JP2002350885A5 - - Google Patents

Claims (16)

1. 第１基板と、
   前記第１基板と対向配置され、画素電極形成領域、該画素電極形成領域を囲むダミー画素電極形成領域及び該ダミー画素電極形成領域とを有する第２基板と、
   前記第２基板の前記画素電極形成領域に配置されたスイッチング素子と、
   前記第２基板の前記画素電極形成領域に配置され、前記スイッチング素子に電気的に接続された画素電極と、
   前記第２基板の前記ダミー画素電極形成領域に配置されたダミースイッチング素子と、
   前記第２基板の前記ダミー画素電極形成領域に配置され、前記ダミースイッチング素子に電気的に接続されたダミー画素電極と、
   前記第１基板上に、前記画素電極及び前記ダミー画素電極に対応して配置された第１電極と、
   前記第１基板及び前記第２基板間に挟持された電気光学材料と、
   前記ダミー画素電極、該ダミー画素電極と対向配置された前記第１電極、及びこれらダミー画素電極と第１電極との間に挟持された前記電気光学材料とからなるダミー画素が形成されたダミー画素領域を、囲むように配置された遮光膜と、
   前記遮光膜を囲むように配置された前記第1基板と第２基板とを接着するシール材と、
   を具備することを特徴とする電気光学装置。
2. 前記遮光膜は、前記第１基板上に配置された第１遮光膜と、第２基板上に配置された第２遮光膜とからなることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記第２基板上には前記スイッチング素子に電気的に接続された複数の第２配線が配置され、
   前記第１電極は、前記第２配線に交差した複数の第１配線からなり、
   前記第１遮光膜は、前記第１配線と略平行に形成され、
   前記第２遮光膜は、前記第２配線と略平行に形成されてなることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の電気光学装置。
4. 前記第２遮光膜は、金属層と該金属層を覆う絶縁膜からなることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置。
5. 前記第１基板上には、前記ダミー画素領域を覆う第３遮光膜が配置されていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
6. 前記第３遮光膜は、前記画素電極、該画素電極と対向配置された前記第１電極、及びこれら画素電極と第１電極との間に挟持された前記電気光学材料とからなる画素が形成された画素領域の外縁部をも覆うことを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置。
7. 前記ダミー画素電極は遮光性電極からなり、
   前記第３遮光膜は、前記ダミー画素電極に対応する開口部を有することを特徴とする請求項５または請求項６に記載の電気光学装置。
8. 前記ダミー画素には信号が書き込まれることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の電気光学装置。
9. 請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の電気光学装置を有することを特徴とする電子機器。
10. 矩形状の第１基板上に、該第１基板の向かい合う二辺のそれぞれに沿って第１遮光膜を形成する工程と、
    前記第１基板上に、前記第１遮光膜と略平行に複数の第１配線を形成する工程と、
    矩形状の第２基板上に、複数の第２配線と、前記第２基板の向かい合う二辺のそれぞれに沿った前記第２配線と略平行な第２遮光膜と、を同時形成する工程と、
    前記第２基板上に、前記第２配線と電気的に接続するスイッチング素子を形成する工程と、
    前記第２基板上に、前記スイッチング素子に電気的に接続する画素電極を形成する工程と、
    前記第１基板及び前記第２基板を、前記第１配線及び前記第２配線が互いに直交するように対向配置させ、前記第１基板及び前記第２基板を前記第１遮光膜及び第２遮光膜を囲うように形成したシール材により接着する工程と、
    前記第１基板、前記第２基板及び前記シール材により形成された領域に液晶を注入する工程と、
    を有することを特徴とする液晶装置の製造方法。
11. 一対の基板間に電気光学材料が狭持されてなる電気光学装置において、
    一方の前記基板には、電気光学材料に電界を印加する画素電極およびダミー画素電極が設けられ、
    前記ダミー画素電極は前記画素電極を囲むように配置されており、
    他方の前記基板には、前記ダミー画素電極の周辺領域に対応した領域に第１遮光膜が設けられ、
    一方の前記基板には、前記ダミー画素電極の周辺領域に第２遮光膜が設けられ、
    他方の前記基板には、前記ダミー画素電極に重なるように第３遮光膜が設けられ、
    前記第１遮光膜および前記第２遮光膜は、それらを組み合わせて前記ダミー画素電極の周辺領域を覆うように配置されていることを特徴とする電気光学装置。
12. 一対の基板間に電気光学材料が狭持されてなる電気光学装置において、
    一方の前記基板には、電気光学材料に電界を印加する電極が設けられ、
    他方の前記基板には、前記電極の周辺領域に対応した領域に第１遮光膜が設けられ、
    一方の前記基板には、前記電極の周辺領域に第２遮光膜が設けられ、
    前記第１遮光膜および前記第２遮光膜は、それらを組み合わせて前記電極の周辺領域を覆うように配置されていることを特徴とする電気光学装置。
13. 請求項１２に記載の電気光学装置において、
    一方の前記基板には、前記電極に接続される配線が設けられ、
    他方の前記基板には、前記配線に交差するように第１電極が設けられ、
    前記第１遮光膜は前記第１電極に沿って配置され、
    前記第２遮光膜は前記配線に沿って配置されていることを特徴とする電気光学装置。
14. 一対の基板間に、電気光学材料および前記電気光学材料を囲むシール材が狭持されてなる電気光学装置において、
    一方の前記基板には、電気光学材料に電界を印加する画素電極およびダミー画素電極が設けられ、
    前記ダミー画素電極は前記画素電極を囲むように配置されており、
    他方の前記基板には、前記ダミー画素電極および前記シール材の間の周辺領域に対応した領域に第１遮光膜が設けられ、
    一方の前記基板には、前記ダミー画素電極の前記周辺領域に第２遮光膜が設けられ、
    他方の前記基板には、前記ダミー画素電極に重なるように第３遮光膜が設けられ、
    前記第１遮光膜および前記第２遮光膜は、それらを組み合わせて前記ダミー画素電極の前記周辺領域を覆うように配置されていることを特徴とする電気光学装置。
15. 一対の基板間に、電気光学材料および前記電気光学材料を囲むシール材が狭持されてなる電気光学装置において、
    一方の前記基板には、電気光学材料に電界を印加する電極が設けられ、
    他方の前記基板には、前記電極および前記シール材の間の周辺領域に対応した領域に第１遮光膜が設けられ、
    一方の前記基板には、前記電極の前記周辺領域に第２遮光膜が設けられ、
    前記第１遮光膜および前記第２遮光膜は、それらを組み合わせて前記電極の前記周辺領域を覆うように配置されていることを特徴とする電気光学装置。
16. 請求項１４または請求項１５に記載の電気光学装置において、
    前記第１遮光膜または前記第２遮光膜の少なくとも一部が前記シール材に重なっていることを特徴とする電気光学装置。