JP2002350123A - Method for supporting measurement, measuring system and measurement support program - Google Patents

Method for supporting measurement, measuring system and measurement support program

Info

Publication number
JP2002350123A
JP2002350123A JP2001154820A JP2001154820A JP2002350123A JP 2002350123 A JP2002350123 A JP 2002350123A JP 2001154820 A JP2001154820 A JP 2001154820A JP 2001154820 A JP2001154820 A JP 2001154820A JP 2002350123 A JP2002350123 A JP 2002350123A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
measurement
route
observation
path
measured
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001154820A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naoshi Haraguchi
直士 原口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP2001154820A priority Critical patent/JP2002350123A/en
Publication of JP2002350123A publication Critical patent/JP2002350123A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable even measurers having a low degree of skill to a measurement job to efficiently measure a work to be measured. SOLUTION: A measuring point A30 of the work to be measured which is measured immediately before is displayed on a monitor screen 16, and a next measuring point B31 is positioned on the upper right outside of the screen. At this time, guide information comprising a route 34 for guiding a movement of an observation position from a start point 32 of the route displayed corresponding to a position of the measuring point A30 to an end point 33 of the route displayed corresponding to a position of the measuring point B31, and the observation position 35 showing a position of an observation image being displayed on the monitor screen 16 is displayed within the monitor screen 16. The route 34 is determined on the basis of a measurement program indicating the position of each measuring point, a measurement condition, a measurement order and the like and of an avoid region set on the basis of a structure in a height direction of the work to be measured or the like.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、設計データ、また
は設計データに沿って製造されたワークであって該設計
データに適合している基準ワークを用いて作成される、
測定ポイントの指定や各測定ポイントでの測定に使用す
る検出ツールなどの指定である測定条件やその測定の手
順を表す測定プログラムに基づいて各測定ポイントの測
定を行ない、その測定結果を取得するようにして被測定
ワークの測定を行なう技術に関するものであり、例えば
金型やリードフレームのようなワークの寸法の測定、特
に微細な寸法の測定に好適に利用できる技術に関する。
The present invention relates to a design data or a work manufactured in accordance with the design data, the work being created using a reference work conforming to the design data.
Measure each measurement point based on the measurement program that indicates the measurement conditions and the measurement procedure, which is the specification of the measurement point and the detection tool used for measurement at each measurement point, and obtain the measurement results. The present invention relates to a technique for measuring a work to be measured, for example, a technique which can be suitably used for measuring a dimension of a workpiece such as a die or a lead frame, particularly for measuring a fine dimension.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】上述し
た手法で測定を行なうものとして、測定顕微鏡や工具顕
微鏡などの装置がある。これらの装置を使用して、ある
設計データから製造された複数の被測定ワークを測定す
る場合、以下の2段階の手順が一般に必要とされてい
る。 (1)ティーチング 設計データ、もしくは設計データを用いて製造されたワ
ークである基準ワークを利用して事前に設定された測定
ポイントの位置や照明方法など含んでいる測定条件、お
よび測定手順を表す測定プログラムを作成し、記憶させ
る。設計データを使ったティーチングをオフラインティ
ーチング、基準ワークを使ったティーチングを倣いティ
ーチングと呼ぶこともある。 (2)測定 被測定ワークを装置のステージ上に載置して(1)で作
成した測定プログラムの内容に従って被測定ワークを測
定する。
2. Description of the Related Art There are devices such as a measuring microscope and a tool microscope for performing measurement by the above-mentioned method. When using these devices to measure a plurality of workpieces manufactured from certain design data, the following two-step procedure is generally required. (1) Teaching Measurements that indicate measurement conditions and measurement procedures including measurement point positions and lighting methods that are set in advance using design data or a reference work that is a work manufactured using the design data. Create and store a program. Teaching using design data is sometimes called offline teaching, and teaching using reference workpieces is sometimes called imitative teaching. (2) Measurement The work to be measured is placed on the stage of the apparatus, and the work to be measured is measured according to the contents of the measurement program created in (1).

【0003】(2)において、測定者は手動操作により
被測定ワークを移動し、被測定ワークを顕微鏡の視野内
もしくはCCDカメラ等により撮像されたモニタ画像内
の測定ポイントまで導入する。しかし、測定顕微鏡はそ
の視野範囲が狭いため、被測定ワークにおけるある測定
ポイントを視野内に納めた状態では、その測定ポイント
の次の測定ポイントが顕微鏡の視野内もしくはモニタ画
像内から外れる場合がしばしば存在する。そのような場
合、測定者はステージの位置座標を示すカウンタ表示や
経験的な知識に基づいてステージを操作して被測定ワー
クを移動させ、次の測定ポイントを視野内もしくはモニ
タ画像内に導入しなければならない。
In (2), a measurer moves the work to be measured by manual operation, and introduces the work to a measurement point in the field of view of a microscope or a monitor image captured by a CCD camera or the like. However, since the measuring microscope has a narrow field of view, when a certain measuring point on the workpiece to be measured is within the field of view, the next measuring point after the measuring point is often out of the field of view of the microscope or the monitor image. Exists. In such a case, the measurer moves the workpiece by operating the stage based on empirical knowledge and a counter display indicating the position coordinates of the stage, and introduces the next measurement point into the field of view or the monitor image. There must be.

【0004】ここで、測定者が十分な熟練者であれば、
次の測定ポイントを導入するために必要なステージの操
作量をそのカウンタ表示から直感的に把握し、短時間で
測定ポイントを視野内もしくはモニタ画像内に導入する
ことが可能である。しかし、測定者が一般的な作業者で
あるときには、カウンタ表示と顕微鏡の視野またはモニ
タ画像との両方を注視しながら注意深くステージを操作
する必要がある。
Here, if the measurer is a sufficiently skilled person,
The operation amount of the stage required to introduce the next measurement point can be intuitively grasped from the counter display, and the measurement point can be introduced into the field of view or the monitor image in a short time. However, when the measurer is a general worker, it is necessary to carefully operate the stage while watching both the counter display and the field of view of the microscope or the monitor image.

【0005】このように、被測定ワークの測定作業の作
業効率は、測定者の測定作業に対する熟練度への依存率
が高いという問題があった。この問題に関し、幾つかの
提案がなされている。特開平9−257425号公報に
は、現在のステージ位置からみて次の測定ポイントがど
の方向に位置するかを、移動マークとしてモニタ画像上
に視覚的に表示する技術が開示されている。この移動マ
ークはモニタ画像上に表示されている現在位置を基点と
したときにおける次の測定ポイントの方向と距離とを示
すことができ、併せて次の測定ポイントまでの移動に要
する距離を表示することを可能としている。
[0005] As described above, there is a problem that the work efficiency of the measurement work of the work to be measured is highly dependent on the skill of the measurer in the measurement work. Several proposals have been made on this issue. Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-257425 discloses a technique for visually displaying, on a monitor image, a direction in which a next measurement point is located when viewed from a current stage position, as a movement mark. This movement mark can indicate the direction and distance of the next measurement point when the current position displayed on the monitor image is used as the base point, and also displays the distance required for movement to the next measurement point. It is possible.

【0006】また、特開平2000−9459号公報に
は、モニタ画面中央で交差する水平および垂直な直線
と、位置合わせ用垂直線および位置合わせ用水平線とが
それぞれ重なるようにステージを操作する技術が開示さ
れている。その際、モニタ画面中央で交差する水平およ
び垂直な直線の両端には移動指示用アイコンが表示さ
れ、ステージの移動操作の指示がモニタ画面上で行なえ
るように構成されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-9449 discloses a technique for operating a stage such that horizontal and vertical straight lines intersecting at the center of a monitor screen overlap a vertical line for positioning and a horizontal line for positioning. It has been disclosed. At this time, a moving instruction icon is displayed at both ends of the horizontal and vertical straight lines intersecting at the center of the monitor screen, so that an instruction of a stage moving operation can be given on the monitor screen.

【0007】これらの技術により、モニタ画面に表示さ
れている現在位置から次の測定ポイントまで到達するた
めに要するステージ操作の目安を測定者が視覚的に確認
できるようになった。しかしながら、測定顕微鏡や工具
顕微鏡が対象とする被測定ワークには、元来金型など高
さ方向に大きな構造を持つものもある。
With these techniques, the measurer can visually confirm the standard of the stage operation required to reach the next measurement point from the current position displayed on the monitor screen. However, some workpieces to be measured by the measuring microscope or the tool microscope have a large structure in the height direction, such as a mold.

【0008】高さ方向に大きな構造を持つ被測定ワーク
の測定では、ある測定ポイントから次の測定ポイントま
で直線的に移動しようにも、高さ方向の構造が邪魔にな
り迂回しなければならない場合がある。このようなとき
は、測定者は被測定ワークと対物レンズとが接触しない
ような経路を注意深く選択しながら次の測定ポイントへ
とステージを操作しなければならない。このことは、微
細な構造の測定と大きな構造の測定とが混在する測定顕
微鏡や工具顕微鏡では特に問題になる。
In the measurement of a workpiece to be measured having a large structure in the height direction, the structure in the height direction must be obstructed to move linearly from one measurement point to the next measurement point. There is. In such a case, the measurer must operate the stage to the next measurement point while carefully selecting a path so that the workpiece and the objective lens do not contact each other. This is a problem particularly in a measurement microscope or a tool microscope in which measurement of a fine structure and measurement of a large structure are mixed.

【0009】以上の問題を鑑み、本発明は、測定作業に
対する熟練度の低い測定者であっても被測定ワークの測
定を効率良く行なうことができるようにすることを課題
とする。
[0009] In view of the above problems, it is an object of the present invention to enable a measurer having a low level of skill in measuring work to efficiently measure a work to be measured.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の態様のひとつで
ある測定支援方法は、設計データ若しくは該設計データ
に適合した基準ワークを用いて作成された測定プログラ
ムであって各測定ポイントの位置、該各測定ポイントに
おける測定条件、及び該各測定ポイントの測定順が示さ
れている該測定プログラムに従い、該設計データに基づ
いて製造された被測定ワークの測定を行なうときに、前
記測定プログラムに示されている測定順に基づき、直前
に測定がされた測定ポイントの位置から次に測定が行な
われる測定ポイントの位置へ至るまで前記被測定ワーク
の観察位置を移動させる経路を決定し、前記観察位置を
前記決定された経路に沿って移動させるときに、前記経
路と移動中である該観察位置の該経路上における現在の
位置とを示すガイド情報を表示することによって前述し
た課題を解決する。
A measurement support method according to one aspect of the present invention is a measurement program created using design data or a reference work conforming to the design data, and includes: According to the measurement program in which the measurement conditions at each of the measurement points and the measurement order of each of the measurement points are shown, when measuring the workpiece to be measured based on the design data, the measurement program Based on the measurement order being determined, determine a path for moving the observation position of the workpiece to be measured from the position of the measurement point measured immediately before to the position of the measurement point where the next measurement is performed, and determine the observation position. When moving along the determined route, a guide indicating the route and the current position of the moving observation position on the route. To solve the aforementioned problems by displaying the information.

【0011】上記の方法によれば、測定者は、観察位置
の今後の移動経路が示されているガイド情報を参照する
ことによって、次の測定ポイントに観察位置を到達させ
るために必要な移動の方向や距離の概要をそのガイド情
報から把握できるので、測定作業に対する熟練度が低く
ても観察位置をスムーズに移動させる操作を行なえるよ
うになり、被測定ワークの測定作業を効率良く行なうこ
とが可能となる。
According to the above method, the measurer refers to the guide information indicating the future movement route of the observation position, and thereby determines the movement required to reach the next measurement point at the observation position. Since the outline of the direction and distance can be grasped from the guide information, the operation to move the observation position smoothly can be performed even if the level of skill in the measurement work is low, and the work of measuring the work to be measured can be performed efficiently. It becomes possible.

【0012】なお、上述した本発明に係る測定支援方法
において、予め用意されている経路決定の条件から、前
記経路の決定を行なうときに従う条件を選択し、前記選
択された条件の下で前記経路が決定されるようにしても
よい。ここで、経路決定の条件は、観察位置を移動させ
るための操作の条件、例えば許容される前記観察位置の
移動方向を示すものとするとよい。
In the above-described measurement support method according to the present invention, a condition to be determined when the route is determined is selected from the prepared route determination conditions, and the route is determined under the selected condition. May be determined. Here, the route determination condition may indicate an operation condition for moving the observation position, for example, an allowable moving direction of the observation position.

【0013】こうすることにより、例えば、熟練度の低
い測定者に対しては比較的簡単な操作のみで観察位置を
移動させることのできる経路の決定を行ない、熟練者に
は観察位置の移動のためには難度の高い操作を要する経
路の決定を行なうようにすることができるので、測定者
の熟練度に応じた経路の決定を行なえるようになる。
By doing so, for example, a path that can move the observation position with a relatively simple operation is determined for a less skilled operator, and a skilled person is required to determine the movement of the observation position. Therefore, it is possible to determine a route that requires a highly difficult operation, so that it is possible to determine a route according to the skill level of the measurer.

【0014】また、前述した本発明に係る測定支援方法
において、移動された前記観察位置において観察可能な
範囲内に前記次に測定が行なわれる測定ポイントの位置
が含まれるようになったときには、前記ガイド情報を非
表示とするようにしてもよい。
In the above-described measurement support method according to the present invention, when the position of the next measurement point to be measured is included in a range observable at the moved observation position, The guide information may be hidden.

【0015】こうすることにより、次の測定ポイントが
観察可能となってもはやガイド情報が不要になったとき
にはガイド情報が非表示となるので、例えば観察像とガ
イド情報とを同一のモニタ画面に重畳させて表示させる
ようなときに不必要なガイド情報が表示される煩わしさ
から解放される。
By doing so, when the next measurement point becomes observable and the guide information is no longer needed, the guide information is not displayed. For example, the observation image and the guide information are superimposed on the same monitor screen. This eliminates the hassle of displaying unnecessary guide information when displaying it.

【0016】また、前述した本発明に係る測定支援方法
において、移動中である前記観察位置を現在の位置から
前記次に測定が行なわれる測定ポイントの位置に至るま
で前記経路に沿って移動させるときの道のりの長さを更
に表示するようにしてもよい。
In the above-described measurement support method according to the present invention, when the moving observation position is moved along the path from a current position to a position of a measurement point where the next measurement is performed. May be further displayed.

【0017】ここで、道のりの長さは、例えば前記観察
位置を移動させるために要する操作の操作量を単位とし
て表されるようにしてもよい。こうすることにより、次
に測定を行なう測定ポイントの位置に到達するにはあと
どの程度観察位置を移動させることが必要であるかを測
定者が予め認識できるようになる。
Here, the length of the road may be expressed, for example, in terms of the amount of operation required to move the observation position. By doing so, the measurer can recognize in advance how much the observation position needs to be moved in order to reach the position of the measurement point where the next measurement is performed.

【0018】また、前述した本発明に係る測定支援方法
において、移動させる前記観察位置の侵入を禁止する回
避領域を設定し、前記経路の決定においては、前記回避
領域を回避する経路が選択されるようにしてもよい。こ
の構成によれば、金型などの高さ方向に大きな構造を有
する被測定ワークであっても、適切に観察位置を移動さ
せることが可能となる。
Further, in the above-described measurement support method according to the present invention, an avoidance area for inhibiting entry of the observation position to be moved is set, and in determining the path, a path that avoids the avoidance area is selected. You may do so. According to this configuration, it is possible to appropriately move the observation position even for a workpiece to be measured having a large structure in the height direction such as a mold.

【0019】また、本発明の他の態様のひとつである測
定システムは、被測定ワークの観察を行なう観察系と、
前記被測定ワークを前記観察系に対して相対的に移動さ
せることによって該観察系における該被測定ワークの観
察位置を変化させる観察位置制御手段と、前記観察位置
の位置検出を行なう観察位置検出手段と、前記観察系に
よって得られる前記観察位置の観察像を表示する観察像
表示手段と、前記被測定ワークにおける各測定ポイント
の位置、該各測定ポイントにおける測定条件、及び該各
測定ポイントの測定順が示されている測定プログラムで
示されている測定順に基づいて直前に測定がされた測定
ポイントの位置から次に測定を行なう測定ポイントの位
置へ至るまで前記観察位置を移動させる経路を決定する
経路決定手段と、前記決定された経路に沿って前記観察
位置を前記直前の測定ポイントの位置から前記次の測定
ポイントの位置へ移動させるときに、前記経路と移動中
である該観察位置の該経路上における現在の位置とを示
すガイド情報を表示するガイド情報表示手段と、を有す
るように構成することにより前述した本発明に係る測定
支援方法と同様の作用・効果が得られ、前述した課題を
解決する。
A measuring system according to another aspect of the present invention includes an observation system for observing a workpiece to be measured,
Observation position control means for changing the observation position of the work to be measured in the observation system by moving the work to be measured relative to the observation system, and observation position detection means for detecting the position of the observation position And observation image display means for displaying an observation image of the observation position obtained by the observation system, a position of each measurement point on the workpiece to be measured, a measurement condition at each measurement point, and a measurement order of each measurement point. A path for determining a path for moving the observation position from the position of the measurement point measured immediately before to the position of the measurement point to be measured next based on the measurement order shown in the measurement program shown Determining means for moving the observation position along the determined path from the position of the immediately preceding measurement point to the position of the next measurement point The present invention as described above, comprising: guide information display means for displaying guide information indicating the route and the current position of the moving observation position on the route when moving. The same operation and effect as those of the measurement support method can be obtained, and the above-described problem is solved.

【0020】なお、上述した本発明に係る測定支援方法
において行なわれる手順と同様の制御をコンピュータに
行なわせるための測定支援プログラムであっても、その
プログラムをコンピュータに実行させることによって前
述した課題を解決することができる。
Note that even with a measurement support program for causing a computer to perform the same control as the procedure performed in the above-described measurement support method according to the present invention, the above-described problem can be solved by causing the computer to execute the program. Can be solved.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図1は、手動操作でステージを移
動させるマニュアル測定顕微鏡を用いて被測定ワークの
測定を行なう画像測定システムの構成を示している。こ
こでは、本発明をこの画像測定システムで実施する場合
について説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows the configuration of an image measurement system that measures a work to be measured using a manual measurement microscope that moves a stage by manual operation. Here, a case where the present invention is implemented by this image measurement system will be described.

【0022】図1において、被測定ワーク5はY軸ステ
ージ1、X軸ステージ2、Y軸移動ハンドル3、X軸移
動ハンドル4からなる観察位置制御部上に載置されてい
る。測定者がX軸移動ハンドル4およびY軸移動ハンド
ル3を操作するとX軸ステージ2およびY軸ステージ1
が移動し、被測定ワーク5の観察位置が変更される。
In FIG. 1, a work 5 to be measured is placed on an observation position control section comprising a Y-axis stage 1, an X-axis stage 2, a Y-axis moving handle 3, and an X-axis moving handle 4. When the measurer operates the X-axis moving handle 4 and the Y-axis moving handle 3, the X-axis stage 2 and the Y-axis stage 1
Moves, and the observation position of the work 5 to be measured is changed.

【0023】この観察位置は2軸カウンタ10からなる
観察位置検出部により検出されて数値表示がされ、ま
た、この観察位置を示す情報がカウンタ値取り込みケー
ブル11を介して送られてコンピュータ本体12で取り
込めるように構成されている。また、被測定ワーク5の
上方には対物レンズ6及び顕微鏡本体7からなる観察系
があり、測定者は図示されていない照明系によって照明
された被測定ワーク5の観察位置の観察像(顕微鏡像)
を観察することが可能である。また、図示されていない
Z軸制御機構を用いて観察系の焦点面を被測定ワーク5
に対して高さ方向(Z軸方向)に相対的に移動させるこ
とで、被測定ワーク5の所望の高さに焦点を合わせた観
察像を得ることが可能であり、また、対物レンズ6を差
し替えることによって観察像を所望の倍率によるものに
変更することも可能である。
This observation position is detected by an observation position detection section comprising a two-axis counter 10 and displayed as a numerical value. Information indicating the observation position is sent via a counter value take-in cable 11 and transmitted to a computer main body 12. It is configured to capture. An observation system including an objective lens 6 and a microscope main body 7 is provided above the work 5 to be measured, and a measurer can observe an observation image (microscope image) of an observation position of the work 5 to be measured illuminated by an illumination system (not shown). )
It is possible to observe Further, the focal plane of the observation system is adjusted by using a Z-axis control mechanism (not shown).
Is relatively moved in the height direction (Z-axis direction) with respect to, it is possible to obtain an observation image focused on a desired height of the workpiece 5 to be measured. It is also possible to change the observation image to one with a desired magnification by replacement.

【0024】また、顕微鏡本体7で得られる観察像をC
CDカメラ8に撮像させて画像取り込みケーブル9を介
してコンピュータ本体12に送り、コンピュータ本体1
2に装備させている画像処理ボード13で取り込ませて
画像処理をさせることで観察像をモニタ15のモニタ画
面16に表示させることが可能である。
The observation image obtained by the microscope body 7 is
The image is taken by the CD camera 8 and sent to the computer main body 12 via the image capturing cable 9, and the computer main body 1
The observation image can be displayed on the monitor screen 16 of the monitor 15 by being taken in by the image processing board 13 mounted on the device 2 and subjected to image processing.

【0025】また、コンピュータ本体12に内蔵されて
いる記憶装置14には、後述するソフトウェアプログラ
ム24(図2参照)、設計データまたは該設計データを
用いて製造された基準ワークに基づいて予め作成され
た、被測定ワーク5を測定するための1つ以上の測定ポ
イントの位置が指示されている測定条件および測定手順
が表現されている図示しない測定プログラム25、被測
定ワークの移動経路を選択するための優先度が示されて
いる図示しない経路選択情報26が記憶されている。
The storage device 14 incorporated in the computer main body 12 is prepared in advance based on a software program 24 (see FIG. 2) described later, design data, or a reference work manufactured using the design data. In addition, a measurement program 25 (not shown) expressing a measurement condition and a measurement procedure in which the positions of one or more measurement points for measuring the work 5 to be measured are indicated, and for selecting a movement path of the work to be measured. (Not shown) indicating the priority of the information is stored.

【0026】次に、図1に示した画像測定システムの内
部構成を説明する。図2において、コンピュータ本体1
2はCPU20、記憶装置14、メモリ21を備えてい
る。また、画像処理ボード13が外部バス上に接続され
ており、CPU20によって制御される。2軸カウンタ
10からカウンタ値取り込みケーブル11を介して送ら
れてくる観察位置情報はCPU20で受信される。記憶
装置14には図示されていないソフトウェアプログラム
24、測定プログラム25、及び経路選択情報26が予
め記憶されており、これらは画像測定システムの起動時
にCPU20によって記憶装置14から読み出されてメ
モリ21上にそれぞれ格納される。
Next, the internal configuration of the image measurement system shown in FIG. 1 will be described. Referring to FIG.
2 includes a CPU 20, a storage device 14, and a memory 21. The image processing board 13 is connected to an external bus, and is controlled by the CPU 20. The observation position information transmitted from the two-axis counter 10 via the counter value capturing cable 11 is received by the CPU 20. The storage device 14 stores in advance a software program 24, a measurement program 25, and path selection information 26 (not shown). These are read out from the storage device 14 by the CPU 20 when the image measurement system is started, and are stored in the memory 21. Are stored respectively.

【0027】この図2に示す構成において、観察像表示
部を構成する画像処理ボード13では、CCDカメラ8
から画像取り込みケーブル9を介して送られてくる観察
像をAD変換部22が多値画像データに変換し、画像メ
モリ23に逐次書き込んでいる。画像メモリ23に書き
込まれた画像データは、その後読み出されて図示されて
いないモニタケーブルを介してモニタ15へと送られ、
その画像データに基づく観察象がモニタ画面16に表示
される。CPU20は、この画像メモリ23における多
値画像データの格納領域にエッジや直線、線幅などの測
定項目を指定するための各種測定ツールを示す表示デー
タや後述するガイド情報の表示データを書き込むことに
よって、多値画像データで表現される観察像にこれらの
各種測定ツールやガイド情報の表示を重畳合成すること
が可能である。このようにして画像メモリ23にガイド
情報の表示データを書き込んだときにおけるモニタ画面
16での表示の例を図3に示す。
In the configuration shown in FIG. 2, an image processing board 13 constituting an observation image display section includes a CCD camera 8
The A / D converter 22 converts the observation image sent through the image taking cable 9 into multi-valued image data, and writes the data in the image memory 23 sequentially. The image data written in the image memory 23 is thereafter read out and sent to the monitor 15 via a monitor cable (not shown).
An observation image based on the image data is displayed on the monitor screen 16. The CPU 20 writes display data indicating various measurement tools for specifying measurement items such as edges, straight lines, and line widths and display data of guide information described later in the storage area of the multi-valued image data in the image memory 23. In addition, it is possible to superimpose and display the display of these various measurement tools and guide information on the observation image represented by the multi-valued image data. FIG. 3 shows an example of a display on the monitor screen 16 when the display data of the guide information is written in the image memory 23 in this manner.

【0028】図3は、被測定ワーク5を測定プログラム
25に従って測定を行なっている最中にモニタ画面16
に表示される画面である。モニタ画面16には、直前に
測定した測定ポイントA30が表示されている。また、
モニタ画面16の右上方の画面外には、測定ポイントA
30の次の測定ポイントB31が位置しており、観察位
置を同図において情報に僅かに移動することで、後述す
る図4に示されているように測定ポイントA30および
測定ポイントB31の両方をモニタ画面16内で同時に
表示させることが可能である。また、図3に示すモニタ
画面16内の右下部にはガイド情報が表示されている。
このガイド情報は、直前の測定ポイントA30の位置に
対応して表示されている経路の始点32、測定ポイント
A30に続く次の測定ポイントB31の位置に対応して
表示されている経路の終点33、始点32から終点33
までの観察位置の移動を誘導する経路34、モニタ画面
16に現在表示されている観察像の位置を示す観察位置
35からなる表示である。
FIG. 3 shows a monitor screen 16 during the measurement of the workpiece 5 according to the measurement program 25.
This is the screen displayed on the screen. On the monitor screen 16, a measurement point A30 measured immediately before is displayed. Also,
The measurement point A is displayed outside the upper right screen of the monitor screen 16.
30 is located next to the measurement point B31, and the observation position is slightly moved to the information in the same figure to monitor both the measurement point A30 and the measurement point B31 as shown in FIG. It is possible to display them simultaneously on the screen 16. Further, guide information is displayed in the lower right part of the monitor screen 16 shown in FIG.
The guide information includes a start point 32 of the path displayed corresponding to the position of the immediately preceding measurement point A30, an end point 33 of the path displayed corresponding to the position of the next measurement point B31 following the measurement point A30, Start point 32 to end point 33
This is a display including a path 34 for guiding the movement of the observation position up to and an observation position 35 indicating the position of the observation image currently displayed on the monitor screen 16.

【0029】また、特に図示はされていないが、ガイド
情報として、次の測定ポイントまでの経路だけでなく測
定プログラム25によって指示されている最後までの各
測定ポイントへの経路を併せて表示するようにしてもよ
く、この表示を行なうようにすると測定者が移動経路の
全容を把握するのに便利である。
Although not specifically shown, as guide information, not only the path to the next measurement point but also the path to each measurement point up to the end specified by the measurement program 25 is displayed together. Alternatively, this display is convenient for the measurer to grasp the entire movement route.

【0030】また、このガイド情報には、観察位置35
から経路34上の唯一の頂点37まで観察位置を誘導す
るために必要とするステージ操作量、及び頂点37から
終点33まで観察位置を誘導するために必要とするステ
ージ操作量が、X軸移動ハンドル4およびY軸移動ハン
ドル3の回転量を表示単位として用いたハンドル操作量
表示36として、それぞれ経路34の近傍に表示され
る。ここで、ハンドル操作量表示36は経路34上の頂
点の数プラス1、つまり経路の始点32、全ての頂点、
経路の終点33を経路に沿って結ぶことでできる線分の
数だけ、同時に表示される。図3では頂点が頂点37の
1つだけであることから、ハンドル操作量表示36が2
つだけ表示されている。また、このような線分のうちの
観察位置35が重ねて表示されているものについての
み、ハンドル操作量表示36を表示するようにするよう
にしてもよい。この場合、ハンドル操作量の表示は測定
者の注意を引きやすいように、唯一のハンドル操作量表
示部38として大きな文字と色で表示するとよい。
The guide information includes an observation position 35.
The amount of stage operation required to guide the observation position from the vertex 37 to the only vertex 37 on the path 34 and the amount of stage operation required to guide the observation position from the vertex 37 to the end point 33 are the X-axis movement handles. 4 and a handle operation amount display 36 using the rotation amount of the Y-axis moving handle 3 as a display unit is displayed near the route 34. Here, the handle operation amount display 36 is the number of vertices on the route 34 plus 1, that is, the starting point 32 of the route, all vertices,
The number of lines formed by connecting the end point 33 of the route along the route is displayed simultaneously. In FIG. 3, since the vertex is only one of the vertices 37, the handle operation amount display 36 is set to 2
Only one is displayed. Further, the steering wheel operation amount display 36 may be displayed only for the line segment in which the observation position 35 is displayed in an overlapping manner. In this case, the display of the handle operation amount may be displayed in large characters and colors as the sole handle operation amount display section 38 so that the measurer's attention is easily drawn.

【0031】なお、ハンドル操作量表示36の表示単位
は必ずしもX軸およびY軸移動ハンドル(図1の4及び
3)の回転量である必要はない。例えば、予め決められ
た幾つかの方向にのみ観察位置を移動させることができ
るジョイスティックを採用して観察位置制御部が構成さ
れているのであれば、測定者がその観察位置制御部を使
ってある方向に観察位置を移動させる際の平均速度を予
め取得しておき、この平均速度に基づいて予測される次
の頂点(若しくは終点33)への到達までの残り時間を
表示するようにしてもよい。
The display unit of the handle operation amount display 36 does not necessarily need to be the rotation amount of the X-axis and Y-axis moving handles (4 and 3 in FIG. 1). For example, if the observation position control unit is configured using a joystick that can move the observation position only in some predetermined directions, the measurer uses the observation position control unit. An average speed when the observation position is moved in the direction may be acquired in advance, and the remaining time until reaching the next vertex (or the end point 33) predicted based on the average speed may be displayed. .

【0032】また、図4のように、直前に測定された測
定ポイントA30と次に測定が指示されている測定ポイ
ントB31とがモニタ画面16上に同時に表示されてい
る場合には、ガイド情報を非表示にするようにすること
も可能である。これは、例えば次の測定で使用される測
定ツールがモニタ画面16上の任意の位置で測定可能な
ものを用いるときには、次の測定ポイントB31が既に
モニタ画面16上に表示されていれば観察位置の移動は
不要であるためである。しかし、モニタ画面16の隅の
部分では、観察系に含まれる光学系の収差などの影響に
より測定精度が低下してしまうことが多いので、モニタ
画面16上に、所望の測定精度が期待できる測定精度期
待領域39を予め指定しておくようにし、次の測定ポイ
ントが測定精度期待領域39に入った段階でガイド表示
を非表示にするようにガイド表示を制御することも可能
である。
As shown in FIG. 4, when the measurement point A30 measured immediately before and the measurement point B31 to which measurement is next instructed are simultaneously displayed on the monitor screen 16, the guide information is displayed. It is also possible to hide it. For example, when a measurement tool used in the next measurement uses a tool that can be measured at an arbitrary position on the monitor screen 16, if the next measurement point B 31 is already displayed on the monitor screen 16, the observation position Is unnecessary. However, at the corners of the monitor screen 16, the measurement accuracy often deteriorates due to the influence of the aberration of the optical system included in the observation system. It is also possible to control the guide display so that the expected accuracy area 39 is specified in advance, and the guide display is hidden when the next measurement point enters the expected measurement accuracy area 39.

【0033】次に、観察位置の移動を誘導する経路の決
定の手法について図5を参照しながら説明する。図5
(a)は、経路計算方法の条件設定を行なう画面例であ
る。図5(a)に示す画面では、経路計算方法として、
初級者モードと上級者モードの2種顆が選択可能であ
る。ここで、初級者モードとは、図5(b)のようにX
軸の正負の方向およびY軸の正負の方向にのみ観察位置
を移動可能なモードである。つまり、X軸移動ハンドル
4とY軸移動ハンドル3との同時操作が要求される斜め
方向の移動を禁止することで、計算された経路に沿って
観察位置を移動させる操作が初心者でも容易に行なえ
る。一方、上級者モードとは、図5(c)のように、初
級者モードにおける4方向の移動方向に加えて新たに斜
めに移動する4方向を加えたものであり、初級者モード
により決定されるよりも次の測定ポイントまでの移動距
離が短くなることが期待できる。ここで選択された経路
計算方法は、図2のメモリ21に経路選択情報26とし
て記憶され、経路計算の実行時に参照される。
Next, a method of determining a route for guiding the movement of the observation position will be described with reference to FIG. FIG.
(A) is an example of a screen for setting conditions for a route calculation method. On the screen shown in FIG. 5A, as the route calculation method,
Two types of condyles, a beginner mode and an advanced mode, can be selected. Here, the beginner mode is X mode as shown in FIG.
In this mode, the observation position can be moved only in the positive and negative directions of the axis and in the positive and negative directions of the Y axis. In other words, by prohibiting the oblique movement that requires simultaneous operation of the X-axis moving handle 4 and the Y-axis moving handle 3, even a beginner can easily perform the operation of moving the observation position along the calculated route. You. On the other hand, in the advanced mode, as shown in FIG. 5C, in addition to the four directions of movement in the beginner mode, four directions of newly oblique movement are added, and the advanced mode is determined by the beginner mode. It can be expected that the moving distance to the next measurement point will be shorter than the moving distance. The route calculation method selected here is stored in the memory 21 of FIG. 2 as the route selection information 26, and is referred to when executing the route calculation.

【0034】また、図5(a)には経路計算方法の設定
の右側に「優先経路の設定」ボタンが設けられている。
初級者モードでの優先経路の説明を図5(d)に示し
た。図5(d)の例に示すように、測定ポイントA30
が座標系の原点にあり、次の測定ポイントB31が第一
象限に位置している場合、前述した初級者モードにおい
て取り得る最短経路には経路1と経路2との2種類があ
る。この2種類の経路のうちどちらを選択するかは、最
初に移動する方向をY軸の正方向にするかX軸の正方向
にするかは測定者が予め設定しておくことによって決定
される。この優先度の設定は第一象限に限ったことでな
く、全ての象限について、つまり4方向の移動方向につ
いて設定するようにする。この移動方向の優先度の設定
は、例えば観察位置制御部の設定によってハンドルの回
転量に対する移動量がX軸方向とY軸方向とで異なる設
定を行なっているときの操作性や、好みなどを考慮して
測定者により設定される。
In FIG. 5A, a "priority route setting" button is provided on the right side of the setting of the route calculation method.
An explanation of the priority route in the beginner mode is shown in FIG. As shown in the example of FIG.
Is at the origin of the coordinate system and the next measurement point B31 is located in the first quadrant, there are two types of shortest paths that can be taken in the above-mentioned beginner mode, path 1 and path 2. Which one of the two types of routes is selected is determined by the measurer presetting whether the first moving direction is the positive direction of the Y axis or the positive direction of the X axis. . The setting of the priority is not limited to the first quadrant, but is set for all the quadrants, that is, for the four moving directions. The setting of the priority of the moving direction may be performed, for example, in terms of operability or preference when the moving amount with respect to the rotation amount of the steering wheel is set differently in the X-axis direction and the Y-axis direction by the setting of the observation position control unit. It is set by the measurer taking into account.

【0035】本実施例では、経路計算において、以下の
優先度に従って経路の決定がなされる。 道のりが短い経路 > 経路上の頂点の数が少ない経路 > 優先経路の設定で設定された優先度の高い方向への移動距離が長い経路 > 優先経路の設定で設定された優先度の高い方向へ先に移動する経路 図5(d)の場合では、経路1と経路2とは道のりの長
さは同一であり、経路上の頂点の数も共に1個で同一で
あり、X軸方向及びY軸方向の移動距離も同一であるの
で、経路1と経路2とのうち、優先経路の設定で設定さ
れた優先度の高い方向に先に移動するものが選択され
る。
In this embodiment, the route is determined in the route calculation according to the following priorities. Short-path route> A route with a small number of vertices on the route> A route with a long moving distance in the direction of higher priority set in the setting of the priority route> In a direction of higher priority set in the setting of the priority route In the case of FIG. 5D, the path lengths of the path 1 and the path 2 are the same, and the number of vertices on the path is also one and the same. Since the movement distances in the axial direction are also the same, one of the route 1 and the route 2 that moves first in the direction of higher priority set in the setting of the priority route is selected.

【0036】また、図5(a)に示す画面では、回避領
域を使用する指示を行なうチェックボックスが設けられ
ている。また、回避領域として静的なものと動的なもの
とのいずかを択一的に選択できるようになっている。回
避領域について説明する。
On the screen shown in FIG. 5A, there is provided a check box for giving an instruction to use the avoidance area. In addition, a static or dynamic avoidance area can be selected. The avoidance area will be described.

【0037】ここでいう回避領域とは、被測定ワーク5
の観察像を得る際に、被測定ワーク5と観察系とが物理
的に衝突する危険性の高い領域のことである。例えば、
図5(e)に示したように、ある高さの平面Aと、平面
Aよりも高さが高い平面Bをもつ被測定ワーク5があ
り、ある倍率で平面A上の測定対象を測定するために選
択される対物レンズ6の高さでは対物レンズ6と平面B
と接触してしまうような場合に、この接触を回避するた
め図5(e)に一点鎖線で示したような回避領域を設定
する。回避領域が設定されると、経路計算の実行時にこ
の回避領域を含む経路が自動的に候補から除外される。
The avoidance area referred to here is the work 5 to be measured.
Is a region where there is a high risk that the workpiece 5 and the observation system physically collide when obtaining the observation image of For example,
As shown in FIG. 5E, there is a work 5 to be measured having a plane A having a certain height and a plane B having a height higher than the plane A, and measures an object to be measured on the plane A at a certain magnification. At the height of the objective lens 6 selected for
In such a case, an avoidance area is set as shown by a dashed line in FIG. 5E to avoid this contact. When the avoidance area is set, the route including the avoidance area is automatically excluded from the candidates when executing the route calculation.

【0038】例えば、図5(e)に示されている回避領
域の設定をそのまま適用し、図2のメモリ21に記憶さ
れた測定プログラム25から測定ポイントA30及び測
定ポイントB31を読み出して測定ポイントA30から
測定ポイントB31までの経路を初級者モードの移動条
件下で決定する場合を考える。この場合、図6に示した
ように最短経路として経路1と経路2の2つの経路がま
ず求められる。しかし、図6における経路2は回避領域
に侵入しているため候補から除外され、経路1が選択さ
れる。
For example, the setting of the avoidance area shown in FIG. 5E is applied as it is, and the measurement points A30 and B31 are read from the measurement program 25 stored in the memory 21 of FIG. It is assumed that the route from to the measurement point B31 is determined under the moving condition of the beginner mode. In this case, as shown in FIG. 6, two routes of route 1 and route 2 are first obtained as the shortest route. However, since the route 2 in FIG. 6 has entered the avoidance area, it is excluded from the candidates, and the route 1 is selected.

【0039】回避領域を考慮する場合の経路計算におい
ては、以下の優先度に従って経路の決定がなされる。 回避領域に侵入しない経路 > 道のりが短い経路 > 経路上の頂点の数が少ない経路 > 優先経路の設定で設定された優先度の高い方向への移動距離が長い経路 > 優先経路の設定で設定された優先度の高い方向へ先に移動する経路 上記した優先度で実際に経路を求める例として、図6の
測定ポイント及び回避領域の設定を上級者モードに置き
換えた図7を例に説明する。
In the route calculation in consideration of the avoidance area, the route is determined according to the following priorities. A route that does not enter the avoidance area> A route with a short route> A route with a small number of vertices on the route> A route with a long moving distance in the direction of higher priority set in the priority route setting> A setting in the priority route setting As an example of actually obtaining a route with the above-described priority, a description will be given of FIG. 7 in which the setting of the measurement point and the avoidance area in FIG. 6 is replaced with the advanced mode.

【0040】先ず、初級者モードと同様に最短経路が求
められる。すると、経路1と経路2が候補として求ま
る。しかし、図7(a)に示すように、これはどちらも
回避領域に侵入してしまうため、優先度の最高位を満た
していないと判断され、候補外となる。
First, the shortest path is obtained as in the beginner mode. Then, the route 1 and the route 2 are obtained as candidates. However, as shown in FIG. 7A, both of them enter the avoidance area, so that it is determined that they do not satisfy the highest priority, and are not candidates.

【0041】次に、回避領域に侵入しない経路を求める
ために、経路1と交わった回避領域境界線(図7(a)
の一点鎖線)の線分の端点、及び経路2が横切った回避
領域の境界線の線分においての端点とを求める。この場
合においては、経路1及び経路2のどちらに係る端点も
端点1および端点2となる。
Next, in order to find a route that does not enter the avoidance area, the avoidance area boundary line intersecting with the route 1 (FIG. 7A)
End point of the line segment of the dashed-dotted line) and the end point of the line segment of the boundary line of the avoidance area crossed by the path 2. In this case, the end points related to both the route 1 and the route 2 are the end points 1 and 2.

【0042】ここで、測定ポイントA30と測定ポイン
トB31との間に中継点として端点1若しくは端点2を
経由する最短の経路を全て求める。ここで、端点1を経
由する経路では端点1から測定ポイントB31までの最
短経路が回避領域に侵入してしまうため、再度候補外と
なる。この場合は、先ほどと同じように経路と交わった
回避領域の1点鎖線の線分における端点を求める。この
とき求まる端点は端点1、端点2、端点3であるが、す
でに通過点になっている端点1と端点1の対になってい
る端点2は除外され、端点3のみとなる。よって、中継
点として端点3を新たに登録し、今度は端点3と測定ポ
イントB31とを結ぶ最短経路を求める。ここでも最短
経路が回避領域に侵入してしまうため、今までと同様に
端点4を新たに中継点として登録する。端点4から測定
ポイントB31までの最短経路は回避領域に侵入しない
ため、有効な経路3が求まる。
Here, all the shortest paths passing through the end point 1 or the end point 2 as the relay points between the measurement points A30 and B31 are obtained. Here, on the route passing through the end point 1, the shortest route from the end point 1 to the measurement point B31 enters the avoidance area, and is therefore again excluded from the candidate. In this case, the end point of the dash-dot line segment of the avoidance area intersecting with the route is obtained in the same manner as described above. The end points obtained at this time are the end point 1, the end point 2, and the end point 3. However, the end point 2 which is a pair of the end point 1 and the end point 1 which are already passing points is excluded, and only the end point 3 is obtained. Therefore, endpoint 3 is newly registered as a relay point, and the shortest path connecting endpoint 3 and measurement point B31 is obtained. Here also, since the shortest route enters the avoidance area, the end point 4 is newly registered as a relay point as in the past. Since the shortest path from the end point 4 to the measurement point B31 does not enter the avoidance area, an effective path 3 is obtained.

【0043】一方、端点2を中継点とした場合、端点2
から測定ポイントB31までの最短経路は回避領域に侵
入しないので、有効な経路が求められる。この経路の代
表的な例として、経路4と経路5との2つの経路があ
る。以上のようにして得られた有効な経路である経路
3、経路4、経路5を示したものが図7(b)である。
On the other hand, when the end point 2 is a relay point,
Since the shortest route from to the measurement point B31 does not enter the avoidance area, an effective route is required. Representative examples of this route include two routes, route 4 and route 5. FIG. 7B shows the routes 3, 4, and 5 which are the effective routes obtained as described above.

【0044】これらの3つの経路はいずれも回避領域に
は侵入しないが、経路4と経路5は道のりが等しく、経
路3はこの両者よりも道のりが長い。また、経路4は頂
点の数が3であるのに対し経路5は2である。以上の特
徴を前述した優先度に当てはめれば 経路5 >経路4 >経路3 となり、経路5が選択されることになる。
Although none of these three routes enters the avoidance area, routes 4 and 5 have equal distances, and route 3 has a longer distance than both. The route 4 has three vertices while the route 5 has two. If the above features are applied to the above-described priorities, path 5> path 4> path 3, and path 5 is selected.

【0045】以上のようにして、図2のメモリ21に記
憶された測定プログラム25から読み込んだ2つの測定
ポイント間についての回避領域を回避した上での経路
が、経路選択情報26に従って求められる。以上のよう
にして観察位置の移動を誘導するための経路を決定させ
る処理をCPU20に行なわせるソフトウェアプログラ
ム24について説明する。
As described above, the route avoiding the avoidance area between the two measurement points read from the measurement program 25 stored in the memory 21 of FIG. 2 is obtained according to the route selection information 26. The software program 24 that causes the CPU 20 to perform the process of determining the route for guiding the movement of the observation position as described above will be described.

【0046】図8はCPU20によって行なわれる経路
決定処理の第一の例の処理内容を示すフローチャートで
ある。この処理は、回避領域が設定されていないときの
経路決定を行なうためのものであり、CPU20がメモ
リ21からソフトウェアプログラム24を読み出して実
行することによって行なわれる。
FIG. 8 is a flowchart showing the contents of a first example of the route determination process performed by the CPU 20. This process is for determining a route when the avoidance area is not set, and is performed by the CPU 20 reading out the software program 24 from the memory 21 and executing it.

【0047】まずS101において、図5(a)に示す
画面に沿って設定された経路決定のための条件設定の内
容である、モード設定の選択及び優先経路の設定内容が
取得される。S102では、測定プログラム25がメモ
リ21から読み出されて直前に測定が行なわれた測定ポ
イントA30の位置とこの次に測定を行なう測定ポイン
トB31の位置とが取得され、測定ポイントA30から
測定ポイントB31に至る最短の経路が求められる。こ
の結果得られた経路は変数A(i)(i=1、2、…)
にひとつずつ格納される。
First, in S101, the selection of mode setting and the setting contents of the priority route, which are the contents of the condition setting for route determination set along the screen shown in FIG. 5A, are acquired. In S102, the measurement program 25 is read from the memory 21, and the position of the measurement point A30 at which the measurement was performed immediately before and the position of the measurement point B31 to be measured next are acquired, and the measurement point B31 is obtained from the measurement point A30. The shortest route to is required. The resulting path is a variable A (i) (i = 1, 2,...)
Are stored one by one.

【0048】ここで、前ステップで取得された経路A
(i)が唯一つであったか否かがS103において判定
され、この判定結果がYesならばS104においてこ
の唯一つの経路A(i)が変数Rに代入され、その後は
処理がS112に進む。一方、S103の判定結果がN
oならばS105に処理が進む。
Here, the route A obtained in the previous step
It is determined in S103 whether or not (i) is unique. If the determination result is Yes, this unique route A (i) is substituted for the variable R in S104, and then the process proceeds to S112. On the other hand, when the determination result of S103 is N
If it is o, the process proceeds to S105.

【0049】S105では、複数の経路A(i)のう
ち、その経路が経由する頂点の数が最小のものが選択さ
れ、選択された経路が変数B(j)(j=1、2、…)
にひとつずつ格納される。ここで、前ステップで取得さ
れた経路B(j)が唯一つであったか否かがS106に
おいて判定され、この判定結果がYesならばS107
においてこの唯一つの経路B(j)が変数Rに代入さ
れ、その後は処理がS112に進む。一方、S106の
判定結果がNoならばS108に処理が進む。
In S105, a route having the minimum number of vertices through which the route passes is selected from the plurality of routes A (i), and the selected route is defined as a variable B (j) (j = 1, 2,...). )
Are stored one by one. Here, it is determined in S106 whether or not there is only one route B (j) obtained in the previous step, and if the determination result is Yes, S107.
, This single path B (j) is substituted for the variable R, and the process then proceeds to S112. On the other hand, if the decision result in S106 is No, the process proceeds to S108.

【0050】S108では、S101の処理によって取
得していた優先経路の設定内容に基づき、複数の経路B
(j)のうち、優先度が高く設定されている方向への移
動距離が最長の経路が選択され、選択された経路が変数
C(k)(k=1、2、…)にひとつずつ格納される。
In S108, a plurality of routes B are set based on the setting contents of the priority route obtained in the process of S101.
Of (j), the route having the longest moving distance in the direction set with a higher priority is selected, and the selected routes are stored one by one in variables C (k) (k = 1, 2,...). Is done.

【0051】ここで、前ステップで取得された経路C
(k)が唯一つであったか否かがS109において判定
され、この判定結果がYesならばS110においてこ
の唯一つの経路C(k)が変数Rに代入され、その後は
処理がS112に進む。一方、S106の判定結果がN
oならばS111に処理が進む。
Here, the route C obtained in the previous step
It is determined in S109 whether or not (k) is unique. If the determination result is Yes, this unique route C (k) is substituted for the variable R in S110, and then the process proceeds to S112. On the other hand, when the determination result of S106 is N
If it is o, the process proceeds to S111.

【0052】S111では、S101の処理によって取
得していた優先経路の設定内容に基づき、複数の経路C
(k)のうち、優先度がより高く設定されている方向へ
先に移動する経路が唯一つ選択され、選択された経路が
変数Rに代入される。S112では、変数Rに代入され
ている経路を表現する表示データが画像メモリ23に書
き込まれ、モニタ15のモニタ画面16に決定された経
路として表示される。その後、この経路決定処理が終了
する。
In S111, a plurality of routes C are set based on the setting contents of the priority route obtained in the process of S101.
In (k), only one route that moves first in the direction of higher priority is selected, and the selected route is substituted for the variable R. In S112, display data representing the route substituted for the variable R is written to the image memory 23 and displayed on the monitor screen 16 of the monitor 15 as the determined route. Then, the route determination processing ends.

【0053】次に図9について説明する。同図はCPU
20によって行なわれる経路決定処理の第二の例の処理
内容を示すフローチャートである。この処理は回避領域
が設定されているときの経路決定を行なうためのもので
あり、この処理もCPU20がメモリ21からソフトウ
ェアプログラム24を読み出して実行することによって
行なわれる。
Next, FIG. 9 will be described. The figure shows a CPU
20 is a flowchart showing the processing contents of a second example of the path determination processing performed by the CPU 20; This process is for determining a route when the avoidance area is set, and this process is also performed by the CPU 20 reading out the software program 24 from the memory 21 and executing it.

【0054】まず、S201において、図8のS101
と同様に、図5(a)に示す画面に沿って設定された経
路決定のための条件設定の内容である、モード設定の選
択及び優先経路の設定内容が取得される。S202では
回避領域の範囲の定義情報が取得される。この回避領域
についての情報の取得法については後述する。
First, in S201, S101 of FIG.
Similarly to the above, the selection of the mode setting and the setting contents of the priority route, which are the contents of the condition setting for the route determination set along the screen shown in FIG. In S202, the definition information of the range of the avoidance area is obtained. A method for acquiring the information on the avoidance area will be described later.

【0055】S203では、測定プログラム25がメモ
リ21から読み出されて直前に測定が行なわれた測定ポ
イントA30の位置とこの次に測定を行なう測定ポイン
トB31の位置とが取得され、測定ポイントA30から
測定ポイントB31に至る最短の経路が求められる。こ
の結果得られた経路は変数D(l)(l=1、2、…)
にひとつずつ格納される。
In S203, the measurement program 25 is read from the memory 21, and the position of the measurement point A30 at which the measurement was performed immediately before and the position of the measurement point B31 at which the measurement is performed next are obtained. The shortest path to the measurement point B31 is obtained. The resulting path is a variable D (l) (l = 1, 2,...)
Are stored one by one.

【0056】ここで、前ステップで取得された経路D
(l)のうち、回避領域に侵入しない経路が存在するか
否かがS204において判定される。この判定結果がY
esならばS205において経路D(l)のうちの回避
領域に侵入しないものが変数A(i)(i=1、2、
…)に代入される。このS205の処理を終えた後に
は、処理が図8のS103へと進み、その後は前述した
経路決定処理の第一の例と同様の処理がCPU20によ
って行なわれる。一方、S204の判定処理の結果がN
oならばS206に処理が進む。
Here, the route D obtained in the previous step
In (1), it is determined in S204 whether there is a route that does not enter the avoidance area. This determination result is Y
If es, the route A (i) (i = 1, 2,
…). After the process of S205 is completed, the process proceeds to S103 of FIG. 8, and thereafter, the same process as the first example of the above-described route determination process is performed by the CPU 20. On the other hand, if the result of the determination process in S204 is N
If it is o, the process proceeds to S206.

【0057】S206では、回避領域の境界を示す線分
のうち、経路D(l)が最初に横切る線分の端点が全て
のD(l)について検出され、検出された端点が変数P
(q)(q=1、2、…)に代入される。S207で
は、端点P(q)を経由して測定ポイントA30から測
定ポイントB31に至る最短の経路が求められる。この
結果得られた経路は変数E(m)(m=1、2、…)に
ひとつずつ追加保存される。
In S206, among the line segments indicating the boundaries of the avoidance area, the end points of the line segment that the path D (l) crosses first are detected for all D (l), and the detected end points are set to the variable P.
(Q) (q = 1, 2,...). In S207, the shortest path from the measurement point A30 to the measurement point B31 via the end point P (q) is obtained. The paths obtained as a result are additionally stored one by one in a variable E (m) (m = 1, 2,...).

【0058】ここで、経路が保存されている全てのE
(m)が回避領域に侵入しないものであるか否かがS2
08において判定される。この判定結果がYesならば
S209において回避領域に侵入しない経路E(m)が
変数A(i)に代入される。このS209の処理を終え
た後には、処理が図8のS103へと進み、その後は前
述した経路決定処理の第一の例と同様の処理がCPU2
0によって行なわれる。一方、S208の判定処理の結
果がNoならばS210に処理が進む。
Here, all the Es for which the route is stored
Whether or not (m) does not enter the avoidance area is determined in S2.
08. If the result of this determination is Yes, the route E (m) that does not enter the avoidance area is assigned to the variable A (i) in S209. After finishing the process of S209, the process proceeds to S103 of FIG. 8, and thereafter, the same process as the first example of the above-described route determination process is performed by the CPU 2.
Performed by 0. On the other hand, if the result of the determination process in S208 is No, the process proceeds to S210.

【0059】S210では、経路E(m)のうちの回避
領域に侵入してしまうものが経由する端点P(q)が変
数Ph(r)(r=1、2、…)にひとつずつ追加保存
される。S211では、Ph(r)を除く端点であっ
て、回避領域の境界を示す線分のうち経路E(m)が最
初に横切る線分の端点が、回避領域に侵入するE(m)
について検出され、検出された端点が改めて変数P
(q)に代入される。そして、この処理を終えた後には
S207へ処理が戻り、上述した処理が繰り返される。
In S210, the end points P (q) through which the route E (m) that invades the avoidance area are additionally stored in the variables Ph (r) (r = 1, 2,...) One by one. Is done. In S211, the end point excluding Ph (r) and the end point of the line segment that crosses the path E (m) first among the line segments indicating the boundary of the avoidance area enters the avoidance area E (m).
Is detected, and the detected end point is newly set in the variable P
(Q). Then, after completing this process, the process returns to S207, and the above-described process is repeated.

【0060】以上までの処理が経路決定処理の第二の例
である。次に、図1に示す画像測定システムへ回避領域
の範囲に関する情報を与える手法について説明する。図
5(a)に示す画面例には、回避領域を示す情報が格納
されているファイル(回避領域ファイル)を記憶装置1
4から読み込ませる指示を与えるために操作される「フ
ァイルの読み込み」ボタンと、回避領域を示す情報を測
定時に新規に登録する要求を与えるために操作される
「新規登録」ボタンとが設けられている。このように、
回避領域ファイルは、測定プログラムの作成時に併せて
用意しておくようにすることも、また、被測定ワークを
測定する直前に新規に登録するようにすることも可能で
ある。
The above processing is the second example of the path determination processing. Next, a method of giving information about the range of the avoidance area to the image measurement system shown in FIG. 1 will be described. In the example of the screen shown in FIG. 5A, a file (avoidance area file) storing information indicating the avoidance area is stored in the storage device 1.
And a "new registration" button operated to give a request to newly register the information indicating the avoidance area at the time of measurement. I have. in this way,
The avoidance area file can be prepared together with the creation of the measurement program, or can be newly registered immediately before measuring the work to be measured.

【0061】ここで図10について説明する。同図は回
避領域を新規に登録するときの登録の手法を説明する図
である。この手法は、図1に示した画像測定システムで
被測定ワークを観察しながら回避領域を登録するという
ものである。この登録の手順の概要を図10(b)に示
す状態遷移図を参照しながら説明する。
Referring now to FIG. FIG. 11 is a diagram for explaining a registration method when a new avoidance area is registered. In this method, an avoidance area is registered while observing a workpiece to be measured by the image measurement system shown in FIG. An outline of the registration procedure will be described with reference to a state transition diagram shown in FIG.

【0062】図10(b)において、図5(a)に示す
画面が表示されている状態をベース状態(A)としてこ
れを初期状態と称することとする。この初期状態(A)
において図5(a)に示す画面に設けられている「新規
登録」ボタンが操作されると、回避領域の新規登録イベ
ントが実行され、状態は初期状態(A)からアライメン
ト(被測定ワーク上に座標系を定義すること)中の状態
(B)へと遷移する。
In FIG. 10B, a state in which the screen shown in FIG. 5A is displayed is referred to as a base state (A), which is referred to as an initial state. This initial state (A)
In FIG. 5, when the "new registration" button provided on the screen shown in FIG. 5A is operated, a new registration event of the avoidance area is executed, and the state is changed from the initial state (A) to the alignment (on the work to be measured). (Defining a coordinate system).

【0063】アライメント中の状態(B)においては、
図10(a)に示すように、測定者が観察位置を移動さ
せながらの位置を順番に登録する指示を画像測定
システムへ与えることで、とを通りからを正の
方向とするX軸が決定され、その決定されたX軸に平行
で且つを通る直線がY軸として決定される。ここで、
Y軸の正の方向はX軸との交点からに向かう方向とさ
れる。
In the state (B) during alignment,
As shown in FIG. 10 (a), the measurer gives an instruction to sequentially register the positions while moving the observation position to the image measurement system, so that the X-axis having a positive direction from passing through is determined. The straight line parallel to and passing through the determined X axis is determined as the Y axis. here,
The positive direction of the Y axis is a direction heading from the intersection with the X axis.

【0064】の位置の登録が完了するとアライメ
ントが完了し、アライメント完了イベントによって状態
はアライメント中の状態(B)から回避領域座標登録中
の状態(C)に遷移する。この状態(C)において、観
察位置を移動させながらの位置を示す座標が順
番に座標登録され、その後図示しないポップアップメニ
ューから座標登録完了が選択されることで座標登録が完
了し、回避領域が図2のメモリ21内に記憶される。座
標登録が完了すると、座標の登録の完了イベントによっ
て状態は回避領域座標登録中の状態(C)から初期状態
(A)へと戻る。
When the registration of the position is completed, the alignment is completed, and the state transits from the state of alignment (B) to the state of avoidance area coordinate registration (C) by an alignment completion event. In this state (C), the coordinates indicating the position while moving the observation position are registered in order, and then the coordinate registration is completed by selecting “coordinate registration complete” from a pop-up menu (not shown). 2 is stored in the memory 21. When the coordinate registration is completed, the state returns to the initial state (A) from the state (C) in which the avoidance area coordinates are being registered by the coordinate registration completion event.

【0065】なお、以上の手順の作業は、被測定ワーク
を観察せずにデジタルカメラ等で被測定ワークを撮影し
た画像を用いて行なうようにしてもよい。以上の説明の
ように、本発明を実施するこの画像測定システムを使用
すれば、測定時に直前の測定ポイントから次の測定ポイ
ントまでの経路がモニタ画面上に表示されるので、測定
者はモニタ画面のみを注視するだけで測定作業を進めら
れるようになり、また、被測定ワークと観察系が接触し
ない経路が自動的に選択されて表示されるので、測定作
業の効率の向上に寄与する。
The work of the above procedure may be performed using an image obtained by photographing the work to be measured by a digital camera or the like without observing the work to be measured. As described above, if this image measurement system embodying the present invention is used, the path from the immediately preceding measurement point to the next measurement point is displayed on the monitor screen at the time of measurement. The measurement work can be advanced only by gazing at only the object, and a path in which the workpiece to be measured does not contact the observation system is automatically selected and displayed, thereby contributing to an improvement in the efficiency of the measurement work.

【0066】なお、図5(a)に示す画面例には、上述
したものに加え、回避領域として静的な回避領域と動的
な回避領域との択一的な選択が行なえるラジオボタンが
設けられている。ここでいう静的な回避領域とは、図1
0に示す例で登録を行なった回避領域のような、観察系
と被測定ワークとの間がある距離に固定されているとき
に生じる回避領域である。従って、例えば観察系の高さ
を図10(a)における平面Bよりも高くするような変
更を測定中に行なうのであれば、回避領域はその高さに
応じて変化し得るため、変更する高さごとに回避領域を
登録して必要に応じて切り替えるような煩雑な作業が生
じてしまう。
In the example of the screen shown in FIG. 5A, in addition to the above-mentioned screens, there are radio buttons for selecting either a static avoidance area or a dynamic avoidance area as an avoidance area. Is provided. Here, the static avoidance area is the one shown in FIG.
This is an avoidance area that occurs when the distance between the observation system and the work to be measured is fixed at a certain distance, such as the avoidance area registered in the example shown in FIG. Therefore, for example, if the height of the observation system is changed during measurement so as to be higher than the plane B in FIG. 10A, the avoidance area can change according to the height. Each time, a complicated operation such as registering the avoidance area and switching as necessary is generated.

【0067】これに対し、図11の(a)、(b)、
(c)の3面図で示したような被測定ワークの三次元形
状データを例えば三次元CADデータの形態で有してい
るような場合には、図11の(d)及び(e)に示すよ
うに、観察系の高さがZ1のときにおける回避領域と、
観察系の高さがZ2のときにおける回避領域とを動的に
求めることが可能であり、観察系の高さの変更に応じて
適切な回避領域を用いることが可能となる。図5(a)
に示す画面例において動的な回避領域が選択されたとき
には、このような被測定ワークの三次元形状データに基
づいた回避領域の設定処理を図1に示した画像測定シス
テムに行なわせることが指示される。
On the other hand, FIGS. 11 (a), (b),
In the case where the three-dimensional shape data of the workpiece to be measured as shown in the three views of (c) is in the form of, for example, three-dimensional CAD data, FIG. 11D and FIG. As shown, the avoidance area when the height of the observation system is Z1,
The avoidance area when the height of the observation system is Z2 can be dynamically obtained, and an appropriate avoidance area can be used according to a change in the height of the observation system. FIG. 5 (a)
When a dynamic avoidance area is selected in the screen example shown in FIG. 1, it is instructed to cause the image measurement system shown in FIG. 1 to perform such avoidance area setting processing based on the three-dimensional shape data of the work to be measured. Is done.

【0068】なお、図8や図9に示した経路決定処理を
含むソフトウェアプログラム24をコンピュータ12で
読み取り可能な記録媒体に記録させ、そのプログラムを
記録媒体からコンピュータ12に読み出させて実行させ
るようにして本発明を実施することも可能である。
The software program 24 including the route determination processing shown in FIGS. 8 and 9 is recorded on a recording medium readable by the computer 12, and the program is read out from the recording medium by the computer 12 and executed. It is also possible to implement the present invention.

【0069】ソフトウェアプログラムを記録可能で且つ
コンピュータで読み取ることの可能な記録媒体として
は、例えば、コンピュータに内蔵若しくは外付けの付属
装置として備えられるROMやハードディスク装置など
のメモリ、フロッピー(登録商標)ディスク(Floppy D
isk)、MO(光磁気ディスク)、CD−ROM、DV
D−ROMなどといった可搬型の記憶媒体等が利用でき
る。
Examples of a recording medium on which a software program can be recorded and which can be read by a computer include a memory such as a ROM or a hard disk device provided as an internal or external accessory device in the computer, and a floppy (registered trademark) disk. (Floppy D
isk), MO (magneto-optical disk), CD-ROM, DV
A portable storage medium such as a D-ROM can be used.

【0070】また、記録媒体としては通信回線を介して
コンピュータと接続されるプログラムサーバに備えられ
ている記憶装置であってもよい。この場合には、ソフト
ウェアプログラムを表現するデータ信号で搬送波を変調
して得られる伝送信号を伝送媒体である通信回線を通じ
て伝送させるようにし、コンピュータではプログラムサ
ーバから送られてきた伝送信号を復調して制御プログラ
ムを再生させることでソフトウェアプログラムを実行さ
せることが可能となる。
The recording medium may be a storage device provided in a program server connected to a computer via a communication line. In this case, a transmission signal obtained by modulating a carrier with a data signal representing a software program is transmitted through a communication line as a transmission medium, and a computer demodulates a transmission signal sent from a program server. The software program can be executed by reproducing the control program.

【0071】[0071]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明は、
設計データ若しくは該設計データに適合した基準ワーク
を用いて作成された測定プログラムであって各測定ポイ
ントの位置、該各測定ポイントにおける測定条件、及び
該各測定ポイントの測定順が示されている該測定プログ
ラムに従い、該設計データに基づいて製造された被測定
ワークの測定を行なうときに、該測定プログラムに示さ
れている測定順に基づき、直前に測定がされた測定ポイ
ントの位置から次に測定が行なわれる測定ポイントの位
置へ至るまで前記被測定ワークの観察位置を移動させる
経路を決定し、該観察位置を該決定された経路に沿って
移動させるときに、該経路と移動中である該観察位置の
該経路上における現在の位置とを示すガイド情報を表示
するようにする。
As described in detail above, the present invention provides
A measurement program created using design data or a reference work adapted to the design data, wherein the position of each measurement point, the measurement conditions at each measurement point, and the measurement order of each measurement point are shown. According to the measurement program, when measuring the workpiece to be measured manufactured based on the design data, the next measurement is performed from the position of the measurement point measured immediately before based on the measurement order shown in the measurement program. Determining a path for moving the observation position of the workpiece to be measured to the position of the measurement point to be performed; and moving the observation position along the determined path, the observation being moved with the path. Guide information indicating the current position of the position on the route is displayed.

【0072】こうすることにより、本発明によれば、測
定作業に対する熟練度が低い測定者であっても観察位置
をスムーズに移動させる操作が可能となり、被測定ワー
クの測定作業を効率良く行なえるようになる。
Thus, according to the present invention, even a measurer having a low level of skill in the measurement operation can perform an operation of smoothly moving the observation position, and can efficiently perform the measurement operation on the work to be measured. Become like

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を実施する画像測定システムの構成を示
す図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration of an image measurement system that implements the present invention.

【図2】図1に示す画像測定システムの内部構成示す図
である。
FIG. 2 is a diagram showing an internal configuration of the image measurement system shown in FIG.

【図3】ガイド情報の表示例を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a display example of guide information.

【図4】ガイド情報が非表示となるときの画面表示例を
示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a screen display example when guide information is hidden.

【図5】経路決定の手法を説明する図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a route determination technique.

【図6】初級者モードでの経路決定手順を説明する図で
ある。
FIG. 6 is a diagram illustrating a route determination procedure in a beginner mode.

【図7】上級者モードでの経路決定手順を説明する図で
ある。
FIG. 7 is a diagram illustrating a route determination procedure in the expert mode.

【図8】経路決定処理の第一の例の処理内容を示すフロ
ーチャートである。
FIG. 8 is a flowchart illustrating processing contents of a first example of a path determination processing.

【図9】経路決定処理の第二の例の処理内容を示すフロ
ーチャートである。
FIG. 9 is a flowchart showing the processing content of a second example of the route determination processing.

【図10】回避領域の設定方法の例を示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating an example of a method of setting an avoidance area.

【図11】三次元CADデータを用いた動的な回避領域
の設定例を示す図である。
FIG. 11 is a diagram illustrating a setting example of a dynamic avoidance area using three-dimensional CAD data.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 Y軸ステージ 2 X軸ステージ 3 Y軸移動ハンドル 4 X軸移動ハンドル 5 被測定ワーク 6 対物レンズ 7 顕微鏡本体 8 CCDカメラ 9 画像取り込みケーブル 10 2軸カウンタ 11 カウンタ値取り込みケーブル 12 コンピュータ本体 13 画像処理ボード 14 記憶装置 15 モニタ 16 モニタ画面 20 CPU 21 メモリ 22 AD変換部 23 画像メモリ 24 ソフトウェアプログラム 25 測定プログラム 26 経路選択情報 30 測定ポイントA 31 測定ポイントB 32 経路の始点 33 経路の終点 34 経路 35 観察位置 36 ハンドル操作量表示 37 頂点 38 唯一のハンドル操作量表示 39 測定精度期待領域 Reference Signs List 1 Y-axis stage 2 X-axis stage 3 Y-axis movement handle 4 X-axis movement handle 5 Workpiece to be measured 6 Objective lens 7 Microscope body 8 CCD camera 9 Image capture cable 10 2-axis counter 11 Counter value capture cable 12 Computer body 13 Image processing Board 14 Storage device 15 Monitor 16 Monitor screen 20 CPU 21 Memory 22 AD conversion unit 23 Image memory 24 Software program 25 Measurement program 26 Route selection information 30 Measurement point A 31 Measurement point B 32 Route start point 33 Route end point 34 Route 35 Observation Position 36 Handle operation amount display 37 Vertex 38 Only handle operation amount display 39 Expected measurement accuracy area

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 設計データ若しくは該設計データに適合
した基準ワークを用いて作成された測定プログラムであ
って各測定ポイントの位置、該各測定ポイントにおける
測定条件、及び該各測定ポイントの測定順が示されてい
る該測定プログラムに従い、該設計データに基づいて製
造された被測定ワークの測定を行なうときに、 前記測定プログラムに示されている測定順に基づき、直
前に測定がされた測定ポイントの位置から次に測定が行
なわれる測定ポイントの位置へ至るまで前記被測定ワー
クの観察位置を移動させる経路を決定し、 前記観察位置を前記決定された経路に沿って移動させる
ときに、前記経路と移動中である該観察位置の該経路上
における現在の位置とを示すガイド情報を表示する、 ことを特徴とする測定支援方法。
1. A measurement program created by using design data or a reference work adapted to the design data, wherein a position of each measurement point, a measurement condition at each measurement point, and a measurement order of each measurement point are determined. When measuring a workpiece to be measured manufactured based on the design data according to the measurement program shown, the position of the measurement point measured immediately before based on the measurement order shown in the measurement program To determine the path for moving the observation position of the workpiece to be measured to the position of the measurement point at which the next measurement is to be performed. When the observation position is moved along the determined path, the path and the movement are determined. Displaying a guide information indicating a current position of the observation position in the route on the route.
【請求項2】 予め用意されている経路決定の条件か
ら、前記経路の決定を行なうときに従う条件を選択し、 前記選択された条件の下で前記経路が決定される、 ことを特徴とする請求項1に記載の測定支援方法。
2. The method according to claim 1, wherein a condition to be determined when the route is determined is selected from the prepared route determination conditions, and the route is determined under the selected condition. Item 2. The measurement support method according to Item 1.
【請求項3】 前記経路決定の条件は、許容される前記
観察位置の移動方向を示すものであることを特徴とする
請求項2に記載の測定支援方法。
3. The measurement support method according to claim 2, wherein the condition for determining the route indicates an allowable moving direction of the observation position.
【請求項4】 移動された前記観察位置において観察可
能な範囲内に前記次に測定が行なわれる測定ポイントの
位置が含まれるようになったときには、前記ガイド情報
を非表示とすることを特徴とする請求項1に記載の測定
支援方法。
4. The guide information is not displayed when the position of the measurement point at which the next measurement is to be performed is included in a range that can be observed at the moved observation position. The measurement support method according to claim 1.
【請求項5】 移動中である前記観察位置を現在の位置
から前記次に測定が行なわれる測定ポイントの位置に至
るまで前記経路に沿って移動させるときの道のりの長さ
を更に表示することを特徴とする請求項1に記載の測定
支援方法。
5. The method according to claim 1, further comprising the step of displaying a length of a path when the observation position being moved is moved along the path from a current position to a position of a measurement point at which the next measurement is performed. The measurement support method according to claim 1, wherein:
【請求項6】 前記道のりの長さは、前記観察位置を移
動させるために要する操作の操作量を単位として表され
ることを特徴とする請求項5に記載の測定支援方法。
6. The measurement support method according to claim 5, wherein the length of the path is expressed in units of an operation amount of an operation required to move the observation position.
【請求項7】 移動させる前記観察位置の侵入を禁止す
る回避領域を設定し、 前記経路の決定においては、前記回避領域を回避する経
路が選択される、 ことを特徴とする請求項1に記載の測定支援方法。
7. The method according to claim 1, wherein an avoidance area for prohibiting entry of the observation position to be moved is set, and a path avoiding the avoidance area is selected in determining the path. Measurement support method.
【請求項8】 被測定ワークの観察を行なう観察系と、 前記被測定ワークを前記観察系に対して相対的に移動さ
せることによって該観察系における該被測定ワークの観
察位置を変化させる観察位置制御手段と、 前記観察位置の位置検出を行なう観察位置検出手段と、 前記観察系によって得られる前記観察位置の観察像を表
示する観察像表示手段と、 前記被測定ワークにおける各測定ポイントの位置、該各
測定ポイントにおける測定条件、及び該各測定ポイント
の測定順が示されている測定プログラムで示されている
測定順に基づいて直前に測定がされた測定ポイントの位
置から次に測定が行なわれる測定ポイントの位置へ至る
まで前記観察位置を移動させる経路を決定する経路決定
手段と、 前記決定された経路に沿って前記観察位置を前記直前の
測定ポイントの位置から前記次の測定ポイントの位置へ
移動させるときに、前記経路と移動中である該観察位置
の該経路上における現在の位置とを示すガイド情報を表
示するガイド情報表示手段と、 を有することを特徴とする測定システム。
8. An observation system for observing a work to be measured, and an observation position for changing an observation position of the work to be measured in the observation system by moving the work to be measured relative to the observation system. Control means, observation position detection means for detecting the position of the observation position, observation image display means for displaying an observation image of the observation position obtained by the observation system, position of each measurement point in the workpiece to be measured, The measurement to be performed next from the position of the measurement point that was measured immediately before based on the measurement conditions at each measurement point and the measurement order indicated by the measurement program indicating the measurement order of each measurement point Path determination means for determining a path for moving the observation position until reaching the position of a point; and determining the observation position along the determined path. Guide information display means for displaying guide information indicating the path and the current position of the moving observation position on the path when moving from the position of the previous measurement point to the position of the next measurement point And a measurement system comprising:
【請求項9】 設計データ若しくは該設計データに適合
した基準ワークを用いて作成された測定プログラムであ
って各測定ポイントの位置、該各測定ポイントにおける
測定条件、及び該各測定ポイントの測定順が示されてい
る該測定プログラムに従い、該設計データに基づいて製
造された被測定ワークの測定を行なうときにおける該測
定の支援をコンピュータで実行させることによって該コ
ンピュータに行なわせる測定支援プログラムであって、 前記測定プログラムに示されている測定順に基づき、直
前に測定がされた測定ポイントの位置から次に測定が行
なわれる測定ポイントの位置へ至るまで前記被測定ワー
クの観察位置を移動させる経路を決定する処理と、 前記観察位置を前記決定された経路に沿って移動させる
ときに、前記経路と移動中である該観察位置の該経路上
における現在の位置とを示すガイド情報を表示する処理
と、 を該コンピュータに行なわせるための測定支援プログラ
ム。
9. A measurement program created by using design data or a reference work adapted to the design data, wherein a position of each measurement point, a measurement condition at each measurement point, and a measurement order of each measurement point are determined. According to the measurement program shown, a measurement support program to be performed by the computer by causing the computer to perform the measurement support when measuring the workpiece to be measured based on the design data, Based on the measurement order shown in the measurement program, a path for moving the observation position of the workpiece to be measured from the position of the measurement point measured immediately before to the position of the measurement point where the next measurement is performed is determined. Processing, and moving the observation position along the determined route. Measurements support program for causing a processing for displaying the guide information indicating the current position in 該経 path of the observation position is being, to the computer.
JP2001154820A 2001-05-24 2001-05-24 Method for supporting measurement, measuring system and measurement support program Pending JP2002350123A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001154820A JP2002350123A (en) 2001-05-24 2001-05-24 Method for supporting measurement, measuring system and measurement support program

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001154820A JP2002350123A (en) 2001-05-24 2001-05-24 Method for supporting measurement, measuring system and measurement support program

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002350123A true JP2002350123A (en) 2002-12-04

Family

ID=18999103

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001154820A Pending JP2002350123A (en) 2001-05-24 2001-05-24 Method for supporting measurement, measuring system and measurement support program

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002350123A (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006337276A (en) * 2005-06-03 2006-12-14 Mitsutoyo Corp Image measuring method and system
JP2016024045A (en) * 2014-07-18 2016-02-08 株式会社ミツトヨ Image measurement apparatus
JP2017166954A (en) * 2016-03-16 2017-09-21 株式会社ミツトヨ Control method of surface property measuring device
JP2017166955A (en) * 2016-03-16 2017-09-21 株式会社ミツトヨ Part program generator for surface property measuring device
CN108139210A (en) * 2015-05-04 2018-06-08 株式会社三丰 The user-defined inspection program editing environment for colliding and avoiding volume is provided
EP2738515B1 (en) 2012-11-30 2019-04-24 Mitutoyo Corporation Measuring system, method and computer program product
JP2019124705A (en) * 2019-04-05 2019-07-25 株式会社ミツトヨ Image-measuring device
JP2020085458A (en) * 2018-11-15 2020-06-04 株式会社ミツトヨ Image measuring machine and image measuring program
JP2020134427A (en) * 2019-02-25 2020-08-31 株式会社Nttドコモ Information processing device
US11887327B2 (en) 2019-12-13 2024-01-30 Evident Corporation Microscopic examination device and navigation method

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000065520A (en) * 1998-06-08 2000-03-03 Chuo Seiki Kk Measuring microscope
JP2000074661A (en) * 1998-08-27 2000-03-14 Mitsutoyo Corp Measuring path selecting method in measuring instrument
JP2000346638A (en) * 1999-06-09 2000-12-15 Mitsutoyo Corp Method for generating measuring procedure file, measuring apparatus and storage medium

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000065520A (en) * 1998-06-08 2000-03-03 Chuo Seiki Kk Measuring microscope
JP2000074661A (en) * 1998-08-27 2000-03-14 Mitsutoyo Corp Measuring path selecting method in measuring instrument
JP2000346638A (en) * 1999-06-09 2000-12-15 Mitsutoyo Corp Method for generating measuring procedure file, measuring apparatus and storage medium

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4634868B2 (en) * 2005-06-03 2011-02-16 株式会社ミツトヨ Image measuring method and system
JP2006337276A (en) * 2005-06-03 2006-12-14 Mitsutoyo Corp Image measuring method and system
EP2738515B1 (en) 2012-11-30 2019-04-24 Mitutoyo Corporation Measuring system, method and computer program product
JP2016024045A (en) * 2014-07-18 2016-02-08 株式会社ミツトヨ Image measurement apparatus
CN108139210B (en) * 2015-05-04 2021-07-06 株式会社三丰 Inspection program editing environment providing user-defined collision avoidance volumes
CN108139210A (en) * 2015-05-04 2018-06-08 株式会社三丰 The user-defined inspection program editing environment for colliding and avoiding volume is provided
JP2018520332A (en) * 2015-05-04 2018-07-26 株式会社ミツトヨ Inspection program editing environment providing a collision avoidance area defined by the user
CN107203181A (en) * 2016-03-16 2017-09-26 株式会社三丰 The control method of surface texture measuring apparatus
JP2017166955A (en) * 2016-03-16 2017-09-21 株式会社ミツトヨ Part program generator for surface property measuring device
JP2017166954A (en) * 2016-03-16 2017-09-21 株式会社ミツトヨ Control method of surface property measuring device
CN107203181B (en) * 2016-03-16 2021-08-24 株式会社三丰 Control method of surface property measuring apparatus
JP2020085458A (en) * 2018-11-15 2020-06-04 株式会社ミツトヨ Image measuring machine and image measuring program
JP7211773B2 (en) 2018-11-15 2023-01-24 株式会社ミツトヨ Image measuring machine and image measuring program
JP2020134427A (en) * 2019-02-25 2020-08-31 株式会社Nttドコモ Information processing device
JP7098554B2 (en) 2019-02-25 2022-07-11 株式会社Nttドコモ Information processing equipment
JP2019124705A (en) * 2019-04-05 2019-07-25 株式会社ミツトヨ Image-measuring device
US11887327B2 (en) 2019-12-13 2024-01-30 Evident Corporation Microscopic examination device and navigation method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5525953B2 (en) Dimension measuring apparatus, dimension measuring method and program for dimension measuring apparatus
US6968080B2 (en) Method and apparatus for generating part programs for use in image-measuring instruments, and image-measuring instrument and method of displaying measured results therefrom
IE59754B1 (en) Method for operating a microscopical mapping system
JP2002350123A (en) Method for supporting measurement, measuring system and measurement support program
WO2003102500A1 (en) Method of obtaining 3-d coordinates
JP2006329684A (en) Image measuring instrument and method
US7954069B2 (en) Microscopic-measurement apparatus
JP5307407B2 (en) Endoscope apparatus and program
JP2004294311A (en) Picture image measuring instrument
US5986694A (en) Image processing apparatus for moving camera
JP2000146794A (en) Rockwell hardness tester
JPH08313217A (en) Noncontact image measuring system
JP2978808B2 (en) Image measuring device
JPH10197221A (en) Measuring microscope
JP2000028336A (en) Device for measuring shape and method therefor
WO2021141051A1 (en) Workpiece image analyzing device, workpiece image analyzing method, and program
JP2006300935A (en) Method of determining side bias of xyz stage
JPH08201025A (en) Noncontact coordinate dimension measuring machine
JP2004012192A (en) Measuring microscope device, its display method, and its display program
JP2003315015A (en) Measuring microscope
JP2003030638A (en) Image display device, image display method and control program therefor
JPH11203485A (en) Image measuring device
JPH11201738A (en) Display magnifying power changing method of work image and image measuring device
JP2004239761A (en) Image measuring instrument, and program for generating edge tracking measuring program
US20070182759A1 (en) Graphics processing apparatus, method and program storage medium thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080428

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100421

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100427

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100831