JP2002330351A - 固体撮像素子 - Google Patents

固体撮像素子

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JP2002330351A
JP2002330351A JP2001131890A JP2001131890A JP2002330351A JP 2002330351 A JP2002330351 A JP 2002330351A JP 2001131890 A JP2001131890 A JP 2001131890A JP 2001131890 A JP2001131890 A JP 2001131890A JP 2002330351 A JP2002330351 A JP 2002330351A
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Japan
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transistor
potential
imaging device
line
solid
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JP2001131890A
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English (en)
Inventor
Yasuyuki Endo
康行 遠藤
Kazunori Okui
一規 奥井
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 画素リセット時の読み出し線の電位が、増幅
用トランジスタのしきい値等のプロセスばらつきに影響
されることなく、固定パターンノイズの発生を低減させ
ることができる固体撮像素子を得ること。 【解決手段】 複数の画素セル間において共有される共
通読み出し線109上の特に相関二重サンプリング回路
111への入力ノードの直前の位置に、各画素セル内の
NMOSトランジスタ(リセットトランジスタ)103
pおよび103qのオン/オフ動作と逆に動作するNM
OSトランジスタ(スイッチトランジスタ)121を設
けて固体撮像素子を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、フォトダイオー
ド等の光電変換素子を備えた複数の画素セルを介して画
像データを取得する固体撮像素子に関し、特に、固定パ
ターンノイズを低減させることができる固体撮像素子に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】図6は、従来の固体撮像素子の構成の一
部を示す図である。特に、図6は、マトリクス状に配置
される複数の画素セルのうち、同一の列(垂直方向)上
に配置されて共通読み出し線109を共有する第p行目
の画素セルと第q行目の画素セルを示している。また、
図6に示す共通読み出し線109には、同一列上の複数
の画素セルから順次出力された電流に基づいて画素信号
を出力する相関二重サンプリング回路111が接続され
ている。さらに共通読み出し線109には、定電流源1
10が接続されている。
【0003】図6において、共通読み出し線109に接
続された第p行目の画素セル(以下、画素セルpと称す
る。)は、アノードが接地されたフォトダイオード10
2pと、共通電位線101にドレインが接続されフォト
ダイオード102pのカソードにソースが接続されたN
MOSトランジスタ103pと、フォトダイオード10
2pのカソードにゲートが接続され共通電位線101に
ソースが接続されたNMOSトランジスタ106pと、
NMOSトランジスタ106pのドレインにソースが接
続され共通読み出し線109にドレインが接続されたN
MOSトランジスタ107pと、を備えて構成される。
【0004】また、この画素セルpにおいて、NMOS
トランジスタ103pは、フォトダイオード102pを
リセットするための制御をおこなうリセットトランジス
タとして機能し、そのゲートはリセット制御水平信号線
104pに接続される。また、NMOSトランジスタ1
06pは、増幅用トランジスタであり、例えばAMI
(Amplified Mos Imager)素子を構成する画素セルにお
いて同位置に相当するAMIトランジスタである。ま
た、NMOSトランジスタ107pは、読み出し行を選
択する選択トランジスタとして機能し、そのゲートは選
択制御水平信号線108pに接続される。なお、共通電
位線101は、全画素セル共通の定電位線であり、電源
電位から所定のトランジスタのしきい値電圧分を引いた
電位以下の電位を有する。
【0005】一方、共通読み出し線109に接続された
第q行目の画素セル(以下、画素セルqと称する。)に
ついても、上記した画素セルpと同様な構成であり、図
6において、フォトダイオード102q、NMOSトラ
ンジスタ103q、106q、107qは、順にフォト
ダイオード102p、NMOSトランジスタ103p、
106p、107pに対応する。よって、リセット制御
水平信号線104qおよび選択制御水平信号線108q
は、リセット制御水平信号線104pおよび選択制御水
平信号線108pに対応する。
【0006】相関二重サンプリング回路111は、一方
の導通端子が共通読み出し線109に接続されたNMO
Sトランジスタ112と、一方の導通端子が共通読み出
し線109に接続されたNMOSトランジスタ114
と、一端がNMOSトランジスタ112の他方の導通端
子に接続され他端が接地されたキャパシタ116と、一
端がNMOSトランジスタ114の他方の導通端子に接
続され他端が接地されたキャパシタ117と、非反転入
力端子にキャパシタ116の一端が接続され反転入力端
子にキャパシタ117の一端が接続された増幅器118
と、を備えて構成される。
【0007】また、相関二重サンプリング回路111に
おいて、NMOSトランジスタ112は、信号レベル読
み出し用トランジスタとして機能し、そのゲートは信号
レベル読み出し制御線113に接続される。また、NM
OSトランジスタ114は、リセットレベル読み出し用
トランジスタとして機能し、そのゲートはリセットレベ
ル読み出し制御線115に接続される。よって、キャパ
シタ116は信号レベルを保持して、キャパシタ117
はリセットレベルを保持し、増幅器118は、それらキ
ャパシタに保持された信号レベルとリセットレベルの差
分を演算して出力端子119から差分信号を出力する。
【0008】以下に、図6に示した従来の固体撮像素子
の動作について説明する。なお、ここでは、画素セルp
から出力される信号を所定の読み出しタイミングによっ
て読み出す場合に、同タイミングにおいて画素セルqで
リセット動作がおこなわれる場合を考える。
【0009】まず、画素セルpにおいて、フォトダイオ
ード102pは、NMOSトランジスタ103pがオフ
にされることによってリセット動作が完了した直後か
ら、入射光に対する光電変換によって発生する電荷の蓄
積を開始する。これにより、フォトダイオード102p
のカソード端子の電位が下降するが、これは、NMOS
トランジスタ106pがAMIトランジスタである場合
には、電荷蓄積ノード105qへの電荷の蓄積を意味す
る。そして、画素セルpが選択される所定の読み出しタ
イミング、すなわち選択制御水平信号線108pにトラ
ンジスタのしきい値以上の電圧が印加されることでNM
OSトランジスタ107pがオン状態となるタイミング
によって、電荷蓄積ノード105qに蓄積された電荷
は、NMOSトランジスタ106pによって信号レベル
を示す電流信号に変換され、共通読み出し線109を介
して相関二重サンプリング回路111に入力される。
【0010】そして、信号レベル読み出し制御線113
に印加される所定の制御タイミングによって、NMOS
トランジスタ112がオン状態となり、これにより、相
関二重サンプリング回路111に入力された上記信号レ
ベルの電流はキャパシタ116に達して、キャパシタ1
16を充電する。
【0011】キャパシタ116の電位が上記信号レベル
に達すると、リセット制御水平信号線104pにトラン
ジスタのしきい値以上の電圧が印加されることでNMO
Sトランジスタ103pがオン状態となるタイミングに
よって、フォトダイオード102pは、リセットレベル
により決定される電圧、すなわち共通電位線101に印
加されている電圧に初期化される。これは、電荷蓄積ノ
ード105qにリセットレベルの電荷を蓄積することを
意味する。
【0012】ここで、電荷蓄積ノード105qに蓄積さ
れたリセットレベルに相当する電荷は、NMOSトラン
ジスタ106pによって信号レベルを示す電流信号に変
換され、共通読み出し線109を介して相関二重サンプ
リング回路111に入力されるが、この際、リセットレ
ベル読み出し制御線115に印加される所定の制御タイ
ミングによって、NMOSトランジスタ112がオフ状
態になるとともに、NMOSトランジスタ114がオン
状態となる。
【0013】よって、相関二重サンプリング回路111
に入力された上記リセットレベルの電流は、NMOSト
ランジスタ114を介してキャパシタ117に達し、キ
ャパシタ117を充電する。
【0014】以上の結果、増幅器118は、キャパシタ
116において保持された信号レベルと、キャパシタ1
17に保持されたリセットレベルとの差分を最終的な画
素信号レベルとして出力端子119から出力する。
【0015】このように、画素信号レベルは、相関二重
サンプリング回路111によって、リセットレベルを基
準とした信号として出力されるので、画素アレイ内に複
数配置される増幅用トランジスタ(NMOSトランジス
タ106pや106q)間でのしきい値電圧のばらつき
によって生じる固定パターンノイズを除去することがで
きる。換言すると、信号レベル蓄積後の電位とリセット
レベル蓄積直後の電位との差分をとることにより、リセ
ット動作完了直後の電荷蓄積層のレベルの絶対値のばら
つきを最終的な画素信号レベルから除去することが可能
となる。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の固体撮像素子の構成では、同一の共通読み出し
線109に接続された画素セル間(p、q)において、
増幅用トランジスタ(106p、106q)のしきい値
電圧等のばらつきによって、共通読み出し線109上の
電位が、信号蓄積開始直前におこなわれた画素リセット
時と相関二重サンプリング回路111に読み出し時の画
素リセット時において異なる値となっていた。このよう
な従来の固体撮像素子を実際の半導体プロセスにおいて
実現した場合には、電荷蓄積ノード(105p,105
q)と共通読み出し線109の間に寄生容量120が存
在するため、上記した電位差が、寄生容量120を通し
ての容量結合により固定パターンノイズとして画像出力
に影響を与えるという問題があった。
【0017】以下にこの問題について説明する。いま、
画素セルqが非選択状態(すなわち、NMOSトランジ
スタ107qがオフの状態)でリセット動作中であり、
かつ画素セルpが選択状態(すなわち、NMOSトラン
ジスタ107pがオンの状態)でリセット動作中である
場合を考える。換言すれば、同じリセット動作中であっ
ても画素セルpのリセットレベルのみが相関二重サンプ
リング回路111に入力されている状態である。
【0018】よって、この状態では、共通読み出し線1
09の電位は、電荷蓄積ノード105pのリセットレベ
ルを、NMOSトランジスタ106pを介して読み出し
た電位となっている。そして、共通読み出し線109の
電位がNMOSトランジスタ106pのトランジスタの
特性に基づいて確定した時点で、リセット動作中の画素
セルqのリセットレベルが確定する。
【0019】一方、画素セルqが選択状態になり、相関
二重サンプリング回路111が画素セルqのリセットレ
ベルを読み出す状態では、共通読み出し線109の電位
は、電荷蓄積ノード105qの電位を、NMOSトラン
ジスタ106qを介して読み出した値となり、NMOS
トランジスタ106qのトランジスタの特性に基づくタ
イミングでリセットレベルとして確定される。
【0020】従って、信号蓄積開始時と相関二重サンプ
リング読み出し時の各画素リセット時における共通読み
出し線の電位は、増幅用トランジスタであるNMOSト
ランジスタ106pと106qとのしきい値電圧等のば
らつきを反映して異なる値となり、その電位差が、寄生
容量120を通しての容量結合により固定パターンノイ
ズとして画像出力に影響を与える。
【0021】この発明は上記問題点を解決するためにな
されたもので、画素リセット時の読み出し線の電位が、
増幅用トランジスタのしきい値等のプロセスばらつきに
影響されることなく、固定パターンノイズの発生を低減
させることができる固体撮像素子を得ることを目的とす
る。
【0022】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決し、
目的を達成するため、この発明にかかる固体撮像素子に
あっては、光電変換素子と、当該光電変換素子から出力
された電気信号をゲートに入力するとともに導通端子の
一方が列単位または行単位で共有される共通信号線に接
続された増幅用トランジスタと、を具備した画素セルを
マトリクス状に複数配置した固体撮像素子において、前
記光電変換素子のリセット動作中に前記共通信号線また
は全画素セル間の共通出力線に流れる電流を遮断するス
イッチトランジスタを備えたことを特徴としている。
【0023】つぎの発明にかかる固体撮像素子にあって
は、上記発明において、導通端子の一方が前記増幅用ト
ランジスタと同電位の電位線に接続され、導通端子の他
方が前記共通信号線に接続されるとともに、前記スイッ
チングトランジスタのスイッチング動作と相補的なスイ
ッチング動作をおこなう電位固定用トランジスタを備え
たことを特徴としている。
【0024】つぎの発明にかかる固体撮像素子にあって
は、上記発明において、前記電位固定用トランジスタ
が、前記共通信号線の寄生容量CLと、前記光電変換素
子のリセット期間Tと、リセット期間中に前記共通信号
線に出力される電位の全画素を通じての最大値と最小値
との差分VMと、当該リセット期間中に前記電位固定用
トランジスタが開くことによって当該電位固定用トラン
ジスタの導通端子から前記共通信号線に流れる電流の平
均値Iと、の関係がCL・VM/T<Iを満たす駆動能
力を有することを特徴としている。
【0025】
【発明の実施の形態】以下に、この発明にかかる固体撮
像素子の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるもの
ではない。
【0026】実施の形態1.まず、実施の形態1にかか
る固体撮像素子について説明する。実施の形態1にかか
る固体撮像素子は、複数の画素セル間において共有され
る共通読み出し線上の特に相関二重サンプリング回路へ
の入力ノードの直前の位置に、各画素セル内のリセット
トランジスタのオン/オフ動作と逆に動作するスイッチ
トランジスタを設けたことを特徴としている。
【0027】図1は、実施の形態1にかかる固体撮像素
子の構成を説明するための説明図である。なお、図1に
おいて、図6と共通する部分には同一の符号を付してそ
の説明を省略する。図1に示す固体撮像素子では、共通
読み出し線109上において、定電流源110と画素セ
ルとの間にスイッチトランジスタとして機能するNMO
Sトランジスタ121を設けている点が図6と異なる。
【0028】特に、このNMOSトランジスタ121
は、スイッチ制御線122から入力される制御信号に応
じて、図1に示す画素セル(p、q)においてリセット
トランジスタであるNMOSトランジスタ(103p、
103q)がオン状態となって開いているときにオフ状
態となって閉じ、逆にオフ状態となって閉じているとき
にオン状態となって開く。
【0029】これにより、共通読み出し線109は、画
素セル(p、q)のフォトダイオード(102p、10
2q)および電荷蓄積ノード(105p、105q)が
リセット動作を示す期間に、定電流源110から切り離
される。そして、選択状態にある画素セル(例えば、画
素セルp)の増幅用トランジスタ(例えば、NMOSト
ランジスタ106p)が、共通読み出し線109の画素
側を充放電する。この充放電により、共通読み出し線1
09の画素側は最終的に共通電位線101の電位に安定
する。すなわち、各画素セルがリセット動作中(リセッ
トレベルに対応する電荷が蓄積されている期間)におい
て、共通読み出し線109の電位は、各画素セルの増幅
用トランジスタのしきい値等のプロセスばらつきに依存
することなく、一定の電位を保持する。
【0030】一方、相関二重サンプリング回路111
は、画素セルのリセットトランジスタ(NMOSトラン
ジスタ103p、103q)がオフ状態となって閉じ、
かつNMOSトランジスタ121が画素セルのリセット
動作の完了したタイミングでオン状態となって開いた後
に、共通読み出し線109を介して画素セルのリセット
レベルを読み出す。
【0031】以上に説明したとおり、実施の形態1にか
かる固体撮像素子によれば、画素セルのリセットトラン
ジスタの開閉とは逆の動作をおこない、かつ、その閉時
に共通読み出し線109から定電流源110を切り離す
ことができるスイッチトランジスタを設けているので、
リセット動作中において、共通読み出し線109上の電
位を共通電位線101に固定することができる。これに
より、信号蓄積開始時と相関二重サンプリング読み出し
時の各画素リセット時における共通読み出し線の電位に
差が現われることがなくなり、結果的に電荷蓄積ノード
(105p,105q)と共通読み出し線109の間の
寄生容量120によって発生する固定パターンノイズを
低減することが可能になる。
【0032】なお、図1では、各画素セル内の増幅用ト
ランジスタ(106p、106q)の一方の導通端子を
共通電位線101に接続するとともに共通読み出し線1
09上の定電流源110の他端を接地した構成を示した
が、増幅用トランジスタ(106p、106q)の一方
の導通端子を接地し、共通読み出し線109上の定電流
源110の他端に電源電位を供給する構成としても同様
な効果を享受することができる。
【0033】図2は、その場合の固体撮像素子の構成を
示す図である。図2に示すように、画素セルpのNMO
Sトランジスタ106pと画素セルqのNMOSトラン
ジスタ106qは、それぞれソースを接地し、定電流源
110は、他端を電源ラインに接続している。
【0034】実施の形態2.つぎに、実施の形態2にか
かる固体撮像素子について説明する。実施の形態2にか
かる固体撮像素子は、実施の形態1に説明した固体撮像
素子の構成に加え、共通読み出し線に並列に、電位固定
用のトランジスタを設けたことを特徴としている。
【0035】図3は、実施の形態2にかかる固体撮像素
子の構成を説明するための説明図である。なお、図3に
おいて、図1と共通する部分には同一の符号を付してそ
の説明を省略する。図3に示す固体撮像素子では、共通
読み出し線109上において、定電流源110と画素セ
ルとの間に、スイッチトランジスタとして機能するNM
OSトランジスタ121に加え、ドレインが共通読み出
し線109に接続されソースが共通電位線101に接続
されたNMOSトランジスタ123と、入力端子がスイ
ッチ制御線122に接続され出力端子がNMOSトラン
ジスタ123のゲートに接続されたインバータ124
と、を設けている点が図1と異なる。
【0036】特に、このNMOSトランジスタ123
は、NMOSトランジスタ121と相補的に動作し、ス
イッチ制御線122から入力される制御信号に応じて、
NMOSトランジスタ123がオン状態となって開いて
いるときにオフ状態となって閉じ、逆にNMOSトラン
ジスタ123がオフ状態となって閉じているときにオン
状態となって開く。
【0037】よって、この電位固定用のNMOSトラン
ジスタ123は、スイッチトランジスタとして機能する
NMOSトランジスタ121が閉じている状態、すなわ
ち画素におけるフォトダイオード(102p、102
q)および電荷蓄積ノード(105p、105q)がリ
セット動作中である場合にのみ開き、共通読み出し線1
09を、増幅用トランジスタ(106p、106q)と
同様に定電位線の電位に充放電動作をおこなう。
【0038】ここで、共通読み出し線109上の寄生容
量120の容量値をCL、フォトダイオード(102
p、102q)のリセット期間をT、共通読み出し線1
09にリセット期間中に出力される電位の、全画素セル
を通じての最大値と最小値との差分をVMとし、さらに
このリセット期間中に電位固定用のNMOSトランジス
タ123が開くことによってソースから共通読み出し線
109に流れる電流の平均値をIとしたときに、電位固
定用のNMOSトランジスタ123は、 CL・VM/T<I を満たす駆動能力を有することが好ましい。
【0039】以上に説明したとおり、実施の形態2にか
かる固体撮像素子によれば、画素セルのリセットトラン
ジスタの開閉動作と同じ開閉動作をおこない、かつ、そ
の開時に、定電流源110が切り離された状態の共通読
み出し線109に共通電位線101の電位を与えること
ができる電位固定用のトランジスタを設けているので、
画素セルがリセット動作中である場合に、共通読み出し
線109の電位を固定させる際の充電速度を向上させる
ことができる。
【0040】また、高解像度撮像素子や高速撮像素子に
対して要求される、画素制御基本サイクル期間の減少に
ともなうリセット期間の減少、またはAMIトランジス
タ等の増幅用トランジスタのサイズ縮小にともなう増幅
率の低下が生じた場合であっても、共通読み出し線10
9の電位固定をリセット動作中に確実に完了させること
ができる。
【0041】なお、図4に示すように、増幅用トランジ
スタ(106p、106q)の一方の導通端子を接地
し、共通読み出し線109上の定電流源110の他端に
電源電位を供給する構成としても同様な効果を享受する
ことができる。
【0042】実施の形態3.つぎに、実施の形態3にか
かる固体撮像素子について説明する。図5は、実施の形
態3にかかる固体撮像素子の構成を説明するための説明
図である。特に、図5に示す固体撮像素子は、X−Yア
ドレス型の固体撮像素子の構成を示している。
【0043】図5において、固体撮像素子は、マトリク
ス状に配置された複数の画素セルと、垂直方向スキャナ
201と、水平方向スキャナ202と、光電変換素子の
リセット用電源216と、読み出された信号電流を電圧
に変換する電流電圧変換回路214と、を備えて構成さ
れる。なお、電流電圧変換回路214の後段に、実施の
形態1および2で説明した相関二重サンプリング回路
(図示省略)が設けられる。
【0044】以下の実施の形態の説明においては、複数
の画素セルのうち、第p行目と第r列目とで特定される
画素セルと第q行目と第r列目とで特定される画素セル
とを例にあげる。図5に示す画素セルにおいて、203
prおよび203qrはそれぞれp行r列およびq行r
列の光電変換素子を示し、204prおよび204qr
はそれぞれp行r列およびq行r列の水平方向リセット
トランジスタを示し、205prおよび205qrはそ
れぞれp行r列およびq行r列の垂直方向リセットトラ
ンジスタを示す。
【0045】また、206prおよび206qrはそれ
ぞれp行r列およびq行r列の増幅用AMIトランジス
タを示し、207prおよび207qrはそれぞれp行
r列およびq行r列の読み出し画素列選択トランジスタ
を示し、211pおよび211qはそれぞれp行および
q行の読み出し線を選択する読み出し行選択トランジス
タを示し、217pおよび217qはそれぞれp行およ
びq行の電位固定用トランジスタを示し、208prお
よび208qrはそれぞれp行r列およびq行r列の画
素セルにおいて光電変換された信号電荷を蓄積する電荷
蓄積ノードを示す。
【0046】また、209pおよび209qはそれぞれ
p行およびr行の水平方向リセットトランジスタの動作
を制御する水平方向リセット制御線を示し、210pお
よび210qはそれぞれ読み出し行選択トランジスタ2
11pおよび211qを制御する水平方向読み出し制御
線を示し、212pおよび212qはそれぞれp行およ
びr行の共通読み出し線を示し、213rはr列の垂直
方向リセットトランジスタおよび読み出し画素列選択ト
ランジスタを制御する制御線を示し、215は出力信号
線を示す。
【0047】なお、実施の形態3の説明においては、読
み出し行選択トランジスタ211pおよび211qはN
MOS型で構成され、電位固定用トランジスタ217p
および217qはPMOS型で構成されているとし、制
御信号210pおよび210qに対し両トランジスタは
相補的に開閉する。
【0048】ここで、読み出し行選択トランジスタ(2
11pおよび211q)は、実施の形態1に説明したス
イッチトランジスタのように、読み出されていない行に
対しては常に閉状態であるが、読み出されている行にお
いても、光電変換素子(203pr、203qr)およ
び電荷蓄積ノード(208pr、208qr)がリセッ
ト動作中を示す場合には閉状態となる。これより、電位
固定用トランジスタ(217p、217q)を通じて共
通読み出し線(212p、212q)が電源電位に固定
される。
【0049】また、画素セルの電荷蓄積開始のリセット
時には、読み出し行選択トランジスタ(211pおよび
211q)は閉じているので、同じく共通読み出し線
(212p、212q)は電源電位に固定されている。
【0050】以上に説明したとおり、実施の形態3にか
かる固体撮像素子によれば、電荷蓄積を開始する際のリ
セット時の共通読み出し線(212p、212q)の電
位と、相関二重サンプリング回路がリセットレベルを入
力する際の共通読み出し線(212p、212q)の電
位とは電源電位に固定されているため、実施の形態2に
よる効果を享受することができる。
【0051】
【発明の効果】以上、説明したとおり、この発明によれ
ば、光電変換素子のリセット動作中に共通信号線または
全画素セル間の共通出力線に流れる電流を遮断するスイ
ッチトランジスタを設けているので、リセット動作中に
おいて、共通出力線の電位を増幅用トランジスタの導通
端子の他方の電位に固定することができる。これによ
り、信号蓄積開始時と相関二重サンプリング読み出し時
の各画素リセット時における共通信号線の電位に差が現
われることがなくなり、結果的に電荷蓄積ノードと共通
信号線の間の寄生容量によって発生する固定パターンノ
イズを低減することが可能になるという効果を奏する。
【0052】つぎの発明によれば、導通端子の一方が増
幅用トランジスタと同電位の電位線に接続され、導通端
子の他方が共通信号線に接続されるとともに、上記した
スイッチングトランジスタのスイッチング動作と相補的
なスイッチング動作をおこなう電位固定用トランジスタ
を設けているので、画素セルがリセット動作中である場
合に、共通信号線の電位を固定させる際の充電速度を向
上させることができるという効果を奏する。
【0053】つぎの発明によれば、電位固定用トランジ
スタとして、共通信号線の寄生容量CLと、光電変換素
子のリセット期間Tと、リセット期間中に共通信号線に
出力される電位の全画素を通じての最大値と最小値との
差分VMと、そのリセット期間中に電位固定用トランジ
スタが開くことによって電位固定用トランジスタの導通
端子から共通信号線に流れる電流の平均値Iと、の関係
がCL・VM/T<Iを満たす駆動能力を有するトラン
ジスタを用いることで、上記した効果を享受することが
できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施の形態1にかかる固体撮像素子の構成を
説明するための説明図である。
【図2】 実施の形態1にかかる固体撮像素子の構成の
他の例を説明するための説明図である。
【図3】 実施の形態2にかかる固体撮像素子の構成を
説明するための説明図である。
【図4】 実施の形態2にかかる固体撮像素子の構成の
他の例を説明するための説明図である。
【図5】 実施の形態3にかかる固体撮像素子の構成を
説明するための説明図である。
【図6】 従来の固体撮像素子の構成の一部を示す図で
ある。
【符号の説明】
101 共通電位線、102p,102q フォトダイ
オード、103p,103q,106p,106q,1
07p,107q,112,114,121,123
NMOSトランジスタ、104p,104q リセット
制御水平信号線、105p,105q 電荷蓄積ノー
ド、108p,108q 選択制御水平信号線、109
共通読み出し線、110 定電流源、111 相関二
重サンプリング回路、113 信号レベル読み出し制御
線、115 リセットレベル読み出し制御線、116,
117 キャパシタ、118 増幅器、119 出力端
子、120 寄生容量、122 スイッチ制御線、12
4 インバータ、201 垂直方向スキャナ、202
水平方向スキャナ、211p,211q 行選択トラン
ジスタ、217p,217q 電位固定用トランジス
タ、214 電流電圧変換回路、216 リセット用電
源。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4M118 AA05 AB01 BA14 CA02 DD10 DD11 DD12 FA06 5C024 AX01 CX06 GX03 GX16 GX18 GY42 HX13 HX35 HX50 JX34 5F049 MA01 NA04 NB05 RA02 RA08 RA10 UA20

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光電変換素子と、当該光電変換素子から
    出力された電気信号をゲートに入力するとともに導通端
    子の一方が列単位または行単位で共有される共通信号線
    に接続された増幅用トランジスタと、を具備した画素セ
    ルをマトリクス状に複数配置した固体撮像素子におい
    て、 前記光電変換素子のリセット動作中に前記共通信号線ま
    たは全画素セル間の共通出力線に流れる電流を遮断する
    スイッチトランジスタを備えたことを特徴とする固体撮
    像素子。
  2. 【請求項2】 導通端子の一方が前記増幅用トランジス
    タと同電位の電位線に接続され、導通端子の他方が前記
    共通信号線に接続されるとともに、前記スイッチングト
    ランジスタのスイッチング動作と相補的なスイッチング
    動作をおこなう電位固定用トランジスタを備えたことを
    特徴とする請求項1に記載の固体撮像素子。
  3. 【請求項3】 前記電位固定用トランジスタは、前記共
    通信号線の寄生容量CLと、前記光電変換素子のリセッ
    ト期間Tと、リセット期間中に前記共通信号線に出力さ
    れる電位の全画素を通じての最大値と最小値との差分V
    Mと、当該リセット期間中に前記電位固定用トランジス
    タが開くことによって当該電位固定用トランジスタの導
    通端子から前記共通信号線に流れる電流の平均値Iと、
    の関係がCL・VM/T<Iを満たす駆動能力を有する
    ことを特徴とする請求項2に記載の固体撮像素子。
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