JP2002319127A - Cleaning method for magnetic recording medium by sponge pad pressurizing system - Google Patents

Cleaning method for magnetic recording medium by sponge pad pressurizing system

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JP2002319127A
JP2002319127A JP2001121976A JP2001121976A JP2002319127A JP 2002319127 A JP2002319127 A JP 2002319127A JP 2001121976 A JP2001121976 A JP 2001121976A JP 2001121976 A JP2001121976 A JP 2001121976A JP 2002319127 A JP2002319127 A JP 2002319127A
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JP
Japan
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magnetic disk
tape
cleaning
magnetic
manufacturing
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Application number
JP2001121976A
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Japanese (ja)
Inventor
Naoto Endo
直人 遠藤
Naoki Ozu
直毅 小津
Susumu Funamoto
進 船本
Fuminobu Maruyama
文信 丸山
Takanori Nagano
貴範 永野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make the reduction of the dropping of contaminations from a cleaning tape itself and the suppression of slight damage which may be a reproduction signal error given to the surface of a magnetic disk compatible with each other. SOLUTION: The occurrence of the contaminations can be suppressed and the slight error can be remarkably reduced, since the burr part at the end part of the tape is not loaded and the contaminations on the surface of the tape are not directly scattered by air, by adopting a pressurizing suspension system wherein the tape is pressurized by a sponge material having the width narrower than that of the tape.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、クリーニングテー
プを用いて、磁気ディスク表面に製造工程において付着
した塵埃、又は媒体膜形成工程等において発生した異常
突出部を除去することを目的とする工程を含む磁気ディ
スク装置用の磁気ディスクの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a process for removing dust adhering to the surface of a magnetic disk in a manufacturing process or an abnormal projection generated in a medium film forming process or the like using a cleaning tape. The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic disk for a magnetic disk device including the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報産業の発展に伴い、コンピュ
ーターに要求される性能も加速度的に高度なものとなっ
てきている。それに伴い、外部記憶装置である磁気記録
媒体としては高記録密度化、大容量化が進んでいる。最
近では、小型の磁気ディスク装置を複数台集めてさらに
大容量化し、互いの記録データの補完機能を持たせるこ
とにより磁気ディスク装置で発生しがちだった故障によ
る記録の破壊を防ぐ等の新たな機能を持たせた磁気ディ
スクアレイシステムも市販されている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of the information industry, the performance required of computers has become increasingly sophisticated. Along with this, the recording density and the capacity of magnetic recording media as external storage devices have been increasing. In recent years, new compact disk drives have been added to increase the capacity and to complement each other's recorded data, thereby preventing the destruction of recording due to failures that tend to occur in magnetic disk drives. Magnetic disk array systems with functions are also commercially available.

【0003】一方、磁気ディスクは、通常Ni−Pメッ
キを施し鏡面研磨したアルミニウム合金基板の表面に微
細な同心円上のスジを形成する、いわゆるテクスチャ加
工を施した後、真空装置に導入してスパッタリングによ
り下地膜、磁性膜、保護膜を順に形成した後、表面をク
リーニングし、潤滑剤を塗布して完成する磁気ディス
ク、および製造工程が主流であったが、最近ではガラス
基板を用いた磁気ディスクも多数市販され始めている。
この場合の製造方法としては、ガラス基板を鏡面研磨、
薬液洗浄した後、真空装置に導入して、下地膜、磁性
膜、保護膜を順に形成した後、潤滑剤を塗布して、表面
をクリーニングし、完成する方法等が使用されている。
特にこのガラス基板を用いた小型磁気ディスクは、前記
のアルミニウム合金基板に比べ、テクスチャ加工を施し
ていないこともあり、表面の粗さも、突起高さ(以下、
Rpという。)で数ナノメートル程度、中心線平均粗さ
(以下、Raという。)で数オングストローム程度と小
さく、バリも少なくなってきている。これは、高記録密
度化にとって必須となる、記録再生磁気ヘッドと磁気デ
ィスクのスペーシングの低減のためには重要である。実
際、磁気ディスクからの磁気ヘッドの浮上保証高さは近
年急激に低下し、最近では十ナノメートル以下の値が要
求されている。そのためには、磁気ディスク表面をさら
に平坦にし、かつ磁気ヘッドの浮上阻害となるような塵
埃又は浮上高さ以上の異常突出部を除去する必要があ
る。
On the other hand, a magnetic disk is usually subjected to so-called texture processing for forming fine concentric stripes on the surface of an aluminum alloy substrate which has been subjected to Ni-P plating and mirror-polished, and then introduced into a vacuum apparatus for sputtering. The mainstream is a magnetic disk completed by forming a base film, a magnetic film, and a protective film in this order, then cleaning the surface, applying a lubricant, and a manufacturing process. Have also begun to be marketed.
As a manufacturing method in this case, the glass substrate is mirror-polished,
After chemical cleaning, a vacuum device is used to form a base film, a magnetic film, and a protective film in this order, and then a lubricant is applied, the surface is cleaned, and a method is completed.
In particular, a small magnetic disk using this glass substrate may not be textured as compared with the above-mentioned aluminum alloy substrate, and the surface roughness and the protrusion height (hereinafter, referred to as “height”) will be described.
Rp. ), The center line average roughness (hereinafter referred to as Ra) is as small as several angstrom, and burrs are also reduced. This is important for reducing the spacing between the recording / reproducing magnetic head and the magnetic disk, which is essential for increasing the recording density. In fact, the guaranteed height of the magnetic head flying above the magnetic disk has rapidly decreased in recent years, and recently, a value of 10 nm or less has been required. For this purpose, it is necessary to further flatten the surface of the magnetic disk and to remove dust or abnormal protrusions having a height equal to or higher than the flying height which hinder the floating of the magnetic head.

【0004】この浮上高さの低下を保証するために、従
来は研磨砥粒の固着したテープフィルムをゴムローラー
でディスク表面に圧接するという、特公平6−5256
8号公報や特公平2−10486号公報に開示されてい
るような手法や、或いは該テープに気体を吹き付けて圧
接し研磨する方式が特開昭63−153723号公報に
記載されているように、保護膜を形成した後に、表面を
クリーニングする工程が不可欠であった。従来のクリー
ニング工程においては磁気デイスク表面に基板のバリな
どによる異常突出部、塵埃等のコンタミネーションも多
数存在し、また基板の表面粗さ自体も大きかった。その
ため表面クリーニング技術は、上記のような除去を要す
る対象物をクリーニングするために十分な加工量を得る
ため、上記のクリーニングテープは特公平2−1048
6号公報に記載されているように砥粒径が1〜3ミクロ
ンという大きなもので、クリーニング性能、加工性能を
維持してきた。これは、 研磨砥粒径が大きい程、テー
プの面粗さが大きくそれに伴い加工量も大きくなること
に依存している。
In order to guarantee a decrease in the flying height, a tape film to which abrasive grains have been fixed is conventionally pressed against the disk surface with a rubber roller.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-153723 discloses a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-153723 or a method disclosed in Japanese Patent Publication No. 2-10486, or a method in which a gas is blown against the tape and pressed against and polished. After forming the protective film, a step of cleaning the surface is indispensable. In the conventional cleaning process, there were many contaminants such as abnormal protrusions due to burrs on the substrate and dust on the surface of the magnetic disk, and the surface roughness itself of the substrate was large. Therefore, the surface cleaning technique obtains a sufficient processing amount for cleaning the object requiring removal as described above.
As described in Japanese Patent Publication No. 6, the cleaning performance and processing performance have been maintained with a large abrasive particle size of 1 to 3 microns. This depends on the fact that the larger the abrasive grain size, the greater the surface roughness of the tape and the greater the amount of processing.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、最近の磁気デ
イスク製造プロセスにおいては、前述したようにガラス
基板などでは、スパッタ膜を形成する前の基板の研磨技
術、精度も目覚しく向上し、ディスク表面の粗さがRp
で従来は数十ナノメートルであったものが、数ナノメー
トルまで小さくなり、さらにその上に形成するスパッタ
膜の形成条件の最適化や、真空装置内雰囲気の高清浄度
化等で、デイスク完成前の仕上げクリーニングプロセス
に課せられる除去対象物が大幅に減少しており、逆に、
クリーニングプロセス自身でディスクに損傷を与えるこ
とや、加工残渣等のコンタミネーションを転写、残留さ
せることの問題がクローズアップされ始めた。
However, in the recent magnetic disk manufacturing process, as described above, in the case of a glass substrate or the like, the polishing technique and precision of the substrate before forming a sputtered film have been remarkably improved, and the surface of the disk has been remarkably improved. Roughness is Rp
What used to be a few tens of nanometers in the past is now down to a few nanometers, and the disk is completed by optimizing the conditions for forming a sputtered film on top of it and improving the cleanliness of the atmosphere inside the vacuum equipment. The removal requirements for the previous finishing cleaning process have been significantly reduced,
The problems of damaging the disk by the cleaning process itself and transferring and remaining contamination such as processing residues have begun to be highlighted.

【0006】上記問題点に鑑み、今後、従来のクリーニ
ング方法で問題となってくるのは、第一に研磨砥粒径の
大きなテープ材料では、磁気ヘッドとディスク間のスペ
ーシング狭化に伴い、テープがディスク表面に与える損
傷が記録再生信号のエラーレベルとして、大きな問題と
なること。すなわち、研磨砥粒の粒径が大きくなる程、
ディスク表面に与える傷の深さが深くなり、傷の数も増
加し、その結果、記録再生信号のエラー数が増加し不良
歩留まりも悪化してしまうことが明らかとなった。
[0006] In view of the above problems, a problem with the conventional cleaning method in the future is that, first, in the case of a tape material having a large abrasive grain size, the spacing between the magnetic head and the disk becomes narrower. Damage caused by the tape to the disk surface becomes a serious problem as an error level of the recording / reproducing signal. In other words, as the particle size of the abrasive grains increases,
It has been found that the depth of the scratches on the disk surface is increased and the number of scratches is also increased. As a result, the number of errors in the recording / reproducing signal is increased and the defective yield is deteriorated.

【0007】ここで、磁気ディスクの記録再生過程にお
ける出力信号エラーモードについて説明する。ここで述
べるエラーとは、ミッシングエラーと称しているモード
で、現象的には磁気記録を担うコバルト合金磁性層が部
分的に欠如するか又は部分的に凹む等の欠陥により、出
力レベルが低下してしまう状態である。従来の場合、浅
いスクラッチは磁気ヘッドのトラック幅が数ミクロンで
あったために問題とならなかったが、今後トラック幅が
1ミクロン以下となってくるためにエラーとしてカウン
トされる割合が必然的に大きくなる。また、磁性層の上
にオーバーコートしている、カーボンを主成分とする保
護層の厚みについても、磁気ディスクの記録密度増大に
伴い薄くなってきている方向であり、上記のエラー要因
となる傷から磁性層を保護するのに十分な強度を得難く
なる。
Here, an output signal error mode in the recording / reproducing process of the magnetic disk will be described. The error described here is a mode called a missing error, and the output level is reduced due to a defect such as a partial lack or a partial recess of the cobalt alloy magnetic layer responsible for magnetic recording. It is in a state to be. In the conventional case, a shallow scratch did not cause a problem because the track width of the magnetic head was several microns, but since the track width becomes 1 micron or less in the future, the rate of counting as an error is necessarily large. Become. In addition, the thickness of the protective layer mainly composed of carbon, which is overcoated on the magnetic layer, also tends to become thinner as the recording density of the magnetic disk increases, and the above-mentioned scratches which cause the above-mentioned errors are caused. , It becomes difficult to obtain sufficient strength to protect the magnetic layer.

【0008】一方、特開2000−348337号公報
に開示されているように、上記のエラー要因となる傷を
抑制するために、クリーニングテープの研磨砥粒の粒径
を小さくすることの効果が注目視され、一般化されはじ
めている。その反面、粒径を小さくするとクリーニング
テープ自身からの脱落異物(コンタミネーション)が増
加し磁気ディスク表面に付着することが問題となってく
る。
On the other hand, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-348337, attention has been paid to the effect of reducing the particle size of the abrasive grains of the cleaning tape in order to suppress the above-mentioned scratches that cause an error. It is being viewed and generalized. On the other hand, if the particle diameter is reduced, foreign matter (contamination) falling off the cleaning tape itself increases, which causes a problem that it adheres to the surface of the magnetic disk.

【0009】そこで、本発明の目的は、表面粗さの小さ
な磁気ディスク表面のテープクリーニング工程におい
て、クリーニングテープ自身からのコンタミネーション
脱落を低減し、且つ磁気ディスク表面に与える再生信号
のエラーとなり得る軽微な傷を如何に少なく抑え、磁気
ヘッドの浮上阻害となり得る突出部を除去できる、磁気
ディスクのクリーニング方式を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a tape cleaning step for a magnetic disk surface having a small surface roughness, to reduce contamination from falling off from the cleaning tape itself, and to minimize errors in reproduced signals given to the magnetic disk surface. It is an object of the present invention to provide a magnetic disk cleaning system capable of minimizing the number of scratches and removing a protrusion that may hinder the floating of the magnetic head.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】研磨砥粒粒径の小さなク
リーニングテープを使用することで、磁気ディスク表面
のクリーニングテープ起因のスクラッチ傷を減少させ、
傷深さを浅くすることができる。一方、新たな問題とし
て粒径の微細化による弊害として、加工屑、或いは研磨
層からの脱落物(以下、コンタミネーションという。)
が増加してしまい、更にコンタミネーションを磁気ディ
スクの表面から内部に埋め込み、結果的に軽微なスクラ
ッチとなることが明らかとなったため、本発明はこの解
決法を以下に見出した。
Means for Solving the Problems By using a cleaning tape having a small abrasive particle size, scratches due to the cleaning tape on the magnetic disk surface can be reduced,
The depth of the wound can be reduced. On the other hand, as a new problem, adverse effects due to the reduction in the particle size include processing wastes or falling off from the polishing layer (hereinafter referred to as contamination).
It has been found that contamination has been buried from the surface of the magnetic disk into the interior of the disk, resulting in a slight scratch, and the present invention has found the following solution.

【0011】コンタミネーションの発生要因の大部分
は、クリーニングテープのテープ端部からの脱落であ
る。テープ端部は、スリッターによるカットの際に生じ
るバリ(裁断刃の進入方向への加工層の捲れ)が散在し
ており、このようなバリ部分がコンタミネーションとし
て容易に磁気ディスク表面に付着しやすい状態にある。
従来のクリーニング方式である、大気(クリーンエア、
以下エアーという。)をテープに吹き付けて磁気ディス
ク面に押し当てる方式(以下エアーブロー方式とい
う。)に対し、本発明はテープ幅より狭いスポンジ材で
テープを押し付けるサスペンション方式にすることで、
テープ端部に負荷をかけず、尚且つエアーによるテープ
表面のコンタミネーションを直接的に撒き散らすことが
無いため、コンタミネーションの発生を抑制し、軽微な
エラーを格段に減少させられることを見出した。
Most of the causes of contamination are detachment of the cleaning tape from the end of the tape. The end of the tape is scattered with burrs (turning of the processed layer in the direction of entry of the cutting blade) generated when cutting with a slitter, and such burrs easily adhere to the magnetic disk surface as contamination. In state.
Atmosphere (clean air, clean air,
Hereinafter, it is called air. ) Is applied to the magnetic disk surface by spraying the tape on the tape (hereinafter referred to as an air blow method), whereas the present invention employs a suspension method in which the tape is pressed with a sponge material narrower than the tape width.
Since no load is applied to the tape end and contamination of the tape surface by air is not directly scattered, it has been found that the occurrence of contamination can be suppressed and minor errors can be significantly reduced. .

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について、
図面を参照し詳細に説明する。 (実施例1)クリーニングする対象磁気ディスクの断面
構造を図1に示す。以下、各層の形成条件について記載
する。まず、厚さ0.635ミリメートル、外径65ミ
リメートル、内径20ミリメートル、表面粗さが原子間
力顕微鏡(以下、AFMという。)を用い100平方ミ
クロンを測定した結果でRp=5.0ナノメートル、R
a=0.8ナノメートルの2.5インチ型の表面を化学
強化したアルミノシリケート系ガラス基板を洗浄し、そ
の上にインテバック(Intevac)社製の枚葉式ス
パッタリング装置(MDP250B)を用いて、タクト
7.5秒で以下の多層膜を形成した。基板10の上に厚
さ40ナノメートルのNi−20at%Cr−15at
%Zr合金から成る第一下地膜11、11′を形成し
た。その後、厚さ10ナノメートルのCo−30at%
Cr−10at%Zr合金から成る第二下地膜12、1
2′を形成した。その後ランプヒーターにより基板の温
度を約230℃に加熱ながら同室内で99%Ar−1%
O2混合ガスの圧力10.5ミリトールの雰囲気に5.
0秒間曝し、その後、厚さ23ナノメートルのCr−2
0at%Ti合金からなる第三下地膜13、13'を形
成した。その上に厚さ8.8ナノメートルのCo−22
at%Cr−12at%Pt合金からなる第一磁性膜1
4、14'を形成し、その後、厚さ8.8ナノメートル
のCo−22at%Cr−12at%Pt−4at%B
合金からなる第二磁性膜15、15'を形成した。さら
に、その上に6ナノメートルのカーボンを主成分とする
保護膜16、16′を形成した。その後、基板をスパッ
タ装置から取り出し、保護膜上にパーフルオロアルキル
ポリエーテルを主成分とする潤滑剤を塗布して厚さ2.
1ナノメートルの潤滑膜17、17′を形成した。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
This will be described in detail with reference to the drawings. Embodiment 1 FIG. 1 shows a sectional structure of a magnetic disk to be cleaned. Hereinafter, conditions for forming each layer will be described. First, a thickness of 0.635 millimeter, an outer diameter of 65 millimeters, an inner diameter of 20 millimeters, and a surface roughness of 100 square microns using an atomic force microscope (hereinafter, referred to as AFM) were measured. Rp = 5.0 nanometers , R
The aluminosilicate glass substrate whose a = 0.8 nanometer, 2.5-inch type surface is chemically strengthened is washed, and a single-wafer sputtering apparatus (MDP250B) manufactured by Intevac is used thereon. The following multilayer film was formed in 7.5 seconds. Ni-20at% Cr-15at having a thickness of 40 nanometers on the substrate 10
First underlayer films 11 and 11 'made of a% Zr alloy were formed. Then, Co-30at% of 10 nanometer thickness
Second underlayer 12, 1 made of Cr-10at% Zr alloy
2 'was formed. Then, while heating the temperature of the substrate to about 230 ° C. by a lamp heater, 99% Ar-1% in the same room.
4. In an atmosphere of O2 mixed gas at a pressure of 10.5 mTorr,
Exposure for 0 seconds, followed by a 23 nanometer thick Cr-2
Third underlayers 13 and 13 'made of a 0 at% Ti alloy were formed. On top of that, 8.8 nanometers thick Co-22
First magnetic film 1 made of at% Cr-12at% Pt alloy
4, 14 'and then 8.8 nanometers thick Co-22 at% Cr-12 at% Pt-4 at% B
Second magnetic films 15, 15 'made of an alloy were formed. Further, protective films 16 and 16 'each containing 6 nm of carbon as a main component were formed thereon. Thereafter, the substrate is taken out of the sputtering apparatus, and a lubricant containing perfluoroalkyl polyether as a main component is applied on the protective film to a thickness of 2.
Lubricating films 17 and 17 'of 1 nanometer were formed.

【0013】本発明は、該層構成表面のクリーニングを
行った。ここで、潤滑剤塗布後にクリーニングするの
は、本発明の解決目的のスクラッチ傷に対して、保護層
とクリーニングテープ間に潤滑層を介する方が、研磨層
の被加工面への摩擦力が低下することにより、傷が発生
し難いという効果を事前検討で見出したためである。
In the present invention, the surface of the layer was cleaned. Here, the cleaning after the application of the lubricant reduces the frictional force of the polishing layer on the surface to be processed by interposing the lubricating layer between the protective layer and the cleaning tape with respect to the scratches to be solved according to the present invention. By doing so, the effect that scratches are unlikely to occur was found in advance.

【0014】ここで、本発明で抑制する対象となる、テ
ープクリーニング工程に起因するコンタミネーションに
ついて説明する。図2(1)に磁気ディスククリーニン
グ前のテープ表面の走査電子顕微鏡(SEM)像を、図
2(2)にクリーニング後のSEM像を示す。クリーニ
ング前は、テープ端部にカッティングの際に捲れたバリ
が見られる。このバリは、主にアルミナが用いられる研
磨砥粒と、該砥粒を固着するためのカーボンを主成分と
するバインダーと呼ばれるものから成る。クリーニング
後のテープ表面は、上記のバリが消失している。これよ
り、端部のバリがコンタミネーションとして磁気ディス
クの表面に転写していることが分かる。図3に、磁気デ
ィスク表面に付着したコンタミネーションのSEM像を
示す。ディスクの円周方向に引き伸ばされて付着してい
るコンタミネーションが見られる。
Here, contamination caused by the tape cleaning step, which is an object to be suppressed in the present invention, will be described. FIG. 2A shows a scanning electron microscope (SEM) image of the tape surface before magnetic disk cleaning, and FIG. 2B shows an SEM image after cleaning. Before the cleaning, burrs turned up at the time of cutting are seen at the end of the tape. The burrs are mainly composed of abrasive grains mainly made of alumina and a binder mainly containing carbon for fixing the abrasive grains. The above-mentioned burrs have disappeared on the tape surface after cleaning. From this, it can be seen that the burrs at the ends are transferred to the surface of the magnetic disk as contamination. FIG. 3 shows an SEM image of the contamination attached to the magnetic disk surface. The contaminants that are stretched and adhered in the circumferential direction of the disc can be seen.

【0015】次に、上記コンタミネーション付着を抑制
する本発明のテープクリーニング装置の模式図を図4に
示す。このクリーニング装置は、磁気ディスク21の両
面をテープクリーニングするための一対の機構を持ち、
各々の機構は、クリーニングテープ22を巻成している
送り出しリール23と、該リール23から送り出された
テープ22を介したテープ22に対してガイドローラー
24との間において重力によりテンションを与える定テ
ンション機構25と、このテンションを与えたテープを
磁気ディスク面に案内するガイドローラー24及び26
と、この磁気ディスク面に案内されたテープ22に、ス
ポンジパッド27を取り付けた加圧ブロック28をバネ
29により所定圧力で押し当ててテープを磁気ディスク
に摺動させる機構と、クリーニング済みのテープ22を
ガイドローラー30を介して回収する巻き取りローラー
31とから構成される。加圧部機構を拡大した模式図を
図5に示す。加圧部は、スポンジパッドを固定した加圧
ブロックをコイル型ばねを介してテープ裏面に押し当て
る方式である。加圧力の調整は、ばねのセット長を調整
ねじにて変更し、加圧力は、ばねの末端側に配置したロ
ードセルにて検出しアンプ出力するものとした。また、
スポンジパッドはウレタン製の高密度発砲体(イノアッ
クコーポレーション製PORON、LE−20)を使用
した。物性は、密度0.20グラム毎立方センチメート
ル(JIS−K−6401)、引張強度3.1キログラ
ム毎平方センチメートル(JIS−K−6301)、圧
縮残留歪5.9%(JIS−K−6401)、25%圧
縮荷重0.2キログラム毎平方センチメートル(JIS
−K−6301)である。スポンジパッド寸法は、厚み
3.0ミリメートル、幅10.6ミリメートル、長さ
5.0ミリメートルとした。この寸法に対し、テープの
幅は12.6ミリメートルのものを使用し、テープの両
端から各々1.0ミリメートルはスポンジが非接触、即
ち無負荷の領域となる。クリーニングテープは日本ミク
ロコーティング社製のAWA15000TNY−Dを使
用した。研磨砥粒材質が酸化アルミニウム砥粒で、エッ
ヂのない曲面体(平均粒径D50=0.3ミクロン)で
あり、スクラッチの発生し難い研磨砥粒として、材質的
形状的に好適であるためである。また、クリーニング条
件は、スポンジパッドの加圧中は、テープを巻取らず
に、ディスクは一定回転数にて左方向回転させた。テー
プヘッドは、ディスク半径方向に、外端側から内端側へ
の移動を往路、内端側から外端側への移動を復路とした
往復動作を移動速度400ミリメートル毎分にて3往復
させた。テープのディスク表面での接触圧力は、ロード
セルの計測値で、60グラム重とした。 以上の条件
で、前記の磁気ディスク表面をクリーニングした結果を
以下に述べる。
Next, FIG. 4 shows a schematic view of a tape cleaning apparatus of the present invention for suppressing the above-mentioned contamination. This cleaning device has a pair of mechanisms for tape cleaning both surfaces of the magnetic disk 21,
Each mechanism is configured to apply a tension between a feed reel 23 around which the cleaning tape 22 is wound and a guide roller 24 to the tape 22 via the tape 22 sent from the reel 23 by gravity. Mechanism 25, and guide rollers 24 and 26 for guiding the tensioned tape to the magnetic disk surface.
And a mechanism for pressing a pressure block 28 with a sponge pad 27 attached thereto at a predetermined pressure by a spring 29 against the tape 22 guided on the magnetic disk surface to slide the tape against the magnetic disk. And a take-up roller 31 that collects through the guide roller 30. FIG. 5 is an enlarged schematic view of the pressing unit mechanism. The pressure unit is a method in which a pressure block to which a sponge pad is fixed is pressed against the back surface of the tape via a coil spring. For the adjustment of the pressing force, the set length of the spring was changed with an adjusting screw, and the pressing force was detected by a load cell arranged on the terminal side of the spring and output by an amplifier. Also,
As the sponge pad, a high-density foam made of urethane (PORON, LE-20 manufactured by INOAC CORPORATION) was used. Physical properties are: density 0.20 gram per cubic centimeter (JIS-K-6401), tensile strength 3.1 kilogram per square centimeter (JIS-K-6301), compression residual strain 5.9% (JIS-K-6401), 25 % Compression load 0.2 kilograms per square centimeter (JIS
-K-6301). The sponge pad dimensions were 3.0 mm in thickness, 10.6 mm in width, and 5.0 mm in length. For this dimension, the width of the tape is 12.6 mm, and the sponge is in a non-contact, that is, no-load area, 1.0 mm from each end of the tape. The cleaning tape used was AWA15000TNY-D manufactured by Nihon Micro Coating Co., Ltd. This is because the polishing abrasive is made of aluminum oxide abrasive, has a curved surface without an edge (average particle diameter D50 = 0.3 micron), and is suitable in terms of material and shape as polishing abrasive which hardly generates scratches. is there. The cleaning condition was that the disk was rotated leftward at a constant rotation speed without winding the tape while the sponge pad was being pressed. The tape head reciprocates three times at a moving speed of 400 mm / min in the radial direction of the disk, with the movement from the outer end side to the inner end side being the outward path and the movement from the inner end side to the outer end being the return path. Was. The contact pressure of the tape on the disk surface was measured by a load cell and was set to 60 gram weight. The result of cleaning the magnetic disk surface under the above conditions will be described below.

【0016】図6は、本発明の方式とエアーブロー方式
のクリーニングテープ加圧時におけるテープ接触パター
ンを比較したものである。このパターンは、耐油性マジ
ックインクで、磁気ディスクの半径方向に90度間隔で
合計4本の線を予め着色したものを200回転毎分で回
転させ、テープを加圧しディスク外周位置で30秒間保
持した後に、テープに転写されるインクの痕跡を採取し
たものである。エアーブロー方式での接触パターンは円
弧状の形状や長さの短い直線的な接触状態など、同条件
でのサンプリングにおいても痕跡形状の再現性に乏し
い。一方、本発明のスポンジパッドを押し当てる方式で
はパッドの形状である長方形のパターンが精度良く再現
される。これは、クリーニングに関与する研磨面積の繰
り返し安定性が高いことを示しており、接触面積が安定
することは、クリーニング即ち加工仕事量が安定すると
いえる。
FIG. 6 shows a comparison of the tape contact pattern when the cleaning tape is pressed between the method of the present invention and the air blow method. This pattern is made of oil-resistant magic ink, which is obtained by pre-coloring a total of four lines at 90 ° intervals in the radial direction of the magnetic disk at 200 rotations per minute, pressing the tape and holding it at the outer peripheral position of the disk for 30 seconds. After that, traces of ink transferred to the tape were collected. The contact pattern in the air blow method is poor in reproducibility of the trace shape even when sampling under the same conditions, such as an arc shape or a linear contact state with a short length. On the other hand, in the method of pressing a sponge pad according to the present invention, a rectangular pattern that is the shape of the pad is accurately reproduced. This indicates that the repetition stability of the polished area involved in the cleaning is high, and the stabilization of the contact area means that the cleaning, that is, the processing work amount is stable.

【0017】さらに、コンタミネーションの発生マージ
ンを検証するためにコンタミの発生し易い加速試験にて
比較を行った。コンタミネーションの数は、レーザーの
反射強度を検出する日立電子エンジニアリング製の欠陥
検出装置にて、0.5ミクロン以上のコンタミネーショ
ンをカウントした(以下、コンタミネーション数は該測
定装置の値とする。)。図7にディスクの回転速度とコ
ンタミネーションの発生量の関係を示す。ディスクの回
転速度を大きくするとディスク表面とテープ表面の相対
速度に依存する摩擦力が大きくなるため、テープの砥粒
層が脱落し易くなり、コンタミネーションは増加する傾
向である。しかし、回転速度を上げるというテープにと
ってダメージの大きくなる条件にしても、本発明の方式
でクリーニングを行うと、コンタミネーションは増加し
難い。これは、前述のようにコンタミネーションの大部
分はテープ端部のバリといわれる脆くなっている部分の
脱落に起因しており、本発明方式ではスポンジパッドの
加圧領域が上記の端部を回避しているために、コンタミ
ネーションを増加させ難くできるためと考える。さら
に、研磨砥粒を磁気ディスク表面に埋め込み、記録膜を
破壊する傷(以下スクラッチという。)を低減する効果
が得られた。このスクラッチは、ミッシングエラーと呼
ばれるエラーモードに相関がある。ミッシングエラー
は、磁気ディスクの完成品検査工程での不良判別基準要
素となるパラメーターである。図8に、本発明方式とエ
アーブロー方式クリーニングの、ミッシングエラー個数
の比較を示す。クリーニング条件は、両方式ともに回転
速度200回転毎分で他の条件は前述と同じとした。ミ
ッシングエラーの測定は、Seagate社製、磁気抵
抗効果型ヘッド(トラック幅=1.25ミクロン)にて
周波数90kFCI、回転速度7000回転毎分、スラ
イスレベル86%に設定し、トラックピッチ1.3ミク
ロンで半径位置14.03mmから30.05mmの範
囲をオートゲインコントロール機能オフにて測定し、測
定面数100面の平均をエラー個数とした。またミッシ
ングエラーは、エラーサイズを以下3段階に分割した。
コレクタブルエラー(以下CM)1.12ミクロン以
下、アンコレクタブルエラー(以下UM)1.40〜
4.76ミクロン、ロングエラー(以下LM)5.04
ミクロン以上とした。この結果より、本発明方式は、エ
アーブロー方式に比べ、CM、UM、LMともに平均エ
ラー個数が大幅に減少できることを見出した。これは、
同条件にてテープクリーニングを行った場合、エアーブ
ロー方式はテープ端部からのコンタミネーション付着が
多いのに対し、本発明のスポンジパッド加圧方式はコン
タミネーション発生を低減できるため、ディスクへのコ
ンタミネーション埋め込みによる磁気記録膜の破壊、い
わゆるスクラッチが減少し、ミッシングエラーの少ない
磁気ディスク表面が得られたと推定する。この結果、生
産ラインにおける磁気ディスクの検査工程において、電
気特性の不良判定歩留まりが向上した。図9に本発明方
式とエアーブロー方式クリーニングの、電気特性不良率
を示す。本発明方式のクリーニングを行った結果、電気
特性不良率は20%低減できた。検査条件は、前記のミ
ッシングエラー測定と同じである。 (実施例2)実施例1の図5に示した加圧機構方式で課
題となるのがスポンジ形状の経時的変形及びディスクの
面振れによる、加圧面内での圧力分布の不均一性であ
る。即ち、スポンジがテープを介してディスクに接触し
た際に、ディスク面に加わる圧力がスポンジの接触面内
に均等に分布しないということである。これを解決する
ための方法として、図10に示す加圧機構を発明した。
この機構は、スポンジの固定してある加圧ブロックが調
芯ピンを中心に首振りする機構となっており、スポンジ
がディスクに接触して任意の加圧力で押し込まれた場
合、ディスク面に圧力が均等に分散し平衡状態となる位
置で圧力ブロックが位置決めされる構造であることが特
徴である。更に、クリーニングプロセス中においては、
ディスクを回転させているため、円周方向のディスクの
うねり乃至は面振れが加圧ブロックへの反発応力として
作用し、その変動量は不確定なものであるが、本機構に
することによって上記の効果により常にスポンジ面内で
の圧力分布が均等になるようにブロックが首振り作用を
行い、ディスク面内にスポンジ接触面が倣うものであ
る。これより、スポンジの形状が経時的に変化したり或
いは、ディスクの面振れ量が変化してもスポンジがディ
スクに作用する押し込み圧力はスポンジ接触面内で均一
であり、クリーニング効果は安定して得られる。図11
にスポンジ面内の加圧力分布の模式図を示す。 (実施例3)実施例1の製造条件で作製した磁気ディス
クを組み込んで、図12のような磁気ディスク装置を作
製した。101は磁気ディスク、102は磁気ディスク
駆動装置、103は磁気ヘッド、104は磁気ヘッド駆
動用のボイスコイル型モーター、105は記録再生信号
回路系である。磁気ヘッドには、記録用の電磁誘導型ヘ
ッドと再生用の磁気抵抗効果型ヘッドを併せ持つ複合型
ヘッドを用いた。記録磁極間のギャップ長は0.3ミク
ロンとした。また、コイルには厚さ3ミクロンの銅を用
いた。前記再生用ヘッドは磁気抵抗センサとその両端の
電極パターンからなり、磁気抵抗センサは共に1ミクロ
ン厚の下部記録磁極兼上部シールド層と下部シールド層
で挟まれ、該シールド層間距離は0.20ミクロンであ
る。 (実施例4)実施例1の製造条件で作製した磁気ディス
クを組み込んだ磁気ディスク装置を用いて図13のよう
な磁気ディスクアレイシステムを作製した。201は磁
気ディスクアレイシステム筐体、202は磁気ディスク
装置、203は磁気ディスクアレイ制御部である。
Further, in order to verify the generation margin of the contamination, a comparison was made in an acceleration test in which the contamination easily occurred. The number of contaminations was determined by counting contaminations of 0.5 μm or more with a defect detection device manufactured by Hitachi Electronics Engineering which detects the reflection intensity of the laser (hereinafter, the number of contaminations is the value of the measurement device). ). FIG. 7 shows the relationship between the rotation speed of the disk and the amount of contamination. When the rotational speed of the disk is increased, the frictional force depending on the relative speed between the disk surface and the tape surface increases, so that the abrasive layer of the tape tends to fall off and the contamination tends to increase. However, even if the tape is damaged by increasing the rotation speed, the contamination hardly increases when the cleaning is performed by the method of the present invention even under the condition that the damage to the tape is increased. This is due to the fact that most of the contamination, as described above, is caused by the loss of the brittle part called the burr at the end of the tape, and in the method of the present invention, the pressing area of the sponge pad avoids the above-mentioned end. It is thought that it is possible to make it difficult to increase contamination. Further, an effect of reducing scratches (hereinafter referred to as "scratch") which destroys the recording film by embedding abrasive grains in the surface of the magnetic disk was obtained. This scratch correlates with an error mode called a missing error. The missing error is a parameter serving as a failure determination reference element in a magnetic disk completed product inspection process. FIG. 8 shows a comparison of the number of missing errors between the method of the present invention and the air blow method cleaning. The cleaning conditions were the same as those described above, with a rotation speed of 200 revolutions per minute for both types. The measurement of the missing error was performed using a magnetoresistive head (track width = 1.25 microns) manufactured by Seagate Inc. at a frequency of 90 kFCI, a rotation speed of 7000 revolutions per minute, a slice level of 86%, and a track pitch of 1.3 microns. In the range from 14.03 mm to 30.05 mm in the radial position, the auto gain control function was turned off, and the average of 100 measurement surfaces was determined as the number of errors. In the case of a missing error, the error size is divided into the following three stages.
Correctable error (CM) 1.12 microns or less, uncorrectable error (UM) 1.40 to
4.76 microns, long error (LM) 5.04
Micron or more. From these results, it was found that the method of the present invention can significantly reduce the average number of errors in each of CM, UM, and LM as compared with the air blow method. this is,
When the tape cleaning is performed under the same conditions, the air blow method often causes contamination from the tape end, whereas the sponge pad pressurizing method of the present invention can reduce the occurrence of contamination. It is presumed that the destruction of the magnetic recording film due to the embedding, that is, so-called scratching, was reduced, and a magnetic disk surface with few missing errors was obtained. As a result, in the inspection process of the magnetic disk on the production line, the yield of determining the electrical characteristics is improved. FIG. 9 shows the defective ratio of the electric characteristics of the cleaning method of the present invention and the cleaning of the air blow method. As a result of performing the cleaning according to the present invention, the defective rate of electrical characteristics was reduced by 20%. The inspection conditions are the same as those for the above-described missing error measurement. (Second Embodiment) In the pressing mechanism system shown in FIG. 5 of the first embodiment, the problem is the unevenness of the pressure distribution in the pressing surface due to the temporal deformation of the sponge shape and the runout of the disk. . That is, when the sponge comes into contact with the disk via the tape, the pressure applied to the disk surface is not evenly distributed in the contact surface of the sponge. As a method for solving this, a pressure mechanism shown in FIG. 10 was invented.
In this mechanism, the pressure block to which the sponge is fixed swings around the centering pin, and when the sponge comes into contact with the disc and is pushed in by an arbitrary pressing force, pressure is applied to the disc surface. Is characterized in that the pressure block is positioned at a position where the pressure blocks are evenly dispersed and in an equilibrium state. Furthermore, during the cleaning process,
Since the disk is rotated, the waviness or runout of the disk in the circumferential direction acts as a repulsive stress on the pressure block, and the amount of the fluctuation is uncertain. The effect of (1) is that the block oscillates so that the pressure distribution in the sponge surface is always uniform, and the sponge contact surface follows the disk surface. Therefore, even if the shape of the sponge changes over time or the amount of runout of the disk changes, the pushing pressure applied to the disk by the sponge is uniform within the sponge contact surface, and the cleaning effect can be obtained stably. Can be FIG.
Fig. 2 shows a schematic diagram of the pressure distribution in the sponge surface. Example 3 A magnetic disk device as shown in FIG. 12 was manufactured by incorporating the magnetic disk manufactured under the manufacturing conditions of Example 1. 101 is a magnetic disk, 102 is a magnetic disk drive, 103 is a magnetic head, 104 is a voice coil motor for driving the magnetic head, and 105 is a recording / reproducing signal circuit system. As the magnetic head, a composite type head having both an electromagnetic induction type head for recording and a magnetoresistive head for reproduction was used. The gap length between the recording magnetic poles was 0.3 microns. Copper having a thickness of 3 microns was used for the coil. The reproducing head comprises a magnetoresistive sensor and electrode patterns at both ends of the magnetoresistive sensor. Both magnetoresistive sensors are sandwiched between a lower recording magnetic pole / upper shield layer and a lower shield layer having a thickness of 1 micron, and the distance between the shield layers is 0.20 micron. It is. (Example 4) A magnetic disk array system as shown in FIG. 13 was manufactured using a magnetic disk device incorporating a magnetic disk manufactured under the manufacturing conditions of Example 1. Reference numeral 201 denotes a magnetic disk array system housing, 202 denotes a magnetic disk device, and 203 denotes a magnetic disk array control unit.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上述べたように、本発明による磁気デ
ィスクの製造方法は、テープ幅より狭いスポンジパッド
でテープを押し付けるサスペンション方式によりクリー
ニングする工程を含むことにより、磁気ディスク表面へ
のコンタミネーションの発生を抑制し、再生信号のエラ
ーとなり得るスクラッチを減少することができる。また
本発明による磁気ディスクは、前記工程により製造され
ることにより、磁気ディスク表面に与える再生信号のエ
ラーとなり得るスクラッチを如何に少なく抑え、磁気ヘ
ッドの浮上阻害となり得る突出部を除去することができ
る。更に本発明による磁気ディスク装置並びに磁気ディ
スクアレイシステムは、前記磁気ディスクを搭載するこ
とによりデータの記録再生の信頼性を向上することがで
きる。
As described above, the method for manufacturing a magnetic disk according to the present invention includes the step of cleaning the magnetic disk by a suspension method in which the tape is pressed with a sponge pad narrower than the tape width, whereby contamination on the surface of the magnetic disk is reduced. Generation can be suppressed, and scratches that can cause errors in the reproduced signal can be reduced. Further, by manufacturing the magnetic disk according to the present invention by the above-described steps, it is possible to minimize the number of scratches that may cause an error in the reproduction signal applied to the magnetic disk surface, and to remove the protrusion that may hinder the flying of the magnetic head. . Further, the magnetic disk drive and the magnetic disk array system according to the present invention can improve the reliability of data recording and reproduction by mounting the magnetic disk.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】磁気ディスクの断面構造図。FIG. 1 is a sectional structural view of a magnetic disk.

【図2】(1)はクリーニングテープのSEM像(クリ
ーニング前)を示す図、(2)はクリーニングテープの
SEM像(クリーニング後)を示す図。
FIG. 2A is a diagram illustrating an SEM image of a cleaning tape (before cleaning), and FIG. 2B is a diagram illustrating an SEM image of the cleaning tape (after cleaning).

【図3】磁気ディスク表面のコンタミネーションSEM
像を示す図。
FIG. 3 shows a contamination SEM on a magnetic disk surface.
The figure which shows an image.

【図4】テープクリーニング装置模式図。FIG. 4 is a schematic view of a tape cleaning device.

【図5】テープクリーニング装置加圧機構部模式図。FIG. 5 is a schematic view of a tape cleaning device pressing mechanism.

【図6】加圧接触パターンの安定性を説明する図。FIG. 6 is a diagram for explaining the stability of a pressure contact pattern.

【図7】ディスク回転速度とコンタミネーション数の関
係図。
FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the disk rotation speed and the number of contaminations.

【図8】加圧方式とミッシングエラー個数の関係図。FIG. 8 is a diagram showing the relationship between the pressure method and the number of missing errors.

【図9】加圧方式と電気特性不良率の関係図。FIG. 9 is a diagram showing a relationship between a pressurization method and a failure rate of electrical characteristics.

【図10】加圧機構部首振り機構の模式図FIG. 10 is a schematic view of a pressure mechanism swing mechanism.

【図11】スポンジ加圧時の面内圧力分布図。FIG. 11 is an in-plane pressure distribution diagram when a sponge is pressed.

【図12】磁気ディスク装置の摸式図。FIG. 12 is a schematic diagram of a magnetic disk drive.

【図13】磁気ディスクアレイシステムの摸式図。FIG. 13 is a schematic diagram of a magnetic disk array system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…基板、11、11′…第一下地膜、12、12′
…第二下地膜、13、13′…第三下地膜、14、1
4′…第一磁性膜、15、15′…第二磁性膜、16、
16′…保護膜、17、17′…潤滑膜、21…磁気デ
ィスク、22…クリーニングテープ、23…送り出しリ
ール、24…ガイドローラー、25…定テンション機
構、26…ガイドローラー、27…スポンジパッド、2
8…加圧ブロック、29…バネ、30…ガイドローラ
ー、31…巻き取りローラー、101…磁気ディスク、
102…磁気ディスク駆動装置、103…磁気ヘッド、
104…磁気ヘッド用のボイスコイル型モーター、10
5…記録再生信号回路系、201…磁気ディスクアレイ
システム、202…磁気ディスク装置、203…磁気デ
ィスクアレイ制御部。
Reference numeral 10: substrate, 11, 11 ': first underlayer, 12, 12'
... Second base film, 13, 13 '... Third base film, 14, 1
4 ′: first magnetic film, 15, 15 ′: second magnetic film, 16,
16 ': protective film, 17, 17': lubricating film, 21: magnetic disk, 22: cleaning tape, 23: delivery reel, 24: guide roller, 25: constant tension mechanism, 26: guide roller, 27: sponge pad, 2
Reference numeral 8: pressure block, 29: spring, 30: guide roller, 31: take-up roller, 101: magnetic disk,
102: magnetic disk drive, 103: magnetic head,
104: voice coil type motor for magnetic head, 10
5: recording / reproducing signal circuit system, 201: magnetic disk array system, 202: magnetic disk device, 203: magnetic disk array control unit.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 船本 進 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージ事業部内 (72)発明者 丸山 文信 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージ事業部内 (72)発明者 永野 貴範 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージ事業部内 Fターム(参考) 5D006 DA03 EA03 EA04 FA09 5D112 AA24 GA08 GA12 GA13  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Susumu Susumumoto 2880 Kozu, Odawara City, Kanagawa Prefecture Inside the Hitachi, Ltd.Storage Division (72) Inventor Fuminobu Maruyama 2880 Kozu, Kozuhara, Odawara City, Kanagawa Prefecture Hitachi, Ltd. Within the Storage Division (72) Inventor Takanori Nagano 2880 Kozu, Odawara-shi, Kanagawa F-term within the Storage Division, Hitachi, Ltd. F-term (reference) 5D006 DA03 EA03 EA04 FA09 5D112 AA24 GA08 GA12 GA13

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性基板上に設けられた強磁性合金薄
膜からなる磁性層の上にカーボン保護層を形成してなる
磁気記録媒体の製造方法において、前記保護層表面を研
磨砥粒を固着したラッピングテープを、テープ幅の80
%以上97%以下の幅、且つ物性が25%圧縮荷重(J
IS−K−6301)で0.1キログラム毎平方センチ
メートル以上1.0キログラム毎平方センチメートル以
下であることを特徴とするスポンジ乃至はゴム発砲体を
介し、押圧する方式を特徴とするクリーニング工程を含
むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
1. A method of manufacturing a magnetic recording medium comprising a carbon protective layer formed on a magnetic layer comprising a ferromagnetic alloy thin film provided on a non-magnetic substrate, wherein said protective layer surface has abrasive grains fixed thereon. Wrapping tape with a width of 80
% And 97% or less, and the physical properties are 25% compression load (J
IS-K-6301), including a cleaning step characterized by a method of pressing through a sponge or a rubber foam which is not less than 0.1 kilograms per square centimeter and not more than 1.0 kilograms per square centimeter. A method for manufacturing a magnetic recording medium.
【請求項2】 請求項1における押圧方式において、ス
ポンジパッドを固定する加圧機構部が、首振り構造とな
っていることを特徴とする機構を有するクリーニング方
式であることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
2. The magnetic recording method according to claim 1, wherein the pressing mechanism for fixing the sponge pad is a cleaning method having a mechanism characterized by a swing structure. The method of manufacturing the medium.
【請求項3】 請求項1又は2記載の製造方法を用いて
作製した磁気ディスク。
3. A magnetic disk manufactured by using the manufacturing method according to claim 1.
【請求項4】 請求項1又は2記載の製造方法を用いて
作製した磁気ディスクを用いた磁気ディスク装置。
4. A magnetic disk drive using a magnetic disk manufactured by using the manufacturing method according to claim 1.
【請求項5】 請求項1又は2記載の製造方法を用いて
作製した磁気ディスクを用いた磁気ディスク装置を用い
た磁気ディスクアレイシステム。
5. A magnetic disk array system using a magnetic disk device using a magnetic disk manufactured by using the manufacturing method according to claim 1.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010079955A (en) * 2008-09-24 2010-04-08 Fujitsu Ltd Apparatus for burnishing magnetic disk tape
US8388414B2 (en) 2008-10-07 2013-03-05 HGST Netherlands B.V. Apparatus for cleaning magnetic disks and methods for manufacturing magnetic disks

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