JP2002331594A - Storage medium substrate, storage medium comprising the substrate, and method for manufacturing storage medium - Google Patents

Storage medium substrate, storage medium comprising the substrate, and method for manufacturing storage medium

Info

Publication number
JP2002331594A
JP2002331594A JP2001140432A JP2001140432A JP2002331594A JP 2002331594 A JP2002331594 A JP 2002331594A JP 2001140432 A JP2001140432 A JP 2001140432A JP 2001140432 A JP2001140432 A JP 2001140432A JP 2002331594 A JP2002331594 A JP 2002331594A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
storage medium
substrate
inorganic filler
medium substrate
polyphenylene sulfide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001140432A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Ishio
敦 石王
Kazuki Miyamoto
和樹 宮本
Hidetoshi Sakai
秀敏 坂井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP2001140432A priority Critical patent/JP2002331594A/en
Publication of JP2002331594A publication Critical patent/JP2002331594A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
  • Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a storage medium substrate having outstanding heat resistance, excellent surface smoothness, high rigidity and perfect flatness, and a storage medium comprising the storage medium substrate as well as a method for manufacturing the storage medium. SOLUTION: This storage medium substrate is formed of a polyphenylene sulfide resin composition and annealed at temperatures of 220 to 280 deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、優れた耐熱性、表
面平滑性、剛性および平面性を有する記憶媒体基板、そ
れからなる記憶媒体およびその製造方法に関するもので
あり、特にハードディスク基板として好適な記憶媒体基
板、それを用いた記憶媒体およびその製造方法に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a storage medium substrate having excellent heat resistance, surface smoothness, rigidity and flatness, a storage medium comprising the same, and a method of manufacturing the same. The present invention relates to a medium substrate, a storage medium using the same, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリフェニレンスルフィド樹脂は、優れ
た耐熱性、剛性、寸法安定性および難燃性などエンジニ
アリングプラスチックとしての好適な性質を有している
ことから、射出成形用を中心として各種電気・電子部
品、機械部品および自動車部品などの用途に広く使用さ
れている。
2. Description of the Related Art Polyphenylene sulfide resins have excellent heat resistance, rigidity, dimensional stability and flame retardancy, and are suitable for engineering plastics. It is widely used for applications such as parts, machine parts and automobile parts.

【0003】他方、記憶メディアの分野においては、光
記憶媒体、光磁気記憶媒体および磁気記憶媒体などの技
術開発が活発に行われており、記憶容量の増大ととも
に、メディア媒体の開発も積極的に進められている。
On the other hand, in the field of storage media, technology such as optical storage media, magneto-optical storage media, and magnetic storage media has been actively developed. As the storage capacity has increased, media media has been actively developed. Is underway.

【0004】一般的に、光記憶や光磁気記録の分野にお
いては、レンズ周りやディスク基板について、軽量化や
生産性向上を目的として樹脂化の検討がなされ、特にコ
ンパクトディスクなどのディスク基板としては、光学的
に透明なポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー
およびシクロオレフィンコポリマーなどが使用されてい
る。
In general, in the field of optical storage and magneto-optical recording, the use of resin around the lens and the disk substrate has been studied for the purpose of reducing the weight and improving the productivity. And optically transparent polycarbonates, cycloolefin polymers and cycloolefin copolymers.

【0005】一方、ハードディスクに代表される磁気記
録用のディスク基板の場合は、光学的に透明である必要
はないが、ディスク表面の平滑性や、ディスクの平面性
に高いレベルが要求されるばかりか、NiPメッキやス
パッタリング工程などで耐熱性が必要なことなどから、
アルミニウムや無機ガラスが主に使用されているのが現
状である。
On the other hand, in the case of a magnetic recording disk substrate represented by a hard disk, it is not necessary to be optically transparent, but a high level is required for the smoothness of the disk surface and the flatness of the disk. Or because heat resistance is required in NiP plating or sputtering process, etc.
At present, aluminum and inorganic glass are mainly used.

【0006】しかしながら、アルミニウムや無機ガラス
を使用したディスク基板は、製造工程が煩雑で生産性に
劣り、価格が高いことが問題視されている。したがっ
て、今後、ハードディスクをAV(Audio Vis
ual)機器やゲーム機などへ応用し、普及させて行く
ためには、ディスク基板の生産性をより向上して低価格
化を図り、またデータの大容量化をさらに進めることが
強く望まれている。
However, disk substrates using aluminum or inorganic glass are problematic in that the manufacturing process is complicated, productivity is poor, and the price is high. Therefore, in the future, hard disks will be transferred to AV (Audio Vis
ua) In order to apply it to devices and game machines and spread it, it is strongly desired to further improve the productivity of disk substrates and reduce the price, and to further increase the data capacity. I have.

【0007】そこで、かかるディスク基板を樹脂化する
検討の動きもあるが、光記憶や光磁気記憶のコンパクト
ディスクなどに用いられているポリカーボネート、シク
ロオレフィンポリマーおよびシクロオレフィンコポリマ
ーなどを、ハードディスク基板に用いた場合には、表面
平滑性には優れているが、剛性や耐熱性が低く、線膨張
係数が大きいことに起因して、使用時や環境変化による
寸法の安定性に劣るために実用的ではないのが実情であ
る。
[0007] Therefore, there is a movement to consider the use of such a disk substrate as a resin. However, polycarbonate, cycloolefin polymer, cycloolefin copolymer, and the like, which are used for compact disks for optical storage or magneto-optical storage, are used for hard disk substrates. If it is, it is excellent in surface smoothness, but low in rigidity and heat resistance and large in linear expansion coefficient, so it is inferior in dimensional stability due to use and environmental changes, so it is not practical There is no fact.

【0008】一方、ポリフェニレンスルフィド樹脂の耐
熱性を向上させる目的で、成形体にアニールを施す方法
は過去にも検討されており、例えば特開昭54−146
867号公報および特開昭57−164131号公報に
は、ポリフェニレンスルフィド成形体に軟化点以下の温
度で加熱処理を施す方法が開示されている。しかし、こ
れら特開昭54−146867号公報および特開昭57
−164131号公報は、いずれもガラス繊維強化ポリ
フェニレンスルフィド樹脂組成物からなる成形品に対し
熱処理を施すことに言及するものであり、記憶媒体基板
への適用については何ら開示するものではないばかり
か、記憶媒体基板に要求される成形品の表面平滑性、剛
性および平面性についても何ら配慮するものではない。
On the other hand, a method of annealing a molded body for the purpose of improving the heat resistance of a polyphenylene sulfide resin has been studied in the past, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-146.
JP-A-867 and JP-A-57-164131 disclose a method of subjecting a polyphenylene sulfide molded body to a heat treatment at a temperature lower than the softening point. However, Japanese Patent Application Laid-Open Nos.
JP-A-164131 refers to performing heat treatment on a molded article made of a glass fiber-reinforced polyphenylene sulfide resin composition, and does not disclose any application to a storage medium substrate. No consideration is given to the surface smoothness, rigidity and flatness of the molded product required for the storage medium substrate.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる問題
点に鑑みなされたものであって、耐熱性、表面平滑性、
剛性および平面性に優れる記憶媒体基板、それを用いた
記憶媒体およびその製造方法の提供を目的とするもので
ある。特に典型的には、ポリフェニレンスルフィド樹脂
組成物からなる耐熱性、表面平滑性、剛性および平面性
に優れるハードディスク基板の提供を目的とするもので
ある。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has been made in view of the above problems.
It is an object of the present invention to provide a storage medium substrate having excellent rigidity and flatness, a storage medium using the same, and a method for manufacturing the same. Particularly typically, it aims at providing a hard disk substrate made of a polyphenylene sulfide resin composition and having excellent heat resistance, surface smoothness, rigidity and flatness.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、ポリフェニレンスルフ
ィド樹脂組成物からなる基板に対し、特定温度条件下で
アニール処理を施すことにより、ハードディスク記憶媒
体製造時に要求される耐熱性を付与できることを見出し
た。また、無機充填材として特定のものを選択すること
により、剛性、表面平滑性および平面性も同時に優れる
記憶媒体基板が得られることを見出し、本発明に到達し
た。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, a substrate made of a polyphenylene sulfide resin composition is annealed under a specific temperature condition to obtain a hard disk. It has been found that heat resistance required at the time of manufacturing a storage medium can be imparted. Further, they have found that by selecting a specific inorganic filler, a storage medium substrate having excellent rigidity, surface smoothness and flatness can be obtained at the same time, and arrived at the present invention.

【0011】すなわち、本発明の記憶媒体基板は、ポリ
フェニレンスルフィド樹脂組成物からなる基板であっ
て、220℃以上280℃以下の温度でアニール処理が
施されていることを特徴とする。
That is, the storage medium substrate of the present invention is a substrate made of a polyphenylene sulfide resin composition, and is characterized by being subjected to an annealing treatment at a temperature of 220 ° C. or more and 280 ° C. or less.

【0012】本発明の記憶媒体基板においては、前記基
板が射出成形して得られた成形体であること、前記ポリ
フェニレンスルフィド樹脂組成物が、(A)ポリフェニ
レンスルフィド樹脂100重量部に対し、(B)無機充
填材0.05〜400重量部を配合してなる組成物であ
ること、前記ポリフェニレンスルフィド樹脂組成物が、
前記(B)無機充填材として、アスペクト比:L(平均
繊維長)/D(平均繊維径)が10以上の繊維状充填材
を、(A)ポリフェニレンスルフィド樹脂100重量部
に対し、10重量部以上含まない樹脂組成物であるこ
と、前記(B)無機充填材の少なくとも一部が、平均粒
径が1μm未満の非繊維状無機充填材であること、前記
(B)無機充填材が、炭酸塩、硫酸塩、金属酸化物およ
び珪酸系材料から選ばれた少なくとも一種の無機充填材
であること、および前記基板がハードディスク用基板で
あることが、いずれも好ましい条件として挙げられる。
In the storage medium substrate of the present invention, the substrate is a molded product obtained by injection molding, and the polyphenylene sulfide resin composition is used in the amount of (B) based on 100 parts by weight of (A) polyphenylene sulfide resin. A) a composition comprising 0.05 to 400 parts by weight of an inorganic filler, wherein the polyphenylene sulfide resin composition is
As the inorganic filler (B), a fibrous filler having an aspect ratio: L (average fiber length) / D (average fiber diameter) of 10 or more is used in an amount of 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyphenylene sulfide resin (A). The resin composition does not contain any of the above, and at least a part of the (B) inorganic filler is a non-fibrous inorganic filler having an average particle diameter of less than 1 μm. Preferred conditions include at least one inorganic filler selected from salts, sulfates, metal oxides and silicate-based materials, and the substrate being a substrate for a hard disk.

【0013】また、本発明の記憶媒体は、上記の記憶媒
体基板を用いたことを特徴とし、音響および/または映
像記録・配信機器またはゲーム機に好ましく使用され
る。
Further, a storage medium of the present invention is characterized by using the above-mentioned storage medium substrate, and is preferably used for an audio and / or video recording / distribution device or a game machine.

【0014】さらに、本発明の記憶媒体の製造方法は、
上記の記録媒体基板上に記録層を形成することを特徴と
する。
Further, the method for manufacturing a storage medium according to the present invention comprises:
A recording layer is formed on the recording medium substrate.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の記憶媒体基板、
それを用いた記憶媒体およびその製造方法について詳述
する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The storage medium substrate of the present invention will be described below.
A storage medium using the same and a method for manufacturing the same will be described in detail.

【0016】本発明で使用する(A)ポリフェニレンス
ルフィド樹脂(以下、PPS樹脂と呼ぶ)とは、下記構
造式で示される繰り返し単位を
The (A) polyphenylene sulfide resin (hereinafter referred to as PPS resin) used in the present invention is a repeating unit represented by the following structural formula.

【0017】[0017]

【化1】 70モル%以上、好ましくは90モル%以上を含む重合
体であり、上記繰り返し単位が70モル%未満では、耐
熱性が損なわれる傾向にある。また、PPS樹脂は、そ
の繰り返し単位の30モル%以下を、下記の構造式を有
する繰り返し単位などで構成することが可能である。
Embedded image It is a polymer containing 70 mol% or more, preferably 90 mol% or more. When the repeating unit is less than 70 mol%, heat resistance tends to be impaired. In the PPS resin, 30 mol% or less of the repeating unit can be constituted by a repeating unit having the following structural formula.

【0018】[0018]

【化2】 本発明で用いられるPPS樹脂の溶融粘度は、溶融混練
が可能であれば特に制限はないが、通常2〜5000P
a・s(310℃、せん断速度1,000/秒)のもの
が使用され、2〜100Pa・sの範囲がより好まし
く、5〜60Pa・sの範囲がより好ましい。
Embedded image Although the melt viscosity of the PPS resin used in the present invention is not particularly limited as long as melt kneading is possible, it is usually 2 to 5000P.
a · s (310 ° C., shear rate 1,000 / sec) is used, the range of 2 to 100 Pa · s is more preferable, and the range of 5 to 60 Pa · s is more preferable.

【0019】かかるPPS樹脂は、通常公知の方法、つ
まり特公昭45−3368号公報に記載される比較的分
子量の小さな重合体を得る方法あるいは特公昭52−1
2240号公報や特開昭61−7332号公報に記載さ
れる比較的分子量の大きな重合体を得る方法などによっ
て製造することができる。
Such a PPS resin can be prepared by a generally known method, that is, a method of obtaining a polymer having a relatively small molecular weight described in JP-B-45-3368 or JP-B-52-1.
It can be produced by a method for obtaining a polymer having a relatively large molecular weight described in JP-A-2240 and JP-A-61-7332.

【0020】本発明においては、上記のようにして得ら
れたPPS樹脂を、空気中加熱による架橋/高分子量
化、窒素などの不活性ガス雰囲気下あるいは減圧下での
熱処理、有機溶媒、熱水、酸水溶液などによる洗浄、酸
無水物、アミン、イソシアネート、官能基含有ジスルフ
ィド化合物などの官能基含有化合物による活性化などの
種々の処理を施した上で使用することも、もちろん可能
である。
In the present invention, the PPS resin obtained as described above is subjected to a heat treatment in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or under reduced pressure, an organic solvent, hot water, or the like. Of course, it is also possible to use after subjecting to various treatments such as washing with an acid aqueous solution or the like, activation with a functional group-containing compound such as an acid anhydride, an amine, an isocyanate, or a functional group-containing disulfide compound.

【0021】PPS樹脂を加熱により架橋/高分子量化
する場合の具体的方法としては、空気、酸素などの酸化
性ガス雰囲気下あるいは前記酸化性ガスと、窒素、アル
ゴンなどの不活性ガスとの混合ガス雰囲気下で、加熱容
器中で所定の温度において希望する溶融粘度が得られる
まで加熱を行う方法を例示することができる。この場合
の加熱処理温度としては、通常150〜280℃の範囲
が選択され、好ましくは200〜270℃であり、処理
時間としては、通常0.5〜100時間の範囲が選択さ
れ、好ましくは2〜50時間であるが、この両者をコン
トロールすることによって目標とする粘度レベルを得る
ことができる。加熱処理の装置は通常の熱風乾燥機でも
また回転式あるいは撹拌翼付の加熱装置であってもよい
が、効率よくしかもより均一に処理する場合は、回転式
あるいは撹拌翼付の加熱装置を用いるのがより好まし
い。
As a specific method for cross-linking / high-molecular-weight PPS resin by heating, it is preferable to mix the oxidizing gas with an inert gas such as nitrogen or argon in an atmosphere of an oxidizing gas such as air or oxygen. A method in which heating is performed in a heating vessel at a predetermined temperature under a gas atmosphere until a desired melt viscosity is obtained can be exemplified. In this case, the heat treatment temperature is usually selected from the range of 150 to 280 ° C., preferably 200 to 270 ° C., and the treatment time is usually selected from the range of 0.5 to 100 hours, preferably 2 to 100 hours. Although it is about 50 hours, a target viscosity level can be obtained by controlling both. The heating device may be an ordinary hot-air dryer or a rotary heating device or a heating device with stirring blades. For efficient and more uniform treatment, a heating device with a rotary or stirring blade is used. Is more preferred.

【0022】PPS樹脂を窒素などの不活性ガス雰囲気
下あるいは減圧下で熱処理する場合の具体的方法として
は、窒素などの不活性ガス雰囲気下あるいは減圧下で、
加熱処理温度150〜280℃、好ましくは200〜2
70℃、加熱時間0.5〜100時間、好ましくは2〜
50時間の条件で加熱処理する方法を例示することがで
きる。加熱処理の装置は、通常の熱風乾燥機でもまた回
転式あるいは撹拌翼付の加熱装置であってもよいが、効
率よくしかもより均一に処理する場合は、回転式あるい
は撹拌翼付の加熱装置を用いるのがより好ましい。
When the PPS resin is heat-treated in an inert gas atmosphere such as nitrogen or under reduced pressure, a specific method is as follows.
Heat treatment temperature 150 to 280 ° C, preferably 200 to 2
70 ° C, heating time 0.5 to 100 hours, preferably 2 to 100 hours
A method of performing heat treatment under the condition of 50 hours can be exemplified. The heating device may be an ordinary hot air dryer or a rotary or a heating device with a stirring blade. However, if the treatment is to be performed efficiently and more uniformly, a heating device with a rotary or stirring blade may be used. More preferably, it is used.

【0023】PPS樹脂を有機溶媒で洗浄する場合の具
体的方法としては、以下の方法を例示することができ
る。すなわち、洗浄に用いる有機溶媒としては、PPS
樹脂を分解する作用などを有しないものであれば特に制
限はなく、例えばN−メチルピロリドン、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミドなどの含窒素極性溶
媒、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホンなどのス
ルホキシド・スルホン系溶媒、アセトン、メチルエチル
ケトン、ジエチルケトン、アセトフェノンなどのケトン
系溶媒、ジメチルエーテル、ジプロピルエーテル、テト
ラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、クロロホルム、
塩化メチレン、トリクロロエチレン、2塩化エチレン、
ジクロルエタン、テトラクロルエタン、クロルベンゼン
などのハロゲン系溶媒、メタノール、エタノール、プロ
パノール、ブタノール、ペンタノール、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、フェノール、クレゾー
ル、ポリエチレングリコールなどのアルコール・フェノ
ール系溶媒、およびベンゼン、トルエン、キシレンなど
の芳香族炭化水素系溶媒などが挙げられる。これらの有
機溶媒のなかでも、特にN−メチルピロリドン、アセト
ン、ジメチルホルムアミドおよびクロロホルムなどの使
用が好ましい。また、これらの有機溶媒は、1種類また
は2種類以上の混合で使用される。
As a specific method for washing the PPS resin with an organic solvent, the following method can be exemplified. That is, the organic solvent used for cleaning is PPS
There is no particular limitation as long as it does not have an action of decomposing the resin, for example, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, nitrogen-containing polar solvents such as dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, sulfoxidesulfone-based solvents such as dimethylsulfone, acetone , Methyl ethyl ketone, diethyl ketone, ketone solvents such as acetophenone, dimethyl ether, dipropyl ether, ether solvents such as tetrahydrofuran, chloroform,
Methylene chloride, trichlorethylene, ethylene chloride,
Halogen solvents such as dichloroethane, tetrachloroethane and chlorobenzene, alcohol and phenol solvents such as methanol, ethanol, propanol, butanol, pentanol, ethylene glycol, propylene glycol, phenol, cresol and polyethylene glycol, and benzene, toluene, Examples thereof include aromatic hydrocarbon solvents such as xylene. Among these organic solvents, use of N-methylpyrrolidone, acetone, dimethylformamide, chloroform and the like is particularly preferable. These organic solvents are used alone or in combination of two or more.

【0024】有機溶媒による洗浄の方法としては、有機
溶媒中にPPS樹脂を浸漬せしめるなどの方法があり、
必要により適宜撹拌または加熱することも可能である。
有機溶媒でPPS樹脂を洗浄する際の洗浄温度について
は特に制限はなく、常温〜300℃程度の任意の温度を
選択することができる。洗浄温度が高くなるほど洗浄効
率が高くなる傾向があるが、通常は常温〜150℃の洗
浄温度で十分な効果が得られる。なお、有機溶媒洗浄を
施されたPPS樹脂は、残留している有機溶媒を除去す
るため、水または温水で数回洗浄することが好ましい。
As a method of washing with an organic solvent, there is a method such as immersing a PPS resin in an organic solvent.
If necessary, stirring or heating can be appropriately performed.
The washing temperature when washing the PPS resin with an organic solvent is not particularly limited, and an arbitrary temperature from ordinary temperature to about 300 ° C. can be selected. Although the cleaning efficiency tends to increase as the cleaning temperature increases, a sufficient effect is usually obtained at a cleaning temperature of normal temperature to 150 ° C. The PPS resin that has been subjected to the organic solvent washing is preferably washed several times with water or warm water in order to remove the remaining organic solvent.

【0025】PPS樹脂を熱水で処理する場合の具体的
方法としては、以下の方法を例示することができる。す
なわち、熱水洗浄によるPPS樹脂の好ましい化学的変
性の効果を発現するために、使用する水は蒸留水あるい
は脱イオン水であることが好ましい。熱水処理の操作
は、通常、所定量の水に所定量のPPS樹脂を投入し、
常圧であるいは圧力容器内で加熱、撹拌することにより
行われる。PPS樹脂と水との割合は、水の多いほうが
好ましいが、通常は、水1リットルに対し、PPS樹脂
200g以下の浴比が選択される。
As a specific method for treating the PPS resin with hot water, the following method can be exemplified. That is, it is preferable that the water to be used is distilled water or deionized water in order to exhibit a preferable effect of chemically modifying the PPS resin by washing with hot water. The operation of the hot water treatment is usually performed by adding a predetermined amount of PPS resin to a predetermined amount of water,
It is carried out by heating and stirring at normal pressure or in a pressure vessel. The proportion of the PPS resin and water is preferably as high as possible. Usually, a bath ratio of 200 g or less of the PPS resin to 1 liter of water is selected.

【0026】PPS樹脂を酸処理する場合の具体的方法
としては、以下の方法を例示することができる。すなわ
ち、酸または酸の水溶液にPPS樹脂を浸漬せしめるな
どの方法があり、必要により適宜撹拌または加熱するこ
とも可能である。用いられる酸はPPS樹脂を分解する
作用を有しないものであれば特に制限はなく、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸、酪酸などの脂肪族飽和モノカルボン
酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸などのハロ置換脂肪族飽
和カルボン酸、アクリル酸、クロトン酸などの脂肪族不
飽和モノカルボン酸、安息香酸、サリチル酸などの芳香
族カルボン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、フタル
酸、フマル酸などのジカルボン酸、および硫酸、リン
酸、塩酸、炭酸、珪酸などの無機酸性化合物などが挙げ
られる。これらの酸のなかでも、特に酢酸、塩酸がより
好ましく用いられる。酸処理を施されたPPS樹脂は、
残留している酸または塩などを除去するため、水または
温水で数回洗浄することが好ましい。また洗浄に用いる
水は、酸処理によるPPS樹脂の好ましい化学的変性の
効果を損なわない意味で、蒸留水または脱イオン水であ
ることが好ましい。
The following method can be exemplified as a specific method for treating the PPS resin with an acid. That is, there is a method of immersing the PPS resin in an acid or an aqueous solution of an acid, or the like, and if necessary, stirring or heating can be performed. The acid to be used is not particularly limited as long as it does not have a function of decomposing the PPS resin, and aliphatic saturated monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid and butyric acid, and halo-substituted aliphatic acids such as chloroacetic acid and dichloroacetic acid are used. Saturated carboxylic acid, acrylic acid, aliphatic unsaturated monocarboxylic acid such as crotonic acid, benzoic acid, aromatic carboxylic acid such as salicylic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, phthalic acid, dicarboxylic acid such as fumaric acid, and Inorganic acidic compounds such as sulfuric acid, phosphoric acid, hydrochloric acid, carbonic acid, and silicic acid. Among these acids, acetic acid and hydrochloric acid are more preferably used. The acid-treated PPS resin is
It is preferable to wash several times with water or warm water to remove the remaining acid or salt. The water used for washing is preferably distilled water or deionized water in the sense that the effect of the preferred chemical modification of the PPS resin by the acid treatment is not impaired.

【0027】本発明における記憶媒体基板用のPPS樹
脂組成物は、上記PPS樹脂単独でもよいが、より高い
剛性を付与するためには無機充填材を併用することが望
ましい。基板の剛性を上げることは、基板の急回転、急
停止時のブレの防止にとっても有効である。
The PPS resin composition for a storage medium substrate in the present invention may be composed of the above-mentioned PPS resin alone, but it is preferable to use an inorganic filler in combination to provide higher rigidity. Increasing the rigidity of the substrate is also effective for preventing blurring during rapid rotation and sudden stop of the substrate.

【0028】本発明で用いる(B)無機充填材として
は、繊維状のものと、非繊維状のものとに分けられる。
The inorganic filler (B) used in the present invention is classified into a fibrous material and a non-fibrous material.

【0029】繊維状充填材の具体例としては、ガラス繊
維、炭酸カルシウムウィスカー、ケイ酸カルシウム繊維
(ワラステナイトウィスカー)、硫酸カルシウム繊維、
炭素繊維、チタン酸カリウムウィスカー、酸化亜鉛ウィ
スカ、硼酸アルミニウムウィスカ、アラミド繊維、アル
ミナ繊維、炭化珪素繊維、セラミック繊維、およびアス
ベスト繊維などが挙げられる。
Specific examples of the fibrous filler include glass fiber, calcium carbonate whisker, calcium silicate fiber (Walastenite whisker), calcium sulfate fiber,
Examples include carbon fibers, potassium titanate whiskers, zinc oxide whiskers, aluminum borate whiskers, aramid fibers, alumina fibers, silicon carbide fibers, ceramic fibers, and asbestos fibers.

【0030】しかし、繊維状充填材の配合は、成形体の
表面平滑性を損なう傾向がある。また、基板成形体で熱
膨張、熱収縮の異方性を引き起こし、基板成形時、アニ
ール時、あるいはその後のスパッタ時などの加熱冷却が
必要とされる過程において平面性が損なわれる傾向があ
る。したがって、繊維状充填材は配合しないか、あるい
は配合したとしても、特にアスペクト比:L(平均繊維
長)/D(平均繊維径)が10以上の繊維状充填材の配
合量を、(A)ポリフェニレンスルフィド樹脂100重
量部に対し10重量部未満とすることが好ましい。
However, the blending of the fibrous filler tends to impair the surface smoothness of the molded article. In addition, anisotropy of thermal expansion and thermal shrinkage is caused in the molded substrate, and the flatness tends to be impaired in a process requiring heating and cooling such as during molding of the substrate, annealing, or subsequent sputtering. Therefore, the fibrous filler is not blended, or even if it is blended, the compounding amount of the fibrous filler having an aspect ratio: L (average fiber length) / D (average fiber diameter) of 10 or more is particularly preferably: The amount is preferably less than 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyphenylene sulfide resin.

【0031】なお、ここでいう繊維状充填材の平均繊維
長および平均繊維径とは、光学顕微鏡もしくは電子顕微
鏡にて観察し、任意の100本について測定した平均値
で表される値である。
Here, the average fiber length and average fiber diameter of the fibrous filler are values expressed by an average value obtained by observing an arbitrary 100 fibers with an optical microscope or an electron microscope.

【0032】本発明で用いる非繊維状充填材とは、上記
繊維状充填材以外のものであり、かかる非繊維状充填材
は、球形、楕円形、立方形、板状および不定形などのい
ずれの形状のものでもよい。また、合成充填材および天
然充填材のいずれであってもよい。かかる非繊維状充填
材の具体例としては、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウ
ムなどの炭酸塩、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなどの
硫酸塩、アルミナ、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化
ジルコニウム、酸化チタン、酸化鉄などの金属酸化物、
珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、珪酸アルミニウ
ム、シリカ、ワラステナイト、ゼオライト、マイカ、タ
ルク、カオリン、クレー、パイロフィライト、ガラスビ
ーズ、ガラスフレーク、ガラス粉などの珪酸系材料、水
酸化マグネシウム、水酸化アルミニウムなどの水酸化
物、セラミックビーズ、窒化ホウ素、炭化珪素、グラフ
ァイト、カーボンブラック、セリサイトおよびドロマイ
トなどが挙げられる。
The non-fibrous filler used in the present invention is other than the above-mentioned fibrous filler, and the non-fibrous filler may be any one of spherical, elliptical, cubic, plate-like and amorphous. May be used. Further, any of a synthetic filler and a natural filler may be used. Specific examples of such non-fibrous fillers include carbonates such as calcium carbonate and magnesium carbonate, sulfates such as calcium sulfate and barium sulfate, alumina, silicon oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, titanium oxide and iron oxide. Metal oxides,
Silicate-based materials such as calcium silicate, magnesium silicate, aluminum silicate, silica, wollastenite, zeolite, mica, talc, kaolin, clay, pyrophyllite, glass beads, glass flakes, glass powder, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, etc. Hydroxide, ceramic beads, boron nitride, silicon carbide, graphite, carbon black, sericite, dolomite, and the like.

【0033】これらの中でも、炭酸塩、硫酸塩、金属酸
化物および珪酸系材料が好ましく、特に沈降炭酸カルシ
ウム、硫酸バリウムおよびアルミナが好ましく用いられ
る。
Of these, carbonates, sulfates, metal oxides and silicate-based materials are preferred, and precipitated calcium carbonate, barium sulfate and alumina are particularly preferred.

【0034】なお、これら無機充填材は2種以上を併用
して使用することももちろん可能である。
It is of course possible to use two or more of these inorganic fillers in combination.

【0035】本発明で用いる非繊維状無機充填材の大き
さには特に制限はないが、より優れた表面平滑性を得る
意味においては、少なくともその一部の平均粒径が1μ
m以下、より好ましくは0.8μm以下であることが望
ましい。なお、ここでいう平均粒径は、電子顕微鏡にて
観察し、任意の100個について測定した平均値で表さ
れる値である。また、球形や円形でない場合は、長径と
短径の平均値をその粒子の径とした値である。
The size of the non-fibrous inorganic filler used in the present invention is not particularly limited, but in order to obtain more excellent surface smoothness, at least a part of the filler has an average particle size of 1 μm.
m or less, and more preferably 0.8 μm or less. Here, the average particle size is a value represented by an average value obtained by observing an arbitrary 100 particles under an electron microscope. When the particle is not spherical or circular, the average value of the major axis and the minor axis is the value of the particle diameter.

【0036】(B)無機充填材を配合する場合の配合量
は、表面平滑性と剛性のバランスの点から、(A)PP
S樹脂100重量部に対し、通常、0.05〜400重
量部の範囲が選択され、好ましくは50〜300重量
部、より好ましくは80〜250重量部である。
When the inorganic filler (B) is blended, the amount of the inorganic filler is preferably (A) PP in view of the balance between surface smoothness and rigidity.
Usually, the range of 0.05 to 400 parts by weight is selected with respect to 100 parts by weight of the S resin, preferably 50 to 300 parts by weight, more preferably 80 to 250 parts by weight.

【0037】なお、多くの場合、無機充填材は、樹脂成
分との濡れ性の改善や充填材粒子の凝集防止のために、
その表面を有機処理剤などで処理したものが用いられる
が、成形時のガス発生による成形基板表面の平滑性悪化
を避けるために、有機処理剤で処理されていない無機充
填材を用いることが好ましい。もちろん、表面平滑性に
影響を与えない程度の極微量、例えば0.1重量%以下
程度であれば使用することも可能である。
In many cases, the inorganic filler is used for improving the wettability with the resin component and preventing the filler particles from agglomerating.
Although the one whose surface is treated with an organic treating agent or the like is used, it is preferable to use an inorganic filler not treated with the organic treating agent in order to avoid deterioration of the smoothness of the molded substrate surface due to gas generation during molding. . Of course, a trace amount that does not affect the surface smoothness, for example, about 0.1% by weight or less, can be used.

【0038】また、本発明で用いられるPPS樹脂組成
物は、本発明の効果を損なわない範囲において、ポリカ
ーボネート系樹脂、ポレフェニレンエーテル系樹脂、ポ
リサルフォン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリ
アリレート系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリア
ミドイミド系樹脂あるいは、環状ポリオレフィン系樹脂
(チコナ社製”TOPAS”、三井化学社製”APE
L”、日本ゼオン社製”ZEONEX”、”ZEONO
A”、日本合成ゴム社製”ARTON”など)などの高
ガラス転移温度を有する非晶性樹脂、あるいは、ポリブ
チレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、
ポリシクロヘキシルジメチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレートなどのポリエステル、ナイロン6、
ナイロン66、ナイロン610、ナイロン11、ナイロ
ン12,半芳香族ナイロンなどのポリアミド、四フッ化
ポリエチレン、ポリエーテルケトン、ポリチオエーテル
ケトン、ポリエーテルエーテルケトン、エポキシ樹脂、
フェノール樹脂、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプ
ロピレン、ABS樹脂、ポリアミドエラストマ、ポリエ
ステルエラストマ、ポリアルキレンオキサイド、および
エポキシ変性オレフィン系共重合体などの他の樹脂を含
んでもよい。
Further, the PPS resin composition used in the present invention may be a polycarbonate resin, a polyphenylene ether resin, a polysulfone resin, a polyether sulfone resin, a polyarylate resin, as long as the effects of the present invention are not impaired. Polyetherimide resin, polyamideimide resin or cyclic polyolefin resin ("TOPAS" manufactured by Ticona, "APE" manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.)
L ", Zeon Corporation" ZEONEX "," ZEONO
A "," ARTON "manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.), etc., or an amorphous resin having a high glass transition temperature, or polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate,
Polyester such as polycyclohexyl dimethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, nylon 6,
Polyamide such as nylon 66, nylon 610, nylon 11, nylon 12, semi-aromatic nylon, polyethylene tetrafluoride, polyetherketone, polythioetherketone, polyetheretherketone, epoxy resin,
Other resins such as phenolic resins, polyethylene, polystyrene, polypropylene, ABS resins, polyamide elastomers, polyester elastomers, polyalkylene oxides, and epoxy-modified olefin-based copolymers may be included.

【0039】さらに、本発明で用いられるPPS樹脂組
成物には、本発明の効果を損なわない範囲において、ポ
リアルキレンオキサイドオリゴマ系化合物、チオエーテ
ル系化合物、エステル系化合物、有機リン化合物などの
可塑剤、タルク、カオリン、有機リン化合物などの結晶
核剤、ポリオレフィン系化合物、シリコーン系化合物、
長鎖脂肪族エステル系化合物、長鎖脂肪族アミド系化合
物などの離型剤、ヒンダードフェノール系化合物、ヒン
ダードアミン系化合物などの酸化防止剤、熱安定剤、ス
テアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム、ス
テアリン酸リチウムなどの滑剤、エポキシシラン、アミ
ノシラン、イソシアネートシラン、ウレイドシランなど
のシランカップリング剤、紫外線防止剤、着色剤、難燃
剤、および発泡剤などの通常の添加剤を添加することが
できる。ただし、これらも添加剤の種類によっては、添
加量が多過ぎるとガス成分となり、表面平滑性を損なう
ため、添加する場合には(A)PPS樹脂成分100重
量部に対し、1重量部以下の添加が好ましい。
The PPS resin composition used in the present invention contains a plasticizer such as a polyalkylene oxide oligomer compound, a thioether compound, an ester compound, an organic phosphorus compound or the like, as long as the effects of the present invention are not impaired. Crystal nucleating agents such as talc, kaolin, and organic phosphorus compounds, polyolefin compounds, silicone compounds,
Release agents such as long-chain aliphatic ester compounds and long-chain aliphatic amide compounds, antioxidants such as hindered phenol compounds and hindered amine compounds, heat stabilizers, calcium stearate, aluminum stearate, and lithium stearate And conventional additives such as silane coupling agents such as epoxy silane, amino silane, isocyanate silane and ureido silane, UV inhibitors, coloring agents, flame retardants and foaming agents. However, depending on the type of the additive, too much of the additive becomes a gas component and impairs the surface smoothness. Therefore, when the additive is added, not more than 1 part by weight based on 100 parts by weight of the (A) PPS resin component. Addition is preferred.

【0040】本発明で用いられるPPS樹脂組成物の調
製方法は特に制限はないが、原料の混合物を単軸あるい
は2軸の押出機、バンバリーミキサー、ニーダー、ミキ
シングロールなど通常公知の溶融混合機に供給して28
0〜450℃の温度で混練する方法などを例として挙げ
ることができる。また、原料の混合順序にも特に制限は
なく、全ての原材料を配合後上記の方法により溶融混練
する方法、一部の原材料を配合後上記の方法により溶融
混練しさらに残りの原材料を配合し溶融混練する方法、
あるいは一部の原材料を配合後単軸または二軸の押出機
により溶融混練中にサイドフィーダーを用いて残りの原
材料を混合する方法などのいずれの方法を用いてもよ
い。また、少量添加剤成分については、他の成分を上記
の方法などで混練しペレット化した後、成形前に添加し
て成形に供することももちろん可能である。
The method of preparing the PPS resin composition used in the present invention is not particularly limited, but the mixture of the raw materials is mixed with a generally known melt mixer such as a single-screw or twin-screw extruder, a Banbury mixer, a kneader, and a mixing roll. Supply 28
A method of kneading at a temperature of 0 to 450 ° C. can be mentioned as an example. The order of mixing the raw materials is also not particularly limited, and is a method in which all the raw materials are blended and then melt-kneaded by the above-mentioned method, and a part of the raw materials are melt-kneaded by the above method, and then the remaining raw materials are blended and melted. Kneading method,
Alternatively, any method may be used, such as a method in which some raw materials are blended and then the remaining raw materials are mixed using a side feeder during melt-kneading by a single-screw or twin-screw extruder. Further, as for the small amount of the additive component, it is of course possible to knead the other component by the above-mentioned method and the like to form a pellet, and then add it before molding to provide for molding.

【0041】本発明の記憶媒体などの基板の成形方法と
しては、上記のPPS樹脂組成物を射出成形する方法
が、好ましい方法として挙げられる。この射出成形技術
には光ディスクの技術を活用することができる。つま
り、記憶媒体などの基板には、寸法精度や形状精度など
の高い精密成形技術および、金型技術が必要となるが、
射出成形時に金型の圧縮機構を組み合わせることによ
り、高い精度の成形品を得ることができるのである。
As a method of molding a substrate such as a storage medium of the present invention, a method of injection molding the above PPS resin composition is mentioned as a preferable method. Optical disk technology can be used for this injection molding technology. In other words, a substrate such as a storage medium requires high precision molding technology such as dimensional accuracy and shape accuracy, and mold technology.
By combining the compression mechanism of the mold at the time of injection molding, it is possible to obtain a highly accurate molded product.

【0042】樹脂製の記憶媒体などの基板の成形は、従
来の基板材料であるアルミニウムやガラスに比較して、
射出成形により短時間に表面精度の良いディスク成形品
を得られるため、基板の研削研磨工程を省略することが
でき、安価にディスク基板を成形し得ることと、光ディ
スクの成形技術であるマスタリング技術を応用し、スタ
ンパーなどにより予め必要となる情報を記録し得ること
で、より高い記憶密度の記憶媒体などの基板を生産性よ
く、低コストで得ることが可能となる。
Molding of a substrate such as a resin storage medium is performed in comparison with the conventional substrate materials of aluminum and glass.
A disk molded product with good surface accuracy can be obtained in a short time by injection molding, so the grinding and polishing step of the substrate can be omitted, the disk substrate can be molded inexpensively, and the mastering technology, which is the optical disk molding technology, is used. By applying the information and recording necessary information in advance by a stamper or the like, a substrate such as a storage medium having a higher storage density can be obtained with high productivity and at low cost.

【0043】また、本発明の樹脂製基板を用いた記憶媒
体は、ディスク基板を安価に製造できるという利点以外
に、軽量化や静音性に優れる点も利点として挙げられ
る。
In addition to the advantage that the disk substrate can be manufactured at low cost, the storage medium using the resin substrate of the present invention also has advantages in that it is lightweight and excellent in quietness.

【0044】しかしながら、射出成形で得られた基板そ
のままでは、その後の処理過程での耐熱性が不十分であ
るため、本発明においては、成形して得られた基板を2
20℃以上280℃以下の温度、より好ましくは240
℃以上270℃以下の温度でアニール処理することによ
り、その後の処理過程で必要とされる耐熱性をも付与で
きることが可能となる。アニール処理温度が上記の範囲
未満では耐熱性向上効果が認められず、上記の範囲を越
えると基板が変形する傾向を生じるため好ましくない。
However, since the substrate obtained by injection molding as it is has insufficient heat resistance in the subsequent processing steps, the substrate obtained by molding is used in the present invention.
20 ° C or more and 280 ° C or less, more preferably 240 ° C
By performing the annealing treatment at a temperature of not less than 270 ° C. and not more than 270 ° C., it is possible to impart heat resistance required in a subsequent treatment process. If the annealing temperature is lower than the above range, the effect of improving the heat resistance is not recognized. If the temperature exceeds the above range, the substrate tends to be deformed, which is not preferable.

【0045】アニール処理時間は0.5〜100時間が
好ましく選択され、1〜50時間がより好ましく、2〜
15時間がさらに好ましい。
The annealing time is preferably selected from 0.5 to 100 hours, more preferably from 1 to 50 hours, and from 2 to 50 hours.
More preferred is 15 hours.

【0046】アニール処理方法としては、基板を所定の
温度にコントロールされた加熱装置に入れて所定時間加
熱する方法が挙げられる。加熱装置に特に制限はない
が、電気加熱方式のオーブンあるいは赤外線加熱炉が使
用される。アニール処理の雰囲気としては、熱風循環式
および熱風流通式などが挙げられる。
As an annealing method, there is a method in which a substrate is placed in a heating device controlled at a predetermined temperature and heated for a predetermined time. The heating device is not particularly limited, but an electric heating oven or an infrared heating furnace is used. Examples of the atmosphere for the annealing treatment include a hot air circulation system and a hot air circulation system.

【0047】かかるアニール処理過程では、昇温時には
基板の熱膨張が起こり、降温時には基板が収縮する。ま
た、PPS樹脂の結晶化も進行する。かかる熱膨張・収
縮および結晶化により、表面平滑性や平面性を損なうこ
となく、高剛性を発現させるためには、無機充填材を上
述の如き配慮のもとに配合することが重要となるのであ
る。
In the annealing process, the substrate undergoes thermal expansion when the temperature rises, and contracts when the temperature falls. Further, crystallization of the PPS resin also proceeds. Due to such thermal expansion / shrinkage and crystallization, it is important to mix the inorganic filler with the above considerations in order to express high rigidity without impairing the surface smoothness and flatness. is there.

【0048】本発明の記憶媒体は、上記の如く成形、ア
ニール処理された記憶媒体基板の鏡面部分に、着磁膜な
どの記録層を形成せしめることにより製造することがで
きる。着磁膜の形成には、NiPメッキやスパッタリン
グなどの各種方法を採用することが可能である。
The storage medium of the present invention can be manufactured by forming a recording layer such as a magnetized film on a mirror portion of the storage medium substrate which has been molded and annealed as described above. Various methods such as NiP plating and sputtering can be used for forming the magnetized film.

【0049】本発明の記憶媒体基板および記憶媒体は、
耐熱性、表面平滑性、平面性および剛性に優れているこ
とから、良好な外観が要求される記憶媒体として使用さ
れ、特にハードディスク用の基板として、さらには軽量
で静音性に優れることから、特に音響および/または映
像記録・配信用機器やゲーム用のハードディスク基板と
して極めて適している。
The storage medium substrate and storage medium of the present invention
Since it has excellent heat resistance, surface smoothness, flatness and rigidity, it is used as a storage medium that requires a good appearance, especially as a substrate for hard disks, and because it is lightweight and excellent in quietness, It is extremely suitable as an audio and / or video recording / distribution device or a hard disk substrate for games.

【0050】[0050]

【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細
に説明する。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.

【0051】なお、実施例および比較例の中で述べられ
る曲げ弾性率、平均粗さRaおよび平面性は、それぞれ
次の方法に従って測定した。 [曲げ弾性率の測定]ASTM D790に準じて測定
を行った。具体的には次のように測定を行った。樹脂組
成物ペレットを、シリンダー温度320℃に設定した住
友−ネスタール社製射出成形機(SG75−HIPRO
・M III)に供給し、射出圧力=成形下限圧力+5Kg
f/cm2 ゲージ圧にて射出成形を行い、幅12.7m
m×高さ6.4mm×長さ127mmの試験片を得た。
この試験片を用い、23℃、相対湿度50%の雰囲気
下、スパン100mm、歪み速度3mm/minの条件
で測定を行った。 [表面粗さ(中心線平均粗さRa)の測定]シリンダー
温度320℃、金型温度150℃、金型鏡面部分の面粗
度Ra:0.02μmの条件で、120mm直径×1m
m厚の鏡面部分を有するディスク基板を成形した。その
鏡面部分の任意の5箇所について、走査型プローブ顕微
鏡(セイコーインスツルーメンツ社製SPI3800
N)を用いて、中心線平均粗さRaを測定し、平均値を
平均粗さRaとした。数値が低いほど表面平滑性が優れ
ていることを示す。 [平面性の測定]シリンダー温度320℃、金型温度1
50℃、金型鏡面部分の面粗度Ra:0.02μmの条
件で、120mm直径×1mm厚の鏡面部分を有するデ
ィスク基板を成形した。この基板を用い、アニール処理
を施さず、或いは必要に応じ所定のアニール処理を施し
た後、平面性を測定した。
The flexural modulus, average roughness Ra and flatness described in the examples and comparative examples were measured according to the following methods. [Measurement of Flexural Modulus] The measurement was performed according to ASTM D790. Specifically, the measurement was performed as follows. An injection molding machine (SG75-HIPRO) manufactured by Sumitomo-Nestal Co., Ltd. in which the resin composition pellets were set at a cylinder temperature of 320 ° C.
・ M III), injection pressure = molding lower limit pressure + 5 kg
Injection molding at f / cm 2 gauge pressure, width 12.7m
A test piece of mx height 6.4 mm x length 127 mm was obtained.
Using this test piece, the measurement was performed in an atmosphere of 23 ° C. and a relative humidity of 50% under the conditions of a span of 100 mm and a strain rate of 3 mm / min. [Measurement of Surface Roughness (Center Line Average Roughness Ra)] 120 mm diameter × 1 m under the conditions of a cylinder temperature of 320 ° C., a mold temperature of 150 ° C., and a surface roughness Ra of a mold mirror surface of 0.02 μm.
A disk substrate having an m-thick mirror surface was formed. Scanning probe microscope (SPI3800 manufactured by Seiko Instruments Inc.) is used for any five of the mirror surfaces.
Using N), the center line average roughness Ra was measured, and the average value was defined as the average roughness Ra. The lower the value, the better the surface smoothness. [Measurement of flatness] Cylinder temperature 320 ° C, mold temperature 1
A disk substrate having a mirror surface portion having a diameter of 120 mm and a thickness of 1 mm was formed under the conditions of 50 ° C. and a surface roughness Ra of the mirror surface portion of the mold of 0.02 μm. Using this substrate, the flatness was measured without performing an annealing process or after performing a predetermined annealing process as needed.

【0052】すなわち、基板の周囲から約5mm内側の
位置3点(基板中心を対称中心として、正三角形の頂点
となる位置)を支持する治具を作成した。この治具上に
上記基板を3点で支えられる状態で置き、これを熱風流
通式電気炉中、240℃で5分間処理した。基板表面温
度を測定したところ、基板表面温度は徐々に上昇し、2
40℃では1分間保持された。
That is, a jig was prepared which supports three points (positions at the apex of an equilateral triangle with the center of the substrate as the center of symmetry) about 5 mm inside from the periphery of the substrate. The substrate was placed on the jig in a state where it was supported at three points, and the substrate was treated at 240 ° C. for 5 minutes in a hot air flow type electric furnace. When the substrate surface temperature was measured, the substrate surface temperature gradually increased,
It was kept at 40 ° C. for 1 minute.

【0053】かかる処理を施した後、この基板を平坦な
ガラス板上に置き、Mitutoyo社製デジマチック
ハイトゲージを用い、10カ所の変形量を測定し、その
中の最大値を平面性の目安とした。平面性が極めて高い
場合、変形量はゼロとなる。この値が大きいほど変形が
大きく、平面性に劣ることを示す。
After this treatment, the substrate is placed on a flat glass plate, and the amount of deformation is measured at ten locations using a Digimatic height gauge manufactured by Mitutoyo Co., and the maximum value is used as a measure of flatness. did. When the planarity is extremely high, the deformation amount is zero. The larger this value is, the larger the deformation is, and the poorer the flatness is.

【0054】なお、実施例および比較例で用いた配合材
は以下の通りである。 [PPS樹脂(A)] PPS−1:東レ株式会社製 直鎖状PPS樹脂 M2
888 PPS−2:東レ株式会社製 架橋型PPS樹脂 M2
100 [無機充填材(B)] 沈降炭酸カルシウム:平均粒径0.2μmの非繊維状充
填材、(白石工業製:ブリリアント−1500、表面処
理剤でも分散剤でも処理されていない合成無機充填
材)。
The ingredients used in the examples and comparative examples are as follows. [PPS resin (A)] PPS-1: Linear PPS resin M2 manufactured by Toray Industries, Inc.
888 PPS-2: Toray Industries, Inc. cross-linked PPS resin M2
100 [Inorganic filler (B)] Precipitated calcium carbonate: Non-fibrous filler having an average particle size of 0.2 μm (Shiraishi Kogyo: Brilliant-1500, synthetic inorganic filler not treated with any surface treatment agent or dispersant) ).

【0055】硫酸バリウム:平均粒径0.7μmの非繊
維状充填材、(堺化学工業製:B55、表面処理剤でも
分散剤でも処理されていない合成無機充填材)。
Barium sulfate: Non-fibrous filler having an average particle size of 0.7 μm (B55, manufactured by Sakai Chemical Industry, a synthetic inorganic filler not treated with any surface treating agent or dispersant).

【0056】ガラスビーズ:平均粒径5μmの非繊維状
充填材、(東芝バロティーニ製:MB−10、表面処理
剤および/または分散剤で処理されている充填材)。
Glass beads: non-fibrous filler having an average particle size of 5 μm (manufactured by Toshiba Barotini: MB-10, filler treated with a surface treatment agent and / or a dispersant).

【0057】アルミナ:平均粒径1.0μmの非繊維状
充填材、(昭和電工株式会社製:AL−43−L、表面
処理剤でも分散剤でも処理されていない無機充填材)。
Alumina: Non-fibrous filler having an average particle size of 1.0 μm (AL-43-L, manufactured by Showa Denko KK, inorganic filler not treated with a surface treatment agent or a dispersant).

【0058】ガラス繊維:平均繊維長3000μm、平
均繊維径13μm、(日本電気ガラス製:TN717、
表面処理剤および/または分散剤で処理されている充填
材)。 [実施例1〜6]PPS樹脂(A)および無機充填材
(B)を、表1に示す割合でドライブレンドした後、3
50℃の押出条件に設定した2軸スクリュ−式押出機に
より溶融混練、ペレタイズを行った。これを130℃で
1晩乾燥してペレットを得た。
Glass fiber: average fiber length 3000 μm, average fiber diameter 13 μm, (manufactured by NEC Glass: TN717,
Fillers that have been treated with surface treatment agents and / or dispersants). [Examples 1 to 6] After the PPS resin (A) and the inorganic filler (B) were dry-blended at the ratios shown in Table 1, 3
Melt kneading and pelletizing were performed by a twin screw type extruder set to 50 ° C. extrusion conditions. This was dried at 130 ° C. overnight to obtain a pellet.

【0059】このペレットから、上記各種評価に使用す
る試験片または基板を射出成形により成形した。
From the pellets, test pieces or substrates used for the above-mentioned various evaluations were formed by injection molding.

【0060】アニール処理は、成形品(基板)を平坦な
金属板状に置き、熱風流通式のオーブンにて、以下に示
す所定の温度および時間で行った。
The annealing treatment was performed by placing the molded product (substrate) on a flat metal plate and using a hot-air circulation type oven at the following predetermined temperature and time.

【0061】条件A:(220℃×2時間)→(240
℃×2時間)→(260℃×2時間) 条件B:(220℃×2時間)→(240℃×2時間)
→(260℃×30時間) 条件C:(200℃×6時間) 得られた試験片および基板の各種物性評価結果を表1に
示す。 [比較例1〜6]アニール処理を施さないこと以外は、
実施例1〜5と同様にして、溶融混合、ペレタイズ、乾
燥、射出成形、物性評価を行った(比較例1〜5)。
Condition A: (220 ° C. × 2 hours) → (240
° C × 2 hours) → (260 ° C × 2 hours) Condition B: (220 ° C × 2 hours) → (240 ° C × 2 hours)
→ (260 ° C. × 30 hours) Condition C: (200 ° C. × 6 hours) Table 1 shows the results of evaluating various physical properties of the obtained test piece and substrate. [Comparative Examples 1 to 6] Except that no annealing treatment was performed,
In the same manner as in Examples 1 to 5, melt mixing, pelletizing, drying, injection molding, and evaluation of physical properties were performed (Comparative Examples 1 to 5).

【0062】また、アニール温度を、200℃、6時間
とした以外は、実施例2と同様にして、溶融混合、ペレ
タイズ、乾燥、射出成形、物性評価を行った(比較例
6)。
In addition, melt mixing, pelletizing, drying, injection molding, and evaluation of physical properties were performed in the same manner as in Example 2 except that the annealing temperature was set at 200 ° C. for 6 hours (Comparative Example 6).

【0063】これらの結果を表1に併せて示す。The results are shown in Table 1.

【0064】[0064]

【表1】 表1の結果から明らかなように、本発明の記憶媒体基板
は、優れた耐熱性、表面平滑性、剛性および平面性を有
するものである。
[Table 1] As is clear from the results in Table 1, the storage medium substrate of the present invention has excellent heat resistance, surface smoothness, rigidity, and flatness.

【0065】一方、アニール処理を施さなかった場合
(比較例1〜5)は、3点で支持して240℃で処理し
た際に、基板の中央部付近及び支持点間が沈み込み、明
らかに熱時剛性が不足していた。アニール処理を施すこ
とにより、この点が大きく改善されることが明らかであ
る。
On the other hand, when the annealing treatment was not performed (Comparative Examples 1 to 5), when the substrate was treated at 240 ° C. while being supported at three points, the vicinity of the center of the substrate and between the supporting points were sunk, and it was apparent that The rigidity at the time of heat was insufficient. It is clear that the annealing treatment significantly improves this point.

【0066】また、アニール温度200℃(比較例6)
では、熱時剛性の向上効果はほとんど認められなかっ
た。
The annealing temperature was 200 ° C. (Comparative Example 6)
Showed almost no effect of improving the rigidity under heat.

【0067】[0067]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
優れた耐熱性、表面平滑性、剛性および平面性を有する
記憶媒体基板およびそれからなる記憶媒体を得ることが
でき、特にハードディスク基板の分野においてに好適に
適用することができる。
As described above, according to the present invention,
A storage medium substrate having excellent heat resistance, surface smoothness, rigidity, and flatness and a storage medium made of the same can be obtained, and can be suitably applied particularly in the field of hard disk substrates.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 5/73 G11B 5/73 // B29K 81:00 B29K 81:00 83:00 83:00 105:16 105:16 B29L 7:00 B29L 7:00 31:36 31:36 Fターム(参考) 4F071 AA62 AB18 AB21 AB24 AB26 AH14 BB05 BC01 4F201 AA11 AA34 AB16 AB25 AG01 AH38 BA07 BC01 BC02 BC15 BC37 BD04 BR02 BR08 4F206 AA34 AH38 AH79 JA07 4J002 CN011 DA016 DE106 DE146 DE186 DE236 DG046 DG056 DJ006 DJ026 DK006 DL006 FA046 FD016 GS02 5D006 CB01 CB05 CB07 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme court ゛ (Reference) G11B 5/73 G11B 5/73 // B29K 81:00 B29K 81:00 83:00 83:00 105: 16 105: 16 B29L 7:00 B29L 7:00 31:36 31:36 F term (reference) 4F071 AA62 AB18 AB21 AB24 AB26 AH14 BB05 BC01 4F201 AA11 AA34 AB16 AB25 AG01 AH38 BA07 BC01 BC02 BC15 BC37 BD04 BR02 BR08 4F206 AA34 AH38 AH JA07 4J002 CN011 DA016 DE106 DE146 DE186 DE236 DG046 DG056 DJ006 DJ026 DK006 DL006 FA046 FD016 GS02 5D006 CB01 CB05 CB07

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリフェニレンスルフィド樹脂組成物か
らなる基板であって、220℃以上280℃以下の温度
でアニール処理が施されていることを特徴とする記憶媒
体基板。
1. A storage medium substrate comprising a polyphenylene sulfide resin composition, wherein the substrate is annealed at a temperature of 220 ° C. or more and 280 ° C. or less.
【請求項2】 前記基板が射出成形して得られた成形体
であることを特徴とする請求項1に記載の記憶媒体基
板。
2. The storage medium substrate according to claim 1, wherein the substrate is a molded product obtained by injection molding.
【請求項3】 前記ポリフェニレンスルフィド樹脂組成
物が、(A)ポリフェニレンスルフィド樹脂100重量
部に対し、(B)無機充填材0.05〜400重量部を
配合してなる組成物であることを特徴とする請求項1ま
たは2に記載の記憶媒体基板。
3. The polyphenylene sulfide resin composition is a composition comprising (A) 100 to 100 parts by weight of polyphenylene sulfide resin and (B) 0.05 to 400 parts by weight of an inorganic filler. 3. The storage medium substrate according to claim 1, wherein:
【請求項4】 前記ポリフェニレンスルフィド樹脂組成
物が、前記(B)無機充填材として、アスペクト比:L
(平均繊維長)/D(平均繊維径)が10以上の繊維状
充填材を、(A)ポリフェニレンスルフィド樹脂100
重量部に対し、10重量部以上含まない樹脂組成物であ
ることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載
の記憶媒体基板。
4. The polyphenylene sulfide resin composition according to claim 1, wherein the (B) inorganic filler has an aspect ratio of L:
A fibrous filler having (average fiber length) / D (average fiber diameter) of 10 or more was mixed with (A) polyphenylene sulfide resin 100
The storage medium substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein the resin composition does not contain 10 parts by weight or more based on parts by weight.
【請求項5】 前記(B)無機充填材の少なくとも一部
が、平均粒径が1μm未満の非繊維状無機充填材である
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の
記憶媒体基板。
5. The inorganic filler according to claim 1, wherein at least a part of the inorganic filler (B) is a non-fibrous inorganic filler having an average particle diameter of less than 1 μm. Storage medium substrate.
【請求項6】 前記(B)無機充填材が、炭酸塩、硫酸
塩、金属酸化物および珪酸系材料から選ばれた少なくと
も一種の無機充填材であることを特徴とする請求項1〜
5のいずれか1項に記載の記憶媒体基板。
6. The inorganic filler (B) is at least one inorganic filler selected from the group consisting of carbonates, sulfates, metal oxides and silicate-based materials.
6. The storage medium substrate according to claim 5.
【請求項7】 前記基板が、ハードディスク用基板であ
ることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載
の記憶媒体基板。
7. The storage medium substrate according to claim 1, wherein said substrate is a substrate for a hard disk.
【請求項8】 請求項1〜6のいずれか1項に記載の記
憶媒体基板を用いたことを特徴とする記憶媒体。
8. A storage medium using the storage medium substrate according to claim 1. Description:
【請求項9】 前記記憶媒体が、音響および/または映
像記録・配信機器またはゲーム機に使用されることを特
徴とする請求項8に記載の記憶媒体。
9. The storage medium according to claim 8, wherein the storage medium is used for an audio and / or video recording / distribution device or a game machine.
【請求項10】 請求項1〜6のいずれか1項に記載の
記録媒体基板上に記録層を形成することを特徴とする請
求項8または9に記載の記憶媒体の製造方法。
10. The method for manufacturing a storage medium according to claim 8, wherein a recording layer is formed on the recording medium substrate according to any one of claims 1 to 6.
JP2001140432A 2001-05-10 2001-05-10 Storage medium substrate, storage medium comprising the substrate, and method for manufacturing storage medium Pending JP2002331594A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001140432A JP2002331594A (en) 2001-05-10 2001-05-10 Storage medium substrate, storage medium comprising the substrate, and method for manufacturing storage medium

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001140432A JP2002331594A (en) 2001-05-10 2001-05-10 Storage medium substrate, storage medium comprising the substrate, and method for manufacturing storage medium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002331594A true JP2002331594A (en) 2002-11-19

Family

ID=18987038

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001140432A Pending JP2002331594A (en) 2001-05-10 2001-05-10 Storage medium substrate, storage medium comprising the substrate, and method for manufacturing storage medium

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002331594A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005056260A1 (en) * 2003-12-12 2005-06-23 Polyplastics Co., Ltd. Resin composition hardly staining metal mold and method of manufacturing the same
JP2006328291A (en) * 2005-05-30 2006-12-07 Polyplastics Co Polyarylene sulfide resin composition and injection molding
JP2008090988A (en) * 2006-10-05 2008-04-17 Konica Minolta Opto Inc Substrate for magnetic recording medium
JP2015200057A (en) * 2014-03-31 2015-11-12 日本製紙株式会社 Product containing fine calcium carbonate particles

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005056260A1 (en) * 2003-12-12 2005-06-23 Polyplastics Co., Ltd. Resin composition hardly staining metal mold and method of manufacturing the same
JPWO2005056260A1 (en) * 2003-12-12 2007-07-05 ポリプラスチックス株式会社 Resin composition with less mold deposit and method for producing the same
JP2006328291A (en) * 2005-05-30 2006-12-07 Polyplastics Co Polyarylene sulfide resin composition and injection molding
JP2008090988A (en) * 2006-10-05 2008-04-17 Konica Minolta Opto Inc Substrate for magnetic recording medium
JP2015200057A (en) * 2014-03-31 2015-11-12 日本製紙株式会社 Product containing fine calcium carbonate particles

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6223531B2 (en) Polyphenylene sulfide resin composition, method for producing the same, and reflector
JP6797350B2 (en) Polyarylene sulfide resin composition, molded article and manufacturing method
JP5277513B2 (en) Thermoplastic resin composition and method for producing the same
JPWO2016093309A1 (en) Polyarylene sulfide resin composition, molded product, composite molded product, and method for producing composite molded product
KR101267852B1 (en) Resin composition and molded article obtained by molding same
JPH028247A (en) Polyarylene sulfide resin composition and molding for optical reflection
TWI797724B (en) Liquid crystal polyester resin composition for ultra-thin injection and manufacturing method thereof
WO2018066637A1 (en) Polyarylene sulfide resin composition, molded article, and production method
JPWO2018139034A1 (en) Metal / resin composite structure and manufacturing method thereof
JP2002331594A (en) Storage medium substrate, storage medium comprising the substrate, and method for manufacturing storage medium
JP2018053004A (en) Polyarylene sulfide resin composition, molded product and method for producing them
JP2004176062A (en) Tablet for optical pickup part, optical pickup part obtained therefrom, and method for preparation of the same
JP3831174B2 (en) Polyarylene sulfide resin composition and use
JP2003268236A (en) Polyarylene sulfide resin composition
JP2002092861A (en) Storage medium substrate and storage medium consisting of the same
JP4100027B2 (en) Polyarylene sulfide resin composition
JP4834940B2 (en) High dielectric resin composition
JP5891015B2 (en) High thermal conductivity thermoplastic resin composition
JP2012224719A (en) Highly thermoconductive thermoplastic resin composition
JP2001247768A (en) Polyphenylene sulfide resin composition
KR102507218B1 (en) Thermotropic liquid crystal polyester resin composition and manufacturing method thereof.
JP5891016B2 (en) High thermal conductivity thermoplastic resin composition
JP4765242B2 (en) Tablet, method for producing the same and molded product obtained therefrom
JPH03269905A (en) Lamp reflector
JP2009024070A (en) Molded article, plated component and method for producing plated component