JP2002358698A - Method of manufacturing optical information recording medium - Google Patents

Method of manufacturing optical information recording medium

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JP2002358698A
JP2002358698A JP2001161843A JP2001161843A JP2002358698A JP 2002358698 A JP2002358698 A JP 2002358698A JP 2001161843 A JP2001161843 A JP 2001161843A JP 2001161843 A JP2001161843 A JP 2001161843A JP 2002358698 A JP2002358698 A JP 2002358698A
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dye
layer
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recording medium
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Toshio Ishida
寿男 石田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture an optical information recording medium having good recording characteristics by suppressing the decomposition of the dye contained in a dye recording layer in molding a protective layer by curing a UV-curing resin and to reduce the cost by shortening the cycle time for production. SOLUTION: In manufacturing the optical information recording medium having a recording layer which is formed on a substrate, contains the dye and is capable of recording information with a laser beam, a light reflection layer which is formed on the recording layer and reflects incident light and the protective layer which is formed by curing the UV-curing resin on the light reflection layer, the protective layer is formed by curing the UV-curing resin by impulsively irradiating the resin with UV rays of 1.0 to 8.0 kW/cm<2> in the irradiation power per pulse.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明が属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体の
製造方法に関し、特に、紫外線硬化性樹脂を硬化して形
成される保護層及び色素を含有する記録層を備えた光情
報記録媒体を製造する光情報記録媒体の製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an optical information recording medium, and more particularly, to an optical information recording medium having a protective layer formed by curing an ultraviolet curable resin and a recording layer containing a dye. The present invention relates to a method for manufacturing an optical information recording medium to be manufactured.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、レーザ光により1回限りの情報の
記録が可能な追記型の光情報記録媒体(光ディスク)
は、CD−Rと称され、広く知られている。このCD−
R型の光情報記録媒体の代表的な構造は、透明な円盤状
基板上に有機色素からなる色素記録層、金などの金属か
らなる光反射層、さらに樹脂製の保護層をこの順に積層
したものである。そしてこの光ディスクへの情報の記録
は、近赤外域のレーザ光(通常は780nm付近の波長
のレーザ光)を光ディスクに照射することにより行わ
れ、色素記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に
温度上昇し、物理的または化学的変化(例えば、ピット
などの生成)によりその部分の光学的特性が変化し、情
報が記録される。一方、情報の再生は、通常、記録用の
レーザ光と同じ波長のレーザ光を光ディスクに照射し
て、色素記録層の光学的特性が変化した部位(記録部
分)と変化していない部位(未記録部分)との反射率の
違いを検出することにより行われている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a write-once optical information recording medium (optical disk) in which information can be recorded only once by a laser beam.
Is called CD-R and is widely known. This CD-
A typical structure of an R-type optical information recording medium is such that a dye recording layer made of an organic dye, a light reflection layer made of a metal such as gold, and a protective layer made of a resin are further laminated in this order on a transparent disk-shaped substrate. Things. Recording of information on the optical disk is performed by irradiating the optical disk with near-infrared laser light (usually laser light having a wavelength of around 780 nm), and the irradiated portion of the dye recording layer absorbs the light. The temperature locally rises, and the optical characteristics of the portion change due to a physical or chemical change (for example, generation of a pit or the like), and information is recorded. On the other hand, in reproducing information, a laser beam having the same wavelength as the recording laser beam is irradiated onto the optical disc, and a portion where the optical characteristics of the dye recording layer has changed (recorded portion) and a portion where the optical characteristics have not changed (not yet recorded) This is performed by detecting a difference in reflectance with the recording portion).

【0003】また、最近では、CD−Rより高密度の記
録が可能な媒体として、DVD−Rと称される追記型の
光ディスクが実用化されて、大容量記録媒体としての地
位を築きつつある。このDVD−Rは、通常、透明な円
盤状基板上に有機色素からなる色素記録層、光反射層、
及び保護層をこの順に積層したディスク2枚を色素記録
層を内側にして接着剤で貼り合わせた構造、またはこの
ディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを色素記録層を
内側にして接着剤で貼り合わせた構造を有している。
Recently, a write-once optical disc called a DVD-R has been put to practical use as a medium capable of recording at a higher density than a CD-R, and is establishing a position as a large-capacity recording medium. . This DVD-R usually has a dye recording layer made of an organic dye, a light reflection layer,
And a structure in which two discs each having a protective layer laminated in this order are bonded with an adhesive with the dye recording layer on the inside, or a disc-shaped protective substrate having the same shape as the disc with the dye recording layer on the inside with an adhesive It has a laminated structure.

【0004】上記の保護層の形成やディスクの貼り合わ
せには、紫外線硬化性樹脂を用いるのが一般的である。
紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射して光硬化させる際
に、同時に色素記録層にも紫外線が照射されると、記録
層に含有される色素が一部分解して記録特性が低下する
虞がある。しかしながら、従来のCD−R、DVD−R
は紫外線硬化させる保護層と色素記録層との間に光反射
層を備えた構造を有しているので、大部分の紫外線は光
反射層で反射される。このため従来の製造方法では光情
報記録媒体の顕著な記録特性低下の問題は生じていなか
った。
[0004] In the formation of the protective layer and the bonding of the disks, it is common to use an ultraviolet curable resin.
When irradiating the ultraviolet curable resin with ultraviolet rays to cure the photocurable resin simultaneously with the ultraviolet rays, the dye contained in the recording layer may be partially decomposed to deteriorate the recording characteristics. However, conventional CD-R, DVD-R
Has a structure in which a light reflecting layer is provided between the protective layer to be cured by ultraviolet light and the dye recording layer, so that most of the ultraviolet light is reflected by the light reflecting layer. For this reason, the conventional manufacturing method has not caused a problem of remarkable deterioration of the recording characteristics of the optical information recording medium.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、製造の
サイクルタイム(製造工程のうち律速となる工程のサイ
クルタイム)を短縮するために、高出力の紫外光源から
紫外線を照射すると、光反射層を透過する紫外線量が多
くなり、記録層に含有される色素が分解して記録特性が
低下する、という問題が発生した。
However, in order to shorten the manufacturing cycle time (the cycle time of the rate-limiting step in the manufacturing process), when ultraviolet light is irradiated from a high-output ultraviolet light source, the ultraviolet light is transmitted through the light reflecting layer. In this case, the amount of ultraviolet rays to be emitted increases, and the dye contained in the recording layer is decomposed to deteriorate the recording characteristics.

【0006】本発明は上記問題点に鑑み成されたもので
あり、本発明の目的は、紫外線硬化性樹脂を硬化して保
護層を形成する際に、記録層に含有される色素の分解を
抑制することにより、良好な記録特性を有する光情報記
録媒体を製造することができると共に、製造サイクルタ
イムを短縮してコストダウンを図ることができる光情報
記録媒体の製造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to prevent decomposition of a dye contained in a recording layer when a protective layer is formed by curing an ultraviolet curable resin. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an optical information recording medium that can manufacture an optical information recording medium having good recording characteristics, and can shorten the manufacturing cycle time to reduce the cost. .

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、基板上に形成され色素を含有することに
よりレーザ光により情報の記録が可能な記録層、該記録
層上に形成され入射した光を反射する光反射層、及び該
光反射層上に紫外線硬化性樹脂を硬化して形成される保
護層を備えた光情報記録媒体を製造する光情報記録媒体
の製造方法において、前記紫外線硬化性樹脂に1パルス
当りの照射パワーが1.0kW/cm2〜8.0kW/
cm2の紫外線をパルス照射して、前記紫外線硬化性樹
脂を硬化させ前記保護層を形成することを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention provides a recording layer formed on a substrate and containing a dye, on which information can be recorded by laser light, and a recording layer formed on the recording layer. A method for manufacturing an optical information recording medium for manufacturing an optical information recording medium including a light reflection layer that reflects incident light and a protective layer formed by curing an ultraviolet curable resin on the light reflection layer, The irradiation power per pulse is 1.0 kW / cm 2 to 8.0 kW /
The method is characterized in that the protective layer is formed by curing the ultraviolet curable resin by irradiating an ultraviolet ray of cm 2 with a pulse.

【0008】本発明の光情報記録媒体の製造方法では、
紫外線硬化性樹脂に1パルス当りの照射パワーが1.0
kW/cm2〜8.0kW/cm2と高出力の紫外線を照
射して、この紫外線硬化性樹脂を硬化させ保護層を形成
するので、紫外線硬化性樹脂の硬化が顕著に促進され
る。このため、製造のサイクルタイムを著しく短縮する
ことができ、コストダウンを図ることができる。また、
この紫外線をパルス照射して紫外線硬化性樹脂を硬化さ
せるので、記録層に含有される色素の紫外線による分解
が抑制され、良好な記録特性を有する光情報記録媒体を
製造することができる。
In the method for manufacturing an optical information recording medium of the present invention,
Irradiation power per pulse is 1.0 for UV curable resin.
and kW / cm 2 ~8.0kW / cm 2 was irradiated with ultraviolet light of high output, because it forms a protective layer to cure the ultraviolet curable resin, curing of the ultraviolet curable resin can be remarkably promoted. For this reason, the manufacturing cycle time can be significantly reduced, and the cost can be reduced. Also,
Since the ultraviolet curable resin is cured by irradiating the ultraviolet light with a pulse, the decomposition of the dye contained in the recording layer due to the ultraviolet light is suppressed, and an optical information recording medium having good recording characteristics can be manufactured.

【0009】上記の製造方法においては、紫外線をパル
ス幅1.0秒以下でパルス照射することが好ましい。
In the above-described manufacturing method, it is preferable to irradiate ultraviolet rays with a pulse width of 1.0 second or less.

【0010】また、前記の記録層は、色素を含む塗布液
を23℃〜50℃の塗布温度で基板上にスピンコートし
て形成するのが好ましい。塗布温度を高めに設定するこ
とで、記録層中の溶剤残留量が少なくなり、色素記録層
に含有される色素の紫外線による分解がより一層抑制さ
れ、更に良好な記録特性を有する光情報記録媒体を製造
することができる。
The recording layer is preferably formed by spin-coating a coating solution containing a dye on a substrate at a coating temperature of 23 ° C. to 50 ° C. By setting the coating temperature higher, the residual amount of the solvent in the recording layer is reduced, and the decomposition of the dye contained in the dye recording layer by ultraviolet rays is further suppressed, and an optical information recording medium having more favorable recording characteristics Can be manufactured.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明に
係る光情報記録媒体の製造方法を、色素記録層を備えた
光ディスク(例えばCD−R)を製造するシステムに適
用した実施の形態について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Referring to the drawings, an embodiment in which a method for manufacturing an optical information recording medium according to the present invention is applied to a system for manufacturing an optical disk (for example, a CD-R) having a dye recording layer. The form will be described.

【0012】本実施の形態に係る製造システム10は、
図1に示すように、例えば射出成形、圧縮成形又は射出
圧縮成形によって基板を作製する2つの成形設備(第1
及び第2の成形設備12A及び12B)と、基板の一主
面上に色素塗布液を塗布して乾燥させることにより、該
基板上に色素記録層を形成する塗布設備14と、基板の
色素記録層上に光反射層を例えばスパッタリングにより
形成し、その後、光反射層上にUV硬化液を塗布した
後、UV照射して前記光反射層上に保護層を形成する後
処理設備16とを有して構成されている。
The manufacturing system 10 according to the present embodiment
As shown in FIG. 1, for example, two molding equipments (first and second molding apparatuses) for producing a substrate by injection molding, compression molding or injection compression molding.
And a second molding facility 12A and 12B), a coating facility 14 for forming a dye recording layer on the substrate by applying and drying a dye coating solution on one main surface of the substrate, and a dye recording apparatus for the substrate. A light-reflecting layer is formed on the light-reflecting layer by, for example, sputtering, and after that, a UV curing liquid is applied onto the light-reflecting layer, and then UV irradiation is performed to form a protective layer on the light-reflecting layer. It is configured.

【0013】第1及び第2の成形設備12A及び12B
は、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形、圧縮
成形又は射出圧縮成形して、一主面にトラッキング用溝
又はアドレス信号等の情報を表す凹凸(グルーブ)が形
成された基板を作製する成形機20と、該成形機20か
ら取り出された基板を冷却する冷却部22と、冷却後の
基板を段積みして保管するためのスタックポール24が
複数本設置された集積部26(スタックポール回転台)
とを有する。
First and second molding equipment 12A and 12B
Is a molding machine 20 for injection molding, compression molding, or injection compression molding of a resin material such as polycarbonate to produce a substrate having a tracking groove or an unevenness (groove) representing information such as an address signal formed on one main surface. A cooling unit 22 for cooling the substrate taken out of the molding machine 20, and an accumulating unit 26 (stack pole turntable) on which a plurality of stack poles 24 for stacking and storing the cooled substrates are stored.
And

【0014】塗布設備14は、3つの処理部30、32
及び34から構成され、第1の処理部30には、前記第
1及び第2の成形設備12A及び12Bから搬送された
スタックポール24を収容するためのスタックポール収
容部40と、該スタックポール収容部40に収容された
スタックポール24から1枚ずつ基板を取り出して次工
程に搬送する第1の搬送機構42と、該第1の搬送機構
42によって搬送された1枚の基板に対して静電気の除
去を行う静電ブロー機構44とを有する。
The coating equipment 14 has three processing units 30, 32
And 34, the first processing section 30 includes a stack pole storage section 40 for storing the stack poles 24 transported from the first and second molding facilities 12A and 12B, and a stack pole storage section 40 for storing the stack poles. A first transport mechanism 42 that takes out the substrates one by one from the stack pole 24 accommodated in the unit 40 and transports the substrates to the next process; And an electrostatic blow mechanism 44 for removing.

【0015】第2の処理部32は、第1の処理部30に
おいて静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送
する第2の搬送機構46と、該第2の搬送機構46によ
って搬送された複数の基板に対してそれぞれ色素塗布液
を塗布する色素塗布機構48と、色素塗布処理を終えた
基板を1枚ずつ次工程に搬送する第3の搬送機構50と
を有する。この色素塗布機構48は6つのスピンコート
装置52を有して構成されている。
The second processing section 32 has a second transport mechanism 46 for sequentially transporting the substrates, which have been subjected to the electrostatic blow processing in the first processing section 30, to the next step, and transports the substrates by the second transport mechanism 46. A dye coating mechanism 48 that applies a dye coating liquid to each of the plurality of substrates, and a third transport mechanism 50 that transports the substrates that have been subjected to the dye application processing one by one to the next process. The dye application mechanism 48 includes six spin coaters 52.

【0016】第3の処理部34は、前記第3の搬送機構
50にて搬送された1枚の基板の裏面を洗浄する裏面洗
浄機構54と、裏面洗浄を終えた基板を次工程に搬送す
る第4の搬送機構56と、該第4の搬送機構56によっ
て搬送された基板に対してロット番号等の刻印を行う番
号付与機構58と、ロット番号等の刻印を終えた基板を
次工程に搬送する第5の搬送機構60と、該第5の搬送
機構60によって搬送された基板に対して欠陥の有無並
びに色素記録層の膜厚の検査を行う検査機構62と、該
検査機構62での検査結果に応じて基板を正常品用のス
タックポール64あるいは不良品用(NG用)のスタッ
クポール66に選別する選別機構68とを有する。
The third processing section 34 cleans the back surface of one substrate transported by the third transport mechanism 50, and transports the substrate after the back surface cleaning to the next step. A fourth transport mechanism 56, a numbering mechanism 58 for marking the substrate transported by the fourth transport mechanism 56 with a lot number or the like, and transporting the substrate having been stamped with the lot number or the like to the next step. A fifth transport mechanism 60, an inspection mechanism 62 that inspects the substrate transported by the fifth transport mechanism 60 for the presence or absence of a defect, and a film thickness of the dye recording layer, and an inspection by the inspection mechanism 62. A sorting mechanism 68 for sorting the substrate into a stack pole 64 for a normal product or a stack pole 66 for a defective product (for NG) according to the result.

【0017】第1の処理部30と第2の処理部32との
間に第1の仕切板70が設置され、第2の処理部32と
第3の処理部34にも同様の第2の仕切板72が設置さ
れている。第1の仕切板70の下部には、第2の搬送機
構46による基板の搬送経路を塞がない程度の開口(図
示せず)が形成され、第2の仕切板72の下部には、第
3の搬送機構50による基板の搬送経路を塞がない程度
の開口(図示せず)が形成されている。
A first partition plate 70 is provided between the first processing unit 30 and the second processing unit 32, and the second processing unit 32 and the third processing unit 34 have the same second processing unit. A partition plate 72 is provided. An opening (not shown) is formed below the first partition plate 70 to such an extent that the transfer path of the substrate by the second transfer mechanism 46 is not blocked. An opening (not shown) is formed so as not to block the substrate transfer path by the third transfer mechanism 50.

【0018】後処理設備16は、塗布設備14から搬送
された正常品用のスタックポール64を収容するための
スタックポール収容部80と、該スタックポール収容部
80に収容されたスタックポール64から1枚ずつ基板
を取り出して次工程に搬送する第6の搬送機構82と、
該第6の搬送機構82によって搬送された1枚の基板に
対して静電気の除去を行う第1の静電ブロー機構84
と、静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送す
る第7の搬送機構86と、該第7の搬送機構86によっ
て搬送された基板の一主面に光反射層をスパッタリング
にて形成するスパッタ機構88と、光反射層のスパッタ
リングを終えた基板を次工程に順次搬送する第8の搬送
機構90と、該第8の搬送機構90によって搬送された
基板の周縁(エッジ部分)を洗浄するエッジ洗浄機構9
2とを有する。
The post-processing facility 16 includes a stack pole storage section 80 for storing a stack pole 64 for normal products transported from the coating apparatus 14, and one of the stack poles 64 stored in the stack pole storage section 80. A sixth transport mechanism 82 that takes out substrates one by one and transports them to the next process;
A first electrostatic blow mechanism 84 for removing static electricity from one substrate transported by the sixth transport mechanism 82
And a seventh transport mechanism 86 for sequentially transporting the substrate after the electrostatic blow processing to the next step, and forming a light reflecting layer on one main surface of the substrate transported by the seventh transport mechanism 86 by sputtering. Transport mechanism 90 for sequentially transporting the substrate after the sputtering of the light reflection layer to the next step, and cleaning the periphery (edge portion) of the substrate transported by the eighth transport mechanism 90 Edge cleaning mechanism 9
And 2.

【0019】また、この後処理設備16は、エッジ洗浄
を終えた基板に対して静電気の除去を行う第2の静電ブ
ロー機構94と、静電ブロー処理を終えた基板の一主面
に対してUV硬化液を塗布するUV硬化液塗布機構96
と、UV硬化液の塗布を終えた基板を高速に回転させて
基板上のUV硬化液の塗布厚を均一にするスピン機構9
8と、UV硬化液の塗布及びスピン処理を終えた基板に
対して紫外線をパルス照射することによりUV硬化液を
硬化させて基板の一主面に保護層を形成するUV照射機
構100と、前記基板を第2の静電ブロー機構94、U
V硬化液塗布機構96、スピン機構98及びUV照射機
構100にそれぞれ搬送する第9の搬送機構102と、
UV照射された基板を次工程に搬送する第10の搬送機
構104と、該第10の搬送機構104によって搬送さ
れた基板に対して塗布面と保護層面の欠陥を検査するた
めの欠陥検査機構106と、基板に形成されたグルーブ
による信号特性を検査するための特性検査機構108
と、これら欠陥検査機構106及び特性検査機構108
での検査結果に応じて基板を正常品用のスタックポール
110あるいはNG用のスタックポール112に選別す
る選別機構114とを有する。
The post-processing equipment 16 includes a second electrostatic blow mechanism 94 for removing static electricity from the substrate after the edge cleaning, and a second electrostatic blow mechanism 94 for removing one main surface of the substrate after the electrostatic blow processing. UV curable liquid application mechanism 96 for applying UV curable liquid
And a spin mechanism 9 for rotating the substrate on which the UV curing liquid has been applied at a high speed so as to make the applied thickness of the UV curing liquid on the substrate uniform.
8, a UV irradiation mechanism 100 for curing the UV curable liquid by irradiating the substrate with the UV curable liquid applied and spin-treated with a pulse of ultraviolet light to form a protective layer on one main surface of the substrate; The substrate is moved to the second electrostatic blow mechanism 94, U
A ninth transport mechanism 102 that transports the V-curing liquid application mechanism 96, the spin mechanism 98, and the UV irradiation mechanism 100, respectively,
A tenth transport mechanism 104 for transporting the substrate irradiated with UV to the next step, and a defect inspection mechanism 106 for inspecting the substrate transported by the tenth transport mechanism 104 for defects on the coating surface and the protective layer surface. And a characteristic inspection mechanism 108 for inspecting a signal characteristic by a groove formed in the substrate
And the defect inspection mechanism 106 and the characteristic inspection mechanism 108
And a sorting mechanism 114 that sorts the substrate into stack poles 110 for normal products or stack poles 112 for NG according to the inspection result of the above.

【0020】また、製造システム10は、図1に示すよ
うに、塗布設備14の第2の処理部32と並行して空調
システム300が設置されている。空調システム300
は、図示はしないが、空気調和機、除湿機、及び排気装
置から構成されている。このうち空気調和機は、塗布設
備14に対して清浄な空気を送り込むと共に第2の処理
部32内の温度をコントロールし、除湿機は、外気を取
り入れて除湿を行い、一次空気として出力する。また、
排気装置は、塗布設備14からの一部の排気(局所排
気)を上位の排気系統に送る。このような局所排気とし
ては、例えば塗布設備14の色素塗布機構48における
6つのスピンコート装置52からの排気が挙げられる。
As shown in FIG. 1, the manufacturing system 10 is provided with an air conditioning system 300 in parallel with the second processing section 32 of the coating equipment 14. Air conditioning system 300
Although not shown, it is composed of an air conditioner, a dehumidifier, and an exhaust device. Among them, the air conditioner sends clean air to the coating equipment 14 and controls the temperature in the second processing unit 32, and the dehumidifier takes in outside air to perform dehumidification and outputs it as primary air. Also,
The exhaust device sends a part of exhaust (local exhaust) from the coating facility 14 to an upper exhaust system. Such local exhaust includes, for example, exhaust from the six spin coaters 52 in the dye application mechanism 48 of the application facility 14.

【0021】色素溶液を塗布する際の排気風速は1m/
s以下、好ましくは0.7m/s以下、更に好ましくは
0.4m/s以下がよい。これにより、基板上への色素
溶液の塗布が良好に行われる。
The exhaust air velocity at the time of applying the dye solution is 1 m /
s or less, preferably 0.7 m / s or less, and more preferably 0.4 m / s or less. Thereby, the application of the dye solution onto the substrate is favorably performed.

【0022】また、図示はしないが、第1の処理部30
と第3の処理部34の各天井にも、それぞれ高性能充填
層フィルタ(HEPAフィルタ)を介して、第1及び第
3の処理部30及び34に対してそれぞれ清浄な空気を
送り込むことにより、第1及び第3の処理部30及び3
4内の温度をコントロールする空調機が設置されてい
る。
Although not shown, the first processing unit 30
The clean air is sent to the first and third processing units 30 and 34 also through the high performance packed bed filter (HEPA filter) to the ceilings of the first and third processing units 34, respectively. First and third processing units 30 and 3
An air conditioner for controlling the temperature inside 4 is installed.

【0023】次に、この製造システム10によって光デ
ィスクDを製造する過程について図2(A)〜(C)、
図3(A)及び(B)の工程図を参照しながら説明す
る。
Next, the process of manufacturing the optical disk D by the manufacturing system 10 will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to the process charts of FIGS.

【0024】まず、第1及び第2の成形設備12A及び
12Bにおける成形機20において、ポリカーボネート
などの樹脂材料が射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形
されて、図2(A)に示すように、一主面にトラッキン
グ用溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸(グルー
ブ)200が形成された基板202が作製される。
First, in a molding machine 20 in the first and second molding facilities 12A and 12B, a resin material such as polycarbonate is subjected to injection molding, compression molding or injection compression molding, and as shown in FIG. A substrate 202 is formed on one principal surface of which a groove 200 for tracking or information 200 such as an address signal is formed.

【0025】前記基板202の材料としては、例えばポ
リカーボネート、ポリメタルメタクリレート等のアクリ
ル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化
ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフ
ィン及びポリエステルなどを挙げることができ、所望に
よりそれらを併用してもよい。上記の材料の中では、耐
湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカーボネー
トが好ましい。また、基板202の厚さは、CD−R型
ディスクでは1.2mmであり、グルーブ200の深さ
は、0.01〜0.3μmの範囲であることが好まし
く、その半値幅は、0.2〜0.9μmの範囲であるこ
とが好ましい。
Examples of the material of the substrate 202 include acrylic resins such as polycarbonate and polymetal methacrylate, vinyl chloride resins such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymer, epoxy resins, amorphous polyolefin and polyester. They can be used together if desired. Among the above materials, polycarbonate is preferred from the viewpoints of moisture resistance, dimensional stability, cost, and the like. Further, the thickness of the substrate 202 is 1.2 mm for a CD-R type disc, the depth of the groove 200 is preferably in the range of 0.01 to 0.3 μm, and its half width is 0.1 mm. It is preferably in the range of 2 to 0.9 μm.

【0026】成形機20から取り出された基板202
は、後段の冷却部22において冷却された後、一主面が
下側に向けられてスタックポール24に積載される。ス
タックポール24に所定枚数の基板202が積載された
段階で、スタックポール24はこの成形設備12A及び
12Bから取り出されて、次の塗布設備14に搬送さ
れ、該塗布設備14におけるスタックポール収容部40
に収容される。この搬送は、台車で行ってもよいし、自
走式の自動搬送装置で行うようにしてもよい。
Substrate 202 taken out of molding machine 20
After being cooled in the cooling unit 22 in the subsequent stage, the wafer is stacked on the stack pole 24 with one main surface directed downward. At the stage when a predetermined number of substrates 202 are stacked on the stack pole 24, the stack pole 24 is taken out from the molding facilities 12A and 12B, and is conveyed to the next coating facility 14, where the stack pole storage section 40 in the coating facility 14 is placed.
To be housed. This transfer may be performed by a trolley or by a self-propelled automatic transfer device.

【0027】スタックポール24がスタックポール収容
部40に収容された段階で、第1の搬送機構42が動作
し、スタックポール24から1枚ずつ基板202を取り
出して、後段の静電ブロー機構44に搬送する。静電ブ
ロー機構44に搬送された基板202は、該静電ブロー
機構44において静電気が除去された後、第2の搬送機
構46を介して次の色素塗布機構48に搬送され、6つ
のスピンコート装置52のうち、いずれか1つのスピン
コート装置52に投入される。スピンコート装置52に
投入された基板202は、その一主面上に色素塗布液が
塗布された後、高速に回転されて塗布液の厚みが均一に
された後、乾燥処理が施される。これによって、図2
(B)に示すように、基板202の一主面上に色素記録
層204が形成されることになる。
At the stage when the stack poles 24 are accommodated in the stack pole accommodating section 40, the first transport mechanism 42 is operated, and the substrates 202 are taken out one by one from the stack poles 24 and sent to the subsequent electrostatic blow mechanism 44. Transport. After the static electricity is removed by the electrostatic blow mechanism 44, the substrate 202 transported to the electrostatic blow mechanism 44 is transported to the next dye coating mechanism 48 via the second transport mechanism 46, and is subjected to six spin coatings. One of the devices 52 is supplied to one of the spin coaters 52. The substrate 202 loaded into the spin coater 52 is applied with a dye coating solution on one main surface thereof, is rotated at high speed to make the thickness of the coating solution uniform, and then subjected to a drying process. As a result, FIG.
As shown in (B), the dye recording layer 204 is formed on one main surface of the substrate 202.

【0028】なお、塗布液としては色素を適当な溶剤に
溶解した色素溶液が用いられる。塗布液中の色素の濃度
は一般に0.01〜15質量%の範囲であり、好ましく
は0.1〜10質量%の範囲、特に好ましくは0.5〜
5質量%の範囲、最も好ましくは0.5〜3質量%の範
囲である。
As the coating solution, a dye solution in which a dye is dissolved in an appropriate solvent is used. The concentration of the dye in the coating solution is generally in the range of 0.01 to 15% by mass, preferably in the range of 0.1 to 10% by mass, and particularly preferably 0.5 to 10% by mass.
It is in the range of 5% by weight, most preferably in the range of 0.5 to 3% by weight.

【0029】色素記録層204に用いられる色素は特に
限定されない。使用可能な色素の例としては、シアニン
系色素、フタロシアニン系色素、イミダゾキノキサリン
系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレ
ニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Crなど
の金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノ
ン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系
色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系色
素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウ
ム系色素及びニトロソ化合物を挙げることができる。こ
れらの色素のうちでは、シアニン系色素が好ましく、ベ
ンゾインドレニン色素がより好ましく、下記一般式
(1)で示される色素が特に好ましい。
The dye used in the dye recording layer 204 is not particularly limited. Examples of usable dyes include cyanine dyes, phthalocyanine dyes, imidazoquinoxaline dyes, pyrylium / thiopyrylium dyes, azurenium dyes, squalilium dyes, metal complex salt dyes such as Ni and Cr, and naphthoquinone dyes And anthraquinone dyes, indophenol dyes, indoaniline dyes, triphenylmethane dyes, merocyanine dyes, oxonol dyes, aminium / diimmonium dyes, and nitroso compounds. Among these dyes, cyanine dyes are preferable, benzoindolenine dyes are more preferable, and dyes represented by the following general formula (1) are particularly preferable.

【0030】[0030]

【化1】 Embedded image

【0031】一般式(1)のR1、R2は1価の置換基を
示す。R1及びR2は、同一でもよく、また異なっていて
もよい。1価の置換基としては、置換又は無置換のアル
キル基が好ましい。
R 1 and R 2 in the general formula (1) represent a monovalent substituent. R 1 and R 2 may be the same or different. As the monovalent substituent, a substituted or unsubstituted alkyl group is preferable.

【0032】アルキル基としては、炭素原子数1〜18
のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜12のアルキ
ル基がより好ましく、炭素原子数1〜4のアルキル基が
特に好ましい。また、アルキル基は直鎖でも分岐でもよ
く、置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲ
ン原子;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;メ
チルチオ基、メチルチオ基等のアルキルチオ基;アセチ
ル基等のアシル基;ヒドロキシ基;エトキシカルボニル
基等のアルコキシカルボニル基;ビニル基等のアルケニ
ル基;フェニル基等のアリール基等が挙げられる。この
中でも、エーテル結合またはエステル結合を含む置換ア
ルキル基、及び無置換のアルキル基がより好ましく、無
置換のアルキル基が特に好ましい。
The alkyl group includes 1 to 18 carbon atoms.
Is preferred, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is more preferred, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferred. The alkyl group may be linear or branched, and examples of the substituent include halogen atoms such as a fluorine atom and a chlorine atom; alkoxy groups such as a methoxy group and an ethoxy group; alkylthio groups such as a methylthio group and a methylthio group; Acyl groups; hydroxy groups; alkoxycarbonyl groups such as ethoxycarbonyl groups; alkenyl groups such as vinyl groups; and aryl groups such as phenyl groups. Among these, a substituted alkyl group containing an ether bond or an ester bond and an unsubstituted alkyl group are more preferable, and an unsubstituted alkyl group is particularly preferable.

【0033】一般式(1)のR3は、1価の置換基を示
す。1価の置換基としては、水素原子、炭素数1〜16
のアルキル基、ハロゲン原子、アラルキル基が好まし
く、メチル基、エチル基及びベンジル基がより好まし
く、メチル基が特に好ましい。
R 3 in the general formula (1) represents a monovalent substituent. As the monovalent substituent, a hydrogen atom, a carbon atom having 1 to 16
Are preferably an alkyl group, a halogen atom and an aralkyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group and a benzyl group, and particularly preferably a methyl group.

【0034】一般式(1)のX2-は、2価の陰イオンを
示し、下記一般式(2)で表される2価の陰イオンが特
に好ましい。
X 2- in the general formula (1) represents a divalent anion, and a divalent anion represented by the following general formula (2) is particularly preferable.

【0035】[0035]

【化2】 Embedded image

【0036】一般式(2)のR4〜R11は、少なくとも
2つはスルホナト基(−SO3 -)であり、残りはそれぞ
れ独立に1価の置換基を示す。1価の置換基としては、
水素原子、ヒドロキシ基、アルキル基、ハロゲン原子、
アラルキル基が好ましく、水素原子、ヒドロキシ基、炭
素原子数8以下のアルキル基がより好ましく、水素原
子、ヒドロキシ基及びメチル基が特に好ましい。
At least two of R 4 to R 11 in the general formula (2) are a sulfonato group (—SO 3 ), and the rest each independently represent a monovalent substituent. As the monovalent substituent,
Hydrogen atom, hydroxy group, alkyl group, halogen atom,
An aralkyl group is preferred, a hydrogen atom, a hydroxy group and an alkyl group having 8 or less carbon atoms are more preferred, and a hydrogen atom, a hydroxy group and a methyl group are particularly preferred.

【0037】色素記録層204を形成するための塗布剤
の溶剤の例としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテー
トなどのエステル;メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン;ジクロル
メタン、1,2−ジクロルエタン、クロロホルムなどの
塩素化炭化水素;ジメチルホルムアミドなどのアミド;
シクロヘキサンなどの炭化水素;テトラヒドロフラン、
エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル;エタノー
ル、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノ
ール、ジアセトンアルコールなどのアルコール;2,
2,3,3−テトラフロロ−1−プロパノールなどのフ
ッ素系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル
類などを挙げることができる。
Examples of the solvent of the coating agent for forming the dye recording layer 204 include esters such as butyl acetate and cellosolve acetate; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone and methyl isobutyl ketone; dichloromethane, 1,2-dichloroethane, chloroform. Chlorinated hydrocarbons such as amides; amides such as dimethylformamide;
Hydrocarbons such as cyclohexane; tetrahydrofuran,
Ethers such as ethyl ether and dioxane; alcohols such as ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol and diacetone alcohol;
Fluorinated solvents such as 2,3,3-tetrafluoro-1-propanol; ethylene glycol monomethyl ether;
Examples thereof include glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether and propylene glycol monomethyl ether.

【0038】前記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮し
て単独または二種以上を適宜併用することができる。好
ましくは、2,2,3,3−テトラフロロ−1−プロパ
ノールなどのフッ素系溶剤である。なお、塗布液中に
は、所望により退色防止剤や結合剤を添加してもよい
し、更に酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、そして潤滑
剤など各種の添加剤を、目的に応じて添加してもよい。
The above-mentioned solvents can be used alone or in combination of two or more as appropriate in consideration of the solubility of the dye used. Preferably, it is a fluorinated solvent such as 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol. In the coating solution, an anti-fading agent or a binder may be added as desired, or various additives such as an antioxidant, a UV absorber, a plasticizer, and a lubricant may be added according to the purpose. It may be added.

【0039】退色防止剤の代表的な例としては、ニトロ
ソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩
を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平
2−300288号、同3−224793号、及び同4
−146189号等の各公報に記載されている。この実
施の形態においては、下記一般式(3)で示される退色
防止剤が好ましい。
Representative examples of the anti-fading agent include nitroso compounds, metal complexes, diimmonium salts and aminium salts. These examples are described in, for example, JP-A-2-300288, JP-A-3-224793, and JP-A-4-224793.
No. 146189. In this embodiment, an anti-fading agent represented by the following general formula (3) is preferable.

【0040】[0040]

【化3】 Embedded image

【0041】一般式(3)のR12、R13はそれぞれ独立
の水素原子又は1価の置換基を表す。R12及びR13で示
される置換基は、ハロゲン原子、又は炭素原子、酸素原
子、窒素原子又は硫黄原子が組み合わせてなる置換基で
あり、具体的には、アルキル基、アルケニル基、アラル
キル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シア
ノ基、ニトロ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、アシルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ
基、アミド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミ
ノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシスル
ホニルアミノ基、ウレイド基、チオウレイド基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキ
ルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、スルファモ
イル基、カルボキシル基(塩を含む)、スルホ基(塩を
含む)を挙げることができる。これらは、更に、これら
の置換基で置換されていてもよい。
R 12 and R 13 in the general formula (3) each represent an independent hydrogen atom or a monovalent substituent. The substituent represented by R 12 and R 13 is a halogen atom, or a substituent obtained by combining a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, and specifically, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, Aryl group, heterocyclic group, halogen atom, cyano group, nitro group, mercapto group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acyloxy group, amino group, alkylamino group, amide group, sulfonamide Group, sulfamoylamino group, alkoxycarbonylamino group, alkoxysulfonylamino group, ureido group, thioureido group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, alkylsulfonyl group, alkylsulfinyl group, sulfamoyl group, carboxyl group (salt ), Sulfo group (including salt) ) Can be mentioned. These may be further substituted with these substituents.

【0042】R12、R13としては、水素原子、炭素数1
〜6のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1
〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6のアルキルチオ基、
炭素数1〜6のアミド基、炭素数1〜6のスルホンアミ
ド基、炭素数1〜6のウレイド基、炭素数1〜6のアシ
ル基、炭素数2〜6のアルコキシカルボニル基、炭素数
1〜6のカルバモイル基、炭素数1〜6のアルキルスル
ホニル基、炭素数1〜6のアルキルスルフィニル基が好
ましく、アルキル基がより好ましく、原子炭素数4以下
のアルキル基が特に好ましい。
R 12 and R 13 each represent a hydrogen atom, a carbon atom of 1
To 6 alkyl groups, halogen atoms, cyano groups, 1 carbon atoms
-C6 alkoxy group, C1-6 alkylthio group,
An amide group having 1 to 6 carbon atoms, a sulfonamide group having 1 to 6 carbon atoms, an ureido group having 1 to 6 carbon atoms, an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, 1 carbon atom -6, a carbamoyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylsulfinyl group having 1 to 6 carbon atoms are preferable, an alkyl group is more preferable, and an alkyl group having 4 or less carbon atoms is particularly preferable.

【0043】結合剤の例としては、ゼラチン、セルロー
ス誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機
高分子物質;およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・
ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリ
ル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹
脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポ
キシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・
ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物な
どの合成有機高分子を挙げることができる。
Examples of the binder include natural organic high molecular substances such as gelatin, cellulose derivatives, dextran, rosin, and rubber; and hydrocarbon resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, and polyisobutylene; polyvinyl chloride; Vinylidene, polyvinyl chloride
Vinyl resins such as polyvinyl acetate copolymer, acrylic resins such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, chlorinated polyethylene, epoxy resin, butyral resin, rubber derivatives, phenol
Synthetic organic polymers such as precondensates of thermosetting resins such as formaldehyde resins can be mentioned.

【0044】結合剤を使用する場合に、結合剤の使用量
は、色素100質量部に対して、一般に20質量部以下
であり、好ましくは10質量部以下、更に好ましくは5
質量部以下である。
When a binder is used, the amount of the binder to be used is generally 20 parts by mass or less, preferably 10 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass, per 100 parts by mass of the dye.
Not more than parts by mass.

【0045】色素記録層204の厚さは、一般に20〜
500nmの範囲、好ましくは50〜300nmの範囲
に設けられる。
The thickness of the dye recording layer 204 is generally from 20 to
It is provided in the range of 500 nm, preferably in the range of 50 to 300 nm.

【0046】前記基板202上に色素溶液を塗布する際
の溶液温度(塗布温度)は、23℃〜50℃の範囲とす
る。塗布温度が23℃未満では、溶剤残留量が多くな
り、後述する保護層成形時に記録層に含まれる色素の分
解が増加し、記録特性が低下する。一方、塗布温度が5
0℃を超えると、乾燥が早過ぎて記録層の表面平滑性が
悪化する。塗布温度の下限は、好ましくは23℃、より
好ましくは25℃、更に好ましくは28℃である。塗布
温度の上限は、好ましくは40℃、より好ましくは37
℃である。
The solution temperature (coating temperature) when the dye solution is coated on the substrate 202 is in the range of 23 ° C. to 50 ° C. When the coating temperature is lower than 23 ° C., the residual amount of the solvent increases, and the decomposition of the dye contained in the recording layer at the time of forming the protective layer described later increases, and the recording characteristics deteriorate. On the other hand, when the application temperature is 5
If the temperature exceeds 0 ° C., drying is too early and the surface smoothness of the recording layer deteriorates. The lower limit of the coating temperature is preferably 23 ° C, more preferably 25 ° C, and further preferably 28 ° C. The upper limit of the coating temperature is preferably 40 ° C, more preferably 37 ° C.
° C.

【0047】色素溶液を塗布する際の色素吐出量は0.
3ml〜5mlであることが好ましく、特に好ましくは
0.5ml〜2mlである。また、色素溶液を塗布する
際の湿度は25%RH〜65%RHの範囲であり、好ま
しくは35%RH〜60%RHの範囲、更に好ましくは
45%RH〜55%RHの範囲である。
When the dye solution is applied, the amount of dye discharged is 0.1.
It is preferably from 3 ml to 5 ml, particularly preferably from 0.5 ml to 2 ml. The humidity at the time of applying the dye solution is in a range of 25% RH to 65% RH, preferably in a range of 35% RH to 60% RH, and more preferably in a range of 45% RH to 55% RH.

【0048】なお、色素記録層202が設けられる側の
基板表面には、平面性の改善、接着力の向上及び色素記
録層204の変質防止などの目的で、下塗層が設けられ
てもよい。
An undercoat layer may be provided on the surface of the substrate on which the dye recording layer 202 is provided, for the purpose of improving flatness, improving adhesive strength, and preventing deterioration of the dye recording layer 204. .

【0049】下塗層の材料としては例えば、ポリメチル
メタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、
スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコ
ール、N−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニ
ルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、
ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビ
ニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子
物質、およびシランカップリング剤などの表面改質剤を
挙げることができる。
Examples of the material of the undercoat layer include polymethyl methacrylate, acrylic acid / methacrylic acid copolymer,
Styrene / maleic anhydride copolymer, polyvinyl alcohol, N-methylol acrylamide, styrene / vinyl toluene copolymer, chlorosulfonated polyethylene,
Nitrocellulose, polyvinyl chloride, chlorinated polyolefin, polyester, polyimide, vinyl acetate-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyethylene, polypropylene, polycarbonate and other high-molecular substances, and silane coupling agents Surface modifiers can be mentioned.

【0050】下塗層は、前記物質を適当な溶剤に溶解ま
たは分散して塗布液を調整した後、この塗布液をスピン
コート、ディップコート、エクストルージョンコートな
どの塗布法を利用して基板表面に塗布することにより形
成することができる。下塗層の層厚は一般に0.005
〜20μmの範囲であり、好ましくは0.01〜10μ
mの範囲である。
The undercoat layer is prepared by dissolving or dispersing the above substance in an appropriate solvent to prepare a coating solution, and then applying the coating solution to the surface of the substrate by using a coating method such as spin coating, dip coating, or extrusion coating. Can be formed. The thickness of the undercoat layer is generally 0.005.
-20 μm, preferably 0.01-10 μm
m.

【0051】色素記録層204が形成された基板202
は、第3の搬送機構50を介して次の裏面洗浄機構54
に搬送され、基板202の一主面の反対側の面(裏面)
が洗浄される。その後、基板202は、第4の搬送機構
56を介して次の番号付与機構58に搬送され、基板2
02の一主面又は裏面に対してロット番号等の刻印が行
われる。
The substrate 202 on which the dye recording layer 204 is formed
Is transferred to the next back surface cleaning mechanism 54 via the third transport mechanism 50.
And the other side of the main surface of the substrate 202 (back side)
Is washed. Thereafter, the substrate 202 is transported to the next numbering mechanism 58 via the fourth transport mechanism 56, and the substrate 2
02 is engraved with a lot number or the like on one main surface or the back surface.

【0052】その後、基板202は、第5の搬送機構6
0を介して次の検査機構62に搬送され、基板202の
欠陥の有無や色素記録層204の膜厚の検査が行われ
る。この検査は、基板202の裏面から光を照射してそ
の光の透過状態を例えばCCDカメラで画像処理するこ
とによって行われる。この検査機構62での検査結果は
次の選別機構68に送られる。
Thereafter, the substrate 202 is moved to the fifth transport mechanism 6
Then, the substrate 202 is transported to the next inspection mechanism 62 through which the presence or absence of a defect in the substrate 202 and the thickness of the dye recording layer 204 are inspected. This inspection is performed by irradiating light from the back surface of the substrate 202 and performing image processing on the transmission state of the light using, for example, a CCD camera. The inspection result of the inspection mechanism 62 is sent to the next sorting mechanism 68.

【0053】上述の検査処理を終えた基板202は、そ
の検査結果に基づいて選別機構68によって正常品用の
スタックポール64か、NG用のスタックポール66に
搬送選別される。
The substrate 202 having undergone the above-described inspection processing is transported and sorted by the sorting mechanism 68 into a stack pole 64 for normal products or a stack pole 66 for NG based on the inspection result.

【0054】正常品用のスタックポール64に所定枚数
の基板202が積載された段階で、正常品用のスタック
ポール64はこの塗布設備14から取り出されて、次の
後処理設備16に搬送され、該後処理設備16のスタッ
クポール収容部80に収容される。この搬送は、台車で
行ってもよいし、自走式の自動搬送装置で行うようにし
てもよい。
At the stage when a predetermined number of substrates 202 are stacked on the stack pole 64 for normal products, the stack pole 64 for normal products is taken out of the coating equipment 14 and transported to the next post-processing equipment 16. It is housed in the stack pole housing section 80 of the post-processing facility 16. This transfer may be performed by a trolley or by a self-propelled automatic transfer device.

【0055】正常品用のスタックポール64がスタック
ポール収容部80に収容された段階で、第6の搬送機構
82が動作し、スタックポール64から1枚ずつ基板2
02を取り出して、後段の第1の静電ブロー機構84に
搬送する。第1の静電ブロー機構84に搬送された基板
202は、該第1の静電ブロー機構84において静電気
が除去された後、第7の搬送機構86を介して次のスパ
ッタ機構88に搬送される。スパッタ機構88に投入さ
れた基板202は、図2(C)に示すように、その一主
面中、周縁部分(エッジ部分)206を除く全面に光反
射層208がスパッタリングによって形成される。
At the stage when the stack poles 64 for normal products are accommodated in the stack pole accommodating section 80, the sixth transport mechanism 82 operates, and the substrates 2 are stacked one by one from the stack poles 64.
02 is taken out and transported to the first electrostatic blow mechanism 84 at the subsequent stage. After the static electricity is removed by the first electrostatic blow mechanism 84, the substrate 202 transported to the first electrostatic blow mechanism 84 is transported to the next sputtering mechanism 88 via the seventh transport mechanism 86. You. As shown in FIG. 2 (C), the light reflecting layer 208 is formed on the entire surface of one main surface of the substrate 202 excluding the peripheral portion (edge portion) 206 by sputtering.

【0056】光反射層208は、反射率が70%以上あ
る反射膜であれば何でもよい。光反射層208の材料で
ある光反射性物質としては、レーザ光に対する反射率が
高い物質が使用され、その例としては、Mg、Se、
Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、
W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、P
d、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、A
l、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、S
n、Biなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を
挙げることができる。
The light reflecting layer 208 may be any reflecting film having a reflectance of 70% or more. As the light-reflective substance that is the material of the light-reflective layer 208, a substance having a high reflectance with respect to laser light is used, and examples thereof include Mg, Se,
Y, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo,
W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, P
d, Ir, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, A
1, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, S
Metals such as n and Bi and semimetals or stainless steel can be mentioned.

【0057】これらのうちで好ましいものは、Cr、N
i、Pt、Cu、Ag、Au、Al及びステンレス鋼で
ある。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは
二種以上を組み合わせて用いてもよい。または合金とし
て用いてもよい。特に好ましくはAu、Ag、もしくは
その合金である。
Of these, preferred are Cr, N
i, Pt, Cu, Ag, Au, Al and stainless steel. These substances may be used alone or in combination of two or more. Alternatively, it may be used as an alloy. Particularly preferred are Au, Ag, and alloys thereof.

【0058】光反射層208は、例えば、前記光反射性
物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティン
グすることにより記録層の上に形成することができる。
反射層の層厚は、一般的には10〜800nmの範囲、
好ましくは20〜500nmの範囲、更に好ましくは5
0〜300nmの範囲に設けられる。
The light reflecting layer 208 can be formed on the recording layer by, for example, vapor deposition, sputtering or ion plating of the light reflecting substance.
The thickness of the reflective layer is generally in the range of 10 to 800 nm,
Preferably in the range of 20 to 500 nm, more preferably 5
It is provided in the range of 0 to 300 nm.

【0059】光反射層208が形成された基板202
は、第8の搬送機構90を介して次のエッジ洗浄機構9
2に搬送され、図3(A)に示すように、基板202の
一主面中、エッジ部分206が洗浄されて、該エッジ部
分206に形成されていた色素記録層204が除去され
る。その後、基板202は、第9の搬送機構102を介
して次の第2の静電ブロー機構94に搬送され、静電気
が除去される。
The substrate 202 on which the light reflecting layer 208 is formed
Is transferred to the next edge cleaning mechanism 9 via the eighth transport mechanism 90.
Then, as shown in FIG. 3A, the edge portion 206 in one main surface of the substrate 202 is cleaned, and the dye recording layer 204 formed on the edge portion 206 is removed. Thereafter, the substrate 202 is transported to the next second electrostatic blow mechanism 94 via the ninth transport mechanism 102, and the static electricity is removed.

【0060】その後、基板202は、同じく前記第9の
搬送機構102を介してUV硬化液塗布機構96に搬送
され、基板202の一主面の一部分にUV硬化液が滴下
される。その後、基板202は、同じく前記第9の搬送
機構102を介して次のスピン機構98に搬送され、高
速に回転されることにより、基板202上に滴下された
UV硬化液の塗布厚が基板全面において均一にされる。
Thereafter, the substrate 202 is transported to the UV curable liquid application mechanism 96 via the ninth transport mechanism 102, and the UV curable liquid is dropped on a part of one main surface of the substrate 202. Thereafter, the substrate 202 is also transported to the next spin mechanism 98 via the ninth transport mechanism 102 and rotated at a high speed, so that the applied thickness of the UV curing liquid dropped on the substrate 202 is reduced over the entire surface of the substrate. Is made uniform.

【0061】その後、基板202は、同じく前記第9の
搬送機構102を介して次のUV照射機構100に搬送
され、基板202上のUV硬化液の塗布膜に対して紫外
線がパルス照射される。これによって、図3(B)に示
すように、基板202の一主面上に形成された色素記録
層204と光反射層208を覆うようにUV硬化樹脂に
よる保護層210が形成されて光ディスクDとして構成
されることになる。
After that, the substrate 202 is similarly conveyed to the next UV irradiation mechanism 100 via the ninth conveyance mechanism 102, and the UV curable liquid applied film on the substrate 202 is pulse-irradiated with ultraviolet rays. As a result, as shown in FIG. 3B, a protective layer 210 made of a UV curable resin is formed so as to cover the dye recording layer 204 and the light reflecting layer 208 formed on one main surface of the substrate 202, and the optical disk D Will be configured as

【0062】1パルス当りの照射パワーは、硬化を顕著
に促進して製造のサイクルタイムを短縮するために、
1.0kW/cm2以上とする。1パルス当りの照射パ
ワーは2.0kW/cm2以上が好ましい。また、1パ
ルス当りの照射パワーは、色素の分解を抑制するため
に、8.0kW/cm2以下とする。1パルス当りの照
射パワーは6kW/cm2以下が好ましく、4kW/c
2以下がより好ましい。
The irradiation power per pulse is set to significantly accelerate the curing and shorten the production cycle time.
1.0 kW / cm 2 or more. The irradiation power per pulse is preferably 2.0 kW / cm 2 or more. The irradiation power per pulse is set to 8.0 kW / cm 2 or less in order to suppress the decomposition of the dye. The irradiation power per pulse is preferably 6 kW / cm 2 or less, and 4 kW / c.
m 2 or less is more preferable.

【0063】紫外線を照射するパルス幅は、熱による色
素の破壊を防止するために、1.0秒以下が好ましく、
0.6秒以下がより好ましい。また、パルス幅は、硬化
促進のために、0.01秒以上が好ましく、0.05秒
以上がより好ましい。
The pulse width for irradiating ultraviolet rays is preferably 1.0 second or less in order to prevent the destruction of the dye due to heat.
0.6 seconds or less is more preferable. Further, the pulse width is preferably at least 0.01 second, more preferably at least 0.05 second, for promoting the curing.

【0064】パルス照射回数は、1パルス当りの照射パ
ワーに応じて決められるが、2回以上に分けて照射する
のが好ましく、より好ましくは4回以上である。一方、
製造のサイクルタイムを短縮するために、パルス照射回
数は20回以下とするのが好ましく、10回以下がより
好ましい。
The number of pulse irradiations is determined according to the irradiation power per pulse, but is preferably divided into two or more times, more preferably four or more times. on the other hand,
In order to shorten the manufacturing cycle time, the number of pulse irradiations is preferably 20 times or less, more preferably 10 times or less.

【0065】UV硬化性樹脂は、上述したように、その
ままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調整したの
ちこの塗布液を塗布し、UV光を照射して硬化させるこ
とによって保護層210を形成することができる。これ
らの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、UV
吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。
保護層210の層厚は一般には0.1〜100μmの範
囲で設けられる。
As described above, the UV curable resin is used as it is or dissolved in an appropriate solvent to prepare a coating solution, and then the coating solution is applied, and the protective layer 210 is cured by irradiating UV light. Can be formed. These coating solutions further contain an antistatic agent, antioxidant, UV
Various additives such as an absorbent may be added according to the purpose.
The thickness of the protective layer 210 is generally provided in the range of 0.1 to 100 μm.

【0066】その後、光ディスクDは、第10の搬送機
構104を介して次の欠陥検査機構106と特性検査機
構108に搬送され、色素記録層204の面と保護層2
10の面における欠陥の有無や光ディスクDの基板20
2に形成されたグルーブ200による信号特性が検査さ
れる。これらの検査は、光ディスクDの両面に対してそ
れぞれ光を照射してその反射光を例えばCCDカメラで
画像処理することによって行われる。これらの欠陥検査
機構106及び特性検査機構108での各検査結果は次
の選別機構114に送られる。
Thereafter, the optical disk D is transported to the next defect inspection mechanism 106 and characteristic inspection mechanism 108 via the tenth transport mechanism 104, where the surface of the dye recording layer 204 and the protective layer 2
10, the presence or absence of a defect on the surface of the optical disc D
The signal characteristics of the groove 200 formed in the second groove 2 are inspected. These inspections are performed by irradiating light to both sides of the optical disc D and subjecting the reflected light to image processing by, for example, a CCD camera. The inspection results of the defect inspection mechanism 106 and the characteristic inspection mechanism 108 are sent to the next selection mechanism 114.

【0067】上述の欠陥検査処理及び特性検査処理を終
えた光ディスクDは、各検査結果に基づいて選別機構1
14によって正常品用のスタックポール110か、NG
用のスタックポール112に搬送選別される。正常品用
のスタックポール110に所定枚数の光ディスクDが積
載された段階で、該スタックポール110が後処理設備
16から取り出されて図示しないラベル印刷工程に投入
される。
The optical disc D that has been subjected to the above-described defect inspection processing and characteristic inspection processing is subjected to a sorting mechanism 1 based on each inspection result.
Depending on 14, stack pole 110 for normal product or NG
Is sorted by the stack pole 112 for use. When a predetermined number of optical discs D are loaded on the stack pole 110 for normal products, the stack pole 110 is taken out of the post-processing equipment 16 and put into a label printing process (not shown).

【0068】[0068]

【実施例】次に、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。 (実施例1)ポリカーボネート基板(外径:120m
m、内径:15mm、厚さ:1.2mm、帝人(株)
製、商品名:パンライトAD5503)の表面に、射出
成形によりスパイラル状のグルーブ(トラックピッチ:
1.6μm、グルーブの溝幅:0.4μm、グルーブの
溝深さ:160nm)を形成した。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples. (Example 1) Polycarbonate substrate (outer diameter: 120 m)
m, inner diameter: 15 mm, thickness: 1.2 mm, Teijin Limited
(Trade name: Panlite AD5503) on the surface of a spiral groove (track pitch:
1.6 μm, groove groove width: 0.4 μm, groove groove depth: 160 nm).

【0069】次に、下記化合物A(インドレニン色素)
2.65g、及び下記化合物1(退色防止剤)0.53
gを、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール1
00mlに、超音波振動機を用いて2時間かけて溶解
し、記録層形成用塗布液を調製した。上記のポリカーボ
ネート基板のプリグルーブ側の表面に、26℃に加温し
た塗布液を300rpmで0.5mlディスペンスし、
回転数を300rpm〜4000rpmまで変化させな
がらスピンコートにより塗布し、乾燥して色素記録層を
形成した。その後、23℃50%RHの環境下で1時間
〜4時間の範囲内で保存した。形成された色素記録層の
グルーブ内での厚さは200nm、ランド部での厚さは
120nmであった。
Next, the following compound A (indolenine dye)
2.65 g and the following compound 1 (anti-fading agent) 0.53
g, 2,2,3,3-tetrafluoropropanol 1
The solution was dissolved in 00 ml using an ultrasonic vibrator for 2 hours to prepare a coating solution for forming a recording layer. On the surface of the polycarbonate substrate on the pregroove side, 0.5 ml of a coating solution heated to 26 ° C. was dispensed at 300 rpm,
The coating was performed by spin coating while changing the rotation speed from 300 rpm to 4000 rpm, and dried to form a dye recording layer. Then, it preserve | saved for 1 hour-4 hours under the environment of 23 degreeC 50% RH. The thickness of the formed dye recording layer in the groove was 200 nm, and the thickness in the land was 120 nm.

【0070】[0070]

【化4】 Embedded image

【0071】次に、色素記録層上に、Agをスパッタし
て膜厚150nmの光反射層を形成した。更に光反射層
上に、UV硬化性樹脂(商品名:SD−220、大日本
インキ化学工業(株)製)を回転数を300rpm〜4
000rpmまで変化させながらスピンコートにより塗
布した。塗布後、その上からパルス型UV照射ランプ
(キセノン(XENON)社製、商品名「CoolCu
reXL−DVD」)を用いて、1パルス当りの照射パ
ワーが4.0kW/cm2の紫外線パルスを、パルス幅
0.2秒で5回に分けて照射して塗布膜を硬化させ、厚
さ7μmの保護層を形成した。UV硬化工程のサイクル
タイムは2.5秒であり、製造のサイクルタイムは5.
0秒である。なお、塗布膜の硬化は90%以上の濃度の
窒素雰囲気下で行った。
Next, on the dye recording layer, Ag was sputtered to form a light reflecting layer having a thickness of 150 nm. Further, on the light reflecting layer, a UV curable resin (trade name: SD-220, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was used at a rotation speed of 300 rpm to 4 rpm.
The coating was performed by spin coating while changing to 000 rpm. After the application, a pulse type UV irradiation lamp (Xenon Co., Ltd., trade name "CoolCu
reXL-DVD ”), the irradiation power per pulse was 4.0 kW / cm 2 , and the coating film was cured by irradiating it in five times with a pulse width of 0.2 seconds to cure the coating film. A 7 μm protective layer was formed. The cycle time of the UV curing process is 2.5 seconds, and the cycle time of production is 5.
0 seconds. The coating film was cured under a nitrogen atmosphere having a concentration of 90% or more.

【0072】以上の工程により、基板、色素記録層、光
反射層、及び保護層を備えた本発明に従うCD−R型の
光情報記録媒体(CD−R型光ディスク)を作製した。
Through the above steps, a CD-R type optical information recording medium (CD-R type optical disk) according to the present invention, comprising a substrate, a dye recording layer, a light reflecting layer, and a protective layer, was produced.

【0073】(実施例2〜実施例5)保護層形成時のパ
ルス照射の条件及び色素記録層形成時の塗布温度を表1
に示す通り変更した以外は、実施例1と同様にして、本
発明に従うCD−R型光ディスクを作製した。各実施例
のUV硬化工程のサイクルタイム及び製造のサイクルタ
イムを表1に併せて示す。
(Examples 2 to 5) Table 1 shows pulse irradiation conditions when forming the protective layer and coating temperatures when forming the dye recording layer.
A CD-R type optical disk according to the present invention was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical disk was changed as shown in FIG. Table 1 also shows the cycle time of the UV curing step and the cycle time of the production in each example.

【0074】[0074]

【表1】 [Table 1]

【0075】(比較例1)UV硬化性樹脂をスピンコー
トにより塗布した後、その上から紫外硬化用水銀ランプ
(岩崎電気社製、商品名「H04−L41」)を用い
て、照射パワーが4kW/cm2の紫外線を3秒間照射
して塗布膜を硬化させ保護層を形成した以外は、実施例
1と同様にして、比較例のCD−R型光ディスクを作製
した。比較例1のUV硬化工程のサイクルタイムは8.
0秒であり、製造のサイクルタイムは8.0秒である。
(Comparative Example 1) After a UV curable resin was applied by spin coating, an irradiation power of 4 kW was applied thereto using a UV-curable mercury lamp (trade name “H04-L41” manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.). A CD-R type optical disc of a comparative example was produced in the same manner as in Example 1, except that a protective layer was formed by irradiating an ultraviolet ray of / cm 2 for 3 seconds to cure the coating film. The cycle time of the UV curing step of Comparative Example 1 is 8.
0 seconds, and the manufacturing cycle time is 8.0 seconds.

【0076】(比較例2)色素記録層形成時の塗布温度
を26℃とし、パルス型UV照射ランプ(キセノン(X
ENON)社製、商品名「CoolCureXL−DV
D」)を用いて、1パルス当りの照射パワーが0.9k
W/cm2の紫外線パルスを、パルス幅0.2秒で16
回に分けて照射して塗布膜を硬化させ保護層を形成した
以外は、実施例1と同様にして、比較例のCD−R型光
ディスクを作製した。比較例2のUV硬化工程のサイク
ルタイムは8.0秒であり、製造のサイクルタイムは
8.0秒である。
(Comparative Example 2) The coating temperature at the time of forming the dye recording layer was set at 26 ° C, and a pulsed UV irradiation lamp (xenon (X
ENON), brand name "CoolCureXL-DV"
D)), the irradiation power per pulse is 0.9 k.
An ultraviolet pulse of W / cm 2 is applied at a pulse width of 0.2 seconds for 16 seconds.
A CD-R type optical disc of a comparative example was produced in the same manner as in Example 1, except that the coating film was cured by irradiation in different times to form a protective layer. The cycle time of the UV curing step of Comparative Example 2 was 8.0 seconds, and the cycle time of the production was 8.0 seconds.

【0077】(比較例3)色素記録層形成時の塗布温度
を35℃とし、パルス型UV照射ランプ(キセノン(X
ENON)社製、商品名「CoolCureXL−DV
D」)を用いて、1パルス当りの照射パワーが8.2k
W/cm2の紫外線パルスを、パルス幅0.2秒で1回
照射して塗布膜を硬化させ保護層を形成した以外は、実
施例1と同様にして、比較例のCD−R型光ディスクを
作製した。比較例3のUV硬化工程のサイクルタイムは
0.5秒であり、製造のサイクルタイムは3.5秒であ
る。
Comparative Example 3 A coating temperature at the time of forming a dye recording layer was set at 35 ° C., and a pulsed UV irradiation lamp (xenon (X
ENON), brand name "CoolCureXL-DV"
D "), the irradiation power per pulse is 8.2 k.
A CD-R type optical disc of a comparative example was prepared in the same manner as in Example 1 except that an ultraviolet pulse of W / cm 2 was irradiated once with a pulse width of 0.2 second to cure the coating film and form a protective layer. Was prepared. The cycle time of the UV curing step of Comparative Example 3 was 0.5 seconds, and the cycle time of the production was 3.5 seconds.

【0078】[光ディスクとしての評価]上記の本発明
に従うCD−R型光ディスクについて、評価機「OMT
2000」(パルステック社製)を用い、、記録波長は
780nmにおいて最適パワーでの記録特性を評価し、
そのときのパワーマージンを調べた。パワーマージンと
は、BLER(ブロックエラーレート)の値が220を
超えないβ値の範囲である。パワーマージンの幅が広い
ほど色素の分解が少なく高感度であり、記録特性が良好
であることを示している。パワーマージンは30以上必
要である。結果を表1に示す。
[Evaluation as Optical Disk] The above-mentioned CD-R type optical disk according to the present invention was evaluated by an evaluation machine “OMT
2000 "(manufactured by Pulstec), and the recording characteristics were evaluated at an optimum power at a recording wavelength of 780 nm.
The power margin at that time was examined. The power margin is a range of β values in which the value of BLER (block error rate) does not exceed 220. The wider the power margin is, the less the dye is decomposed, the higher the sensitivity, and the better the recording characteristics. A power margin of 30 or more is required. Table 1 shows the results.

【0079】表1に示す結果から、1パルス当りの照射
パワーが1.0〜8.0kW/cm 2と大きくても、紫
外線をパルス照射して紫外線硬化樹脂からなる保護層を
形成した場合(実施例1〜5)には、パワーマージンは
30以上と広く、光ディスクは高感度で記録特性が良好
であることが分かる。特に色素溶液の塗布温度を高くし
た場合(実施例2)には、パワーマージンは40と広
く、光ディスクの感度が向上することが分かる。一方、
4kW/cm2の紫外線を3秒間照射して紫外線硬化樹
脂からなる保護層を形成した場合(比較例1)には、パ
ワーマージンは20と狭く、光ディスクは感度が低下し
ていることが分かる。また、1パルス当りの照射パワー
が1.0kW/cm2未満(比較例2)では、硬化させ
るために16回も照射しなければならず、製造のサイク
ルタイムの短縮が図れない。1パルス当りの照射パワー
が8.0kW/cm2を超えると(比較例3)、1回の
照射で硬化可能であるが、パワーマージンが22と狭く
なり、感度が低下していることが分かる。この感度低下
は記録層色素の分解に起因するものと推測される。
From the results shown in Table 1, irradiation per pulse
Power is 1.0 to 8.0 kW / cm TwoEven if big, purple
Irradiation of an external line with a pulse makes the protective layer made of UV-curable resin
When formed (Examples 1 to 5), the power margin is
Wide range of 30 or more, optical disk has high sensitivity and good recording characteristics
It turns out that it is. In particular, raise the application temperature of the dye solution
(Example 2), the power margin is as wide as 40.
In addition, it can be seen that the sensitivity of the optical disk is improved. on the other hand,
4 kW / cmTwoUV-cured tree by irradiating with UV light for 3 seconds
When a protective layer made of fat was formed (Comparative Example 1),
The work margin is as narrow as 20, and the sensitivity of the optical disc decreases.
You can see that it is. In addition, irradiation power per pulse
Is 1.0 kW / cmTwoIf less than (Comparative Example 2)
Irradiation must be performed 16 times in order to
It is not possible to shorten the runtime. Irradiation power per pulse
Is 8.0 kW / cmTwo(Comparative Example 3)
Can be cured by irradiation, but has a narrow power margin of 22
It can be seen that the sensitivity has decreased. This drop in sensitivity
Is presumed to be caused by the decomposition of the dye in the recording layer.

【0080】[0080]

【発明の効果】本発明の光情報記録媒体の製造方法は、
紫外線硬化性樹脂を硬化して保護層を形成する際に、色
素記録層に含有される色素の分解を抑制することによ
り、良好な記録特性を有する光情報記録媒体を製造する
ことができると共に、製造のサイクルタイムを短縮して
コストダウンを図ることができる、という効果を奏す
る。
The method for manufacturing an optical information recording medium according to the present invention comprises:
When curing the ultraviolet curable resin to form the protective layer, by suppressing the decomposition of the dye contained in the dye recording layer, it is possible to produce an optical information recording medium having good recording characteristics, This has the effect of shortening the manufacturing cycle time and reducing costs.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本実施の形態に係る製造システムの一例を示す
構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram illustrating an example of a manufacturing system according to an embodiment.

【図2】(A)は基板にグルーブを形成した状態を示す
工程図であり、(B)は基板上に色素記録層を形成した
状態を示す工程図であり、(C)は基板上に光反射層を
形成した状態を示す工程図である。
2A is a process diagram showing a state in which a groove is formed on a substrate, FIG. 2B is a process diagram showing a state in which a dye recording layer is formed on the substrate, and FIG. It is a process figure showing the state where the light reflection layer was formed.

【図3】(A)は基板のエッジ部分を洗浄した状態を示
す工程図であり、(B)は基板上に保護層を形成した状
態を示す工程図である。
FIG. 3A is a process diagram showing a state where an edge portion of the substrate is cleaned, and FIG. 3B is a process diagram showing a state where a protective layer is formed on the substrate.

【符号の説明】 10 スタック製造システム 14 塗布設備 16 後処理設備 24、64、66、110、及び112 スタックポー
ル 30 第1の処理部 32 第2の処理部 34 第3の処理部 48 色素塗布機構 52 スピンコート装置 62 検査機構 68 選別機構 88 スパッタ機構 100 UV照射機構 202 基板 204 色素記録層 208 光反射層 210 保護層 D 光ディスク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Stack manufacturing system 14 Coating equipment 16 Post-processing equipment 24, 64, 66, 110, and 112 Stack pole 30 First processing unit 32 Second processing unit 34 Third processing unit 48 Dye coating mechanism 52 Spin coating device 62 Inspection mechanism 68 Sorting mechanism 88 Sputtering mechanism 100 UV irradiation mechanism 202 Substrate 204 Dye recording layer 208 Light reflection layer 210 Protective layer D Optical disk

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に形成され色素を含有することによ
りレーザ光により情報の記録が可能な記録層、該記録層
上に形成され入射した光を反射する光反射層、及び該光
反射層上に紫外線硬化性樹脂を硬化して形成される保護
層を備えた光情報記録媒体を製造する光情報記録媒体の
製造方法において、 前記紫外線硬化性樹脂に1パルス当りの照射パワーが
1.0kW/cm2〜8.0kW/cm2の紫外線をパル
ス照射して、前記紫外線硬化性樹脂を硬化させ前記保護
層を形成することを特徴とする光情報記録媒体の製造方
法。
1. A recording layer formed on a substrate and capable of recording information with a laser beam by containing a dye, a light reflecting layer formed on the recording layer and reflecting incident light, and the light reflecting layer In a method for manufacturing an optical information recording medium having a protective layer formed by curing an ultraviolet-curable resin thereon, an irradiation power per pulse of the ultraviolet-curable resin is 1.0 kW. A method for producing an optical information recording medium, comprising: irradiating a pulse of ultraviolet light having a wavelength of from about / cm 2 to 8.0 kW / cm 2 to cure the ultraviolet-curable resin to form the protective layer.
【請求項2】前記紫外線をパルス幅1.0秒以下でパル
ス照射する請求項1に記載の光情報記録媒体の製造方
法。
2. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 1, wherein the ultraviolet light is pulse-irradiated with a pulse width of 1.0 second or less.
【請求項3】前記記録層を、色素を含む塗布液を23℃
〜50℃の塗布温度で基板上にスピンコートして形成す
る請求項1または2に記載の光情報記録媒体の製造方
法。
3. The recording layer is heated at 23 ° C.
3. The method for producing an optical information recording medium according to claim 1, wherein the optical information recording medium is formed by spin coating on a substrate at a coating temperature of about 50 [deg.] C.
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