JP2002318361A - ガルバノメータの位置決め制御方法 - Google Patents

ガルバノメータの位置決め制御方法

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JP2002318361A
JP2002318361A JP2001121851A JP2001121851A JP2002318361A JP 2002318361 A JP2002318361 A JP 2002318361A JP 2001121851 A JP2001121851 A JP 2001121851A JP 2001121851 A JP2001121851 A JP 2001121851A JP 2002318361 A JP2002318361 A JP 2002318361A
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JP
Japan
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galvanometer
positioning
range
deviation signal
laser beam
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JP2001121851A
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Inventor
Kenji Kasai
研二 河西
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来の技術と同じ加工時間で被加工物を加工
することができ、また、被加工物の特性としては優れな
いが使用不可能となるには至らない程度の加工位置にレ
ーザ光線が照射されていることを上位コントローラによ
って確認することができ、従来のように日に数回の定期
検査を行わずに済むガルバノメータの位置決め制御方法
を提供する。 【解決手段】 偏差信号が0になるようにフィードバッ
ク制御するガルバノメータの位置決め制御方法であっ
て、被加工物の特性としては優れていないが使用不可能
とはならないようにレーザ光線が照射されることを補償
する偏差信号の範囲として第2静定範囲を予め設定して
おき、偏差信号が第2静定範囲内に入ったことを検出し
た時点から一定時間(Jd2)経過した時点をガルバノ
メータの位置決め完了時点とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガルバノメータの
位置決め制御方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、携帯電話等の電子機器に代表され
る高密度配線回路基板の単位面積当たりの穴加工数が、
穴の微細化や基板の高密度化により益々増加してきてい
る。
【0003】このような高密度配線回路基板において
は、穴加工の高速化及び加工位置や加工寸法などの高精
度化が必要不可欠であるため、高密度配線回路基板にス
ルーホール等の穴を加工する際には光走査形光学系ガル
バノメータを利用したレーザ穴加工技術が好適に採用さ
れている。
【0004】このガルバノメータを利用したレーザ穴加
工技術は、ガルバノメータに付随するガルバノミラーに
よって反射されたレーザ光線を集光レンズによって集光
して被加工物の照射平面上に照射し、溶解あるいは蒸発
させて穴を穿つ加工技術であり、ミクロン単位の微細な
穴を正確な位置に加工する分野に適している。
【0005】レーザ穴加工技術に使用されるガルバノメ
ータは、レーザ光線の照射位置決めを行う上位コントロ
ーラに照射位置を表す数値データを入力することにより
ガルバノメータの回転駆動部を制御し、レーザ光線を被
加工物の照射平面上に走査させるものである。
【0006】また、このようなレーザ穴加工技術に使用
されるガルバノメータには、マイクロラジアンオーダの
高分解能と、±π/6[rad](±30°)の広い駆
動角と、高速な照射位置決めとが要求されている。そこ
で、ガルバノメータの回転位置(回転角度)を検出する
センサ(回転位置検出センサ)として一般的には微小角
を高速に検出できる静電容量センサを設け、サーボ系の
アナログフィードバック制御によって、高速、且つ正確
に位置決めを行っている。
【0007】このガルバノメータを用いたレーザ穴加工
技術の具体例としては、本出願人が先に特許出願した特
開平8−174256号公報等に開示されているものが
ある。図2に、同公報に開示されている高密度配線回路
基板にスルーホール等の穴を加工するレーザ加工装置の
構成の要部を示す。図2において、1はガルバノメー
タ、2はレーザ発振器、3はビームスプリッタ、4はf
−θレンズ、5は被加工物、6はXYテーブルである。
該装置は、XYテーブル6上に設置された被加工物(高
密度配線回路基板)の任意の位置に穴を穿つ為に、XY
テーブル6に指令位置を与え、ガルバノメータ1に回転
位置指令を与え、双方の位置決めが完了した後、レーザ
発振器2よりレーザ光線を照射して穴加工を行ってい
る。
【0008】該装置は、被加工物5(面積;500[m
m]×350[mm])の任意の位置に穴加工ができる
ようにするために、ガルバノメータ1の動作のみで50
[mm]×50[mm]の範囲にレーザ光線を照射でき
るようにし、かつXYテーブル6を50[mm]単位で
動かせるようにしている。
【0009】また該装置は、2対のガルバノメータ1と
f−θレンズ4を配置し、またXYテーブル6上に2対
の被加工物5を設置し、レーザ光線をビームスプリッタ
3で分岐することで2枚同時加工を実現している。
【0010】被加工物5である高密度配線回路基板は、
穴の微細化、基板の高密度化により50[mm]×50
[mm]の範囲当たりの穴加工数が1000穴、全体で
は100000穴を越えており、ガルバノメータの位置
決めにかかる時間が1枚の被加工物の加工時間に大きく
影響している。
【0011】図3は、同公報に開示されているガルバノ
メータの制御系の構成を示すブロック図である。以下、
この図3に基き従来のガルバノメータの位置決め制御方
法について説明する。
【0012】図3に示す従来のガルバノメータ制御系に
おいて、上位コントローラ8が有する位置指令発生器1
2からは、ガルバノメータ1(つまり、ガルバノミラ
ー)を所望の回転位置に回転移動させるための回転位置
指令データが回転位置指令信号として出力される。一
方、回転位置検出センサである静電容量センサ9からは
ガルバノメータ1の回転位置を表す検出信号が出力さ
れ、位置検出器11によってガルバノメータ1の実際の
回転位置を示す実位置データ信号に変換される。
【0013】電流指令信号発生器10は、回転位置指令
信号と実位置データ信号との偏差(偏差信号)が0とな
るように制御処理を行ない、前期偏差信号が0となる電
流指令値を演算して電流指令信号をガルバノメータ1の
駆動部(図示せず)に出力する。
【0014】ガルバノメータの位置決めが完了したかど
うかの判断、つまりガルバノメータが目標とする回転位
置に位置決めされたかどうかの判断は、図4に示すよう
に、回転位置指令信号と実位置データ信号との偏差信号
が位置決め完了範囲内に収まったかどうかを確認する、
つまり偏差信号が位置決め完了範囲内に入ったことを上
位コントローラ8が検出することによって判断してい
る。この位置決め完了範囲内に偏差信号が入った時点を
ガルバノメータの位置決め完了のタイミングとし、この
判断の後、上位コントローラ8が有するレーザ照射指令
発生器13から出力されるレーザ照射指令信号に従って
レーザ発振器2がレーザ光線を発振し、被加工物の加工
を行う。
【0015】しかし、偏差信号はサブmVオーダ(サブ
mオーダは、1mm以下から0.1mmまでの範囲を示
している)であり、そのため、ノイズの影響により、ま
た増幅したとしてもオフセット電圧等の影響により、正
確な位置決め完了のタイミングを知る手段として用いる
ことが現状ではできていない。また、ノイズの影響を軽
減させるためにフィルタを挿入することも考えられる
が、時定数を低く設定しなければならず、位置決め完了
のタイミングを知るために余計な時間を費やしてしまう
欠点があり、実用化されていない。
【0016】そこで現在は、図5に示すように、フィー
ドバック制御の時間特性を予め求めておき、回転位置指
令信号が出力し終わってから一定時間経過した時点で位
置決め完了と判断している。
【0017】そのため、ガルバノメータの位置決めが完
了しているか否か、つまりガルバノメータが正確に位置
決めされているか否かを実際に確認する必要があるが、
従来のレーザ穴加工技術に使用されているガルバノメー
タの位置決め制御は上位コントローラからはオープン制
御となるため、上位コントローラからガルバノメータが
正確に位置決めされているか否かを確認する手段がな
く、また、回転位置検出センサとして静電容量センサが
用いられているために経時変化の影響も考慮する必要が
あることから、定期的(日に数回)に、例えば実際に加
工された穴の位置を測定する等の方法で正確な位置に穴
が穿たれているか否かを確認し、これによって、ガルバ
ノメータが正確に位置決めされているか否かの判断をし
なければならなかった。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
に鑑み、被加工物の特性としては優れていないが使用不
可能とはならないようにレーザ光線が照射されることを
補償する偏差信号の範囲を予め設定しておき、また、上
記予め設定されている範囲内に偏差信号が入ってからの
フィードバック制御の時間特性を予め求めておき、上記
予め設定されている範囲内に偏差信号が入ったことを検
出した時点から一定時間経過した時点でガルバノメータ
の位置決め完了とすることによって、従来の技術と同じ
加工時間で被加工物を加工することができ、また、被加
工物の特性としては優れないが使用不可能となるには至
らない程度の加工位置にレーザ光線が照射されているこ
とを上位コントローラによって確認することができ、従
来のように日に数回の定期検査を行わずに済むガルバノ
メータの位置決め制御方法を提供することを目的とす
る。
【0019】
【課題を解決するための手段】本発明における請求項1
記載のガルバノメータの位置決め制御方法は、目標とす
る回転位置までガルバノメータの回転駆動部を回転させ
るための回転位置指令信号と、ガルバノメータの回転駆
動部の実際の回転位置を示す実位置データ信号との偏差
信号が0になるように回転駆動部をフィードバック制御
してレーザ光線を目標位置に照射するガルバノメータの
位置決め制御方法であって、被加工物の特性としては優
れていないが使用不可能とはならないようにレーザ光線
が照射されることを補償する偏差信号の範囲を予め設定
しておき、上記予め設定されている範囲に偏差信号が入
ったことを検出し、上記検出した時点から一定時間経過
した時点を以ってガルバノメータの位置決め完了時点と
することを特徴とする。
【0020】本発明のガルバノメータの位置決め制御方
法によれば、従来の技術と同じ加工時間で被加工物を加
工することができ、また、被加工物の特性としては優れ
ないが使用不可能となるには至らない程度の加工位置に
レーザ光線が照射されていることを上位コントローラに
よって確認することができ、従来のように日に数回の定
期検査を行う必要がなくなる。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施の一形態であるガルバノメータの位置決め制御方
法について説明する。
【0022】本実施の形態におけるガルバノメータの位
置決め制御は、従来の技術と同様に、ガルバノメータの
回転位置検出センサとして静電容量センサを用い、サー
ボ系のアナログフィードバック制御によって位置決めを
行っている。つまり、図3に示すように、静電容量セン
サ9が出力する検出信号から求めたガルバノメータ1の
実際の回転位置を示す実位置データ信号と上位コントロ
ーラ8からの回転位置指令信号との偏差(偏差信号)が
0となるように制御処理を行ない、前期偏差信号が0と
なる電流指令値を演算して電流指令信号をガルバノメー
タ1の駆動部(図示せず)に出力することで位置決め制
御を行っている。
【0023】本実施の形態におけるガルバノメータの位
置決めが完了しているか否かの判断方法について図1を
用い、以下に説明する。図1において第1静定範囲と
は、レーザ光線が所望の位置に照射されることを補償す
る偏差信号の範囲、つまりこの範囲に偏差信号が収まっ
たときには目標とする位置にレーザ光線が照射されるこ
とを補償する範囲であり、第2静定範囲とは、第1静定
範囲よりも広くとられた範囲であって、被加工物が使用
不可能とはならない位置にレーザ光線が照射されること
を補償する偏差信号の範囲、つまりこの範囲に偏差信号
が収まったときには被加工物の特性としては優れていな
いが使用不可能とはならないよう被加工物を加工できる
位置にレーザ光線が照射されることを補償する範囲であ
る。
【0024】本実施の形態のガルバノメータの位置決め
制御方法においては、まず第2静定範囲内に偏差信号が
入ってからのフィードバック制御の時間特性を予め求め
ておき、図1に示すように、偏差信号が第2静定範囲内
に入った時点から一定時間(Jd2)経過した時点で第
1静定範囲内に収まったものと判断し(位置決め完了の
タイミングとし)、この時点(タイミング)でレーザ光
線を被加工物に照射することによって被加工物が完全な
良品として加工されると判断している。なお、フィード
バック制御の時間特性は、装置立ち上げ時に測定した数
点の実測データによって決定する。
【0025】偏差信号はサブmVオーダであるため、第
2静定範囲内に偏差信号が入ったことを正確に検出する
にはノイズの影響を軽減する必要がある。そこで本実施
の形態においては時定数を低く設定したフィルタを挿入
するものとする。
【0026】従来の技術において時定数を低く設定した
フィルタを挿入した場合、位置決め完了範囲内に偏差信
号が入ったことを検出するまでに時間がかかるという欠
点があったが、第2静定範囲は従来の技術の位置決め完
了範囲よりも広いため、従来の技術における位置決め完
了範囲内に偏差信号が入ったことを検出するまでにかか
る時間よりは短い時間で検出できる。また、フィルタを
挿入することによって生じる遅れ、つまり第2静定範囲
内に偏差信号が入ったことを検出するまでにかかる時間
は、予め求めたフィードバック制御の時間特性によって
決定した一定時間(Jd2)を調整することで取り戻す
ことも可能である。
【0027】本実施の形態のガルバノメータの位置決め
制御方法は、例えば従来例として挙げた特開平8−17
4256号公報に示すレーザ加工装置等に応用すること
ができる。この場合、従来の技術(回転位置指令信号が
出力し終わってから一定時間経過した時点でガルバノメ
ータの位置決めが完了したと判断し、レーザ光線を被加
工物に照射する方法)と同じ加工時間で被加工物を加工
することができ、更に、被加工物の特性としては優れな
いが使用不可能となるには至らない程度の加工位置にレ
ーザ光線が照射されていることを上位コントローラによ
って確認することができ、従来のように日に数回の定期
検査を行う必要がなくなる。
【0028】
【発明の効果】本発明のガルバノメータの位置決め制御
方法によれば、従来の技術と同じ加工時間で被加工物を
加工することができ、また、被加工物の特性としては優
れないが使用不可能となるには至らない程度の加工位置
にレーザ光線が照射されていることを上位コントローラ
によって確認することができ、従来のように日に数回の
定期検査を行う必要がなくなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の一形態であるガルバノメータの
位置決め完了を判定するための概念図
【図2】高密度配線回路基板にスルーホール等の穴を加
工するレーザ加工装置の構成の要部を示す図
【図3】ガルバノメータの制御系の構成を示すブロック
【図4】従来のガルバノメータの位置決め完了を判定す
るための概念図
【図5】従来のガルバノメータの位置決め完了を判定す
るための概念図
【符号の説明】
1 ガルバノメータ 2 レーザ発振器 3 ビームスプリッタ 4 f−θレンズ 5 被加工物 6 XYテーブル 7 ドライバ集積回路 8 上位コントローラ 9 静電容量センサ 10 電流指令信号発生器 11 位置検出器 12 位置指令発生器 13 レーザ照射指令発生器

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】目標とする回転位置までガルバノメータの
    回転駆動部を回転させるための回転位置指令信号と、ガ
    ルバノメータの回転駆動部の実際の回転位置を示す実位
    置データ信号との偏差信号が0になるように回転駆動部
    をフィードバック制御してレーザ光線を目標位置に照射
    するガルバノメータの位置決め制御方法であって、 被加工物の特性としては優れていないが使用不可能とは
    ならないようにレーザ光線が照射されることを補償する
    偏差信号の範囲を予め設定しておき、 上記予め設定されている範囲に偏差信号が入ったことを
    検出し、 上記検出した時点から一定時間経過した時点を以ってガ
    ルバノメータの位置決め完了時点とすることを特徴とす
    るガルバノメータの位置決め制御方法。
JP2001121851A 2001-04-20 2001-04-20 ガルバノメータの位置決め制御方法 Pending JP2002318361A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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