JP2002342984A - Method of manufacturing optical information recording medium - Google Patents

Method of manufacturing optical information recording medium

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JP2002342984A JP2001150033A JP2001150033A JP2002342984A JP 2002342984 A JP2002342984 A JP 2002342984A JP 2001150033 A JP2001150033 A JP 2001150033A JP 2001150033 A JP2001150033 A JP 2001150033A JP 2002342984 A JP2002342984 A JP 2002342984A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing an optical information recording medium which is capable of stably assuring the reproducibility of recording and reproducing characteristics even if a dyes waste liquid is recycled as a dye solution and efficiently realizes the reduction of the manufacturing cost. SOLUTION: The dye waste solution 452 recovered in coating application treatment of the dye solution is subjected to removal of solids in the dye waste solution 452 with a filter and the dilute waste solution 611 is formed by diluting the dyes waste solution 452. The contents of the dye and color fading preventive agent in the dilute waste solution 611 are quantitatively determined and the concentration of the dye and color fading preventive agent is so regulated as to coincide with the concentration of the dye and color fading preventive agent in the dye solution prior to recovery with accuracy of >=2 digits based on the quantitatively determined result and the regulated solution is recycled as the regenerated dye solution 614.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を用いて
情報の記録及び再生を行うことができるヒートモード型
の光情報記録媒体の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a heat mode optical information recording medium capable of recording and reproducing information by using a laser beam.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、レーザ光により1回限りの情報
の記録が可能な光情報記録媒体(光ディスク)として
は、追記型CD(いわゆるCD−R)やDVD−Rなど
があり、従来のCD(コンパクトディスク)の作製に比
べて少量のCDを手頃な価格でしかも迅速に市場に供給
できる利点を有しており、最近のパーソナルコンピュー
タなどの普及に伴ってその需要も増している。
2. Description of the Related Art In general, as an optical information recording medium (optical disk) on which information can be recorded only once by a laser beam, there are a write-once CD (so-called CD-R) and a DVD-R. Compared to the production of (compact discs), it has the advantage that a small amount of CDs can be supplied to the market at a reasonable price and quickly, and the demand has increased with the recent spread of personal computers and the like.

【0003】CD−R型の光情報記録媒体の代表的な構
造は、厚みが約1.2mmの透明な円盤状基板上に有機
色素からなる記録層、金などの金属からなる光反射層、
更に樹脂製の保護層をこの順に積層したものである(例
えば特開平6−150371号公報参照)。
A typical structure of a CD-R type optical information recording medium is a recording layer made of an organic dye, a light reflecting layer made of a metal such as gold on a transparent disc-shaped substrate having a thickness of about 1.2 mm,
Further, a protective layer made of resin is laminated in this order (see, for example, JP-A-6-150371).

【0004】また、DVD−R型の光情報記録媒体は、
2枚の円盤状基板(厚みが約0.6mm)を各情報記録
面をそれぞれ内側に対向させて貼り合わせた構造を有
し、記録情報量が多いという特徴を有する。
A DVD-R type optical information recording medium is
It has a structure in which two disc-shaped substrates (having a thickness of about 0.6 mm) are bonded together with their respective information recording surfaces facing inward, and has a feature that the amount of recorded information is large.

【0005】そして、これら光情報記録媒体への情報の
書き込み(記録)は、近赤外域のレーザ光(CD−Rで
は通常780nm付近、DVD−Rでは635nm付近
の波長のレーザ光)を照射することにより行われ、色素
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
し、物理的あるいは化学的な変化(例えばピットの生
成)が生じて、その光学的特性を変えることにより情報
が記録される。
For writing (recording) information on these optical information recording media, a laser beam in the near-infrared region (a laser beam having a wavelength of about 780 nm for CD-R and a wavelength of about 635 nm for DVD-R) is irradiated. The irradiation portion of the dye recording layer absorbs the light and locally raises the temperature, causing a physical or chemical change (for example, formation of pits) and changing its optical characteristics. Information is recorded.

【0006】一方、情報の読み取り(再生)も、通常、
記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光を照射すること
により行われ、色素記録層の光学的特性が変化した部位
(ピットの生成による記録部分)と変化しない部位(未
記録部分)との反射率の違いを検出することにより情報
が再生される。
On the other hand, information reading (reproduction) is usually
Reflection is performed by irradiating a laser beam having the same wavelength as the recording laser beam, so that the optical characteristics of the dye recording layer are changed between a portion (recorded portion due to pit generation) and a portion not changed (unrecorded portion). The information is reproduced by detecting the difference in rate.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
な光ディスクを製造する場合にスピンコート法が使用さ
れている。このスピンコート法は、回転している基板の
内周側に溶液を滴下し、遠心力により該溶液を外周側に
流延させて塗膜を形成すると共に、その余分の溶液を基
板の外周縁部から振り切り、その周囲に放出させ、次い
で、塗膜から溶剤を乾燥除去する処理を含む薄膜形成法
の一種である。
By the way, a spin coating method is used for manufacturing the above-mentioned optical disk. In this spin coating method, a solution is dropped on the inner peripheral side of a rotating substrate, and the solution is cast on the outer peripheral side by centrifugal force to form a coating film. This is a type of thin film forming method including a process of shaking off from a part, discharging the solution around the part, and then drying and removing the solvent from the coating film.

【0008】光ディスクを安価に提供するために、コス
トを下げて製造することが重要である。そのためには、
(1)安価な原料を使用すること、(2)製造の歩留ま
りを上げること、(3)製造スピードを上げること、が
重要となってくる。その中で、(1)については、原料
の価格をこれ以上安価にするのは困難な状況にあり、新
しい方法を検討する必要がある。
In order to provide an optical disk at low cost, it is important to manufacture the optical disk at a low cost. for that purpose,
It is important to (1) use inexpensive raw materials, (2) increase production yield, and (3) increase production speed. Among them, with regard to (1), it is difficult to reduce the price of the raw materials further, and it is necessary to consider a new method.

【0009】そこで、本出願人は、特開2000−28
5528号公報等に、スピンコート法による塗布処理に
おいて排出される廃液を再利用する方法を提案してい
る。スピンコート法によって実際に基板上に塗布される
量は、吐出量の約2割であり、残りが廃液だめに溜ま
る。この方法では、廃液だめに溜まった色素廃液を再利
用することにより、製造コストを大幅に低減することが
できる。
Therefore, the present applicant has disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-28.
No. 5528 proposes a method of reusing a waste liquid discharged in a coating treatment by a spin coating method. The amount actually applied on the substrate by the spin coating method is about 20% of the discharge amount, and the remainder is collected in a waste liquid reservoir. In this method, the manufacturing cost can be significantly reduced by reusing the dye waste liquid accumulated in the waste liquid sump.

【0010】しかしながら、色素廃液は色素濃度が高
く、色素や退色防止剤の析出物等の固形物を含んでいる
ので、色素廃液を利用した色素溶液(以下、「再生色素
溶液」という)は濃度調整が難しく、再生色素溶液を実
際に塗布液として使用した場合には、回収前の色素溶液
と同じ条件で塗布しても、同じ厚さの塗布膜(光学濃
度)を得ることができず、光学濃度を測定しながら塗布
条件を最適化し直す必要があった。
However, since the dye waste liquid has a high dye concentration and contains solid substances such as the precipitate of the dye and the anti-fading agent, the dye solution using the dye waste liquid (hereinafter referred to as “regenerated dye solution”) has a high concentration. Adjustment is difficult, and when the regenerated dye solution is actually used as a coating solution, a coating film (optical density) of the same thickness cannot be obtained even when applied under the same conditions as the dye solution before recovery, It was necessary to re-optimize the coating conditions while measuring the optical density.

【0011】本発明は上記の問題点に鑑みなされたもの
であり、色素廃液を色素溶液として再利用しても記録再
生特性の再現性を安定に確保でき、製造コストの低廉化
を効率よく実現することができる光情報記録媒体の製造
方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and can stably maintain reproducibility of recording / reproducing characteristics even when a dye waste liquid is reused as a dye solution, thereby efficiently realizing reduction in manufacturing cost. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an optical information recording medium that can perform the method.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1に記載の発明は、基板上に、レーザ光の照
射により情報を記録することができる色素記録層を有す
る光情報記録媒体の製造方法において、前記基板を回転
させながら前記色素記録層を形成するための色素溶液を
前記基板上に塗布する塗布工程と、前記塗布工程で排出
された色素廃液を回収する回収工程と、前記回収工程で
得られた色素廃液から固形物を除去すると共に該色素廃
液を所定倍率で希釈して希釈廃液とする前処理工程と、
前記前処理工程で得られた希釈廃液中の主要成分の含有
量を定量する定量工程と、前記定量工程での定量結果に
基づいて、主要成分の濃度が前記色素溶液中の主要成分
の濃度と2桁以上の精度で一致するように、主要成分の
濃度を調整して前記希釈廃液から再生色素溶液を得る濃
度調整工程と、を含み、前記濃度調整工程で得られた再
生色素溶液を、色素溶液として再利用することを特徴と
する。
According to one aspect of the present invention, there is provided an optical information recording apparatus having a dye recording layer capable of recording information by irradiating a laser beam on a substrate. In the method for manufacturing a medium, a coating step of applying a dye solution for forming the dye recording layer on the substrate while rotating the substrate, and a collecting step of collecting a dye waste liquid discharged in the coating step, A pretreatment step of removing solids from the dye waste liquid obtained in the recovery step and diluting the dye waste liquid at a predetermined magnification to a diluted waste liquid,
A quantification step of quantifying the content of the main component in the diluted waste liquid obtained in the pretreatment step, and based on the quantification result in the quantification step, the concentration of the main component is the concentration of the main component in the dye solution. Adjusting the concentration of the main component to obtain a regenerated dye solution from the diluted waste solution so that the reconstituted dye solution is obtained with the concentration of two or more digits. It is characterized by being reused as a solution.

【0013】請求項1の光情報記録媒体の製造方法で
は、色素溶液を基板上に塗布して色素記録層を形成する
際に、排出される色素廃液を回収し、回収した色素廃液
に所定の処理を施して再生色素溶液とした上で、色素溶
液として再利用する。このため製造コストの低廉化を効
率よく実現することができる。
In the method for manufacturing an optical information recording medium according to the first aspect, when a dye solution is applied onto a substrate to form a dye recording layer, the discharged dye waste liquid is collected, and the collected dye waste liquid is added to a predetermined color. After being subjected to a treatment to obtain a regenerated dye solution, it is reused as a dye solution. Therefore, it is possible to efficiently reduce the manufacturing cost.

【0014】また、再生色素溶液中の色素及び退色防止
剤の濃度を、色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と
2桁以上の精度で一致するように調整するので、再生色
素溶液を用いて色素記録層を形成した際に、記録再生特
性の再現性を確保することができる。
Further, the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the regenerated dye solution are adjusted so as to match the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the dye solution with precision of two digits or more. Thus, when the dye recording layer is formed, reproducibility of the recording / reproducing characteristics can be secured.

【0015】特に、本発明では、回収した色素廃液を再
生色素溶液として再利用するに際して、色素廃液から固
形物を除去すると共に該色素廃液を所定倍率で希釈して
希釈廃液とする前処理を行い、この前処理工程で得られ
た希釈廃液中の主要成分の含有量を定量し、得られた定
量結果に基づいて主要成分の濃度が前記色素溶液中の主
要成分の濃度と2桁以上の精度で一致するように、主要
成分の濃度を調整するようにしたので、定量誤差が小さ
くなり、再生色素溶液を用いて色素記録層を形成した際
に、記録再生特性の再現性を安定に確保することができ
る。
In particular, in the present invention, when the recovered dye waste liquid is reused as a regenerated dye solution, a solid substance is removed from the dye waste liquid, and the dye waste liquid is diluted at a predetermined magnification to perform a pretreatment to make a diluted waste liquid. Quantifying the content of the main component in the diluted waste liquid obtained in this pretreatment step, and, based on the obtained quantification result, the concentration of the main component is at least two orders of magnitude higher than the concentration of the main component in the dye solution. Since the concentrations of the main components are adjusted so as to coincide with each other, the quantitative error is reduced, and when the dye recording layer is formed using the reproduction dye solution, the reproducibility of the recording / reproduction characteristics is stably ensured. be able to.

【0016】また、請求項2に記載の発明は、基板上
に、レーザ光の照射により情報を記録することができる
色素記録層を有する光情報記録媒体の製造方法におい
て、前記基板を回転させながら前記色素記録層を形成す
るための色素溶液を前記基板上に塗布する塗布工程と、
前記塗布工程で排出された色素廃液を回収する回収工程
と、前記回収工程で得られた色素廃液から固形物を除去
すると共に該色素廃液を所定倍率で希釈して希釈廃液と
する前処理工程と、前記前処理工程で得られた希釈廃液
中の主要成分の含有量を定量する第1の定量工程と、前
記第1の定量工程での定量結果に基づいて、主要成分の
濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度よりも0.01
〜1質量%高い濃度となるように、主要成分の濃度を調
整して前記希釈廃液から1次再生色素溶液を得る第1の
濃度調整工程と、前記第1の濃度調整工程で得られた1
次再生色素溶液中の主要成分の含有量を定量する第2の
定量工程と、前記第2の定量工程での定量結果に基づい
て、主要成分の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度
と2桁以上の精度で一致するように、主要成分の濃度を
調整して前記希釈廃液から2次再生色素溶液を得る第2
の濃度調整工程と、を含み、前記第2の濃度調整工程で
得られた2次再生色素溶液を、色素溶液として再利用す
ることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an optical information recording medium having a dye recording layer on which information can be recorded by irradiating a laser beam on the substrate. An application step of applying a dye solution for forming the dye recording layer on the substrate,
A collection step of collecting the dye waste liquid discharged in the coating step, and a pretreatment step of removing solids from the dye waste liquid obtained in the collection step and diluting the dye waste liquid at a predetermined magnification to a diluted waste liquid, and A first quantification step of quantifying the content of the main component in the diluted waste liquid obtained in the pretreatment step, and the concentration of the main component is determined based on the result of the quantification in the first quantification step. 0.01 than the concentration of main components in
A first concentration adjustment step of adjusting the concentration of the main component to obtain a primary regenerated dye solution from the diluted waste liquid so that the concentration becomes higher by 1% by mass, and 1% obtained in the first concentration adjustment step.
A second quantification step for quantifying the content of the main component in the next regenerated dye solution, and based on the quantification result in the second quantification step, the concentration of the main component is set to the concentration of the main component in the dye solution. Adjusting the concentration of the main component to obtain a secondary regenerated dye solution from the diluted waste liquid so as to match with a precision of two digits or more;
Wherein the secondary regenerated dye solution obtained in the second concentration adjusting step is reused as a dye solution.

【0017】請求項2の光情報記録媒体の製造方法で
は、前処理工程で得られた希釈廃液中の主要成分の含有
量を定量し、得られた定量結果に基づいて主要成分の濃
度を調整して再生色素溶液とするのに際し、まず、前処
理工程で得られた希釈廃液中の主要成分の含有量を定量
し(第1の定量工程)、得られた定量結果に基づいて主
要成分の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度よりも
0.01〜1質量%高い濃度となるように主要成分の濃
度を調整して1次再生色素溶液とし(第1の濃度調整工
程)、次に、第1の濃度調整工程で得られた1次再生色
素溶液中の主要成分の含有量を定量し(第2の定量工
程)、得られた定量結果に基づいて主要成分の濃度が前
記色素溶液中の主要成分の濃度と2桁以上の精度で一致
するように主要成分の濃度を調整している(第2の濃度
調整工程)。
In the method for manufacturing an optical information recording medium according to a second aspect, the content of the main component in the diluted waste liquid obtained in the pretreatment step is quantified, and the concentration of the main component is adjusted based on the obtained quantification result. First, the content of the main component in the diluted waste liquid obtained in the pretreatment step is quantified (first quantification step), and the main component is determined based on the obtained quantification result. The concentration of the main component is adjusted so that the concentration becomes 0.01 to 1% by mass higher than the concentration of the main component in the dye solution to obtain a primary regenerated dye solution (first concentration adjusting step). Then, the content of the main component in the primary regenerated dye solution obtained in the first concentration adjustment step is quantified (second quantification step), and based on the obtained quantification result, the concentration of the main component is determined by the dye. The concentration of the major component in the solution should be more than two orders of magnitude And adjusting the degree (second concentration adjusting process).

【0018】このように、主要成分の濃度の調整を、粗
調整と微調整の2段階で行うようにしたので、高い精度
で濃度調整を行うことが容易になり、得られた2次再生
色素溶液を用いて色素記録層を形成した際に、記録再生
特性の再現性を安定に確保することができる。
As described above, since the adjustment of the concentration of the main component is performed in two stages of the coarse adjustment and the fine adjustment, it is easy to perform the density adjustment with high accuracy, and the obtained secondary regenerated dye is obtained. When a dye recording layer is formed using a solution, reproducibility of recording / reproducing characteristics can be secured stably.

【0019】上記の製造方法の前処理工程においては、
色素廃液を1.5〜3.0倍に希釈して希釈廃液とする
ことが好ましい。また、上記の製造方法の定量工程にお
いては、主要成分として、少なくとも色素及び退色防止
剤の含有量を定量することが好ましく、希釈廃液または
1次再生色素溶液を10〜9000倍に希釈して、廃液
中の主要成分の含有量を定量するのが好ましい。この場
合、主要成分の定量を液体クロマトグラフィで行うのが
好ましい。
In the pretreatment step of the above-mentioned manufacturing method,
It is preferable to dilute the dye waste liquid 1.5 to 3.0 times to obtain a diluted waste liquid. Further, in the quantification step of the above-mentioned production method, it is preferable to quantify at least the content of the dye and the anti-fading agent as the main components, and dilute the diluted waste liquid or the primary regenerated dye solution 10 to 9000 times, It is preferable to determine the content of the main components in the waste liquid. In this case, the quantification of the main components is preferably performed by liquid chromatography.

【0020】また、上記の製造方法において、前記前処
理工程の前に、前記色素溶液の塗布の際に周囲に付着し
た色素を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程で回収され
た色素廃液の色素濃度が前記回収工程で回収された前記
色素溶液の色素濃度以上となった段階で、これら色素廃
液を混合する混合工程と、を更に含むようにしてもよ
い。
Further, in the above-mentioned manufacturing method, before the pre-treatment step, a washing step of washing the dye adhered to the periphery when the dye solution is applied, and a dye of the dye waste liquid collected in the washing step A mixing step of mixing these dye waste liquids when the concentration becomes equal to or higher than the dye concentration of the dye solution collected in the collecting step may be further included.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明に
係る光情報記録媒体の製造方法を、色素記録層を備えた
光ディスク(例えばCD−R)を製造するシステムに適
用した実施の形態について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Referring to the drawings, an embodiment in which a method for manufacturing an optical information recording medium according to the present invention is applied to a system for manufacturing an optical disk (for example, a CD-R) having a dye recording layer. The form will be described.

【0022】本実施の形態に係る製造システム10は、
図1に示すように、例えば射出成形、圧縮成形又は射出
圧縮成形によって基板を作製する2つの成形設備(第1
及び第2の成形設備12A及び12B)と、基板の一主
面上に色素塗布液を塗布して乾燥させることにより、該
基板上に色素記録層を形成する塗布設備14と、基板の
色素記録層上に光反射層を例えばスパッタリングにより
形成し、その後、光反射層上にUV硬化液を塗布した
後、UV照射して前記光反射層上に保護層を形成する後
処理設備16とを有して構成されている。
The manufacturing system 10 according to the present embodiment
As shown in FIG. 1, for example, two molding equipments (first and second molding apparatuses) for producing a substrate by injection molding, compression molding or injection compression molding.
And a second molding facility 12A and 12B), a coating facility 14 for forming a dye recording layer on the substrate by applying and drying a dye coating solution on one main surface of the substrate, and a dye recording apparatus for the substrate. A light-reflecting layer is formed on the light-reflecting layer by, for example, sputtering, and after that, a UV curing liquid is applied onto the light-reflecting layer, and then UV irradiation is performed to form a protective layer on the light-reflecting layer. It is configured.

【0023】第1及び第2の成形設備12A及び12B
は、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形、圧縮
成形又は射出圧縮成形して、一主面にトラッキング用溝
又はアドレス信号等の情報を表す凹凸(グルーブ)が形
成された基板を作製する成形機20と、該成形機20か
ら取り出された基板を冷却する冷却部22と、冷却後の
基板を段積みして保管するためのスタックポール24が
複数本設置された集積部26(スタックポール回転台)
とを有する。
First and second molding equipment 12A and 12B
Is a molding machine 20 for injection molding, compression molding, or injection compression molding of a resin material such as polycarbonate to produce a substrate having a tracking groove or an unevenness (groove) representing information such as an address signal formed on one main surface. A cooling unit 22 for cooling the substrate taken out of the molding machine 20, and an accumulating unit 26 (stack pole turntable) on which a plurality of stack poles 24 for stacking and storing the cooled substrates are stored.
And

【0024】塗布設備14は、3つの処理部30、32
及び34から構成され、第1の処理部30には、前記第
1及び第2の成形設備12A及び12Bから搬送された
スタックポール24を収容するためのスタックポール収
容部40と、該スタックポール収容部40に収容された
スタックポール24から1枚ずつ基板を取り出して次工
程に搬送する第1の搬送機構42と、該第1の搬送機構
42によって搬送された1枚の基板に対して静電気の除
去を行う静電ブロー機構44とを有する。
The coating equipment 14 has three processing units 30, 32
And 34, the first processing section 30 includes a stack pole storage section 40 for storing the stack poles 24 transported from the first and second molding facilities 12A and 12B, and a stack pole storage section 40 for storing the stack poles. A first transport mechanism 42 that takes out the substrates one by one from the stack pole 24 accommodated in the unit 40 and transports the substrates to the next process; And an electrostatic blow mechanism 44 for removing.

【0025】第2の処理部32は、第1の処理部30に
おいて静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送
する第2の搬送機構46と、該第2の搬送機構46によ
って搬送された複数の基板に対してそれぞれ色素塗布液
を塗布する色素塗布機構48と、色素塗布処理を終えた
基板を1枚ずつ次工程に搬送する第3の搬送機構50と
を有する。この色素塗布機構48は6つのスピンコート
装置52を有して構成されている。
The second processing section 32 includes a second transport mechanism 46 for sequentially transporting the substrates, which have been subjected to the electrostatic blow processing in the first processing section 30, to the next process, and transporting the substrates by the second transport mechanism 46. A dye coating mechanism 48 that applies a dye coating liquid to each of the plurality of substrates, and a third transport mechanism 50 that transports the substrates that have been subjected to the dye application processing one by one to the next process. The dye application mechanism 48 includes six spin coaters 52.

【0026】第3の処理部34は、前記第3の搬送機構
50にて搬送された1枚の基板の裏面を洗浄する裏面洗
浄機構54と、裏面洗浄を終えた基板を次工程に搬送す
る第4の搬送機構56と、該第4の搬送機構56によっ
て搬送された基板に対してロット番号等の刻印を行う番
号付与機構58と、ロット番号等の刻印を終えた基板を
次工程に搬送する第5の搬送機構60と、該第5の搬送
機構60によって搬送された基板に対して欠陥の有無並
びに色素記録層の膜厚の検査を行う検査機構62と、該
検査機構62での検査結果に応じて基板を正常品用のス
タックポール64あるいは不良品用(NG用)のスタッ
クポール66に選別する選別機構68とを有する。
The third processing unit 34 transports the substrate after cleaning the rear surface to the next step, and a rear surface cleaning mechanism 54 for cleaning the rear surface of one substrate transported by the third transport mechanism 50. A fourth transport mechanism 56, a numbering mechanism 58 for marking the substrate transported by the fourth transport mechanism 56 with a lot number or the like, and transporting the substrate having been stamped with the lot number or the like to the next step. A fifth transport mechanism 60, an inspection mechanism 62 that inspects the substrate transported by the fifth transport mechanism 60 for the presence or absence of a defect, and a film thickness of the dye recording layer, and an inspection by the inspection mechanism 62. A sorting mechanism 68 for sorting the substrate into a stack pole 64 for a normal product or a stack pole 66 for a defective product (for NG) according to the result.

【0027】第1の処理部30と第2の処理部32との
間に第1の仕切板70が設置され、第2の処理部32と
第3の処理部34にも同様の第2の仕切板72が設置さ
れている。第1の仕切板70の下部には、第2の搬送機
構46による基板の搬送経路を塞がない程度の開口(図
示せず)が形成され、第2の仕切板72の下部には、第
3の搬送機構50による基板の搬送経路を塞がない程度
の開口(図示せず)が形成されている。
A first partition plate 70 is provided between the first processing unit 30 and the second processing unit 32, and the second processing unit 32 and the third processing unit 34 have the same second processing plate. A partition plate 72 is provided. An opening (not shown) is formed below the first partition plate 70 to such an extent that the transfer path of the substrate by the second transfer mechanism 46 is not blocked. An opening (not shown) is formed so as not to block the substrate transfer path by the third transfer mechanism 50.

【0028】後処理設備16は、塗布設備14から搬送
された正常品用のスタックポール64を収容するための
スタックポール収容部80と、該スタックポール収容部
80に収容されたスタックポール64から1枚ずつ基板
を取り出して次工程に搬送する第6の搬送機構82と、
該第6の搬送機構82によって搬送された1枚の基板に
対して静電気の除去を行う第1の静電ブロー機構84
と、静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送す
る第7の搬送機構86と、該第7の搬送機構86によっ
て搬送された基板の一主面に光反射層をスパッタリング
にて形成するスパッタ機構88と、光反射層のスパッタ
リングを終えた基板を次工程に順次搬送する第8の搬送
機構90と、該第8の搬送機構90によって搬送された
基板の周縁(エッジ部分)を洗浄するエッジ洗浄機構9
2とを有する。
The post-processing facility 16 includes a stack pole storage section 80 for storing a stack pole 64 for normal products transported from the coating apparatus 14, and one of the stack poles 64 stored in the stack pole storage section 80. A sixth transport mechanism 82 that takes out substrates one by one and transports them to the next process;
A first electrostatic blow mechanism 84 for removing static electricity from one substrate transported by the sixth transport mechanism 82
And a seventh transport mechanism 86 for sequentially transporting the substrate after the electrostatic blow processing to the next step, and forming a light reflecting layer on one main surface of the substrate transported by the seventh transport mechanism 86 by sputtering. Transport mechanism 90 for sequentially transporting the substrate after the sputtering of the light reflection layer to the next step, and cleaning the periphery (edge portion) of the substrate transported by the eighth transport mechanism 90 Edge cleaning mechanism 9
And 2.

【0029】また、この後処理設備16は、エッジ洗浄
を終えた基板に対して静電気の除去を行う第2の静電ブ
ロー機構94と、静電ブロー処理を終えた基板の一主面
に対してUV硬化液を塗布するUV硬化液塗布機構96
と、UV硬化液の塗布を終えた基板を高速に回転させて
基板上のUV硬化液の塗布厚を均一にするスピン機構9
8と、UV硬化液の塗布及びスピン処理を終えた基板に
対して紫外線を照射することによりUV硬化液を硬化さ
せて基板の一主面に保護層を形成するUV照射機構10
0と、前記基板を第2の静電ブロー機構94、UV硬化
液塗布機構96、スピン機構98及びUV照射機構10
0にそれぞれ搬送する第9の搬送機構102と、UV照
射された基板を次工程に搬送する第10の搬送機構10
4と、該第10の搬送機構104によって搬送された基
板に対して塗布面と保護層面の欠陥を検査するための欠
陥検査機構106と、基板に形成されたグルーブによる
信号特性を検査するための特性検査機構108と、これ
ら欠陥検査機構106及び特性検査機構108での検査
結果に応じて基板を正常品用のスタックポール110あ
るいはNG用のスタックポール112に選別する選別機
構114とを有する。
The post-processing equipment 16 includes a second electrostatic blow mechanism 94 for removing static electricity from the substrate after edge cleaning, and a second electrostatic blow mechanism 94 for removing one main surface of the substrate after electrostatic blow processing. UV curable liquid application mechanism 96 for applying UV curable liquid
And a spin mechanism 9 for rotating the substrate on which the UV curing liquid has been applied at a high speed so as to make the applied thickness of the UV curing liquid on the substrate uniform.
8, a UV irradiation mechanism 10 for curing the UV curing liquid by irradiating ultraviolet rays to the substrate after the application of the UV curing liquid and the spin treatment to form a protective layer on one main surface of the substrate
0 and a second electrostatic blow mechanism 94, a UV curing liquid coating mechanism 96, a spin mechanism 98 and a UV irradiation mechanism 10
And a tenth transport mechanism 10 for transporting the substrate irradiated with UV to the next step.
4, a defect inspection mechanism 106 for inspecting the substrate transported by the tenth transport mechanism 104 for defects on the coating surface and the protective layer surface, and a defect inspection mechanism 106 for inspecting signal characteristics due to grooves formed on the substrate. It has a characteristic inspection mechanism 108 and a selection mechanism 114 for selecting a substrate into a stack pole 110 for a normal product or a stack pole 112 for NG according to the inspection results of the defect inspection mechanism 106 and the characteristic inspection mechanism 108.

【0030】スピンコート装置52は、図2及び図3に
示すように、塗布液付与装置400、スピナーヘッド装
置402及び飛散防止壁404を有して構成されてい
る。塗布液付与装置400は、塗布液が充填された加圧
タンク(図示せず)と、該加圧タンクからノズル406
に引き回されたパイプ(図示せず)と、ノズル406か
ら吐出される塗布液の量を調整するための吐出量調整バ
ルブ408とを有し、塗布液は前記ノズル406を通し
てその所定量が基板202の表面上に滴下されるように
なっている。この塗布液付与装置400は、ノズル40
6を下方に向けて支持する支持板410と該支持板41
0を水平方向に旋回させるモータ412とを有するハン
ドリング機構414によって、待機位置から基板202
の上方の位置に旋回移動できるように構成されている。
As shown in FIGS. 2 and 3, the spin coating device 52 includes a coating liquid application device 400, a spinner head device 402, and a scattering prevention wall 404. The coating liquid application device 400 includes a pressurized tank (not shown) filled with the coating liquid, and a nozzle 406 from the pressurized tank.
And a discharge amount adjusting valve 408 for adjusting the amount of the coating liquid discharged from the nozzle 406. The predetermined amount of the coating liquid passes through the nozzle 406 and reaches the substrate. The liquid is dropped on the surface of the base 202. The coating liquid application device 400 includes a nozzle 40
Plate 410 supporting support member 6 downward and supporting plate 41
The substrate 202 is moved from the standby position by a handling mechanism 414 having a motor 412 for horizontally rotating the substrate 202.
Is configured to be able to pivotally move to a position above.

【0031】スピナーヘッド装置402は、前記塗布液
付与装置400の下方に配置されており、着脱可能な固
定具420により、基板202が水平に保持されると共
に、駆動モータ(図示せず)により軸回転が可能とされ
ている。
The spinner head device 402 is disposed below the coating liquid applying device 400. The spinner head device 402 holds the substrate 202 horizontally by a detachable fixing tool 420, and the shaft is driven by a drive motor (not shown). It is possible to rotate.

【0032】スピナーヘッド装置402により水平に保
持された状態で回転している基板202上に、上記の塗
布液付与装置400のノズル406から滴下した塗布液
は、基板202の表面上を外周側に流延する。そして、
余分の塗布液は基板202の外周縁部で振り切られ、そ
の外側に放出され、次いで塗膜が乾燥されることによ
り、基板202の表面上に塗膜(色素記録層204)が
形成される。
The coating liquid dropped from the nozzle 406 of the coating liquid applying apparatus 400 onto the substrate 202 rotating while being held horizontally by the spinner head device 402 is directed outward on the surface of the substrate 202. Cast. And
The excess coating liquid is shaken off at the outer peripheral edge of the substrate 202, discharged to the outside, and then dried to form a coating film (dye recording layer 204) on the surface of the substrate 202.

【0033】飛散防止壁404は、基板202の外周縁
部から外側に放出された余分の塗布液が周辺に飛散する
のを防止するために設けられており、上部に開口422
が形成されるようにスピナーヘッド装置402の周囲に
配置されている。飛散防止壁404を介して集められた
余分の塗布液、即ち、色素廃液はドレイン424を通し
て回収容器450に回収されるようになっている。色素
廃液の回収後の処理については後で詳述する。
The scattering prevention wall 404 is provided to prevent excess coating liquid discharged outward from the outer peripheral edge of the substrate 202 from scattering to the periphery, and has an opening 422 at the top.
Are formed around the spinner head device 402 so as to be formed. The excess coating liquid collected through the scattering prevention wall 404, that is, the dye waste liquid, is collected in the collection container 450 through the drain 424. The processing after the collection of the dye waste liquid will be described later in detail.

【0034】また、第2の処理部32(図1参照)にお
ける各スピンコート装置52の局所排気は、前記飛散防
止壁404の上方に形成された開口422から取り入れ
た空気を基板202の表面上に流通させた後、各スピナ
ーヘッド装置402の下方に取り付けられた排気管42
6を通じて排気されるようになっている。このときの排
気風速は1m/s以下に設定している。
The local exhaust of each of the spin coaters 52 in the second processing unit 32 (see FIG. 1) causes the air taken in from the opening 422 formed above the scattering prevention wall 404 to cover the surface of the substrate 202. Exhaust pipe 42 attached below each spinner head device 402.
6 to be exhausted. The exhaust wind speed at this time is set to 1 m / s or less.

【0035】次に、この製造システム10によって光デ
ィスクDを製造する過程について図4(A)〜(C)、
図5(A)及び(B)の工程図を参照しながら説明す
る。
Next, a process of manufacturing the optical disk D by the manufacturing system 10 will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to FIGS. 5A and 5B.

【0036】まず、第1及び第2の成形設備12A及び
12Bにおける成形機20において、ポリカーボネート
などの樹脂材料が射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形
されて、図4(A)に示すように、一主面にトラッキン
グ用溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸(グルー
ブ)200が形成された基板202が作製される。
First, in a molding machine 20 in the first and second molding facilities 12A and 12B, a resin material such as polycarbonate is injection-molded, compression-molded or injection-compressed, and as shown in FIG. A substrate 202 is formed on one principal surface of which a groove 200 for tracking or information 200 such as an address signal is formed.

【0037】前記基板202の材料としては、例えばポ
リカーボネート、ポリメタルメタクリレート等のアクリ
ル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化
ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフ
ィン及びポリエステルなどを挙げることができ、所望に
よりそれらを併用してもよい。上記の材料の中では、耐
湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカーボネー
トが好ましい。また、グルーブ200の深さは、0.0
1〜0.3μmの範囲であることが好ましく、その半値
幅は、0.2〜0.9μmの範囲であることが好まし
い。
Examples of the material of the substrate 202 include acrylic resins such as polycarbonate and polymetal methacrylate, vinyl chloride resins such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymer, epoxy resins, amorphous polyolefin and polyester. They can be used together if desired. Among the above materials, polycarbonate is preferred from the viewpoints of moisture resistance, dimensional stability, cost, and the like. The depth of the groove 200 is 0.0
It is preferably in the range of 1 to 0.3 μm, and its half width is preferably in the range of 0.2 to 0.9 μm.

【0038】成形機20から取り出された基板202
は、後段の冷却部22において冷却された後、一主面が
下側に向けられてスタックポール24に積載される。ス
タックポール24に所定枚数の基板202が積載された
段階で、スタックポール24はこの成形設備12A及び
12Bから取り出されて、次の塗布設備14に搬送さ
れ、該塗布設備14におけるスタックポール収容部40
に収容される。この搬送は、台車で行ってもよいし、自
走式の自動搬送装置で行うようにしてもよい。基板20
2の保存中におけるクリーン度は、クラス20万以下で
あり、好ましくはクラス10万以下、更に好ましくはク
ラス5万以下である。また、基板202の保存中におけ
る温度変動は±15℃の範囲であり、好ましくは±10
℃の範囲、更に好ましくは±5℃の範囲である。
The substrate 202 taken out of the molding machine 20
After being cooled in the cooling unit 22 in the subsequent stage, the wafer is stacked on the stack pole 24 with one main surface directed downward. At the stage when a predetermined number of substrates 202 are stacked on the stack pole 24, the stack pole 24 is taken out from the molding facilities 12A and 12B, and is conveyed to the next coating facility 14, where the stack pole storage section 40 in the coating facility 14 is placed.
To be housed. This transfer may be performed by a trolley or by a self-propelled automatic transfer device. Substrate 20
The degree of cleanliness during storage of No. 2 is 200,000 or less, preferably 100,000 or less, more preferably 50,000 or less. Further, the temperature fluctuation during storage of the substrate 202 is in the range of ± 15 ° C., preferably ± 10 ° C.
° C, more preferably ± 5 ° C.

【0039】スタックポール24がスタックポール収容
部40に収容された段階で、第1の搬送機構42が動作
し、スタックポール24から1枚ずつ基板202を取り
出して、後段の静電ブロー機構44に搬送する。静電ブ
ロー機構44に搬送された基板202は、該静電ブロー
機構44において静電気が除去された後、第2の搬送機
構46を介して次の色素塗布機構48に搬送され、6つ
のスピンコート装置52のうち、いずれか1つのスピン
コート装置52に投入される。スピンコート装置52に
投入された基板202は、その一主面上に色素塗布液が
塗布された後、高速に回転されて塗布液の厚みが均一に
された後、乾燥処理が施される。これによって、図4
(B)に示すように、基板202の一主面上に色素記録
層204が形成されることになる。
At the stage when the stack poles 24 are accommodated in the stack pole accommodating section 40, the first transport mechanism 42 is operated, and the substrates 202 are taken out one by one from the stack poles 24 and sent to the subsequent electrostatic blow mechanism 44. Transport. After the static electricity is removed by the electrostatic blow mechanism 44, the substrate 202 transported to the electrostatic blow mechanism 44 is transported to the next dye coating mechanism 48 via the second transport mechanism 46, and is subjected to six spin coatings. One of the devices 52 is supplied to one of the spin coaters 52. The substrate 202 loaded into the spin coater 52 is applied with a dye coating solution on one main surface thereof, is rotated at high speed to make the thickness of the coating solution uniform, and then subjected to a drying process. As a result, FIG.
As shown in (B), the dye recording layer 204 is formed on one main surface of the substrate 202.

【0040】即ち、スピンコート装置52に投入された
基板202は、図2に示すスピナーヘッド装置402に
装着され、固定具420により水平に保持される。次
に、加圧式タンクから供給された塗布液は、吐出量調整
バルブ408によって所定量が調整され、基板202上
の内周側にノズル406を通して滴下される。
That is, the substrate 202 loaded in the spin coater 52 is mounted on a spinner head device 402 shown in FIG. Next, a predetermined amount of the application liquid supplied from the pressurized tank is adjusted by the discharge amount adjustment valve 408, and the applied liquid is dropped on the inner peripheral side of the substrate 202 through the nozzle 406.

【0041】このノズル406は、その先端面及びその
先端面から1mm以上の範囲の外側又は内側、あるいは
両方の壁面がフッ素化合物からなる表面を備えており、
塗布液が付着し難い。付着した塗布液は、乾燥して色素
等の成分が析出したり、析出物が堆積したりと、塗膜欠
陥を引き起こす原因となるが、ノズル406は、表面に
塗布液が付着し難いので、塗膜欠陥などの障害を伴うこ
となくスムーズに塗膜を形成させることができる。
The nozzle 406 has a front end surface and a surface made of a fluorine compound on the outside or inside, or both wall surfaces within a range of 1 mm or more from the front end surface,
The coating liquid does not easily adhere. The applied coating liquid is dried, and components such as pigments are deposited, or precipitates are deposited, and cause coating film defects.However, since the coating liquid is difficult to adhere to the surface of the nozzle 406, The coating film can be formed smoothly without any obstacle such as a coating film defect.

【0042】なお、塗布液としては色素を適当な溶剤に
溶解した色素溶液が用いられる。塗布液中の色素の濃度
は一般に0.01〜15質量%の範囲であり、好ましく
は0.1〜10質量%の範囲、特に好ましくは0.5〜
5質量%の範囲、最も好ましくは0.5〜3質量%の範
囲である。
As the coating solution, a dye solution in which a dye is dissolved in an appropriate solvent is used. The concentration of the dye in the coating solution is generally in the range of 0.01 to 15% by mass, preferably in the range of 0.1 to 10% by mass, and particularly preferably 0.5 to 10% by mass.
It is in the range of 5% by weight, most preferably in the range of 0.5 to 3% by weight.

【0043】スピナーヘッド装置402は駆動モータに
よって高速回転が可能である。基板202上に滴下され
た塗布液は、スピナーヘッド装置402の回転により、
基板202の表面上を外周方向に流延し、塗膜を形成し
ながら基板202の外周縁部に到達する。外周縁部に達
した余分の塗布液は、更に遠心力により振り切られ、基
板202の縁部の周囲に飛散する。飛散した余分の塗布
液は飛散防止壁404に衝突し、更にその下方に設けら
れた受皿に集められた後、ドレイン424を通して回収
される。塗膜の乾燥はその形成過程及び塗膜形成後に行
われる。塗膜(色素記録層204)の厚みは、一般に2
0〜500nmの範囲であり、好ましくは50〜300
nmの範囲に設けられる。
The spinner head device 402 can be rotated at high speed by a drive motor. The coating solution dropped on the substrate 202 is rotated by the rotation of the spinner head device 402.
It is cast on the surface of the substrate 202 in the outer peripheral direction, and reaches the outer peripheral edge of the substrate 202 while forming a coating film. The excess coating solution that has reached the outer peripheral edge is further shaken off by centrifugal force and scattered around the edge of the substrate 202. The excess application liquid that has scattered collides with the scatter prevention wall 404, is collected in a tray provided below the scatter prevention wall 404, and is collected through the drain 424. Drying of the coating film is performed during the formation process and after the formation of the coating film. The thickness of the coating film (dye recording layer 204) is generally 2
0-500 nm, preferably 50-300 nm.
nm.

【0044】色素記録層204に用いられる色素は特に
限定されない。使用可能な色素の例としては、シアニン
系色素、フタロシアニン系色素、イミダゾキノキサリン
系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレ
ニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Crなど
の金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノ
ン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系
色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系色
素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウ
ム系色素及びニトロソ化合物を挙げることができる。こ
れらの色素のうちでは、シアニン系色素、ベンゾインド
レニン色素系が好ましく、ベンゾインドレニン系色素が
より好ましく、下記一般式(1)で示される色素が特に
好ましい。
The dye used in the dye recording layer 204 is not particularly limited. Examples of usable dyes include cyanine dyes, phthalocyanine dyes, imidazoquinoxaline dyes, pyrylium / thiopyrylium dyes, azurenium dyes, squalilium dyes, metal complex salt dyes such as Ni and Cr, and naphthoquinone dyes And anthraquinone dyes, indophenol dyes, indoaniline dyes, triphenylmethane dyes, merocyanine dyes, oxonol dyes, aminium / diimmonium dyes, and nitroso compounds. Among these dyes, a cyanine dye and a benzoindolenine dye are preferable, a benzoindolenine dye is more preferable, and a dye represented by the following general formula (1) is particularly preferable.

【0045】[0045]

【化1】 Embedded image

【0046】一般式(1)のR1、R2は1価の置換基を
示す。R1及びR2は、同一でもよく、また異なっていて
もよい。1価の置換基としては、置換又は無置換のアル
キル基が好ましい。
R 1 and R 2 in the general formula (1) represent a monovalent substituent. R 1 and R 2 may be the same or different. As the monovalent substituent, a substituted or unsubstituted alkyl group is preferable.

【0047】アルキル基としては、炭素原子数1〜18
のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜12のアルキ
ル基がより好ましく、炭素原子数1〜4のアルキル基が
特に好ましい。また、アルキル基は直鎖でも分岐でもよ
く、置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲ
ン原子;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;メ
チルチオ基、メチルチオ基等のアルキルチオ基;アセチ
ル基等のアシル基;ヒドロキシ基;エトキシカルボニル
基等のアルコキシカルボニル基;ビニル基等のアルケニ
ル基;フェニル基等のアリール基等が挙げられる。この
中でも、エーテル結合またはエステル結合を含む置換ア
ルキル基、及び無置換のアルキル基がより好ましく、無
置換のアルキル基が特に好ましい。
The alkyl group includes 1 to 18 carbon atoms.
Is preferred, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is more preferred, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferred. The alkyl group may be linear or branched, and examples of the substituent include halogen atoms such as a fluorine atom and a chlorine atom; alkoxy groups such as a methoxy group and an ethoxy group; alkylthio groups such as a methylthio group and a methylthio group; Acyl groups; hydroxy groups; alkoxycarbonyl groups such as ethoxycarbonyl groups; alkenyl groups such as vinyl groups; and aryl groups such as phenyl groups. Among these, a substituted alkyl group containing an ether bond or an ester bond and an unsubstituted alkyl group are more preferable, and an unsubstituted alkyl group is particularly preferable.

【0048】一般式(1)のR3は、1価の置換基を示
す。1価の置換基としては、水素原子、炭素数1〜16
のアルキル基、ハロゲン原子、アラルキル基が好まし
く、メチル基、エチル基及びベンジル基がより好まし
く、メチル基が特に好ましい。
R 3 in the general formula (1) represents a monovalent substituent. As the monovalent substituent, a hydrogen atom, a carbon atom having 1 to 16
Are preferably an alkyl group, a halogen atom and an aralkyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group and a benzyl group, and particularly preferably a methyl group.

【0049】一般式(1)のX2-は、2価の陰イオンを
示し、下記一般式(2)で表される2価の陰イオンが特
に好ましい。
X 2- in the general formula (1) represents a divalent anion, and a divalent anion represented by the following general formula (2) is particularly preferable.

【0050】[0050]

【化2】 Embedded image

【0051】一般式(2)のR4〜R9は、それぞれ独立
に1価の置換基を示す。1価の置換基としては、水素原
子、ヒドロキシ基、アルキル基、ハロゲン原子、アラル
キル基が好ましく、水素原子、ヒドロキシ基、炭素原子
数8以下のアルキル基がより好ましく、ヒドロキシ基及
びメチル基が特に好ましい。
R 4 to R 9 in formula (2) each independently represent a monovalent substituent. As the monovalent substituent, a hydrogen atom, a hydroxy group, an alkyl group, a halogen atom and an aralkyl group are preferable, a hydrogen atom, a hydroxy group and an alkyl group having 8 or less carbon atoms are more preferable, and a hydroxy group and a methyl group are particularly preferable. preferable.

【0052】色素記録層204を形成するための塗布剤
の溶剤の例としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテー
トなどのエステル;メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン;ジクロル
メタン、1,2−ジクロルエタン、クロロホルムなどの
塩素化炭化水素;ジメチルホルムアミドなどのアミド;
シクロヘキサンなどの炭化水素;テトラヒドロフラン、
エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル;エタノー
ル、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノ
ール、ジアセトンアルコールなどのアルコール;2,
2,3,3−テトラフロロ−1−プロパノールなどのフ
ッ素系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル
類などを挙げることができる。
Examples of the solvent for the coating agent for forming the dye recording layer 204 include esters such as butyl acetate and cellosolve acetate; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone and methyl isobutyl ketone; dichloromethane, 1,2-dichloroethane, and chloroform. Chlorinated hydrocarbons such as amides; amides such as dimethylformamide;
Hydrocarbons such as cyclohexane; tetrahydrofuran,
Ethers such as ethyl ether and dioxane; alcohols such as ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol and diacetone alcohol;
Fluorinated solvents such as 2,3,3-tetrafluoro-1-propanol; ethylene glycol monomethyl ether;
Examples thereof include glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether and propylene glycol monomethyl ether.

【0053】前記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮し
て単独または二種以上を適宜併用することができる。好
ましくは、2,2,3,3−テトラフロロ−1−プロパ
ノールなどのフッ素系溶剤である。なお、塗布液中に
は、所望により退色防止剤や結合剤を添加してもよい
し、更に酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、そして潤滑
剤など各種の添加剤を、目的に応じて添加してもよい。
The above-mentioned solvents may be used alone or in combination of two or more, in consideration of the solubility of the dye used. Preferably, it is a fluorinated solvent such as 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol. In the coating solution, an anti-fading agent or a binder may be added as desired, or various additives such as an antioxidant, a UV absorber, a plasticizer, and a lubricant may be added according to the purpose. It may be added.

【0054】退色防止剤の代表的な例としては、ニトロ
ソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩
を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平
2−300288号、同3−224793号、及び同4
−146189号等の各公報に記載されている。
Representative examples of the anti-fading agent include nitroso compounds, metal complexes, diimmonium salts and aminium salts. These examples are described in, for example, JP-A-2-300288, JP-A-3-224793, and JP-A-4-224793.
No. 146189.

【0055】この実施の形態においては、下記一般式
(3)で示される退色防止剤が好ましい。
In this embodiment, an anti-fading agent represented by the following general formula (3) is preferred.

【0056】[0056]

【化3】 Embedded image

【0057】一般式(3)のR10、R11はそれぞれ独立
に水素原子又は1価の置換基を表す。R10及びR11で示
される置換基は、ハロゲン原子、又は炭素原子、酸素原
子、窒素原子又は硫黄原子が組み合わせてなる置換基で
あり、具体的には、アルキル基、アルケニル基、アラル
キル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シア
ノ基、ニトロ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、アシルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ
基、アミド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミ
ノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシスル
ホニルアミノ基、ウレイド基、チオウレイド基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキ
ルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、スルファモ
イル基、カルボキシ基(塩を含む)、スルホ基(塩を含
む)を挙げることができる。これらは、更に、これらの
置換基で置換されていてもよい。
R 10 and R 11 in formula (3) each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. The substituents represented by R 10 and R 11 are a halogen atom or a substituent formed by combining a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, and specifically, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, Aryl group, heterocyclic group, halogen atom, cyano group, nitro group, mercapto group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acyloxy group, amino group, alkylamino group, amide group, sulfonamide Group, sulfamoylamino group, alkoxycarbonylamino group, alkoxysulfonylamino group, ureido group, thioureido group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, alkylsulfonyl group, alkylsulfinyl group, sulfamoyl group, carboxy group (salt ), Sulfo group (including salt) It can be mentioned. These may be further substituted with these substituents.

【0058】R10、R11としては、水素原子、炭素数1
〜6のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1
〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6のアルキルチオ基、
炭素数1〜6のアミド基、炭素数1〜6のスルホンアミ
ド基、炭素数1〜6のウレイド基、炭素数1〜6のアシ
ル基、炭素数2〜6のアルコキシカルボニル基、炭素数
1〜6のカルバモイル基、炭素数1〜6のアルキルスル
ホニル基、炭素数1〜6のアルキルスルフィニル基が好
ましく、アルキル基がより好ましく、原子炭素数4以下
のアルキル基が特に好ましい。
R 10 and R 11 are a hydrogen atom, a carbon atom 1
To 6 alkyl groups, halogen atoms, cyano groups, 1 carbon atoms
-C6 alkoxy group, C1-6 alkylthio group,
An amide group having 1 to 6 carbon atoms, a sulfonamide group having 1 to 6 carbon atoms, an ureido group having 1 to 6 carbon atoms, an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, 1 carbon atom -6, a carbamoyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylsulfinyl group having 1 to 6 carbon atoms are preferable, an alkyl group is more preferable, and an alkyl group having 4 or less carbon atoms is particularly preferable.

【0059】結合剤の例としては、ゼラチン、セルロー
ス誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機
高分子物質;およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・
ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリ
ル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹
脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポ
キシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・
ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物な
どの合成有機高分子を挙げることができる。
Examples of the binder include natural organic high molecular substances such as gelatin, cellulose derivatives, dextran, rosin, and rubber; and hydrocarbon resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, and polyisobutylene; polyvinyl chloride; Vinylidene, polyvinyl chloride
Vinyl resins such as polyvinyl acetate copolymer, acrylic resins such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, chlorinated polyethylene, epoxy resin, butyral resin, rubber derivatives, phenol
Synthetic organic polymers such as precondensates of thermosetting resins such as formaldehyde resins can be mentioned.

【0060】結合剤を使用する場合に、結合剤の使用量
は、色素100質量部に対して、一般に20質量部以下
であり、好ましくは10質量部以下、更に好ましくは5
質量部以下である。
When a binder is used, the amount of the binder to be used is generally 20 parts by mass or less, preferably 10 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass, per 100 parts by mass of the dye.
Not more than parts by mass.

【0061】色素記録層204の厚みは、一般に20〜
500nmの範囲、好ましくは50〜300nmの範囲
で設けられる。色素記録層204の膜厚変動は、正規の
膜厚に対して±30%の範囲とすることが好ましく、よ
り好ましくは±20%の範囲、更に好ましくは±15%
の範囲である。
The thickness of the dye recording layer 204 is generally 20 to
It is provided in the range of 500 nm, preferably in the range of 50 to 300 nm. The thickness variation of the dye recording layer 204 is preferably in the range of ± 30%, more preferably ± 20%, and still more preferably ± 15% of the normal thickness.
Range.

【0062】前記基板202上に色素溶液を塗布する際
の色素吐出量は0.3cc〜5ccであることが好まし
く、特に好ましくは0.5cc〜2ccである。色素溶
液を塗布する際の温度は10℃〜50℃の範囲であれば
よいが、好ましくは15℃〜35℃の範囲、更に好まし
くは20℃〜25℃の範囲である。この場合の温度変動
は±8℃の範囲、好ましくは±4℃の範囲、更に好まし
くは±2℃の範囲である。色素溶液を塗布する際の湿度
は25%RH〜65%RHの範囲であり、好ましくは3
5%RH〜60%RHの範囲、更に好ましくは45%R
H〜55%RHの範囲である。この場合の湿度変動は±
8%RHの範囲であり、好ましくは±4%RHの範囲、
更に好ましくは±2%RHの範囲である。
When the dye solution is applied onto the substrate 202, the amount of the dye discharged is preferably from 0.3 cc to 5 cc, particularly preferably from 0.5 cc to 2 cc. The temperature at which the dye solution is applied may be in the range of 10C to 50C, preferably in the range of 15C to 35C, and more preferably in the range of 20C to 25C. The temperature fluctuation in this case is in the range of ± 8 ° C., preferably in the range of ± 4 ° C., and more preferably in the range of ± 2 ° C. The humidity at the time of applying the dye solution is in the range of 25% RH to 65% RH, preferably 3%.
5% RH to 60% RH, more preferably 45% RH
H is in the range of 55% RH. Humidity fluctuation in this case is ±
8% RH, preferably ± 4% RH,
More preferably, it is in the range of ± 2% RH.

【0063】なお、色素記録層202が設けられる側の
基板表面には、平面性の改善、接着力の向上及び色素記
録層204の変質防止などの目的で、下塗層が設けられ
てもよい。
Incidentally, an undercoat layer may be provided on the surface of the substrate on which the dye recording layer 202 is provided, for the purpose of improving flatness, improving adhesive strength, preventing deterioration of the dye recording layer 204, and the like. .

【0064】下塗層の材料としては例えば、ポリメチル
メタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、
スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコ
ール、N−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニ
ルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、
ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビ
ニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子
物質、およびシランカップリング剤などの表面改質剤を
挙げることができる。
Examples of the material for the undercoat layer include polymethyl methacrylate, acrylic acid / methacrylic acid copolymer,
Styrene / maleic anhydride copolymer, polyvinyl alcohol, N-methylol acrylamide, styrene / vinyl toluene copolymer, chlorosulfonated polyethylene,
Nitrocellulose, polyvinyl chloride, chlorinated polyolefin, polyester, polyimide, vinyl acetate-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyethylene, polypropylene, polycarbonate and other high-molecular substances, and silane coupling agents Surface modifiers can be mentioned.

【0065】下塗層は、前記物質を適当な溶剤に溶解ま
たは分散して塗布液を調整した後、この塗布液をスピン
コート、ディップコート、エクストルージョンコートな
どの塗布法を利用して基板表面に塗布することにより形
成することができる。下塗層の層厚は一般に0.005
〜20μmの範囲、好ましくは0.01〜10μmの範
囲に設けられる。
The undercoat layer is formed by dissolving or dispersing the above substances in an appropriate solvent to prepare a coating solution, and then applying the coating solution to the surface of the substrate by using a coating method such as spin coating, dip coating, or extrusion coating. Can be formed. The thickness of the undercoat layer is generally 0.005.
It is provided in the range of 2020 μm, preferably in the range of 0.01 to 10 μm.

【0066】色素記録層204が形成された基板202
は、第3の搬送機構50を介して次の裏面洗浄機構54
に搬送され、基板202の一主面の反対側の面(裏面)
が洗浄される。その後、基板202は、第4の搬送機構
56を介して次の番号付与機構58に搬送され、基板2
02の一主面又は裏面に対してロット番号等の刻印が行
われる。
The substrate 202 on which the dye recording layer 204 is formed
Is transferred to the next back surface cleaning mechanism 54 via the third transport mechanism 50.
And the other side of the main surface of the substrate 202 (back side)
Is washed. Thereafter, the substrate 202 is transported to the next numbering mechanism 58 via the fourth transport mechanism 56, and the substrate 2
02 is engraved with a lot number or the like on one main surface or the back surface.

【0067】その後、基板202は、第5の搬送機構6
0を介して次の検査機構62に搬送され、基板202の
欠陥の有無や色素記録層204の膜厚の検査が行われ
る。この検査は、基板202の裏面から光を照射してそ
の光の透過状態を例えばCCDカメラで画像処理するこ
とによって行われる。この検査機構62での検査結果は
次の選別機構68に送られる。
Thereafter, the substrate 202 is moved to the fifth transport mechanism 6
Then, the substrate 202 is transported to the next inspection mechanism 62 through which the presence or absence of a defect in the substrate 202 and the thickness of the dye recording layer 204 are inspected. This inspection is performed by irradiating light from the back surface of the substrate 202 and performing image processing on the transmission state of the light using, for example, a CCD camera. The inspection result of the inspection mechanism 62 is sent to the next sorting mechanism 68.

【0068】上述の検査処理を終えた基板202は、そ
の検査結果に基づいて選別機構68によって正常品用の
スタックポール64か、NG用のスタックポール66に
搬送選別される。
The substrate 202 having undergone the above-described inspection processing is transported and sorted by the sorting mechanism 68 into a stack pole 64 for normal products or a stack pole 66 for NG based on the inspection result.

【0069】正常品用のスタックポール64に所定枚数
の基板202が積載された段階で、正常品用のスタック
ポール64はこの塗布設備14から取り出されて、次の
後処理設備16に搬送され、該後処理設備16のスタッ
クポール収容部80に収容される。この搬送は、台車で
行ってもよいし、自走式の自動搬送装置で行うようにし
てもよい。
At the stage when a predetermined number of substrates 202 are stacked on the stack pole 64 for normal products, the stack pole 64 for normal products is taken out of the coating equipment 14 and transported to the next post-processing equipment 16. It is housed in the stack pole housing section 80 of the post-processing facility 16. This transfer may be performed by a trolley or by a self-propelled automatic transfer device.

【0070】正常品用のスタックポール64がスタック
ポール収容部80に収容された段階で、第6の搬送機構
82が動作し、スタックポール64から1枚ずつ基板2
02を取り出して、後段の第1の静電ブロー機構84に
搬送する。第1の静電ブロー機構84に搬送された基板
202は、該第1の静電ブロー機構84において静電気
が除去された後、第7の搬送機構86を介して次のスパ
ッタ機構88に搬送される。スパッタ機構88に投入さ
れた基板202は、図4(C)に示すように、その一主
面中、周縁部分(エッジ部分)206を除く全面に光反
射層208がスパッタリングによって形成される。
At the stage when the stack poles 64 for normal products are accommodated in the stack pole accommodating section 80, the sixth transport mechanism 82 operates, and the substrates 2 are stacked one by one from the stack poles 64.
02 is taken out and transported to the first electrostatic blow mechanism 84 at the subsequent stage. After the static electricity is removed by the first electrostatic blow mechanism 84, the substrate 202 transported to the first electrostatic blow mechanism 84 is transported to the next sputtering mechanism 88 via the seventh transport mechanism 86. You. As shown in FIG. 4C, a light reflecting layer 208 is formed by sputtering on the entire surface of one main surface of the substrate 202 excluding a peripheral portion (edge portion) 206 as shown in FIG.

【0071】光反射層208は、反射率が70%以上あ
る反射膜であれば何でもよい。光反射層208の材料で
ある光反射性物質としては、レーザ光に対する反射率が
高い物質が使用され、その例としては、Mg、Se、
Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、
W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、P
d、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、A
l、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、S
n、Biなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を
挙げることができる。
The light reflecting layer 208 may be any reflecting film having a reflectance of 70% or more. As the light-reflective substance that is the material of the light-reflective layer 208, a substance having a high reflectance with respect to laser light is used, and examples thereof include Mg, Se,
Y, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo,
W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, P
d, Ir, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, A
1, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, S
Metals such as n and Bi and semimetals or stainless steel can be mentioned.

【0072】これらのうちで好ましいものは、Cr、N
i、Pt、Cu、Ag、Au、Al及びステンレス鋼で
ある。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは
二種以上を組み合わせて用いてもよい。または合金とし
て用いてもよい。特に好ましくはAu、Ag、もしくは
その合金である。
Of these, preferred are Cr, N
i, Pt, Cu, Ag, Au, Al and stainless steel. These substances may be used alone or in combination of two or more. Alternatively, it may be used as an alloy. Particularly preferred are Au, Ag, and alloys thereof.

【0073】光反射層208は、例えば、前記光反射性
物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティン
グすることにより記録層の上に形成することができる。
反射層の層厚は、一般的には10〜800nmの範囲、
好ましくは20〜500nmの範囲、更に好ましくは5
0〜300nmの範囲に設けられる。
The light reflecting layer 208 can be formed on the recording layer by, for example, vapor deposition, sputtering or ion plating of the light reflecting substance.
The thickness of the reflective layer is generally in the range of 10 to 800 nm,
Preferably in the range of 20 to 500 nm, more preferably 5
It is provided in the range of 0 to 300 nm.

【0074】光反射層208が形成された基板202
は、第8の搬送機構90を介して次のエッジ洗浄機構9
2に搬送され、図5(A)に示すように、基板202の
一主面中、エッジ部分206が洗浄されて、該エッジ部
分206に形成されていた色素記録層204が除去され
る。その後、基板202は、第9の搬送機構102を介
して次の第2の静電ブロー機構94に搬送され、静電気
が除去される。
The substrate 202 on which the light reflecting layer 208 is formed
Is transferred to the next edge cleaning mechanism 9 via the eighth transport mechanism 90.
Then, as shown in FIG. 5A, the edge portion 206 in one main surface of the substrate 202 is washed, and the dye recording layer 204 formed on the edge portion 206 is removed. Thereafter, the substrate 202 is transported to the next second electrostatic blow mechanism 94 via the ninth transport mechanism 102, and the static electricity is removed.

【0075】その後、基板202は、同じく前記第9の
搬送機構102を介してUV硬化液塗布機構96に搬送
され、基板202の一主面の一部分にUV硬化液が滴下
される。その後、基板202は、同じく前記第9の搬送
機構102を介して次のスピン機構98に搬送され、高
速に回転されることにより、基板202上に滴下された
UV硬化液の塗布厚が基板全面において均一にされる。
Thereafter, the substrate 202 is transported to the UV curing liquid application mechanism 96 via the ninth transport mechanism 102 as well, and the UV curing liquid is dropped on a part of one main surface of the substrate 202. Thereafter, the substrate 202 is also transported to the next spin mechanism 98 via the ninth transport mechanism 102 and rotated at a high speed, so that the applied thickness of the UV curing liquid dropped on the substrate 202 is reduced over the entire surface of the substrate. Is made uniform.

【0076】この実施の形態においては、前記光反射層
の成膜後から前記UV硬化液の塗布までの時間が2秒以
上、5分以内となるように時間管理されている。
In this embodiment, the time from the formation of the light reflection layer to the application of the UV curing liquid is controlled so as to be 2 seconds or more and 5 minutes or less.

【0077】その後、基板202は、同じく前記第9の
搬送機構102を介して次のUV照射機構100に搬送
され、基板202上のUV硬化液に対して紫外線が照射
される。これによって、図5(B)に示すように、基板
202の一主面上に形成された色素記録層204と光反
射層208を覆うようにUV硬化樹脂による保護層21
0が形成されて光ディスクDとして構成されることにな
る。
Thereafter, the substrate 202 is transported to the next UV irradiation mechanism 100 via the ninth transport mechanism 102, and the UV curing liquid on the substrate 202 is irradiated with ultraviolet rays. As a result, as shown in FIG. 5B, the protective layer 21 made of a UV-curable resin covers the dye recording layer 204 and the light reflecting layer 208 formed on one main surface of the substrate 202.
0 is formed to be configured as the optical disc D.

【0078】保護層210は、色素記録層204などを
物理的及び化学的に保護する目的で光反射層208上に
設けられる。保護層210は、基板202の色素記録層
204が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高め
る目的で設けることもできる。保護層210で使用され
る材料としては、例えば、SiO、SiO2、MgF2
SnO2、Si34等の無機物質、及び熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、そしてUV硬化性樹脂等の有機物質を挙
げることができる。
The protective layer 210 is provided on the light reflecting layer 208 for the purpose of physically and chemically protecting the dye recording layer 204 and the like. The protective layer 210 can also be provided on the side of the substrate 202 on which the dye recording layer 204 is not provided for the purpose of improving scratch resistance and moisture resistance. As a material used for the protective layer 210, for example, SiO, SiO 2 , MgF 2 ,
Inorganic substances such as SnO 2 and Si 3 N 4 , and thermoplastic resins,
Organic materials such as thermosetting resins and UV-curable resins can be mentioned.

【0079】保護層210は、例えば、プラスチックの
押出加工で得られたフイルムを接着剤を介して光反射層
208上及び/または基板202上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調整したのち、この塗
布液を塗布し、乾燥することによっても形成することが
できる。
The protective layer 210 can be formed, for example, by laminating a film obtained by extrusion of plastic onto the light reflecting layer 208 and / or the substrate 202 via an adhesive. Alternatively, it may be provided by a method such as vacuum deposition, sputtering, or coating.
In the case of a thermoplastic resin or a thermosetting resin, they can also be formed by dissolving these in an appropriate solvent to prepare a coating solution, applying the coating solution, and drying.

【0080】UV硬化性樹脂の場合には、上述したよう
に、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調
整したのちこの塗布液を塗布し、UV光を照射して硬化
させることによって形成することができる。これらの塗
布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤
等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層
210の層厚は一般には0.1〜100μmの範囲で設
けられる。
In the case of a UV-curable resin, as described above, a coating solution is prepared as it is or dissolved in an appropriate solvent, and then the coating solution is applied and irradiated with UV light to be cured. can do. Various additives such as an antistatic agent, an antioxidant, and a UV absorber may be added to these coating solutions according to the purpose. The thickness of the protective layer 210 is generally provided in the range of 0.1 to 100 μm.

【0081】その後、光ディスクDは、第10の搬送機
構104を介して次の欠陥検査機構106と特性検査機
構108に搬送され、色素記録層204の面と保護層2
10の面における欠陥の有無や光ディスクDの基板20
2に形成されたグルーブ200による信号特性が検査さ
れる。これらの検査は、光ディスクDの両面に対してそ
れぞれ光を照射してその反射光を例えばCCDカメラで
画像処理することによって行われる。これらの欠陥検査
機構106及び特性検査機構108での各検査結果は次
の選別機構114に送られる。
Thereafter, the optical disk D is transported to the next defect inspection mechanism 106 and characteristic inspection mechanism 108 via the tenth transport mechanism 104, where the surface of the dye recording layer 204 and the protective layer 2
10, the presence or absence of a defect on the surface of the optical disc D
The signal characteristics of the groove 200 formed in the second groove 2 are inspected. These inspections are performed by irradiating light to both sides of the optical disc D and subjecting the reflected light to image processing by, for example, a CCD camera. The inspection results of the defect inspection mechanism 106 and the characteristic inspection mechanism 108 are sent to the next selection mechanism 114.

【0082】上述の欠陥検査処理及び特性検査処理を終
えた光ディスクDは、各検査結果に基づいて選別機構1
14によって正常品用のスタックポール110か、NG
用のスタックポール112に搬送選別される。
The optical disc D that has been subjected to the above-described defect inspection processing and characteristic inspection processing is subjected to a sorting mechanism 1 based on the inspection results.
Depending on 14, stack pole 110 for normal product or NG
Is sorted by the stack pole 112 for use.

【0083】正常品用のスタックポール110に所定枚
数の光ディスクDが積載された段階で、該スタックポー
ル110が後処理設備16から取り出されて図示しない
ラベル印刷工程に投入される。
When a predetermined number of optical discs D are loaded on the stack pole 110 for normal products, the stack pole 110 is taken out of the post-processing equipment 16 and put into a label printing step (not shown).

【0084】また、本実施の形態に係る製造システム1
0には、図1に示すように、塗布設備14の第2の処理
部32と並行して空調システム300が設置されてい
る。空調システム300は、図示はしないが、空気調和
機、除湿機、及び排気装置から構成されている。このう
ち空気調和機は、塗布設備14に対して清浄な空気を送
り込み、除湿機は、外気を取り入れて除湿を行い、一次
空気として出力する。また、排気装置は、塗布設備14
からの一部の排気(局所排気)を上位の排気系統に送
る。このような局所排気としては、例えば塗布設備14
の色素塗布機構48における6つのスピンコート装置5
2からの排気が挙げられる。
Further, the manufacturing system 1 according to the present embodiment
At 0, an air conditioning system 300 is installed in parallel with the second processing unit 32 of the coating equipment 14, as shown in FIG. Although not shown, the air conditioning system 300 includes an air conditioner, a dehumidifier, and an exhaust device. Among them, the air conditioner sends clean air to the coating equipment 14, and the dehumidifier takes in outside air to perform dehumidification and outputs it as primary air. In addition, the exhaust device is a coating equipment 14.
A part of the exhaust gas (local exhaust) is sent to the upper exhaust system. As such local exhaust, for example, the coating equipment 14
Spin coaters 5 in the dye coating mechanism 48
2 exhaust.

【0085】色素溶液を塗布する際の排気風速は1m/
s以下、好ましくは0.7m/s以下、更に好ましくは
0.4m/s以下がよい。これにより、基板202上へ
の色素溶液の塗布が良好に行われると共に、再生色素溶
液の回収率を向上させることができる。
The exhaust air velocity when applying the dye solution is 1 m /
s or less, preferably 0.7 m / s or less, and more preferably 0.4 m / s or less. Thereby, the application of the dye solution onto the substrate 202 can be performed favorably, and the recovery rate of the regenerated dye solution can be improved.

【0086】また、図示はしないが、第1の処理部30
と第3の処理部34の各天井にも、それぞれ高性能充填
層フィルタ(HEPAフィルタ)を介して、第1及び第
3の処理部30及び34に対してそれぞれ清浄な空気を
送り込むことにより、第1及び第3の処理部30及び3
4内の温度をコントロールする空調機が設置されてい
る。
Although not shown, the first processing unit 30
The clean air is sent to the first and third processing units 30 and 34 also through the high performance packed bed filter (HEPA filter) to the ceilings of the first and third processing units 34, respectively. First and third processing units 30 and 3
An air conditioner for controlling the temperature inside 4 is installed.

【0087】そして、本実施の形態に係る製造システム
10においては、塗布設備14や後処理設備16とは別
に、色素廃液の回収処理を行うための再処理室600を
備えている。以下、図6を参照して、再処理室600で
行われる色素廃液の回収処理について説明する。
Further, the manufacturing system 10 according to the present embodiment is provided with a reprocessing chamber 600 for performing a process of collecting a dye waste liquid separately from the coating equipment 14 and the post-processing equipment 16. Hereinafter, the dye waste liquid recovery process performed in the reprocessing chamber 600 will be described with reference to FIG.

【0088】この再処理室600には、回収された色素
廃液452を収容した回収容器450が定期的にあるい
は必要なときに搬入されるようになっている。この色素
廃液452は光の透過しない密閉容器で保管することが
好ましい。密閉容器としては、ステンレス製の缶が好ま
しく、更に好ましくはステンレス製のドラム缶が望まし
い。色素廃液452の保管場所は、強烈な光や熱が当た
らない場所であれば特に問題はないが、好ましくは館屋
の中、更に好ましくは常温暗室がよい。また、保管場所
のクリーン度は、クラス50万以下、好ましくはクラス
20万以下がよい。
A collection container 450 containing the collected dye waste liquid 452 is carried into the reprocessing chamber 600 periodically or when necessary. This dye waste liquid 452 is preferably stored in a closed container that does not transmit light. As the closed container, a stainless steel can is preferable, and a stainless steel drum can is more preferable. The storage location of the dye waste liquid 452 is not particularly limited as long as it is not exposed to intense light or heat, but is preferably in a building, more preferably in a room dark room. The degree of cleanliness of the storage place is less than 500,000, preferably less than 200,000.

【0089】回収容器450内の色素廃液452は、そ
の後、色素廃液452中の固形物をフィルタで除去する
フィルタリング工程607、色素廃液452を希釈して
希釈廃液611を得る希釈工程609、希釈廃液611
中の色素及び退色防止剤の含有量を定量する定量工程6
10、及び希釈廃液611中の色素及び退色防止剤の濃
度に基づいて、色素及び退色防止剤の濃度を回収前の色
素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と2桁以上の精度
で一致するように調整する濃度調整工程612を経て、
再生色素溶液614として再利用される。
The dye waste liquid 452 in the recovery container 450 is then filtered by a filter step 607 for removing solids in the dye waste liquid 452, a dilution step 609 for diluting the dye waste liquid 452 to obtain a diluted waste liquid 611, and a dilution waste liquid 611.
Quantification step 6 for quantifying the content of dye and anti-fading agent in the solution
10, and based on the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the diluted waste liquid 611, the concentrations of the dye and the anti-fading agent match the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the dye solution before recovery with a precision of two digits or more. Through the density adjustment step 612 to adjust
The recycled dye solution 614 is reused.

【0090】フィルタリング工程607は、色素廃液4
52中の固形物をフィルタで除去する工程である。フィ
ルタとしては、色素廃液に含有される溶剤に濡れ性の高
い材質のものを好適に使用することができる。フィルタ
の除去粒子孔径は、後述する濃度調整を高精度で行い、
塗布欠陥の発生を防止するために、20μm以下が好ま
しく、より好ましくは2μm以下、更に好ましくは1μ
m以下である。一方、目詰まり等によりフィルタリング
効率を損なわないように、フィルタの除去粒子孔径は、
0.001μm以上が好ましく、より好ましくは0.0
5μm以上、更に好ましくは0.1μm以上である。ま
た、フィルタリングの際には、フィルタリング効率を上
げるために加圧や吸引を行ってもよい。
The filtering step 607 is performed in the dye waste liquid 4
This is a step of removing the solid matter in 52 with a filter. As the filter, a material having a high wettability to a solvent contained in the dye waste liquid can be suitably used. The removal particle pore size of the filter performs the concentration adjustment described later with high accuracy,
In order to prevent the occurrence of coating defects, the thickness is preferably 20 μm or less, more preferably 2 μm or less, and further preferably 1 μm or less.
m or less. On the other hand, in order not to impair the filtering efficiency due to clogging or the like, the removed particle pore size of the filter is:
It is preferably at least 0.001 μm, more preferably 0.0
It is at least 5 μm, more preferably at least 0.1 μm. Further, at the time of filtering, pressurization or suction may be performed to increase the filtering efficiency.

【0091】希釈工程609は、フィルタリング工程6
07において固形物が除去された色素廃液452を希釈
して、希釈廃液611を得る工程である。回収された色
素廃液は、回収前の色素溶液が約4倍程度に濃縮されて
おり、色素や退色防止剤の一部が析出するなど、主要成
分の濃度分布が不均一になっている。固形物が除去され
予め希釈された廃液について、色素及び退色防止剤の含
有量の定量を行うことにより、精度の良い定量を行うこ
とができる。
The dilution step 609 corresponds to the filtering step 6
In step 07, the dye waste liquid 452 from which solids have been removed is diluted to obtain a diluted waste liquid 611. In the collected dye waste liquid, the dye solution before collection is concentrated about four times, and the concentration distribution of the main component is non-uniform, such as precipitation of a part of the dye and the anti-fading agent. By quantifying the contents of the dye and the anti-fading agent in the waste liquid from which solids have been removed and diluted in advance, accurate quantification can be performed.

【0092】希釈倍率は、回収前の色素溶液の組成に近
付けるため1.5倍〜3倍の範囲が好ましい。希釈倍率
が3倍を超えると、希釈後の主要成分の濃度が回収前の
色素溶液より薄くなる可能性があり、回収前の色素溶液
より薄くなると濃度調整が困難になる。一方、希釈倍率
が1.5倍より低いと、濃度分布の不均一性が十分に解
消されず、定量精度が低下する。
The dilution ratio is preferably in the range of 1.5 to 3 times in order to approach the composition of the dye solution before recovery. If the dilution ratio exceeds 3 times, the concentration of the main component after dilution may be lower than that of the dye solution before collection, and if the concentration is lower than that of the dye solution before collection, it becomes difficult to adjust the concentration. On the other hand, when the dilution ratio is lower than 1.5 times, the nonuniformity of the concentration distribution is not sufficiently eliminated, and the quantification accuracy is reduced.

【0093】定量工程610は、上記の希釈廃液611
中の色素及び退色防止剤の含有量を定量する工程であ
る。色素及び退色防止剤の含有量の定量は、いかなる定
量方法を用いて行ってもよいが、測定時の色素及び退色
防止剤の安定性等を考慮すると、液体クロマトグラフィ
を用いて定量を行うのが好ましい。また、分光吸収スペ
クトルにおいて色素及び退色防止剤の各々に特有の吸収
ピークが見出された場合には、分光光度計を用いた簡易
な方法により定量を行うこともできる。
The quantification step 610 includes the above-mentioned diluted waste liquid 611.
This is a step of quantifying the contents of the pigment and the anti-fading agent in the composition. The quantification of the content of the dye and the anti-fading agent may be performed using any quantification method.However, considering the stability of the dye and the anti-fading agent at the time of measurement, it is preferable to perform the quantification using liquid chromatography. preferable. Further, when an absorption peak specific to each of the dye and the anti-fading agent is found in the spectral absorption spectrum, quantification can be performed by a simple method using a spectrophotometer.

【0094】次に述べる色素等の濃度調整工程612に
おいて、色素及び退色防止剤の濃度を有効数字2桁の精
度で厳密に調整するためには、色素及び退色防止剤の含
有量の定量は、有効数字3桁以上の精度で行うことが好
ましい。
In the dye concentration adjusting step 612 described below, in order to strictly adjust the concentrations of the dye and the anti-fading agent with precision of two significant figures, the quantification of the contents of the dye and the anti-fading agent is as follows. It is preferable to perform the calculation with three or more significant figures.

【0095】液体クロマトグラフィを用いて、このよう
な高精度の定量を実現するためには、まず、分解能を上
げるため、希釈廃液611を更に10〜9000倍の倍
率で希釈して、定量試料を調整する。希釈廃液611を
更に10〜9000倍の倍率で希釈するのは、希釈倍率
が9000倍を超えると定量精度が低下し、希釈倍率が
10倍未満では分光光度計で定量するのに再度希釈が必
要になるためである。
In order to realize such high-precision quantification using liquid chromatography, first, in order to increase the resolution, the diluted waste liquid 611 is further diluted by a factor of 10 to 9000 to prepare a quantified sample. I do. If the dilution waste liquid 611 is further diluted at a magnification of 10 to 9000 times, if the dilution magnification exceeds 9000 times, the precision of quantification decreases, and if the dilution magnification is less than 10 times, it is necessary to dilute again for quantification with a spectrophotometer. Because it becomes.

【0096】次に、分光吸収スペクトルにおいて、色素
及び退色防止剤の各ピークが他のピークと重ならず、そ
れぞれ単独のピークとなる分離条件を設定する。例えば
色素として下記構造式(A)で示されるインドレニン系
色素(化合物A)を用い、退色防止剤として下記構造式
(B)で示される退色防止剤(化合物B)を用いた場合
の液体クロマトグラフィの3次元チャート(各測定波長
での注入後の経過時間に対する相対検出強度を表す)を
図7に示す。
Next, in the spectral absorption spectrum, separation conditions are set such that each peak of the dye and the anti-fading agent does not overlap with the other peaks and becomes a single peak. For example, liquid chromatography using an indolenine-based dye (compound A) represented by the following structural formula (A) as a dye and an anti-fading agent (compound B) represented by the following structural formula (B) as an anti-fading agent FIG. 7 shows a three-dimensional chart (representing the relative detection intensity with respect to the elapsed time after injection at each measurement wavelength).

【0097】[0097]

【化4】 Embedded image

【0098】[0098]

【化5】 Embedded image

【0099】この場合の分離条件は、カラム:TSK−
gel ODS−80Ts、カラム温度:25℃、溶離
液:アセトニトリル/水/酢酸/トリエチルアミン=7
50/250/2/2、流量:1mリットル/分圧、
力:59bar、検出波長:254nm、試料注入量:
20μmである。図7からわかるように、この条件で
は、色素及び退色防止剤の各ピークが他のピークと重な
ることなく分離されている。
The separation conditions in this case are as follows: Column: TSK-
gel ODS-80Ts, column temperature: 25 ° C., eluent: acetonitrile / water / acetic acid / triethylamine = 7
50/250/2/2, flow rate: 1 ml / partial pressure,
Force: 59 bar, detection wavelength: 254 nm, sample injection amount:
20 μm. As can be seen from FIG. 7, under these conditions, each peak of the dye and the anti-fading agent is separated without overlapping with the other peaks.

【0100】次に、検出波長は、各化合物の検出精度が
有効数字3桁以上で担保されるように選択することが好
ましい。各化合物の定量は、検出波長で検量線を作成
し、これを基準にして検出強度から含有濃度を算出する
のが通常である。従って、各化合物の検出精度を上げる
ためには、検出波長での検量線の相関係数が大きいこと
が好ましい。逆に言えば、このような高い相関性を示す
検出波長を選択しなければならない。一般に、色素の検
出強度は大きく、検出精度に問題はない。そのため、退
色防止剤の検出強度がある程度大きくなるような検出波
長を選択することが検出精度の点で好ましい。例えば、
上記の退色防止剤では表1に示すように、検出波長が4
50nmのときに相関係数が0.999と最大になるた
め、450nmを検出波長として選択することが好まし
い。また、再現性よく定量を行うために、試料の注入精
度が2桁以上であることが好ましく、3桁以上であるこ
とがより好ましい。
Next, the detection wavelength is preferably selected so that the detection accuracy of each compound is ensured by three or more significant figures. For quantification of each compound, it is usual that a calibration curve is prepared at the detection wavelength, and the content is calculated from the detection intensity based on the calibration curve. Therefore, in order to increase the detection accuracy of each compound, it is preferable that the calibration curve at the detection wavelength has a large correlation coefficient. Conversely, a detection wavelength exhibiting such a high correlation must be selected. Generally, the detection intensity of the dye is large and there is no problem in the detection accuracy. Therefore, it is preferable in terms of detection accuracy to select a detection wavelength at which the detection intensity of the anti-fading agent is increased to some extent. For example,
As shown in Table 1, the anti-fading agent has a detection wavelength of 4
Since the correlation coefficient reaches a maximum of 0.999 at 50 nm, it is preferable to select 450 nm as the detection wavelength. In addition, in order to perform quantification with good reproducibility, the injection accuracy of the sample is preferably two digits or more, and more preferably three digits or more.

【0101】[0101]

【表1】 [Table 1]

【0102】なお、上記の例では、退色防止剤が450
nmに特有の吸収ピークを有しており、色素が680n
mに特有の吸収ピークを有しているので、分光光度計を
用いて定量を行うことができる。この場合には、これら
ピーク波長に吸収を有しない溶剤で希釈して、定量試料
を調整すればよい。
In the above example, the anti-fading agent was 450
nm having a specific absorption peak at 680 nm.
Since it has an absorption peak specific to m, quantification can be performed using a spectrophotometer. In this case, a quantitative sample may be prepared by diluting with a solvent having no absorption at these peak wavelengths.

【0103】濃度調整工程612は、前記定量工程61
0で決定された希釈廃液611中の色素及び退色防止剤
の濃度に基づいて、再生色素溶液614の色素及び退色
防止剤の濃度を、回収前の色素溶液中の色素及び退色防
止剤の濃度と2桁以上の精度で一致するように調整する
工程である。
The concentration adjusting step 612 is the same as the quantifying step 61
Based on the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the diluted waste solution 611 determined in 0, the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the regenerated dye solution 614 are compared with the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the dye solution before recovery. This is a step of adjusting so as to match with an accuracy of two or more digits.

【0104】調液処方の算出は、色素、退色防止剤及び
溶剤のうち最も過多になっている成分の含有量を固定
し、再生色素溶液614の色素及び退色防止剤の濃度
を、回収前の色素溶液中の色素の濃度及び退色防止剤の
濃度にするために、含有量を固定した成分以外の成分の
不足量を算出することにより行う。不足量は、再生色素
溶液614の色素及び退色防止剤の濃度が、回収前の色
素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と2桁以上の精度
で一致するように、正確に算出する。そして、算出した
不足量に応じた不足分を補充して、色素及び退色防止剤
の濃度を調整する。
The formula for the preparation of the solution was calculated by fixing the contents of the most excessive components among the dye, the anti-fading agent and the solvent, and determining the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the regenerated dye solution 614 before collection. In order to obtain the concentration of the dye in the dye solution and the concentration of the anti-fading agent, the deficiency of components other than the components having fixed contents is calculated. The deficient amount is accurately calculated so that the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the regenerated dye solution 614 coincide with the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the dye solution before recovery with a precision of two digits or more. Then, the shortage corresponding to the calculated shortage is supplemented to adjust the concentrations of the dye and the anti-fading agent.

【0105】例えば、回収前の色素溶液中の色素の濃度
及び退色防止剤の濃度がそれぞれa質量%、b質量%で
あり、希釈廃液611中の色素及び退色防止剤の濃度が
それぞれ1.2a質量%、0.5b質量%である場合に
おいては、この希釈廃液dグラムに含まれる色素は1.
2adグラムであり、退色防止剤は0.5bdグラムで
ある。最も過多になっている色素を追加せずに、他の成
分(退色防止剤及び溶剤)を追加して、各成分を回収前
の色素溶液の濃度にするためには、希釈廃液611dグ
ラムに、退色防止剤0.7bdグラムと溶剤0.2dグ
ラムとを正確に加える必要がある。溶剤、色素及び退色
防止剤以外の成分を添加する際も、同様の精度で行うこ
とが好ましい。
For example, the concentration of the dye and the concentration of the anti-fading agent in the dye solution before recovery are a mass% and b mass%, respectively, and the concentration of the dye and the anti-fading agent in the diluted waste solution 611 are 1.2 a, respectively. In the case where the amount is 0.5% by mass or 0.5% by mass, the dye contained in d grams of the diluted waste liquid contains 1.
2 ad gram and the anti-fading agent is 0.5 bd gram. To add the other components (anti-fading agent and solvent) without adding the most excess dye, and to make each component the concentration of the dye solution before recovery, 611 d grams of the diluted waste liquid It is necessary to accurately add 0.7 bd gram of the anti-fading agent and 0.2 d gram of the solvent. It is preferable to add the components other than the solvent, the dye and the anti-fading agent with the same accuracy.

【0106】以上の通り、本実施の形態に係る製造シス
テムにおいては、色素溶液の塗布処理にて排出された色
素廃液(回収工程で回収された色素廃液)を、所定の処
理を施した後、再生色素溶液として再利用するため、製
造コストの低廉化を効率よく実現することができる。
As described above, in the manufacturing system according to the present embodiment, the dye waste liquid discharged in the coating treatment of the dye solution (the dye waste liquid collected in the recovery step) is subjected to a predetermined treatment, Since it is reused as a regenerated dye solution, the production cost can be efficiently reduced.

【0107】また、再生色素溶液中の色素及び退色防止
剤の濃度を、回収前の色素溶液中の色素及び退色防止剤
の濃度と2桁以上の精度で一致するように調整するよう
にしたので、再生色素溶液を用いて色素記録層を形成し
た際にも記録再生特性の再現性を確保することができ
る。
Further, the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the regenerated dye solution are adjusted so as to match the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the dye solution before recovery with a precision of two digits or more. In addition, even when a dye recording layer is formed using a reproduction dye solution, reproducibility of recording / reproduction characteristics can be ensured.

【0108】更に、回収容器内の色素廃液を再生色素溶
液として再利用するに際しては、色素廃液中の固形物を
フィルタで除去し希釈した後に、希釈廃液中の色素及び
退色防止剤の含有量を定量し、この定量結果に基づいて
再生色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度を調整する
ようにしたので、定量誤差が小さくなり、再生色素溶液
を用いて色素記録層を形成した際にも、記録再生特性の
再現性を安定して確保することができる。
Further, when the dye waste liquid in the recovery container is reused as a regenerated dye solution, solids in the dye waste liquid are removed by a filter and diluted, and then the contents of the dye and the anti-fading agent in the diluted waste liquid are reduced. Quantitatively, the concentration of the dye and the anti-fading agent in the regenerated dye solution was adjusted based on the result of the quantification, so the quantification error was reduced, and even when the dye recording layer was formed using the regenerated dye solution. In addition, the reproducibility of the recording / reproducing characteristics can be secured stably.

【0109】上記実施の形態では、色素廃液中の固形物
をフィルタで除去するフィルタリング工程に続き、色素
廃液を希釈して希釈廃液を得る希釈工程を実施する例に
ついて説明したが、色素廃液を希釈して希釈廃液を得た
後、希釈廃液中の固形物をフィルタで除去するフィルタ
リング工程を実施してもよい。希釈した後にフィルタリ
ングを行うことにより析出した成分が溶解し、再生色素
溶液における色素や退色防止剤の回収率を更に増加させ
ることができ、生産効率の向上を図ることができる。
In the above-described embodiment, an example has been described in which a filtering step of removing solids in a dye waste liquid with a filter and a dilution step of diluting the dye waste liquid to obtain a diluted waste liquid are performed. After obtaining the diluted waste liquid, a filtering step of removing solids in the diluted waste liquid with a filter may be performed. By filtering after dilution, the precipitated component is dissolved, and the recovery rate of the dye and the anti-fading agent in the regenerated dye solution can be further increased, and the production efficiency can be improved.

【0110】また、上記実施の形態では、定量工程で決
定された希釈廃液中の色素及び退色防止剤の濃度に基づ
いて、再生色素溶液の色素及び退色防止剤の濃度を、1
回で調整する例について説明したが、定量工程で決定さ
れた希釈廃液中の色素及び退色防止剤の濃度に基づい
て、再生色素溶液の色素及び退色防止剤の濃度を、回収
前の色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度よりも0.
01〜1質量%高い濃度となるように粗調整し、粗調整
した再生色素溶液中の色素及び退色防止剤を定量して、
定量した色素及び退色防止剤の濃度に基づいて、再生色
素溶液の色素及び退色防止剤の濃度を、回収前の色素溶
液中の色素及び退色防止剤の濃度と2桁以上の精度で一
致するように微調整するようにしてもよい。このように
再生色素溶液の色素及び退色防止剤の濃度の調整を、粗
調整と微調整の2段階に分けて行うことで、高い精度で
濃度調整を行うことが容易になる。
In the above embodiment, the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the regenerated dye solution are set to 1 based on the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the diluted waste liquid determined in the quantification step.
Although the example of adjusting the number of times has been described, the concentration of the dye and the anti-fading agent in the regenerated dye solution is determined based on the concentration of the dye and the anti-fading agent in the diluted waste solution determined in the quantitative step. Than the concentration of the dye and the anti-fading agent.
Roughly adjusted to a concentration of 01 to 1% by mass higher, the dye and anti-fading agent in the roughly adjusted regenerated dye solution were quantified,
On the basis of the determined concentrations of the dye and the anti-fading agent, the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the regenerated dye solution are matched with the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the dye solution before recovery with a precision of two digits or more. May be finely adjusted. By adjusting the concentration of the dye and the anti-fading agent in the regenerated dye solution in two stages of coarse adjustment and fine adjustment as described above, it is easy to adjust the concentration with high accuracy.

【0111】また、上記実施の形態では、色素溶液の塗
布処理にて排出された色素廃液だけを再利用する例につ
いて説明したが、スピナーヘッド装置402や飛散防止
壁404を洗浄処理して得られた色素廃液を、回収工程
で回収された色素廃液に混合して再利用してもよい。
Further, in the above-described embodiment, an example was described in which only the dye waste liquid discharged in the coating processing of the dye solution was reused, but the spinner head device 402 and the scattering prevention wall 404 are obtained by cleaning processing. The dye waste liquid thus collected may be mixed with the dye waste liquid recovered in the recovery step and reused.

【0112】例えば、図8に示すように、再処理室60
0に、定期的にあるいは必要なときに、例えばメンテナ
ンスを目的としてスピンコート装置52のスピナーヘッ
ド装置402や飛散防止壁404を搬入し、該再処理室
600内に設置されている洗浄槽602を使用して洗浄
が行われるようにする。具体的には、洗浄槽602内に
入っている洗浄液にスピナーヘッド装置402や飛散防
止壁404を漬け込んで洗浄処理が行われる(漬け込み
洗い)。スピンコート装置52のスピナーヘッド装置4
02や飛散防止壁404を洗浄する方法として、洗浄槽
602での漬け込み洗いを実施すると、洗浄槽602内
に色素廃液604が溜まり、効率よく、色素廃液604
を得ることができる。洗浄槽602への漬け込み時間は
10分以上がよく、好ましくは30分以上がよい。
For example, as shown in FIG.
0, the spinner head device 402 and the scattering prevention wall 404 of the spin coater 52 are carried in periodically or when necessary, for example, for the purpose of maintenance, and the cleaning tank 602 installed in the reprocessing chamber 600 is removed. Use to ensure cleaning. Specifically, the spinner head device 402 and the scattering prevention wall 404 are immersed in the cleaning liquid contained in the cleaning tank 602 to perform a cleaning process (immersion washing). Spinner head device 4 of spin coating device 52
As a method of cleaning the anti-reflection coating 02 and the scattering prevention wall 404, when immersion washing is performed in the cleaning tank 602, the dye waste liquid 604 is accumulated in the cleaning tank 602, and the dye waste liquid 604 is efficiently disposed.
Can be obtained. The immersion time in the cleaning tank 602 is preferably 10 minutes or more, and more preferably 30 minutes or more.

【0113】この洗浄処理によって、スピナーヘッド装
置402や飛散防止壁404に付着していた色素が洗い
流され、洗浄液中に拡散する。この洗浄処理を繰り返す
ことによって、洗浄液中の色素の濃度が徐々に高くな
り、色素廃液604として洗浄槽602内に溜まること
になる。
By this cleaning treatment, the dye adhering to the spinner head device 402 and the scattering prevention wall 404 is washed away and diffuses in the cleaning liquid. By repeating this cleaning process, the concentration of the dye in the cleaning liquid gradually increases and accumulates in the cleaning tank 602 as the dye waste liquid 604.

【0114】そして、洗浄槽602内の色素廃液604
の濃度が、回収容器450内の色素廃液452の濃度以
上になった段階で、洗浄槽602内の色素廃液604と
回収容器450内の色素廃液452を混合して混合色素
廃液606とする。この場合、新たな容器608を使用
して混合するようにしてもよく、洗浄槽602内に回収
容器450内の色素廃液452を入れて混合するように
してもよい。
The dye waste liquid 604 in the cleaning tank 602
When the concentration becomes equal to or higher than the concentration of the dye waste liquid 452 in the collection container 450, the dye waste liquid 604 in the cleaning tank 602 and the dye waste liquid 452 in the collection container 450 are mixed to form a mixed dye waste liquid 606. In this case, the mixing may be performed using a new container 608, or the dye waste liquid 452 in the recovery container 450 may be put in the cleaning tank 602 and mixed.

【0115】このように、洗浄工程で回収された色素廃
液と色素溶液の塗布処理にて排出された色素廃液とを混
合して混合色素廃液とし、この混合色素廃液を再生色素
溶液として再利用することにより、再生色素溶液におけ
る色素の回収率を増加させることができ、生産効率の向
上を図ることができる。特に、洗浄工程で回収された色
素廃液の色素濃度が前記回収工程で回収された色素廃液
の色素濃度以上となった段階で、これら色素廃液を混合
するようにした場合には、工程内への不純物の混入を防
ぐことができ、混合色素廃液を再生色素溶液として再利
用した際にも記録再生特性の再現性を確保でき、製造コ
ストの低廉化を効率よく実現させることができる。
As described above, the dye waste liquid collected in the washing step and the dye waste liquid discharged in the coating treatment of the dye solution are mixed to form a mixed dye waste liquid, and the mixed dye waste liquid is reused as a regenerated dye solution. Thereby, the recovery rate of the dye in the regenerated dye solution can be increased, and the production efficiency can be improved. In particular, at the stage where the dye concentration of the dye waste liquid collected in the washing step is equal to or higher than the dye concentration of the dye waste liquid collected in the collecting step, when these dye waste liquids are mixed, if the dye waste liquid is mixed, Impurity can be prevented from being mixed, and the reproducibility of the recording / reproducing characteristics can be ensured even when the mixed dye waste liquid is reused as the regenerated dye solution, so that the production cost can be efficiently reduced.

【0116】また、上記の製造システム10は、基板2
02上に形成された色素溶液の塗膜のうち、基板202
の裏面に付着した塗膜を除去する裏面洗浄機構54と、
基板202上に形成された色素溶液の塗膜のうち、基板
202の外周縁部に対応する部分を除去するエッジ洗浄
機構92とを有しているが、これらの機構54及び92
から排出される廃液についても回収を行い、得られた色
素廃液を回収工程で回収された色素廃液に混合して再利
用してもよい。従来、エッジ洗浄時の廃液や裏面洗浄時
の廃液は、工程内の不純物の混入を防止するため、色素
廃液と分離されていたが、本発明では、色素廃液をフィ
ルタ処理した後に再利用するので、これらの廃液を回収
工程で回収された色素廃液に混合して用いても、工程内
の不純物の混入を防止することができ、記録再生特性の
再現性を確保でき、製造コストの低廉化を効率よく実現
させることができる。また、エッジ洗浄時の廃液や裏面
洗浄時の廃液を再利用することにより、再生色素溶液に
おける色素の回収率を更に増加させることができ、生産
効率の向上を図ることができる。
Further, the above-described manufacturing system 10 includes the substrate 2
02 of the dye solution coating film formed on the substrate 202
A back surface cleaning mechanism 54 for removing the coating film adhered to the back surface of the
An edge cleaning mechanism 92 for removing a portion of the coating solution of the dye solution formed on the substrate 202 corresponding to the outer peripheral edge of the substrate 202 is provided.
It is also possible to recover the waste liquid discharged from, and mix the obtained dye waste liquid with the dye waste liquid recovered in the recovery step to reuse it. Conventionally, the waste liquid at the time of edge cleaning and the waste liquid at the time of back surface cleaning are separated from the dye waste liquid in order to prevent impurities from being mixed in the process.In the present invention, the dye waste liquid is reused after being filtered. Even if these waste liquids are mixed with the dye waste liquid recovered in the recovery step and used, the contamination of impurities in the process can be prevented, the reproducibility of the recording / reproducing characteristics can be secured, and the manufacturing cost can be reduced. It can be realized efficiently. In addition, by recycling the waste liquid at the time of edge cleaning and the waste liquid at the time of back surface cleaning, the recovery rate of the dye in the regenerated dye solution can be further increased, and the production efficiency can be improved.

【0117】[0117]

【実施例】[参考例]ステンレス製の密閉容器に上述の
インドレニン系色素(化合物A)2.65部と、退色防
止剤(化合物B)0.265部と、2,2,3,3−テ
トラフルオロプロパノール100部とを混合し、超音波
振動機(1800W)を用いて2時間かけて溶解し、色
素記録層を形成するための色素溶液(A−0)を調製し
た。
EXAMPLES Reference Example A sealed stainless steel container was filled with 2.65 parts of the above-mentioned indolenine dye (Compound A), 0.265 parts of a fading inhibitor (Compound B), 2, 2, 3, and 3 -100 parts of tetrafluoropropanol was mixed and dissolved for 2 hours using an ultrasonic vibrator (1800 W) to prepare a dye solution (A-0) for forming a dye recording layer.

【0118】色素溶液中の色素濃度は2.65質量%で
あり、退色防止剤濃度は0.53質量%であった。この
色素溶液を半日間保存した後、表面にスパイラル状のプ
レグルーブ(トラックピッチ1.6μm、プレグルーブ
幅0.52μm、プレグルーブの深さ175nm)が射
出成形により形成されたポリカーボネート基板(直径1
20mm、厚さ1.2mm、帝人(株)製、商品名「パ
ンライトAD5503」)のそのプレグルーブ側の面
に、ステンレス製のノズル(内径0.8μm)を有する
塗布液付与装置を備えたスピンコート装置を用いて、そ
のスピナーヘッド装置の回転数を300rpm〜400
0rpmまで変化させながら塗布し、色素記録層(グル
ーブ内の厚さ約200nm)を形成した。塗布の際に飛
散した色素溶液はドレインを通して回収容器に集めた。
これを色素廃液(A−1)とする。このときの色素記録
層の形成条件は、雰囲気の温度、湿度:23℃、50%
RH色素溶液の温度:23℃ 基板202の温度:23
℃ 排気風速:0.8m/sである。
The dye concentration in the dye solution was 2.65% by mass, and the concentration of the anti-fading agent was 0.53% by mass. After storing this dye solution for half a day, a polycarbonate substrate (diameter 1) having a spiral pre-groove (track pitch 1.6 μm, pre-groove width 0.52 μm, pre-groove depth 175 nm) formed on its surface by injection molding.
20 mm, thickness 1.2 mm, manufactured by Teijin Limited, trade name “Panlite AD5503”) provided on its pre-groove side surface with a coating liquid application device having a stainless steel nozzle (0.8 μm inner diameter). Using a spin coater, the rotation speed of the spinner head device was set to 300 rpm to 400 rpm.
The coating was carried out while changing to 0 rpm to form a dye recording layer (with a thickness of about 200 nm in the groove). The dye solution scattered during the coating was collected in a collecting container through a drain.
This is referred to as a dye waste liquid (A-1). At this time, the conditions for forming the dye recording layer are as follows: atmosphere temperature, humidity: 23 ° C., 50%
Temperature of RH dye solution: 23 ° C. Temperature of substrate 202: 23
° C. Exhaust air velocity: 0.8 m / s.

【0119】次に、色素記録層上に、Auをスパッタし
て、膜厚が150nmの光反射層を形成した。更に、別
のスピンコート装置を用いて、前記光反射層上にUV硬
化性樹脂(商品名「SD−318」、大日本インキ化学
工業(株)製)をスピナーヘッド装置の回転数を300
rpm〜5000rpmまで変化させながら塗布した
後、紫外線を照射して樹脂を硬化させ、層厚8μmの保
護層を形成した。
Next, on the dye recording layer, Au was sputtered to form a light reflecting layer having a thickness of 150 nm. Further, using another spin coater, a UV curable resin (trade name “SD-318”, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was applied on the light reflecting layer at a rotation speed of a spinner head device of 300.
After application while changing the rotation speed from rpm to 5000 rpm, the resin was cured by irradiating ultraviolet rays to form a protective layer having a thickness of 8 μm.

【0120】以上の工程により、基板上に、色素記録
層、光反射層、及び保護層が積層された参考例に係る光
ディスクを製造した。この参考例に係る光ディスクは、
通常の色素溶液を用いて製造したものである。
Through the above steps, an optical disk according to a reference example in which a dye recording layer, a light reflecting layer, and a protective layer were laminated on a substrate was manufactured. The optical disc according to this reference example is
It is manufactured using a normal dye solution.

【0121】[実施例1]上記の回収容器に集めた色素
廃液(A−1)30リットルを、除去粒子孔径0.2μ
mのフィルタ(商品名「MDY2230FREHF」、
日本ポール社製)で濾過し、濾液に該濾液と略同量の
2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールを加えて
均一になるまで撹拌し、約60リットルの希釈廃液(A
−2)を得た。
[Example 1] 30 liters of the dye waste liquid (A-1) collected in the above-mentioned collection container was subjected to a removal particle pore size of 0.2 μm.
m filter (trade name “MDY2230FREHF”,
Filtration was performed using Nippon Pole Co., Ltd., and approximately 2,2,3,3-tetrafluoropropanol of the same amount as the filtrate was added to the filtrate, and the mixture was stirred until it became uniform.
-2) was obtained.

【0122】一方、前記参考例で示した色素記録層を形
成するための色素溶液を所定量サンプルびんに採り、該
色素溶液を2,2,3,3−テトラフルオロプロパノー
ルで約600倍に希釈した。これを試料とし、分光光度
計(島津製作所社製、UV3100PC)を用いて、色
素(吸収波長680nm)と退色防止剤(吸収波長45
0nm)について検量線を作成した。
On the other hand, a predetermined amount of the dye solution for forming the dye recording layer shown in the above reference example was placed in a sample bottle, and the dye solution was diluted about 600 times with 2,2,3,3-tetrafluoropropanol. did. Using this as a sample, using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, UV3100PC), a dye (absorption wavelength: 680 nm) and a fading inhibitor (absorption wavelength: 45 nm) were used.
0 nm).

【0123】希釈廃液(A−2)を0.1g精秤してサ
ンプルびんに採り、2,2,3,3−テトラフルオロプ
ロパノールで600倍に希釈し、定量試料(A−3)と
し、作成した検量線を用いて、この定量試料(A−3)
中の色素及び退色防止剤を定量し、希釈廃液(A−2)
中の色素及び退色防止剤の濃度に換算した。希釈廃液
(A−2)中の色素濃度は6.22質量%であり、色素
に対する退色防止剤濃度は11.0質量%であった。
0.1 g of the diluted waste liquid (A-2) was precisely weighed and placed in a sample bottle, and diluted 600 times with 2,2,3,3-tetrafluoropropanol to obtain a quantitative sample (A-3). Using the prepared calibration curve, this quantitative sample (A-3)
The dye and the anti-fading agent in the solution are quantified and diluted waste liquid (A-2)
The concentration was converted to the concentration of the dye and the anti-fading agent therein. The dye concentration in the diluted waste liquid (A-2) was 6.22% by mass, and the concentration of the anti-fading agent with respect to the dye was 11.0% by mass.

【0124】この結果に基づいて、退色防止剤濃度が色
素濃度の20%となるように、希釈廃液(A−2)に退
色防止剤375gを添加し、色素濃度が2.8%となる
ように、希釈廃液(A−2)に2,2,3,3−テトラ
フルオロプロパノール73.3リットルを添加して、色
素及び退色防止剤の濃度を粗調整し、約133.3リッ
トルの再生色素溶液(A−4)を得た。
Based on the results, 375 g of the anti-fading agent was added to the diluted waste liquid (A-2) so that the anti-fading agent concentration was 20% of the dye concentration, and the dye concentration was 2.8%. , 73.3 liters of 2,2,3,3-tetrafluoropropanol were added to the diluted waste liquid (A-2) to roughly adjust the concentration of the dye and the anti-fading agent, and about 133.3 liters of the regenerated dye Solution (A-4) was obtained.

【0125】再生色素溶液(A−4)を0.1g精秤し
てサンプルびんに採り、2,2,3,3−テトラフルオ
ロプロパノールで600倍に希釈し、定量試料(A−
5)とし、作成した検量線を用いて、この定量試料(A
−5)中の色素及び退色防止剤を定量し、再生色素溶液
(A−4)中の色素及び退色防止剤の濃度に換算した。
再生色素溶液(A−4)中の色素濃度は2.81質量%
であった。
0.1 g of the regenerated dye solution (A-4) was precisely weighed and placed in a sample bottle, and diluted 600 times with 2,2,3,3-tetrafluoropropanol to obtain a quantitative sample (A-
5), and using this prepared calibration curve, this quantitative sample (A
The dye and the anti-fading agent in -5) were quantified and converted into the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the regenerated dye solution (A-4).
The dye concentration in the regenerated dye solution (A-4) is 2.81% by mass.
Met.

【0126】色素濃度が、上記色素溶液(A−0)中の
色素濃度(2.65%)と一致するように、2,2,
3,3−テトラフルオロプロパノールを追加して色素濃
度を微調整し、再生色素溶液(A−6)を得た。
In order to make the dye concentration coincide with the dye concentration (2.65%) in the dye solution (A-0),
The dye concentration was finely adjusted by adding 3,3-tetrafluoropropanol to obtain a regenerated dye solution (A-6).

【0127】得られた再生色素溶液(A−6)を用い
て、前記参考例と同様にして色素記録層を形成した。塗
布の際に飛散した色素溶液はドレインを通して回収容器
に集めた。これを色素廃液(A−7)とする。次に、前
記参考例と同様にして、色素記録層上に、光反射層及び
保護層を積層し、実施例に係る光ディスクを製造した。
Using the obtained regenerated dye solution (A-6), a dye recording layer was formed in the same manner as in the above reference example. The dye solution scattered during the coating was collected in a collecting container through a drain. This is referred to as a dye waste liquid (A-7). Next, a light reflection layer and a protective layer were laminated on the dye recording layer in the same manner as in the above reference example, and an optical disc according to the example was manufactured.

【0128】[実施例2]実施例1で回収容器に集めた
色素廃液(A−7)を用い、実施例1と同様に処理し
て、再生色素溶液(A−8)を得た。得られた再生色素
溶液(A−8)を用いて、前記参考例と同様にして色素
記録層を形成した。塗布の際に飛散した色素溶液はドレ
インを通して回収容器に集めた。これを色素廃液(A−
9)とする。次に、前記参考例と同様にして、色素記録
層上に、光反射層及び保護層を積層し、実施例に係る光
ディスクを製造した。
[Example 2] The dye waste liquid (A-7) collected in the collection container in Example 1 was treated in the same manner as in Example 1 to obtain a regenerated dye solution (A-8). Using the obtained regenerated dye solution (A-8), a dye recording layer was formed in the same manner as in the above Reference Example. The dye solution scattered during the coating was collected in a collecting container through a drain. This is used as a dye waste liquid (A-
9). Next, a light reflection layer and a protective layer were laminated on the dye recording layer in the same manner as in the above reference example, and an optical disc according to the example was manufactured.

【0129】[実施例3]実施例2で回収容器に集めた
色素廃液(A−9)を用い、実施例1と同様に処理し
て、再生色素溶液(A−10)を得た。得られた再生色
素溶液(A−10)を用いて、前記参考例と同様にして
色素記録層を形成した。塗布の際に飛散した色素溶液は
ドレインを通して回収容器に集めた。これを色素廃液
(A−11)とする。次に、前記参考例と同様にして、
色素記録層上に、光反射層及び保護層を積層し、実施例
に係る光ディスクを製造した。
Example 3 Using the dye waste liquid (A-9) collected in the collection container in Example 2, the same treatment as in Example 1 was performed to obtain a regenerated dye solution (A-10). Using the obtained regenerated dye solution (A-10), a dye recording layer was formed in the same manner as in the above Reference Example. The dye solution scattered during the coating was collected in a collecting container through a drain. This is referred to as a dye waste liquid (A-11). Next, in the same manner as in the above reference example,
A light reflection layer and a protective layer were laminated on the dye recording layer, and an optical disc according to the example was manufactured.

【0130】[実施例4]上記の回収容器に集めた色素
廃液(A−1)30リットルを、除去粒子孔径0.2μ
mのフィルタ(商品名「MDY2230FREHF」、
日本ポール社製)で濾過し、濾液に濾液と略同量の2,
2,3,3−テトラフルオロプロパノールを加え、均一
になるまで撹拌し、約60リットルの希釈廃液(A−1
2)を得た。
[Example 4] 30 liters of the dye waste liquid (A-1) collected in the above-mentioned collection container was subjected to removal of pores having a pore diameter of 0.2 µm.
m filter (trade name “MDY2230FREHF”,
Filtrated by Nippon Pall Co., Ltd.)
2,3,3-Tetrafluoropropanol was added, and the mixture was stirred until the mixture became homogeneous.
2) was obtained.

【0131】希釈廃液(A−12)を0.1g精秤して
サンプルびんに採り、2,2,3,3−テトラフルオロ
プロパノールで600倍に希釈し、定量試料(A−1
3)とし、実施例1で作成した検量線を用いて、この定
量試料(A−13)中の色素及び退色防止剤を定量し、
希釈廃液(A−12)中の色素及び退色防止剤の濃度に
換算した。希釈廃液(A−12)中の色素濃度は5.2
0質量%であり、色素に対する退色防止剤濃度は10.
5質量%であった。
0.1 g of the diluted waste liquid (A-12) was precisely weighed and placed in a sample bottle.
3), the dye and the anti-fading agent in this quantitative sample (A-13) were quantified using the calibration curve prepared in Example 1,
It was converted to the concentration of the dye and the anti-fading agent in the diluted waste liquid (A-12). The dye concentration in the diluted waste liquid (A-12) is 5.2.
0% by mass, and the concentration of the anti-fading agent with respect to the dye was 10.
It was 5% by mass.

【0132】この結果に基づいて、退色防止剤濃度が色
素濃度の20%となるように、希釈廃液(A−12)に
退色防止剤296.4gを添加し、色素濃度が2.65
%となるように、希釈廃液(A−12)に2,2,3,
3−テトラフルオロプロパノール57.7リットルを添
加して、色素及び退色防止剤の濃度を調整し、約11
7.7リットルの再生色素溶液(A−14)を得た。
Based on the results, 296.4 g of the anti-fading agent was added to the diluted waste liquid (A-12) so that the anti-fading agent concentration was 20% of the dye concentration, and the dye concentration was 2.65.
%, 2, 2, 3, in the diluted waste liquid (A-12).
Add 57.7 liters of 3-tetrafluoropropanol to adjust the concentration of the dye and anti-fading agent to about 11
7.7 liters of a regenerated dye solution (A-14) was obtained.

【0133】得られた再生色素溶液(A−14)を用い
て、前記参考例と同様にして色素記録層を形成した。次
に、前記参考例と同様にして、色素記録層上に、光反射
層及び保護層を積層し、実施例に係る光ディスクを製造
した。
Using the obtained regenerated dye solution (A-14), a dye recording layer was formed in the same manner as in the above reference example. Next, a light reflection layer and a protective layer were laminated on the dye recording layer in the same manner as in the above reference example, and an optical disc according to the example was manufactured.

【0134】[比較例1]上記の回収容器に集めた色素
廃液(A−1)を0.1g精秤してサンプルびんに採
り、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールで6
00倍に希釈し、定量試料(A−15)とし、実施例1
で作成した検量線を用いて、この定量試料(A−15)
中の色素及び退色防止剤を定量し、色素廃液(A−1)
中の色素及び退色防止剤の濃度に換算した。色素廃液
(A−1)中の色素濃度は15.8質量%であり、色素
に対する退色防止剤濃度は13.0質量%であった。
[Comparative Example 1] 0.1 g of the dye waste liquid (A-1) collected in the above-mentioned collection container was precisely weighed and taken into a sample bottle, which was then washed with 2,2,3,3-tetrafluoropropanol.
Example 1 was diluted 100-fold to obtain a quantitative sample (A-15).
This quantitative sample (A-15) was obtained using the calibration curve prepared in
The dye and the anti-fading agent in the dye are quantified, and the dye waste liquid (A-1)
The concentration was converted to the concentration of the dye and the anti-fading agent therein. The dye concentration in the dye waste liquid (A-1) was 15.8% by mass, and the concentration of the anti-fading agent with respect to the dye was 13.0% by mass.

【0135】この結果に基づいて、退色防止剤濃度が色
素濃度の20%となるように、色素廃液(A−1)30
リットルに退色防止剤331.8gを添加し、色素濃度
が2.65%となるように、色素廃液(A−1)に2,
2,3,3−テトラフルオロプロパノール148.8リ
ットルを添加して、色素及び退色防止剤の濃度を調整
し、約178.9リットルの再生色素溶液(A−16)
を得た。
Based on the results, the dye waste liquid (A-1) 30 was adjusted so that the concentration of the anti-fading agent was 20% of the dye concentration.
331.8 g of an anti-fading agent was added to 1 liter, and 2,2 was added to the dye waste liquid (A-1) so that the dye concentration became 2.65%.
By adding 148.8 liters of 2,3,3-tetrafluoropropanol to adjust the concentration of the dye and the anti-fading agent, about 178.9 liters of the regenerated dye solution (A-16)
I got

【0136】得られた再生色素溶液(A−16)を用い
て、前記参考例と同様にして色素記録層を形成した。次
に、前記参考例と同様にして、色素記録層上に、光反射
層及び保護層を積層し、比較例に係る光ディスクを製造
した。
Using the obtained regenerated dye solution (A-16), a dye recording layer was formed in the same manner as in the above Reference Example. Next, a light reflecting layer and a protective layer were laminated on the dye recording layer in the same manner as in the above-mentioned reference example, and an optical disc according to a comparative example was manufactured.

【0137】[評価] (記録特性)参考例に係る光ディスクと実施例1に係る
光ディスクについて、パルステック社製「OMT−20
00」を用いて、最適パワーで記録特性を評価した。そ
の結果を表2に示す。表2から明らかなように、色素溶
液の再生処理で得られた再生色素溶液を用いて作製した
光ディスクは、正規の色素溶液を用いて作製した光ディ
スクDと記録特性において大差はなく、再生色素溶液を
色素溶液の塗布工程で再利用できることがわかる。
[Evaluation] (Recording characteristics) For the optical disk according to the reference example and the optical disk according to the first embodiment, "OMT-20" manufactured by Pulstec Inc.
Using "00", the recording characteristics were evaluated at the optimum power. Table 2 shows the results. As is clear from Table 2, the optical disk manufactured using the regenerated dye solution obtained by the regenerating treatment of the dye solution has almost no difference in recording characteristics from the optical disk D manufactured using the regular dye solution. Can be reused in the dye solution coating process.

【0138】[0138]

【表2】 [Table 2]

【0139】(光学濃度測定)各実施例について、基板
上に色素記録層を形成した後に、色素記録層側から半導
体レーザにより680nmのレーザ光を照射して、吸収
された光量を測定し、吸収された光量を吸光度に換算し
て光学濃度を算出した。結果を表3に示す。表3から分
かるように、色素廃液中の固形物を濾過し、色素廃液を
希釈した後に、色素及び退色防止剤の定量を行い、この
定量結果に基づいて調整した再生色素溶液を用いて色素
記録層を形成した場合(実施例1〜4)には、通常の色
素溶液を用いて色素記録層を形成した場合(参考例)と
略同じ光学濃度が得られた。
(Measurement of Optical Density) In each example, after a dye recording layer was formed on a substrate, a laser beam of 680 nm was irradiated from the dye recording layer side with a semiconductor laser to measure the amount of absorbed light. The optical density was calculated by converting the obtained light quantity into an absorbance. Table 3 shows the results. As can be seen from Table 3, the solid matter in the dye waste liquid was filtered, and after diluting the dye waste liquid, the dye and the anti-fading agent were quantified, and the dye recording was performed using the regenerated dye solution adjusted based on the quantitative results. When the layer was formed (Examples 1 to 4), almost the same optical density was obtained as when the dye recording layer was formed using a normal dye solution (Reference Example).

【0140】一方、濾過、希釈を行わずに、色素及び退
色防止剤の定量を行い、この定量結果に基づいて調整し
た再生色素溶液を用いて色素記録層を形成した場合(比
較例1)には、光学濃度が大幅に変動した。
On the other hand, when the dye and the anti-fading agent were quantified without performing filtration and dilution, and a dye recording layer was formed using a regenerated dye solution adjusted based on the quantification results (Comparative Example 1). The optical density greatly fluctuated.

【0141】[0141]

【表3】 [Table 3]

【0142】[0142]

【発明の効果】本発明の光情報記録媒体の製造方法によ
れば、色素廃液を色素溶液として再利用しても記録再生
特性の再現性を安定して確保でき、製造コストの低廉化
を効率よく実現することができる、という効果を奏す
る。
According to the method for manufacturing an optical information recording medium of the present invention, the reproducibility of the recording / reproducing characteristics can be secured stably even when the dye waste liquid is reused as the dye solution, and the manufacturing cost can be reduced efficiently. This has the effect of being able to be realized well.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本実施の形態に係る製造システムの一例を示す
構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram illustrating an example of a manufacturing system according to an embodiment.

【図2】塗布設備に設置されるスピンコート装置を示す
構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram showing a spin coater installed in a coating facility.

【図3】塗布設備に設置されるスピンコート装置を示す
斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing a spin coater installed in a coating facility.

【図4】(A)は基板にグルーブを形成した状態を示す
工程図であり、(B)は基板上に色素記録層を形成した
状態を示す工程図であり、(C)は基板上に光反射層を
形成した状態を示す工程図である。
4A is a process diagram showing a state in which a groove is formed on a substrate, FIG. 4B is a process diagram showing a state in which a dye recording layer is formed on the substrate, and FIG. It is a process figure showing the state where the light reflection layer was formed.

【図5】(A)は基板のエッジ部分を洗浄した状態を示
す工程図であり、(B)は基板上に保護層を形成した状
態を示す工程図である。
FIG. 5A is a process diagram showing a state where an edge portion of the substrate is cleaned, and FIG. 5B is a process diagram showing a state where a protective layer is formed on the substrate.

【図6】本実施の形態に係る製造システムの再生処理の
手順を示す工程図である。
FIG. 6 is a process chart showing a procedure of a reproduction process of the manufacturing system according to the present embodiment.

【図7】インドレニン系色素と退色防止剤における液体
クロマトグラフィの3次元チャートを示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a three-dimensional chart of liquid chromatography using an indolenine dye and an anti-fading agent.

【図8】本実施の形態に係る製造システムの再生処理の
他の手順を示す工程図である。
FIG. 8 is a process chart showing another procedure of the reproduction process of the manufacturing system according to the present embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 製造システム 14 塗布設備 48 色素塗布機構 52 スピンコート装置 54 裏面洗浄機構 92 エッジ洗浄機構 202 基板 204 色素記録層 206 エッジ部分 300 空調システム 400 塗布液付与装置 402 スピナーヘッド装置 404 飛散防止壁 406 ノズル 408 吐出量調整バルブ 424 ドレイン 450 回収容器 452 色素廃液 600 再処理室 607 フィルタリング工程 609 希釈工程 610 定量工程 611 希釈廃液 612 濃度調整工程 614 再生色素溶液 REFERENCE SIGNS LIST 10 manufacturing system 14 coating equipment 48 dye coating mechanism 52 spin coating device 54 back surface cleaning mechanism 92 edge cleaning mechanism 202 substrate 204 dye recording layer 206 edge portion 300 air conditioning system 400 coating liquid applying device 402 spinner head device 404 scattering prevention wall 406 nozzle 408 Discharge amount adjustment valve 424 Drain 450 Collection container 452 Dye waste liquid 600 Reprocessing chamber 607 Filtering step 609 Dilution step 610 Quantification step 611 Dilution waste liquid 612 Concentration adjustment step 614 Regenerated dye solution

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柴田 路宏 神奈川県小田原市扇町2町目12番1号 富 士写真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H111 EA03 EA22 EA25 EA44 FB42 FB60 GA05 5D121 AA20 EE22 GG30  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Michihiro Shibata F-term (reference) 2H111 EA03 EA22 EA25 EA44 FB42 FB60 GA05 5D121 AA20 EE22 in Fuji Photo Film Co., Ltd. GG30

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に、レーザ光の照射により情報を記
録することができる色素記録層を有する光情報記録媒体
の製造方法において、 前記基板を回転させながら前記色素記録層を形成するた
めの色素溶液を前記基板上に塗布する塗布工程と、 前記塗布工程で排出された色素廃液を回収する回収工程
と、 前記回収工程で得られた色素廃液から固形物を除去する
と共に該色素廃液を所定倍率で希釈して希釈廃液とする
前処理工程と、 前記前処理工程で得られた希釈廃液中の主要成分の含有
量を定量する定量工程と、 前記定量工程での定量結果に基づいて、主要成分の濃度
が前記色素溶液中の主要成分の濃度と2桁以上の精度で
一致するように、主要成分の濃度を調整して前記希釈廃
液から再生色素溶液を得る濃度調整工程と、 を含み、 前記濃度調整工程で得られた再生色素溶液を、色素溶液
として再利用することを特徴とする光情報記録媒体の製
造方法。
1. A method of manufacturing an optical information recording medium having a dye recording layer on which information can be recorded by irradiating a laser beam on a substrate, wherein the substrate is rotated to form the dye recording layer. A coating step of applying a dye solution on the substrate; a collecting step of collecting the dye waste liquid discharged in the coating step; and removing a solid matter from the dye waste liquid obtained in the collecting step and removing the dye waste liquid by a predetermined amount. A pretreatment step of diluting at a magnification to obtain a diluted waste liquid; a quantitative step of quantifying the content of a main component in the diluted waste liquid obtained in the pretreatment step; A concentration adjusting step of adjusting the concentration of the main component to obtain a regenerated dye solution from the diluted waste liquid, so that the concentration of the component matches the concentration of the main component in the dye solution with an accuracy of two digits or more, Said dark A method for producing an optical information recording medium, comprising reusing the regenerated dye solution obtained in the degree adjustment step as a dye solution.
【請求項2】基板上に、レーザ光の照射により情報を記
録することができる色素記録層を有する光情報記録媒体
の製造方法において、 前記基板を回転させながら前記色素記録層を形成するた
めの色素溶液を前記基板上に塗布する塗布工程と、 前記塗布工程で排出された色素廃液を回収する回収工程
と、 前記回収工程で得られた色素廃液から固形物を除去する
と共に該色素廃液を所定倍率で希釈して希釈廃液とする
前処理工程と、 前記前処理工程で得られた希釈廃液中の主要成分の含有
量を定量する第1の定量工程と、 前記第1の定量工程での定量結果に基づいて、主要成分
の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度よりも0.0
1〜1質量%高い濃度となるように、主要成分の濃度を
調整して前記希釈廃液から1次再生色素溶液を得る第1
の濃度調整工程と、 前記第1の濃度調整工程で得られた1次再生色素溶液中
の主要成分の含有量を定量する第2の定量工程と、 前記第2の定量工程での定量結果に基づいて、主要成分
の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度と2桁以上の
精度で一致するように、主要成分の濃度を調整して前記
希釈廃液から2次再生色素溶液を得る第2の濃度調整工
程と、 を含み、 前記第2の濃度調整工程で得られた2次再生色素溶液
を、色素溶液として再利用することを特徴とする光情報
記録媒体の製造方法。
2. A method for manufacturing an optical information recording medium having a dye recording layer on which information can be recorded by irradiating a laser beam on a substrate, wherein the substrate is rotated to form the dye recording layer. A coating step of applying a dye solution on the substrate; a collecting step of collecting the dye waste liquid discharged in the coating step; and removing a solid substance from the dye waste liquid obtained in the collecting step and removing the dye waste liquid by a predetermined amount. A pretreatment step of diluting at a magnification to obtain a diluted waste liquid; a first quantification step of quantifying the content of a main component in the diluted waste liquid obtained in the pretreatment step; and a quantification in the first quantification step. Based on the results, the concentration of the major component was 0.04% less than the concentration of the major component in the dye solution.
The first reconstituted dye solution is obtained from the diluted waste liquid by adjusting the concentration of the main component so that the concentration becomes higher by 1 to 1% by mass.
Concentration adjustment step, a second quantification step for quantifying the content of the main component in the primary regenerated dye solution obtained in the first concentration adjustment step, and a quantification result in the second quantification step. A second reconstituted dye solution is obtained from the diluted waste liquid by adjusting the concentration of the main component so that the concentration of the main component matches the concentration of the main component in the dye solution with two or more digits of accuracy. A method for producing an optical information recording medium, comprising: reusing, as a dye solution, the secondary regenerated dye solution obtained in the second concentration adjusting step.
【請求項3】前記色素廃液を1.5〜3.0倍に希釈し
て希釈廃液とする請求項1または2に記載の光情報記録
媒体の製造方法。
3. The method for producing an optical information recording medium according to claim 1, wherein the dye waste liquid is diluted 1.5 to 3.0 times to obtain a diluted waste liquid.
【請求項4】前記主要成分に、少なくとも色素及び退色
防止剤を含む請求項1〜3のいずれか1項に記載の光情
報記録媒体の製造方法。
4. The method for producing an optical information recording medium according to claim 1, wherein said main component contains at least a dye and an anti-fading agent.
【請求項5】前記希釈廃液を10〜9000倍に希釈し
て、前記希釈廃液中の主要成分の含有量を定量する請求
項1〜4のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造
方法。
5. The optical information recording medium according to claim 1, wherein said diluted waste liquid is diluted 10 to 9000 times to determine the content of the main component in said diluted waste liquid. Method.
【請求項6】前記1次再生色素溶液を10〜9000倍
に希釈して、前記1次再生色素溶液中の主要成分の含有
量を定量する請求項2〜5のいずれか1項に記載の光情
報記録媒体の製造方法。
6. The method according to any one of claims 2 to 5, wherein the primary regenerated dye solution is diluted 10 to 9000 times to determine the content of the main component in the primary regenerated dye solution. A method for manufacturing an optical information recording medium.
【請求項7】前記前処理工程の前に、前記色素溶液の塗
布の際に周囲に付着した色素を洗浄する洗浄工程と、前
記洗浄工程で回収された色素廃液の色素濃度が前記回収
工程で回収された前記色素溶液の色素濃度以上となった
段階で、これら色素廃液を混合する混合工程と、を更に
含む請求項1〜6のいずれか1項に記載の光情報記録媒
体の製造方法。
7. A washing step for washing a dye adhered to the periphery during the application of the dye solution before the pre-treatment step, and a dye concentration of a dye waste liquid collected in the washing step is measured in the collecting step. The method for producing an optical information recording medium according to any one of claims 1 to 6, further comprising: a mixing step of mixing these dye waste liquids when the dye concentration of the collected dye solution becomes higher than the dye concentration.
【請求項8】前記主要成分の定量を液体クロマトグラフ
ィで行う請求項1〜7のいずれか1項に記載の光情報記
録媒体の製造方法。
8. The method for producing an optical information recording medium according to claim 1, wherein the quantitative determination of the main component is performed by liquid chromatography.
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Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0376686A (en) * 1989-08-21 1991-04-02 Fuji Photo Film Co Ltd Preparation of data recording medium
JPH0871494A (en) * 1994-08-31 1996-03-19 Mitsubishi Chem Corp Automatic preparation of dyestuff solution
JPH0927146A (en) * 1995-07-07 1997-01-28 Hitachi Maxell Ltd Production of optical information recording medium and apparatus for production therefor
JPH10249315A (en) * 1997-03-14 1998-09-22 Sony Corp Method for recycling optical disk
JPH10275331A (en) * 1997-04-01 1998-10-13 Sony Corp Top-coating solution for magnetic recording medium and production of magnetic recording medium
JPH1135733A (en) * 1997-07-22 1999-02-09 Sony Corp Recycling of disk-like information recording medium
JPH1134057A (en) * 1997-07-22 1999-02-09 Sony Corp Method for recycling disk-shaped information recording medium
JP2000070824A (en) * 1998-08-26 2000-03-07 Fuji Photo Film Co Ltd Regeneration of coating solution for producing optical data recording medium, regenerated coating solution and production of optical data recording medium utilizing regenerated coating solution
JP2000285528A (en) * 1999-03-26 2000-10-13 Fuji Photo Film Co Ltd Production of optical information recording medium
JP2001006229A (en) * 1999-06-16 2001-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd Equipment and method for manufacturing optical information recording medium
JP2001184732A (en) * 1999-12-27 2001-07-06 Fuji Photo Film Co Ltd Method for manufacturing optical information recording medium

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0376686A (en) * 1989-08-21 1991-04-02 Fuji Photo Film Co Ltd Preparation of data recording medium
JPH0871494A (en) * 1994-08-31 1996-03-19 Mitsubishi Chem Corp Automatic preparation of dyestuff solution
JPH0927146A (en) * 1995-07-07 1997-01-28 Hitachi Maxell Ltd Production of optical information recording medium and apparatus for production therefor
JPH10249315A (en) * 1997-03-14 1998-09-22 Sony Corp Method for recycling optical disk
JPH10275331A (en) * 1997-04-01 1998-10-13 Sony Corp Top-coating solution for magnetic recording medium and production of magnetic recording medium
JPH1135733A (en) * 1997-07-22 1999-02-09 Sony Corp Recycling of disk-like information recording medium
JPH1134057A (en) * 1997-07-22 1999-02-09 Sony Corp Method for recycling disk-shaped information recording medium
JP2000070824A (en) * 1998-08-26 2000-03-07 Fuji Photo Film Co Ltd Regeneration of coating solution for producing optical data recording medium, regenerated coating solution and production of optical data recording medium utilizing regenerated coating solution
JP2000285528A (en) * 1999-03-26 2000-10-13 Fuji Photo Film Co Ltd Production of optical information recording medium
JP2001006229A (en) * 1999-06-16 2001-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd Equipment and method for manufacturing optical information recording medium
JP2001184732A (en) * 1999-12-27 2001-07-06 Fuji Photo Film Co Ltd Method for manufacturing optical information recording medium

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