JP2002328175A - 指向エネルギ・ビームで溶接したct検出器コリメータ - Google Patents

指向エネルギ・ビームで溶接したct検出器コリメータ

Info

Publication number
JP2002328175A
JP2002328175A JP2001399328A JP2001399328A JP2002328175A JP 2002328175 A JP2002328175 A JP 2002328175A JP 2001399328 A JP2001399328 A JP 2001399328A JP 2001399328 A JP2001399328 A JP 2001399328A JP 2002328175 A JP2002328175 A JP 2002328175A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
collimator
wire
rail
plate
post
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001399328A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4225726B2 (ja
JP2002328175A5 (ja
Inventor
Dale S Zastrow
デール・エス・ザストロウ
Jr Jimmie A Beacham
ジミー・エー・ビーチャム,ジュニア
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
GE Medical Systems Global Technology Co LLC
Original Assignee
GE Medical Systems Global Technology Co LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by GE Medical Systems Global Technology Co LLC filed Critical GE Medical Systems Global Technology Co LLC
Publication of JP2002328175A publication Critical patent/JP2002328175A/ja
Publication of JP2002328175A5 publication Critical patent/JP2002328175A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4225726B2 publication Critical patent/JP4225726B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/02Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
    • G21K1/025Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using multiple collimators, e.g. Bucky screens; other devices for eliminating undesired or dispersed radiation

Abstract

(57)【要約】 【課題】 コンピュータ断層撮影(CT)イメージング
・システム用のポストペイシェント・コリメータ(5
6)を製作する方法を提供する。 【解決手段】 少なくとも1台の指向エネルギ・ビーム
溶接機(64)を使用して、コリメータ・プレート(6
2)を頂部レール(58)に縁溶接し、コリメータ・プ
レートを底部レール(60)に縁溶接する。この方法
は、プレートを正確に位置決めするために精密な櫛形部
材を必要とする方法よりも効率のよい安価なCTイメー
ジング・システム用ポストペイシェント・コリメータ製
作方法を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般的にはコンピ
ュータ断層撮影イメージング・システムに関するもので
あり、より具体的には、このようなシステムに使用され
るポスト・ペイシェント(post-patient)コリメータ及び
このようなコリメータを製作する方法に関するものであ
る。
【0002】
【発明の背景】コンピュータ断層撮影(CT)イメージ
ング(画像作成)システムの少なくとも一形式の公知の
構成では、X線源から扇(ファン)形ビームを投射し、
この扇形ビームをデカルト座標系のX−Y平面(これは
一般に「イメージング平面」と呼ばれる)内に位置する
ようにコリメートする。このX線ビームは、撮影対象
物、例えば患者を通過する。X線ビームは、該対象物に
よって減弱して放射線検出器アレイに入射する。検出器
アレイで受けた、減弱したビームの放射線の強さは、対
象物によるX線ビームの減弱度に依存する。アレイの各
検出器素子は、その検出位置におけるビーム減弱度の測
定値である別々の電気信号を発生する。全ての検出器か
らのこれらの減弱度測定値は、別々に収集されて透過分
布を形成する。
【0003】公知の第3世代のCTシステムでは、X線
源及び検出器アレイはガントリと共に撮影対象物の周り
をイメージング平面内で回転して、X線ビームが対象物
を横切る角度が絶えず変化するようにする。一ガントリ
角度における検出器アレイからの一群の減弱度測定値、
すなわち投影データが、「ビュー(view)」と呼ばれてい
る。対象物の「スキャン(scan)」は、X線源及び検出器
が一回転する間に様々なガントリ角度すなわちビュー角
度(撮影角度)で取得されたビューの集合で構成され
る。アキシャル・スキャンでは、投影データが、対象物
を切断する2次元スライスに対応する画像を構成するよ
うに処理される。投影データの集合から1つの画像を再
構成する一方法が、当該分野ではフィルタ補正逆投影法
と呼ばれている。この手法では、スキャンからの減弱測
定値を「CTナンバー」又は「ハウンスフィールド単
位」と呼ばれる整数に変換し、この整数を使用して陰極
線管表示装置の対応する画素の輝度を制御する。
【0004】マルチスライス型イメージング・システム
では、検出器が複数の平行な検出器列を有し、その各々
の列(row) は複数の個別の検出器素子で構成されてい
る。マルチスライス型検出器は対象物のボリュームを表
す複数の画像を提供することができる。複数の画像のう
ちの各々の画像は該ボリュームの別々の「スライス」に
対応する。スライスの厚さすなわち開口(aperture)は検
出器列の厚さに依存する。また、複数の隣接する検出器
列(すなわち、マクロ列(macro row) )からのデータを
選択的に組み合わせて、異なる選択した厚さのスライス
を表す画像を得ることも知られている。
【0005】マルチスライス型CT検出器にポストペイ
シェント(post-patient)コリメータを設けることが知ら
れている。このようなコリメータは、個別のシンチレー
ション型検出器素子に入射するX線をコリメートし且つ
これらの検出器素子の合間に入射するX線を減衰させる
ために、多数の整列したプレート及びワイヤを含んでい
る。公知の一システムでは、コリメータ・プレートの整
列及びワイヤの取付けを行うために、様々な構成部品に
整列用のスロット及び切欠きが設けられていると共に、
結合用に接着材が用いられている。コリメータ・プレー
ト及びワイヤの精密な整列のために現在必要とされる製
作工程は、製作コストをかなり増大させている。例え
ば、1つの公知のコリメータを製作するためには、精密
なスロット、スロット間隔及びスロット位置合わせを持
つ上側及び下側櫛形部材が、コリメータ・プレートの挿
入のために必要とされている。公知のポストペイシェン
ト・コリメータでは溶接は実用的ではなかった。という
のは、溶接プロセス自身によりコリメータ・プレートに
歪みが誘起されるからである。
【0006】従って、CTイメージング・システム用の
精密に整合したポストペイシェント・コリメータを提供
し、また精密な櫛形部材を必要とするものよりは一層効
率が良く且つ安価であるポストペイシェント・コリメー
タ製作方法を提供することは、望ましいことである。
【0007】
【発明の概要】このため、本発明の一実施形態では、C
Tイメージング・システム用のポストペイシェント・コ
リメータを製作する方法を提供する。本方法は、少なく
とも1台の指向エネルギ・ビーム(directed energy bea
m)溶接機を使用して、コリメータ・プレートを頂部レー
ルに縁溶接(edge weld) する工程と、少なくとも1台の
指向エネルギ・ビーム溶接機を使用して、コリメータ・
プレートを底部レールに縁溶接する工程とを含む。
【0008】上述の実施形態は、プレートを正確に位置
決めするために精密な櫛形部材を必要とする方法よりも
効率のよい安価なCTイメージング・システム用ポスト
ペイシェント・コリメータ製作方法を提供する。
【0009】
【発明の詳しい説明】図1及び2には、第3世代のCT
スキャナを表すガントリ12を含むものとしてコンピュ
ータ断層撮影(CT)イメージング・システム10が示
されている。ガントリ12はX線源14を有し、X線源
14はガントリの反対側にある検出器アレイ18へ向か
ってX線ビーム16を投射する。検出器アレイ18は複
数の検出器素子20によって形成され、これらの検出器
素子20は一緒に対象物(例えば、患者)22を通過し
た投射X線を検知する。各検出器素子20は、それに入
射するX線ビームの強さを表す電気信号、すなわち対象
物22を通過したときのビームの減弱度を表す電気信号
を発生する。X線投影データを収集するための走査の
際、ガントリ12及びそれに装着された部品は回転中心
24の周りを回転する。検出器アレイ18は単一スライ
ス型又はマルチスライス型の構成に製作し得る。マルチ
スライス型の構成では、検出器アレイ18は複数の列(r
ow) の検出器素子20を有しており、図2にはその一列
のみが示されている。
【0010】ガントリ12の回転及びX線源14の動作
はCTシステム10の制御機構26によって制御され
る。制御機構26は、X線源14へ電力及びタイミング
信号を供給するX線制御装置28と、ガントリ12の回
転速度及び位置を制御するガントリ・モータ制御装置3
0とを含んでいる。制御機構26内のデータ収集システ
ム(DAS)32は検出器素子20からのアナログ・デ
ータをサンプリングして、該データをその後の処理のた
めにディジタル信号へ変換する。画像再構成装置34
は、サンプリングされディジタル化されたX線データを
DAS32から受け取って、高速画像再構成を実行す
る。再構成された画像はコンピュータ36へ入力として
印加され、該コンピュータは該画像を大容量記憶装置3
8に格納する。
【0011】コンピュータ36はまた、キーボードを備
えたコンソール40を介してオペレータから指令及び走
査パラメータも受け取る。付設された陰極線管表示装置
42により、オペレータは再構成された画像及びコンピ
ュータ36からの他のデータを観察することが出来る。
コンピュータ36はオペレータにより供給された指令及
びパラメータを使用して、制御信号及び情報をDAS3
2、X線制御装置28及びガントリ・モータ制御装置3
0へ供給する。さらに、コンピュータ36は、ガントリ
12内に患者22を位置決めするように電動テーブル4
6を制御するテーブル・モータ制御装置44を作動す
る。具体的に述べると、テーブル46は患者22の各部
分をガントリ開口48の中に通すように移動させる。
【0012】一実施形態において、図3及び図4を参照
して説明すると、検出器アレイ18は複数のモジュール
50を含んでいる。各々のモジュール50は、シンチレ
ータ・アレイ52とフォトダイオード・アレイ54とを
含んでいる。各検出器素子20は、フォトダイオード・
アレイ54のうちの1つのフォトダイオードと、シンチ
レータ・アレイ52のうちの対応する1つのシンチレー
タとを含んでいる。検出器アレイ18の各々のモジュー
ル50は16×16の検出器素子20のアレイを有し、
検出器アレイ18は57個のこのようなモジュールを有
する。したがって、検出器アレイ18は最大16画像ス
ライスまでの投影データを同時に収集することが可能で
ある。
【0013】一実施形態において、図5を参照して説明
すると、対象物又は患者22を通過した後のX線をコリ
メートするため、ポストペイシェント・コリメータ56
が検出器アレイ18の上に配置される。ポストペイシェ
ント・コリメータ56は、頂部レール58、及び該頂部
レール58から離間し且つ該頂部レール58に平行に配
置された底部レール60を含んでいる。複数のコリメー
タ・プレート62(例えば、タングステン製プレート)
がそれぞれのレール58及び60の間に半径方向に配列
されている(図5は、1つのコリメータ・プレート62
に沿って取ったポストペイシェント・コリメータ56の
横断面図である)。コリメータ・プレートをレール58
及び60に取り付けるために、コリメータ・プレート6
2の各々は、少なくとも1台の指向エネルギ・ビーム溶
接機64を使用して、その対向する両方の端部でレール
58及び60に縁溶接される。縁溶接(edge welding)の
使用により、図5の平面からのコリメータ・プレートの
反りが防止される。これにより、特にコリメータ・プレ
ート62の縁に指し向けられていないレーザ溶接を含む
他の溶接法に固有の歪みが避けられる。適当な種類の指
向エネルギ・ビーム溶接機64としては、光子を含む指
向エネルギ・ビーム65を利用する溶接機(例えば、レ
ーザ・ビーム溶接機)、及び粒子を利用する溶接機(例
えば、電子ビーム溶接機)が挙げられる。指向エネルギ
・ビーム65は、単一点にそのエネルギを集中する細い
エネルギ・ビームである(図5は、2つの扇形エネルギ
・ビームではなく、異なる位置、すなわち66、68、
70及び72に指し向けられた狭いビーム65を示そう
としたものである)。
【0014】具体的に述べると、コリメータ・プレート
62の頂部後側コーナー66、頂部前側コーナー68、
底部後側コーナー70及び底部前側コーナー72が、図
5の平面内で指向エネルギ・ビーム溶接により縁溶接さ
れる。頂部後側コーナー66及び底部後側コーナー70
は、頂部レール58の後部74及び底部レールの後部7
6へ向かってそれぞれ縁溶接される。頂部前側コーナー
68及び底部前側コーナー72は、頂部レール58の前
部78及び底部レールの前部80へ向かってそれぞれ縁
溶接される。
【0015】一実施形態において、図6を参照して説明
すると、コリメータは複数の区画を組み立てることによ
って用意される。各コリメータ区画では、少なくとも1
つの指向エネルギ・ビーム溶接機を使用して、複数のコ
リメータ・プレートが、湾曲した金属(例えば、スチー
ル)の頂部セグメント82及び底部セグメント84にそ
れぞれ縁溶接される。各々のセグメント82及び84
は、コリメータの区画86を形成するためにレール58
及び60よりも小さい横断面積及び長さを有する。複数
の区画86が、レール58及び60の間に半径方向に配
列されて、レール58及び60に固定される。(区画8
6の半径方向配列構成が図7に示されており、図7は、
上面図では実際には見えないコリメータ・プレート62
を破線で示している。) 頂部セグメント82は頂部す
なわち上側レール58に固着され、また底部セグメント
84は底部すなわち下側レール60に固着される。また
ワイヤ92(例えば、タングステン製ワイヤ)が、コリ
メータ・プレート62の後縁88に対して横方向にコリ
メータ・プレート62に固着される。
【0016】コリメータ・プレート62とレール58及
び60(又はセグメント82及び84)とを互いに対し
て所定位置に保持するために固定具(図示していない)
が使用される。この固定具は、従来のポストペイシェン
ト・コリメータ内の櫛形部材と本質的に同じ目的を果た
す。しかしながら、櫛形部材と異なり、固定具はポスト
ペイシェント・コリメータ56の一部と成ることはな
く、必要とされるときに再使用することができる。ま
た、少なくとも一形式の公知のコリメータにおいて使用
されているモリブデン製スペーサのようなスペーサを使
用することは必要ではない。
【0017】一実施形態では、コリメータ・プレート6
2をレール58及び60に溶接するために2台の指向エ
ネルギ・ビーム溶接機64及び90が使用される。その
内の一方の溶接機は後側の溶接を行い、他方の溶接機は
前側の溶接を行う。
【0018】マルチスライス型検出器アレイ18のため
に、減衰用ワイヤ92(例えば、タングステン製ワイ
ヤ)が、コリメータ・プレート62の後縁88に間隔を
置いて設けられた切欠き94内に、コリメータ56を横
切るように配置される。ワイヤ92は検出器列相互の合
間のX線を減衰させる。本発明の一実施形態では、指向
エネルギ・ビーム溶接機がワイヤ92をコリメータ・プ
レート62に溶接するために使用される。別の実施形態
では、指向エネルギ・ビーム溶接機の精密さにより、切
欠き94の無いコリメータ・プレート62を使用するこ
とが可能になる。この場合、ワイヤ92は、後縁88に
対して横方向にコリメータ・プレート62を横切るよう
に配置されて、例えば固定具を使用して、コリメータ・
プレートに対して正確に位置決めされる。次いで、ワイ
ヤ92は、指向エネルギ・ビーム溶接機64を使用し
て、コリメータ・プレート62に溶接される。
【0019】一実施形態において、レーザ溶接機を溶接
機64及び90として使用し、それらの溶接部にプログ
ラム制御の下でコンピュータ(図示しない)によって正
確にねらいを付けて動作させる。
【0020】図8は、図5の領域96の拡大図であり、
ワイヤ(例えば、スチール製ワイヤ)98がz方向にお
けるコリメータ・プレート62の高さ及び/又はレール
58,60の間隔の許容差を調節するために使用される
方法の一実施形態を示す。ワイヤ98は、頂部レール5
8又は底部レール60の少なくとも一方とコリメータ・
プレート62との間の面取りした隙間100の中に挿入
される(レール58及び60のどちらに挿入するか又は
両方に挿入するかは設計上の選択である)。ワイヤ98
はその一側面で選択されたレール58(又は60)に溶
接され、反対側の側面でコリメータ・プレート62に溶
接される。選択されたレール58(又は60)に対する
ワイヤ98の溶接部は少なくとも面取りした隙間100
内にある。溶接したワイヤ98を使用する一実施形態で
は、位置68における溶接は省略される。また、本発明
のセグメント化した実施形態においては、面取りした隙
間100は、レール58又は60とコリメータ・プレー
ト62との間ではなく、少なくとも1つのセグメント8
2又は84とコリメータ・プレート62との間に設けら
れる。面取りした隙間100を形成する面取り部は、プ
レート62か、対向するセグメント又はレールか、ある
いはそれらの両方に設けることができる。
【0021】図9は、図5(又は図6)に示したコリメ
ータ及びレーザ溶接機構成のx−y平面における上面図
であり、セグメント82(使用された場合)の輪郭を仮
想線で示し、レール58(又はセグメント82)に溶接
された1つのコリメータ・プレート62の位置を示して
いる(ここで、セグメント82(使用された場合)及び
コリメータ・プレート62のいずれも実際にはコリメー
タ36の上面からは見えない)。図9は、コリメータ5
6の曲率を示しており、これは検出器アレイ18の曲率
に対応する。コリメータ56内でのコリメータ・プレー
トの配列は、検出器アレイ18の同じ列又はスライス内
の互いに隣り合う検出器素子の間でコリメーションを行
うようになっている。
【0022】図10に示すような別の実施形態では、少
なくとも1つのレール58又は60並びに随意選択によ
るスペーサ(例えば、モリブデン製スペーサ)104、
106及び108に固着された櫛形部材102に関連し
て、レーザ溶接が使用される。図10に示す実施形態で
は、コリメータ・プレート62が櫛形部材102及び1
10のスロットに位置決めされ、指向エネルギ・ビーム
溶接機64及び90が領域112、114及び116を
溶接する。一実施形態においては、溶接機64はまた、
ワイヤ用切欠き94内にワイヤ92を溶接するためにも
使用される。
【0023】本発明の上記の様々な実施形態がポストペ
イシェント・コリメータを作製するための一層効率の良
い安価Nあポストペイシェント・コリメータ製作方法を
提供することは明らかである。溶接されたコリメータ自
体は、櫛形部材がコリメータの部品であるか否かに関係
なく、接着結合部を持つコリメータよりも安価で潜在的
に一層耐久性がある。本発明を様々な実施形態に関して
説明したが、当業者には本発明が特許請求の範囲に記載
の精神及び範囲内で変更を行って実施し得ることが認め
られよう。
【図面の簡単な説明】
【図1】CTイメージング・システムの外観図である。
【図2】図1に示したシステムのブロック図である。
【図3】図1に示したシステムのマルチスライス型検出
器アレイの斜視図である。
【図4】図3に示した検出器アレイ内の1つの検出器モ
ジュールの斜視図である。
【図5】本発明の一実施形態におけるコリメータのレー
ルに対するコリメータ・プレートの溶接法を示す概略横
断面図である。
【図6】複数の区画で構成される本発明の一実施形態に
おけるポストペイシェント・コリメータの概略横断面図
である。
【図7】本発明の一実施形態におけるポストペイシェン
ト・コリメータの複数の区画の半径方向配列構成を示す
略図である。
【図8】z方向における間隔の許容差を調節するために
ワイヤを使用する方法の一実施形態を示す、図5の一領
域の拡大図である。
【図9】図5に示したコリメータ及び溶接機の構成の上
面図である。
【図10】櫛形部材並びに随意選択によるモリブデン製
スペーサに関連して一実施形態におけるレーザ溶接法を
示す略図である。
【符号の説明】
10 コンピュータ断層撮影イメージング・システム 12 ガントリ 14 X線源 16 X線ビーム 18 検出器アレイ 20 検出器素子 22 患者 24 回転中心 26 制御機構 32 データ収集システム 40 オペレータ・コンソール 42 陰極線管表示装置 48 ガントリ開口 50 モジュール 52 シンチレータ・アレイ 54 フォトダイオード・アレイ 56 ポストペイシェント・コリメータ 58 頂部レール 60 底部レール 62 コリメータ・プレート 64、90 指向エネルギ・ビーム溶接機 65 指向エネルギ・ビーム 66 コリメータ・プレートの頂部後側コーナー 68 コリメータ・プレートの頂部前側コーナー 70 コリメータ・プレートの底部後側コーナー 72 コリメータ・プレートの底部前側コーナー 74 頂部レールの後部 76 底部レールの後部 78 頂部レールの前部 80 底部レールの前部 82 頂部セグメント 84 底部セグメント 86 コリメータの区画 88 コリメータ・プレートの後縁 92、98 ワイヤ 94 切欠き 100 面取りした隙間 102、110 櫛形部材 104、106、108 スペーサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 デール・エス・ザストロウ アメリカ合衆国、ウィスコンシン州、ウォ ーキシャ、オックスフォード・ロード、 409番 (72)発明者 ジミー・エー・ビーチャム,ジュニア アメリカ合衆国、ウィスコンシン州、ウエ スト・アリス、サウス・104ティーエイ チ・ストリート、2945番 Fターム(参考) 2G088 EE01 FF02 GG19 JJ02 JJ14 JJ37 4C093 AA22 CA32 EB18 EB22 EB25

Claims (32)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 コンピュータ断層撮影(CT)イメージ
    ング・システム(10)用のポストペイシェント・コリ
    メータ(56)を製作する方法であって、 少なくとも1台の指向エネルギ・ビーム溶接機を使用し
    て、複数のコリメータ・プレート(62)を頂部レール
    (58)に縁溶接する工程と、 少なくとも1台の指向エネルギ・ビーム溶接機(64)
    を使用して、前記コリメータ・プレートを底部レール
    (60)に縁溶接する工程と、を含む前記方法。
  2. 【請求項2】 更に、前記コリメータ・プレート(6
    2)と前記頂部レール(58)と前記底部レール(6
    0)とを固定具内に位置決めして、前記コリメータ・プ
    レートと前記頂部レールと前記底部レールとを互いに対
    して所定位置に保持する工程を含んでいる請求項1記載
    の方法。
  3. 【請求項3】 前記頂部レール(58)及び前記底部レ
    ール(60)の各々は、前部(78、80)及び後部
    (74、76)を持っており、前記コリメータ・プレー
    ト(62)の各々は、頂部前側コーナー(68)、頂部
    後側コーナー(66)、底部前側コーナー(72)及び
    底部後側コーナー(70)を持っており、前記の各々の
    縁溶接する工程が、一対の指向エネルギ・ビーム溶接機
    (64、90)を使用して、コリメータ・プレートの前
    記頂部前側コーナー及び前記底部前側コーナーを前記頂
    部レールの前部及び前記底部レールの前部へ向かってそ
    れぞれ縁溶接し、また該コリメータ・プレートの前記頂
    部後側コーナー及び前記底部後側コーナーを前記頂部レ
    ールの後部及び前記底部レールの後部へ向かってそれぞ
    れ縁溶接することを含んでいる、請求項1記載の方法。
  4. 【請求項4】 前記の溶接されるコリメータ・プレート
    (62)がタングステン製プレートである、請求項1記
    載の方法。
  5. 【請求項5】 更に、減衰用ワイヤ(92)をコリメー
    タ・プレート(62)内の切欠き(94)に通すように
    配置する工程を含んでいる前記請求項1記載の方法。
  6. 【請求項6】 更に、指向エネルギ・ビーム溶接機(6
    4)を使用して、前記減衰用ワイヤ(92)を前記コリ
    メータ・プレート(62)に溶接する工程を含んでいる
    請求項5記載の方法。
  7. 【請求項7】 前記減衰用ワイヤ(92)がタングステ
    ン製ワイヤである、請求項6記載の方法。
  8. 【請求項8】 前記コリメータ・プレート(62)に切
    欠きが設けられていない場合に、更に、減衰用ワイヤ
    (92)を前記コリメータ・プレートを横切るように配
    置する工程と、固定具を使用して前記コリメータ・プレ
    ートに対して前記減衰用ワイヤを位置決めする工程と、
    指向エネルギ・ビーム溶接機(64)を使用して、前記
    減衰用ワイヤを前記コリメータ・プレートに溶接する工
    程とを含んでいる請求項1記載の方法。
  9. 【請求項9】 前記の縁溶接する工程の少なくとも一方
    は、前記頂部レール(58)及び前記底部レール(6
    0)の中から選択された少なくとも1つのレールと前記
    コリメータ・プレート(62)との間の面取りした隙間
    (100)の中にワイヤ(98)を挿入する工程と、少
    なくとも前記面取りした隙間内で前記少なくとも1つの
    選択されたレールに前記ワイヤを溶接する工程と、前記
    コリメータ・プレートに前記ワイヤを溶接する工程とを
    含んでいる、請求項1記載の方法。
  10. 【請求項10】 前記ワイヤはスチール製ワイヤであ
    る。請求項9記載の方法。
  11. 【請求項11】 更に、前記レール(58、60)の少
    なくとも一方に固着された櫛形部材(102)に前記コ
    リメータ・プレート(62)を挿入する工程を含んでい
    る請求項1記載の方法。
  12. 【請求項12】 前記少なくとも1台の指向エネルギ・
    ビーム溶接機(64)がレーザ溶接機である、請求項1
    の方法。
  13. 【請求項13】 前記少なくとも1台の指向エネルギ・
    ビーム溶接機(64)が電子ビーム溶接機である、請求
    項1記載の方法。
  14. 【請求項14】 コンピュータ断層撮影(CT)イメー
    ジング・システム(10)用のポストペイシェント・コ
    リメータ(56)を製作する方法であって、ポストペイ
    シェント・コリメータの複数の区画(86)を用意する
    工程であって、各々の区画は、少なくとも1つの指向エ
    ネルギ・ビーム溶接機(64)を使用して、複数のコリ
    メータ・プレート(62)の各々を第1の湾曲した金属
    セグメント(82)に縁溶接する工程と、少なくとも1
    つの指向エネルギ・ビーム溶接機を使用して、前記複数
    のコリメータ・プレート(62)の各々を第2の湾曲し
    た金属セグメント(84)に縁溶接する工程とによって
    用意され、前記第1の湾曲した金属セグメントは前記用
    意された区画の頂部になり、前記第2の湾曲した金属セ
    グメントは前記用意された区画の底部になる、当該用意
    する工程と、 前記複数の用意された区画を頂部レール(58)と底部
    レール(60)との間に半径方向に配列する工程と、 前記複数の用意された区画の各々の前記頂部を前記頂部
    レールに固着すると共に、前記複数の用意された区画の
    各々の前記底部を前記底部レールに固着する工程と、を
    含んでいる前記方法。
  15. 【請求項15】 更に、減衰用ワイヤ(92)をコリメ
    ータ・プレート(62)内の切欠き(94)に通すよう
    に配置する工程を含んでいる前記請求項14記載の方
    法。
  16. 【請求項16】 更に、指向エネルギ・ビーム溶接機
    (64)を使用して、前記減衰用ワイヤ(92)を前記
    コリメータ・プレート(62)に溶接する工程を含んで
    いる請求項15記載の方法。
  17. 【請求項17】 前記減衰用ワイヤ(92)がタングス
    テン製ワイヤである、請求項15記載の方法。
  18. 【請求項18】 前記コリメータ・プレート(62)に
    切欠きが設けられていない場合に、更に、減衰用ワイヤ
    を前記コリメータ・プレート(62)を横切るように配
    置する工程と、固定具を使用して前記コリメータ・プレ
    ートに対して前記減衰用ワイヤを位置決めする工程と、
    指向エネルギ・ビーム溶接機(64)を使用して、前記
    減衰用ワイヤを前記コリメータ・プレートに溶接する工
    程とを含んでいる請求項14記載の方法。
  19. 【請求項19】 前記の縁溶接する工程の少なくとも一
    方は、前記第1の湾曲した金属セグメント(82)及び
    前記第2の湾曲した金属セグメント(84)の中から選
    択された少なくとも1つの湾曲した金属セグメントと前
    記コリメータ・プレート(62)との間の面取りした隙
    間(100)の中にワイヤ(98)を挿入する工程と、
    少なくとも前記面取りした隙間内で前記少なくとも1つ
    の選択された湾曲した金属セグメント(82)に前記ワ
    イヤを溶接する工程と、前記コリメータ・プレートに前
    記ワイヤを溶接する工程とを含んでいる、請求項14記
    載の方法。
  20. 【請求項20】 コンピュータ断層撮影(CT)イメー
    ジング・システム(10)の放射線検出器(18)用の
    ポストペイシェント・コリメータ(56)であって、頂
    部レール(58)と、底部レール(60)と、一組のコ
    リメータ・プレート(62)とを有し、各々の前記コリ
    メータ・プレートが一端部で前記頂部レール(58)に
    縁溶接されると共に、反対側の端部で前記底部レールに
    縁溶接されている、前記ポストペイシェント・コリメー
    タ(56)。
  21. 【請求項21】 前記頂部レール(58)及び前記底部
    レール(60)の各々は、前部(78、80)及び後部
    (74、76)を持っており、前記コリメータ・プレー
    ト(62)の各々は、頂部前側コーナー(68)、頂部
    後側コーナー(66)、底部前側コーナー(72)及び
    底部後側コーナー(70)を持っており、前記の各々の
    頂部前側コーナー及び底部前側コーナーが前記頂部レー
    ルの前部及び前記底部レールの前部へ向かってそれぞれ
    縁溶接されており、また前記の各々の頂部後側コーナー
    及び底部後側コーナーが前記頂部レールの後部及び前記
    底部レールの後部へ向かってそれぞれ縁溶接されてい
    る、請求項20記載のポストペイシェント・コリメータ
    (56)。
  22. 【請求項22】 前記の縁溶接されたコリメータ・プレ
    ート(62)がタングステン製プレートである、請求項
    20記載のポストペイシェント・コリメータ(56)。
  23. 【請求項23】 前記コリメータ・プレート(62)に
    切欠き(94)が設けられており、更に、減衰用ワイヤ
    (92)が前記コリメータ・プレート(62)内の前記
    切欠き(94)に通すように配置されている、請求項2
    0記載のポストペイシェント・コリメータ(56)。
  24. 【請求項24】 前記減衰用ワイヤ(92)が前記コリ
    メータ・プレート(62)に溶接されている、請求項2
    3記載のポストペイシェント・コリメータ(56)。
  25. 【請求項25】 前記減衰用ワイヤ(92)がタングス
    テン製ワイヤである、請求項24記載のポストペイシェ
    ント・コリメータ(56)。
  26. 【請求項26】 前記コリメータ・プレート(62)に
    切欠きが設けられていない場合に、前記ポストペイシェ
    ント・コリメータは更に、前記コリメータ・プレートを
    横切るように配置されて、前記コリメータ・プレートに
    溶接されている減衰用ワイヤ(92)を含んでいる、請
    求項20記載のポストペイシェント・コリメータ(5
    6)。
  27. 【請求項27】 前記頂部レール(58)及び前記底部
    レール(60)の少なくとも一方と前記コリメータ・プ
    レート(62)との間に面取りした隙間(100)が設
    けられており、前記ポストペイシェント・コリメータは
    更に、前記面取りした隙間の中に配置されて、前記少な
    くとも一方のレールと前記コリメータ・プレートの各々
    とに溶接されたワイヤ(98)を含んでいる、請求項2
    0記載のポストペイシェント・コリメータ(56)。
  28. 【請求項28】 コンピュータ断層撮影(CT)イメー
    ジング・システム(10)用のポストペイシェント・コ
    リメータ(56)であって、 ポストペイシェント・コリメータの複数の区画(86)
    であって、各々の区画は、頂部金属セグメント(82)
    と、底部金属セグメント(84)と、複数のコリメータ
    ・プレート(62)とを有し、各々の前記コリメータ・
    プレートが前記頂部金属セグメント(82)に縁溶接さ
    れていると共に、前記底部金属セグメント(84)に縁
    溶接されている、当該複数の区画(86)と、 頂部レール(58)及び底部レール(60)と、を含
    み、 前記複数の区画は前記頂部レールと前記底部レールとの
    間に半径方向に配列されており、また前記複数の区画の
    各々が前記頂部レール及び前記底部レールの両方に固着
    されていること、を特徴とする、ポストペイシェント・
    コリメータ(56)。
  29. 【請求項29】 前記コリメータ・プレート(62)に
    切欠き(94)が設けられており、更に、減衰用ワイヤ
    (92)が前記切欠きを通るように配置されている、請
    求項28記載のポストペイシェント・コリメータ(5
    6)。
  30. 【請求項30】 前記減衰用ワイヤ(92)が前記コリ
    メータ・プレート(62)に溶接されている、請求項2
    9記載のポストペイシェント・コリメータ(56)。
  31. 【請求項31】 前記減衰用ワイヤ(92)がタングス
    テン製ワイヤである、請求項30記載のポストペイシェ
    ント・コリメータ(56)。
  32. 【請求項32】 前記コリメータ・プレート(62)に
    切欠きが設けられていない場合に、前記ポストペイシェ
    ント・コリメータは更に、前記コリメータ・プレートを
    横切るように配置されて、前記コリメータ・プレートに
    溶接されている減衰用ワイヤ(92)を含んでいる、請
    求項28記載のポストペイシェント・コリメータ(5
    6)。
JP2001399328A 2000-12-29 2001-12-28 ポストペイシェント・コリメータ及びポストペイシェント・コリメータを製作する方法 Expired - Fee Related JP4225726B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/751,547 US6424697B1 (en) 2000-12-29 2000-12-29 Directed energy beam welded CT detector collimators
US09/751547 2000-12-29

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2002328175A true JP2002328175A (ja) 2002-11-15
JP2002328175A5 JP2002328175A5 (ja) 2005-08-04
JP4225726B2 JP4225726B2 (ja) 2009-02-18

Family

ID=25022489

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001399328A Expired - Fee Related JP4225726B2 (ja) 2000-12-29 2001-12-28 ポストペイシェント・コリメータ及びポストペイシェント・コリメータを製作する方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6424697B1 (ja)
JP (1) JP4225726B2 (ja)
CN (1) CN100339051C (ja)
DE (1) DE10164324A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2704155A2 (en) 2012-08-28 2014-03-05 GE Medical Systems Global Technology Company LLC Radiation detecting apparatus and radiation imaging apparatus

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7492857B2 (en) * 2002-12-19 2009-02-17 General Electric Company Self-aligning scintillator-collimator assembly
US20040120464A1 (en) * 2002-12-19 2004-06-24 Hoffman David Michael Cast collimators for CT detectors and methods of making same
US7190759B2 (en) * 2002-12-19 2007-03-13 General Electric Company Support structure for Z-extensible CT detectors and methods of making same
US6980623B2 (en) * 2003-10-29 2005-12-27 Ge Medical Systems Global Technology Company Llc Method and apparatus for z-axis tracking and collimation
JP4645948B2 (ja) * 2005-03-18 2011-03-09 富士ゼロックス株式会社 復号化装置及びプログラム
US7778468B2 (en) * 2005-03-23 2010-08-17 Fuji Xerox Co., Ltd. Decoding apparatus, dequantizing method, and program thereof
JP4737711B2 (ja) * 2005-03-23 2011-08-03 富士ゼロックス株式会社 復号化装置、逆量子化方法、分布決定方法及びこのプログラム
JP2006270737A (ja) * 2005-03-25 2006-10-05 Fuji Xerox Co Ltd 復号化装置、分布推定方法、復号化方法及びこれらのプログラム
US8817946B2 (en) * 2009-12-16 2014-08-26 Hitachi Medical Corporation X-ray detector and X-ray CT apparatus
CN109242840B (zh) * 2018-08-29 2021-01-12 上海联影医疗科技股份有限公司 检测乳房图像中限束器区域的方法、在乳房图像中确定边界的方法和医疗设备
WO2019228482A1 (en) 2018-05-30 2019-12-05 Shanghai United Imaging Healthcare Co., Ltd. Systems and methods for image processing
CN209422094U (zh) * 2018-07-19 2019-09-24 苏州铸正机器人有限公司 手术定位套件

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5317543A (en) * 1976-07-30 1978-02-17 Steigerwald Strahltech Method of controlling procedure parameters in energyy beam welding and apparatus therefor
US4679221A (en) * 1985-08-08 1987-07-07 Kabushiki Kaisha Toshiba CT X-ray collimator including a reinforced collimator blade assembly
NL8800738A (nl) * 1988-03-24 1989-10-16 Philips Nv Roentgenonderzoekapparaat met een instelbaar spleetvormig diafragma.
US5239568A (en) 1990-10-29 1993-08-24 Scinticor Incorporated Radiation collimator system
US5231655A (en) 1991-12-06 1993-07-27 General Electric Company X-ray collimator
US5231654A (en) 1991-12-06 1993-07-27 General Electric Company Radiation imager collimator
EP0746856B1 (en) 1994-12-22 1998-10-14 Koninklijke Philips Electronics N.V. X-ray analysis apparatus comprising an x-ray collimator
CN1146890A (zh) * 1995-03-30 1997-04-09 西门子公司 用于电子束x线断层成相的固定隔板准直器
JPH1020042A (ja) * 1996-06-28 1998-01-23 Shimadzu Corp X線ct用固体検出器
US6175615B1 (en) 1999-04-12 2001-01-16 General Electric Company Radiation imager collimator

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2704155A2 (en) 2012-08-28 2014-03-05 GE Medical Systems Global Technology Company LLC Radiation detecting apparatus and radiation imaging apparatus
US8987675B2 (en) 2012-08-28 2015-03-24 Ge Medical Systems Global Technology Company, Llc Radiation detecting apparatus and radiation imaging apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP4225726B2 (ja) 2009-02-18
US6424697B1 (en) 2002-07-23
CN100339051C (zh) 2007-09-26
DE10164324A1 (de) 2002-07-18
CN1362049A (zh) 2002-08-07
US20020085679A1 (en) 2002-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU685139B2 (en) Improved X-ray volumetric CT scanner
US6175615B1 (en) Radiation imager collimator
US5982846A (en) Methods and apparatus for dose reduction in a computed tomograph
JP3449561B2 (ja) X線ct装置
US8571176B2 (en) Methods and apparatus for collimation of detectors
JP4225726B2 (ja) ポストペイシェント・コリメータ及びポストペイシェント・コリメータを製作する方法
US6295331B1 (en) Methods and apparatus for noise compensation in imaging systems
EP1151322B1 (en) X-ray imaging apparatus and method with scatter correction
US8699811B2 (en) Adaptive gradient weighting technique for detector bad cell correction
US8942341B2 (en) Method of dose reduction for CT imaging and apparatus for implementing same
JPH08168483A (ja) 有効ピッチの短いx線検出器配列体
JP5172103B2 (ja) X線コンピュータ断層撮影装置、x線コンピュータ断層撮影装置用コリメータ、及びその製造方法
US6343110B1 (en) Methods and apparatus for submillimeter CT slices with increased coverage
JP4508305B2 (ja) 断層撮影システム及びそれ用のシンチレータ
EP0819406B1 (de) Computertomograph
JP4076283B2 (ja) 放射線断層撮影装置およびx線管
US6873678B2 (en) Methods and apparatus for computed tomographic cardiac or organ imaging
JPH10127618A (ja) X線ctスキャナ
EP0973048B1 (en) Methods and apparatus for reducing spectral artifacts in a computed tomograph system
JP2000102532A (ja) X線ctスキャナ
JPH11206750A (ja) 放射線照射位置合わせ方法および放射線照射・検出装置並びに放射線断層撮影装置
JP2000060840A (ja) レファレンス信号生成方法および装置並びに放射線断層撮影装置
JP4794528B2 (ja) 放射線検出器
JP2000296124A (ja) 放射線断層撮影方法および装置
JP2000060836A (ja) 放射線検出器、放射線検出方法および装置、並びに、放射線断層撮影装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041228

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041228

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080219

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080317

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080819

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080917

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081009

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20081028

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081125

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111205

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111205

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121205

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131205

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees