connection, the via lands 15L, and the pads 24 provided respectively. It is connected to the.

【0023】図2〜図4は、マルチチップパッケージに
おける、配線基板やプリプレグ上のパターン及びビアの
レイアウトの例を示す平面図である。
FIGS. 2 to 4 are plan views showing examples of the layout of patterns and vias on a wiring board or prepreg in a multichip package.

【0024】図2は、半導体チップ11が実装される配
線基板12上のパターン及びビアを示している。破線1
1Bで示す領域が、半導体チップ11が実装される領域
である。この破線11B内に設けられたパッド13に、
半導体チップ11の端子が接続される。配線基板12の
各辺の周辺領域には、ビア15及びビアランド15Lが
設けられている。パッド13とビアランド15Lとの間
には配線パターン14が形成され、これらパッド13と
ビア15及びビアランド15Lが電気的に接続されてい
る。
FIG. 2 shows patterns and vias on the wiring board 12 on which the semiconductor chip 11 is mounted. Broken line 1
The area indicated by 1B is an area where the semiconductor chip 11 is mounted. The pad 13 provided within the broken line 11B has
The terminals of the semiconductor chip 11 are connected. Vias 15 and via lands 15L are provided in the peripheral region of each side of the wiring board 12. A wiring pattern 14 is formed between the pad 13 and the via land 15L, and the pad 13 is electrically connected to the via 15 and the via land 15L.

【0025】図3は、プリプレグ22上のビアのレイア
ウトを示している。プリプレグ22のビア15及びビア
ランド15Lは、配線基板12のビア15及びビアラン
ド15Lと電気的に接続されている。
FIG. 3 shows a layout of vias on the prepreg 22. The via 15 and via land 15L of the prepreg 22 are electrically connected to the via 15 and via land 15L of the wiring board 12.

【0026】また、図4はバンプ25が形成される配線
基板20上のレイアウトを示している。この配線基板2
0上には、バンプ25が形成されるパッド24が設けら
れている。配線基板20には、ビア15及びビアランド
15Lが形成されている。このビア15及びビアランド
15Lは、プリプレグ22のビア15及びビアランド1
5Lに電気的に接続されている。さらに、配線基板20
のビアランド15Lとパッド24との間には配線パター
ン26が形成され、これらビア15及びビアランド15
Lとパッド24が電気的に接続されている。
FIG. 4 shows a layout on the wiring board 20 on which the bumps 25 are formed. This wiring board 2
On the pad 0, a pad 24 on which a bump 25 is formed is provided. The via 15 and the via land 15L are formed in the wiring board 20. The via 15 and the via land 15L correspond to the via 15 and the via land 1 of the prepreg 22.
It is electrically connected to 5L. Further, the wiring board 20
A wiring pattern 26 is formed between the via land 15L and the pad 24, and the via 15 and the via land 15 are formed.
L and the pad 24 are electrically connected.

【0027】図1に示した断面構造を持つマルチチップ
パッケージは、配線基板20と基板21との間に、半導
体チップ11が実装された配線基板12、半導体チップ
16が実装された配線基板17、及びプリプレグ22、
23が配置され、加熱加圧されるとともに、層間に接着
剤としての絶縁材などを用いて一体に構成されている。
The multi-chip package having the sectional structure shown in FIG. 1 has a wiring board 12 on which a semiconductor chip 11 is mounted, a wiring board 17 on which a semiconductor chip 16 is mounted, between a wiring board 20 and a board 21. And prepreg 22,
23 are arranged and heated and pressed, and are integrally formed between layers using an insulating material as an adhesive or the like.

【0028】次に、この発明の第1、第2の実施の形態
を以下に順に説明する。
Next, first and second embodiments of the present invention will be described below in order.

【0029】[第1の実施の形態]この第1の実施の形
態では、2つの半導体チップが積層された例を示す。
[First Embodiment] The first embodiment shows an example in which two semiconductor chips are stacked.

【0030】図5は、第1の実施の形態のマルチチップ
パッケージの構造を示す断面図である。
FIG. 5 is a sectional view showing the structure of the multi-chip package according to the first embodiment.

【0031】図5に示すように、半導体チップ11は、
配線基板12の第1の主面上にフリップチップ法などを
用いて実装されている。半導体チップ11の第1の主面
(デバイス面)11A上には、このチップ内に形成され
た回路の端子が設けられている。配線基板12の第1の
主面上には、半導体チップ11の端子が接続される接続
用パッド13や、配線パターン14が形成されている。
さらに、配線基板12には、この配線基板12の厚さ方
向に導電する導電ビア(以下、ビアと記す)15、この
ビア15上に形成されたビアランド15Lが形成されて
いる。前記実装では、半導体チップ11の端子が設けら
れたデバイス面11Aと、配線基板12の第1の主面と
が向き合うように配置され、半導体チップ11の端子が
接続用パッド13に電気的に接続される。
As shown in FIG. 5, the semiconductor chip 11
It is mounted on the first main surface of the wiring board 12 using a flip chip method or the like. On a first main surface (device surface) 11A of the semiconductor chip 11, terminals of circuits formed in the chip are provided. On the first main surface of the wiring substrate 12, connection pads 13 to which terminals of the semiconductor chip 11 are connected and a wiring pattern 14 are formed.
Further, a conductive via (hereinafter, referred to as a via) 15 which is conductive in the thickness direction of the wiring board 12 and a via land 15L formed on the via 15 are formed on the wiring board 12. In the mounting, the device surface 11A on which the terminals of the semiconductor chip 11 are provided and the first main surface of the wiring board 12 face each other, and the terminals of the semiconductor chip 11 are electrically connected to the connection pads 13. Is done.

【0032】また、半導体チップ16は、配線基板17
の第1の主面上にフリップチップ法などを用いて実装さ
れている。半導体チップ16の第1の主面(デバイス
面)16A上には、このチップ内に形成された回路の端
子が設けられている。配線基板17の第1の主面上に
は、半導体チップ16の端子が接続される接続用パッド
18や、配線パターン19が形成されている。さらに、
配線基板17には、この配線基板17の厚さ方向に導電
するビア15、このビア15上に形成されたビアランド
15Lが形成されている。前記実装では、半導体チップ
16の端子が設けられたデバイス面16Aと、配線基板
17の第1の主面とが向き合うように配置され、半導体
チップ16の端子が接続用パッド18に電気的に接続さ
れる。
The semiconductor chip 16 is connected to the wiring board 17.
Is mounted on the first main surface of the substrate by using a flip chip method or the like. On a first main surface (device surface) 16A of the semiconductor chip 16, terminals of a circuit formed in the chip are provided. On the first main surface of the wiring board 17, connection pads 18 to which terminals of the semiconductor chip 16 are connected and a wiring pattern 19 are formed. further,
In the wiring board 17, vias 15 that are conductive in the thickness direction of the wiring board 17 and via lands 15L formed on the vias 15 are formed. In the mounting, the device surface 16 </ b> A provided with the terminals of the semiconductor chip 16 and the first main surface of the wiring board 17 are arranged to face each other, and the terminals of the semiconductor chip 16 are electrically connected to the connection pads 18. Is done.

【0033】そして、前記半導体チップ11のデバイス
面(端子が設けられている面)11Aと、半導体チップ
16のデバイス面16Aとは、配線基板12、17を挟
んで互いに向き合うように配置されている。図5に示す
このような配置は、図13に示したような実装ボードな
どに平面的に配置された2つの半導体チップに対し、図
面上、チップ間を軸として、図6に示すように右側のチ
ップを左側のチップ上に折り曲げたことと同様になる。
したがって、図13に示したような接続配線を有する半
導体チップを、この実施の形態に使用しても配線の交差
が発生することはない。
The device surface (surface on which the terminals are provided) 11A of the semiconductor chip 11 and the device surface 16A of the semiconductor chip 16 are arranged to face each other with the wiring boards 12 and 17 interposed therebetween. . Such an arrangement shown in FIG. 5 is different from that shown in FIG. 13 in that two semiconductor chips arranged in a plane on a mounting board or the like as shown in FIG. This is the same as folding the chip on the left chip.
Therefore, even if a semiconductor chip having connection wirings as shown in FIG. 13 is used in this embodiment, no crossing of the wirings occurs.

【0034】さらに、半導体チップ11の第1の主面1
1Aに対向する第2の主面上には、配線基板20が配置
されている。配線基板20には、この配線基板20の厚
さ方向に導電するビア15が形成されている。また、半
導体チップ16の第1の主面16Aに対向する第2の主
面上には、基板21が配置されている。基板20、21
は、半導体チップ11、16をそれぞれ保護するための
ものである。
Further, the first main surface 1 of the semiconductor chip 11
The wiring substrate 20 is arranged on the second main surface facing 1A. In the wiring board 20, a via 15 that is conductive in the thickness direction of the wiring board 20 is formed. In addition, a substrate 21 is disposed on a second main surface of the semiconductor chip 16 that faces the first main surface 16A. Substrates 20, 21
Are for protecting the semiconductor chips 11 and 16, respectively.

【0035】前記配線基板12と配線基板20との間の
半導体チップ11の周囲には、プリプレグ22が配置さ
れている。プリプレグ22には、厚さ方向に導電するビ
ア15、このビア15上に形成されたビアランド15L
が形成されている。また、配線基板17と基板21との
間の半導体チップ16の周囲には、プリプレグ23が配
置されている。プリプレグ22、23は、例えばガラス
クロスに樹脂を含浸させたガラスエポキシ基板などから
なる。
A prepreg 22 is arranged around the semiconductor chip 11 between the wiring board 12 and the wiring board 20. The prepreg 22 includes a via 15 that is conductive in the thickness direction, and a via land 15L formed on the via 15.
Are formed. Further, a prepreg 23 is arranged around the semiconductor chip 16 between the wiring board 17 and the board 21. The prepregs 22 and 23 are made of, for example, a glass epoxy substrate in which a glass cloth is impregnated with a resin.

【0036】前記配線基板20上には、ビア15に電気
的に接続されたパッド24が設けられている。さらに、
パッド24上には、外部接続用のバンプ25が形成され
ている。このバンプ25は、配線基板17、12、プリ
プレグ22、及び配線基板20にそれぞれ設けられた内
部接続用のビア15や、ビアランド15L、及びパッド
24により、少なくとも配線パターン14を介して半導
体チップ11の端子に、あるいは配線パターン19を介
して半導体チップ16の端子に電気的に接続されてい
る。
On the wiring board 20, pads 24 electrically connected to the vias 15 are provided. further,
On the pad 24, a bump 25 for external connection is formed. The bumps 25 are formed on the semiconductor chip 11 via at least the wiring pattern 14 by the vias 15 for internal connection, the via lands 15L, and the pads 24 provided on the wiring boards 17, 12, the prepreg 22, and the wiring board 20, respectively. It is electrically connected to a terminal or to a terminal of the semiconductor chip 16 via a wiring pattern 19.

【0037】このマルチチップパッケージは、配線基板
20と基板21との間に、半導体チップ11が実装され
た配線基板12、半導体チップ16が実装された配線基
板17、及びプリプレグ22、23が配置され、加熱加
圧されるとともに、層間に接着剤としての絶縁材などを
用いて一体に構成されている。
In this multi-chip package, a wiring board 12 on which a semiconductor chip 11 is mounted, a wiring board 17 on which a semiconductor chip 16 is mounted, and prepregs 22 and 23 are arranged between a wiring board 20 and a board 21. Are heated and pressurized, and are integrally formed between layers using an insulating material or the like as an adhesive.

【0038】なお、前記半導体チップ11、16の各々
の厚さは、30μm〜200μm程度であり、好ましく
は50μm〜150μm程度である。また、配線基板1
2、17は、厚さ40μm程度のポリイミド基板もしく
はプリント積層板などの絶縁基板からなる。
The thickness of each of the semiconductor chips 11 and 16 is about 30 μm to 200 μm, preferably about 50 μm to 150 μm. Also, the wiring board 1
Reference numerals 2 and 17 are made of an insulating substrate such as a polyimide substrate or a printed laminate having a thickness of about 40 μm.

【0039】次に、前記第1の実施の形態の変形例のマ
ルチチップパッケージについて説明する。
Next, a description will be given of a multichip package according to a modification of the first embodiment.

【0040】図7は、第1の実施の形態の変形例のマル
チチップパッケージの構造を示す断面図である。
FIG. 7 is a sectional view showing the structure of a multi-chip package according to a modification of the first embodiment.

【0041】前記第1の実施の形態では、半導体チップ
11を配線基板12の第1の主面上に実装し、半導体チ
ップ16を配線基板17の第1の主面上に実装していた
が、この第2の実施の形態では半導体チップ16を、前
記配線基板12の第1の主面と対向する第2の主面上に
実装する。
In the first embodiment, the semiconductor chip 11 is mounted on the first main surface of the wiring board 12, and the semiconductor chip 16 is mounted on the first main surface of the wiring board 17. According to the second embodiment, the semiconductor chip 16 is mounted on a second main surface of the wiring substrate 12 opposite to the first main surface.

【0042】前記配線基板12の第2の主面上には、半
導体チップ16の端子が接続される接続用パッド18
や、配線パターン19、ビアランド15Lが形成されて
いる。前記実装では、半導体チップ16の端子が設けら
れたデバイス面16Aと、配線基板12の第2の主面と
が向き合うように配置され、半導体チップ16の端子が
接続用パッド18に電気的に接続される。
On the second main surface of the wiring board 12, connection pads 18 to which terminals of the semiconductor chip 16 are connected are provided.
Also, a wiring pattern 19 and a via land 15L are formed. In the mounting, the device surface 16A provided with the terminals of the semiconductor chip 16 and the second main surface of the wiring board 12 are arranged so as to face each other, and the terminals of the semiconductor chip 16 are electrically connected to the connection pads 18. Is done.

【0043】これにより、前記半導体チップ11のデバ
イス面(端子が設けられている面)11Aと、半導体チ
ップ16のデバイス面16Aとが、配線基板12を挟ん
で互いに向き合うように配置されている。図7に示すこ
のような配置は、図5に示した配置と同様に、図13に
示したような平面的に配置された2つの半導体チップに
対し、図面上、チップ間を軸として、図6に示すように
右側のチップを左側のチップ上に折り曲げたことと同様
になる。したがって、図13に示したような接続配線を
有する半導体チップを、この第1変形例に使用しても配
線の交差が発生することはない。
As a result, the device surface (surface on which the terminals are provided) 11A of the semiconductor chip 11 and the device surface 16A of the semiconductor chip 16 are arranged so as to face each other with the wiring substrate 12 interposed therebetween. The arrangement shown in FIG. 7 is similar to the arrangement shown in FIG. 5, except that two semiconductor chips arranged in a plane as shown in FIG. This is the same as bending the right chip on the left chip as shown in FIG. Therefore, even if the semiconductor chip having the connection wirings as shown in FIG. 13 is used in the first modification, no crossing of the wirings occurs.

【0044】また、図8に示すように、半導体チップ1
1、16のうちのいずれか一方のチップが他のチップに
比べて小さいサイズであってもよい。図8には、半導体
チップ16のサイズが半導体チップ11のサイズより小
さい場合を示す。この場合の効果は、前記第1の実施の
形態と同様である。
Further, as shown in FIG.
One of the chips 1 and 16 may have a smaller size than the other chips. FIG. 8 shows a case where the size of the semiconductor chip 16 is smaller than the size of the semiconductor chip 11. The effect in this case is the same as in the first embodiment.

【0045】以上説明したようにこの第1の実施の形態
では、2つの半導体チップの端子が形成された各々のデ
バイス面を互いに向き合うように配置することにより、
半導体チップ間に設けられる配線が交差するのを低減で
き、少ない配線層でマルチチップ化が可能である。
As described above, in the first embodiment, the device surfaces on which the terminals of the two semiconductor chips are formed are arranged so as to face each other.
Intersecting wirings provided between semiconductor chips can be reduced, and a multi-chip structure can be realized with a small number of wiring layers.

【0046】[第2の実施の形態]次に、この発明の第
2の実施の形態の半導体装置について説明する。この実
施の形態でも前記第1の実施の形態と同様に、2つの半
導体チップが積層された例を示す。
[Second Embodiment] Next, a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention will be described. This embodiment also shows an example in which two semiconductor chips are stacked, as in the first embodiment.

【0047】図9は、第2の実施の形態のマルチチップ
パッケージの構造を示す断面図である。前記第1の実施
の形態における構成と同様の部分には、同じ符号を付
す。
FIG. 9 is a sectional view showing the structure of the multi-chip package according to the second embodiment. The same parts as those in the configuration of the first embodiment are denoted by the same reference numerals.

【0048】図9に示すように、半導体チップ11は、
配線基板12の第1の主面上にフリップチップ法などを
用いて実装されている。半導体チップ11の第1の主面
(デバイス面)11A上には、このチップ内に形成され
た回路の端子が設けられている。配線基板12の第1の
主面上には、半導体チップ11の端子が接続される接続
用パッド13や、配線パターン14が形成されている。
さらに、配線基板12には、この配線基板12の厚さ方
向に導電するビア15、このビア15上に形成されたビ
アランド15Lが形成されている。前記実装では、半導
体チップ11の端子が設けられたデバイス面11Aと、
配線基板12の第1の主面とが向き合うように配置さ
れ、半導体チップ11の端子が接続用パッド13に電気
的に接続される。
As shown in FIG. 9, the semiconductor chip 11
It is mounted on the first main surface of the wiring board 12 using a flip chip method or the like. On a first main surface (device surface) 11A of the semiconductor chip 11, terminals of circuits formed in the chip are provided. On the first main surface of the wiring board 12, connection pads 13 to which terminals of the semiconductor chip 11 are connected and a wiring pattern 14 are formed.
Further, a via 15 that is conductive in the thickness direction of the wiring board 12 and a via land 15L formed on the via 15 are formed in the wiring board 12. In the mounting, a device surface 11A provided with terminals of the semiconductor chip 11;
The terminals of the semiconductor chip 11 are electrically connected to the connection pads 13 so as to face the first main surface of the wiring board 12.

【0049】また、半導体チップ16は、配線基板17
の第1の主面上にフリップチップ法などを用いて実装さ
れている。半導体チップ16の第1の主面(デバイス
面)16A上には、このチップ内に形成された回路の端
子が設けられている。配線基板17の第1の主面上に
は、半導体チップ16の端子が接続される接続用パッド
18や、配線パターン19、ビアランド15Lが形成さ
れている。前記実装では、半導体チップ16の端子が設
けられたデバイス面16Aと、配線基板17の第1の主
面とが向き合うように配置され、半導体チップ16の端
子が接続用パッド18に電気的に接続される。
The semiconductor chip 16 is connected to the wiring board 17.
Is mounted on the first main surface of the substrate by using a flip chip method or the like. On a first main surface (device surface) 16A of the semiconductor chip 16, terminals of a circuit formed in the chip are provided. On the first main surface of the wiring board 17, connection pads 18 to which terminals of the semiconductor chip 16 are connected, wiring patterns 19, and via lands 15L are formed. In the mounting, the device surface 16 </ b> A provided with the terminals of the semiconductor chip 16 and the first main surface of the wiring board 17 are arranged to face each other, and the terminals of the semiconductor chip 16 are electrically connected to the connection pads 18. Is done.

【0050】前記半導体チップ11のデバイス面(端子
が設けられている面)11Aと、半導体チップ16のデ
バイス面16Aとは、互いに外側反対方向を向くように
配置されている。すなわち、2つの半導体チップ11、
16は、互いに背面同士が向き合うように配置されてい
る。
The device surface (surface on which the terminals are provided) 11A of the semiconductor chip 11 and the device surface 16A of the semiconductor chip 16 are arranged so as to face outwardly opposite directions. That is, two semiconductor chips 11,
16 are arrange | positioned so that back surfaces may mutually face.

【0051】図9に示すこのような配置は、図13に示
したような、実装ボードなどに平面的に配置された2つ
の半導体チップに対し、図面上、チップ間を軸として、
図10に示すように右側のチップを左側のチップ下に折
り曲げたことと同様になる。したがって、図13に示し
たような接続配線を有する半導体チップを、この実施の
形態に使用しても配線の交差が発生することはない。
Such an arrangement shown in FIG. 9 is different from the arrangement shown in FIG. 13 in that two semiconductor chips arranged two-dimensionally on a mounting board or the like are shown on the drawing with an axis between the chips.
This is the same as bending the right chip below the left chip as shown in FIG. Therefore, even if a semiconductor chip having connection wirings as shown in FIG. 13 is used in this embodiment, no crossing of wirings occurs.

【0052】さらに、配線基板12と配線基板17との
間の半導体チップ11、16の周囲にはプリプレグ27
が配置されている。プリプレグ27には、厚さ方向に導
電するビア15が形成されている。プリプレグ27は、
例えばガラスクロスに樹脂を含浸させたガラスエポキシ
基板などからなる。
Further, a prepreg 27 is provided around the semiconductor chips 11 and 16 between the wiring board 12 and the wiring board 17.
Is arranged. The prepreg 27 has a via 15 that is conductive in the thickness direction. The prepreg 27
For example, it is made of a glass epoxy substrate in which a glass cloth is impregnated with a resin.

【0053】前記配線基板12上には、ビア15に電気
的に接続されたパッド24が設けられている。さらに、
パッド24上には、外部接続用のバンプ25が形成され
ている。このバンプ25は、プリプレグ27、配線基板
12にそれぞれ設けられた内部接続用のビア15や、ビ
アランド15L、及びパッド24により、少なくとも配
線パターン14を介して半導体チップ11の端子に、あ
るいは配線パターン19を介して半導体チップ16の端
子に電気的に接続されている。
On the wiring board 12, pads 24 electrically connected to the vias 15 are provided. further,
On the pad 24, a bump 25 for external connection is formed. The bumps 25 are provided to the terminals of the semiconductor chip 11 via at least the wiring patterns 14 or the wiring patterns 19 by the internal connection vias 15, via lands 15 L, and pads 24 provided on the prepreg 27 and the wiring board 12, respectively. Are electrically connected to the terminals of the semiconductor chip 16 through the terminals.

【0054】このマルチチップパッケージは、半導体チ
ップ11が実装された配線基板12と、半導体チップ1
6が実装された配線基板17が積層され、プリプレグ2
7が配置され、加熱加圧されるとともに、層間に接着剤
としての絶縁材などを用いて一体に構成されている。
This multi-chip package includes a wiring board 12 on which a semiconductor chip 11 is mounted and a semiconductor chip 1
6 are mounted, and the prepreg 2
7 are arranged and heated and pressurized, and are integrally formed using an insulating material as an adhesive between the layers.

【0055】前記半導体チップ11、16の各々の厚さ
は、30μm〜200μm程度であり、好ましくは50
μm〜150μm程度である。また、配線基板12、配
線基板17の各々は、厚さ40μm程度のポリイミド基
板もしくはプリント積層板などの絶縁基板からなる。
The thickness of each of the semiconductor chips 11 and 16 is about 30 μm to 200 μm, preferably 50 μm.
It is about μm to 150 μm. Each of the wiring substrate 12 and the wiring substrate 17 is formed of an insulating substrate such as a polyimide substrate or a printed laminate having a thickness of about 40 μm.

【0056】なお、図9に示した第2の実施の形態に
は、半導体チップ11の第1の主面に対向する第2の主
面(背面)と、半導体チップ16の第1の主面に対向す
る第2の主面(背面)とが直接接触する例を示したが、
半導体チップ11の背面と半導体チップ14の背面との
間に接着剤や基板などの絶縁材が形成されていてもよ
い。
Note that the second embodiment shown in FIG. 9 includes a second main surface (back surface) facing the first main surface of the semiconductor chip 11 and a first main surface of the semiconductor chip 16. Although the example in which the second main surface (rear surface) opposed to is in direct contact is shown,
An insulating material such as an adhesive or a substrate may be formed between the back surface of the semiconductor chip 11 and the back surface of the semiconductor chip 14.

【0057】以上説明したようにこの第2の実施の形態
では、2つの半導体チップのデバイス面を互いに反対方
向(外側)を向くように配置することにより、半導体チ
ップ間に設けられる配線が交差するのを低減でき、少な
い配線層でマルチチップ化が可能である。
As described above, in the second embodiment, the wiring provided between the semiconductor chips intersects by arranging the device surfaces of the two semiconductor chips so as to face in opposite directions (outside). Can be reduced, and a multi-chip can be realized with a small number of wiring layers.

【0058】また、前述した第1、第2の実施の形態に
は、2つの半導体チップを積層した例を示したが、この
発明は積層される半導体チップが2つに限定されるもの
ではない。2つ以上の半導体チップを積層する場合にも
適用できる。その他、この発明の主旨を逸脱しない範囲
内で種々変形して実施することができる。
In the first and second embodiments described above, an example in which two semiconductor chips are stacked is shown. However, the present invention is not limited to two semiconductor chips stacked. . The present invention is also applicable to a case where two or more semiconductor chips are stacked. In addition, various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上述べたようにこの発明によれば、半
導体チップ間の配線が交差するのを低減し、少ない配線
層でマルチチップ化が可能な半導体装置を提供すること
ができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor device capable of reducing crossing of wirings between semiconductor chips and forming a multi-chip with a small number of wiring layers.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】マルチチップパッケージの基本構造を示す断面
図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a basic structure of a multi-chip package.

【図2】マルチチップパッケージにおいて半導体チップ
が実装される配線基板のパターンレイアウトを示す平面
図である。
FIG. 2 is a plan view showing a pattern layout of a wiring board on which a semiconductor chip is mounted in a multi-chip package.

【図3】マルチチップパッケージにおけるプリプレグの
パターンレイアウトを示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing a pattern layout of a prepreg in a multi-chip package.

【図4】マルチチップパッケージにおいてバンプが形成
される配線基板のパターンレイアウトを示す平面図であ
る。
FIG. 4 is a plan view showing a pattern layout of a wiring board on which bumps are formed in a multi-chip package.

【図5】この発明の第1の実施の形態のマルチチップパ
ッケージの構造を示す断面図である。
FIG. 5 is a sectional view showing the structure of the multi-chip package according to the first embodiment of the present invention.

【図6】前記第1の実施の形態のマルチチップパッケー
ジの配線を概念的に示す斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view conceptually showing wiring of the multi-chip package according to the first embodiment.

【図7】前記第1の実施の形態の変形例のマルチチップ
パッケージの構造を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a structure of a multi-chip package according to a modification of the first embodiment.

【図8】前記第1の実施の形態の他の変形例のマルチチ
ップパッケージの構造を示す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a structure of a multi-chip package according to another modification of the first embodiment.

【図9】この発明の第2の実施の形態のマルチチップパ
ッケージの構造を示す断面図である。
FIG. 9 is a sectional view showing a structure of a multi-chip package according to a second embodiment of the present invention.

【図10】前記第2の実施の形態のマルチチップパッケ
ージの配線を概念的に示す斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view conceptually showing wiring of the multi-chip package according to the second embodiment.

【図11】従来のマルチチップモジュールの構造を示す
断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional multichip module.

【図12】従来の他のマルチチップモジュールの構造を
示す断面図である。
FIG. 12 is a sectional view showing the structure of another conventional multi-chip module.

【図13】従来の実装ボードに平面的に配置されるシン
グルチップパッケージの配線を概念的に示す斜視図であ
る。
FIG. 13 is a perspective view conceptually showing wiring of a single-chip package arranged two-dimensionally on a conventional mounting board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…半導体チップ 11A…半導体チップ11の第1の主面(デバイス面) 12…配線基板 13…接続用パッド 14…配線パターン 14L…ビアランド 15…導電ビア(ビア) 15L…ビアランド 15P…配線パターン 16…半導体チップ 16A…半導体チップ16の第1の主面(デバイス面) 17…配線基板 18…接続用パッド 19…配線パターン 19L…ビアランド 20…配線基板 21…基板 22…プリプレグ 23…プリプレグ 24…パッド 25…バンプ 26…配線パターン 27…プリプレグ DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Semiconductor chip 11A ... 1st main surface (device surface) of semiconductor chip 11 12 ... Wiring board 13 ... Connection pad 14 ... Wiring pattern 14L ... Via land 15 ... Conductive via (via) 15L ... Via land 15P ... Wiring pattern 16 ... Semiconductor chip 16A ... First main surface (device surface) of semiconductor chip 16 17 ... Wiring board 18 ... Connection pad 19 ... Wiring pattern 19L ... Via land 20 ... Wiring board 21 ... Substrate 22 ... Prepreg 23 ... Prepreg 24 ... Pad 25 ... Bump 26 ... Wiring pattern 27 ... Prepreg

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山崎 尚 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝マイクロエレクトロニクスセン ター内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Takashi Yamazaki 1 Toshiba-cho, Komukai-Toshiba-cho, Saitama-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Inside Toshiba Microelectronics Center Co., Ltd.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 それぞれ端子が形成された端子面を有す
る第1、第2の半導体チップと、 それぞれ前記端子と電気的に接続され、厚さ方向に電気
的接続を行うための導電ビアまたはビアランドを有する
第1、第2の基板と、 を厚さ方向に積層することで一体化された半導体装置で
あって、 前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップと
は、前記厚さ方向に関し、端子面を互いに反対方向に向
けて積層されていることを特徴とする半導体装置。
1. A first and a second semiconductor chip each having a terminal surface on which a terminal is formed, and a conductive via or via land electrically connected to the terminal and for making an electrical connection in a thickness direction. A semiconductor device integrated by laminating in a thickness direction a first and a second substrate, wherein the first semiconductor chip and the second semiconductor chip are arranged in the thickness direction. , Wherein the semiconductor devices are stacked with their terminal surfaces facing each other.
【請求項2】 それぞれ端子が形成された端子面を有
し、厚さ方向に積層された第1、第2の半導体チップ
と、 前記第1の半導体チップが実装され、前記端子が接続さ
れるパッドと、厚さ方向に電気的接続を行うための導電
ビアまたはビアランドと、前記パッドと前記導電ビアま
たはビアランドとの間に形成された第1配線層とを有す
る第1の基板と、 前記第2の半導体チップが実装され、前記端子が接続さ
れるパッドと、厚さ方向に電気的接続を行うための導電
ビアまたはビアランドと、前記パッドと前記導電ビアま
たはビアランドとの間に形成された第2配線層とを有す
る第2の基板とを具備し、 前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップと
は、前記厚さ方向に関し、端子面を互いに反対方向に向
けて積層されていることを特徴とする半導体装置。
2. A semiconductor device comprising: first and second semiconductor chips, each having a terminal surface on which a terminal is formed, stacked in a thickness direction, the first semiconductor chip being mounted, and the terminals being connected to each other; A first substrate having a pad, a conductive via or via land for making electrical connection in a thickness direction, and a first wiring layer formed between the pad and the conductive via or via land; A second semiconductor chip mounted thereon, a pad to which the terminal is connected, a conductive via or via land for making an electrical connection in a thickness direction, and a second pad formed between the pad and the conductive via or via land. A second substrate having two wiring layers, wherein the first semiconductor chip and the second semiconductor chip are stacked with the terminal surfaces facing each other in the thickness direction. Features Semiconductor device.
【請求項3】 それぞれ端子が形成された端子面を有
し、厚さ方向に積層された第1、第2の半導体チップ
と、 前記第1の半導体チップが実装され、前記端子が接続さ
れるパッドと、厚さ方向に電気的接続を行うための導電
ビアまたはビアランドと、前記パッドと前記導電ビアま
たはビアランドとの間に形成された第1配線層とを有す
る第1の基板と、 前記第2の半導体チップが実装され、前記端子が接続さ
れるパッドと、厚さ方向に電気的接続を行うための導電
ビアまたはビアランドと、前記パッドと前記導電ビアま
たはビアランドとの間に形成された第2配線層とを有す
る第2の基板とを具備し、 前記第1の半導体チップの端子面と前記第2の半導体チ
ップの端子面とは、互いに向き合うように配置されてい
ることを特徴とする半導体装置。
3. A first and a second semiconductor chip, each having a terminal surface on which a terminal is formed, stacked in a thickness direction, and the first semiconductor chip is mounted, and the terminal is connected. A first substrate having a pad, a conductive via or via land for making electrical connection in a thickness direction, and a first wiring layer formed between the pad and the conductive via or via land; A second semiconductor chip mounted thereon, a pad to which the terminal is connected, a conductive via or via land for making an electrical connection in a thickness direction, and a second pad formed between the pad and the conductive via or via land. A second substrate having two wiring layers, wherein a terminal surface of the first semiconductor chip and a terminal surface of the second semiconductor chip are arranged so as to face each other. Semiconductor equipment Place.
【請求項4】 前記第1、第2の半導体チップは、それ
ぞれ前記端子面に対向する背面を有し、前記第1の半導
体チップの背面上には第1の絶縁基板が配置され、前記
第2の半導体チップの背面上には第2の絶縁基板が配置
されていることを特徴とする請求項3に記載の半導体装
置。
4. The first and second semiconductor chips each have a back surface facing the terminal surface, and a first insulating substrate is disposed on the back surface of the first semiconductor chip. 4. The semiconductor device according to claim 3, wherein a second insulating substrate is disposed on a back surface of the second semiconductor chip.
【請求項5】 それぞれ端子が形成された端子面を有
し、厚さ方向に積層された第1、第2の半導体チップ
と、 前記第1の半導体チップが実装され、前記端子が接続さ
れるパッドと、厚さ方向に電気的接続を行うための導電
ビアまたはビアランドと、前記パッドと前記導電ビアま
たはビアランドとの間に形成された第1配線層とを有す
る第1の基板と、 前記第2の半導体チップが実装され、前記端子が接続さ
れるパッドと、厚さ方向に電気的接続を行うための導電
ビアまたはビアランドと、前記パッドと前記導電ビアま
たはビアランドとの間に形成された第2配線層とを有す
る第2の基板とを具備し、 前記第1の半導体チップの端子面と前記第2の半導体チ
ップの端子面とは、互いに相反する外側を向くように配
置されていることを特徴とする半導体装置。
5. A semiconductor device comprising: first and second semiconductor chips, each having a terminal surface on which a terminal is formed, stacked in a thickness direction; and mounting the first semiconductor chip, and connecting the terminals. A first substrate having a pad, a conductive via or via land for making electrical connection in a thickness direction, and a first wiring layer formed between the pad and the conductive via or via land; A second semiconductor chip mounted thereon, a pad to which the terminal is connected, a conductive via or via land for making an electrical connection in a thickness direction, and a second pad formed between the pad and the conductive via or via land. A second substrate having two wiring layers, wherein a terminal surface of the first semiconductor chip and a terminal surface of the second semiconductor chip are arranged so as to face mutually opposite outer sides. Characterized by Semiconductor device.
【請求項6】 前記第1の基板と前記第2の基板との間
の前記第1、第2の半導体チップの周囲に形成された第
3の基板をさらに具備することを特徴とする請求項2ま
たは5に記載の半導体装置。
6. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a third substrate formed around the first and second semiconductor chips between the first substrate and the second substrate. 6. The semiconductor device according to 2 or 5.
【請求項7】 前記第3の基板には、前記第1の基板の
第1配線層と前記第2の基板の第2配線層とを電気的に
接続する導電ビアが形成されていることを特徴とする請
求項6に記載の半導体装置。
7. The semiconductor device according to claim 7, wherein a conductive via for electrically connecting a first wiring layer of the first substrate and a second wiring layer of the second substrate is formed on the third substrate. 7. The semiconductor device according to claim 6, wherein:
【請求項8】 前記第1、第2の基板の前記導電ビア
は、前記第1の基板の第1配線層と前記第2の基板の第
2配線層とを電気的に接続することを特徴とする請求項
2または3に記載の半導体装置。
8. The method according to claim 1, wherein the conductive vias of the first and second substrates electrically connect a first wiring layer of the first substrate and a second wiring layer of the second substrate. 4. The semiconductor device according to claim 2, wherein:
【請求項9】 それぞれ端子が形成された端子面を有す
る第1、第2の半導体チップと、 第1の主面上に、前記第1の半導体チップの端子が接続
されるパッドとこのパッドに接続された第1配線層を有
し、前記第1の主面に対向する第2の主面上に、前記第
2の半導体チップの端子が接続されるパッドとこのパッ
ドに接続された第2の配線層を有し、厚さ方向に前記第
1配線層と第2配線層とを電気的に接続する第1の導電
ビアを有しており、前記第1、第2の主面上の各々にそ
れぞれ第1、第2の半導体チップが実装された第1の基
板と、 前記第1の導電ビアと電気的に接続されて、厚さ方向に
電気的接続を行うための第2の導電ビアを有する第2の
基板と、 を厚さ方向に積層することで一体化したことを特徴とす
る半導体装置。
9. A first and second semiconductor chip each having a terminal surface on which a terminal is formed, a pad to which a terminal of the first semiconductor chip is connected on a first main surface, and A pad connected to a terminal of the second semiconductor chip and a second pad connected to the pad, on a second main surface opposite to the first main surface, the first wiring layer being connected to the first wiring layer; And a first conductive via electrically connecting the first wiring layer and the second wiring layer in a thickness direction, and a first conductive via on the first and second main surfaces is provided. A first substrate on which first and second semiconductor chips are mounted, respectively; and a second conductive layer electrically connected to the first conductive via and electrically connecting in a thickness direction. A semiconductor device, wherein a second substrate having a via is integrated with a second substrate by laminating in a thickness direction.
【請求項10】 前記第1、第2の半導体チップは、そ
れぞれ前記端子面に対向する背面を有し、前記第1の半
導体チップの背面上には第1の絶縁基板が配置され、前
記第2の半導体チップの背面上には前記第2の基板が配
置されていることを特徴とする請求項9に記載の半導体
装置。
10. The first and second semiconductor chips each have a back surface facing the terminal surface, and a first insulating substrate is disposed on the back surface of the first semiconductor chip. The semiconductor device according to claim 9, wherein the second substrate is disposed on a back surface of the second semiconductor chip.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2015192143A (en) * 2014-03-27 2015-11-02 インテル アイピー コーポレイション Electronic assembly that includes stacked electronic components

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