JP2002357897A - Original plate for planographic printing plate and processing method for the same - Google Patents

Original plate for planographic printing plate and processing method for the same

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JP2002357897A
JP2002357897A JP2001166864A JP2001166864A JP2002357897A JP 2002357897 A JP2002357897 A JP 2002357897A JP 2001166864 A JP2001166864 A JP 2001166864A JP 2001166864 A JP2001166864 A JP 2001166864A JP 2002357897 A JP2002357897 A JP 2002357897A
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JP
Japan
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printing plate
group
lithographic printing
compound
acid
Prior art date
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Application number
JP2001166864A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideo Miyake
秀夫 三宅
Tomoyoshi Mitsumoto
知由 光本
Akihisa Oda
晃央 小田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive type original plate for a planographic printing plate for an IR laser excellent in both scuffing resistance and sensitivity and capable of direct plate making particularly from digital signals of a computer or the like and to provide a processing method for the original plate. SOLUTION: In the multilayer original plate for a planographic printing plate obtained by disposing an alkali-soluble resin-containing layer and a positive type recording layer containing an IR absorbent and having solubility in an alkaline aqueous solution increased by exposure with infrared laser light in order on a support, the positive type recording layer contains a specified polyethylene glycol compound. The original plate is imagewise exposed and developed with an alkaline developing solution containing an organic compound having the action of a pH buffer and a base.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版用原版お
よびその処理方法に関するものであり、特にコンピュー
タ等のディジタル信号から直接製版できるいわゆるダイ
レクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版用原版
およびその処理方法に関し、更に詳細には耐傷性および
感度が共に優れた平版印刷版用原版およびその処理方法
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lithographic printing plate precursor and a method of processing the same, and more particularly to a positive type lithographic printing plate precursor for an infrared laser for so-called direct plate making which can make a plate directly from a digital signal of a computer or the like. More specifically, the present invention relates to a lithographic printing plate precursor excellent in both scratch resistance and sensitivity, and a method of treating the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目ざまし
く、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・
半導体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できる
様になっている。コンピュータ等のディジタルデータか
ら直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは
非常に有用である。
2. Description of the Related Art In recent years, lasers have been remarkably developed.
2. Description of the Related Art Semiconductor lasers are easily available in small size with high output. These lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like.

【0003】赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版材料は、
アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し
熱を発生するIR染料等とを必須成分とし、IR染料等
が、未露光部(画像部)では、バインダー樹脂との相互
作用によりバインダー樹脂の溶解性を実質的に低下させ
る溶解阻止剤として働き、露光部(非画像部)では、発
生した熱によりIR染料等とバインダー樹脂との相互作
用が弱まりアルカリ現像液に溶解して平版印刷版を形成
する。
[0003] Positive type lithographic printing plate materials for infrared lasers are:
An essential component is an alkaline aqueous solution-soluble binder resin and an IR dye or the like that absorbs light and generates heat. The IR dye or the like dissolves in the unexposed area (image area) by interaction with the binder resin. In the exposed area (non-image area), the interaction between the IR dye etc. and the binder resin weakens in the exposed area (non-image area) and dissolves in the alkaline developer to form a lithographic printing plate. I do.

【0004】しかしながら、このような赤外線レーザ用
ポジ型平版印刷版材料では、様々な使用条件における未
露光部(画像部)の現像液に対する耐溶解性と、露光部
(非画像部)の溶解性との間の差が未だ十分とは言え
ず、このため、感度が低く、また使用条件の変動による
現像過剰や現像不良が起きやすいという問題があった。
また、取扱い時に表面に触れる等によっても、微細な傷
が生じるなど、表面状態が変動しやすいが、このような
微細な傷やわずかな表面変動が生じた場合にも、溶解性
が向上してしまい、現像時に未露光部(画像部)が溶解
してキズ跡状となり、耐刷の劣化や着肉性不良を引き起
こすという問題があった。
However, in such a positive type lithographic printing plate material for infrared laser, the solubility resistance of the unexposed portion (image portion) to the developing solution and the solubility of the exposed portion (non-image portion) under various use conditions. However, there is a problem that the sensitivity is low, and that excessive development or poor development is likely to occur due to fluctuations in use conditions.
In addition, the surface condition is liable to fluctuate, such as fine scratches, due to touching the surface during handling, etc., but even if such fine scratches or slight surface fluctuations occur, the solubility is improved. As a result, the unexposed portion (image portion) dissolves during development to form scratch marks, which causes a problem of deterioration in printing durability and poor adhesion.

【0005】このような問題は、赤外線レーザ用ポジ型
平版印刷版材料とUV露光により製版するポジ型平版印
刷版材料との製版メカニズムの本質的な相違に由来す
る。すなわち、UV露光により製版するポジ型平版印刷
版材料では、アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂
と、オニウム塩やキノンジアジド化合物類とを必須成分
とするが、このオニウム塩やキノンジアジド化合物類
は、未露光部(画像部)でバインダー樹脂との相互作用
により溶解阻止剤として働くだけでなく、露光部(非画
像部)では、光によって分解して酸を発生し、溶解促進
剤として働くという二つの役割を果たすものである。こ
れに対し、赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版材料におけ
るIR染料等は、未露光部(画像部)の溶解阻止剤とし
て働くのみで、露光部(非画像部)の溶解を促進するも
のではない。従って、赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版
材料において、未露光部と露光部との溶解性の差を出す
ためには、バインダー樹脂として、あらかじめアルカリ
現像液に対する溶解性の高いものを使用せざるを得ず、
耐傷性に劣る、現像前の状態が不安定なものとなるとい
った問題を抱えている。
[0005] Such a problem stems from an essential difference in the plate making mechanism between a positive planographic printing plate material for infrared laser and a positive planographic printing plate material made by UV exposure. That is, in a positive lithographic printing plate material made by UV exposure, a binder resin soluble in an aqueous alkaline solution and an onium salt or a quinonediazide compound are essential components. In the image area), not only does it act as a dissolution inhibitor due to the interaction with the binder resin, but in the exposed area (non-image area), it is decomposed by light to generate acid and acts as a dissolution accelerator. Things. On the other hand, the IR dye or the like in the positive type lithographic printing plate material for an infrared laser only functions as a dissolution inhibitor in an unexposed portion (image portion) and does not promote dissolution in an exposed portion (non-image portion). . Therefore, in order to obtain a difference in solubility between the unexposed portion and the exposed portion in the infrared laser positive lithographic printing plate material, a binder resin having high solubility in an alkali developing solution must be used in advance as a binder resin. Not get
There are problems that the scratch resistance is poor and the state before development becomes unstable.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
従来の技術の欠点を克服し、耐傷性および感度が共に優
れた、赤外線レーザ用ポジ型の、特にコンピュータ等の
ディジタル信号から直接製版できるいわゆるダイレクト
製版用の平版印刷版用原版およびその処理方法を提供す
ることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to overcome the drawbacks of the above-mentioned prior art and to make plate making directly from a digital signal of a positive type for an infrared laser, particularly a computer, which is excellent in both scratch resistance and sensitivity. An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor for so-called direct plate making and a processing method therefor.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意研究を
重ねた結果、記録層を重層構造とし、該重層構造の上層
に赤外線吸収剤とポリエチレングリコール化合物とを添
加した場合に、耐傷性と感度が両立できることを見出
し、本発明を完成するに到った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventor has found that the recording layer has a multilayer structure, and when an infrared absorbing agent and a polyethylene glycol compound are added to the upper layer of the multilayer structure, the scratch resistance becomes poor. And sensitivity were found to be compatible, and the present invention was completed.

【0008】即ち、本発明は、以下の通りである。 (1)支持体上にアルカリ可溶性樹脂含有層を設け、そ
の上に赤外線吸収剤を含み赤外レーザーの露光によりア
ルカリ性水溶液に対する溶解性が増大するポジ型記録層
を設けた重層型の平版印刷版用原版において、上記ポジ
型記録層が下記構造の化合物を含むことを特徴とする平
版印刷版用原版。
That is, the present invention is as follows. (1) A multilayer lithographic printing plate comprising an alkali-soluble resin-containing layer provided on a support, and a positive-type recording layer containing an infrared absorber and having increased solubility in an alkaline aqueous solution upon exposure to an infrared laser. A lithographic printing plate precursor, wherein the positive recording layer contains a compound having the following structure.

【0009】R1−{−O−(R3−O−)m−R2n R 1 -{-O- (R 3 -O-) m -R 2n

【0010】(R1は多価アルコール残基又は多価フェ
ノール残基、R2は水素原子、C125の置換基を有して
いても良いアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
アルキロイル基、アリール基又はアリーロイル基、R3
は置換基を有していても良いアルキレン残基を示す。m
は任意の整数で、nは1以上4以下の整数である。)
[0010] (R 1 is a polyhydric alcohol residue or a polyhydric phenol residue, R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent C 1 ~ 25, an alkenyl group, an alkynyl group,
An alkylloyl group, an aryl group or an aryloyl group, R 3
Represents an alkylene residue which may have a substituent. m
Is an arbitrary integer, and n is an integer of 1 or more and 4 or less. )

【0011】(2)前記構造の化合物において、mは平
均で10以上の整数であることを特徴とする上記(1)
記載の平版印刷版用原版。 (3)前記構造の化合物において、R2及びR3は、それ
ぞれ独立して、炭素、酸素及び水素から選ばれる少なく
ともいずれかより構成される基であることを特徴とする
上記(1)記載の平版印刷版用原版。 (4)前記ポジ型記録層に含まれるバインダーがノボラ
ック樹脂であることを特徴とする上記(1)記載の平版
印刷版用原版。 (5)前記アルカリ可溶性樹脂含有層がオニウム塩を含
むことを特徴とする上記(1)記載の平版印刷版用原
版。
(2) In the compound having the above structure, m is an integer of 10 or more on average.
The lithographic printing plate precursor described. (3) In the compound having the above structure, R 2 and R 3 are each independently a group composed of at least one selected from carbon, oxygen and hydrogen. Lithographic printing plate precursor. (4) The lithographic printing plate precursor as described in (1) above, wherein the binder contained in the positive recording layer is a novolak resin. (5) The lithographic printing plate precursor as described in (1) above, wherein the alkali-soluble resin-containing layer contains an onium salt.

【0012】(6)支持体上にアルカリ可溶性樹脂含有
層を設けその上に赤外線吸収剤と下記構造の化合物とを
含み赤外レーザーの露光によりアルカリ性水溶液に対す
る溶解性が増大するポジ型記録層を設けた重層型の平版
印刷版用原版を、画像露光したのち、pH緩衝性の有機
化合物と塩基とを含むアルカリ性現像液で現像すること
を特徴とする平版印刷版用原版の処理方法。
(6) An alkali-soluble resin-containing layer is provided on a support, and a positive-type recording layer containing an infrared absorbent and a compound having the following structure and having increased solubility in an alkaline aqueous solution upon exposure to infrared laser is provided thereon. A method for processing a lithographic printing plate precursor, comprising subjecting the provided multilayer lithographic printing plate precursor to image exposure and developing with an alkaline developer containing a pH buffering organic compound and a base.

【0013】R1−{−O−(R3−O−)m−R2n R 1 -{-O- (R 3 -O-) m -R 2n

【0014】(R1は多価アルコール残基又は多価フェ
ノール残基、R2は水素原子、C125の置換基を有して
いても良いアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
アルキロイル基、アリール基又はアリーロイル基、R3
は置換基を有していても良いアルキレン残基を示す。m
は任意の整数で、nは1以上4以下の整数である。)
[0014] (R 1 is a polyhydric alcohol residue or a polyhydric phenol residue, R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent C 1 ~ 25, an alkenyl group, an alkynyl group,
An alkylloyl group, an aryl group or an aryloyl group, R 3
Represents an alkylene residue which may have a substituent. m
Is an arbitrary integer, and n is an integer of 1 or more and 4 or less. )

【0015】本発明者は、鋭意研究を重ねた結果、記録
層にポリエチレングリコール化合物を添加した場合、該
記録層のインヒビション(溶解性阻害)が向上し、これ
により耐傷性も向上するという知見を得た。しかしなが
ら、記録層に単にポリエチレングリコール化合物を添加
した場合、耐傷性は向上するが、感度の低下が起こると
いう問題も生じた。これは、単層型の記録層では、赤外
線吸収剤によって変換された熱エネルギーが熱伝導度の
高いアルミニウム等の支持体に逃げることが原因と思わ
れた。よって、本発明では、支持体上にアルカリ可溶性
樹脂含有層を重層構造で設け、赤外線吸収剤と前記構造
のポリエチレングリコール化合物を上層に含有させるこ
とにより、アルミニウム等の支持体による吸熱を下層を
設けることで抑え、露光による発熱をポリエチレングリ
コールと上層の感熱層の相互作用解除に有効に利用で
き、耐傷性を向上させつつ、感度低下を抑えることがで
きたと考えられる。
The present inventors have conducted intensive studies and have found that when a polyethylene glycol compound is added to the recording layer, the inhibition (dissolution inhibition) of the recording layer is improved, and the scratch resistance is also improved. Obtained knowledge. However, when a polyethylene glycol compound is simply added to the recording layer, the scratch resistance is improved, but the sensitivity is lowered. This was considered to be due to the fact that in the single-layer type recording layer, the thermal energy converted by the infrared absorber escaped to a support such as aluminum having high thermal conductivity. Therefore, in the present invention, an alkali-soluble resin-containing layer is provided in a multilayer structure on a support, and an infrared absorber and a polyethylene glycol compound having the above structure are contained in the upper layer to provide a lower layer with heat absorption by a support such as aluminum. It is considered that heat generation due to exposure can be effectively used to cancel the interaction between the polyethylene glycol and the upper heat-sensitive layer, and the decrease in sensitivity can be suppressed while improving the scratch resistance.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の平版印刷版用原版は2層構造のポジ型記録層を
有し、上部に位置する感熱層には赤外線吸収染料とポリ
エチレングリコール化合物を含有する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The lithographic printing plate precursor according to the invention has a two-layer positive recording layer, and the heat-sensitive layer located on the upper side contains an infrared absorbing dye and a polyethylene glycol compound.

【0017】以下に、本発明の平版印刷版用原版のポジ
型記録層について説明する。本発明におけるポジ型記録
層は、積層構造を有し、表面(露光面)に近い位置に設
けられている感熱層(上層ともいう)と、支持体に近い
側に設けられているアルカリ可溶性樹脂を含有する下層
とを有することを特徴とする。これらの層には、いずれ
も水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有し、且つ、上
部に位置する感熱層には赤外線吸収染料と下記構造のポ
リエチレングリコール化合物を含有することを要する。
The positive recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention will be described below. The positive recording layer in the invention has a laminated structure, and has a heat-sensitive layer (also referred to as an upper layer) provided at a position close to the surface (exposed surface) and an alkali-soluble resin provided at a side close to the support. And a lower layer containing All of these layers need to contain a water-insoluble and alkali-soluble resin, and the upper heat-sensitive layer needs to contain an infrared absorbing dye and a polyethylene glycol compound having the following structure.

【0018】R1−{−O−(R3−O−)m−R2n R 1 -{-O- (R 3 -O-) m -R 2n

【0019】(R1は多価アルコール残基又は多価フェ
ノール残基、R2は水素原子、C125の置換基を有して
も良いアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
キロイル基、アリール基又はアリーロイル基、R3は置
換基を有しても良いアルキレン残基を示す。mは任意の
好ましくは平均で10以上の整数、nは1以上4以下の
整数である。)
[0019] (R 1 is a polyhydric alcohol residue or a polyhydric phenol residue, R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent C 1 ~ 25, an alkenyl group, an alkynyl group, alkyloyl group, An aryl group or an aryloyl group, R 3 represents an alkylene residue which may have a substituent, m is preferably an integer of 10 or more on average, and n is an integer of 1 or more and 4 or less.)

【0020】以下、本発明の平版印刷版用原版の各構成
成分について説明する。本発明の平版印刷版用原版の上
部に位置する感熱層(上層ともいう)には、耐傷性を高
めるため、該層の溶解性を阻害するポリエチレングリコ
ール化合物を含有する。 〔ポリエチレングリコール化合物〕ポリエチレングリコ
ール化合物の例としては、ポリエチレングリコール類、
ポリプロピレングリコール類、ポリエチレングリコール
アルキルエーテル類、ポリプロピレングリコールアルキ
ルエーテル類、ポリエチレングリコールアリールエーテ
ル類、ポリプロピレングリコールアリールエーテル類、
ポリエチレングリコールアルキルアリールエーテル類、
ポリプロピレングリコールアルキルアリールエーテル
類、ポリエチレングリコールグリセリンエステル、ポリ
プロピレングリコールグリセリンエステル類、ポリエチ
レンソルビトールエステル類、ポリプロピレングリコー
ルソルビトールエステル類、ポリエチレングリコール脂
肪酸エステル類、ポリプロピレングリコール脂肪酸エス
テル類、ポリエチレングリコール化エチレンジアミン
類、ポリプロピレングリコール化エチレンジアミン類、
ポリエチレングリコール化ジエチレントリアミン類、ポ
リプロピレングリコール化ジエチレントリアミン類が挙
げられる。
Hereinafter, each component of the lithographic printing plate precursor of the present invention will be described. The heat-sensitive layer (also referred to as the upper layer) located above the lithographic printing plate precursor according to the invention contains a polyethylene glycol compound that inhibits the solubility of the layer in order to increase the scratch resistance. (Polyethylene glycol compound) Examples of polyethylene glycol compounds include polyethylene glycols,
Polypropylene glycols, polyethylene glycol alkyl ethers, polypropylene glycol alkyl ethers, polyethylene glycol aryl ethers, polypropylene glycol aryl ethers,
Polyethylene glycol alkyl aryl ethers,
Polypropylene glycol alkyl aryl ethers, polyethylene glycol glycerin ester, polypropylene glycol glycerin ester, polyethylene sorbitol ester, polypropylene glycol sorbitol ester, polyethylene glycol fatty acid ester, polypropylene glycol fatty acid ester, polyethylene glycolated ethylenediamine, polypropylene glycolized Ethylenediamines,
Examples include polyethylene glycolated diethylene triamines and polypropylene glycolated diethylene triamines.

【0021】これらの具体例を示すと、ポリエチレング
リコール1000、ポリエチレングリコール2000、
ポリエチレングリコール4000、ポリエチレングリコ
ール10000、ポリエチレングリコール20000、
ポリエチレングリコール5000、ポリエチレングリコ
ール100000、ポリエチレングリコール20000
0、ポリエチレングリコール500000、ポリプロピ
レングリコール1500、ポリプロピレングリコール3
000、ポリプロピレングリコール4000、ポリエチ
レングリコールメチルエーテル、ポリエチレングリコー
ルエチルエーテル、ポリエチレングリコールフェニルエ
ーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテル、ポ
リエチレングリコールジエチルエーテル、ポリエチレン
グリコールジフェニルエーテル、ポリエチレングリコー
ルラウリルエーテル、ポリエチレングリコールジラウリ
ルエーテル、ポリエチレングリコールノニルエーテル、
ポリエチレングリコールセチルエーテル、ポリエチレン
グリコールステアリルエーテル、ポリエチレングリコー
ルジステアリルエーテル、ポリエチレングリコールベヘ
ニルエーテル、ポリエチレングリコールジベヘニルエー
テル、ポリプロピレングリコールメチルエーテル、ポリ
プロピレングリコールエチルエーテル、ポリプロピレン
グリコールフェニルエーテル、ポリプロピレングリコー
ルジメチルエーテル、ポリプロピレングリコールジエチ
ルエーテル、ポリプロピレングリコールジフェニルエー
テル、ポリプロピレングリコールラウリルエーテル、ポ
リプロピレングリコールジラウリルエーテル、ポリプロ
ピレングリコールノニルエーテル、ポリエチレングリコ
ールアセチルエステル、ポリエチレングリコールジアセ
チルエステル、ポリエチレングリコール安息香酸エステ
ル、ポリエチレングリコールラウリルエステル、ポリエ
チレングリコールジラウリルエステル、ポリエチレング
リコールノニル酸エステル、ポリエチレングリコールセ
チル酸エステル、ポリエチレングリコールステアロイル
エステル、ポリエチレングリコールジステアロイルエス
テル、ポリエチレングリコールベヘン酸エステル、ポリ
エチレングリコールジベヘン酸エステル、ポリプロピレ
ングリコールアセチルエステル、ポリプロピレングリコ
ールジアセチルエステル、ポリプロピレングリコール安
息香酸エステル、ポリプロピレングリコールジ安息香酸
エステル、ポリプロピレングリコールラウリル酸エステ
ル、ポリプロピレングリコールジラウリル酸エステル、
ポリプロピレングリコールノニル酸エステル、ポリエチ
レングリコールグリセリンエーテル、ポリプロピレング
リコールグリセリンエーテル、ポリエチレングリコール
ソルビトールエーテル、ポリプロピレングリコールソル
ビトールエーテル、ポリエチレングリコール化エチレン
ジアミン、ポリプロピレングリコール化エチレンジアミ
ン、ポリエチレングリコール化ジエチレントリアミン、
ポリプロピレングリコール化ジエチレントリアミン、ポ
リエチレングリコール化ペンタメチレンヘキサミンが挙
げられる。
Specific examples of these are polyethylene glycol 1000, polyethylene glycol 2000,
Polyethylene glycol 4000, polyethylene glycol 10,000, polyethylene glycol 20,000,
Polyethylene glycol 5000, polyethylene glycol 100,000, polyethylene glycol 20,000
0, polyethylene glycol 500000, polypropylene glycol 1500, polypropylene glycol 3
000, polypropylene glycol 4000, polyethylene glycol methyl ether, polyethylene glycol ethyl ether, polyethylene glycol phenyl ether, polyethylene glycol dimethyl ether, polyethylene glycol diethyl ether, polyethylene glycol diphenyl ether, polyethylene glycol lauryl ether, polyethylene glycol dilauryl ether, polyethylene glycol nonyl ether,
Polyethylene glycol cetyl ether, polyethylene glycol stearyl ether, polyethylene glycol distearyl ether, polyethylene glycol behenyl ether, polyethylene glycol dibehenyl ether, polypropylene glycol methyl ether, polypropylene glycol ethyl ether, polypropylene glycol phenyl ether, polypropylene glycol dimethyl ether, polypropylene glycol diethyl ether , Polypropylene glycol diphenyl ether, polypropylene glycol lauryl ether, polypropylene glycol dilauryl ether, polypropylene glycol nonyl ether, polyethylene glycol acetyl ester, polyethylene glycol diacetyl ester, Ethylene glycol benzoate, polyethylene glycol lauryl ester, polyethylene glycol dilauryl ester, polyethylene glycol nonylate, polyethylene glycol cetylate, polyethylene glycol stearoyl ester, polyethylene glycol distearoyl ester, polyethylene glycol behenate, polyethylene glycol dibehenate Acid ester, polypropylene glycol acetyl ester, polypropylene glycol diacetyl ester, polypropylene glycol benzoate, polypropylene glycol dibenzoate, polypropylene glycol laurate, polypropylene glycol dilaurate,
Polypropylene glycol nonylate, polyethylene glycol glycerin ether, polypropylene glycol glycerin ether, polyethylene glycol sorbitol ether, polypropylene glycol sorbitol ether, polyethylene glycolated ethylene diamine, polypropylene glycolated ethylene diamine, polyethylene glycolated diethylene triamine,
Examples include polypropylene glycolated diethylenetriamine and polyethylene glycolated pentamethylenehexamine.

【0022】上記ポリエチレングリコール化合物の添加
量は固形分で0.1〜40%、好ましくは0.2〜20
%である。0.1%以下ではインヒビション(溶解性阻
害)効果が発現せず、40%以上では感熱層バインダー
との相互作用できなかったポリエチレングリコールが現
像液の浸透を促進するためか、画像形成性が劣化する。
The amount of the polyethylene glycol compound to be added is 0.1 to 40% in solid content, preferably 0.2 to 20%.
%. If the content is less than 0.1%, no inhibition (solubility inhibition) effect is exhibited, and if the content is more than 40%, polyethylene glycol, which could not interact with the heat-sensitive layer binder, promotes the penetration of the developing solution. Deteriorates.

【0023】〔赤外線吸収染料〕本発明の平版印刷版用
原版の上層に含有される赤外線吸収染料は、赤外光を吸
収し熱を発生する染料であれば特に制限はなく、赤外線
吸収染料として知られる種々の染料を用いることができ
る。
[Infrared absorbing dye] The infrared absorbing dye contained in the upper layer of the lithographic printing plate precursor of the present invention is not particularly limited as long as it is a dye that absorbs infrared light and generates heat. Various known dyes can be used.

【0024】本発明に係る赤外線吸収染料としては、市
販の染料及び文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協
会編集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが
利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染
料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロ
シアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、
メチン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。本
発明において、これらの染料のうち赤外光、もしくは近
赤外光を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発
光するレーザでの利用に適する点で特に好ましい。
As the infrared absorbing dye according to the present invention, commercially available dyes and known dyes described in literatures (for example, "Dye Handbook" edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, azo dye, metal complex salt azo dye, pyrazolone azo dye, anthraquinone dye, phthalocyanine dye, carbonium dye, quinone imine dye,
Dyes such as methine dye and cyanine dye are exemplified. In the present invention, among these dyes, those that absorb infrared light or near-infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near-infrared light.

【0025】そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸
収する染料としては、例えば特開昭58−125246
号、特開昭59−84356号、特開昭59−2028
29号、特開昭60−78787号等に記載されている
シアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭5
8−181690号、特開昭58−194595号等に
記載されているメチン染料、特開昭58−112793
号、特開昭58−224793号、特開昭59−481
87号、特開昭59−73996号、特開昭60−52
940号、特開昭60−63744号等に記載されてい
るナフトキノン染料、 特開昭58−112792号等
に記載されているスクワリリウム色素、英国特許43
4,875号記載のシアニン染料等を挙げることができ
る。
As such a dye that absorbs infrared light or near infrared light, for example, JP-A-58-125246.
JP-A-59-84356, JP-A-59-2028
29, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696 and JP-A-5-173696.
Methine dyes described in JP-A-8-181690 and JP-A-58-194595;
JP-A-58-224793, JP-A-59-481
No. 87, JP-A-59-73996, JP-A-60-52
No. 940, naphthoquinone dyes described in JP-A-60-63744, squarylium dyes described in JP-A-58-112792, British Patent 43
And the cyanine dyes described in U.S. Pat.

【0026】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号公報に開示さ
れているピリリウム化合物等が、市販品としては、エポ
リン社製のEpolight III−178、Epoli
ght III−130、Epolight III−125等
が、特に好ましく用いられる。また、染料として特に好
ましい別の例として米国特許第4,756,993号明
細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外
吸収染料を挙げることができる。
Further, US Pat.
No. 938 is also preferably used, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in U.S. Pat. No. 3,881,924;
No. 42645 (U.S. Pat. No. 4,327,169), a trimethinethiapyrylium salt described in JP-A-58-1810.
No. 51, No. 58-220143, No. 59-41363
Nos. 59-84248, 59-84249, 59-146063, and 59-146061 and pyrylium compounds described in JP-A-59-2161.
No. 46, a cyanine dye disclosed in U.S. Pat. No. 4,283,4.
No. 75, pentamethine thiopyrylium salt and the like, and Japanese Patent Publication Nos. 5-135514 and 5-19702, pyrylium compounds and the like, as commercial products, Epolin III-178 by Eporin, Epoli
Ght III-130, Epollight III-125 and the like are particularly preferably used. Another particularly preferred example of the dye is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993.

【0027】これらの赤外線吸収染料は、感熱層のみな
らず、下層にも添加することができる。下層に赤外線吸
収染料を添加することで下層も感熱層として機能させる
ことができる。下層に赤外線吸収染料を添加する場合に
は、上部の感熱層におけるのと互いに同じ物を用いても
よく、また異なる物を用いてもよい。また、これらの赤
外線吸収染料は他の成分と同一の層に添加してもよい
し、別の層を設けそこへ添加してもよい。別の層とする
場合、感熱層に隣接する層へ添加するのが望ましい。ま
た、染料と後述のアルカリ可溶性樹脂とは同一の層に含
まれるのが好ましいが、別の層でも構わない。添加量と
しては、感熱層の全固形分に対し0.01〜50重量
%、好ましくは0.1〜10重量%、特に好ましくは
0.5〜10重量%の割合で感熱層中に添加することが
できる。染料の添加量が0.01重量%未満であると感
度が低くなり、また50重量%を超えると感熱層の均一
性が失われ、感熱層の耐久性が悪くなる。
These infrared absorbing dyes can be added not only to the heat-sensitive layer but also to the lower layer. By adding an infrared absorbing dye to the lower layer, the lower layer can also function as a heat-sensitive layer. When an infrared absorbing dye is added to the lower layer, the same substance as in the upper heat-sensitive layer may be used, or a different substance may be used. Further, these infrared absorbing dyes may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto. If it is a separate layer, it is desirable to add it to a layer adjacent to the heat-sensitive layer. Further, the dye and the alkali-soluble resin described later are preferably contained in the same layer, but may be in different layers. The addition amount is 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, particularly preferably 0.5 to 10% by weight, based on the total solid content of the thermosensitive layer. be able to. If the amount of the dye is less than 0.01% by weight, the sensitivity becomes low, and if it exceeds 50% by weight, the uniformity of the thermosensitive layer is lost and the durability of the thermosensitive layer is deteriorated.

【0028】〔アルカリ可溶性高分子〕次に、本発明の
平版印刷版用原版の上層および下層には、水不溶性且つ
アルカリ水溶性の高分子化合物(以下、適宜、アルカリ
可溶性高分子またはアルカリ可溶性樹脂とも称する)が
含有される。該アルカリ可溶性高分子とは、高分子中の
主鎖および/または側鎖に酸性基を含有する単独重合
体、これらの共重合体またはこれらの混合物を包含す
る。従って、本発明に係る上層および下層は、アルカリ
性現像液に接触すると溶解する特性を有するものであ
る。本発明の下層、及び上層に使用されるアルカリ可溶
性高分子は、従来公知のものであれば特に制限はない
が、(1)フェノール性水酸基、(2)スルホンアミド
基、(3)活性イミド基のいずれかの官能基を分子内に
有する高分子化合物であることが好ましい。例えば以下
のものが例示されるが、これらに限定されるものではな
い。
[Alkali-Soluble Polymer] Next, the upper and lower layers of the lithographic printing plate precursor according to the present invention are provided with a water-insoluble and alkali-water-soluble polymer compound (hereinafter referred to as an alkali-soluble polymer or an alkali-soluble resin as appropriate). ). The alkali-soluble polymer includes a homopolymer containing an acidic group in a main chain and / or a side chain in the polymer, a copolymer thereof, or a mixture thereof. Therefore, the upper layer and the lower layer according to the present invention have the property of dissolving when contacted with an alkaline developer. The alkali-soluble polymer used for the lower layer and the upper layer of the present invention is not particularly limited as long as it is a conventionally known one, but (1) a phenolic hydroxyl group, (2) a sulfonamide group, and (3) an active imide group. It is preferable that the polymer compound has any one of the above functional groups in the molecule. For example, the following are exemplified, but the present invention is not limited thereto.

【0029】(1)フェノール性水酸基を有する高分子
化合物としては、例えば、フェノールホルムアルデヒド
樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレ
ゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m
−,p−,又はm−/p−混合のいずれでもよい)混合
ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロー
ルアセトン樹脂が挙げられる。フェノール性水酸基を有
する高分子化合物としてはこの他に、側鎖にフェノール
性水酸基を有する高分子化合物を用いることが好まし
い。側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物と
しては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽和結合を
それぞれ1つ以上有する低分子化合物からなる重合性モ
ノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノ
マーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げられ
る。
(1) Examples of the high molecular compound having a phenolic hydroxyl group include phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m
-, P-, or m- / p-mixture). Novolak resins such as mixed formaldehyde resins and pyrogallol acetone resins. As the high molecular compound having a phenolic hydroxyl group, a high molecular compound having a phenolic hydroxyl group in a side chain is preferably used. As the high molecular compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain, a polymerizable monomer composed of a low molecular compound having at least one unsaturated bond capable of polymerizing with the phenolic hydroxyl group may be homopolymerized, or another polymerizable monomer may be used. Examples include a polymer compound obtained by copolymerizing a monomer.

【0030】フェノール性水酸基を有する重合性モノマ
ーとしては、フェノール性水酸基を有するアクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられ
る。具体的には、N−(2−ヒドロキシフェニル)アク
リルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)アクリル
アミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミ
ド、N−(2−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(3−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒドロ
キシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニルア
クリレート、o−ヒドロキシフェニルメタクリレート、
m−ヒドロキシフェニルメタクリレート、p−ヒドロキ
シフェニルメタクリレート、o−ヒドロキシスチレン、
m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、2
−(2−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2
−(3−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2
−(4−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2
−(2−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレート、
2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレー
ト、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレ
ート等を好適に使用することができる。かかるフェノー
ル性水酸基を有する樹脂は、2種類以上を組み合わせて
使用してもよい。更に、米国特許第4,123,279
号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノー
ルホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムア
ルデヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置
換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮
重合体を併用してもよい。
Examples of the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group include acrylamide, methacrylamide, acrylate, methacrylate, and hydroxystyrene having a phenolic hydroxyl group. Specifically, N- (2-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (3-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (2-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (3 -Hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphenyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate,
m-hydroxyphenyl methacrylate, p-hydroxyphenyl methacrylate, o-hydroxystyrene,
m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2
-(2-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2
-(3-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2
-(4-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2
-(2-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate,
2- (3-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate and the like can be suitably used. Such resins having a phenolic hydroxyl group may be used in combination of two or more. No. 4,123,279.
As described in the specification, a condensation polymer of phenol and formaldehyde having an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin, may be used in combination. Good.

【0031】(2)スルホンアミド基を有するアルカリ
可溶性高分子化合物としては、スルホンアミド基を有す
る重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の
重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物が
挙げられる。スルホンアミド基を有する重合性モノマー
としては、1分子中に、窒素原子上に少なくとも1つの
水素原子が結合したスルホンアミド基−NH−SO2
と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ1つ以上有する低
分子化合物からなる重合性モノマーが挙げられる。その
中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基
と、置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は置換ス
ルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が好ましい。
(2) As the alkali-soluble polymer compound having a sulfonamide group, a polymer compound obtained by homopolymerizing a polymerizable monomer having a sulfonamide group or copolymerizing the monomer with another polymerizable monomer is used. Is mentioned. Examples of the polymerizable monomer having a sulfonamide group include a sulfonamide group having at least one hydrogen atom bonded to a nitrogen atom in one molecule, —NH—SO 2 —.
And a polymerizable monomer composed of a low-molecular compound having at least one polymerizable unsaturated bond. Among them, a low-molecular compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group is preferable.

【0032】(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物は、活性イミド基を分子内に有するもの
が好ましく、この高分子化合物としては、1分子中に活
性イミド基と重合可能な不飽和結合をそれぞれ一つ以上
有する低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重
合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合さ
せて得られる高分子化合物が挙げられる。
(3) The alkali-soluble polymer compound having an active imide group is preferably one having an active imide group in the molecule, and the polymer compound is preferably an unsaturated polymerizable with an active imide group in one molecule. Examples include a polymerizable monomer obtained by homopolymerizing a polymerizable monomer composed of a low molecular compound having at least one bond, or copolymerizing the monomer with another polymerizable monomer.

【0033】このような化合物としては、具体的には、
N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N
−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適
に使用することができる。
As such a compound, specifically,
N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N
-(P-Toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be suitably used.

【0034】更に、本発明のアルカリ可溶性高分子化合
物としては、前記フェノール性水酸基を有する重合性モ
ノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、及
び活性イミド基を有する重合性モノマーのうちの2種以
上を重合させた高分子化合物、或いはこれら2種以上の
重合性モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得
られる高分子化合物を使用することが好ましい。フェノ
ール性水酸基を有する重合性モノマーに、スルホンアミ
ド基を有する重合性モノマー及び/又は活性イミド基を
有する重合性モノマーを共重合させる場合には、これら
成分の配合重量比は50:50から5:95の範囲にあ
ることが好ましく、40:60から10:90の範囲に
あることが特に好ましい。
Further, as the alkali-soluble polymer compound of the present invention, two or more of the above-mentioned polymerizable monomers having a phenolic hydroxyl group, polymerizable monomers having a sulfonamide group, and polymerizable monomers having an active imide group are used. It is preferable to use a polymer compound obtained by polymerizing the above, or a polymer compound obtained by copolymerizing another polymerizable monomer with two or more polymerizable monomers. When a polymerizable monomer having a sulfonamide group and / or a polymerizable monomer having an active imide group is copolymerized with a polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, the mixing weight ratio of these components is from 50:50 to 5: It is preferably in the range of 95, particularly preferably in the range of 40:60 to 10:90.

【0035】本発明において、アルカリ可溶性高分子が
前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スル
ホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド
基を有する重合性モノマーと、他の重合性モノマーとの
共重合体である場合には、アルカリ可溶性を付与するモ
ノマーは10モル%以上含むことが好ましく、20モル
%以上含むものがより好ましい。アルカリ可溶性を付与
するモノマー成分が10モル%より少ないと、アルカリ
可溶性が不十分となりやすく、現像ラチチュードの向上
効果が十分達成されないことがある。
In the present invention, the alkali-soluble polymer is a copolymer of a polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, a polymerizable monomer having a sulfonamide group, or a polymerizable monomer having an active imide group with another polymerizable monomer. In the case of a polymer, the content of the monomer for imparting alkali solubility is preferably at least 10 mol%, more preferably at least 20 mol%. If the monomer component imparting alkali solubility is less than 10 mol%, alkali solubility tends to be insufficient, and the effect of improving development latitude may not be sufficiently achieved.

【0036】前記フェノール性水酸基を有する重合性モ
ノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又
は活性イミド基を有する重合性モノマーと共重合させる
モノマー成分としては、下記(m1)〜(m12)に挙
げる化合物を例示することができるが、これらに限定さ
れるものではない。 (m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有す
るアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル
類。 (m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジル
アクリレート、等のアルキルアクリレート。 (m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロ
ヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−
クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキ
ルメタクリレート。 (m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチ
ロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N
−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリ
ルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等
のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
The monomer components to be copolymerized with the above-mentioned polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, a polymerizable monomer having a sulfonamide group, or a polymerizable monomer having an active imide group are listed in the following (m1) to (m12). Examples of the compound include, but are not limited to, compounds. (M1) Acrylic esters and methacrylic esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate. (M2) methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate,
Alkyl acrylates such as hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate and glycidyl acrylate; (M3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, methacrylic acid-2-
Alkyl methacrylates such as chloroethyl and glycidyl methacrylate; (M4) acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N
-Hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N
Acrylamide or methacrylamide such as -phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, and N-ethyl-N-phenylacrylamide.

【0037】(m5)エチルビニルエーテル、2−クロ
ロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエー
テル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテ
ル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル
等のビニルエーテル類。 (m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、
ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 (m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニル
ケトン類。 (m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレン等のオレフィン類。 (m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル等。 (m11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 (m12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン
酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
(M5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether. (M6) vinyl acetate, vinyl chloroacetate,
Vinyl esters such as vinyl butyrate and vinyl benzoate. (M7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene. (M8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone. (M9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene. (M10) N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile,
Methacrylonitrile and the like. (M11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide. (M12) Unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and itaconic acid.

【0038】アルカリ水可溶性高分子化合物としては、
赤外線レーザー等による露光での画像形成性に優れる点
で、フェノール性水酸基を有することが好ましく、例え
ば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹
脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,又はm−/
p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂
等のノボラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が好ま
しく挙げられる。
As the alkali water-soluble polymer compound,
It is preferable to have a phenolic hydroxyl group from the viewpoint of excellent image formability upon exposure with an infrared laser or the like, for example, phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde Resin, phenol / cresol (m-, p-, or m- /
Novolak resins such as mixed formaldehyde resins and pyrogallol acetone resins are preferred.

【0039】また、フェノール性水酸基を有するアルカ
リ水可溶性高分子化合物としては、更に、米国特許第
4,123,279号明細書に記載されているように、
t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチル
フェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数3〜
8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホル
ムアルデヒドとの縮重合体が挙げられる。
Further, as an alkali water-soluble polymer compound having a phenolic hydroxyl group, further, as described in US Pat. No. 4,123,279,
C3 to C3 such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin
And polycondensates of phenol and formaldehyde having an alkyl group of 8 as a substituent.

【0040】アルカリ水可溶性高分子化合物の共重合の
方法としては、従来知られている、グラフト共重合法、
ブロック共重合法、ランダム共重合法等を用いることが
できる。
As a method of copolymerizing an alkali water-soluble polymer compound, a conventionally known graft copolymerization method,
A block copolymerization method, a random copolymerization method, or the like can be used.

【0041】本発明においてアルカリ可溶性高分子が、
前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スル
ホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド
基を有する重合性モノマーの単独重合体或いは共重合体
の場合、重量平均分子量が2,000以上、数平均分子
量が500以上のものが好ましい。更に好ましくは、重
量平均分子量が5,000〜300,000で、数平均
分子量が800〜250,000であり、分散度(重量
平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものであ
る。また、本発明においてアルカリ可溶性高分子がフェ
ノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールアルデヒド樹
脂等の樹脂である場合には、重量平均分子量が500〜
20,000であり、数平均分子量が200〜10,0
00のものが好ましい。
In the present invention, the alkali-soluble polymer is
In the case of a homopolymer or copolymer of the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, the polymerizable monomer having a sulfonamide group, or the polymerizable monomer having an active imide group, the weight average molecular weight is 2,000 or more, and the number average Those having a molecular weight of 500 or more are preferred. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the degree of dispersion (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10. . In the present invention, when the alkali-soluble polymer is a resin such as a phenol formaldehyde resin and a cresol aldehyde resin, the weight average molecular weight is 500 to
20,000 and a number average molecular weight of 200 to 10,000
00 is preferred.

【0042】下層で用いられるアルカリ可溶性高分子と
しては、アクリル樹脂が、緩衝作用を有する有機化合物
と塩基とを主成分とするアルカリ現像液に対して下層の
溶解性を良好に保持し得るため、現像時の画像形成の観
点から好ましい。さらに、このアクリル樹脂としてスル
ホアミド基を有するものが特に好ましい。また、上層で
用いられるアルカリ可溶性高分子としては、未露光部で
は強い水素結合性を生起し、露光部においては、一部の
水素結合が容易に解除される点から、画像形成性が向上
するため、フェノール性水酸基を有する樹脂が望まし
い。更に好ましくはノボラック樹脂である。
As the alkali-soluble polymer used in the lower layer, an acrylic resin can maintain good solubility of the lower layer in an alkali developing solution containing an organic compound having a buffering action and a base as main components. It is preferable from the viewpoint of image formation at the time of development. Further, a resin having a sulfoamide group is particularly preferable as the acrylic resin. Further, as the alkali-soluble polymer used in the upper layer, strong hydrogen bonding occurs in an unexposed portion, and in an exposed portion, some hydrogen bonds are easily released, so that image forming properties are improved. Therefore, a resin having a phenolic hydroxyl group is desirable. More preferably, it is a novolak resin.

【0043】これらアルカリ可溶性高分子化合物は、そ
れぞれ1種類或いは2種類以上を組み合わせて使用して
もよく、前記上層および下層それぞれの全固形分中、3
0〜99重量%、好ましくは40〜95重量%、特に好
ましくは50〜90重量%の添加量で用いられる。アル
カリ可溶性高分子の添加量が30重量%未満であると上
層および下層それぞれの耐久性が悪化し、また、99重
量%を超えると感度、耐久性の両面で好ましくない。
Each of these alkali-soluble polymer compounds may be used alone or in combination of two or more.
It is used in an amount of 0 to 99% by weight, preferably 40 to 95% by weight, particularly preferably 50 to 90% by weight. If the addition amount of the alkali-soluble polymer is less than 30% by weight, the durability of each of the upper layer and the lower layer deteriorates, and if it exceeds 99% by weight, both sensitivity and durability are not preferable.

【0044】〔その他の成分〕前記上層又は下層を形成
するにあたっては、上記の必須成分の他、本発明の効果
を損なわない限りにおいて、更に必要に応じて、種々の
添加剤を添加することができる。添加剤は下層のみに含
有させてもよいし、上層のみに含有させてもよい。更
に、両方の層に含有させてもよい。以下に、添加剤の例
を挙げて説明する。例えばオニウム塩、o−キノンジア
ジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸
エステル化合物等の熱分解性であり、分解しない状態で
はアルカリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的に低
下させる物質を併用することは、画像部の現像液への溶
解阻止性の向上を図る点では、好ましい。オニウム塩と
してはジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム
塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム
塩、アルソニウム塩等を挙げることができる。
[Other Components] In forming the upper layer or the lower layer, in addition to the above-mentioned essential components, various additives may be further added as necessary as long as the effects of the present invention are not impaired. it can. The additive may be contained only in the lower layer, or may be contained only in the upper layer. Further, it may be contained in both layers. Hereinafter, an example of the additive will be described. For example, a thermally decomposable substance such as an onium salt, an o-quinonediazide compound, an aromatic sulfone compound, an aromatic sulfonic acid ester compound, and a substance that substantially lowers the solubility of an alkali water-soluble polymer compound when not decomposed is used in combination. This is preferable from the viewpoint of improving the dissolution inhibiting property of the image area in the developing solution. Examples of onium salts include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, arsonium salts, and the like.

【0045】本発明において用いられるオニウム塩とし
て、好適なものとしては、例えば S. I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387(1974) 、T. S. Bal et a
l, Polymer, 21, 423(1980) 、特開平5−158230
号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055
号、同4,069,056 号、特開平3−140140号の明細
書に記載のアンモニウム塩、D. C. Necker et al, Macr
omolecules, 17, 2468(1984)、C. S. Wen et al, Teh,
Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo,Oct (198
8)、米国特許第4,069,055 号、同4,069,056 号に記載の
ホスホニウム塩、J. V.Crivello et al, Macromorecule
s, 10(6), 1307 (1977)、Chem. & Eng.News, Nov. 28,
p31 (1988)、欧州特許第104,143 号、米国特許第339,04
9 号、同第410,201号、特開平2-150848号、特開平2-296
514号に記載のヨードニウム塩、J. V.Crivello et al,
Polymer J. 17, 73 (1985)、J. V. Crivello et al. J.
Org.Chem., 43, 3055 (1978)、W. R. Watt et al, J.
Polymer Sci., PolymerChem.Ed., 22, 1789 (1984) 、
J. V. Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (198
5) 、J. V. Crivello et al, Macromorecules, 14(5)
,1141(1981)、J.V. Crivello et al, J. Polymer Sc
i., Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979)、欧州特許第
370,693 号、同233,567 号、同297,443 号、同297,442
号、米国特許第4,933,377号、同3,902,114号、同410,20
1号、同339,049号、同4,760,013号、同4,734,444号、同
2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580
号、同3,604,581号に記載のスルホニウム塩、J. V. Cri
vello et al, Macromorecules,10(6), 1307 (1977)、J.
V. Crivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem.
Ed., 17, 1047 (1979) に記載のセレノニウム塩、C.
S. Wen et al, Teh,Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p
478 Tokyo, Oct (1988)に記載のアルソニウム塩等が挙
げられる。オニウム塩のなかでも、ジアゾニウム塩が特
に好ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩としては
特開平5−158230号公報記載のものが挙げられ
る。
Suitable onium salts used in the present invention include, for example, SI Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387 (1974), TS Bal et a
1, Polymer, 21, 423 (1980), JP-A-5-158230
No. 4,069,055 diazonium salt described in U.S. Pat.
No. 4,069,056, and ammonium salts described in the specification of JP-A-3-140140, DC Necker et al, Macr.
omolecules, 17, 2468 (1984), CS Wen et al, Teh,
Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (198
8), U.S. Pat.Nos. 4,069,055 and 4,069,056, phosphonium salts described in JVCrivello et al, Macromorecule
s, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28,
p31 (1988), EP 104,143, U.S. Patent 339,04
No. 9, 410,201, JP-A-2-150848, JP-A-2-296
No. 514, an iodonium salt, JVCrivello et al,
Polymer J. 17, 73 (1985), JV Crivello et al. J.
Org.Chem., 43, 3055 (1978), WR Watt et al, J.
Polymer Sci., PolymerChem.Ed., 22, 1789 (1984),
JV Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (198
5), JV Crivello et al, Macromorecules, 14 (5)
, 1141 (1981), JV Crivello et al, J. Polymer Sc
i., Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979), European Patent No.
370,693, 233,567, 297,443, 297,442
Nos., U.S. Pat.Nos. 4,933,377, 3,902,114, 410,20
No. 1, No. 339,049, No. 4,760,013, No. 4,734,444, No.
2,833,827, German Patent No. 2,904,626, 3,604,580
No. 3,604,581, JV Cri
vello et al, Macromorecules, 10 (6), 1307 (1977), J.
V. Crivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem.
Ed., 17, 1047 (1979).
S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p
478 Tokyo, Oct (1988). Of the onium salts, diazonium salts are particularly preferred. Particularly preferred diazonium salts include those described in JP-A-5-158230.

【0046】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。オニウム塩の添加は上層下層のどちらでも構わ
ないが、画像形成性の点でから下層が好ましい。
As the counter ion of the onium salt, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid,
-Sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2
-Nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5- Benzoyl-benzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid and the like can be mentioned. Among them, alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are particularly preferable. The onium salt may be added to either the upper layer or the lower layer, but the lower layer is preferred from the viewpoint of image forming properties.

【0047】好適なキノンジアジド類としてはo−キノ
ンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用い
られるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個の
o−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解により
アルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物
を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは
熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キ
ノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化するこ
との両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明
に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例え
ば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システム
ズ」(John Wiley & Sons. Inc.)第339〜352頁に
記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒ
ドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させ
たo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホ
ン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403号公
報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジ
アジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,
2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロ
ール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,12
0号及び同第3,188,210 号に記載されているベンゾキノ
ン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナ
フトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸ク
ロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエス
テルも好適に使用される。
Suitable quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and can be a compound having various structures. In other words, o-quinonediazide assists the solubility of the light-sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder by thermal decomposition and the fact that o-quinonediazide itself changes to an alkali-soluble substance. Examples of the o-quinonediazide compound used in the present invention include those described in J. Am. The compounds described in "Light-Sensitive Systems" by John Coleyer (John Wiley & Sons. Inc.), pages 339-352, can be used, but are particularly suitable for reacting with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. Sulfonic acid esters or amides of quinonediazides are preferred. Also, benzoquinone (1,2) -diazidesulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,1) described in JP-B-43-28403.
2) esters of -diazide-5-sulfonic acid chloride with pyrogallol-acetone resin, U.S. Pat. No. 3,046,12
No. 0 and 3,188,210, esters of benzoquinone- (1,2) -diazidesulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride with phenol-formaldehyde resin. It is preferably used.

【0048】さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジ
ド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂
とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−
4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹
脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有
用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許
に報告され知られている。例えば特開昭47−5303号、特
開昭48−63802 号、特開昭48−63803号、特開昭48−965
75号、特開昭49−38701号、特開昭48−13354号、特公昭
41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481号、
米国特許第2,797,213号、同第3,454,400号、同第3,544,
323号、同第3,573,917号、同第3,674,495号、同第3,78
5,825号、英国特許第1,227,602号、同第1,251,345号、
同第1,267,005号、同第1,329,888号、同第1,330,932
号、ドイツ特許第854,890号などの各明細書中に記載さ
れているものを挙げることができる。
Further, esters of naphthoquinone- (1,2) -diazide-4-sulfonic acid chloride with phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazide-
Esters of 4-sulfonic acid chloride with pyrogallol-acetone resin are likewise preferably used. Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-965
No. 75, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, Japanese Patent Publication No.
41-11222, JP-B-45-9610, JP-B-49-17481,
U.S. Pat.Nos. 2,797,213, 3,454,400, 3,544,
No. 323, No. 3,573,917, No. 3,674,495, No. 3,78
No. 5,825, British Patent No. 1,227,602, No. 1,251,345,
No. 1,267,005, No. 1,329,888, No. 1,330,932
And German Patent No. 854,890.

【0049】o−キノンジアジド化合物の添加量は、好
ましくは、層を形成する全固形分に対し、1〜50重量
%、更に好ましくは5〜30重量%、特に好ましくは1
0〜30重量%の範囲である。これらの化合物は単一で
使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。
The amount of the o-quinonediazide compound added is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, and particularly preferably 1 to 50% by weight, based on the total solids forming the layer.
It is in the range of 0 to 30% by weight. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.

【0050】o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の
添加量は、好ましくは1〜50重量%、更に好ましくは
5〜30重量%、特に好ましくは10〜30重量%であ
る。本発明の添加剤とアルカリ可溶性高分子とは、同一
層へ含有させることが好ましい。
The amount of additives other than the o-quinonediazide compound is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, particularly preferably 10 to 30% by weight. The additive of the present invention and the alkali-soluble polymer are preferably contained in the same layer.

【0051】また、画像のディスクリミネーションの強
化や表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特開
2000−187318号に記載されているような、分
子中に炭素数3〜20のパーフルオロアルキル基を2又
は3個有する(メタ)アクリレート単量体を重合成分と
する重合体を併用すること好ましい。このような化合物
は、上層、下層のどちらに含有させてもよいが、より効
果的なのは上層に含有させることである。添加量として
は、上層材料中に占める割合が0.1〜10重量%が好
ましく、より好ましくは0.5〜5重量%である。
For the purpose of enhancing the discrimination of images and the resistance to scratches on the surface, perfluoro compounds having 3 to 20 carbon atoms in the molecule as described in JP-A-2000-187318. It is preferable to use a polymer having a (meth) acrylate monomer having two or three alkyl groups as a polymerization component. Such a compound may be contained in either the upper layer or the lower layer, but more effective is to include it in the upper layer. The amount added is preferably from 0.1 to 10% by weight, more preferably from 0.5 to 5% by weight, in the upper layer material.

【0052】本発明における印刷版材料中には、キズに
対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低
下させる化合物を添加することもできる。具体的には、
US6117913号公報に用いられているような、長
鎖アルキルカルボン酸のエステルなどを挙げることが出
来る。このような化合物は、下層、上層のどちらに含有
させてもよいが、より効果的なのは上層に含有させるこ
とである。添加量として好ましいのは、層を形成する材
料中に占める割合が0.1〜10重量%。より好ましく
は0.5〜5重量%である。
In the printing plate material of the present invention, a compound for lowering the coefficient of static friction of the surface can be added for the purpose of imparting resistance to scratches. In particular,
Examples thereof include esters of long-chain alkyl carboxylic acids as used in US Pat. No. 6,117,913. Such a compound may be contained in either the lower layer or the upper layer, but more effective is to include it in the upper layer. The preferred amount of addition is from 0.1 to 10% by weight of the material forming the layer. More preferably, it is 0.5-5% by weight.

【0053】また、本発明における下層或いは上層中に
は、必要に応じて低分子量の酸性基を有する化合物を含
んでもよい。酸性基としてはスルホン酸、カルボン酸、
リン酸基を挙げることが出来る。中でもスルホン酸基を
有する化合物が好ましい。具体的には、p−トルエンス
ルホン酸、ナフタレンスルホン酸等の芳香族スルホン酸
類や脂肪族スルホン酸類を挙げることが出来る。このよ
うな化合物は、下層、上層のどちらに含有させてもよ
い。添加量として好ましいのは、層を形成する材料中に
占める割合が0.05〜5重量%、より好ましくは0.
1〜3重量%である。5%より多いと各層の現像液に対
する溶解性が増加してしまい、好ましくない。
Further, the lower layer or the upper layer in the present invention may contain a compound having a low molecular weight acidic group, if necessary. Sulfonic acid, carboxylic acid,
A phosphate group can be mentioned. Among them, compounds having a sulfonic acid group are preferred. Specific examples include aromatic sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid and naphthalenesulfonic acid and aliphatic sulfonic acids. Such a compound may be contained in either the lower layer or the upper layer. The addition amount is preferably 0.05 to 5% by weight in the material forming the layer, more preferably 0.1 to 5% by weight.
1 to 3% by weight. If it is more than 5%, the solubility of each layer in the developer increases, which is not preferable.

【0054】また、本発明においては、下層或いは上層
の溶解性を調節する目的で種々の溶解抑制剤を含んでも
よい。溶解抑制剤としては、特開平11−119418
号公報に示されるようなジスルホン化合物又はスルホン
化合物が好適に用いられ、具体例として、4,4’−ビ
スヒドロキシフェニルスルホンを用いることが好まし
い。このような化合物は、下層、上層のどちらに含有さ
せてもよい。添加量として好ましいのは、それぞれ層を
構成する材料中に占める割合が0.05〜20重量%、
より好ましくは0.5〜10重量%である。
In the present invention, various dissolution inhibitors may be contained for the purpose of adjusting the solubility of the lower layer or the upper layer. Examples of the dissolution inhibitor include JP-A-11-119418.
A disulfone compound or a sulfone compound as disclosed in JP-A No. 5-2,078 is preferably used, and as a specific example, 4,4′-bishydroxyphenyl sulfone is preferably used. Such a compound may be contained in either the lower layer or the upper layer. It is preferable that the content of each layer is 0.05 to 20% by weight in the material constituting the layer.
More preferably, it is 0.5 to 10% by weight.

【0055】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することも
できる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128号
明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エン
ドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル酸、テトラク
ロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイ
ン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無
水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類とし
ては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−
エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェ
ノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4′,4″
−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4′,
3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,3′,5′−
テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更
に、有機酸類としては、特開昭60−88942号、特開平2
−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、
スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン
酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的に
は、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニ
ルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニ
ル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジ
ピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香
酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−
1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウ
ンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。上記の
環状酸無水物、フェノール類及び有機酸類の層を構成す
る材料中に占める割合は、0.05〜20重量%が好ま
しく、より好ましくは0.1〜15重量%、特に好まし
くは0.1〜10重量%である。
For the purpose of further improving the sensitivity, cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids can be used in combination. Examples of the cyclic acid anhydride include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-Δ4-tetrahydrophthalic anhydride, and tetrachlorophthalic anhydride described in U.S. Patent No. 4,115,128. , Maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride, and the like. As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-nitrophenol
Ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ', 4 "
-Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ',
3 ", 4" -tetrahydroxy-3,5,3 ', 5'-
Tetramethyltriphenylmethane and the like can be mentioned. Further, as organic acids, JP-A-60-88942 and JP-A-Hei 2
Sulfonic acids described in -96755 and the like,
There are sulfinic acids, alkyl sulfates, phosphonic acids, phosphoric esters and carboxylic acids, and specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, Phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-
Examples thereof include 1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, and ascorbic acid. The proportion of the above-mentioned cyclic acid anhydride, phenols and organic acids in the material constituting the layer is preferably 0.05 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight, particularly preferably 0.1 to 15% by weight. 1 to 10% by weight.

【0056】また、本発明に係る下層或いは上層塗布液
中には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、
特開昭62−251740号公報や特開平3−2085
14号公報に記載されているような非イオン界面活性
剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13
149号公報に記載されているような両性界面活性剤、
EP950517公報に記載されているようなシロキサ
ン系化合物、特開平11−288093号公報に記載さ
れているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加す
ることができる。非イオン界面活性剤の具体例として
は、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパル
ミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノ
グリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル等が挙げられる。両性界面活性剤の具体例としては、
アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリア
ミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボ
キシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベ
タインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例え
ば、商品名「アモーゲンK」:第一工業(株)製)等が
挙げられる。
Further, in the lower or upper layer coating solution according to the present invention, in order to broaden the stability of processing under development conditions,
JP-A-62-251740 and JP-A-3-2085
Non-ionic surfactants described in JP-A No. 14-114, JP-A No. 59-121044, JP-A No. 4-13
No. 149, an amphoteric surfactant,
A siloxane-based compound as described in EP950517 and a fluorine-containing monomer copolymer as described in JP-A-11-288093 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, monoglyceride stearic acid, and polyoxyethylene nonyl phenyl ether. Specific examples of the amphoteric surfactant include:
Alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine type (for example, trade name "Amogen K ": Manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.).

【0057】シロキサン系化合物としては、ジメチルシ
ロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体
が好ましく、具体例として、(株)チッソ社製、DBE−
224,DBE−621,DBE−712,DBP−7
32,DBP−534、独Tego社製、Tego G
lide100等のポリアルキレンオキシド変性シリコ
ーンを挙げることができる。上記非イオン界面活性剤及
び両性界面活性剤の塗布液材料中に占める割合は、0.
05〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜
5重量%である。
The siloxane-based compound is preferably a block copolymer of dimethylsiloxane and polyalkylene oxide. Specific examples include DBE- made by Chisso Corporation.
224, DBE-621, DBE-712, DBP-7
32, DBP-534, manufactured by Tego, Germany, Tego G
and polyalkylene oxide-modified silicones such as LIDE100. The ratio of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the coating liquid material is 0.1%.
It is preferably from 0.5 to 15% by weight, more preferably from 0.1 to 15% by weight.
5% by weight.

【0058】本発明における下層或いは感熱層中には、
露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤
や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができ
る。焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を
放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染
料の組合せを代表として挙げることができる。具体的に
は、特開昭50−36209号、同53−8128号の
各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4
−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せ
や、特開昭53−36223号、同54−74728
号、同60−3626号、同61−143748号、同
61−151644号及び同63−58440号の各公
報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有
機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロ
メチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリア
ジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明
瞭な焼き出し画像を与える。
In the lower layer or the thermosensitive layer in the present invention,
A printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, and a dye or pigment as an image coloring agent can be added. Representative examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating upon exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, o-naphthoquinonediazide-4 described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128 is disclosed.
A combination of a sulfonic acid halide and a salt-forming organic dye, and JP-A-53-36223 and JP-A-54-74728.
No. 60-3626, No. 61-143748, No. 61-151644 and No. 63-58440 in combination with the trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear print-out images.

【0059】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2
93247号公報に記載されている染料は特に好まし
い。これらの染料は、印刷版材料全固形分に対し、0.
01〜10重量%、好ましくは0.1〜3重量%の割合
で印刷版材料中に添加することができる。更に本発明の
印刷版材料中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与す
るために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリ
ル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フ
タル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシ
ル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸
トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒ
ドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴ
マー及びポリマー等が用いられる。
As a colorant for an image, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dye. Suitable dyes, including salt-forming organic dyes, include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink #
312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, crystal violet (CI42555), methyl Violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI5201)
5) and the like. Also, Japanese Unexamined Patent Publication No. Sho 62-2
The dyes described in JP 93247 A are particularly preferred. These dyes are used in an amount of 0.1 to the total solid content of the printing plate material.
It can be added to the printing plate material in a proportion of from 01 to 10% by weight, preferably from 0.1 to 3% by weight. Further, a plasticizer is added to the printing plate material of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility and the like to the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid Oligomers and polymers are used.

【0060】本発明の平版印刷版用原版の感熱層、下層
は、通常上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上
に塗布することにより形成することができる。ここで使
用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘ
キサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシ
エチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテ
ート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、
N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホル
ムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラ
クトン、トルエン等を挙げることができるがこれに限定
されるものではない。これらの溶媒は単独あるいは混合
して使用される。
The heat-sensitive layer and the lower layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention can be usually formed by dissolving the above-mentioned components in a solvent and coating the solution on a suitable support. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate,
Examples thereof include, but are not limited to, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, and toluene. These solvents are used alone or as a mixture.

【0061】また、塗布に用いる溶剤としては、感熱層
に用いるアルカリ可溶性高分子と下層に用いるアルカリ
可溶性高分子に対して溶解性の異なるものを選ぶことが
好ましい。つまり、下層を塗布した後、それに隣接して
上層である感熱層を塗布する際、最上層の塗布溶剤とし
て下層のアルカリ可溶性高分子を溶解させうる溶剤を用
いると、層界面での混合が無視できなくなり、極端な場
合、重層にならず均一な単一層になってしまう場合があ
る。このように、隣接する2つの層の界面で混合が生じ
たり、互いに相溶して均一層の如き挙動を示す場合、2
層を有することによる本発明の効果が損なわれる虞があ
り、好ましくない。このため、上部の感熱層を塗布する
のに用いる溶剤は、下層に含まれるアルカリ可溶性高分
子に対する貧溶剤であることが望ましい。各層を塗布す
る場合の溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の
濃度は、好ましくは1〜50重量%である。
As the solvent used for coating, it is preferable to select a solvent having different solubility in the alkali-soluble polymer used in the heat-sensitive layer and the alkali-soluble polymer used in the lower layer. In other words, when a lower layer is coated and then a heat-sensitive layer as an upper layer is coated next to the lower layer, if a solvent that can dissolve the lower layer alkali-soluble polymer is used as a coating solvent for the uppermost layer, mixing at the layer interface is ignored. In an extreme case, it may not be a multilayer but a uniform single layer. As described above, when mixing occurs at the interface between two adjacent layers or when the two layers are compatible with each other and exhibit a behavior like a uniform layer, 2
The effect of the present invention due to the presence of the layer may be impaired, which is not preferred. Therefore, it is desirable that the solvent used for applying the upper heat-sensitive layer be a poor solvent for the alkali-soluble polymer contained in the lower layer. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent when applying each layer is preferably 1 to 50% by weight.

【0062】また塗布、乾燥後に得られる支持体上の上
層および下層の塗布量(固形分)は、用途によって異な
るが、上層は0.05〜1.0g/m2であり、下層は
0.3〜3.0g/m2であることが好ましい。上層が
0.05g/m2未満である場合には、画像形成性が低
下し、1.0g/m2を超えると感度が低下する可能性
がでてくる。また、下層の塗布量は上記の範囲を外れる
と少なすぎる場合も、多すぎる場合にも画像形成性が低
下する傾向がある。また、前記の2層の合計で0.5〜
3.0g/m2であることが好ましく、塗布量が0.5
g/m2未満であると被膜特性が低下し、3.0g/m2
を超えると感度が低下する傾向にある。塗布量が少なく
なるにつれて、見かけの感度は大になるが、上層および
下層膜の皮膜特性は低下する。
The coating amount (solid content) of the upper layer and the lower layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but the upper layer is 0.05 to 1.0 g / m 2 , and the lower layer is 0.1 g / m 2 . It is preferably from 3 to 3.0 g / m 2 . If the upper layer is less than 0.05 g / m 2, the image forming property is lowered, sensitivity exceeds 1.0 g / m 2 comes out may be reduced. If the amount of the lower layer is out of the above range, the image forming property tends to be reduced when the amount is too small or too large. In addition, the total of the two layers is 0.5 to
It is preferably 3.0 g / m 2 and the coating amount is 0.5 g / m 2.
If it is less than g / m 2 , the film properties will be degraded and 3.0 g / m 2
If it exceeds, the sensitivity tends to decrease. As the amount of coating decreases, the apparent sensitivity increases, but the film properties of the upper and lower layers decrease.

【0063】塗布する方法としては、種々の方法を用い
ることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げるこ
とができる。本発明における上層および下層中には、塗
布性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−
170950号公報に記載されているようなフッ素系界
面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、
下層或いは上層全固形分中0.01〜1重量%、さらに
好ましくは0.05〜0.5重量%である。
Various methods can be used for the coating, such as bar coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, roll coating, and the like. Can be. In the upper layer and the lower layer in the present invention, a surfactant for improving coating properties, for example,
A fluorine-based surfactant as described in JP-A-170950 can be added. The preferred amount is
It is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the total solid content of the lower or upper layer.

【0064】〔支持体〕本発明に使用される平版印刷版
用原版の支持体としては、必要な強度と耐久性を備えた
寸度的に安定な板状物が挙げられ、例えば、紙、プラス
チック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、
アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム
(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロ
ピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロ
ース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカ
ーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき
金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプ
ラスチックフィルム等が含まれる。
[Support] As the support of the lithographic printing plate precursor used in the present invention, a dimensionally stable plate having the required strength and durability can be mentioned. Plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) laminated paper, metal plate (for example,
Aluminum, zinc, copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate)
Polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic film on which a metal as described above is laminated or vapor-deposited.

【0065】本発明の支持体としては、ポリエステルフ
ィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板
及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合
金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸
着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム
合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々
10重量%以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程
度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好まし
くは0.2mm〜0.3mmである。
As the support of the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in aluminum alloys include silicon, iron, manganese,
Copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

【0066】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処
理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、
種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化
する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いること
ができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又
は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。
また、特開昭54−63902号公報に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用
いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種
々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、
蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。そ
れらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決めら
れる。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed to remove the rolling oil on the surface. The surface roughening treatment of the aluminum plate
The method is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of chemically selectively dissolving the surface. As a mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used. In addition, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte.
Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can be used. The aluminum plate thus surface-roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment as required, and then subjected to an anodic oxidation treatment, if desired, in order to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. Generally, sulfuric acid, phosphoric acid,
Oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0067】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,7
14,066号、同第3,181,461号、第3,2
80,734号及び第3,902,734号に開示され
ているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナ
トリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持
体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電
解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開
示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第
3,276,868号、同第4,153,461号、同
第4,689,272号に開示されているようなポリビ
ニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
Anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte to be used, and thus cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / Dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. When the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image portion of the lithographic printing plate is easily scratched,
So-called "scratch stains" in which ink adheres to scratches during printing are likely to occur. After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as necessary. U.S. Pat. Nos. 2,7,7
No. 14,066, No. 3,181,461, No. 3,2
There is an alkali metal silicate (e.g., sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in U.S. Pat. Nos. 80,734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed or electrolytically treated with an aqueous solution of sodium silicate. Further, potassium fluoride zirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689,272 are disclosed. A method of treating with polyvinyl phosphonic acid as described above is used.

【0068】本発明に適用される平版印刷版用原版は、
支持体上に少なくともポジ型感熱層と下層の2層を積層
して設けたものであるが、必要に応じて支持体と下層と
の間に下塗層を設けることができる。下塗層成分として
は種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメ
チルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−ア
ミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン
酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフ
チルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホ
ン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸
などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニル
リン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロ
リン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニ
ルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホス
フィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィ
ン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及び
トリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有
するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合し
て用いてもよい。
The lithographic printing plate precursor applied to the present invention is:
At least two layers, a positive thermosensitive layer and a lower layer, are laminated on the support, and an undercoat layer can be provided between the support and the lower layer as needed. As the undercoat layer component, various organic compounds are used, for example, carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, and phenylphosphonic acid optionally having a substituent , Organic phosphonic acids such as naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid Organic phosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acid such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloric acid of triethanolamine Has hydroxy groups such as salts -Alanine, and hydrochlorides of amines that may be used in combination of two or more.

【0069】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、
メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混
合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニ
ウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノ
ール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤
もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解さ
せた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸
着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗
層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化
合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々の方
法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は
0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量%
であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜5
0℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは
2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質
や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の
範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調
子再現性改良のために黄色染料を添加することもでき
る。有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2が適
当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。上
記の被覆量が2mg/m2よりも少ないと十分な耐刷性
能が得られない。また、200mg/m2より大きくて
も同様である。
This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, water or methanol, ethanol,
A method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in an organic solvent such as methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied to an aluminum plate and dried, and an organic solvent such as water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is used. In this method, an aluminum plate is immersed in a solution in which the above-mentioned organic compound is dissolved to adsorb the above-mentioned compound, and then washed with water or the like and dried to form an organic undercoat layer. In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight.
The immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 5 ° C.
0 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this is ammonia,
The pH can be adjusted to a range of 1 to 12 with a basic substance such as triethylamine or potassium hydroxide or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid. Further, a yellow dye can be added for improving the tone reproducibility of the image recording material. The coating amount of the organic undercoat layer is suitably from 2 to 200 mg / m 2 , and preferably from 5 to 100 mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same is true even if it is larger than 200 mg / m 2 .

【0070】上記のようにして作成されたポジ型の平版
印刷版用原版は、画像様に露光され、その後、現像処理
を施される。像露光に用いられる活性光線の光源として
は、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン
ランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。
放射線としては、電子線、X線、イオンビーム、遠赤外
線などがある。またg線、i線、Deep−UV光、高密度
エネルギービーム(レーザービーム)も使用される。レ
ーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザー、アル
ゴンレーザー、クリプトンレーザー、ヘリウム・カドミ
ウムレーザー、KrFエキシマレーザー等が挙げられ
る。本発明においては、近赤外から赤外領域に発光波長
を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特
に好ましい。
The positive type lithographic printing plate precursor prepared as described above is exposed imagewise and then subjected to development processing. Examples of the light source of the actinic ray used for the image exposure include a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, a carbon arc lamp, and the like.
Examples of the radiation include an electron beam, an X-ray, an ion beam, and a far-infrared ray. In addition, g-line, i-line, Deep-UV light, and high-density energy beam (laser beam) are also used. Examples of the laser beam include a helium-neon laser, an argon laser, a krypton laser, a helium-cadmium laser, and a KrF excimer laser. In the present invention, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid-state laser and a semiconductor laser are particularly preferable.

【0071】本発明の平版印刷版用原版の現像に用いる
現像液および補充液としては、従来から知られている、
緩衝作用を有する有機化合物と塩基とを主成分とし、実
質上、二酸化ケイ素を含有しないアルカリ現像液を用い
ることが好ましい。本発明では、このような現像液を以
下、「非シリケート現像液」と称する。なお、ここで
「実質上」とは不可避の不純物及び副生成物としての微
量の二酸化ケイ素の存在を許容することを意味する。本
発明の平版印刷版用原版の現像工程に、前記非シリケー
ト現像液を適用することで、傷の発生抑制効果がより向
上し、画像部に欠陥のない、良好な平版印刷版を得るこ
とができる。アルカリ水溶液としては、特にpH12.
5〜13.5のものが好ましい。
As a developer and a replenisher used for developing the lithographic printing plate precursor according to the present invention, conventionally known developers and replenishers are used.
It is preferable to use an alkali developer containing an organic compound having a buffering action and a base as main components and containing substantially no silicon dioxide. In the present invention, such a developer is hereinafter referred to as a “non-silicate developer”. Here, “substantially” means that the presence of trace amounts of silicon dioxide as unavoidable impurities and by-products is allowed. In the development step of the lithographic printing plate precursor according to the invention, by applying the non-silicate developer, the effect of suppressing the occurrence of scratches is further improved, and a good lithographic printing plate having no defects in the image area can be obtained. it can. As the alkaline aqueous solution, particularly, pH 12.
Those having 5 to 13.5 are preferred.

【0072】本発明の平版印刷版用原版の現像に用いる
「非シリケート現像液」は、前記したように緩衝作用を
有する有機化合物と塩基とを主成分とするものである。
緩衝作用を有する有機化合物としては、特開平8−22
0775号公報に緩衝作用を有する化合物として記載さ
れている糖類(特に一般式(I)又は(II)で表されるも
の)、オキシウム類(特に一般式(III)で表されるも
の)、フェノール類(特に一般式(IV)で表されるも
の)及びフッ素化アルコール類、(特に一般式(V)で
表されるもの)等が挙げられる。一般式(I)〜(V)
で表される化合物のなかでも、好ましいものは、一般式
(I)又は(II)で表される糖類、一般式(V)で表され
るフェノール類であり、さらに好ましくは一般式(I)
又は(II)で表される糖類のうち、サッカロース等の非還
元糖又はスルホサリチル酸である。非還元糖には、還元
基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基
と非糖類が結合した配糖体、糖類に水素添加して還元し
た糖アルコール等が包含される。
The "non-silicate developer" used in the development of the lithographic printing plate precursor according to the present invention contains, as described above, an organic compound having a buffering action and a base as main components.
Examples of the organic compound having a buffering action include JP-A-8-22.
No. 0775, saccharides (particularly those represented by general formula (I) or (II)), oximes (particularly those represented by general formula (III)), and phenols described as compounds having a buffering action (Particularly those represented by the general formula (IV)) and fluorinated alcohols (particularly those represented by the general formula (V)). General formulas (I) to (V)
Among the compounds represented by the formula, preferred are saccharides represented by the general formula (I) or (II) and phenols represented by the general formula (V), and more preferably phenols represented by the general formula (I)
Or, among the saccharides represented by (II), non-reducing sugars such as saccharose or sulfosalicylic acid. Non-reducing sugars include trehalose-type oligosaccharides in which reducing groups are bonded to each other, glycosides in which the reducing groups of saccharides are bonded to non-saccharides, sugar alcohols obtained by hydrogenating and reducing saccharides, and the like.

【0073】前記トレハロース型少糖類としては、例え
ば、サッカロースやトレハロースが挙げられ、前記配糖
体としては、例えば、アルキル配糖体、フェノール配糖
体、カラシ油配糖体等が挙げられる。前記糖アルコール
としては、例えば、D,L−アラビット、リビット、キ
シリット、D,L−ソルビット、D,L−アンニット、
D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシット、ア
ロズルシット等が挙げられる。さらに、二糖類の水素添
加で得られるマルチトール、オリゴ糖の水素添加で得ら
れる還元体(還元水あめ)等も好適に挙げることができ
る。
The trehalose-type oligosaccharides include, for example, saccharose and trehalose, and the glycosides include, for example, alkyl glycosides, phenol glycosides, mustard oil glycosides, and the like. Examples of the sugar alcohol include D, L-arabit, ribit, xylit, D, L-sorbit, D, L-annit,
D, L-idit, D, L-talit, zuricit, allozurcit and the like. Further, maltitol obtained by hydrogenation of a disaccharide, a reductant (reduced starch syrup) obtained by hydrogenation of an oligosaccharide, and the like can also be preferably exemplified.

【0074】上記のうち、非還元糖としては、糖アルコ
ール、サッカロールが好ましく、中でも特に、D−ソル
ビット、サッカロース、還元水あめが、適度なpH領域
に緩衝作用がある点でより好ましい。これらの非還元糖
は、単独でも、二種以上を組合わせてもよく、現像液中
に占める割合としては、0.1〜30重量%が好まし
く、1〜20重量%がより好ましい。
Among the above, as the non-reducing sugar, sugar alcohols and saccharol are preferable, and among them, D-sorbitol, saccharose and reduced starch syrup are more preferable because they have a buffering action in an appropriate pH range. These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more. The ratio of the non-reducing sugar in the developer is preferably 0.1 to 30% by weight, more preferably 1 to 20% by weight.

【0075】前記緩衝作用を有する有機化合物には、塩
基としてアルカリ剤を、従来公知のものの中から適宜選
択して組合せることができる。前記アルカリ剤として
は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、
リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二
カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナト
リウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウム等の無機
アルカリ剤、クエン酸カリウム、クエン酸三カリウム、
クエン酸ナトリウム等が挙げられる。
The above-mentioned organic compound having a buffering action can be combined with an alkali agent as a base by appropriately selecting from the conventionally known ones. Examples of the alkaline agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate,
Triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate,
Inorganic alkaline agents such as potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, ammonium borate, potassium citrate, tripotassium citrate,
And sodium citrate.

【0076】さらに、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も好適に挙
げることができる。これらのアルカリ剤は、単独で用い
ても、二種以上を組合わせて用いてもよい。
Further, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropylamine Organic alkali agents such as isopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine and the like can also be suitably mentioned. These alkaline agents may be used alone or in combination of two or more.

【0077】なかでも、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムが好ましい。その理由は、非還元糖に対する添加量
を調整することにより、広いpH領域においてpH調整
が可能となるためである。また、リン酸三ナトリウム、
リン酸三カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等も
それ自身に緩衝作用があるので好ましい。
Of these, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferred. The reason is that the pH can be adjusted in a wide pH range by adjusting the amount of the non-reducing sugar. Also, trisodium phosphate,
Tripotassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like are also preferable because they have a buffering action by themselves.

【0078】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の平版印刷版用原版を処
理できることが知られている。本発明においてもこの補
充方式が好ましく適用される。現像液及び補充液には現
像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の
親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性
剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤として
は、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面
活性剤が挙げられる。更に現像液及び補充液には必要に
応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸
水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還
元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加え
ることもできる。上記現像液及び補充液を用いて現像処
理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリン
ス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後
処理される。本発明の平版印刷版用原版の後処理として
は、これらの処理を種々組み合わせて用いることができ
る。
In the case of developing using an automatic developing machine, an aqueous solution having a higher alkali strength than the developing solution (replenisher)
It is known that a large amount of lithographic printing plate precursors can be processed without replacing the developing solution in the developing tank for a long period of time by adding to the developing solution. This replenishment system is also preferably applied in the present invention. Various surfactants and organic solvents can be added to the developing solution and the replenishing solution as needed for the purpose of accelerating or suppressing the developing property, dispersing the developing residue and improving the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Further, the developing solution and the replenisher may contain, if necessary, a reducing agent such as a sodium salt or a potassium salt of an inorganic acid such as hydroquinone, resorcinol, sulfurous acid, and bisulfite, and further include an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, and a water softener. Can be added. The printing plate developed using the above developer and replenisher is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. As the post-processing of the lithographic printing plate precursor of the present invention, these processings can be used in various combinations.

【0079】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用い
られている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理
部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びス
プレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送し
ながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズル
から吹き付けて現像処理するものである。また、最近は
処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなど
によって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られ
ている。このような自動処理においては、各処理液に処
理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理す
ることができる。また、実質的に未使用の処理液で処理
するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
In recent years, in the plate making / printing industry, automatic developing machines for printing plates have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally includes a developing section and a post-processing section, and includes a device for transporting a printing plate, each processing solution tank and a spray device, and transports the exposed printing plate horizontally while pumping each plate. The developing process is performed by spraying a processing liquid from a spray nozzle. Recently, a method has been known in which a printing plate is immersed and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with a processing liquid to perform processing. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like. Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing liquid can also be applied.

【0080】本発明に係る平版印刷版用原版において
は、画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/
又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部
(例えば原画フィルムのフィルムエッジ跡など)がある
場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。こ
のような消去は、例えば特公平2−13293号公報に
記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、
そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより
行なう方法が好ましいが、特開平59−174842号
公報に記載されているようなオプティカルファイバーで
導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像す
る方法も利用できる。
In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, image exposure, development, washing and / or rinsing and / or
Alternatively, if there is an unnecessary image portion (for example, a film edge mark of the original film) on the lithographic printing plate obtained by gumming, the unnecessary image portion is erased. Such erasing is performed by applying an erasing liquid as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-129393 to an unnecessary image portion.
It is preferable to carry out washing by rinsing with water after leaving it for a predetermined period of time, but it is necessary to irradiate an unnecessary image area with an actinic ray guided by an optical fiber as described in JP-A-59-174842, and then develop. A method to do this is also available.

【0081】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61
−2518号、同55−28062号、特開昭62−3
1859号、同61−159655号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。その
方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂
綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たした
バット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コー
ターによる塗布などが適用される。また、塗布した後で
スキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量
を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after applying a desensitizing gum as required, but when the lithographic printing plate is desired to have a higher printing durability, Is subjected to a burning process. When burning a lithographic printing plate, before burning,
No. 2518, No. 55-28062, JP-A-62-3
It is preferable to treat with a surface-regulating liquid as described in JP-A Nos. 1859 and 61-159655. As a method, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid is applied on a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed in a vat filled with the surface conditioning solution and applied, Application by an automatic coater or the like is applied. Further, it is more preferable to make the application amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after the application.

【0082】整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8
g/m2(乾燥重量)が適当である。整面液が塗布され
た平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販
売されているバーニングプロセッサー:「BP−130
0」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好まし
い。
The coating amount of the surface conditioning liquid is generally 0.03 to 0.8.
g / m 2 (dry weight) is appropriate. The lithographic printing plate to which the surface conditioning liquid has been applied is dried if necessary, and then burned (for example, a burning processor sold by Fuji Photo Film Co., Ltd .: "BP-130").
0 "). The heating temperature and time in this case depend on the type of the component forming the image,
The temperature is preferably in the range of 180 to 300 ° C for 1 to 20 minutes.

【0083】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれ
ている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなど
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この
様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷
機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
The burned lithographic printing plate can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming if necessary. However, a surface conditioning solution containing a water-soluble polymer compound or the like can be used. When is used, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0084】[0084]

【実施例】以下、本発明を実施例に従って説明するが、
本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。 [平版印刷版用原版1〜12の作製] 〔基板の作製〕厚み0.3mmのアルミニウム板(材質
1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した
後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス−水懸濁
液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。こ
の板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間
浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに20%硝酸
に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面の
エッチング量は約3g/m 2であった。次にこの板を7
%硫酸を電解液として電流密度15A/dm2で3g/
2の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、乾燥し、
さらに、珪酸ナトリウム2.5重量%水溶液で30℃で
10秒処理し、下記下塗り液を塗布し、塗膜を80℃で
15秒間乾燥し基板を得た。乾燥後の塗膜の被覆量は1
5mg/m2であった。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples.
The scope of the present invention is not limited to these examples. [Preparation of lithographic printing plate precursors 1 to 12] [Preparation of substrate] 0.3 mm thick aluminum plate (material
1050) was degreased by washing with trichloroethylene.
After, nylon brush and 400 mesh pumice-water suspension
The surface was grained using a liquid and washed well with water. This
The plate in a 25% aqueous solution of sodium hydroxide at 45 ° C for 9 seconds
Etching by immersion, washing with water, and then 20% nitric acid
For 20 seconds and washed with water. At this time,
Etching amount is about 3g / m TwoMet. Next, this plate
% Sulfuric acid as electrolyte and current density 15A / dmTwo3g /
mTwoAfter providing a direct current anodic oxide coating of
Furthermore, at 30 ° C. with a 2.5% by weight aqueous solution of sodium silicate.
Treat for 10 seconds, apply the following undercoat liquid, and coat the film at 80 ° C.
After drying for 15 seconds, a substrate was obtained. The coating amount of the coating film after drying is 1
5mg / mTwoMet.

【0085】 〔下塗り液〕 ・下記高分子化合物 0.3g ・メタノール 100g ・水 1g[Undercoat liquid]-0.3 g of the following polymer compound-100 g of methanol-1 g of water

【0086】[0086]

【化1】 Embedded image

【0087】〔記録層1の形成〕得られた基板に以下の
下層用塗布液を塗布量が0.85g/m2になるよう塗
布したのち、TABAI社製、PERFECT OVE
N PH200にてWind Controlを7に設
定して140℃で50秒間乾燥し、その後、以下の感熱
層用塗布液を塗布量が0.15g/m2になるよう塗布
したのち、120℃で1分間乾燥し、平版印刷版版原版
1〜7を得た。
[Formation of Recording Layer 1] The following coating solution for the lower layer was applied to the obtained substrate so that the coating amount was 0.85 g / m 2, and then PERFECT OVE manufactured by TABAI.
After drying at 140 ° C. for 50 seconds with Wind Control set to 7 with N PH200, the following heat-sensitive layer coating solution was applied so that the coating amount was 0.15 g / m 2, and then applied at 120 ° C. for 1 hour. After drying for 1 minute, planographic printing plate precursors 1 to 7 were obtained.

【0088】 〔下層用塗布液〕 ・N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/ アクリロニトリル/メタクリル酸メチル (36/34/30:重量平均分子量50000) 2.133g ・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン 0.030g ヘキサフルオロホスフェート ・シアニン染料A(下記構造) 0.109g ・4,4’−ビズヒドロキシフェニルスルホン 0.063g ・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g ・p−トルエンスルホン酸 0.008g ・エチルバイオレットの対イオンを 6−ヒイドロキシナフタレンスルホンに変えたもの 0.05g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF176、 大日本インキ工業(株)社製) 0.035g ・メチルエチルケトン 26.6g ・1−メトキシ−2−プロパノール 13.6g ・γ−ブチロラクトン 13.8g[Coating solution for lower layer] N- (4-aminosulfonylphenyl) methacrylamide / acrylonitrile / methyl methacrylate (36/34/30: weight average molecular weight 50,000) 2.133 g 3-methoxy-4-diazo Diphenylamine 0.030 g Hexafluorophosphate • Cyanine dye A (the following structure) 0.109 g • 4,4'-Bizhydroxyphenylsulfone 0.063 g • Tetrahydrophthalic anhydride 0.190 g • p-Toluenesulfonic acid 0.008 g • Ethyl The counter ion of violet was changed to 6-hydroxynaphthalene sulfone 0.05 g ・ Fluorine surfactant (MegaFac F176, manufactured by Dainippon Ink Industries, Ltd.) 0.035 g ・ Methyl ethyl ketone 26.6 g ・ 1 -Methoxy-2-p Lopanol 13.6 g ・ γ-butyrolactone 13.8 g

【0089】[0089]

【化2】 Embedded image

【0090】 〔感熱層用塗布液〕 ・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量 4500、未反応クレゾール0.8重量%含有) 0.237g ・シアニン染料A(上記構造) 0.047g ・ステアリン酸ドデシル 0.060g ・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン ヘキサフルオロホスフェート 0.030g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF176、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.110g ・フッ素系界面活性剤〔メガファックMCF−312(30%)、 大日本インキ工業(株)社製〕 0.120g ・メチルエチルケトン 15.1 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7.7 g ・下記表1に記載のポリエチレングリコール化合物 X g[Coating solution for thermosensitive layer] m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 4,500, unreacted cresol 0.8% by weight) 0.237 g, cyanine dye A ( The above structure) 0.047 g ・ Dodecyl stearate 0.060 g ・ 3-methoxy-4-diazodiphenylamine hexafluorophosphate 0.030 g ・ Fluorinated surfactant (MegaFac F176, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0 0.110 g ・ Fluorine surfactant [Megafac MCF-312 (30%), manufactured by Dainippon Ink Industries, Ltd.] 0.120 g ・ Methyl ethyl ketone 15.1 g ・ 1-Methoxy-2-propanol 7.7 g -Polyethylene glycol compound X g described in Table 1 below

【0091】〔記録層2の形成〕2層構造の上記記録層
1に代えて、該記録層1の感熱層用塗布液を塗布量が
1.00g/m2になるよう上記基板上に塗布したの
ち、120℃で1分間乾燥し、平版印刷版版原版8〜1
2を得た。
[Formation of Recording Layer 2] Instead of the recording layer 1 having a two-layer structure, a coating solution for the heat-sensitive layer of the recording layer 1 was applied onto the substrate so that the coating amount was 1.00 g / m 2. After drying at 120 ° C. for 1 minute, the lithographic printing plate precursor 8 to 1
2 was obtained.

【0092】[平版印刷版用原版の評価]得られた平版
印刷版原版1〜12に対して、現像に際し、富士写真フ
イルム(株)製現像液DT−1及びDT−1Rを通常の
方法で用いて、以下に示すような耐傷性試験及び感度の
評価を行った。
[Evaluation of Lithographic Printing Plate Precursors] For development of the obtained lithographic printing plate precursors 1 to 12, developers DT-1 and DT-1R manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. were developed in a usual manner. A scratch resistance test and sensitivity evaluation as described below were performed using the test pieces.

【0093】〔耐傷性テスト〕得られた平版印刷版用原
版をロータリー・アブレーション・テスター(TOYO
SEIKI社製)を用い、250gの加重下、アブレー
ザーフェルトCS5で20回摩擦した。その後、上記ア
ルカリ現像処理液を仕込んだ富士写真フイルム(株)製
PSプロセッサー900Hを用い、液温30℃、現像時
間12秒にて現像し、摩擦した部分の記録層膜の光学濃
度の変化を目視で観測した。耐傷性の評価基準は以下の
通りとし、評価結果を下記表1に示した。
[Scratch Resistance Test] The obtained lithographic printing plate precursor was subjected to a rotary ablation tester (TOYO).
(SEIKI) and rubbed 20 times with Abrazelfelt CS5 under a load of 250 g. Thereafter, the film was developed using a PS processor 900H manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., charged with the above alkali developing solution, at a liquid temperature of 30 ° C. for a developing time of 12 seconds. Observed visually. The evaluation criteria for the scratch resistance were as follows, and the evaluation results are shown in Table 1 below.

【0094】 ○ : 光学濃度の変化全く無し ○△: キズの跡が目視で判別できる △ : 基板がわずかに露出している △×: 光学濃度が1/2程度:: no change in optical density △: scratch marks can be visually discriminated :: substrate is slightly exposed ×: optical density is about 2

【0095】〔感度の評価〕得られた平版印刷版用原版
をCreo社製Trendsetterにて露光エネル
ギーを変えて、テストパターンを画像状に描き込みを行
った。その後、富士写真フイルム(株)製現像液DT−
1(希釈して、電導度45mS/cmとしたもの)で現
像し、この現像液で非画像部が現像できる露光エネルギ
ーを測定し、感度とした。数値が小さいほど高感度であ
ると評価する。結果を表1に示す。
[Evaluation of Sensitivity] A test pattern was drawn on the obtained lithographic printing plate precursor in the form of an image by changing the exposure energy with a Trendsetter manufactured by Creo Corporation. Thereafter, a developer DT- manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
The developer was developed at 1 (diluted to an electric conductivity of 45 mS / cm), and the exposure energy at which a non-image area could be developed with this developer was measured and defined as sensitivity. The smaller the value, the higher the sensitivity. Table 1 shows the results.

【0096】[0096]

【表1】 [Table 1]

【0097】このことから、本発明の平版印刷版用原版
は、耐傷性に優れ、感度も良好であることがわかる。一
方、感熱層にエチレングリコール化合物を含まないもは
耐傷性が低く、記録層が単層構造のものは感度の低いも
のであった。
From this, it can be seen that the lithographic printing plate precursor of the present invention has excellent scratch resistance and good sensitivity. On the other hand, when the heat-sensitive layer did not contain the ethylene glycol compound, the scratch resistance was low, and when the recording layer had a single-layer structure, the sensitivity was low.

【0098】[0098]

【発明の効果】本発明の平版印刷版用原版およびその処
理方法は、ポジ型記録層として、アルカリ可溶性樹脂を
含有する下層および赤外線吸収剤と特定のエチレングリ
コール化合物を含み赤外レーザーの露光によりアルカリ
性水溶液に対する溶解性が増大する上層からなるものを
設けたことにより、耐傷性および感度の双方を良好にす
ることができた。
According to the lithographic printing plate precursor of the present invention and a method for treating the same, the positive recording layer contains a lower layer containing an alkali-soluble resin, an infrared absorber and a specific ethylene glycol compound, and is exposed to infrared laser. By providing an upper layer having increased solubility in an alkaline aqueous solution, both scratch resistance and sensitivity could be improved.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/11 503 G03F 7/11 503 7/32 7/32 (72)発明者 小田 晃央 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA01 AA13 AB03 AC01 AC08 AD03 BE00 CB29 CC20 DA36 FA03 FA17 2H096 AA07 BA09 BA16 BA20 CA05 EA04 GA08 GA09 GA10 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G03F 7/11 503 G03F 7/11 503 7/32 7/32 (72) Inventor Akio Oda Haibara-gun, Shizuoka 4,000 Kawajiri, Yoshidacho Fujisha Shin Film Co., Ltd. F-term (reference) 2H025 AA01 AA13 AB03 AC01 AC08 AD03 BE00 CB29 CC20 DA36 FA03 FA17 2H096 AA07 BA09 BA16 BA20 CA05 EA04 GA08 GA09 GA10

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上にアルカリ可溶性樹脂含有層を
設け、その上に赤外線吸収剤を含み赤外レーザーの露光
によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大するポジ
型記録層を設けた重層型の平版印刷版用原版において、
上記ポジ型記録層が下記構造の化合物を含むことを特徴
とする平版印刷版用原版。 R1−{−O−(R3−O−)m−R2n (R1は多価アルコール残基又は多価フェノール残基、
2は水素原子、C125のアルキル基、アルケニル基、
アルキニル基、アルキロイル基、アリール基又はアリー
ロイル基、R3はアルキレン残基を示す。mは任意の整
数で、nは1以上4以下の整数である。)
1. A multilayer lithographic plate comprising an alkali-soluble resin-containing layer provided on a support, and a positive-type recording layer containing an infrared absorber and having increased solubility in an alkaline aqueous solution upon exposure to infrared laser. In the printing plate precursor,
A lithographic printing plate precursor, wherein the positive recording layer contains a compound having the following structure. R 1 -{-O- (R 3 -O-) m -R 2n (R 1 is a polyhydric alcohol residue or a polyhydric phenol residue,
R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group of C 1 ~ 25, an alkenyl group,
An alkynyl group, an alkylloyl group, an aryl group or an aryloyl group, R 3 represents an alkylene residue. m is an arbitrary integer, and n is an integer of 1 or more and 4 or less. )
【請求項2】 前記構造の化合物において、mは平均で
10以上の整数であることを特徴とする請求項1記載の
平版印刷版用原版。
2. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein in the compound having the structure, m is an integer of 10 or more on average.
【請求項3】 前記構造の化合物において、R2及びR3
は、それぞれ独立して、炭素、酸素及び水素から選ばれ
る少なくともいずれかより構成される基であることを特
徴とする請求項1記載の平版印刷版用原版。
3. The compound of the above structure, wherein R 2 and R 3
The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein each is independently a group composed of at least one selected from carbon, oxygen and hydrogen.
【請求項4】 前記ポジ型記録層に含まれるバインダー
がノボラック樹脂であることを特徴とする請求項1記載
の平版印刷版用原版。
4. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the binder contained in the positive recording layer is a novolak resin.
【請求項5】 前記アルカリ可溶性樹脂含有層がオニウ
ム塩を含むことを特徴とする請求項1記載の平版印刷版
用原版。
5. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the alkali-soluble resin-containing layer contains an onium salt.
【請求項6】 支持体上にアルカリ可溶性樹脂含有層を
設けその上に赤外線吸収剤と下記構造の化合物とを含み
赤外レーザーの露光によりアルカリ性水溶液に対する溶
解性が増大するポジ型記録層を設けた重層型の平版印刷
版用原版を、画像露光したのち、pH緩衝性の有機化合
物と塩基とを含むアルカリ性現像液で現像することを特
徴とする平版印刷版用原版の処理方法。 R1−{−O−(R3−O−)m−R2n (R1は多価アルコール残基又は多価フェノール残基、
2は水素原子、C125のアルキル基、アルケニル基、
アルキニル基、アルキロイル基、アリール基又はアリー
ロイル基、R3はアルキレン残基を示す。mは任意の整
数で、nは1以上4以下の整数である。)
6. An alkali-soluble resin-containing layer is provided on a support, and a positive-type recording layer containing an infrared absorbent and a compound having the following structure and having increased solubility in an alkaline aqueous solution upon exposure to infrared laser is provided thereon. A method for processing a lithographic printing plate precursor, comprising: exposing an image of the multilayer lithographic printing plate precursor to an image, followed by developing with an alkaline developer containing a pH buffering organic compound and a base. R 1 -{-O- (R 3 -O-) m -R 2n (R 1 is a polyhydric alcohol residue or a polyhydric phenol residue,
R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group of C 1 ~ 25, an alkenyl group,
An alkynyl group, an alkylloyl group, an aryl group or an aryloyl group, R 3 represents an alkylene residue. m is an arbitrary integer, and n is an integer of 1 or more and 4 or less. )
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7358032B2 (en) * 2002-11-08 2008-04-15 Fujifilm Corporation Planographic printing plate precursor

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