JP2002346917A - 板状体の研磨装置及び研磨方法 - Google Patents

板状体の研磨装置及び研磨方法

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JP2002346917A
JP2002346917A JP2001160914A JP2001160914A JP2002346917A JP 2002346917 A JP2002346917 A JP 2002346917A JP 2001160914 A JP2001160914 A JP 2001160914A JP 2001160914 A JP2001160914 A JP 2001160914A JP 2002346917 A JP2002346917 A JP 2002346917A
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Itsuro Watanabe
逸郎 渡邉
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Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、テーブルに対するガラス板の接着保
持を無くしてガラス板の研磨効率を向上させるとともに
ガラス板を均一に研磨できるガラス板の研磨装置及び研
磨方法を提供する。 【解決手段】研磨定盤12を定盤26、28、30から
なる多重同心円定盤に構成する。定盤26、28、30
の回転方向を所定の方向に設定する。そして、多重同心
円定盤12からガラス板Gに働く回転力のX方向及びY
方向のベクトルの総和が零に近づくような周速を定盤2
6、28、30毎に設定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、板状体の研磨装置
及び研磨方法に係り、特に液晶ディスプレイ用ガラス基
板を製造するための研磨装置及び研磨方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ガラス板を極薄の液晶ディスプレイ用ガ
ラス基板に研磨する研磨装置は、ガラス板を保持するテ
ーブルと研磨定盤とを主として構成され、テーブルでガ
ラス板を保持し、この状態で研磨定盤にガラス板を押し
付けるとともにテーブル及び研磨定盤を回転させてガラ
ス板を研磨する。
【0003】ところで、このような研磨装置は、研磨定
盤の円周方向の周速が研磨定盤の回転中心から遠ざかる
に従って速くなるため、研磨定盤の回転中心とガラス板
の回転中心とを一致させた状態でガラス板を研磨した場
合には、ガラス板の研磨量も研磨定盤の回転中心から遠
ざかるに従って多くなるという現象が生じる。これは均
一研磨の観点から好ましくない。
【0004】そこで、均一研磨を図るために、従来では
オスカー型と称される研磨装置がガラス板の研磨装置と
して採用されている。オスカー型研磨装置は、図7の如
くガラス板Gの回転中心P1(テーブル2の回転中心と
略一致)を、研磨定盤1の回転中心P2に対し、x量偏
心した位置にセットし、そして、ガラス板Gを研磨定盤
1に対して揺動させてガラス板Gを研磨する。このよう
にガラス板Gを揺動させて偏心位置を変化させること
で、ガラス板の任意のポイントにおける研磨定盤の周速
が低速→高速→低速…というようにサインカーブの如く
変化するので、研磨量のばらつきを抑えることができ
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図7のように
偏心した状態で研磨すると、図8の如く研磨定盤1から
ガラス板Gに働く回転力(研磨摩擦力)の例えばY方向
の+側ベクトルAと−側ベクトルBとの総和が−側のベ
クトルCとして大きく存在するので、すなわち、研磨定
盤1からガラス板GにベクトルC方向の力が与えられる
ので、ガラス板Gが研磨定盤から飛び出すという虞があ
った。
【0006】このため、偏心研磨する図7のオスカー型
研磨装置では、ガラス板Gをテーブル2に接着保持させ
て研磨せざるを得ず、よって、テーブル2に対するガラ
ス板Gの着脱に手間がかかり研磨効率が悪いという欠点
があった。また、ガラス板Gをテーブル2に接着保持す
ると、裏面転写の現象等でテーブルの接着保持面やガラ
ス板Gの裏面の凹凸がガラス板Gの表面に転写し、この
結果、ガラス板Gの研磨面に平坦度不良の欠点が生じる
という問題もあった。
【0007】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、テーブルに対する板状体の接着保持を無くし
て板状体の研磨効率を向上させるとともに、板状体を均
一にかつ極めて良好な平坦度に研磨できる板状体の研磨
装置及び研磨方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、板状体をテーブルと研磨定盤とで挟みつ
けた状態で研磨定盤を回転させて板状体を研磨する板状
体の研磨装置において、前記研磨定盤は、該研磨定盤の
回転軸を中心とする同心円状に分割形成された多重同心
円定盤に構成されることを特徴とする。
【0009】本発明は、前記目的を達成するために、板
状体をテーブルと研磨定盤とで挟みつけた状態で研磨定
盤を回転させて板状体を研磨する板状体の研磨方法にお
いて、前記研磨定盤を、該研磨定盤の回転軸を中心とす
る同心円状に分割形成された多重同心円定盤に構成し、
前記多重同心円定盤の各々の周速及び回転方向を制御手
段によって独立して制御し、各々の多重同心円定盤から
板状体に働く力を相殺した状態で板状体を研磨すること
を特徴とする。
【0010】請求項1に記載の発明によれば、研磨定盤
を多重同心円定盤に構成している。
【0011】請求項2、5に記載の発明によれば、制御
手段は、多重同心円定盤から板状体に働く力を相殺する
ように、多重同心円定盤の各定盤の周速及び回転方向を
各々制御する。これにより、研磨定盤から板状体に、板
状体の位置をずらすような余計な力は働かないので、板
状体をテーブルに接着保持することなく、板状体を研磨
定盤に対して位置決めした状態で研磨できる。
【0012】請求項3に記載の発明は、前記テーブルの
前記板状体との対向面に、エア噴射孔を形成し、エア噴
射孔から噴射される圧縮エアによってテーブルと板状体
との隙間に圧縮エアの動圧を発生させ、この動圧で板状
体を研磨定盤に押し付けて研磨する。
【0013】また、請求項4に記載の発明は、テーブル
の板状体との対向面で板状体の外周部に相当する位置に
エア吸引孔を形成し、このエア吸引孔を介して板状体の
外周部をテーブルに吸着するとともに、エア噴射孔から
噴射される圧縮エアによってテーブルと板状体との隙間
に圧縮エアの静圧を発生させ、この静圧で板状体を研磨
定盤に押し付けて研磨する。
【0014】板状体をテーブルに接着保持して研磨する
従来の研磨装置は、裏面転写の現象等でテーブルの接着
保持面や板状体の研磨しない裏面の精度が板状体の研磨
精度に大きく影響を与える。このため、接着保持面を高
精度に加工し、さらに高価で維持管理に手間のかかる特
殊な保持パッドを使用して対処しているが、それでも得
られる研磨精度は不十分であった。これに対して、圧縮
エアの動圧又は静圧で板状体を研磨定盤に押し付ける本
願発明は、テーブルの加工精度は問わず、また高価で維
持管理に手間のかかる特殊な保持パッドを使用しないた
め、コストを削減でき、更に、板状体全面を裏面転写の
影響を受けずに研磨定盤に均一な圧力で押し付けること
ができるので、板状体を均一にかつ極めて良好な平坦度
に研磨できる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に従って本発明に
係る板状体の研磨装置及び研磨方法の好ましい実施の形
態を詳説する。
【0016】図1に示す研磨装置10は、所定厚さ(約
0.5〜0.7mm)のガラス板G(板状体に相当)
を、液晶ディスプレイ用ガラス基板に研磨する、オスカ
ー型研磨装置を改善した研磨装置である。この研磨装置
10は、表面に研磨布等の研磨部材が取り付けられた研
磨定盤12、及び研磨定盤12にガラス板Gを押し付け
るテーブル14を主として構成される。なお、この研磨
装置10では、研磨量が例えば5μmに設定されてい
る。
【0017】テーブル14は、円盤状に構成されるとと
もに、矩形状ガラス板G全体を研磨定盤12に押し付け
るようにガラス板Gよりも若干大きく形成される。ま
た、テーブル14は、その中心軸Pと同軸上にロッド1
6が連結される。このロッド16は、不図示の昇降装置
に連結される。この昇降装置によってテーブル14を下
降移動させることによって、ガラス板Gを研磨定盤12
に押し付けることができ、所望の押圧力に設定できる。
なお、テーブル16の形状は円盤に限定されず、矩形状
のものでもよい。
【0018】実施の形態のテーブル14は、図2に示す
ようにガラス板Gとの対向面15にエア噴射孔18、1
8…が形成される。これらのエア噴射孔18、18…
は、回転軸16からテーブル14にかけて形成されたエ
ア通路20に連通され、エア通路20は回転軸16に設
けられた不図示のロータリージョイントを介して圧縮エ
ア供給装置(不図示)に連結されている。よって、圧縮
エア供給装置からの圧縮エアが、エア通路を介してエア
噴射孔18、18…からガラス板Gに向けて噴射され
る。また、噴射された圧縮エアは、テーブル14とガラ
ス板Gとの間の隙間22から外部に放出される。これに
より、隙間22には圧縮エアの動圧が発生する。したが
って、前記昇降装置からの押圧力は、圧縮エアの動圧を
介してガラス板Gに伝達される。
【0019】また、隙間22の気密構造の代わりに内周
形状をガラス板Gの外周形状に合わせたテンプレート
(オスカー型研磨装置で使用するキャリアのようなも
の)をテーブル14に貼り付け、圧縮エアをガラス板G
の外周とテンプレート内周の隙間から逃がすことによ
り、エア噴射孔18、18…から噴射される圧縮エアの
動圧を発生させて、ガラス板Gを研磨定盤12に押し付
ける構造を採用してもよい。
【0020】一方で、テーブル14には、テーブル14
とガラス板Gとの間に静圧を発生させる手段も有してい
る。
【0021】この静圧発生手段について説明すると、テ
ーブル14の下部外周面には、ガラス板Gの外周部に該
当する位置にエア吸引孔24、24…が形成される。こ
れらのエア吸引孔24、24…は、回転軸16からテー
ブル14にかけて形成された不図示のエア通路に連通さ
れ、エア通路は回転軸16に設けられた前記ロータリー
ジョイントを介してサクション装置(不図示)に連結さ
れている。よって、サクション装置を駆動してエア吸引
孔24、24…から外気を吸引すると、その吸引力によ
ってガラス板Gの外周部がテーブル14に吸着保持され
る。この状態で、エア噴射孔18、18…からガラス板
Gに向けて圧縮エアを噴射すると、テーブル14とガラ
ス板Gとの間の隙間22が密閉状態なので、その隙間2
2に圧縮エアの静圧が発生する。したがって、前記昇降
装置からの押圧力は、圧縮エアの静圧を介してガラス板
Gに伝達される。
【0022】また、前記の如くガラス板Gをテーブル1
6で吸着保持すると、テーブル14によるガラス板Gの
ハンドリングも容易になる。
【0023】ところで、研磨定盤12は図1、図3、図
4に示すように、研磨定盤12の回転軸Oを中心とする
3枚の定盤26、28、30に分割された多重同心円定
盤である。
【0024】定盤26は、円盤状に形成されるととも
に、図4の如くその回転軸Oと同軸上に回転軸40が固
定されている。回転軸40の下端部にはギア42が固定
され、ギア42には無端状のタイミングベルト44が噛
合されている。タイミングベルト44は駆動側のギア4
6に噛合され、このギア46には図3に示したモータ3
2の出力軸33(図4参照)が連結されている。
【0025】定盤28は、ドーナツ状に形成されるとと
もに、回転軸Oと同軸上に筒状の回転軸48が固定され
ている。回転軸48の下端部にはギア50が固定され、
ギア50には無端状のタイミングベルト52が噛合され
ている。タイミングベルト52は駆動側のギア54に噛
合され、このギア54には図3に示したモータ34の出
力軸35(図4参照)が連結されている。
【0026】定盤30は、リング状に形成されるととも
に、回転軸Oと同軸上に筒状の回転軸56が固定されて
いる。回転軸56の下端部にはギア58が固定され、ギ
ア58には無端状のタイミングベルト60が噛合されて
いる。タイミングベルト60は駆動側のギア62に噛合
され、このギア62には図3に示したモータ36の出力
軸37(図4参照)が連結されている。
【0027】各定盤26、28、30は、モータ32、
34、36によって個別に回転されるように、隣接する
回転軸40、48、56がベアリング64、64…を介
して支持されている。なお、最外周の回転軸56は本体
ケーシング66にベアリング68を介して支持されてい
る。
【0028】回転軸40には、スラリ供給路70が回転
軸40の軸方向に沿って形成される。スラリ供給路70
の下端部は、不図示のロータリジョイントを介してスラ
リ供給装置に連結されている。したがって、スラリ供給
装置からのスラリが、スラリ供給路70を介して、定盤
26の表面に形成された噴射孔72から定盤26上に噴
射される。噴射されたスラリは、多重同心円定盤12の
回転による遠心力で多重同心円定盤12全体に供給され
る。なお、多重同心円定盤12から放出されたスラリ
は、本体ケーシング66の外周部に取り付けられた樋部
74に集水された後、パイプ76を介して不図示のスラ
リ回収タンクに溜められる。
【0029】定盤26の外周部と定盤28の内周部、及
び定盤28の外周部と定盤30の内周部は、すなわち、
定盤同士の境界部68、78は図5の如く迷路状となっ
ており、多重同心円定盤12の回転中には、その迷路が
ラビリンスシールとして機能し、前記スラリがその境界
部78に浸入するのが防止されている。一方で、運転停
止中において、境界部78にスラリが浸入するのを防止
するためにエアパージ装置が設けられているエアパージ
装置は、回転軸40に形成されたエア通路80にエアを
供給する装置であり、エア通路80は回転軸40の上端
部近傍で90°曲げて形成され、その噴射孔82が定盤
26と定盤28との境界部68の内側に形成されてい
る。これにより、噴射孔82から噴射されたエアーは、
境界部68を介して多重同心円定盤12の外部に吹き出
されるので、定盤26と定盤28との境界部68からの
スラリの浸入を防止できる。
【0030】また、定盤28には、噴射孔82に対向し
た水平の貫通孔84が形成され、貫通孔84の噴射孔8
6が図5の如く定盤28と定盤30との境界部78の内
側に形成されている。これにより、噴射孔86から噴射
されたエアーは、境界部78を介して多重同心円定盤1
2の外部に吹き出されるので、定盤28と定盤30との
境界部78からのスラリの浸入を防止できる。
【0031】ところで、図3に示したモータ32、3
4、36による各定盤26、28、30の周速及び回転
方向は、制御装置(制御手段に相当)38によって制御
されている。これによって、ガラス板Gをテーブル14
に接着保持することなく保持させる保持手段の機能を発
揮する。以下、その作用を説明する。
【0032】図6に示すように、定盤26の回転方向を
矢印Aの如く時計周り方向に設定し、定盤28の回転方
向を矢印Bの如く反時計周り方向に設定し、そして、定
盤30の回転方向を矢印Cの如く時計周り方向に設定す
る。
【0033】そして、定盤26、28、30からガラス
板Gに働く回転力のX方向及びY方向のベクトル(図4
ではY方向のベクトルのみ図示)の総和が零に近づくよ
うな周速を設定する。すなわち、定盤26からガラス板
Gに働く+側のベクトルDと−側ベクトルE、定盤28
からガラス板Gに働く+側のベクトルFと−側ベクトル
G、定盤30からガラス板Gに働く−側ベクトルHの総
和が零に近づくように設定する。これにより、多重同心
円定盤12からガラス板Gに働く力が相殺される。
【0034】よって、多重同心円定盤12からガラス板
Gに、ガラス板Gの位置をずらすような力は働かないの
で、ガラス板Gをテーブル14に接着保持することな
く、ガラス板Gの周縁部の把持のみで、ガラス板Gを多
重同心円定盤12に対して位置決めした状態で研磨でき
る。
【0035】このような保持手段を設けることで、図2
に示したエア層22を介しての研磨が初めて可能にな
る。この利点を説明すると、ガラス板をテーブルに接着
保持して研磨する従来の研磨装置は、裏面転写の現象等
でテーブルの接着保持面や板状体の研磨しない裏面の精
度が板状体の表面の研磨精度に大きく影響を与えるた
め、接着保持面を高精度に加工し、さらに高価で維持管
理に手間のかかる特殊な保持パッドを使用しても、効率
を犠牲にしないで得られる研磨精度(特に平坦度)には
限界があった。これに対して、圧縮エアの動圧又は静圧
でガラス板Gを多重同心円定盤12に押し付ける実施の
形態の研磨装置10は、テーブル14の加工精度は問わ
ず、また高価で維持管理に手間のかかる特殊なパッドを
使用しないためコストを削減できる。また、ガラス板G
全面を裏面転写の影響を受けることなく多重同心円定盤
12に均一な圧力で押し付けることが可能なので、ガラ
ス板Gを均一かつ極めて良好な平坦度に研磨できる。
【0036】なお、ガラス板Gを均一に研磨する観点か
ら、内側の定盤26、28の周速を、外側の定盤30の
周速と同等に設定することが重要である。また、実施の
形態の研磨装置10では、定盤26、28、30毎にモ
ータ32、34、36を設けたが、1台のモータで定盤
26、28、30を回転させてもよい。この場合、減速
機構の減速比を定盤毎に変えて定盤26、28、30の
周速を同等に設定することが好ましい。
【0037】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る板状体
の研磨装置及び研磨方法によれば、研磨定盤を多重同心
円定盤に構成し、この多重同心円定盤の各々の周速及び
回転方向を制御することにより、板状体をテーブルに接
着保持することなく保持したので、テーブルに対する板
状体の接着保持が無くなり、板状体の研磨効率が向上す
る。
【0038】また、本発明のテーブルによれば、板状体
との対向面に、エア噴射孔を形成し、エア噴射孔から噴
射される圧縮エアの動圧又は静圧で板状体を研磨定盤に
押し付けて研磨するので、テーブルの製造コストを削減
でき、また、板状体全面を研磨定盤に均一な圧力で押し
付けることができるので、板状体を均一に研磨できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態の研磨装置の全体構造を示す斜視図
【図2】図1に示した研磨装置のテーブルの断面を模式
的に示した図
【図3】図1に示した研磨装置の研磨定盤を模式的に示
した平面図
【図4】図1に示した研磨装置の縦断面構造図
【図5】図4のA部の拡大断面図
【図6】図2に示した研磨定盤からガラス板に働く力を
ベクトルで説明した図
【図7】従来の研磨装置の研磨定盤を模式的に示した平
面図
【図8】図7に示した研磨定盤からガラス板に働く力を
ベクトルで説明した図
【符号の説明】
G…ガラス板(板状体に相当)、10…研磨装置(多重
同心円定盤に相当)、14…テーブル、18…エア噴射
孔、26、28、30…定盤、32、34、36…モー
タ、38…制御装置(制御手段に相当)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B24B 41/06 B24B 41/06 L G02F 1/1333 500 G02F 1/1333 500

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 板状体をテーブルと研磨定盤とで挟みつ
    けた状態で研磨定盤を回転させて板状体を研磨する板状
    体の研磨装置において、 前記研磨定盤は、該研磨定盤の回転軸を中心とする同心
    円状に分割形成された多重同心円定盤に構成されること
    を特徴とする板状体の研磨装置。
  2. 【請求項2】 前記多重同心円定盤の各々の周速及び回
    転方向が独立して制御可能とされ、各々の多重同心円定
    盤から板状体に働く力を相殺する制御手段を設けた請求
    項1に記載の板状体の研磨装置。
  3. 【請求項3】 前記テーブルの前記板状体との対向面に
    はエア噴射孔が形成され、該エア噴射孔から噴射される
    圧縮エアによってテーブルと板状体との隙間に圧縮エア
    の動圧を発生させ、該動圧で板状体を前記研磨定盤に押
    し付ける請求項1又は2に記載の板状体の研磨装置。
  4. 【請求項4】 前記テーブルの前記板状体との対向面で
    板状体の内周部に相当する位置にはエア噴射孔が形成さ
    れるとともに、前記対向面で板状体の外周部に相当する
    位置にはエア吸引孔が形成され、該エア吸引孔を介して
    板状体の外周部をテーブルに吸着するとともに、前記エ
    ア噴射孔から噴射される圧縮エアによってテーブルと板
    状体との隙間に圧縮エアの静圧を発生させ、該静圧で板
    状体を前記研磨定盤に押し付ける請求項1又は2に記載
    の板状体の研磨装置。
  5. 【請求項5】 板状体をテーブルと研磨定盤とで挟みつ
    けた状態で研磨定盤を回転させて板状体を研磨する板状
    体の研磨方法において、 前記研磨定盤を、該研磨定盤の回転軸を中心とする同心
    円状に分割形成された多重同心円定盤に構成し、 前記多重同心円定盤の各々の周速及び回転方向を制御手
    段によって独立して制御し、各々の多重同心円定盤から
    板状体に働く力を相殺した状態で板状体を研磨すること
    を特徴とする板状体の研磨方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010149228A (ja) * 2008-12-25 2010-07-08 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ基板の研磨方法
JP2016049617A (ja) * 2014-09-02 2016-04-11 株式会社サンポー ショットブラスト装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010149228A (ja) * 2008-12-25 2010-07-08 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ基板の研磨方法
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