JP2002313559A - Charge injection type light emitting element and its manufacturing method - Google Patents

Charge injection type light emitting element and its manufacturing method

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JP2002313559A
JP2002313559A JP2001117582A JP2001117582A JP2002313559A JP 2002313559 A JP2002313559 A JP 2002313559A JP 2001117582 A JP2001117582 A JP 2001117582A JP 2001117582 A JP2001117582 A JP 2001117582A JP 2002313559 A JP2002313559 A JP 2002313559A
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JP
Japan
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light emitting
film
organic light
layer
charge injection
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JP2001117582A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuichi Hashimoto
雄一 橋本
Akihiro Senoo
章弘 妹尾
Koichi Suzuki
幸一 鈴木
Kazunori Ueno
和則 上野
Hiroshi Tanabe
浩 田邊
Sven Andriessen
アンドリーセン・スヴェン
Tatsuto Kawai
達人 川合
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charge injection type light emitting element provided with a protective film of a long service life with a sufficient heat radiating property and a high shielding property to oxygen and moisture to an organic luminescent layer, a carrier transport layer and an electrode. SOLUTION: The surface exposed parts of the organic luminescent layer 11, carrier transport layer 10 and electrode 12 are irradiated with hydrogen ion in an energy range of less than 150 eV to provide a protective film formed of poly-paraxylene film for covering the surface exposed part.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電荷注入型発光素子
の保護膜に関し、より詳しくは酸素及び水分透過性の低
い保護膜を具備した電荷注入型発光素子及びその製造方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a protective film for a charge injection type light emitting device, and more particularly, to a charge injection type light emitting device having a protective film having low oxygen and moisture permeability and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶あるいは有機発光素子等に使用され
るITO膜(透明導電性膜)は、その普及に伴って高性
能化の要求が高まっており、特にITO膜の低抵抗率
化、更には電極としての電荷の注入性の高効率化が強く
望まれている。
2. Description of the Related Art With the spread of ITO films (transparent conductive films) used for liquid crystal or organic light emitting devices, demands for higher performance are increasing. It is strongly desired that the efficiency of charge injection as an electrode be increased.

【0003】従来、ITO膜を基板等に成膜するには、
真空蒸着あるいはスパッタリング等のドライプロセスに
よる成膜方法が一般的に行われている。しかしながら、
真空蒸着あるいはスパッタリングにより得られたITO
膜は、ITOの結晶性が成膜時の基板温度及び成膜速度
に依存するため、物理的な表面形状(面粗さ)や結晶面
に係るITO膜の電気的特性を大きく改善することは困
難であり、有機発光素子等の電極としての機能(電荷注
入性)を向上させることは不可能であった。
Conventionally, to form an ITO film on a substrate or the like,
A film forming method by a dry process such as vacuum evaporation or sputtering is generally performed. However,
ITO obtained by vacuum evaporation or sputtering
Since the crystallinity of the ITO film depends on the substrate temperature and the film formation rate at the time of film formation, it is not possible to greatly improve the physical surface shape (surface roughness) and the electrical characteristics of the ITO film related to the crystal plane. It was difficult, and it was impossible to improve the function (charge injection property) as an electrode of an organic light emitting device or the like.

【0004】一方、有機材料の電界発光現象は1963
年にポープ(Pope)らによってアントラセン単結晶
で観測され(J.Chem.Phys.38(196
3)2042)、それに続き1965年にヘルフリッヒ
(Helfinch)とシュナイダー(Schneid
er)は注入効率の良い溶液電極系を用いることにより
比較的強い注入型EL(エレクトロルミネッセンス)の
観測に成功している(phys.Rev.Lett.1
4(1965)229)。
On the other hand, the electroluminescence phenomenon of organic materials is 1963.
And was observed in single crystals of anthracene by Pope et al. (J. Chem. Phys. 38 (196)
3) 2042), followed by Helfinch and Schneid in 1965
er) succeeded in observing a relatively strong injection-type EL (electroluminescence) by using a solution electrode system having a high injection efficiency (phys. Rev. Lett. 1).
4 (1965) 229).

【0005】それ以来、米国特許3,172,862
号、米国特許3,173,050号、米国特許3,71
0,167号、J.Chem.Phys.44(196
6)2902、J.Chem.Phys.50(196
9)14364、J.Chem.Phys.58(19
73)1542、あるいはChem.Phys.Let
t.36(1975)345等に報告されている様に、
共役の有機ホスト物質と縮合ベンゼン環を持つ共役の有
機活性化剤とで有機発光性物質を形成する研究が行われ
た。ナフタレン、アンスラセン、フェナンスレン、テト
ラセン、ピレン、ベンゾピレン、クリセン、ピセン、カ
ルバゾール、フルオレン、ビフェニル、ターフェニル、
トリフェニレンオキサイド、ジハロビフェニル、トラン
ス−スチルベン及び1,4−ジフェニルブタジエン等が
有機ホスト物質の例として示され、アンスラセン、テト
ラセン、及びペンタセン等が活性化剤の例として挙げら
れた。しかしこれらの有機発光性物質はいずれも1μm
以上を超える厚さを持つ単一層として存在し、発光には
高電界が必要であった。この為、真空蒸着法による薄膜
素子の研究が進められた(例えばThin Solid
Films 94(1982)171、Polyme
r 24(1983)748、Jpn.J.Appl.
Phys.25(1986)L773)。
Since then, US Pat. No. 3,172,862
No. 3,173,050, US Pat. No. 3,71
No. 0,167, J.M. Chem. Phys. 44 (196
6) 2902; Chem. Phys. 50 (196
9) 14364; Chem. Phys. 58 (19
73) 1542, or Chem. Phys. Let
t. 36 (1975) 345 etc.,
Studies have been conducted on the formation of an organic luminescent material with a conjugated organic host material and a conjugated organic activator having a fused benzene ring. Naphthalene, anthracene, phenanthrene, tetracene, pyrene, benzopyrene, chrysene, picene, carbazole, fluorene, biphenyl, terphenyl,
Triphenylene oxide, dihalobiphenyl, trans-stilbene, 1,4-diphenylbutadiene and the like are shown as examples of organic host materials, and anthracene, tetracene, pentacene and the like are mentioned as examples of activators. However, each of these organic luminescent substances is 1 μm
It existed as a single layer having a thickness exceeding the above, and a high electric field was required for light emission. For this reason, research on a thin film element by a vacuum deposition method has been advanced (for example, Thin Solid).
Films 94 (1982) 171, Polyme
r 24 (1983) 748, Jpn. J. Appl.
Phys. 25 (1986) L773).

【0006】しかし薄膜化は駆動電圧の低減には有効で
はあったが、実用レベルの高輝度の素子を得るには至ら
なかった。
Although thinning is effective in reducing the driving voltage, it has not led to obtaining a high-brightness element on a practical level.

【0007】しかし近年タン(Tang)らは(App
l.Phys.Lett.51(1987)913ある
いは米国特許4,356,429号)、陽極と陰極との
間に2つの極めて薄い層(電荷輸送層と発光層)を真空
蒸着で積層したEL素子を考案し、低い駆動電圧で高輝
度を実現した。この種の積層型有機ELデバイスはその
後も活発に研究され、例えば特開昭59−194393
号公報、米国特許4,539,507号、英国特許4,
720,432号、特開昭63−264692号公報、
Appl.Phys.Lett.55(1989)14
67、特開平3−163188号公報等に記載されてい
る。
However, in recent years Tang et al. (App
l. Phys. Lett. 51 (1987) 913 or U.S. Pat. No. 4,356,429), devising an EL device in which two extremely thin layers (a charge transport layer and a light emitting layer) are stacked by vacuum deposition between an anode and a cathode, and low driving is performed. High brightness was achieved with voltage. This type of stacked organic EL device has been actively studied thereafter, and is disclosed in, for example, JP-A-59-194393.
No. 4,539,507, British Patent 4,
720,432, JP-A-63-264692,
Appl. Phys. Lett. 55 (1989) 14
67, JP-A-3-163188 and the like.

【0008】また更にJpn.J.Appl.Phy
s.27(1988)L269.L713には、キャリ
ア輸送と発光の機能を分離した3層構造のEL素子が報
告されており、発光色を決める発光層の色素の選定に際
してもキャリア輸送性能の制約が緩和され選択の自由度
がかなり増し、更には中央の発光層にホールと電子(あ
るいは励起子)を有効に閉じ込めて発光の向上をはかる
可能性も示唆される。
Further, Jpn. J. Appl. Phys
s. 27 (1988) L269. L713 reports a three-layered EL device in which the functions of carrier transport and light emission are separated from each other. In selecting a dye of a light-emitting layer that determines a light emission color, restrictions on carrier transport performance are relaxed, and the degree of freedom of selection is reduced. It is also suggested that there is a possibility of improving the light emission by effectively confining holes and electrons (or excitons) in the central light emitting layer.

【0009】積層型有機EL素子の作成には、一般に真
空蒸着法が用いられているが、キャスティング法によっ
てもかなりの明るさの素子が得られる事が報告されてい
る(例えば、第50回応物学会学術講演会講演予稿集1
006(1989)及び第50回応物学会学術講演会講
演予稿集1041(1990))。
Although a vacuum evaporation method is generally used for producing a stacked organic EL device, it has been reported that a device having a considerably high brightness can be obtained by a casting method (for example, the 50th application). Proceedings of academic conference
006 (1989) and Proceedings of the 50th Annual Meeting of the Japan Society for Materials Science 1041 (1990)).

【0010】更には、ホール輸送化合物としてポリビニ
ルカルバゾール、電子輸送化合物としてオキサジアゾー
ル誘導体及び発光体としてクマリン6を混合した溶液か
ら浸漬塗布法で形成した混合1層型EL素子でもかなり
高い発光効率が得られる事が報告されている(例えば、
第38回応物関係連合講演会講演予稿集1086(19
91))。
Furthermore, even a mixed single-layer EL device formed by a dip coating method from a solution in which polyvinyl carbazole as a hole transport compound, an oxadiazole derivative as an electron transport compound, and coumarin 6 as a luminous body has a considerably high luminous efficiency. Has been reported (eg,
Proceedings of the 38th Annual Conference of the Famous Relationships of the Lectures 1086 (19
91)).

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】上述の様に有機ELデ
バイスにおける最近の進歩は著しく広汎な用途の可能性
を示唆している。
As described above, recent advances in organic EL devices have shown a remarkably wide range of possible applications.

【0012】しかしそれらの研究の歴史はまだまだ浅
く、未だその材料研究やデバイス化への研究は充分なさ
れていない。現状では更なる高輝度の光出力や長時間の
使用による経時変化や酸素を含む雰囲気気体や湿気など
による劣化等の耐久性の面に未だ問題があった。
[0012] However, the history of such research is still short, and research on the material and device development has not yet been sufficiently performed. At present, there is still a problem in terms of durability, such as light output with even higher luminance, a change with time due to long-term use, and deterioration due to an atmospheric gas containing oxygen or moisture.

【0013】即ち、有機発光層、キャリア輸送層及び電
極は、水分、酸素、その他の使用環境中に存在する種々
の分子の影響を受けて劣化し易いため、完全に外界から
遮断する保護膜を設ける必要がある。
That is, since the organic light emitting layer, the carrier transporting layer, and the electrode are easily deteriorated under the influence of moisture, oxygen, and other various molecules existing in the use environment, a protective film for completely shielding the organic light emitting layer, the carrier transporting layer and the electrode from the outside world is provided. Must be provided.

【0014】保護膜としては、酸化物、炭化物、窒化物
等の無機被覆、エポキシ樹等の樹脂被覆が考えられる
が、ピンホール等の存在により充分な遮蔽効果は期待で
きない上に、発光時の発熱に伴う蓄熱作用により、素子
自体を劣化させてしまっていた。
As the protective film, an inorganic coating such as an oxide, a carbide or a nitride, or a resin coating such as an epoxy resin can be considered. However, a sufficient shielding effect cannot be expected due to the presence of pinholes and the like. The heat storage effect resulting from the heat generation has deteriorated the element itself.

【0015】本発明の目的は、この様な従来技術の問題
点を解決するために成されたものであり、有機発光層、
キャリア輸送層及び電極に対する酸素及び水分に対する
遮蔽性が高く、放熱性の良い、寿命の長い保護膜を備え
た電荷注入型発光素子を提供することにある。
An object of the present invention is to solve such problems of the prior art, and an organic light emitting layer,
An object of the present invention is to provide a charge-injection light-emitting element provided with a long-life protective film that has high shielding properties against oxygen and moisture for a carrier transport layer and an electrode, has good heat dissipation properties, and has a long life.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するべ
くなされた本発明の構成は以下のとおりである。
The configuration of the present invention which has been made to achieve the above object is as follows.

【0017】即ち、本発明の電荷注入型発光素子は、少
なくとも一方が透明である一対の電極間に、有機発光層
及びキャリア輸送層を有する電荷注入型発光素子におい
て、前記有機発光層、キャリア輸送層、及び電極の表面
露出部分に、仕事関数が5.0eV以上のポリパラキシ
レン膜からなる保護膜を有することを特徴とする。
That is, the charge injection type light emitting device of the present invention is a charge injection type light emitting device having an organic light emitting layer and a carrier transport layer between a pair of electrodes at least one of which is transparent. A protective film made of a polyparaxylene film having a work function of 5.0 eV or more is provided on the layer and the exposed surface of the electrode.

【0018】また、本発明の電荷注入型発光素子の製造
方法は、少なくとも一方が透明である一対の電極間に、
有機発光層及びキャリア輸送層を有する電荷注入型発光
素子の製造方法において、150eV未満のエネルギー
範囲にある水素イオンを、前記有機発光層、キャリア輸
送層、及び電極の表面露出部分に照射して、該表面露出
部分を覆うポリパラキシレン膜を形成する工程を有する
ことを特徴とする。
Further, the method for manufacturing a charge injection type light emitting device of the present invention comprises the steps of:
In the method for manufacturing a charge injection type light emitting device having an organic light emitting layer and a carrier transport layer, hydrogen ions in an energy range of less than 150 eV are irradiated on the organic light emitting layer, the carrier transport layer, and the exposed surface of the electrode, A step of forming a polyparaxylene film covering the exposed portion of the surface.

【0019】ポリパラキシレン膜、特にp−キシリレン
重合膜又は塩素化p−キシリレン重合膜は、ガス及び水
蒸気透過性が極めて低く、ピンホールの少ない、均一な
膜が得られるものの、通常の真空蒸着法では、接着性が
極めて低く、膜の強度も得られない。しかしながら、本
発明の製造方法ように所定のエネルギー範囲にある水素
イオンを照射しながら製膜すると、膜の結合状態を表す
仕事関数が増加し、仕事関数が5.0eV以上のポリパ
ラキシレン膜を形成でき、膜の緻密性、強度、更には接
着性が向上し、その結果、素子の寿命特性が大幅に改善
される。
A polyparaxylene film, particularly a p-xylylene polymer film or a chlorinated p-xylylene polymer film, has a very low gas and water vapor permeability and can obtain a uniform film with few pinholes. According to the method, the adhesion is extremely low and the strength of the film cannot be obtained. However, when a film is formed while irradiating hydrogen ions in a predetermined energy range as in the manufacturing method of the present invention, the work function representing the bonding state of the film increases, and a polyparaxylene film having a work function of 5.0 eV or more is formed. It can be formed, and the denseness, strength, and adhesiveness of the film are improved, and as a result, the life characteristics of the device are greatly improved.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】本発明に用いられるポリパラキシ
レン膜の原料としては、〔2,2〕パラシクロファン、
〔2,2’〕ジクロロシクロファン等のモノマーや、パ
リレンN(ポリp−キシリレン)、パリレンC(ポリモ
ノクロロp−キシリレン)、パリレンD(ポリジクロロ
p−キシリレン)等のキシレン樹脂が挙げられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As a raw material of a polyparaxylene film used in the present invention, [2,2] paracyclophane,
Monomers such as [2,2 '] dichlorocyclophane and xylene resins such as parylene N (poly p-xylylene), parylene C (polymonochloro p-xylylene), and parylene D (polydichloro p-xylylene) are exemplified.

【0021】以下、図面を参照して、本発明に係わる実
施の形態について説明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0022】図1は本発明に係わるポリパラキシレン膜
を保護膜として製膜し、素子を作製するための装置の一
例を示す模式図である。
FIG. 1 is a schematic view showing an example of an apparatus for producing a device by forming a polyparaxylene film according to the present invention as a protective film.

【0023】上記装置は、チャンバー1内に石英管4の
周りを高周波コイル3で取り巻いた放電管2と、ITO
電極上にキャリア輸送層10、有機発光層11、及びア
ルミニウム電極12を順次形成した基板13を保持する
基板ホルダー6によって構成されている。ホルダー6は
アルミニウム電極12と電気的に接触しており、電流計
7と直流電源8に接続されている。また、高周波コイル
3は、高周波電源5とコンデンサ9に接続されている。
更に、放電管2には、マスフローコントローラ(不図
示)を介して水素ガス供給装置(不図示)に接続された
ノズルが配置されている。
The above apparatus comprises a discharge tube 2 surrounded by a high-frequency coil 3 around a quartz tube 4 in a chamber 1 and an ITO tube.
The substrate holder 6 holds a substrate 13 on which a carrier transport layer 10, an organic light emitting layer 11, and an aluminum electrode 12 are sequentially formed on electrodes. Holder 6 is in electrical contact with aluminum electrode 12 and is connected to ammeter 7 and DC power supply 8. The high frequency coil 3 is connected to a high frequency power supply 5 and a capacitor 9.
Further, the discharge tube 2 is provided with a nozzle connected to a hydrogen gas supply device (not shown) via a mass flow controller (not shown).

【0024】また、チャンバー1は、図示しない真空排
気装置に接続され、所定の真空度に維持されるようにな
っている。
The chamber 1 is connected to a vacuum exhaust device (not shown) so as to maintain a predetermined degree of vacuum.

【0025】尚、ITO膜を有するガラス基板13上へ
のキャリア輸送層10、有機発光層11及びアルミニウ
ム電極12の製膜は、上記チャンバー内で行うこともで
きる。
The film formation of the carrier transport layer 10, the organic light emitting layer 11, and the aluminum electrode 12 on the glass substrate 13 having the ITO film can be performed in the above chamber.

【0026】即ち、上記構成からなる装置でITO膜を
有するガラス基板13を基板ホルダー6に取り付け、チ
ャンバー1内を約1.3×10-3〜1.3×10-4Pa
に真空排気する。そして、チャンバー1内に配置された
キャリア輸送物質の入ったボード14、有機発光物質の
入ったボード15及びアルミニウム線を巻いたタングス
テン線16に交流電源18により順次交流電流を流すこ
とにより、所定の膜厚になるように順次製膜させること
ができる。
That is, the glass substrate 13 having the ITO film is attached to the substrate holder 6 with the apparatus having the above-described configuration, and the inside of the chamber 1 is set to about 1.3 × 10 −3 to 1.3 × 10 −4 Pa.
Evacuate to Then, an alternating current is applied to the board 14 containing the carrier transporting substance, the board 15 containing the organic light emitting substance, and the tungsten wire 16 wound with the aluminum wire by the alternating current power supply 18 in order in the chamber 1 so that a predetermined current is passed. Films can be sequentially formed to a thickness.

【0027】本発明においては、以上のようにしてIT
O膜を有するガラス基板13上に製膜されたキャリア輸
送層10、有機発光層11、及びアルミニウム電極12
の露出する部分の全体に、保護膜としてポリパラキシレ
ン膜を形成する。
In the present invention, the IT
Carrier transport layer 10, organic light emitting layer 11, and aluminum electrode 12 formed on glass substrate 13 having O film
A polyparaxylene film is formed as a protective film on the entire exposed portion of the substrate.

【0028】先ず、放電管2内に、マスフローコントロ
ーラを介して水素ガスを所定流量(例えば3sccm)
流し、所定の圧力(例えば4×10-2Pa程度)に調整
して、13.56MHzの高周波電源5を動作させる
と、放電管2内に無電極放電によるプラズマが発生す
る。このような状態で、基板ホルダー6に直流電源8を
用いて、任意の負の電圧を印加すると、プラズマ中の水
素イオンが引き出され、基板ホルダー6に取り付けられ
た基板上に設けられたキャリア輸送層10、有機発光層
11、及びアルミニウム電極12の露出する表面全体に
水素イオンが照射される。
First, a predetermined flow rate (for example, 3 sccm) of hydrogen gas is supplied into the discharge tube 2 via a mass flow controller.
When the flow is adjusted to a predetermined pressure (for example, about 4 × 10 −2 Pa) and the 13.56 MHz high frequency power supply 5 is operated, plasma is generated in the discharge tube 2 by electrodeless discharge. When an arbitrary negative voltage is applied to the substrate holder 6 using the DC power supply 8 in such a state, hydrogen ions in the plasma are extracted and carrier transport provided on the substrate attached to the substrate holder 6 is performed. The entire exposed surfaces of the layer 10, the organic light emitting layer 11, and the aluminum electrode 12 are irradiated with hydrogen ions.

【0029】この一連の動作と同時に下記構造式(1)
で示される化合物を入れたボート17に交流電源18を
用いて交流電流を流すことにより、キャリア輸送層1
0、有機発光層11、及びアルミニウム電極12の露出
する表面全体に保護膜としてポリパラキシレン膜が形成
される。
At the same time as this series of operations, the following structural formula (1)
An AC current is applied to the boat 17 containing the compound represented by
A polyparaxylene film is formed as a protective film on the entire exposed surface of the organic light emitting layer 11 and the aluminum electrode 12.

【0030】[0030]

【化1】 Embedded image

【0031】ここでは、基板ホルダー6に0〜−150
Vまでの電圧を印加しながら、ポリパラキシレン膜の膜
厚が0.5μmになるまで製膜を行い、その後、大気中
に取り出して表面分析装置(理研計器製:AC−1)を
用いて仕事関数を測定した。その結果を図2に示す。
Here, 0 to -150
While applying a voltage up to V, the polyparaxylene film is formed until the thickness of the polyparaxylene film becomes 0.5 μm. Thereafter, the film is taken out into the atmosphere and used with a surface analyzer (manufactured by RIKEN KEIKI: AC-1). The work function was measured. The result is shown in FIG.

【0032】図2に示されるように、基板ホルダーへの
印加電圧(水素イオンの運動エネルギーと同義)が大きく
なると膜の仕事関数は5.0eVを上回ると共に膜の緻
密性は向上し、−50Vでその値は最大となった。
As shown in FIG. 2, when the voltage applied to the substrate holder (synonymous with the kinetic energy of hydrogen ions) increases, the work function of the film exceeds 5.0 eV, and the denseness of the film improves, and -50 V The value reached its maximum.

【0033】しかしながら、電圧を印加せずに製膜した
場合には膜の仕事関数は非常に小さく、膜がアルミニウ
ム電極上を充分に覆っていないことがわかる。
However, when the film was formed without applying a voltage, the work function of the film was very small, indicating that the film did not sufficiently cover the aluminum electrode.

【0034】また、印加電圧が−150Vを超えると、
仕事関数が低下しており、膜の結合状態が充分ではない
ことが明らかとなった。
When the applied voltage exceeds -150 V,
The work function was lowered, which revealed that the bonding state of the film was not sufficient.

【0035】なお、上記の基板ホルダーへの印加電圧と
水素イオンのエネルギーとが同義であることの意味は、
印加電圧により加速された水素イオンの有する運動エネ
ルギーが、印加電圧とほぼ等しいと云う理由によるもの
である。具体的には、水素イオンの20eVのエネルギ
ーは基板ホルダーへの印加電圧20Vに該当し、100
eVのエネルギーは基板ホルダーへの印加電圧100V
に該当する。
The meaning that the voltage applied to the substrate holder and the energy of hydrogen ions are synonymous is as follows.
This is because the kinetic energy of the hydrogen ions accelerated by the applied voltage is substantially equal to the applied voltage. Specifically, the energy of hydrogen ions of 20 eV corresponds to a voltage of 20 V applied to the substrate holder,
eV energy is 100V applied voltage to the substrate holder
Corresponds to.

【0036】以上のことから、水素イオンのエネルギー
が150eV未満の範囲、好ましくは30〜100eV
の範囲にある水素イオンをアルミニウム電極上に照射し
ながら保護膜を形成すれば、強固な結合状態を保った膜
が得られることがわかる。
From the above, the energy of the hydrogen ion is in the range of less than 150 eV, preferably 30 to 100 eV.
It can be seen that if a protective film is formed while irradiating the aluminum electrode with hydrogen ions in the range of (1), a film maintaining a strong bonding state can be obtained.

【0037】本発明の製造方法において、正イオンを引
き出すためのプラズマ生成方法は、図1に示した高周波
放電装置にかぎらず、圧力勾配型プラズマガンを使用し
たプラズマ生成方法等いずれのものでもかまわない。
In the manufacturing method of the present invention, the plasma generation method for extracting positive ions is not limited to the high frequency discharge device shown in FIG. 1, but may be any method such as a plasma generation method using a pressure gradient type plasma gun. Absent.

【0038】また、本発明の製造方法において、発生さ
せるプラズマ密度は108〜1013cm-3、好ましくは
109〜1012cm-3の範囲であることが、アルミニウ
ム電極並びに保護膜にダメージを与えない水素イオン密
度の照射が可能となり望ましい。
In the manufacturing method of the present invention, the plasma density to be generated is preferably in the range of 10 8 to 10 13 cm -3 , and more preferably in the range of 10 9 to 10 12 cm -3. Irradiation with a hydrogen ion density that does not give an effect is desirable.

【0039】次に、本発明の電荷注入型発光素子の具体
例である有機発光素子を更に詳細に説明する。
Next, an organic light emitting device which is a specific example of the charge injection type light emitting device of the present invention will be described in more detail.

【0040】図3は本発明の有機発光素子の一例を示す
断面図である。図3は基板19上に陽極20、発光層2
1及び陰極22を順次設けた構成のものである。ここで
使用する有機発光素子はそれ自体でホール輸送能、エレ
クトロン輸送能及び発光性の性能を単一で有している場
合や、それぞれの特性を有する化合物を混ぜて使う場合
に有用である。
FIG. 3 is a sectional view showing an example of the organic light emitting device of the present invention. FIG. 3 shows an anode 20 and a light emitting layer 2 on a substrate 19.
1 and a cathode 22 are sequentially provided. The organic light-emitting device used here is useful when it has a single hole transporting ability, electron transporting ability, and luminous performance, or when it is used by mixing compounds having the respective properties.

【0041】図4は本発明の有機発光素子の他の例を示
す断面図である。図4は基板19上に陽極20、ホール
輸送層23、電子輸送層24及び陰極22を順次設けた
構成のものである。この場合は発光物質はホール輸送性
かあるいは電子輸送性のいずれかあるいは両方の機能を
有している材料をそれぞれの層に用い、発光性の無い単
なるホール輸送物質あるいは電子輸送物質と組み合わせ
て用いる場合に有用である。また、この場合、発光層2
1はホール輸送層23および電子輸送層24からなる。
FIG. 4 is a sectional view showing another example of the organic light emitting device of the present invention. FIG. 4 shows a configuration in which an anode 20, a hole transport layer 23, an electron transport layer 24, and a cathode 22 are sequentially provided on a substrate 19. In this case, the light-emitting substance is a material having either a hole-transporting property or an electron-transporting property or both, and is used in combination with a simple hole-transporting substance or an electron-transporting substance having no light-emitting property. Useful in cases. In this case, the light emitting layer 2
1 comprises a hole transport layer 23 and an electron transport layer 24.

【0042】図5は本発明の有機発光素子の他の例を示
す断面図である。図5は基板19上に陽極20、キャリ
ア輸送層としてホール輸送層23、発光層21、キャリ
ア輸送層として電子輸送層24及び陰極22を順次設け
た構成のものである。
FIG. 5 is a sectional view showing another example of the organic light emitting device of the present invention. FIG. 5 shows a configuration in which an anode 20, a hole transport layer 23 as a carrier transport layer, a light emitting layer 21, an electron transport layer 24 as a carrier transport layer, and a cathode 22 are sequentially provided on a substrate 19.

【0043】図6は本発明の有機発光素子の他の例を示
す断面図である。図6は基板19上に陽極20、発光層
21、キャリア輸送層として電子輸送層24及び陰極2
2を順次設けた構成のものである。
FIG. 6 is a sectional view showing another example of the organic light emitting device of the present invention. FIG. 6 shows an anode 20, a light emitting layer 21, an electron transport layer 24 as a carrier transport layer and a cathode 2 on a substrate 19.
2 is provided sequentially.

【0044】これらの図5および図6の有機発光素子
は、キャリア輸送と発光の機能を分離したものであり、
ホール輸送性、電子輸送性、発光性の各特性を有した化
合物と適時組み合わせて用いられ極めて材料の選択の自
由度が増すとともに、発光波長を異にする種々の化合物
が使用出来る為、発光色相の多様化が可能となる。また
更に中央の発光層にホールと電子(あるいは励起子)を
有効に閉じ込めて発光効率の向上を図る事も可能にな
る。
The organic light-emitting devices shown in FIGS. 5 and 6 have separate functions of carrier transport and light emission.
It is used in combination with a compound having hole transporting, electron transporting, and luminescent properties in a timely manner, which greatly increases the degree of freedom in material selection and allows the use of various compounds having different emission wavelengths. Can be diversified. Further, it is also possible to effectively confine holes and electrons (or excitons) in the central light emitting layer to improve the light emission efficiency.

【0045】本発明の構成の有機発光素子は、従来の有
機発光素子に比べ、極めてホール注入性及びエレクトロ
ン注入性に優れており、必要に応じて図3乃至図6のい
ずれの形態でも使用する事が可能である。
The organic light-emitting device having the structure of the present invention is extremely excellent in hole injection property and electron injection property as compared with the conventional organic light-emitting element, and may be used in any of the embodiments shown in FIGS. Things are possible.

【0046】一般に、有機発光素子は電荷注入型発光素
子であり、電極からのキャリア(ホール又はエレクトロ
ン)の注入量に強く依存する。そして電極(陽極や陰
極)からのキャリア注入は、長時間にわたる使用におい
ても常に一定であることが望ましい。
In general, an organic light emitting device is a charge injection type light emitting device, and strongly depends on the amount of carriers (holes or electrons) injected from an electrode. It is desirable that the carrier injection from the electrodes (anode and cathode) is always constant even when used for a long time.

【0047】本発明の有機発光素子においては、発光層
構成成分として、高分子系ホール輸送性化合物やこれ迄
知られているホール輸送性発光体化合物(例えば化2〜
5に示される化合物等)、ドーパント発光材料(例えば
化6〜7に示される化合物)あるいはこれ迄知られてい
る電子輸送性発光体化合物(例えば化8〜9に挙げられ
る化合物)や電子輸送性材料(例えば化10〜12に示
される化合物等)を必要に応じて2種類以上使用する事
も出来る。
In the organic light-emitting device of the present invention, as a component of the light-emitting layer, a polymer-based hole-transporting compound or a conventionally known hole-transporting luminescent compound (for example,
5), a dopant luminescent material (for example, a compound represented by Chemical formula 6 to 7), an electron-transporting luminescent compound (for example, a compound represented by Chemical formula 8 to 9), or an electron-transport property Two or more materials (for example, compounds shown in Chemical formulas 10 to 12) can be used as needed.

【0048】[0048]

【化2】 Embedded image

【0049】[0049]

【化3】 Embedded image

【0050】[0050]

【化4】 Embedded image

【0051】[0051]

【化5】 Embedded image

【0052】[0052]

【化6】 Embedded image

【0053】[0053]

【化7】 Embedded image

【0054】[0054]

【化8】 Embedded image

【0055】[0055]

【化9】 Embedded image

【0056】[0056]

【化10】 Embedded image

【0057】[0057]

【化11】 Embedded image

【0058】[0058]

【化12】 Embedded image

【0059】本発明の有機発光素子において、発光層は
一般には真空蒸着あるいは適当な結着剤と組み合わせて
薄膜を形成する。
In the organic light-emitting device of the present invention, the light-emitting layer generally forms a thin film by vacuum evaporation or a combination with an appropriate binder.

【0060】上記結着剤としては広範囲な結着性樹脂よ
り選択でき、例えばポリビニルカルバゾール樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート
樹脂、ブチラール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニル
アセタール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、アクリル樹
脂、メタクリル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、
シリコン樹脂、ポリスルホン樹脂、尿素樹脂等が挙げら
れるが、これれに限定されるものではない。これらは単
独または共重合体ポリマーとして1種または2種以上混
合して用いても良い。
The binder can be selected from a wide range of binder resins, for example, polyvinyl carbazole resin, polycarbonate resin, polyester resin, polyarylate resin, butyral resin, polystyrene resin, polyvinyl acetal resin, diallyl phthalate resin, acrylic resin , Methacrylic resin, phenolic resin, epoxy resin,
Examples include, but are not limited to, silicone resins, polysulfone resins, urea resins, and the like. These may be used alone or as a copolymer in one kind or as a mixture of two or more kinds.

【0061】陽極材料としては透明でかつ仕事関数の大
きなITO(インジウム−錫合金)などが用いられる。
As the anode material, ITO (indium-tin alloy) which is transparent and has a large work function is used.

【0062】一方、陰極材料とては仕事関数が小さな
銀、鉛、錫、マグネシウム、アルミニウム、カルシウ
ム、マンガン、インジウム、クロムあるいはこれらの合
金が用いられる。
On the other hand, silver, lead, tin, magnesium, aluminum, calcium, manganese, indium, chromium, or an alloy thereof having a small work function is used as a cathode material.

【0063】本発明の有機発光素子は、従来の白熱灯、
蛍光灯あるいは発光ダイオードなどと異なり、大面積、
高分解能、薄型、軽量、高速動作、完全な固体デバイス
であり、高度な要求を満たす可能性のあるELパネルに
使用することができる。
The organic light-emitting device of the present invention comprises a conventional incandescent lamp,
Unlike fluorescent lamps or light emitting diodes, large areas,
It is a high-resolution, thin, light-weight, high-speed, fully solid-state device that can be used for EL panels that may meet advanced requirements.

【0064】[0064]

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。
The present invention will be specifically described below with reference to examples.

【0065】<実施例1〜7及び比較例1〜3>ガラス
基板上にスパッタリング法により膜厚120nmのIT
O膜を製膜したITO基板を、図1に示す装置の基板ホ
ルダーに保持した。
<Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 3> A 120 nm-thick IT was formed on a glass substrate by sputtering.
The ITO substrate on which the O film was formed was held in the substrate holder of the apparatus shown in FIG.

【0066】次に、装置のチャンバー内を約1.3×1
-4Paまで真空排気したのち、下記の構造式(2)で
示される化合物からなるホール輸送層(膜厚50n
m)、そして下記の構造式(3)で示されるAlq3
らなる発光層(膜厚50nm)、さらにAlからなる陰
極(膜厚120nm)を各次順次真空蒸着により形成し
た。
Next, the inside of the chamber of the apparatus is about 1.3 × 1
After evacuating to 0 -4 Pa, a hole transport layer (50 nm thick) made of a compound represented by the following structural formula (2)
m), and a light emitting layer (film thickness: 50 nm) made of Alq 3 represented by the following structural formula (3), and a cathode (film thickness: 120 nm) made of Al were sequentially formed by vacuum evaporation.

【0067】[0067]

【化13】 Embedded image

【0068】次に、マスフローコントローラを介して水
素ガスを3.6sccmの流量で流し、放電管内の圧力
が約5.3×10-2Paになるように調整した。
Next, hydrogen gas was flowed through the mass flow controller at a flow rate of 3.6 sccm, and the pressure in the discharge tube was adjusted to about 5.3 × 10 -2 Pa.

【0069】次いで13.56MHzの高周波電源を動
作させ、放電管内に水素プラズマを発生させた後、基板
ホルダーに−10V(10eVのエネルギーに該当す
る)の電圧を印加し、同時に前記構造式(1)で示され
る化合物をボート17より加熱蒸発させ、保護膜(膜厚
0.5μm)を形成し、実施例1の素子を作製した。
Next, a high frequency power supply of 13.56 MHz was operated to generate hydrogen plasma in the discharge tube, and then a voltage of -10 V (corresponding to an energy of 10 eV) was applied to the substrate holder, and at the same time, the above-mentioned structural formula (1) was applied. ) Was heated and evaporated from the boat 17 to form a protective film (film thickness 0.5 μm), whereby the device of Example 1 was produced.

【0070】また、基板ホルダーに印加する電圧を下記
の表1に示す電圧とした以外は実施例1と同様の方法で
作製した素子を各々比較例1、実施例2〜7、比較例2
の素子とした。さらに比較のため、保護膜を設けない素
子上に従来の熱硬化性エポキシ樹脂を被覆したものを比
較例3の素子とした。
The devices fabricated in the same manner as in Example 1 except that the voltage applied to the substrate holder was the voltage shown in Table 1 below were used for Comparative Examples 1, 2 to 7, and 2 respectively.
Device. For comparison, a device in which a conventional thermosetting epoxy resin was coated on a device without a protective film was used as a device of Comparative Example 3.

【0071】このようにして作製した素子を大気中(2
5℃,70%RH)の条件下で、初期輝度300cd/
2に設定し、輝度半減期の寿命試験を行った。この結
果をポリパラキシレン膜の仕事関数の値と共に表1に示
す。
The device manufactured in this manner was placed in air (2
Under conditions of 5 ° C. and 70% RH), an initial luminance of 300 cd /
m 2 , and a brightness half-life life test was performed. Table 1 shows the results together with the work function values of the polyparaxylene film.

【0072】[0072]

【表1】 [Table 1]

【0073】結果をみて明らかなように、水素イオンの
エネルギーが150eV未満で保護膜を作成した素子で
は、仕事関数が5.0eVを超えている。そして、この
仕事関数が5.0eVを超えている保護膜を形成した本
発明の素子は、寿命特性が大幅に改善されていることが
わかる。
As is apparent from the results, the work function of the device in which the energy of hydrogen ions was less than 150 eV and the protective film was formed exceeded 5.0 eV. Further, it can be seen that the life characteristics of the device of the present invention in which the protective film having the work function exceeding 5.0 eV is formed are greatly improved.

【0074】[0074]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の製造方法
によれば、ガス及び水蒸気透過性が極めて低いポリパラ
キシレン膜を特定のエネルギーの水素イオンを用いて形
成することにより、このポリパラキシレン膜の結合状態
を表す仕事関数が増加し、仕事関数が5.0eV以上の
ポリパラキシレン膜を形成でき、膜の緻密性、強度、更
には接着性を向上させることができる。その結果、素子
の寿命特性が大幅に改善される。
As described above, according to the manufacturing method of the present invention, a polyparaxylene film having extremely low gas and water vapor permeability is formed by using hydrogen ions of a specific energy, thereby obtaining a polyparaxylene film. The work function representing the bonding state of the xylene film increases, and a polyparaxylene film having a work function of 5.0 eV or more can be formed, and the denseness, strength, and adhesiveness of the film can be improved. As a result, the life characteristics of the device are greatly improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係わるポリパラキシレン膜を保護膜と
して製膜し、素子を作製するための装置の一例を示す模
式図である。
FIG. 1 is a schematic view showing an example of an apparatus for forming an element by forming a polyparaxylene film according to the present invention as a protective film.

【図2】本発明に係わる保護膜の製膜条件(イオンエネ
ルギー又は印加電圧)に対するポリパラキシレン膜の仕
事関数の変化を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a change in work function of a polyparaxylene film with respect to film forming conditions (ion energy or applied voltage) of a protective film according to the present invention.

【図3】本発明の有機発光素子の一例を示す断面図であ
る。
FIG. 3 is a sectional view showing an example of the organic light emitting device of the present invention.

【図4】本発明の有機発光素子の他の例を示す断面図で
ある。
FIG. 4 is a sectional view showing another example of the organic light emitting device of the present invention.

【図5】本発明の有機発光素子の他の例を示す断面図で
ある。
FIG. 5 is a sectional view showing another example of the organic light emitting device of the present invention.

【図6】本発明の有機発光素子の他の例を示す断面図で
ある。
FIG. 6 is a sectional view showing another example of the organic light emitting device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 チャンバー 2 放電管 3 高周波コイル 4 石英管 5 高周波電源 6 基板ホルダー 7 電流計 8 直流電源 9 コンデンサー 10 キャリア輸送層 11 有機発光層 12 アルミニウム電極 13 ITO膜を有する基板 14 ボート(キャリア輸送物質入) 15 ボート(有機発光物質入) 16 アルミニウム線巻き付けタングステン線 17 ボート(保護膜用物質入) 18 交流電源 19 基板 20 陽極 21 発光層 22 陰極 23 ホール輸送層 24 電子輸送層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Chamber 2 Discharge tube 3 High frequency coil 4 Quartz tube 5 High frequency power supply 6 Substrate holder 7 Ammeter 8 DC power supply 9 Capacitor 10 Carrier transport layer 11 Organic light emitting layer 12 Aluminum electrode 13 Substrate having ITO film 14 Boat (with carrier transport material) Reference Signs List 15 boat (containing organic luminescent material) 16 aluminum wire wound tungsten wire 17 boat (containing protective film material) 18 AC power supply 19 substrate 20 anode 21 luminescent layer 22 cathode 23 hole transport layer 24 electron transport layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 幸一 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 上野 和則 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 田邊 浩 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 アンドリーセン・スヴェン 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 川合 達人 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 3K007 AB11 AB13 AB18 CA01 CB01 DA01 DB03 EA01 EB00 FA01 FA02  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Koichi Suzuki 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc. (72) Inventor Kazunori Ueno 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon (72) Inventor Hiroshi Tanabe 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Andreessen Sven 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Tatsuto Kawai 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo F-term in Canon Inc. (reference) 3K007 AB11 AB13 AB18 CA01 CB01 DA01 DB03 EA01 EB00 FA01 FA02

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも一方が透明である一対の電極
間に、有機発光層及びキャリア輸送層を有する電荷注入
型発光素子において、 前記有機発光層、キャリア輸送層、及び電極の表面露出
部分に、仕事関数が5.0eV以上のポリパラキシレン
膜からなる保護膜を有することを特徴とする電荷注入型
発光素子。
1. A charge injection type light emitting device having an organic light emitting layer and a carrier transporting layer between a pair of electrodes at least one of which is transparent, wherein the organic light emitting layer, the carrier transporting layer, and the surface exposed portions of the electrodes are: A charge injection type light emitting device comprising a protective film made of a polyparaxylene film having a work function of 5.0 eV or more.
【請求項2】 少なくとも一方が透明である一対の電極
間に、有機発光層及びキャリア輸送層を有する電荷注入
型発光素子の製造方法において、 150eV未満のエネルギー範囲にある水素イオンを、
前記有機発光層、キャリア輸送層、及び電極の表面露出
部分に照射して、該表面露出部分を覆うポリパラキシレ
ン膜を形成する工程を有することを特徴とする電荷注入
型発光素子の製造方法。
2. A method for manufacturing a charge-injection light-emitting element having an organic light-emitting layer and a carrier transport layer between a pair of electrodes, at least one of which is transparent, wherein hydrogen ions having an energy range of less than 150 eV are
Irradiating the organic light-emitting layer, the carrier transport layer, and the exposed surface of the electrode to form a polyparaxylene film covering the exposed surface.
【請求項3】 30〜100eVのエネルギー範囲にあ
る水素イオンを照射することを特徴とする請求項2に記
載の電荷注入型発光素子の製造方法。
3. The method for manufacturing a charge injection type light emitting device according to claim 2, wherein hydrogen ions in an energy range of 30 to 100 eV are irradiated.
【請求項4】 前記ポリパラキシレン膜の仕事関数が
5.0eV以上であることを特徴とする請求項2又は3
に記載の電荷注入型発光素子の製造方法。
4. The polyparaxylene film has a work function of 5.0 eV or more.
3. The method for producing a charge injection type light emitting device according to item 1.
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