JP2000285528A - Production of optical information recording medium - Google Patents

Production of optical information recording medium

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JP2000285528A
JP2000285528A JP11084707A JP8470799A JP2000285528A JP 2000285528 A JP2000285528 A JP 2000285528A JP 11084707 A JP11084707 A JP 11084707A JP 8470799 A JP8470799 A JP 8470799A JP 2000285528 A JP2000285528 A JP 2000285528A
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JP
Japan
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dye
substrate
waste liquid
recording medium
information recording
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JP11084707A
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Japanese (ja)
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Toshio Ishida
寿男 石田
Tomoyoshi Itaya
知良 板谷
Koichi Kawai
晃一 河合
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure the reproducibility of recording and reproducing characteristics even when a waste dye solution is reutilized as a dye solution and to efficiently reduce production cost. SOLUTION: In order to wash off a dye which has stuck to the scattering preventing wall 404 of a spin coater during the coating of a substrate with a dye solution by means of the spin coater, the scattering preventing wall 404 is put in a washing tank 602 and washed. At the time when the concentration of the dye in a waste dye solution 604 in the washing tank 602 exceeds that in a waste dye solution 452 recovered in the coating process, these waste dye solutions are mixed to obtain a mixed waste dye solution 606. The dye and a fading inhibitor in the mixed waste dye solution 606 are quantified, the concentrations of the dye and the fading inhibitor in the mixed waste dye solution 606 are made to coincide with those in the dye solution by adjustment with a precision to two or more decimal places and the resulting solution is reutilized as a regenerated dye solution 614.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を用いて
情報の記録及び再生を行うことができるヒートモード型
の光情報記録媒体の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a heat mode optical information recording medium capable of recording and reproducing information by using a laser beam.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、レーザ光により1回限りの情報
の記録が可能な光情報記録媒体(光ディスク)として
は、追記型CD(いわゆるCD−R)やDVD−Rなど
があり、従来のCD(コンパクトディスク)の作製に比
べて少量のCDを手頃な価格でしかも迅速に市場に供給
できる利点を有しており、最近のパーソナルコンピュー
タなどの普及に伴ってその需要も増している。
2. Description of the Related Art In general, as an optical information recording medium (optical disk) on which information can be recorded only once by a laser beam, there are a write-once CD (so-called CD-R) and a DVD-R. Compared to the production of (compact discs), it has the advantage that a small amount of CDs can be supplied to the market at a reasonable price and quickly, and the demand has increased with the recent spread of personal computers and the like.

【0003】CD−R型の光情報記録媒体の代表的な構
造は、厚みが約1.2mmの透明な円盤状基板上に有機
色素からなる記録層、金などの金属からなる光反射層、
更に樹脂製の保護層をこの順に積層したものである(例
えば特開平6−150371号公報参照)。
A typical structure of a CD-R type optical information recording medium is a recording layer made of an organic dye, a light reflecting layer made of a metal such as gold on a transparent disc-shaped substrate having a thickness of about 1.2 mm,
Further, a protective layer made of resin is laminated in this order (see, for example, JP-A-6-150371).

【0004】また、DVD−R型の光情報記録媒体は、
2枚の円盤状基板(厚みが約0.6mm)を各情報記録
面をそれぞれ内側に対向させて貼り合わせた構造を有
し、記録情報量が多いという特徴を有する。
A DVD-R type optical information recording medium is
It has a structure in which two disc-shaped substrates (having a thickness of about 0.6 mm) are bonded together with their respective information recording surfaces facing inward, and has a feature that the amount of recorded information is large.

【0005】そして、これら光情報記録媒体への情報の
書き込み(記録)は、近赤外域のレーザ光(CD−Rで
は通常780nm付近、DVD−Rでは635nm付近
の波長のレーザ光)を照射することにより行われ、色素
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
し、物理的あるいは化学的な変化(例えばピットの生
成)が生じて、その光学的特性を変えることにより情報
が記録される。
For writing (recording) information on these optical information recording media, a laser beam in the near-infrared region (a laser beam having a wavelength of about 780 nm for CD-R and a wavelength of about 635 nm for DVD-R) is irradiated. The irradiation portion of the dye recording layer absorbs the light and locally raises the temperature, causing a physical or chemical change (for example, formation of pits) and changing its optical characteristics. Information is recorded.

【0006】一方、情報の読み取り(再生)も、通常、
記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光を照射すること
により行われ、色素記録層の光学的特性が変化した部位
(ピットの生成による記録部分)と変化しない部位(未
記録部分)との反射率の違いを検出することにより情報
が再生される。
On the other hand, information reading (reproduction) is usually
Reflection is performed by irradiating a laser beam having the same wavelength as the recording laser beam, so that the optical characteristics of the dye recording layer are changed between a portion (recorded portion due to pit generation) and a portion not changed (unrecorded portion). The information is reproduced by detecting the difference in rate.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
な光ディスクを製造する場合にスピンコート法が使用さ
れている。このスピンコート法は、回転している基板の
内周側に溶液を滴下し、遠心力により該溶液を外周側に
流延させて塗膜を形成すると共に、その余分の溶液を基
板の外周縁部から振り切り、その周囲に放出させ、次い
で、塗膜から溶剤を乾燥除去する処理を含む薄膜形成法
の一種である。
By the way, a spin coating method is used for manufacturing the above-mentioned optical disk. In this spin coating method, a solution is dropped on the inner peripheral side of a rotating substrate, and the solution is cast on the outer peripheral side by centrifugal force to form a coating film. This is a type of thin film forming method including a process of shaking off from a part, discharging the solution around the part, and then drying and removing the solvent from the coating film.

【0008】光ディスクを安価に提供するために、コス
トを下げて製造することが重要である。そのためには、 (1)安価な原料を使用すること。 (2)製造の歩留まりを上げること。 (3)製造スピードを上げること。 が重要となってくる。
In order to provide an optical disk at low cost, it is important to manufacture the optical disk at a low cost. To do so, (1) use inexpensive raw materials. (2) To increase the production yield. (3) To increase production speed. Becomes important.

【0009】その中で、(1)については、原料の価格
をこれ以上安価にするのは困難な状況にあり、新しい方
法を検討する必要がある。
[0009] Among them, with regard to (1), it is difficult to reduce the price of the raw materials further, and it is necessary to consider a new method.

【0010】そこで、着目される方法として、スピンコ
ート法による塗布処理において排出される廃液を再利用
する方法がある。即ち、スピンコート法によって実際に
基板上に塗布される量は、吐出量の約2割であり、残り
が廃液だめに溜まる。これを再利用できれば、製造コス
トを大幅に低減することができる。
Therefore, as a method to be noticed, there is a method of reusing a waste liquid discharged in a coating treatment by a spin coating method. That is, the amount actually applied on the substrate by the spin coating method is about 20% of the discharge amount, and the rest is accumulated in the waste liquid reservoir. If this can be reused, manufacturing costs can be significantly reduced.

【0011】本発明はこのような課題を考慮してなされ
たものであり、色素廃液を色素溶液として再利用しても
記録再生特性の再現性を確保でき、製造コストの低廉化
を効率よく実現させることができる光情報記録媒体の製
造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such problems, and can ensure reproducibility of recording / reproducing characteristics even when a dye waste liquid is reused as a dye solution, thereby efficiently realizing reduction in manufacturing cost. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an optical information recording medium that can be made to operate.

【0012】また、本発明の他の目的は、前記条件に加
えて、色素廃液の回収率を向上させることができ、生産
効率の向上を図ることができる光情報記録媒体の製造方
法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing an optical information recording medium capable of improving the recovery rate of a dye waste liquid and improving production efficiency in addition to the above-mentioned conditions. It is in.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に、レ
ーザ光の照射により情報を記録することができる色素記
録層を有するヒートモード型の光情報記録媒体の製造方
法において、前記基板を回転させながら前記色素記録層
を形成するための色素溶液を前記基板上に塗布する塗布
工程と、前記塗布工程で排出された色素廃液を回収する
回収工程と、前記色素溶液の塗布の際に周囲に付着した
色素を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程で回収された
色素廃液の色素濃度が前記回収工程で回収された前記色
素溶液の色素濃度以上となった段階で、これら色素廃液
を混合する混合工程とを含み、前記混合工程で得られた
混合色素廃液を色素溶液として再利用することを特徴と
する。
According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a heat mode type optical information recording medium having a dye recording layer on which information can be recorded by irradiating a laser beam on the substrate. A coating step of applying a dye solution for forming the dye recording layer on the substrate while rotating, a collection step of collecting a dye waste liquid discharged in the coating step, and a surrounding area when coating the dye solution. A washing step of washing the dye adhering to the substrate, and mixing of these dye waste liquids at a stage where the dye concentration of the dye waste liquid collected in the washing step is equal to or higher than the dye concentration of the dye solution collected in the collection step. And a mixing step, wherein the mixed dye waste liquid obtained in the mixing step is reused as a dye solution.

【0014】即ち、洗浄工程で回収された色素廃液と色
素溶液の塗布処理にて排出された色素廃液(回収工程で
回収された色素廃液)とを混合して混合色素廃液とし、
この混合色素廃液を色素溶液として再利用するため、色
素廃液の回収率を大幅に増加させることができ、生産効
率の向上を図ることができる。
That is, the dye waste liquid collected in the washing step and the dye waste liquid discharged in the coating treatment of the dye solution (the dye waste liquid collected in the recovery step) are mixed to form a mixed dye waste liquid.
Since this mixed dye waste liquid is reused as a dye solution, the recovery rate of the dye waste liquid can be greatly increased, and the production efficiency can be improved.

【0015】特に、洗浄工程で回収された色素廃液の色
素濃度が前記回収工程で回収された前記色素溶液の色素
濃度以上となった段階で、これら色素廃液を混合するよ
うにしているため、工程内の不純物の混入を防ぐことが
でき、混合色素廃液を色素溶液として再利用しても記録
再生特性の再現性を確保でき、製造コストの低廉化を効
率よく実現させることができる。
In particular, when the dye concentration of the dye waste liquid recovered in the washing step becomes higher than the dye concentration of the dye solution recovered in the recovery step, these dye waste liquids are mixed. It is possible to prevent impurities from entering the inside, to ensure reproducibility of recording / reproducing characteristics even if the mixed dye waste liquid is reused as a dye solution, and to efficiently realize a reduction in manufacturing cost.

【0016】前記洗浄工程としては、前記基板上に色素
溶液を塗布するための装置を洗浄槽を使用して洗浄する
処理を含むようにしてもよい。この場合、漬け込み洗い
が好ましい。装置に付着した色素を洗浄槽に漬け込んで
洗浄することにより、洗浄槽内に色素廃液が溜まり、効
率よく色素廃液を得ることができる。前記洗浄槽への色
素の漬け込み時間は10分以上がよく、好ましくは30
分以上がよい。
The cleaning step may include a process of cleaning an apparatus for applying a dye solution onto the substrate using a cleaning tank. In this case, immersion washing is preferable. By immersing the dye adhering to the apparatus in the washing tank for washing, the dye waste liquid accumulates in the washing tank, and the dye waste liquid can be obtained efficiently. The time for immersing the dye in the washing tank is preferably 10 minutes or more, preferably 30 minutes.
A minute or more is good.

【0017】また、前記製造方法において、前記色素溶
液に色素と退色防止剤が含有する場合に、前記混合色素
廃液中の色素及び退色防止剤の含有量を定量する工程
と、前記混合色素廃液中の色素及び退色防止剤の濃度
を、前記色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と2桁
以上の精度で一致するように調整する工程とを含むよう
にしてもよい。これにより、混合色素廃液を色素溶液と
して再利用した際にも記録再生特性の再現性を確保する
ことができる。
In the above-mentioned manufacturing method, when the dye solution contains a dye and an anti-fading agent, a step of quantifying the content of the dye and the anti-fading agent in the mixed dye waste liquid; Adjusting the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the dye solution so as to match the concentrations of the dye and the anti-fading agent with two or more digits of accuracy. Thereby, even when the mixed dye waste liquid is reused as the dye solution, reproducibility of the recording / reproducing characteristics can be ensured.

【0018】この場合、前記混合色素廃液中の色素及び
退色防止剤の定量を液体クロマトグラフィで行うことが
好ましく、前記液体クロマトグラフィでの検量精度は3
桁以上であることが好ましい。
In this case, it is preferable that the amount of the dye and the anti-fading agent in the mixed dye waste liquid is determined by liquid chromatography.
It is preferably more than an order of magnitude.

【0019】更に、前記混合色素廃液を光の透過しない
密閉容器で保管することが好ましい。この場合、前記混
合色素廃液の保管中でのクリーン度をクラス50万以
下、好ましくはクラス20万以下にするとよい。
Further, it is preferable to store the mixed dye waste liquid in a closed container which does not transmit light. In this case, the degree of cleanliness during storage of the mixed dye waste liquid may be set to 500,000 or less, preferably 200,000 or less.

【0020】前記基板上に形成された前記色素溶液の塗
膜のうち、前記基板の外周縁部に対応する部分を除去す
るエッジ洗浄工程を含む場合は、エッジ洗浄時の廃液を
前記色素廃液と分離することが好ましい。
In the case where an edge cleaning step of removing a portion corresponding to the outer peripheral edge of the substrate from the coating solution of the dye solution formed on the substrate is included, the waste liquid at the time of edge cleaning is replaced with the dye waste liquid. Separation is preferred.

【0021】また、前記基板上に形成された前記色素溶
液の塗膜のうち、前記基板の裏面に付着した塗膜を除去
する裏面洗浄工程を含む場合は、裏面洗浄時の廃液を前
記色素廃液と分離することが好ましい。
In the case where the method includes a back surface cleaning step of removing a coating film adhered to the back surface of the substrate among the coating films of the dye solution formed on the substrate, the waste liquid from the back surface cleaning may be replaced with the dye waste liquid. It is preferable to separate them.

【0022】エッジ洗浄時の廃液と裏面洗浄時の廃液を
色素廃液と分離することにより、工程内の不純物の混入
を防ぐことができ、混合色素廃液を色素溶液として再利
用した際にも記録再生特性の再現性を確保することがで
きる。
Separation of the waste liquid at the time of edge cleaning and the waste liquid at the time of back surface washing from the dye waste liquid can prevent impurities from being mixed in the process. Even when the mixed dye waste liquid is reused as the dye solution, recording and reproduction can be performed. Reproducibility of characteristics can be secured.

【0023】また、前記色素溶液を塗布する際の排気風
速を1m/s以下、好ましくは0.7m/s以下、更に
好ましくは0.4m/s以下がよい。これにより、基板
上への色素溶液の塗布が良好に行われると共に、色素廃
液の回収率を向上させることができる。
The exhaust air velocity at the time of applying the dye solution is 1 m / s or less, preferably 0.7 m / s or less, and more preferably 0.4 m / s or less. Thus, the dye solution can be favorably applied to the substrate, and the recovery rate of the dye waste liquid can be improved.

【0024】前記基板上に色素溶液を塗布して前記色素
記録層を形成する際に、前記色素溶液の吐出量を0.3
cc〜5ccとすることが好ましく、更に好ましくは
0.5cc〜2ccである。
When a dye solution is applied on the substrate to form the dye recording layer, the discharge amount of the dye solution is set to 0.3.
It is preferably between cc and 5 cc, more preferably between 0.5 cc and 2 cc.

【0025】前記色素溶液を塗布する際の温度は10℃
〜50℃の範囲が適当であり、好ましくは15℃〜35
℃の範囲、更に好ましくは20〜25℃の範囲である。
The temperature at which the dye solution is applied is 10 ° C.
To 50 ° C, preferably 15 ° C to 35 ° C.
C, more preferably in the range of 20 to 25C.

【0026】前記色素溶液を塗布する際の湿度は25%
RH〜65%RHの範囲が適当であり、好ましくは35
%RH〜60%RHの範囲、更に好ましくは45%RH
〜55%RHの範囲である。
The humidity at the time of applying the dye solution is 25%
The range of RH to 65% RH is suitable, preferably 35%.
% RH to 60% RH, more preferably 45% RH
It is in the range of 5555% RH.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光情報記録媒
体の製造方法を例えばCD−R等の光ディスクを製造す
るシステムに適用した実施の形態例(以下、単に実施の
形態に係る製造システムと記す)を図1〜図18を参照
しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment in which a method for manufacturing an optical information recording medium according to the present invention is applied to a system for manufacturing an optical disk such as a CD-R (hereinafter simply referred to as a manufacturing system according to the embodiment). Will be described with reference to FIGS.

【0028】本実施の形態に係る製造システム10は、
図1に示すように、例えば射出成形、圧縮成形又は射出
圧縮成形によって基板を作製する2つの成形設備(第1
及び第2の成形設備12A及び12B)と、基板の一主
面上に色素塗布液を塗布して乾燥させることにより、該
基板上に色素記録層を形成する塗布設備14と、基板の
色素記録層上に光反射層を例えばスパッタリングにより
形成し、その後、光反射層上にUV硬化液を塗布した
後、UV照射して前記光反射層上に保護層を形成する後
処理設備16とを有して構成されている。
The manufacturing system 10 according to the present embodiment
As shown in FIG. 1, for example, two molding equipments (first and second molding apparatuses) for producing a substrate by injection molding, compression molding or injection compression molding.
And a second molding facility 12A and 12B), a coating facility 14 for forming a dye recording layer on the substrate by applying and drying a dye coating solution on one main surface of the substrate, and a dye recording apparatus for the substrate. A light-reflecting layer is formed on the light-reflecting layer by, for example, sputtering, and after that, a UV curing liquid is applied onto the light-reflecting layer, and then UV irradiation is performed to form a protective layer on the light-reflecting layer. It is configured.

【0029】第1及び第2の成形設備12A及び12B
は、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形、圧縮
成形又は射出圧縮成形して、一主面にトラッキング用溝
又はアドレス信号等の情報を表す凹凸(グルーブ)が形
成された基板を作製する成形機20と、該成形機20か
ら取り出された基板を冷却する冷却部22と、冷却後の
基板を段積みして保管するためのスタックポール24が
複数本設置された集積部26(スタックポール回転台)
とを有する。
First and second molding equipment 12A and 12B
Is a molding machine 20 for injection molding, compression molding, or injection compression molding of a resin material such as polycarbonate to produce a substrate having a tracking groove or an unevenness (groove) representing information such as an address signal formed on one main surface. A cooling unit 22 for cooling the substrate taken out of the molding machine 20, and an accumulating unit 26 (stack pole turntable) on which a plurality of stack poles 24 for stacking and storing the cooled substrates are stored.
And

【0030】塗布設備14は、3つの処理部30、32
及び34から構成され、第1の処理部30には、前記第
1及び第2の成形設備12A及び12Bから搬送された
スタックポール24を収容するためのスタックポール収
容部40と、該スタックポール収容部40に収容された
スタックポール24から1枚ずつ基板を取り出して次工
程に搬送する第1の搬送機構42と、該第1の搬送機構
42によって搬送された1枚の基板に対して静電気の除
去を行う静電ブロー機構44とを有する。
The coating equipment 14 has three processing units 30, 32
And 34, the first processing section 30 includes a stack pole storage section 40 for storing the stack poles 24 transported from the first and second molding facilities 12A and 12B, and a stack pole storage section 40 for storing the stack poles. A first transport mechanism 42 that takes out the substrates one by one from the stack pole 24 accommodated in the unit 40 and transports the substrates to the next process; And an electrostatic blow mechanism 44 for removing.

【0031】第2の処理部32は、第1の処理部30に
おいて静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送
する第2の搬送機構46と、該第2の搬送機構46によ
って搬送された複数の基板に対してそれぞれ色素塗布液
を塗布する色素塗布機構48と、色素塗布処理を終えた
基板を1枚ずつ次工程に搬送する第3の搬送機構50と
を有する。この色素塗布機構48は6つのスピンコート
装置52を有して構成されている。
The second processing section 32 includes a second transport mechanism 46 for sequentially transporting the substrates, which have been subjected to the electrostatic blow processing in the first processing section 30, to the next step, and transporting the substrates by the second transport mechanism 46. A dye coating mechanism 48 that applies a dye coating liquid to each of the plurality of substrates, and a third transport mechanism 50 that transports the substrates that have been subjected to the dye application processing one by one to the next process. The dye application mechanism 48 includes six spin coaters 52.

【0032】第3の処理部34は、前記第3の搬送機構
50にて搬送された1枚の基板の裏面を洗浄する裏面洗
浄機構54と、裏面洗浄を終えた基板を次工程に搬送す
る第4の搬送機構56と、該第4の搬送機構56によっ
て搬送された基板に対してロット番号等の刻印を行う番
号付与機構58と、ロット番号等の刻印を終えた基板を
次工程に搬送する第5の搬送機構60と、該第5の搬送
機構60によって搬送された基板に対して欠陥の有無並
びに色素記録層の膜厚の検査を行う検査機構62と、該
検査機構62での検査結果に応じて基板を正常品用のス
タックポール64あるいはNG用のスタックポール66
に選別する選別機構68とを有する。
The third processing section 34 cleans the back surface of one substrate transported by the third transport mechanism 50, and transports the substrate after the back surface cleaning to the next step. A fourth transport mechanism 56, a numbering mechanism 58 for marking the substrate transported by the fourth transport mechanism 56 with a lot number or the like, and transporting the substrate having been stamped with the lot number or the like to the next step. A fifth transport mechanism 60, an inspection mechanism 62 that inspects the substrate transported by the fifth transport mechanism 60 for the presence or absence of a defect, and a film thickness of the dye recording layer, and an inspection by the inspection mechanism 62. Depending on the result, the substrate is replaced with a stack pole 64 for normal products or a stack pole 66 for NG.
And a sorting mechanism 68 for sorting the pieces.

【0033】第1の処理部30と第2の処理部32との
間に第1の仕切板70が設置され、第2の処理部32と
第3の処理部34にも同様の第2の仕切板72が設置さ
れている。第1の仕切板70の下部には、第2の搬送機
構46による基板の搬送経路を塞がない程度の開口(図
示せず)が形成され、第2の仕切板72の下部には、第
3の搬送機構50による基板の搬送経路を塞がない程度
の開口(図示せず)が形成されている。
A first partition plate 70 is provided between the first processing unit 30 and the second processing unit 32, and the second processing unit 32 and the third processing unit 34 have the same second processing unit. A partition plate 72 is provided. An opening (not shown) is formed below the first partition plate 70 to such an extent that the transfer path of the substrate by the second transfer mechanism 46 is not blocked. An opening (not shown) is formed so as not to block the substrate transfer path by the third transfer mechanism 50.

【0034】後処理設備16は、塗布設備14から搬送
された正常品用のスタックポール64を収容するための
スタックポール収容部80と、該スタックポール収容部
80に収容されたスタックポール64から1枚ずつ基板
を取り出して次工程に搬送する第6の搬送機構82と、
該第6の搬送機構82によって搬送された1枚の基板に
対して静電気の除去を行う第1の静電ブロー機構84
と、静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送す
る第7の搬送機構86と、該第7の搬送機構86によっ
て搬送された基板の一主面に光反射層をスパッタリング
にて形成するスパッタ機構88と、光反射層のスパッタ
リングを終えた基板を次工程に順次搬送する第8の搬送
機構90と、該第8の搬送機構90によって搬送された
基板の周縁(エッジ部分)を洗浄するエッジ洗浄機構9
2とを有する。
The post-processing facility 16 includes a stack pole storage section 80 for storing a stack pole 64 for normal products transported from the coating apparatus 14, and one of the stack poles 64 stored in the stack pole storage section 80. A sixth transport mechanism 82 that takes out substrates one by one and transports them to the next process;
A first electrostatic blow mechanism 84 for removing static electricity from one substrate transported by the sixth transport mechanism 82
And a seventh transport mechanism 86 for sequentially transporting the substrate after the electrostatic blow processing to the next step, and forming a light reflecting layer on one main surface of the substrate transported by the seventh transport mechanism 86 by sputtering. Transport mechanism 90 for sequentially transporting the substrate after the sputtering of the light reflection layer to the next step, and cleaning the periphery (edge portion) of the substrate transported by the eighth transport mechanism 90 Edge cleaning mechanism 9
And 2.

【0035】また、この後処理設備16は、エッジ洗浄
を終えた基板に対して静電気の除去を行う第2の静電ブ
ロー機構94と、静電ブロー処理を終えた基板の一主面
に対してUV硬化液を塗布するUV硬化液塗布機構96
と、UV硬化液の塗布を終えた基板を高速に回転させて
基板上のUV硬化液の塗布厚を均一にするスピン機構9
8と、UV硬化液の塗布及びスピン処理を終えた基板に
対して紫外線を照射することによりUV硬化液を硬化さ
せて基板の一主面に保護層を形成するUV照射機構10
0と、前記基板を第2の静電ブロー機構94、UV硬化
液塗布機構96、スピン機構98及びUV照射機構10
0にそれぞれ搬送する第9の搬送機構102と、UV照
射された基板を次工程に搬送する第10の搬送機構10
4と、該第10の搬送機構104によって搬送された基
板に対して塗布面と保護層面の欠陥を検査するための欠
陥検査機構106と、基板に形成されたグルーブによる
信号特性を検査するための特性検査機構108と、これ
ら欠陥検査機構106及び特性検査機構108での検査
結果に応じて基板を正常品用のスタックポール110あ
るいはNG用のスタックポール112に選別する選別機
構114とを有する。
Further, the post-processing equipment 16 includes a second electrostatic blow mechanism 94 for removing static electricity from the substrate after edge cleaning, and a second electrostatic blow mechanism 94 for removing one main surface of the substrate after electrostatic blow processing. UV curable liquid application mechanism 96 for applying UV curable liquid
And a spin mechanism 9 for rotating the substrate on which the UV curing liquid has been applied at a high speed so as to make the applied thickness of the UV curing liquid on the substrate uniform.
8, a UV irradiation mechanism 10 for curing the UV curing liquid by irradiating ultraviolet rays to the substrate after the application of the UV curing liquid and the spin treatment to form a protective layer on one main surface of the substrate
0 and a second electrostatic blow mechanism 94, a UV curing liquid coating mechanism 96, a spin mechanism 98 and a UV irradiation mechanism 10
And a tenth transport mechanism 10 for transporting the substrate irradiated with UV to the next step.
4, a defect inspection mechanism 106 for inspecting the substrate transported by the tenth transport mechanism 104 for defects on the coating surface and the protective layer surface, and a defect inspection mechanism 106 for inspecting signal characteristics due to grooves formed on the substrate. It has a characteristic inspection mechanism 108 and a selection mechanism 114 for selecting a substrate into a stack pole 110 for a normal product or a stack pole 112 for NG according to the inspection results of the defect inspection mechanism 106 and the characteristic inspection mechanism 108.

【0036】ここで、1つのスピンコート装置52の構
成について図2〜図6を参照しながら説明する。
Here, the configuration of one spin coater 52 will be described with reference to FIGS.

【0037】このスピンコート装置52は、図2及び図
3に示すように、塗布液付与装置400、スピナーヘッ
ド装置402及び飛散防止壁404を有して構成されて
いる。塗布液付与装置400は、塗布液が充填された加
圧タンク(図示せず)と、該加圧タンクからノズル40
6に引き回されたパイプ(図示せず)と、ノズル406
から吐出される塗布液の量を調整するための吐出量調整
バルブ408とを有し、塗布液は前記ノズル406を通
してその所定量が基板202の表面上に滴下されるよう
になっている。この塗布液付与装置400は、ノズル4
06を下方に向けて支持する支持板410と該支持板4
10を水平方向に旋回させるモータ412とを有するハ
ンドリング機構414によって、待機位置から基板20
2の上方の位置に旋回移動できるように構成されてい
る。
As shown in FIGS. 2 and 3, the spin coater 52 includes a coating liquid applying device 400, a spinner head device 402, and a scattering prevention wall 404. The coating liquid application device 400 includes a pressurized tank (not shown) filled with the coating liquid, and a nozzle 40 from the pressurized tank.
6, a pipe (not shown) and a nozzle 406
And a discharge amount adjustment valve 408 for adjusting the amount of the coating liquid discharged from the substrate 202. A predetermined amount of the coating liquid is dropped on the surface of the substrate 202 through the nozzle 406. The coating liquid application device 400 includes a nozzle 4
Support plate 410 supporting supporter 06 downward and support plate 4
A handling mechanism 414 having a motor 412 for horizontally rotating the substrate 10 causes the substrate 20 to move from the standby position.
2 so as to be able to turn to a position above.

【0038】スピナーヘッド装置402は、前記塗布液
付与装置400の下方に配置されており、着脱可能な固
定具420により、基板202が水平に保持されると共
に、駆動モータ(図示せず)により軸回転が可能とされ
ている。
The spinner head device 402 is disposed below the coating liquid application device 400, holds the substrate 202 horizontally by a detachable fixing tool 420, and rotates the substrate 202 by a drive motor (not shown). It is possible to rotate.

【0039】スピナーヘッド装置402により水平に保
持された状態で回転している基板202上に、上記の塗
布液付与装置400のノズル406から滴下した塗布液
は、基板202の表面上を外周側に流延する。そして、
余分の塗布液は基板202の外周縁部で振り切られ、そ
の外側に放出され、次いで塗膜が乾燥されることによ
り、基板202の表面上に塗膜(色素記録層204)が
形成される。
The coating liquid dropped from the nozzle 406 of the coating liquid applying device 400 onto the substrate 202 rotating while being held horizontally by the spinner head device 402 is directed outward on the surface of the substrate 202. Cast. And
The excess coating liquid is shaken off at the outer peripheral edge of the substrate 202, discharged to the outside, and then dried to form a coating film (dye recording layer 204) on the surface of the substrate 202.

【0040】飛散防止壁404は、基板202の外周縁
部から外側に放出された余分の塗布液が周辺に飛散する
のを防止するために設けられており、上部に開口422
が形成されるようにスピナーヘッド装置402の周囲に
配置されている。飛散防止壁404を介して集められた
余分の塗布液、即ち、色素廃液はドレイン424を通し
て回収容器450に回収されるようになっている。色素
廃液の回収後の処理については後で詳述する。
The scattering prevention wall 404 is provided to prevent the excess coating solution discharged outward from the outer peripheral edge of the substrate 202 from scattering to the periphery, and has an opening 422 at the top.
Are formed around the spinner head device 402 so as to be formed. The excess coating liquid collected through the scattering prevention wall 404, that is, the dye waste liquid, is collected in the collection container 450 through the drain 424. The processing after the collection of the dye waste liquid will be described later in detail.

【0041】また、第2の処理部32(図1参照)にお
ける各スピンコート装置52の局所排気は、前記飛散防
止壁404の上方に形成された開口422から取り入れ
た空気を基板202の表面上に流通させた後、各スピナ
ーヘッド装置402の下方に取り付けられた排気管42
6を通じて排気されるようになっている。このときの排
気風速は1m/s以下に設定している。
The local exhaust of each of the spin coaters 52 in the second processing unit 32 (see FIG. 1) causes air taken in from the opening 422 formed above the scattering prevention wall 404 on the surface of the substrate 202. Exhaust pipe 42 attached below each spinner head device 402.
6 to be exhausted. The exhaust wind speed at this time is set to 1 m / s or less.

【0042】塗布液付与装置400のノズル406は、
図4及び図5に示すように、軸方向に貫通孔430が形
成された細長い円筒状のノズル本体432と、該ノズル
本体432を支持板410(図3参照)に固定するため
の取付部434を有する。ノズル本体432は、その先
端面及びその先端面から1mm以上の範囲の外側又は内
側、あるいは両方の壁面がフッ素化合物からなる表面を
有する。このフッ素化合物としては、例えばポリテトラ
フルオロエチレンやポリテトラフルオロエチレン含有物
等を使用することができる。
The nozzle 406 of the coating liquid application device 400
As shown in FIGS. 4 and 5, an elongated cylindrical nozzle main body 432 having a through hole 430 formed in the axial direction, and a mounting portion 434 for fixing the nozzle main body 432 to the support plate 410 (see FIG. 3). Having. The nozzle body 432 has a front end surface and a surface whose outside or inside, or both wall surfaces within 1 mm or more from the front end surface, are made of a fluorine compound. As the fluorine compound, for example, polytetrafluoroethylene, a substance containing polytetrafluoroethylene, or the like can be used.

【0043】この実施の形態で用いられる好ましいノズ
ル406の例としては、例えば、図5に示すように、ノ
ズル本体432の先端面及びその先端面から1mm以上
の範囲をフッ素化合物を用いて形成したノズル406
や、図6に示すように、ノズル本体432の先端面44
0及びその先端面440から1mm以上の範囲の外側又
は内側、あるいは両方の壁面442及び444をフッ素
化合物を用いて被覆したノズル406を挙げることがで
きる。
As an example of a preferred nozzle 406 used in this embodiment, for example, as shown in FIG. 5, a tip surface of a nozzle body 432 and a range of 1 mm or more from the tip surface are formed using a fluorine compound. Nozzle 406
Alternatively, as shown in FIG.
Nozzles 406 whose outer and / or inner surfaces within a range of 1 mm or more from 0 and the tip surface 440 thereof, or both wall surfaces 442 and 444 are coated with a fluorine compound.

【0044】ノズル本体432の先端面及びその先端面
から1mm以上の範囲をフッ素化合物で形成する場合、
強度などを考慮すると、実用的には、例えばノズル本体
432をステンレススチールで形成し、その先端面及び
その先端面から最大で5mmの範囲をフッ素化合物で形
成することが好ましい。
When the tip surface of the nozzle body 432 and the area of 1 mm or more from the tip surface are formed of a fluorine compound,
In consideration of the strength and the like, it is practically preferable that the nozzle body 432 is formed of, for example, stainless steel, and that the front end face and the range of up to 5 mm from the front end face are formed of a fluorine compound.

【0045】また、図6に示すように、ノズル本体43
2の先端面440及びその先端面440から1mm以上
の範囲の外側又は内側、あるいは両方の壁面442及び
444をフッ素化合物で被覆する場合、ノズル本体43
2の先端面440から10mm以上、更に好ましくは、
ノズル本体432の全領域をフッ素化合物で被覆するこ
とが好ましい。被覆する場合のその厚みは、特に制限は
ないが、5〜500μmの範囲が適当である。また、ノ
ズル本体432の材質としては、上記のように、ステン
レススチールが好ましい。ノズル本体432に形成され
た貫通孔430の径は一般に0.5〜1.0mmの範囲
である。
Further, as shown in FIG.
In the case where the front end surface 440 and the outer or inner side of the end surface 440 or more or 1 mm or more, or both of the wall surfaces 442 and 444 are coated with a fluorine compound, the nozzle body 43
10 mm or more from the tip surface 440 of the second, more preferably,
Preferably, the entire area of the nozzle body 432 is covered with a fluorine compound. The thickness of the coating is not particularly limited, but is suitably in the range of 5 to 500 μm. As described above, stainless steel is preferable as the material of the nozzle body 432. The diameter of the through hole 430 formed in the nozzle main body 432 is generally in the range of 0.5 to 1.0 mm.

【0046】次に、この製造システム10によって光デ
ィスクDを製造する過程について図7A〜図8Bの工程
図をも参照しながら説明する。
Next, a process of manufacturing the optical disc D by the manufacturing system 10 will be described with reference to the process charts of FIGS. 7A to 8B.

【0047】まず、第1及び第2の成形設備12A及び
12Bにおける成形機20において、ポリカーボネート
などの樹脂材料が射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形
されて、図7Aに示すように、一主面にトラッキング用
溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸(グルーブ)2
00が形成された基板202が作製される。
First, in a molding machine 20 in each of the first and second molding facilities 12A and 12B, a resin material such as polycarbonate is subjected to injection molding, compression molding or injection compression molding, and as shown in FIG. A groove 2 for representing information such as a tracking groove or an address signal;
The substrate 202 on which the “00” is formed is manufactured.

【0048】前記基板202の材料としては、例えばポ
リカーボネート、ポリメタルメタクリレート等のアクリ
ル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化
ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフ
ィン及びポリエステルなどを挙げることができ、所望に
よりそれらを併用してもよい。上記の材料の中では、耐
湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカーボネー
トが好ましい。また、グルーブ200の深さは、0.0
1〜0.3μmの範囲であることが好ましく、その半値
幅は、0.2〜0.9μmの範囲であることが好まし
い。
Examples of the material of the substrate 202 include acrylic resins such as polycarbonate and polymetal methacrylate, vinyl chloride resins such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymer, epoxy resins, amorphous polyolefin and polyester. They can be used together if desired. Among the above materials, polycarbonate is preferred from the viewpoints of moisture resistance, dimensional stability, cost, and the like. The depth of the groove 200 is 0.0
It is preferably in the range of 1 to 0.3 μm, and its half width is preferably in the range of 0.2 to 0.9 μm.

【0049】成形機20から取り出された基板202
は、後段の冷却部22において冷却された後、一主面が
下側に向けられてスタックポール24に積載される。ス
タックポール24に所定枚数の基板202が積載された
段階で、スタックポール24はこの成形設備12A及び
12Bから取り出されて、次の塗布設備14に搬送さ
れ、該塗布設備14におけるスタックポール収容部40
に収容される。この搬送は、台車で行ってもよいし、自
走式の自動搬送装置で行うようにしてもよい。
The substrate 202 taken out of the molding machine 20
After being cooled in the cooling unit 22 in the subsequent stage, the wafer is stacked on the stack pole 24 with one main surface directed downward. At the stage when a predetermined number of substrates 202 are stacked on the stack pole 24, the stack pole 24 is taken out from the molding facilities 12A and 12B, and is conveyed to the next coating facility 14, where the stack pole storage section 40 in the coating facility 14 is placed.
To be housed. This transfer may be performed by a trolley or by a self-propelled automatic transfer device.

【0050】スタックポール24がスタックポール収容
部40に収容された段階で、第1の搬送機構42が動作
し、スタックポール24から1枚ずつ基板202を取り
出して、後段の静電ブロー機構44に搬送する。静電ブ
ロー機構44に搬送された基板202は、該静電ブロー
機構44において静電気が除去された後、第2の搬送機
構46を介して次の色素塗布機構48に搬送され、6つ
のスピンコート装置52のうち、いずれか1つのスピン
コート装置52に投入される。スピンコート装置52に
投入された基板202は、その一主面上に色素塗布液が
塗布された後、高速に回転されて塗布液の厚みが均一に
された後、乾燥処理が施される。これによって、図7B
に示すように、基板202の一主面上に色素記録層20
4が形成されることになる。
At the stage when the stack pole 24 is housed in the stack pole housing section 40, the first transport mechanism 42 operates, and the substrates 202 are taken out one by one from the stack pole 24 and sent to the subsequent electrostatic blow mechanism 44. Transport. After the static electricity is removed by the electrostatic blow mechanism 44, the substrate 202 transported to the electrostatic blow mechanism 44 is transported to the next dye coating mechanism 48 via the second transport mechanism 46, and is subjected to six spin coatings. One of the devices 52 is supplied to one of the spin coaters 52. The substrate 202 loaded into the spin coater 52 is applied with a dye coating solution on one main surface thereof, is rotated at high speed to make the thickness of the coating solution uniform, and then subjected to a drying process. As a result, FIG.
As shown in FIG. 2, the dye recording layer 20 is formed on one main surface of the substrate 202.
4 will be formed.

【0051】即ち、スピンコート装置52に投入された
基板202は、図2に示すスピナーヘッド装置402に
装着され、固定具420により水平に保持される。次
に、加圧式タンクから供給された塗布液は、吐出量調整
バルブ408によって所定量が調整され、基板202上
の内周側にノズル406を通して滴下される。
That is, the substrate 202 loaded in the spin coater 52 is mounted on a spinner head device 402 shown in FIG. Next, a predetermined amount of the application liquid supplied from the pressurized tank is adjusted by the discharge amount adjustment valve 408, and the applied liquid is dropped on the inner peripheral side of the substrate 202 through the nozzle 406.

【0052】このノズル406は、上述したように、そ
の先端面及びその先端面から1mm以上の範囲の外側又
は内側、あるいは両方の壁面がフッ素化合物からなる表
面を有しているため、塗布液の付着が生じにくく、ま
た、これが乾燥して色素の析出やその堆積物が生じにく
く、従って、塗膜を塗膜欠陥などの障害を伴うことなく
スムーズに形成させることができる。
As described above, since the nozzle 406 has a front end surface and an outer or inner surface within 1 mm or more from the front end surface, or both of the wall surfaces, the surface is made of a fluorine compound. Adhesion does not easily occur, and it is hard to dry to cause precipitation of the dye and its deposit. Therefore, the coating film can be formed smoothly without obstruction such as coating film defects.

【0053】なお、塗布液としては色素を適当な溶剤に
溶解した色素溶液が用いられる。塗布液中の色素の濃度
は一般に0.01〜15重量%の範囲であり、好ましく
は0.1〜10重量%の範囲、特に好ましくは0.5〜
5重量%の範囲、最も好ましくは0.5〜3重量%の範
囲である。
As the coating solution, a dye solution in which a dye is dissolved in an appropriate solvent is used. The concentration of the dye in the coating solution is generally in the range of 0.01 to 15% by weight, preferably in the range of 0.1 to 10% by weight, particularly preferably 0.5 to 10% by weight.
It is in the range of 5% by weight, most preferably in the range of 0.5-3% by weight.

【0054】スピナーヘッド装置402は駆動モータに
よって高速回転が可能である。基板202上に滴下され
た塗布液は、スピナーヘッド装置402の回転により、
基板202の表面上を外周方向に流延し、塗膜を形成し
ながら基板202の外周縁部に到達する。外周縁部に達
した余分の塗布液は、更に遠心力により振り切られ、基
板202の縁部の周囲に飛散する。飛散した余分の塗布
液は飛散防止壁404に衝突し、更にその下方に設けら
れた受皿に集められた後、ドレイン424を通して回収
される。塗膜の乾燥はその形成過程及び塗膜形成後に行
われる。塗膜(色素記録層204)の厚みは、一般に2
0〜500nmの範囲であり、好ましくは50〜300
nmの範囲に設けられる。
The spinner head device 402 can be rotated at a high speed by a drive motor. The coating solution dropped on the substrate 202 is rotated by the rotation of the spinner head device 402.
It is cast on the surface of the substrate 202 in the outer peripheral direction, and reaches the outer peripheral edge of the substrate 202 while forming a coating film. The excess coating solution that has reached the outer peripheral edge is further shaken off by centrifugal force and scattered around the edge of the substrate 202. The excess application liquid that has scattered collides with the scatter prevention wall 404, is collected in a tray provided below the scatter prevention wall 404, and is collected through the drain 424. Drying of the coating film is performed during the formation process and after the formation of the coating film. The thickness of the coating film (dye recording layer 204) is generally 2
0-500 nm, preferably 50-300 nm.
nm.

【0055】色素記録層204に用いられる色素は特に
限定されない。使用可能な色素の例としては、シアニン
系色素、フタロシアニン系色素、イミダゾキノキサリン
系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレ
ニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Crなど
の金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノ
ン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系
色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系色
素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウ
ム系色素及びニトロソ化合物を挙げることができる。こ
れらの色素のうちでは、シアニン系色素が好ましく、ベ
ンゾインドレニン色素がより好ましく、下記一般式
(1)で示される色素が特に好ましい。
The dye used in the dye recording layer 204 is not particularly limited. Examples of usable dyes include cyanine dyes, phthalocyanine dyes, imidazoquinoxaline dyes, pyrylium / thiopyrylium dyes, azurenium dyes, squalilium dyes, metal complex salt dyes such as Ni and Cr, and naphthoquinone dyes And anthraquinone dyes, indophenol dyes, indoaniline dyes, triphenylmethane dyes, merocyanine dyes, oxonol dyes, aminium / diimmonium dyes, and nitroso compounds. Among these dyes, cyanine dyes are preferable, benzoindolenine dyes are more preferable, and dyes represented by the following general formula (1) are particularly preferable.

【0056】[0056]

【化1】 Embedded image

【0057】一般式(1)のR1 は1価の置換基を示
す。1価の置換基としては、置換又は無置換のアルキル
基が好ましい。アルキル基は、炭素原子数1〜18のア
ルキル基が好ましく、炭素原子数1〜12のアルキル基
がより好ましく、炭素原子数1〜4のアルキル基が特に
好ましい。
R 1 in the general formula (1) represents a monovalent substituent. As the monovalent substituent, a substituted or unsubstituted alkyl group is preferable. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

【0058】また、アルキル基は直鎖でも分岐でもよ
く、置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲ
ン原子;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;メ
チルチオ基、メチルチオ基等のアルキルチオ基;アセチ
ル基等のアシル基;ヒドロキシ基;エトキシカルボニル
基等のアルコキシカルボニル基;ビニル基等のアルケニ
ル基;フェニル基等のアリール基等が挙げられる。
The alkyl group may be linear or branched. Examples of the substituent include a halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom; an alkoxy group such as a methoxy group and an ethoxy group; an alkylthio group such as a methylthio group and a methylthio group; Acyl groups such as acetyl groups; hydroxy groups; alkoxycarbonyl groups such as ethoxycarbonyl groups; alkenyl groups such as vinyl groups; and aryl groups such as phenyl groups.

【0059】一般式(1)のR2 及びR3 は、それぞれ
独立に1価の置換基を示す。1価の置換基としては、置
換又は無置換のアルキル基が好ましい。アルキル基は、
炭素原子数1〜4のアルキル基が好ましく、メチル基、
エチル基が特に好ましい。R 2 とR3 とは互いに結合し
て環を形成していてもよい。
R of the general formula (1)TwoAnd RThreeRespectively
And independently represents a monovalent substituent. As the monovalent substituent,
A substituted or unsubstituted alkyl group is preferred. The alkyl group is
An alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, a methyl group,
Ethyl groups are particularly preferred. R TwoAnd RThreeIs connected to each other
To form a ring.

【0060】一般式(1)のR4 は、1価の置換基を示
す。1価の置換基としては、水素原子、炭素数1〜16
のアルキル基、ハロゲン原子、アラルキル基が好まし
く、メチル基、エチル基及びベンジル基がより好まし
く、メチル基が特に好ましい。
R 4 in the general formula (1) represents a monovalent substituent. Examples of the monovalent substituent include a hydrogen atom, a carbon atom having 1 to 16 carbon atoms.
Are preferably an alkyl group, a halogen atom and an aralkyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group and a benzyl group, and particularly preferably a methyl group.

【0061】一般式(1)のXn-は、陰イオンを示し、
nは1、2又は3を表す。陰イオンとしては、ハライド
イオン、スルホネートイオン、ClO4 - 、BF4 -
SbF5 - 、金属錯体イオン、リン酸イオンを挙げるこ
とができる。この中でも、2価の陰イオン(n=2)が
好ましく、下記一般式(2)で表される2価の陰イオン
が特に好ましい。
X n- in the general formula (1) represents an anion;
n represents 1, 2 or 3. As anions, halide ions, sulfonate ions, ClO 4 , BF 4 ,
SbF 5 , metal complex ions and phosphate ions can be mentioned. Among these, a divalent anion (n = 2) is preferable, and a divalent anion represented by the following general formula (2) is particularly preferable.

【0062】[0062]

【化2】 Embedded image

【0063】一般式(2)のR5 〜R10は、それぞれ独
立に1価の置換基を示す。1価の置換基としては、水素
原子、アルキル基、ハロゲン原子、アラルキル基が好ま
しく、水素原子、炭素原子数8以下のアルキル基がより
好ましく、メチル基が特に好ましい。
R 5 to R 10 in the general formula (2) each independently represent a monovalent substituent. As the monovalent substituent, a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom and an aralkyl group are preferable, a hydrogen atom and an alkyl group having 8 or less carbon atoms are more preferable, and a methyl group is particularly preferable.

【0064】色素記録層204を形成するための塗布剤
の溶剤の例としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテー
トなどのエステル;メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン;ジクロル
メタン、1,2−ジクロルエタン、クロロホルムなどの
塩素化炭化水素;ジメチルホルムアミドなどのアミド;
シクロヘキサンなどの炭化水素;テトラヒドロフラン、
エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル;エタノー
ル、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノ
ール、ジアセトンアルコールなどのアルコール;2,
2,3,3−テトラフロロ−1−プロパノールなどのフ
ッ素系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル
類などを挙げることができる。
Examples of the solvent of the coating agent for forming the dye recording layer 204 include esters such as butyl acetate and cellosolve acetate; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone and methyl isobutyl ketone; dichloromethane, 1,2-dichloroethane, chloroform. Chlorinated hydrocarbons such as amides; amides such as dimethylformamide;
Hydrocarbons such as cyclohexane; tetrahydrofuran,
Ethers such as ethyl ether and dioxane; alcohols such as ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol and diacetone alcohol;
Fluorinated solvents such as 2,3,3-tetrafluoro-1-propanol; ethylene glycol monomethyl ether;
Examples thereof include glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether and propylene glycol monomethyl ether.

【0065】前記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮し
て単独または二種以上を適宜併用することができる。好
ましくは、2,2,3,3−テトラフロロ−1−プロパ
ノールなどのフッ素系溶剤である。なお、塗布液中に
は、所望により退色防止剤や結合剤を添加してもよい
し、更に酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、そして潤滑
剤など各種の添加剤を、目的に応じて添加してもよい。
The above-mentioned solvents may be used alone or in combination of two or more kinds in consideration of the solubility of the dye used. Preferably, it is a fluorinated solvent such as 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol. In the coating solution, an anti-fading agent or a binder may be added as desired, or various additives such as an antioxidant, a UV absorber, a plasticizer, and a lubricant may be added according to the purpose. It may be added.

【0066】退色防止剤の代表的な例としては、ニトロ
ソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩
を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平
2−300288号、同3−224793号、及び同4
−146189号等の各公報に記載されている。
Representative examples of the anti-fading agent include nitroso compounds, metal complexes, diimmonium salts and aminium salts. These examples are described in, for example, JP-A-2-300288, JP-A-3-224793, and JP-A-4-224793.
No. 146189.

【0067】この実施の形態においては、下記一般式
(3)で示される退色防止剤が好ましい。
In this embodiment, an anti-fading agent represented by the following general formula (3) is preferred.

【0068】[0068]

【化3】 Embedded image

【0069】一般式(3)のR11、R12はそれぞれ独立
の水素原子又は1価の置換基を表す。
R 11 and R 12 in formula (3) each represent an independent hydrogen atom or a monovalent substituent.

【0070】R11及びR12で示される置換基は、ハロゲ
ン原子、又は炭素原子、酸素原子、窒素原子又は硫黄原
子が組み合わせてなる置換基であり、具体的には、アル
キル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、ヘ
テロ環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、メルカ
プト基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ
基、アミノ基、アルキルアミノ基、アミド基、スルホン
アミド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボ
ニルアミノ基、アルコキシスルホニルアミノ基、ウレイ
ド基、チオウレイド基、アシル基、アルコキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アルキ
ルスルフィニル基、スルファモイル基、カルボキシル基
(塩を含む)、スルホ基(塩を含む)を挙げることがで
きる。これらは、更に、これらの置換基で置換されてい
てもよい。
The substituents represented by R 11 and R 12 are a halogen atom or a substituent obtained by combining a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, and specifically include an alkyl group, an alkenyl group, Aralkyl, aryl, heterocyclic, halogen, cyano, nitro, mercapto, hydroxy, alkoxy, aryloxy, alkylthio, arylthio, acyloxy, amino, alkylamino, amide groups , Sulfonamide group, sulfamoylamino group, alkoxycarbonylamino group, alkoxysulfonylamino group, ureido group, thioureido group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, alkylsulfonyl group, alkylsulfinyl group, sulfamoyl group, carboxyl group (Including salt), sul There can be mentioned groups (including salts). These may be further substituted with these substituents.

【0071】R11、R12は、それぞれ独立に水素原子、
炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、
炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6のアルキル
チオ基、炭素数1〜6のアミド基、炭素数1〜6のスル
ホンアミド基、炭素数1〜6のウレイド基、炭素数1〜
6のアシル基、炭素数2〜6のアルコキシカルボニル
基、炭素数1〜6のカルバモイル基、炭素数1〜6のア
ルキルスルホニル基、炭素数1〜6のアルキルスルフィ
ニル基が好ましく、原子炭素数4以下のアルコキシ基が
より好ましく、メトキシ基、エトキシ基が特に好まし
い。
R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom,
An alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, a cyano group,
An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms, an amide group having 1 to 6 carbon atoms, a sulfonamide group having 1 to 6 carbon atoms, a ureido group having 1 to 6 carbon atoms,
Preferred are an acyl group having 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, a carbamoyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms, and an alkylsulfinyl group having 1 to 6 carbon atoms. The following alkoxy groups are more preferable, and methoxy groups and ethoxy groups are particularly preferable.

【0072】結合剤の例としては、ゼラチン、セルロー
ス誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機
高分子物質;およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・
ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリ
ル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹
脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポ
キシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・
ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物な
どの合成有機高分子を挙げることができる。
Examples of the binder include natural organic high molecular substances such as gelatin, cellulose derivatives, dextran, rosin, and rubber; and hydrocarbon resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, and polyisobutylene; polyvinyl chloride; Vinylidene, polyvinyl chloride
Vinyl resins such as polyvinyl acetate copolymer, acrylic resins such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, chlorinated polyethylene, epoxy resin, butyral resin, rubber derivatives, phenol
Synthetic organic polymers such as precondensates of thermosetting resins such as formaldehyde resins can be mentioned.

【0073】結合剤を使用する場合に、結合剤の使用量
は、色素100重量部に対して、一般に20重量部以下
であり、好ましくは10重量部以下、更に好ましくは5
重量部以下である。
When a binder is used, the amount of the binder used is generally 20 parts by weight or less, preferably 10 parts by weight or less, more preferably 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the dye.
Not more than parts by weight.

【0074】色素記録層204の厚みは、一般に20〜
500nmの範囲、好ましくは50〜300nmの範囲
に設けられる。
The thickness of the dye recording layer 204 is generally 20 to
It is provided in the range of 500 nm, preferably in the range of 50 to 300 nm.

【0075】なお、色素記録層202が設けられる側の
基板表面には、平面性の改善、接着力の向上及び色素記
録層204の変質防止などの目的で、下塗層が設けられ
てもよい。
Incidentally, an undercoat layer may be provided on the substrate surface on the side where the dye recording layer 202 is provided, for the purpose of improving flatness, improving adhesive strength, preventing deterioration of the dye recording layer 204, and the like. .

【0076】下塗層の材料としては例えば、ポリメチル
メタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、
スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコ
ール、N−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニ
ルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、
ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビ
ニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子
物質、およびシランカップリング剤などの表面改質剤を
挙げることができる。
Examples of the material for the undercoat layer include polymethyl methacrylate, acrylic acid / methacrylic acid copolymer,
Styrene / maleic anhydride copolymer, polyvinyl alcohol, N-methylol acrylamide, styrene / vinyl toluene copolymer, chlorosulfonated polyethylene,
Nitrocellulose, polyvinyl chloride, chlorinated polyolefin, polyester, polyimide, vinyl acetate-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyethylene, polypropylene, polycarbonate and other high-molecular substances, and silane coupling agents Surface modifiers can be mentioned.

【0077】下塗層は、前記物質を適当な溶剤に溶解ま
たは分散して塗布液を調整した後、この塗布液をスピン
コート、ディップコート、エクストルージョンコートな
どの塗布法を利用して基板表面に塗布することにより形
成することができる。下塗層の層厚は一般に0.005
〜20μmの範囲、好ましくは0.01〜10μmの範
囲に設けられる。
The undercoat layer is prepared by dissolving or dispersing the above substance in an appropriate solvent to prepare a coating solution, and then applying the coating solution to the substrate surface by using a coating method such as spin coating, dip coating, or extrusion coating. Can be formed. The thickness of the undercoat layer is generally 0.005.
It is provided in the range of 2020 μm, preferably in the range of 0.01 to 10 μm.

【0078】色素記録層204が形成された基板202
は、第3の搬送機構50を介して次の裏面洗浄機構54
に搬送され、基板202の一主面の反対側の面(裏面)
が洗浄される。その後、基板202は、第4の搬送機構
56を介して次の番号付与機構58に搬送され、基板2
02の一主面又は裏面に対してロット番号等の刻印が行
われる。
The substrate 202 on which the dye recording layer 204 is formed
Is transferred to the next back surface cleaning mechanism 54 via the third transport mechanism 50.
And the other side of the main surface of the substrate 202 (back side)
Is washed. Thereafter, the substrate 202 is transported to the next numbering mechanism 58 via the fourth transport mechanism 56, and the substrate 2
02 is engraved with a lot number or the like on one main surface or the back surface.

【0079】その後、基板202は、第5の搬送機構6
0を介して次の検査機構62に搬送され、基板202の
欠陥の有無や色素記録層204の膜厚の検査が行われ
る。この検査は、基板202の裏面から光を照射してそ
の光の透過状態を例えばCCDカメラで画像処理するこ
とによって行われる。この検査機構62での検査結果は
次の選別機構68に送られる。
Thereafter, the substrate 202 is moved to the fifth transport mechanism 6
Then, the substrate 202 is transported to the next inspection mechanism 62 through which the presence or absence of a defect in the substrate 202 and the thickness of the dye recording layer 204 are inspected. This inspection is performed by irradiating light from the back surface of the substrate 202 and performing image processing on the transmission state of the light using, for example, a CCD camera. The inspection result of the inspection mechanism 62 is sent to the next sorting mechanism 68.

【0080】上述の検査処理を終えた基板202は、そ
の検査結果に基づいて選別機構68によって正常品用の
スタックポール64か、NG用のスタックポール66に
搬送選別される。
The substrate 202 that has been subjected to the above-described inspection processing is transported and sorted by the sorting mechanism 68 into a stack pole 64 for normal products or a stack pole 66 for NG based on the inspection result.

【0081】正常品用のスタックポール64に所定枚数
の基板202が積載された段階で、正常品用のスタック
ポール64はこの塗布設備14から取り出されて、次の
後処理設備16に搬送され、該後処理設備16のスタッ
クポール収容部80に収容される。この搬送は、台車で
行ってもよいし、自走式の自動搬送装置で行うようにし
てもよい。
At the stage when a predetermined number of substrates 202 are loaded on the stack pole 64 for normal products, the stack pole 64 for normal products is taken out of the coating equipment 14 and transported to the next post-processing equipment 16. It is housed in the stack pole housing section 80 of the post-processing facility 16. This transfer may be performed by a trolley or by a self-propelled automatic transfer device.

【0082】正常品用のスタックポール64がスタック
ポール収容部80に収容された段階で、第6の搬送機構
82が動作し、スタックポール64から1枚ずつ基板2
02を取り出して、後段の第1の静電ブロー機構84に
搬送する。第1の静電ブロー機構84に搬送された基板
202は、該第1の静電ブロー機構84において静電気
が除去された後、第7の搬送機構86を介して次のスパ
ッタ機構88に搬送される。スパッタ機構88に投入さ
れた基板202は、図7Cに示すように、その一主面
中、周縁部分(エッジ部分)206を除く全面に光反射
層208がスパッタリングによって形成される。
At the stage when the stack poles 64 for normal products are accommodated in the stack pole accommodating section 80, the sixth transport mechanism 82 operates, and the substrates 2 are stacked one by one from the stack poles 64.
02 is taken out and transported to the first electrostatic blow mechanism 84 at the subsequent stage. After the static electricity is removed by the first electrostatic blow mechanism 84, the substrate 202 transported to the first electrostatic blow mechanism 84 is transported to the next sputtering mechanism 88 via the seventh transport mechanism 86. You. As shown in FIG. 7C, the light reflecting layer 208 is formed on the entire surface of one main surface of the substrate 202 excluding the peripheral portion (edge portion) 206 by sputtering.

【0083】光反射層208の材料である光反射性物質
はレーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例と
しては、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、N
b、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、
Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、A
u、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、T
e、Pb、Po、Sn、Biなどの金属及び半金属ある
いはステンレス鋼を挙げることができる。
The light-reflective substance, which is the material of the light-reflective layer 208, is a substance having a high reflectance with respect to laser light, such as Mg, Se, Y, Ti, Zr, Hf, V, and N.
b, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Co,
Ni, Ru, Rh, Pd, Ir, Pt, Cu, Ag, A
u, Zn, Cd, Al, Ga, In, Si, Ge, T
e, Pb, Po, Sn, Bi, and other metals and semi-metals or stainless steel.

【0084】これらのうちで好ましいものは、Cr、N
i、Pt、Cu、Ag、Au、Al及びステンレス鋼で
ある。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは
二種以上を組み合わせて用いてもよい。または合金とし
て用いてもよい。特に好ましくはAgもしくはその合金
である。
Among these, preferred are Cr, N
i, Pt, Cu, Ag, Au, Al and stainless steel. These substances may be used alone or in combination of two or more. Alternatively, it may be used as an alloy. Particularly preferred is Ag or an alloy thereof.

【0085】光反射層208は、例えば、前記光反射性
物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティン
グすることにより記録層の上に形成することができる。
反射層の層厚は、一般的には10〜800nmの範囲、
好ましくは20〜500nmの範囲、更に好ましくは5
0〜300nmの範囲に設けられる。
The light reflecting layer 208 can be formed on the recording layer by, for example, vapor deposition, sputtering or ion plating of the light reflecting substance.
The thickness of the reflective layer is generally in the range of 10 to 800 nm,
Preferably in the range of 20 to 500 nm, more preferably 5
It is provided in the range of 0 to 300 nm.

【0086】光反射層208が形成された基板202
は、第8の搬送機構90を介して次のエッジ洗浄機構9
2に搬送され、図8Aに示すように、基板202の一主
面中、エッジ部分206が洗浄されて、該エッジ部分2
06に形成されていた色素記録層204が除去される。
その後、基板202は、第9の搬送機構102を介して
次の第2の静電ブロー機構94に搬送され、静電気が除
去される。
The substrate 202 on which the light reflecting layer 208 is formed
Is transferred to the next edge cleaning mechanism 9 via the eighth transport mechanism 90.
8A, and as shown in FIG. 8A, the edge portion 206 in one main surface of the substrate 202 is cleaned, and
The dye recording layer 204 formed at 06 is removed.
Thereafter, the substrate 202 is transported to the next second electrostatic blow mechanism 94 via the ninth transport mechanism 102, and the static electricity is removed.

【0087】その後、基板202は、同じく前記第9の
搬送機構102を介してUV硬化液塗布機構96に搬送
され、基板202の一主面の一部分にUV硬化液が滴下
される。その後、基板202は、同じく前記第9の搬送
機構102を介して次のスピン機構98に搬送され、高
速に回転されることにより、基板202上に滴下された
UV硬化液の塗布厚が基板全面において均一にされる。
After that, the substrate 202 is transported to the UV curing liquid application mechanism 96 via the ninth transport mechanism 102 as well, and the UV curing liquid is dropped on a part of one main surface of the substrate 202. Thereafter, the substrate 202 is also transported to the next spin mechanism 98 via the ninth transport mechanism 102 and rotated at a high speed, so that the applied thickness of the UV curing liquid dropped on the substrate 202 is reduced over the entire surface of the substrate. Is made uniform.

【0088】この実施の形態においては、前記光反射層
の成膜後から前記UV硬化液の塗布までの時間が2秒以
上、5分以内となるように時間管理されている。
In this embodiment, time management is performed so that the time from the formation of the light reflection layer to the application of the UV curing liquid is 2 seconds or more and 5 minutes or less.

【0089】その後、基板202は、同じく前記第9の
搬送機構102を介して次のUV照射機構100に搬送
され、基板202上のUV硬化液に対して紫外線が照射
される。これによって、図8Bに示すように、基板20
2の一主面上に形成された色素記録層204と光反射層
208を覆うようにUV硬化樹脂による保護層210が
形成されて光ディスクDとして構成されることになる。
Thereafter, the substrate 202 is transported to the next UV irradiation mechanism 100 via the ninth transport mechanism 102, and the UV curing liquid on the substrate 202 is irradiated with ultraviolet rays. As a result, as shown in FIG.
An optical disk D is formed by forming a protective layer 210 of a UV curable resin so as to cover the dye recording layer 204 and the light reflecting layer 208 formed on one main surface of the optical disk D.

【0090】保護層210は、色素記録層204などを
物理的及び化学的に保護する目的で光反射層208上に
設けられる。保護層210は、基板202の色素記録層
204が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高め
る目的で設けることもできる。保護層210で使用され
る材料としては、例えば、SiO、SiO2 、Mg
2 、SnO2 、Si3 4 等の無機物質、及び熱可塑
性樹脂、熱硬化性樹脂、そしてUV硬化性樹脂等の有機
物質を挙げることができる。
The protective layer 210 includes the dye recording layer 204 and the like.
On the light reflection layer 208 for physical and chemical protection
Provided. The protective layer 210 is a dye recording layer of the substrate 202
Increases scratch resistance and moisture resistance even on the side where 204 is not provided
It can also be provided for the purpose. Used in the protective layer 210
As the material, for example, SiO, SiOTwo, Mg
F Two, SnOTwo, SiThreeNFourAnd other inorganic substances, and thermoplastics
Organic such as thermosetting resin, thermosetting resin, and UV curable resin
Substances can be mentioned.

【0091】保護層210は、例えば、プラスチックの
押出加工で得られたフイルムを接着剤を介して光反射層
208上及び/または基板202上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調整したのち、この塗
布液を塗布し、乾燥することによっても形成することが
できる。
The protective layer 210 can be formed, for example, by laminating a film obtained by extrusion of plastic onto the light reflecting layer 208 and / or the substrate 202 via an adhesive. Alternatively, it may be provided by a method such as vacuum deposition, sputtering, or coating.
In the case of a thermoplastic resin or a thermosetting resin, they can also be formed by dissolving these in an appropriate solvent to prepare a coating solution, applying the coating solution, and drying.

【0092】UV硬化性樹脂の場合には、上述したよう
に、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調
整したのちこの塗布液を塗布し、UV光を照射して硬化
させることによって形成することができる。これらの塗
布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤
等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層
210の層厚は一般には0.1〜100μmの範囲で設
けられる。
In the case of a UV-curable resin, as described above, a coating solution is prepared as it is or dissolved in an appropriate solvent, and then the coating solution is applied, and the coating solution is irradiated with UV light to be cured. can do. Various additives such as an antistatic agent, an antioxidant, and a UV absorber may be added to these coating solutions according to the purpose. The thickness of the protective layer 210 is generally provided in the range of 0.1 to 100 μm.

【0093】その後、光ディスクDは、第10の搬送機
構104を介して次の欠陥検査機構106と特性検査機
構108に搬送され、色素記録層204の面と保護層2
10の面における欠陥の有無や光ディスクDの基板20
2に形成されたグルーブ200による信号特性が検査さ
れる。これらの検査は、光ディスクDの両面に対してそ
れぞれ光を照射してその反射光を例えばCCDカメラで
画像処理することによって行われる。これらの欠陥検査
機構106及び特性検査機構108での各検査結果は次
の選別機構114に送られる。
Thereafter, the optical disk D is transported to the next defect inspection mechanism 106 and characteristic inspection mechanism 108 via the tenth transport mechanism 104, where the surface of the dye recording layer 204 and the protective layer 2
10, the presence or absence of a defect on the surface of the optical disc D
The signal characteristics of the groove 200 formed in the second groove 2 are inspected. These inspections are performed by irradiating light to both sides of the optical disc D and subjecting the reflected light to image processing by, for example, a CCD camera. The inspection results of the defect inspection mechanism 106 and the characteristic inspection mechanism 108 are sent to the next selection mechanism 114.

【0094】上述の欠陥検査処理及び特性検査処理を終
えた光ディスクDは、各検査結果に基づいて選別機構1
14によって正常品用のスタックポール110か、NG
用のスタックポール112に搬送選別される。
The optical disc D, which has been subjected to the above-described defect inspection processing and characteristic inspection processing, has a sorting mechanism 1 based on each inspection result.
Depending on 14, stack pole 110 for normal product or NG
Is sorted by the stack pole 112 for use.

【0095】正常品用のスタックポール110に所定枚
数の光ディスクDが積載された段階で、該スタックポー
ル110が後処理設備16から取り出されて図示しない
ラベル印刷工程に投入される。
When a predetermined number of optical discs D are loaded on the stack pole 110 for normal products, the stack pole 110 is taken out of the post-processing equipment 16 and put into a label printing step (not shown).

【0096】また、本実施の形態に係る製造システム1
0は、図1に示すように、塗布設備14の第2の処理部
32と並行して空調システム300が設置されると共
に、図9及び図10に示すように、第1の処理部30と
第3の処理部34の各天井にそれぞれ高性能充填層フィ
ルタ(HEPAフィルタ)700及び702を介して空
調機704及び706が設置されている。
Further, the manufacturing system 1 according to the present embodiment
0, the air conditioning system 300 is installed in parallel with the second processing unit 32 of the coating equipment 14 as shown in FIG. 1, and the first processing unit 30 Air conditioners 704 and 706 are installed on each ceiling of the third processing unit 34 via high-performance packed bed filters (HEPA filters) 700 and 702, respectively.

【0097】空調機704及び706は、第1及び第3
の処理部30及び34に対してそれぞれ清浄な空気を送
り込むことにより、第1及び第3の処理部30及び34
内の温度をコントロールできるようになっている。
The air conditioners 704 and 706 include the first and third air conditioners.
By sending clean air to the first and third processing units 30 and 34, respectively.
The temperature inside can be controlled.

【0098】塗布設備14と並行して設けられる空調シ
ステム300は、図9及び図14に示すように、前記塗
布設備14に対して清浄な空気caを送り込む空気調和
機302と、外気eaを取り入れて除湿を行い、一次空
気a1として出力する除湿機304と、塗布設備14か
らの一部の排気(局所排気)daを上位の排気系統に送
る排気装置306(図12参照)とを有して構成されて
いる。前記局所排気daとしては、例えば塗布設備14
の色素塗布機構48における6つのスピンコート装置5
2からの排気が挙げられる。
As shown in FIGS. 9 and 14, an air conditioning system 300 provided in parallel with the coating equipment 14 takes in an air conditioner 302 for sending clean air ca to the coating equipment 14 and an outside air ea. And a dehumidifier 304 for performing dehumidification and outputting as primary air a1, and an exhaust device 306 (see FIG. 12) for sending some exhaust (local exhaust) da from the coating equipment 14 to an upper exhaust system. It is configured. As the local exhaust da, for example, the coating equipment 14
Spin coaters 5 in the dye coating mechanism 48
2 exhaust.

【0099】一方、前記空調システム300は、図9及
び図10に示すように、除湿機304と空気調和機30
2との間に、除湿機304から出力される一次空気a1
を空気調和機302に送出するためのダクト310が設
けられ、図12に示すように、塗布設備14の色素塗布
機構48における前記6つのスピンコート装置52の各
排気側と排気装置306との間に上述した排気管426
が設けられている。
On the other hand, as shown in FIGS. 9 and 10, the air conditioning system 300 comprises a dehumidifier 304 and an air conditioner 30.
2 and the primary air a1 output from the dehumidifier 304
A duct 310 for sending the air to the air conditioner 302 is provided. As shown in FIG. 12, between each exhaust side of the six spin coaters 52 and the exhaust device 306 in the dye coating mechanism 48 of the coating equipment 14. The exhaust pipe 426 described above
Is provided.

【0100】空気調和機302と塗布設備14との間に
は、空気調和機302から出力される清浄な空気caを
塗布設備14に給気させるための複数本(図示の例では
4本)の給気ダクト320a〜320dと、塗布設備1
4における前記局所排気da以外の排気raを空気調和
機302に帰還させるための複数本(図示の例では8
本)のリターンダクト322が設置されている。
A plurality (four in the illustrated example) between the air conditioner 302 and the coating equipment 14 for supplying the clean air ca output from the air conditioner 302 to the coating equipment 14. Air supply ducts 320a to 320d and coating equipment 1
4 to return the exhaust ra other than the local exhaust da to the air conditioner 302 (8 in the illustrated example).
Book return duct 322 is installed.

【0101】また、空気調和機302には、外気eaを
取り入れるための導入口710が設置され、該導入口7
10にはプレフィルタ712が取り付けられている。通
常の空調制御(低湿制御でない場合)においては、この
導入口710から取り入れられた空気が一次空気として
空気調和機302に供給されるようになっている。
[0101] The air conditioner 302 is provided with an inlet 710 for taking in the outside air ea.
A pre-filter 712 is attached to 10. In normal air-conditioning control (when the low-humidity control is not performed), the air taken in from the inlet 710 is supplied to the air conditioner 302 as primary air.

【0102】前記除湿機304は、低湿制御のときに使
用され、図9及び図10に示すように、外気eaを取り
入れるための導入口324が設置され、該導入口324
にはプレフィルタ326が取り付けられている。従っ
て、導入口324を通じて導入された外気eaは、前記
プレフィルタ326によってほこりや塵芥等が除去され
て、除湿機304の内部に取り入れられ、該除湿機30
4内において除湿処理が行われる。除湿された外気は一
次空気として後段の空気調和機302に供給される。
The dehumidifier 304 is used for low humidity control. As shown in FIGS. 9 and 10, an inlet 324 for taking in the outside air ea is provided.
Is equipped with a pre-filter 326. Accordingly, the outside air ea introduced through the introduction port 324 is removed by the pre-filter 326 to remove dust, dust and the like, and is taken into the dehumidifier 304.
In 4, the dehumidifying process is performed. The dehumidified outside air is supplied to the downstream air conditioner 302 as primary air.

【0103】空気調和機302は、図14に示すよう
に、除湿機304あるいは導入口710からの一次空気
a1と塗布設備14からの排気(局所排気以外の排気)
raを混合して混合空気haとして出力する混合機33
0と、該混合機330から出力される混合空気haに対
して加湿処理を行って二次空気a2として出力する2つ
の加湿機332a及び332bと、これら2つの加湿機
332a及び332bからの二次空気a2を塗布設備1
4に給気する4つの送風機334a〜334dとを有し
て構成されている。
As shown in FIG. 14, the air conditioner 302 includes primary air a1 from the dehumidifier 304 or the inlet 710 and exhaust air from the coating equipment 14 (exhaust other than local exhaust).
mixer 33 that mixes ra and outputs as mixed air ha
0, two humidifiers 332a and 332b that perform humidification processing on the mixed air ha output from the mixer 330 and output them as secondary air a2, and secondary from the two humidifiers 332a and 332b. Air a2 application equipment 1
It has four blowers 334a to 334d that supply air to four.

【0104】加湿機332a及び332bは、その内部
に、前記一次空気a1に対して水蒸気化した水分を加え
るための加熱板336を有する。この加熱板336には
純水が張られている。この場合の純水としては、比抵抗
が0.15MΩ(室温)以上の純水が適当であり、好ま
しくは比抵抗が1.5MΩ(室温)以上、より好ましく
は比抵抗が15MΩ(室温)以上の純水を使用するとよ
い。この実施の形態では、比抵抗が2MΩ(室温)の純
水を使用した。
The humidifiers 332a and 332b have a heating plate 336 therein for adding water vaporized to the primary air a1. Pure water is stretched over the heating plate 336. As the pure water in this case, pure water having a specific resistance of 0.15 MΩ (room temperature) or more is suitable, preferably a specific resistance of 1.5 MΩ (room temperature) or more, and more preferably a specific resistance of 15 MΩ (room temperature) or more. It is recommended to use pure water. In this embodiment, pure water having a specific resistance of 2 MΩ (room temperature) is used.

【0105】前記純水を得る方法としては、例えば蒸留
やイオン交換樹脂を用いる方法などがあるが、不純物の
除去効率の点などからみてイオン交換樹脂を用いる方法
が好ましい。
As a method for obtaining the pure water, for example, there is a method using distillation or an ion exchange resin, and a method using an ion exchange resin is preferable from the viewpoint of the efficiency of removing impurities.

【0106】一方、図9及び図10に示すように、塗布
設備14への給気経路のうち、塗布設備14の上部には
4つの高性能充填層フィルタ(HEPAフィルタ)34
0a〜340dが設置されている。また、4つの送風機
334a〜334dからそれぞれ対応する4本の給気ダ
クト320a〜320dの間には、それぞれ指向板34
2a〜342dが設置されている。これらの指向板34
2a〜342dのうち、図9中、最も右側に位置する第
1の送風機334aに対応する第1の指向板342a
は、第2の給気ダクト320bを通じて第2の処理部3
2(図1参照)に給気される送風量が第1の処理部30
への送風量よりも多くなるように斜め向きに設置され、
図9中、最も左側に位置する第4の送風機334dに対
応する第4の指向板342dは、第3の給気ダクト32
0cを通じて第2の処理部32に給気される送風量が第
3の処理部34への送風量よりも多くなるように斜め向
きに設置されている。
On the other hand, as shown in FIGS. 9 and 10, four high-performance packed bed filters (HEPA filters) 34 are provided above the coating equipment 14 in the air supply path to the coating equipment 14.
0a to 340d are provided. In addition, between the four blowers 334a to 334d and the corresponding four supply ducts 320a to 320d,
2a to 342d are provided. These directional plates 34
Among the 2a to 342d, the first directing plate 342a corresponding to the first blower 334a located on the rightmost side in FIG.
Is connected to the second processing unit 3 through the second air supply duct 320b.
2 (see FIG. 1) is supplied to the first processing unit 30
It is installed diagonally so that it is larger than the air flow to
In FIG. 9, the fourth directing plate 342d corresponding to the fourth blower 334d located on the leftmost side is the third air supply duct 32.
The second processing unit 32 is installed obliquely so that the amount of air supplied to the second processing unit 32 through 0c is greater than the amount of air supplied to the third processing unit 34.

【0107】また、第2の送風機334bに対応する第
2の指向板342bは、第3の給気ダクト320cを通
じて第2の処理部32に給気される送風量が第2の給気
ダクト320bを通じて第2の処理部32に吸気される
送風量よりも多くなるように斜め向きに設置され、第3
の送風機334cに対応する第3の指向板342cは、
第2の給気ダクト320bを通じて第2の処理部32に
給気される送風量が第3の給気ダクト320cを通じて
第2の処理部32に吸気される送風量よりも多くなるよ
うに斜め向きに設置されている。
The second directional plate 342b corresponding to the second blower 334b is provided with a second air supply duct 320c that controls the amount of air to be supplied to the second processing unit 32 through the third air supply duct 320c. Is installed obliquely so as to be larger than the amount of air blown into the second processing unit 32 through the third processing unit 32.
The third directional plate 342c corresponding to the blower 334c of
The air flow amount supplied to the second processing unit 32 through the second air supply duct 320b is obliquely oriented so as to be larger than the air flow amount sucked into the second processing unit 32 through the third air supply duct 320c. It is installed in.

【0108】即ち、第2及び第3の給気ダクト320b
及び320cを通じて第2の処理部32に給気される送
風量が、第1の給気ダクト320aを通じて第1の処理
部30に給気される送風量並びに第4の給気ダクト32
0dを通じて第3の処理部34に給気される送風量より
も多くなるように、前記第1〜第4の指向板342a〜
342dの向きが設定されている。
That is, the second and third air supply ducts 320b
And the amount of air supplied to the second processing unit 32 through the first air supply duct 320a and the amount of air supplied to the first processing unit 30 through the first air supply duct 320a.
0d, the first to fourth directional plates 342a to 342a to 342a to be larger than the amount of air supplied to the third processing unit 34.
The direction of 342d is set.

【0109】塗布設備14の上部において、4本の給気
ダクト320a〜320dとそれぞれ対応するHEPA
フィルタ340a〜340dとの間にも、それぞれ指向
板344a〜344dが設置されている。これらの指向
板344a〜344dのうち、図9中、最も右側に位置
する第1のHEPAフィルタ340aに対応する第1の
指向板344aは、第1の給気ダクト320aを通じて
給気される清浄な空気caが第2の処理部32側に指向
されるように斜めに設置され、図9中、最も左側に位置
する第4のHEPAフィルタ340dに対応する第4の
指向板344dは、第4の給気ダクト320dを通じて
給気される清浄な空気caが第2の処理部32側に指向
されるように斜めに設置されている。
In the upper part of the coating facility 14, the four air supply ducts 320a to 320d and the corresponding HEPA
Directional plates 344a to 344d are provided between the filters 340a to 340d, respectively. Of these directional plates 344a to 344d, the first directional plate 344a corresponding to the first HEPA filter 340a located on the rightmost side in FIG. 9 is clean and supplied through the first air supply duct 320a. The fourth directional plate 344d corresponding to the fourth HEPA filter 340d located on the leftmost side in FIG. 9 is provided with a fourth direction plate 344d, which is obliquely installed so that the air ca is directed to the second processing unit 32 side. The clean air ca supplied through the air supply duct 320d is installed obliquely so as to be directed to the second processing unit 32 side.

【0110】また、第2のHEPAフィルタ340bに
対応する第2の指向板344bは、第2の給気ダクト3
20bを通じて給気される清浄な空気caが第2の処理
部32にすべて給気されるのを抑える方向に斜め向きに
設置され、第3のHEPAフィルタ340cに対応する
第3の指向板344cは、第3の給気ダクト320cを
通じて給気される清浄な空気caが第2の処理部32に
すべて給気されるのを抑える方向に斜め向きに設置され
ている。
The second directing plate 344b corresponding to the second HEPA filter 340b is connected to the second air supply duct 3
The third directing plate 344c corresponding to the third HEPA filter 340c is installed obliquely in a direction that suppresses all clean air ca supplied through the second processing unit 32 from being supplied to the second processing unit 32. The second processing unit 32 is provided obliquely in such a direction as to suppress all the clean air ca supplied through the third supply duct 320c from being supplied to the second processing unit 32.

【0111】これら空気調和機302側の4つの指向板
342a〜342dの向きと塗布設備14側の4つの指
向板344a〜344dの向きによって、塗布設備14
の中央に配される第2の処理部32に給気される送風量
がその周辺部に配される第1及び第3の処理部30及び
34に給気される送風量よりも多くなり、これにより、
第2の処理部32における雰囲気中の圧力が、第1及び
第3の処理部30及び34における各雰囲気中の圧力よ
りも高くなる。
The orientation of the four orientation plates 342a to 342d on the air conditioner 302 side and the orientation of the four orientation plates 344a to 344d on the application facility 14 side depend on the orientation of the coating facility 14.
The amount of air supplied to the second processing unit 32 disposed in the center of the first and third processing units 30 and 34 disposed in the periphery thereof is larger than the amount of air supplied to This allows
The pressure in the atmosphere in the second processing unit 32 is higher than the pressure in each atmosphere in the first and third processing units 30 and 34.

【0112】つまり、送風経路に上述のような複数の指
向板を設けることにより、空気調和機302で加湿され
た空気中の水分を均等にミキシングし、第2の処理部3
2における各スピンコート装置52での湿度のばらつき
を軽減させることができ、しかも、各スピンコート装置
52における下向きの風速に関し、各スピンコート装置
52間での風速差をなくすことができる。
That is, by providing a plurality of directional plates as described above in the blowing path, the moisture in the air humidified by the air conditioner 302 is evenly mixed, and the second processing unit 3
2, the variation in humidity between the spin coaters 52 can be reduced, and the difference in wind speed between the spin coaters 52 with respect to the downward wind speed in each spin coater 52 can be eliminated.

【0113】また、図1に示すように、第1及び第2の
処理部30及び32間に第1の仕切板70を設け、第2
及び第3の処理部32及び34間に第2の仕切板72を
設けるようにしているため、第1の処理部30から第2
の処理部32への空気の回り込み並びに第3の処理部3
4から第2の処理部32への空気の回り込みがなくな
り、第2の処理部32における雰囲気中の圧力が、第1
及び第3の処理部30及び34における各雰囲気中の圧
力よりも高い状態に維持されることになる。
As shown in FIG. 1, a first partition plate 70 is provided between the first and second processing units 30 and 32,
Since the second partition plate 72 is provided between the first processing unit 30 and the third processing unit 32 and the third processing unit 32,
Of air to the processing unit 32 and the third processing unit 3
4 is no longer circulated to the second processing unit 32, and the pressure in the atmosphere in the second processing unit 32 is reduced to the first pressure.
In addition, the pressure is maintained higher than the pressure in each atmosphere in the third processing units 30 and 34.

【0114】即ち、空気調和機302側の4つの指向板
342a〜342dと塗布設備14側の4つの指向板3
44a〜344d、並びに前記第1及び第2の仕切板7
0及び72は、第2の処理部32における雰囲気中の圧
力を第1及び第3の処理部30及び34における各雰囲
気中の圧力よりも高い状態にするための送風量制御手段
として機能することになる。
That is, the four directional plates 342a to 342d on the air conditioner 302 side and the four directional plates 3 on the coating facility 14 side
44a to 344d, and the first and second partition plates 7
0 and 72 function as air volume control means for setting the pressure in the atmosphere in the second processing unit 32 higher than the pressure in each atmosphere in the first and third processing units 30 and 34. become.

【0115】次に、排気装置306は、図12及び図1
3に示すように、外筐がほぼ直方体状に形成され、内部
が気密化されたバッファボックス500を有する。この
バッファボックス500内には、塗布設備14における
6つのスピンコート装置52に対応して6つの排気ブロ
ア502が設けられている。
Next, the exhaust device 306 is shown in FIGS.
As shown in FIG. 3, there is provided a buffer box 500 in which the outer casing is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape and the inside is airtight. In the buffer box 500, six exhaust blowers 502 are provided corresponding to the six spin coaters 52 in the coating equipment.

【0116】また、6つのスピンコート装置52と対応
する排気ブロア502との間には、例えばバタフライ弁
504とシャッタ506で構成された排気量調節弁機構
508と、排気量を電気的に検出するための排気量セン
サ510が設置され、排気量の調整によって塗膜の乾燥
条件を適宜変更できるようになっている。
Further, between the six spin coaters 52 and the corresponding exhaust blowers 502, for example, an exhaust amount adjusting valve mechanism 508 composed of a butterfly valve 504 and a shutter 506, and the exhaust amount is electrically detected. Sensor 510 is provided for adjusting the amount of exhaust gas so that the drying conditions of the coating film can be appropriately changed.

【0117】前記バッファボックス500の後段には上
位の排気系統520が接続されている。この上位の排気
系統520は、図12に示すように、この塗布設備14
の排気のほか、成形設備や後処理設備、その他の各種製
造設備の排気が屋外に設置された屋外ブロア522を通
じて行われるようになっている。
The upper exhaust system 520 is connected to the subsequent stage of the buffer box 500. As shown in FIG. 12, the upper exhaust system 520
In addition to the exhaust of the above, the exhaust of molding equipment, post-processing equipment, and other various manufacturing equipment is performed through an outdoor blower 522 installed outdoors.

【0118】上位の排気系統520における多数の排気
管のうち、塗布設備用に割り当てられた6本の排気管5
24は、それぞれバッファボックス500に接続されて
いる。そして、この実施の形態では、図13に示すよう
に、上位の排気系統520から塗布設備14に延びる6
本の排気管524と排気ブロア502から導出された6
本の排気管426は、バッファボックス500内におい
てそれぞれ分離されている。なお、上位の排気系統52
0から塗布設備14に延びる6本の排気管524にはそ
れぞれバタフライ弁526が設置され、上位の排気系統
520への排気量を調整できるようになっており、ま
た、屋外ブロア522の前段と後段にはそれぞれバタフ
ライ弁528及び530が設置されて、屋外への排気量
を調整できるようになっている。
Of the many exhaust pipes in the upper exhaust system 520, six exhaust pipes 5 assigned to the coating equipment are used.
24 are connected to the buffer box 500, respectively. In this embodiment, as shown in FIG. 13, 6 extending from the upper exhaust system 520 to the coating equipment 14.
6 derived from the exhaust pipe 524 and the exhaust blower 502
The exhaust pipes 426 are separated from each other in the buffer box 500. The upper exhaust system 52
Each of the six exhaust pipes 524 extending from 0 to the coating equipment 14 is provided with a butterfly valve 526 so that the amount of exhaust to the upper exhaust system 520 can be adjusted. Are provided with butterfly valves 528 and 530, respectively, so that the amount of exhaust air to the outside can be adjusted.

【0119】そして、本実施の形態に係る製造システム
10においては、塗布設備14や後処理設備16とは別
に色素廃液の回収処理を行うための再処理室600を有
する。この再処理室600には、回収された色素廃液を
収容した回収容器450が定期的にあるいは必要なとき
に搬入されるようになっている。
The manufacturing system 10 according to the present embodiment has a reprocessing chamber 600 for performing a dye waste liquid recovery process separately from the coating facility 14 and the post-processing facility 16. A collection container 450 containing the collected dye waste liquid is carried into the reprocessing chamber 600 periodically or when necessary.

【0120】また、この再処理室600には、定期的に
あるいは必要なときに、例えばメンテナンスを目的とし
てスピンコート装置52のスピナーヘッド装置402や
飛散防止壁404が搬入され、該再処理室600内に設
置されている洗浄槽602(図15参照)を使用して洗
浄が行われるようになっている。
Further, the spinner head device 402 and the scattering prevention wall 404 of the spin coater 52 are carried into the reprocessing chamber 600 regularly or when necessary, for example, for maintenance. Cleaning is performed using a cleaning tank 602 (see FIG. 15) installed therein.

【0121】具体的には、図15に示すように、洗浄槽
602内に入っている洗浄液にスピナーヘッド装置40
2や飛散防止壁404を漬け込んで洗浄処理が行われる
(漬け込み洗い)。この洗浄処理によって、スピナーヘ
ッド装置402や飛散防止壁404に付着していた色素
が洗い流され、洗浄液中に拡散する。
More specifically, as shown in FIG. 15, the spinner head device 40 is applied to the cleaning liquid contained in the cleaning tank 602.
2 and the scattering prevention wall 404 are immersed in the washing process (immersion washing). By this cleaning process, the dye adhering to the spinner head device 402 and the scattering prevention wall 404 is washed away and diffused into the cleaning liquid.

【0122】この洗浄処理を繰り返すことによって、洗
浄液中の色素の濃度が徐々に高くなり、色素廃液604
として洗浄槽602内に溜まることになる。
By repeating this washing treatment, the concentration of the dye in the washing liquid gradually increases, and the dye waste liquid 604
And accumulates in the cleaning tank 602.

【0123】そして、本実施の形態においては、洗浄槽
602内の色素廃液604の濃度が、回収容器450内
の色素廃液452の濃度以上になった段階で、洗浄槽6
02内の色素廃液604と回収容器450内の色素廃液
452を混合して混合色素廃液606とする。この場
合、新たな容器608を使用して混合するようにしても
よく、洗浄槽602内に回収容器450内の色素廃液4
52を入れて混合するようにしてもよい。
In this embodiment, when the concentration of the dye waste liquid 604 in the cleaning tank 602 becomes equal to or higher than the concentration of the dye waste liquid 452 in the collection container 450, the cleaning tank 6
The dye waste liquid 604 in the collection container 450 is mixed with the dye waste liquid 604 in the collection container 450 to obtain a mixed dye waste liquid 606. In this case, mixing may be performed using a new container 608, and the dye waste liquid 4 in the collection container 450 may be stored in the cleaning tank 602.
52 may be added and mixed.

【0124】本実施の形態に係る製造システム10にお
いては、基板202上に形成された色素溶液の塗膜のう
ち、基板202の裏面に付着した塗膜を除去する裏面洗
浄機構54と、基板202上に形成された色素溶液の塗
膜のうち、基板202の外周縁部に対応する部分を除去
するエッジ洗浄機構92とを有しているが、これらの機
構54及び92から排出される廃液については回収を行
うものの、前記色素廃液452及び604と分離するよ
うにしている。即ち、前記色素廃液452及び604と
混合しないようにしている。
In the manufacturing system 10 according to the present embodiment, of the dye solution coating film formed on the substrate 202, the back surface cleaning mechanism 54 for removing the coating film adhered to the back surface of the substrate 202; It has an edge cleaning mechanism 92 for removing a portion corresponding to the outer peripheral edge of the substrate 202 in the dye solution coating film formed thereon. The waste liquid discharged from these mechanisms 54 and 92 Recovers, but separates from the dye waste liquids 452 and 604. That is, they are not mixed with the dye waste liquids 452 and 604.

【0125】前記混合色素廃液606は、その後、混合
色素廃液606中の色素及び退色防止剤の含有量を定量
する定量工程610と、混合色素廃液606中の色素及
び退色防止剤の濃度を、色素溶液中の色素及び退色防止
剤の濃度と2桁以上の精度で一致するように調整する濃
度調整工程612を経て再生色素溶液614として再利
用される。
The mixed dye waste liquid 606 is then subjected to a quantification step 610 for determining the contents of the dye and the anti-fading agent in the mixed dye waste liquid 606, and the concentration of the dye and the anti-fading agent in the mixed dye waste liquid 606 is determined. The dye and the anti-fading agent in the solution are reused as a regenerated dye solution 614 through a concentration adjusting step 612 in which the concentrations are adjusted so as to be more than two digits in accuracy.

【0126】定量工程610では、いかなる定量方法を
用いて行ってもよいが、測定時の色素及び退色防止剤の
安定性等を考慮すると、液体クロマトグラフィにより定
量するのが好ましい。
The quantification step 610 may be performed by any quantification method, but is preferably quantified by liquid chromatography in consideration of the stability of the dye and anti-fading agent at the time of measurement.

【0127】次に述べる色素等の濃度調整工程612に
おいて、色素及び退色防止剤の濃度を有効数字2桁の精
度で厳密に調整するためには、有効数字3桁以上の精度
で定量を行うことが好ましい。
In the dye concentration adjusting step 612 described below, in order to strictly adjust the concentrations of the dye and the anti-fading agent with the precision of two significant figures, it is necessary to perform the quantification with the precision of three or more significant figures. Is preferred.

【0128】このような高精度の定量を実現するため
に、まず、分離条件としては、分光吸収スペクトルにお
いて、色素及び退色防止剤の各ピークが他のピークと重
ならず、それぞれ単独のピークであることが必要であ
る。例えば色素として下記構造式(A)で示されるイン
ドレニン系色素(化合物A)を用い、退色防止剤として
下記構造式(B)で示される退色防止剤(化合物B)を
用いた場合の液体クロマトグラフィの3次元チャート
(各測定波長での注入後の経過時間に対する相対検出強
度を表す)を図16に示す。
In order to realize such high-precision quantification, first, as a separation condition, in the spectral absorption spectrum, each peak of the dye and the anti-fading agent does not overlap with other peaks, and each peak is a single peak. It is necessary to be. For example, liquid chromatography using an indolenine-based dye (compound A) represented by the following structural formula (A) as a dye and an anti-fading agent (compound B) represented by the following structural formula (B) as an anti-fading agent FIG. 16 shows the three-dimensional chart (representing the relative detection intensity with respect to the elapsed time after injection at each measurement wavelength).

【0129】[0129]

【化4】 Embedded image

【0130】[0130]

【化5】 Embedded image

【0131】この場合の分離条件は、 カラム:TSK−gel ODS−80Ts カラム温度:25℃ 溶離液:アセトニトリル/水/酢酸/トリエチルアミン
=750/250/2/2 流量:1mリットル/分 圧力:59bar 検出波長:254nm 試料注入量:20μm である。
The separation conditions in this case are as follows: Column: TSK-gel ODS-80Ts Column temperature: 25 ° C. Eluent: acetonitrile / water / acetic acid / triethylamine = 750/250/2/2 Flow rate: 1 ml / min Pressure: 59 bar Detection wavelength: 254 nm Sample injection amount: 20 μm.

【0132】図16からわかるように、この条件では色
素及び退色防止剤の各ピークが他のピークと重なること
なく分離されている。
As can be seen from FIG. 16, under these conditions, the peaks of the dye and the anti-fading agent are separated without overlapping other peaks.

【0133】次に、検出波長は、各化合物の検出精度が
有効数字3桁以上で担保されるように選択することが好
ましい。各化合物の定量は、検出波長で検量線を作成
し、これを基準にして検出強度から含有濃度を算出する
のが通常である。
Next, the detection wavelength is preferably selected so that the detection accuracy of each compound is ensured by three or more significant figures. For quantification of each compound, it is usual that a calibration curve is prepared at the detection wavelength, and the content is calculated from the detection intensity based on the calibration curve.

【0134】従って、各化合物の検出精度を上げるため
には、検出波長での検量線の相関係数が大きいことが好
ましい。逆に言えば、このような高い相関性を示す検出
波長を選択しなければならない。
Therefore, in order to improve the detection accuracy of each compound, it is preferable that the calibration curve at the detection wavelength has a large correlation coefficient. Conversely, a detection wavelength exhibiting such a high correlation must be selected.

【0135】一般に、色素の検出強度は大きく、検出精
度に問題はない。そのため、退色防止剤の検出強度があ
る程度大きくなるような検出波長を選択することが検出
精度の点で好ましい。例えば、上記の退色防止剤では図
17に示すように、検出波長が450nmのときに相関
係数が0.999と最大になるため、450nmを検出
波長として選択することが好ましい。
In general, the detection intensity of the dye is large, and there is no problem in the detection accuracy. Therefore, it is preferable in terms of detection accuracy to select a detection wavelength at which the detection intensity of the anti-fading agent is increased to some extent. For example, as shown in FIG. 17, when the detection wavelength is 450 nm, the correlation coefficient of the anti-fading agent is 0.999, which is a maximum at 0.999. Therefore, it is preferable to select 450 nm as the detection wavelength.

【0136】また、再現性よく定量を行うために、試料
の注入精度が2桁以上であることが好ましく、3桁以上
であることがより好ましい。
In order to perform quantification with good reproducibility, the injection accuracy of the sample is preferably 2 digits or more, more preferably 3 digits or more.

【0137】次に、濃度調整工程612は、前記定量工
程610で決定された混合色素廃液606中の色素及び
退色防止剤の含有量に基づいて、再生色素溶液614の
色素及び退色防止剤の含有量を調整する。
Next, in the concentration adjusting step 612, the content of the dye and the anti-fading agent in the regenerated dye solution 614 is determined based on the contents of the dye and the anti-fading agent in the mixed dye waste liquid 606 determined in the quantitative step 610. Adjust the volume.

【0138】調液処方の算出は、色素、退色防止剤及び
溶剤のいずれかの含有量を固定し、当初調整された色素
溶液中の色素の濃度及び退色防止剤の濃度にするため
に、不足している量を算出することにより行う。
The formulation of the preparation of the solution is not sufficient in order to fix the content of any of the dye, the anti-fading agent and the solvent and to obtain the initially adjusted concentrations of the dye and the anti-fading agent in the dye solution. The calculation is performed by calculating the amount of the movement.

【0139】そして、色素及び退色防止剤の濃度の調整
は、再生色素溶液614の色素及び退色防止剤の濃度
が、前記色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と2桁
以上の精度で一致するように、前記算出値に従い、不足
分の色素及び退色防止剤を補充し、溶剤で希釈すること
により行う。
The concentration of the dye and the anti-fading agent is adjusted by adjusting the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the regenerated dye solution 614 to the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the dye solution with a precision of two digits or more. In such a manner, in accordance with the above-mentioned calculated values, the dye and the anti-fading agent are replenished in a deficient amount and diluted with a solvent.

【0140】例えば、色素溶液中の色素の濃度及び退色
防止剤の濃度がそれぞれ2.575重量%、0.257
重量%であり、混合色素廃液606中の色素及び退色防
止剤の濃度がそれぞれ6.14重量%、0.256重量
%である場合においては、この混合色素廃液200gに
含まれる色素は12.284gであり、退色防止剤は
0.512gである。
For example, the concentration of the dye and the concentration of the anti-fading agent in the dye solution are 2.575% by weight and 0.257% by weight, respectively.
% By weight, and when the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the mixed dye waste liquid 606 are 6.14% by weight and 0.256% by weight, respectively, 12.284 g of dye is contained in 200 g of the mixed dye waste liquid. And the anti-fading agent is 0.512 g.

【0141】色素を追加せずに、他の成分(退色防止剤
及び溶剤)を追加して、各成分を色素溶液の濃度にする
ためには、退色防止剤0.714gと溶剤276.34
gとを正確に加える必要がある。色素及び退色防止剤以
外の成分を添加する際も、同様の精度で行うことが好ま
しい。
To add other components (anti-fading agent and solvent) without adding a dye and to make each component have a concentration of the dye solution, 0.714 g of the anti-fading agent and 276.34 of the solvent are used.
g must be added exactly. It is preferable to add the components other than the dye and the anti-fading agent with the same accuracy.

【0142】このように、本実施の形態に係る製造シス
テム10においては、洗浄工程で回収された色素廃液6
04と色素溶液の塗布処理にて排出された色素廃液45
2(回収工程で回収された色素廃液)とを混合して混合
色素廃液606とし、この混合色素廃液606を再生色
素溶液614として再利用するため、再生色素廃液61
4の回収率を大幅に増加させることができ、生産効率の
向上を図ることができる。
As described above, in the manufacturing system 10 according to the present embodiment, the dye waste liquid 6 collected in the cleaning step is used.
04 and the dye waste liquid 45 discharged in the coating process of the dye solution
2 (dye waste liquid collected in the recovery step) to obtain a mixed dye waste liquid 606, and to reuse the mixed dye waste liquid 606 as a recycled dye solution 614,
4 can be greatly increased, and the production efficiency can be improved.

【0143】特に、洗浄工程で回収された色素廃液60
4の色素濃度が前記回収工程で回収された色素廃液45
2の色素濃度以上となった段階で、これら色素廃液45
2及び604を混合するようにしているため、工程内へ
の不純物の混入を防ぐことができ、混合色素廃液606
を再生色素溶液614として再利用した際にも記録再生
特性の再現性を確保でき、製造コストの低廉化を効率よ
く実現させることができる。
In particular, the dye waste liquid 60 recovered in the washing step
The dye waste liquid 45 recovered in the above-mentioned recovery step has a dye concentration of 4
At the stage where the dye concentration becomes 2 or more, these dye waste liquids 45
2 and 604 are mixed, so that impurities can be prevented from entering the process, and the mixed dye waste liquid 606 can be prevented.
The reproducibility of the recording / reproducing characteristics can be ensured even when is reused as the reproducing dye solution 614, and the production cost can be efficiently reduced.

【0144】また、スピンコート装置52のスピナーヘ
ッド装置402や飛散防止壁404を洗浄する方法とし
て、洗浄槽602での漬け込み洗いを実施するようにし
たので、洗浄槽602内に色素廃液604が溜まり、効
率よく、色素廃液604を得ることができる。前記洗浄
槽602への漬け込み時間は10分以上がよく、好まし
くは30分以上がよい。
As a method for washing the spinner head device 402 and the scattering prevention wall 404 of the spin coater 52, the immersion washing in the washing tank 602 is performed, so that the dye waste liquid 604 is accumulated in the washing tank 602. The dye waste liquid 604 can be obtained efficiently. The immersion time in the cleaning tank 602 is preferably 10 minutes or more, and more preferably 30 minutes or more.

【0145】また、混合色素廃液606中の色素及び退
色防止剤の含有量を定量した後に、混合色素廃液606
中の色素及び退色防止剤の濃度を、前記色素溶液中の色
素及び退色防止剤の濃度と2桁以上の精度で一致するよ
うに調整するようにしたので、混合色素廃液606を再
生色素溶液614として再利用した際にも記録再生特性
の再現性を確保することができる。
After the contents of the dye and the anti-fading agent in the mixed dye waste liquid 606 were quantified,
The concentration of the dye and the anti-fading agent in the dye solution is adjusted so as to match the concentration of the dye and the anti-fading agent in the dye solution with precision of two digits or more. Thus, the reproducibility of the recording / reproducing characteristics can be ensured even when reused.

【0146】この場合、上述したように、前記混合色素
廃液606中の色素及び退色防止剤の定量を液体クロマ
トグラフィで行うことが好ましく、前記液体クロマトグ
ラフィでの検量精度は3桁以上であることが好ましい。
In this case, as described above, it is preferable to determine the amount of the dye and the anti-fading agent in the mixed dye waste liquid 606 by liquid chromatography, and the calibration accuracy in the liquid chromatography is preferably three digits or more. .

【0147】色素廃液452、604や混合色素廃液6
06は光の透過しない密閉容器で保管することが好まし
い。密閉容器としては、ステンレス製の缶が好ましく、
更に好ましくはステンレス製のドラム缶が望ましい。
The dye waste liquids 452 and 604 and the mixed dye waste liquid 6
06 is preferably stored in a closed container that does not transmit light. As a closed container, a stainless steel can is preferable,
More preferably, a drum made of stainless steel is desirable.

【0148】色素廃液452、604や混合色素廃液6
06の保管場所は、強烈な光や熱が当たらない場所であ
れば特に問題はないが、好ましくは館屋の中、更に好ま
しくは常温暗室がよい。また、保管場所のクリーン度
は、クラス50万以下、好ましくはクラス20万以下が
よい。
The dye waste liquids 452 and 604 and the mixed dye waste liquid 6
The storage location of No. 06 is not particularly limited as long as it is not exposed to intense light or heat, but is preferably in a building, more preferably in a room dark room. The degree of cleanliness of the storage place is less than 500,000, preferably less than 200,000.

【0149】また、本実施の形態では、エッジ洗浄時の
廃液や裏面洗浄時の廃液を色素廃液452、604と分
離するようにしたので、混合色素廃液606への工程内
の不純物の混入を防ぐことができ、混合色素廃液606
を再生色素溶液614として再利用した際にも記録再生
特性の再現性を確保することができる。
Further, in this embodiment, the waste liquid at the time of edge cleaning and the waste liquid at the time of back surface cleaning are separated from the dye waste liquids 452 and 604, so that mixing of impurities in the mixed dye waste liquid 606 in the process can be prevented. And the mixed dye waste liquid 606
The reproducibility of the recording / reproducing characteristics can be ensured even when is reused as the reproducing dye solution 614.

【0150】また、色素溶液を塗布する際の排気風速を
1m/s以下、好ましくは0.7m/s以下、更に好ま
しくは0.4m/s以下がよい。これにより、基板20
2上への色素溶液の塗布が良好に行われると共に、再生
色素溶液614の回収率を向上させることができる。
The exhaust air velocity at the time of applying the dye solution is 1 m / s or less, preferably 0.7 m / s or less, more preferably 0.4 m / s or less. Thereby, the substrate 20
2 can be applied well, and the recovery rate of the regenerated dye solution 614 can be improved.

【0151】ここで、その他の条件の好ましい態様につ
いて説明する。前記基板202上に色素溶液を塗布する
際の色素吐出量は0.3cc〜5ccであることが好ま
しく、特に好ましくは0.5cc〜2ccである。色素
溶液を塗布する際の温度は10℃〜50℃の範囲であれ
ばよいが、好ましくは15℃〜35℃の範囲、更に好ま
しくは20℃〜25℃の範囲である。この場合の温度変
動は±8℃の範囲、好ましくは±4℃の範囲、更に好ま
しくは±2℃の範囲である。
Here, preferred embodiments of other conditions will be described. The amount of the dye discharged when the dye solution is applied onto the substrate 202 is preferably 0.3 cc to 5 cc, and particularly preferably 0.5 cc to 2 cc. The temperature at which the dye solution is applied may be in the range of 10C to 50C, preferably in the range of 15C to 35C, and more preferably in the range of 20C to 25C. The temperature fluctuation in this case is in the range of ± 8 ° C., preferably in the range of ± 4 ° C., and more preferably in the range of ± 2 ° C.

【0152】色素溶液を塗布する際の湿度は25%RH
〜65%RHの範囲であり、好ましくは35%RH〜6
0%RHの範囲、更に好ましくは45%RH〜55%R
Hの範囲である。この場合の湿度変動は±8%RHの範
囲であり、好ましくは±4%RHの範囲、更に好ましく
は±2%RHの範囲である。
The humidity at the time of applying the dye solution is 25% RH.
~ 65% RH, preferably 35% RH ~ 6.
0% RH range, more preferably 45% RH to 55% R
H range. The humidity variation in this case is in the range of ± 8% RH, preferably in the range of ± 4% RH, and more preferably in the range of ± 2% RH.

【0153】基板202に形成される色素記録層204
の膜厚変動は、正規の膜厚に対して±30%の範囲であ
り、好ましくは±20%の範囲、更に好ましくは±15
%の範囲である。
Dye recording layer 204 formed on substrate 202
Is in the range of ± 30%, preferably ± 20%, more preferably ± 15% of the normal film thickness.
% Range.

【0154】また、基板202の保存中におけるクリー
ン度はクラス20万以下であり、好ましくはクラス10
万以下、更に好ましくはクラス5万以下である。この場
合、基板202の保存中における温度変動は±15℃の
範囲であり、好ましくは±10℃の範囲、更に好ましく
は±5℃の範囲である。
The degree of cleanliness of the substrate 202 during storage is 200,000 or less, preferably in class 10
It is less than 10,000, more preferably less than 50,000. In this case, the temperature fluctuation during storage of the substrate 202 is in the range of ± 15 ° C., preferably in the range of ± 10 ° C., and more preferably in the range of ± 5 ° C.

【0155】また、色素記録層204上に形成される光
反射層208は、反射率が70%以上ある反射膜であれ
ば何でもよいが、好ましくは金あるいは銀を含有した反
射膜、その中でも主成分が銀あるいは金の反射膜が特に
好ましい。光反射層208の厚みは10nm以上、80
0nm以下であり、20nm以上、500nm以下であ
ることが好ましい。
The light reflecting layer 208 formed on the dye recording layer 204 may be any reflecting film having a reflectance of 70% or more, but is preferably a reflecting film containing gold or silver. A reflective film of silver or gold is particularly preferred. The thickness of the light reflection layer 208 is 10 nm or more and 80
0 nm or less, and preferably 20 nm or more and 500 nm or less.

【0156】[0156]

【実施例】[参考例]ステンレス製の密閉容器に上述の
インドレニン系色素(化合物A)2.65部と、退色防
止剤(化合物B)0.265部と、2,2,3,3−テ
トラフルオロプロパノール100部とを混合し、超音波
振動機(1800W)を用いて2時間かけて溶解し、色
素記録層204を形成するための色素溶液を調製した。
EXAMPLES Reference Example A sealed stainless steel container was filled with 2.65 parts of the above-mentioned indolenine dye (Compound A), 0.265 parts of a fading inhibitor (Compound B), 2, 2, 3, and 3 -100 parts of tetrafluoropropanol was mixed and dissolved for 2 hours using an ultrasonic vibrator (1800 W) to prepare a dye solution for forming the dye recording layer 204.

【0157】色素溶液中の色素濃度は2.575重量%
であり、退色防止剤濃度は0.257重量%であった。
The dye concentration in the dye solution was 2.575% by weight.
And the concentration of the anti-fading agent was 0.257% by weight.

【0158】この色素溶液を半日間保存した後、表面に
スパイラル状のプレグルーブ(トラックピッチ1.6μ
m、プレグルーブ幅0.52μm、プレグルーブの深さ
175nm)が射出成形により形成されたポリカーボネ
ート基板(直径120mm、厚さ1.2mm、帝人
(株)製、商品名「パンライトAD5503」)のその
プレグルーブ側の面に、ステンレス製からなるノズル
(内径0.8μm)を有する塗布液付与装置400を備
えたスピンコート装置52を用いて、そのスピナーヘッ
ド装置402の回転数を300rpm〜4000rpm
まで変化させながら塗布し、色素記録層204(グルー
ブ内の厚さ約200nm)を形成した。塗布の際に飛散
した色素溶液はドレイン424を通して回収容器450
に集めた。
After storing this dye solution for half a day, a spiral pregroove (track pitch 1.6 μm) was formed on the surface.
m, pregroove width 0.52 μm, pregroove depth 175 nm) of a polycarbonate substrate (diameter 120 mm, thickness 1.2 mm, manufactured by Teijin Limited, trade name “Panlite AD5503”) formed by injection molding. On the pre-groove side surface, using a spin coater 52 provided with a coating liquid applying device 400 having a nozzle made of stainless steel (inner diameter 0.8 μm), the rotation speed of the spinner head device 402 is set to 300 rpm to 4000 rpm.
The dye recording layer 204 (with a thickness of about 200 nm in the groove) was formed. The dye solution scattered at the time of application is collected through a drain 424 into a collecting container 450.
Collected.

【0159】このときの色素記録層204の形成条件
は、 雰囲気の温度、湿度:23℃、50%RH 色素溶液の温度:23℃ 基板202の温度:23℃ 排気風速:0.8m/s である。
The conditions for forming the dye recording layer 204 at this time are as follows: atmosphere temperature, humidity: 23 ° C., 50% RH dye solution temperature: 23 ° C. substrate 202 temperature: 23 ° C., exhaust air velocity: 0.8 m / s. is there.

【0160】次に、色素記録層204上に、Auをスパ
ッタして、膜厚が150nmの光反射層208を形成し
た。更に、別のスピンコート装置を用いて、前記光反射
層208上にUV硬化性樹脂(商品名「SD−31
8」、大日本インキ化学工業(株)製)をスピナーヘッ
ド装置の回転数を300rpm〜5000rpmまで変
化させながら塗布した後、紫外線を照射して樹脂を硬化
させ、層厚8μmの保護層210を形成した。
Next, on the dye recording layer 204, Au was sputtered to form a light reflecting layer 208 having a thickness of 150 nm. Further, using another spin coater, a UV curable resin (trade name “SD-31”) is formed on the light reflection layer 208.
8 ", manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) while changing the rotation speed of the spinner head device from 300 rpm to 5000 rpm, and then irradiating ultraviolet rays to cure the resin, thereby forming a protective layer 210 having a layer thickness of 8 μm. Formed.

【0161】以上の工程により、基板202上に、色素
記録層204、光反射層208及び保護層210が積層
された参考例に係る光ディスクを製造した。
Through the above steps, an optical disk according to the reference example in which the dye recording layer 204, the light reflecting layer 208, and the protective layer 210 were laminated on the substrate 202 was manufactured.

【0162】[実施例]前記参考例において、スピンコ
ート装置52のスピナーヘッド装置402や飛散防止壁
404を再処理室600内に搬入して洗浄槽602内で
洗浄する。この洗浄処理を洗浄槽602内の色素廃液6
04の濃度が回収容器450に集めた色素廃液452の
濃度以上となるまで繰り返す。
[Example] In the above reference example, the spinner head device 402 and the scattering prevention wall 404 of the spin coater 52 are loaded into the reprocessing chamber 600 and cleaned in the cleaning tank 602. This washing process is performed by using the dye waste liquid 6
This process is repeated until the concentration of 04 becomes equal to or higher than the concentration of the waste dye 452 collected in the collection container 450.

【0163】その後、洗浄槽602内の色素廃液604
と回収容器450内の色素廃液452を別の容器608
に入れて混合した。
Thereafter, the dye waste liquid 604 in the cleaning tank 602
And the dye waste liquid 452 in the collection container 450
And mixed.

【0164】前記別の容器608内の混合色素廃液60
6を36.4mgサンプルびんに採り、該混合色素廃液
606をアセトニトリル3.0024gで希釈した。一
方、前記参考例で示した色素記録層204を形成するた
めの色素溶液を405.8mgサンプルびんに採り、該
色素溶液をアセトニトリル1.204gで希釈した。こ
れを液体クロマトグラフィを用いて、下記条件で測定
し、色素(化合物A)と退色防止剤(化合物B)の濃度
を絶対検量線法で定量した。
The mixed dye waste liquid 60 in the another container 608
6 was placed in a 36.4 mg sample bottle, and the mixed dye waste liquid 606 was diluted with 3.0024 g of acetonitrile. On the other hand, 405.8 mg of the dye solution for forming the dye recording layer 204 shown in the reference example was placed in a sample bottle, and the dye solution was diluted with 1.204 g of acetonitrile. This was measured using liquid chromatography under the following conditions, and the concentrations of the dye (compound A) and the anti-fading agent (compound B) were quantified by the absolute calibration curve method.

【0165】このときの測定条件は、 カラム:TSK−gel ODS−80Ts カラム温度:25℃ 溶離液:アセトニトリル/水/酢酸/トリエチルアミン
=750/250/2/2 流量:1mリットル/分 圧力:59bar 検出波長:254nm 試料注入量:20μm である。
The measurement conditions at this time were as follows: Column: TSK-gel ODS-80Ts Column temperature: 25 ° C. Eluent: acetonitrile / water / acetic acid / triethylamine = 750/250/2/2 Flow rate: 1 ml / min Pressure: 59 bar Detection wavelength: 254 nm Sample injection amount: 20 μm.

【0166】混合色素廃液606の色素濃度は6.92
1%、退色防止剤濃度は1.139%であった。この結
果に基づいて、色素濃度及び退色防止剤濃度が、上記の
色素溶液中の色素濃度及び退色防止剤濃度と小数点以下
2桁まで一致するように、溶剤、色素及び退色防止剤を
追加して濃度調整し、再生色素溶液614を得た。
The dye concentration of the mixed dye waste liquid 606 is 6.92.
The concentration of the anti-fading agent was 1.139%. Based on this result, a solvent, a dye and an anti-fading agent are added so that the dye concentration and the anti-fading agent concentration match the dye concentration and the anti-fading agent concentration in the above-mentioned dye solution up to two decimal places. After adjusting the concentration, a regenerated dye solution 614 was obtained.

【0167】得られた再生色素溶液614を用い、前記
参考例と同様にして、基板202上に、色素記録層20
4、光反射層208及び保護層210が積層された実施
例に係る光ディスクを製造した。
Using the obtained regenerated dye solution 614, the dye recording layer 20 was formed on the substrate 202 in the same manner as in the above reference example.
4. An optical disc according to an example in which the light reflecting layer 208 and the protective layer 210 were laminated was manufactured.

【0168】[評価]参考例に係る光ディスクと実施例
に係る光ディスクについて、パルステック社製「OMT
−2000」を用いて、最適パワーで記録特性を評価し
た。その結果を図18に示す。
[Evaluation] Regarding the optical disk according to the reference example and the optical disk according to the example, “OMT” manufactured by Pulstec Inc.
Using "-2000", the recording characteristics were evaluated at the optimum power. FIG. 18 shows the result.

【0169】この図18から明らかなように、本実施の
形態に係る製造システム10、特に色素溶液の再生処理
で得られた再生色素溶液614を用いて作製した光ディ
スクDは、正規の色素溶液を用いて作製した光ディスク
Dと記録特性において大差はなく、本実施の形態で得ら
れた再生色素溶液614を色素溶液の塗布工程で再利用
できることがわかる。
As is clear from FIG. 18, the optical disk D manufactured using the manufacturing system 10 according to the present embodiment, in particular, the regenerated dye solution 614 obtained by the regenerating process of the dye solution, uses a regular dye solution. There is no significant difference in the recording characteristics from the optical disk D manufactured using the same, and it can be seen that the reproduced dye solution 614 obtained in this embodiment can be reused in the dye solution coating step.

【0170】なお、この発明に係る光情報記録媒体の製
造方法は、上述の実施の形態に限らず、この発明の要旨
を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもち
ろんである。
The method of manufacturing an optical information recording medium according to the present invention is not limited to the above-described embodiment, but can adopt various configurations without departing from the gist of the present invention.

【0171】[0171]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る光情
報記録媒体の製造方法によれば、色素廃液を色素溶液と
して再利用した際にも記録再生特性の再現性を確保で
き、製造コストの低廉化を効率よく実現させることがで
きる。また、色素廃液の回収率を向上させることがで
き、生産効率の向上を図ることができる。
As described above, according to the method for manufacturing an optical information recording medium according to the present invention, the reproducibility of the recording / reproducing characteristics can be ensured even when the dye waste liquid is reused as the dye solution, and the manufacturing cost is reduced. Can be efficiently realized. Further, the recovery rate of the dye waste liquid can be improved, and the production efficiency can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本実施の形態に係る製造システムの一例を示す
構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram illustrating an example of a manufacturing system according to an embodiment.

【図2】塗布設備に設置されるスピンコート装置を示す
構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram showing a spin coater installed in a coating facility.

【図3】塗布設備に設置されるスピンコート装置を示す
斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing a spin coater installed in a coating facility.

【図4】スピンコート装置のノズルを示す平面図であ
る。
FIG. 4 is a plan view showing a nozzle of the spin coater.

【図5】スピンコート装置のノズルの一例を示す側面図
である。
FIG. 5 is a side view showing an example of a nozzle of the spin coater.

【図6】スピンコート装置のノズルの他の例を一部省略
して示す縦断面図である。
FIG. 6 is a longitudinal sectional view showing another example of the nozzle of the spin coating apparatus with a part thereof omitted.

【図7】図7Aは基板にグルーブを形成した状態を示す
工程図であり、図7Bは基板上に色素記録層を形成した
状態を示す工程図であり、図7Cは基板上に光反射層を
形成した状態を示す工程図である。
7A is a process diagram showing a state in which a groove is formed on a substrate, FIG. 7B is a process diagram showing a state in which a dye recording layer is formed on the substrate, and FIG. 7C is a process diagram showing a light reflecting layer on the substrate. FIG. 4 is a process diagram showing a state in which is formed.

【図8】図8Aは基板のエッジ部分を洗浄した状態を示
す工程図であり、図8Bは基板上に保護層を形成した状
態を示す工程図である。
FIG. 8A is a process diagram showing a state where an edge portion of the substrate is cleaned, and FIG. 8B is a process diagram showing a state where a protective layer is formed on the substrate.

【図9】空調システムを示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing an air conditioning system.

【図10】空調システムを示す正面図である。FIG. 10 is a front view showing an air conditioning system.

【図11】空調システムを示す側面図である。FIG. 11 is a side view showing the air conditioning system.

【図12】空調システムにおける排気装置の構成を上位
の排気系統と共に示す図である。
FIG. 12 is a diagram illustrating a configuration of an exhaust device in an air conditioning system together with a higher-order exhaust system.

【図13】排気装置に設置されるバッファボックスの構
成を示す断面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a buffer box installed in the exhaust device.

【図14】空気調和機の構成を示すブロック図である。FIG. 14 is a block diagram illustrating a configuration of an air conditioner.

【図15】本実施の形態に係る製造システムの再生処理
を示す工程図である。
FIG. 15 is a process chart showing a reproduction process of the manufacturing system according to the present embodiment.

【図16】インドレニン系色素と退色防止剤における液
体クロマトグラフィの3次元チャートを示す図である。
FIG. 16 is a view showing a three-dimensional chart of liquid chromatography using an indolenine dye and an anti-fading agent.

【図17】検出波長と対応する相関係数を示す図表であ
る。
FIG. 17 is a table showing correlation coefficients corresponding to detection wavelengths.

【図18】参考例に係る光ディスクと実施例に係る光デ
ィスクの記録特性を示す図表である。
FIG. 18 is a table showing recording characteristics of the optical disc according to the reference example and the optical disc according to the embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…製造システム 14…塗布設備 48…色素塗布機構 52…スピンコート
装置 54…裏面洗浄機構 92…エッジ洗浄機
構 202…基板 204…色素記録層 206…エッジ部分 300…空調システ
ム 400…塗布液付与装置 402…スピナーヘ
ッド装置 404…飛散防止壁 406…ノズル 408…吐出量調整バルブ 424…ドレイン 450…回収容器 452…色素廃液 600…再処理室 602…洗浄槽 604…色素廃液 606…混合色素廃
液 608…容器 610…定量工程 612…濃度調整工程 614…再生色素溶
液 D…光ディスク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Manufacturing system 14 ... Coating equipment 48 ... Dye coating mechanism 52 ... Spin coating apparatus 54 ... Back surface cleaning mechanism 92 ... Edge cleaning mechanism 202 ... Substrate 204 ... Dye recording layer 206 ... Edge part 300 ... Air conditioning system 400 ... Coating liquid application apparatus 402: spinner head device 404: scattering prevention wall 406: nozzle 408: discharge amount adjusting valve 424: drain 450: collection container 452: dye waste liquid 600: reprocessing chamber 602: cleaning tank 604: dye waste liquid 606: mixed dye waste liquid 608 Container 610: Determination step 612: Concentration adjustment step 614: Regenerated dye solution D: Optical disk

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河合 晃一 東京都羽村市神明台2丁目10番地8 富士 マグネディスク株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA00 AB17 AC08 BH00 EA05 4F042 AA03 AA06 BA16 CC07 CC09 CC10 CC30 5D121 AA01 EE22 EE24 EE28 EE29 GG18 GG28 GG30  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing from the front page (72) Inventor Koichi Kawai 2-10-8 Shinmeidai, Hamura-shi, Tokyo F-term in Fuji Magnedisk Corporation (reference) 2H025 AA00 AB17 AC08 BH00 EA05 4F042 AA03 AA06 BA16 CC07 CC09 CC10 CC30 5D121 AA01 EE22 EE24 EE28 EE29 GG18 GG28 GG30

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に、レーザ光の照射により情報を記
録することができる色素記録層を有するヒートモード型
の光情報記録媒体の製造方法において、 前記基板を回転させながら前記色素記録層を形成するた
めの色素溶液を前記基板上に塗布する塗布工程と、 前記塗布工程で排出された色素廃液を回収する回収工程
と、 前記色素溶液の塗布の際に周囲に付着した色素を洗浄す
る洗浄工程と、 前記洗浄工程で回収された色素廃液の色素濃度が前記回
収工程で回収された前記色素溶液の色素濃度以上となっ
た段階で、これら色素廃液を混合する混合工程とを含
み、 前記混合工程で得られた混合色素廃液を色素溶液として
再利用することを特徴とする光情報記録媒体の製造方
法。
1. A method of manufacturing a heat mode optical information recording medium having a dye recording layer on which information can be recorded by irradiating a laser beam on a substrate, wherein the dye recording layer is formed while rotating the substrate. A coating step of applying a dye solution to be formed on the substrate, a collecting step of collecting a dye waste liquid discharged in the coating step, and a washing step of washing the dye adhered to the periphery during the application of the dye solution And a mixing step of mixing these dye waste liquids at a stage where the dye concentration of the dye waste liquid collected in the washing step is equal to or higher than the dye concentration of the dye solution collected in the recovery step. A method for producing an optical information recording medium, comprising recycling the mixed dye waste liquid obtained in the step as a dye solution.
【請求項2】請求項1記載の光情報記録媒体の製造方法
において、 前記洗浄工程は、前記基板上に色素溶液を塗布するため
の装置を洗浄槽を使用して洗浄する処理を含むことを特
徴とする光情報記録媒体の製造方法。
2. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 1, wherein said cleaning step includes a step of cleaning a device for applying a dye solution onto said substrate using a cleaning tank. A method for manufacturing an optical information recording medium, characterized by:
【請求項3】請求項1又は2記載の光情報記録媒体の製
造方法において、 前記色素溶液に色素と退色防止剤が含有する場合に、 前記混合色素廃液中の色素及び退色防止剤の含有量を定
量する工程と、 前記混合色素廃液中の色素及び退色防止剤の濃度を、前
記色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と2桁以上の
精度で一致するように調整する工程とを含むことを特徴
とする光情報記録媒体の製造方法。
3. The method for producing an optical information recording medium according to claim 1, wherein, when the dye solution contains a dye and an anti-fading agent, the content of the dye and the anti-fading agent in the mixed dye waste liquid. And a step of adjusting the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the mixed dye waste liquid to match the concentrations of the dye and the anti-fading agent in the dye solution with two or more digits of accuracy. A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising:
【請求項4】請求項3記載の光情報記録媒体の製造方法
において、 前記混合色素廃液中の色素及び退色防止剤の定量を液体
クロマトグラフィで行うことを特徴とする光情報記録媒
体の製造方法。
4. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 3, wherein the amounts of the dye and the anti-fading agent in the mixed dye waste liquid are determined by liquid chromatography.
【請求項5】請求項1〜4のいずれか1項に記載の光情
報記録媒体の製造方法において、 前記混合色素廃液の保管中でのクリーン度がクラス50
万以下であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方
法。
5. The method for producing an optical information recording medium according to claim 1, wherein the degree of cleanness during storage of the mixed dye waste liquid is class 50.
A method for manufacturing an optical information recording medium, wherein the number is not more than 10,000.
【請求項6】請求項1〜5のいずれか1項に記載の光情
報記録媒体の製造方法において、 前記基板上に形成された前記色素溶液の塗膜のうち、前
記基板の外周縁部に対応する部分を除去するエッジ洗浄
工程を含む場合は、エッジ洗浄時の廃液を前記色素廃液
と分離することを特徴とする光情報記録媒体の製造方
法。
6. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 1, wherein the coating of the dye solution formed on the substrate has an outer peripheral edge of the substrate. A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising separating an edge cleaning waste liquid from the dye waste liquid when the method includes an edge cleaning step of removing a corresponding portion.
【請求項7】請求項1〜6のいずれか1項に記載の光情
報記録媒体の製造方法において、 前記基板上に形成された前記色素溶液の塗膜のうち、前
記基板の裏面に付着した塗膜を除去する裏面洗浄工程を
含む場合は、裏面洗浄時の廃液を前記色素廃液と分離す
ることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
7. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 1, wherein a coating solution of the dye solution formed on the substrate adheres to a back surface of the substrate. A method for producing an optical information recording medium, comprising separating a waste liquid from the back surface cleaning from the dye waste liquid when a back surface cleaning step of removing a coating film is included.
【請求項8】請求項1〜7のいずれか1項に記載の光情
報記録媒体の製造方法において、 前記色素溶液を塗布する際の排気風速が1m/s以下で
あることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
8. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 1, wherein an exhaust air velocity at the time of applying the dye solution is 1 m / s or less. Manufacturing method of information recording medium.
【請求項9】請求項1〜8のいずれか1項に記載の光情
報記録媒体の製造方法において、 前記基板上に色素溶液を塗布して前記色素記録層を形成
する際に、前記色素溶液の吐出量を0.3cc〜5cc
とすることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
9. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 1, wherein the dye solution is applied to the substrate when a dye solution is applied on the substrate to form the dye recording layer. 0.3cc to 5cc
A method for manufacturing an optical information recording medium.
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