JP2002307854A - Original plate for lithographic printing plate - Google Patents

Original plate for lithographic printing plate

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JP2002307854A
JP2002307854A JP2001117053A JP2001117053A JP2002307854A JP 2002307854 A JP2002307854 A JP 2002307854A JP 2001117053 A JP2001117053 A JP 2001117053A JP 2001117053 A JP2001117053 A JP 2001117053A JP 2002307854 A JP2002307854 A JP 2002307854A
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JP
Japan
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group
lithographic printing
forming layer
hydrophobic
printing plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001117053A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiromitsu Yanaka
宏充 谷中
Kazuto Shimada
和人 嶋田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original plate for a lithographic printing plate, which has favorable on-machine developing properties, and in addition, has a high sensitivity, and of which the printing durability is favorable. SOLUTION: This original plate for a lithographic printing plate has an image-forming layer on a hydrophilic supporting body. In this case, the image- forming layer contains (A) at least one component which is selected from micro- capsules encapsuling hydrophobic particles and hydrophobic compounds, (B) a polymerization starter which is selected from borate based compounds and triazine based compounds, (C) a photothermal conversion agent, and (D) a compound having a radical polymeric group.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版用原版に
関する。より詳しくは、ディジタル信号に基づいた走査
露光および機上現像による製版が可能であり、優れた耐
刷性が得られる平版印刷版用原版に関する。
The present invention relates to a lithographic printing plate precursor. More specifically, the present invention relates to a lithographic printing plate precursor capable of performing plate making by scanning exposure and on-press development based on digital signals and obtaining excellent printing durability.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年進展が目覚ましいコンピュータ・ツ
ウ・プレートシステム用刷版については、多数の研究が
なされている。その中で、一層の工程合理化と廃液処理
問題の解決を目指すものとして、露光後、現像処理する
ことなしにそのまま印刷機に装着して印刷できる平版印
刷版用原版が研究され、種々の方法が提案されている。
2. Description of the Related Art Numerous studies have been made on printing plates for computer-to-plate systems, which have been remarkably advanced in recent years. Among them, with the aim of further streamlining the process and solving the problem of waste liquid treatment, lithographic printing plate precursors that can be directly mounted on a printing machine and printed without being developed after exposure have been studied, and various methods have been studied. Proposed.

【0003】処理工程をなくす方法の一つに、露光済み
の平版印刷版用原版を印刷機のシリンダーに装着し、シ
リンダーを回転しながら湿し水とインキを供給すること
によって、印刷用原版の非画像部を除去する機上現像と
呼ばれる方法がある。すなわち、印刷用原版を露光後、
そのまま印刷機に装着し、通常の印刷過程の中で処理が
完了する方式である。このような機上現像に適した平版
印刷版用原版は、湿し水やインキ溶剤に可溶な感光層
(感熱層)を有し、しかも、明室に置かれた印刷機上で
現像されるのに適した明室取り扱い性を有することが必
要とされる。
[0003] One of the methods for eliminating the processing step is to mount an exposed lithographic printing plate precursor on a cylinder of a printing press, and supply a dampening solution and ink while rotating the cylinder. There is a method called on-press development for removing a non-image portion. That is, after exposing the printing master,
It is a system that is mounted on a printing machine as it is and the processing is completed in the normal printing process. A lithographic printing plate precursor suitable for such on-press development has a photosensitive layer (heat-sensitive layer) soluble in fountain solution and ink solvent, and is further developed on a printing machine placed in a bright room. It is necessary to have a light room handling property suitable for use.

【0004】例えば、日本特許2938397号公報には、親
水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合体の微
粒子を分散させた感光層を親水性支持体上に設けた平版
印刷版用原版が開示されている。この公報には、該平版
印刷版用原版において、赤外線レーザー露光して熱可塑
性疎水性重合体の微粒子を熱により合体させて画像形成
した後、印刷機シリンダー上に版を取り付け、湿し水お
よび/またはインキにより機上現像できることが記載さ
れている。また、この平版印刷版用原版は感光域が赤外
線域であることにより、明室取り扱い適性もある。
[0004] For example, Japanese Patent No. 2938397 discloses a lithographic printing plate precursor in which a photosensitive layer in which fine particles of a thermoplastic hydrophobic polymer are dispersed in a hydrophilic binder polymer is provided on a hydrophilic support. ing. According to this publication, in the lithographic printing plate precursor, after forming an image by exposing the particles of the thermoplastic hydrophobic polymer by heat with infrared laser exposure, mounting the plate on a printing press cylinder, dampening water and And / or on-press development with ink. Further, since the lithographic printing plate precursor has a photosensitive region in the infrared region, it is also suitable for handling in a bright room.

【0005】また、特開平9-127683号公報およびWO9
9−10186号公報にも熱可塑性微粒子を熱による合
体後、機上現像により印刷版を作製することが記載され
ている。しかしながら、上記のような熱による微粒子の
単なる合体で画像を作る方法は、良好な機上現像性をし
めすものの、画像強度が低いために耐刷性が不十分とい
う問題があった。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-127683 and WO 9
Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-10186 also describes that a printing plate is produced by on-press development after combining thermoplastic fine particles by heat. However, although the above-described method of forming an image by the simple coalescence of fine particles by heat shows good on-press developability, there is a problem that printing durability is insufficient due to low image intensity.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、上記の問題を解決することであり、即ち、良好な機
上現像性を保持し、しかも高感度で耐刷性の良好な平版
印刷版用原版を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, that is, a lithographic plate which maintains good on-press developability, and has high sensitivity and good printing durability. The purpose is to provide an original plate for printing plates.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の目
的を達成すべく、鋭意検討した結果、以下の構成を採用
することにより、前記従来技術の欠点を克服し、機上現
像性と画像強度の優れた平版印刷版用原版になることを
見出した。即ち、本発明は、親水性支持体上に、(A)
疎水性粒子および疎水性化合物を内包するマイクロカプ
セルから選ばれた少なくとも一つの成分、(B)ボレー
ト系化合物およびトリアジン系化合物より選択される重
合開始剤、(C)光熱変換剤および(D)ラジカル重合
性基を有する化合物を含有する画像形成層を有すること
を特徴とする平版印刷版用原版である。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies in order to achieve the above-mentioned object, and as a result, by adopting the following constitution, the disadvantages of the prior art have been overcome, and the on-press development property has been improved. And a lithographic printing plate precursor with excellent image strength. That is, the present invention provides (A)
At least one component selected from hydrophobic particles and microcapsules containing a hydrophobic compound, (B) a polymerization initiator selected from a borate-based compound and a triazine-based compound, (C) a photothermal conversion agent, and (D) a radical A lithographic printing plate precursor comprising an image forming layer containing a compound having a polymerizable group.

【0008】本発明の平版印刷版用原版は、デジタル信
号に基づいた走査露光により画像を形成できる。露光に
より、画像形成層に含まれる疎水性粒子が少なくとも部
分的に融着したり、あるいはマイクロカプセル内から疎
水性物質が放出されることで画像形成層が疎水化され
る。同時に、重合開始剤から発生したラジカルによりラ
ジカル重合性基を有する化合物が架橋することにより、
画像部に強固な皮膜を形成する。このことにより機上現
像性を損なわずに、画像部の皮膜強度が向上する。上記
の結果より、良好な機上現像性を保持し、感度および耐
刷性の優れた平版印刷版用原版を得ることができる。
The lithographic printing plate precursor according to the present invention can form an image by scanning exposure based on a digital signal. The exposure causes the hydrophobic particles contained in the image forming layer to be at least partially fused, or the hydrophobic substance is released from the inside of the microcapsule, thereby rendering the image forming layer hydrophobic. At the same time, the compound having a radical polymerizable group is cross-linked by radicals generated from the polymerization initiator,
A strong film is formed on the image area. This improves the film strength of the image area without impairing the on-press developability. From the above results, it is possible to obtain a lithographic printing plate precursor having excellent on-press developability and excellent sensitivity and printing durability.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下に本発明の平版印刷版用原版
について詳細に説明する。 〔画像形成層〕本発明の平版印刷版用原版は、前記のよ
うに、親水性表面を有する基体(親水性支持体と略す)
上に、(A)疎水性粒子および疎水性化合物を内包する
マイクロカプセルから選ばれた少なくとも一つの成分、
(B)ボレート系化合物およびトリアジン系化合物より
選択される重合開始剤、(C)光熱変換剤およびよび
(D)ラジカル重合性基を有する化合物を含有する組成
物の塗液を塗布することにより形成した画像形成層を有
する。先ず、本発明の平版印刷版用原版の特徴部分であ
る画像形成層の各成分について説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The lithographic printing plate precursor according to the present invention will be described in detail below. [Image Forming Layer] The lithographic printing plate precursor according to the invention is, as described above, a substrate having a hydrophilic surface (abbreviated as hydrophilic support).
Above, at least one component selected from (A) microcapsules containing hydrophobic particles and a hydrophobic compound,
It is formed by applying a coating liquid of a composition containing (B) a polymerization initiator selected from a borate compound and a triazine compound, (C) a photothermal conversion agent, and (D) a compound having a radical polymerizable group. Image forming layer. First, each component of the image forming layer, which is a characteristic part of the lithographic printing plate precursor according to the invention, will be described.

【0010】(A)疎水性粒子および疎水性化合物を内
包するマイクロカプセル (疎水性粒子)本発明の疎水性粒子とは、画像形成層中
に粒子状の水性分散物として付与されるものをいう。熱
により溶融または軟化する疎水性化合物を含有し、レー
ザー照射による熱発生により、疎水性粒子が少なくとも
部分的に融着することで、画像形成層を非照射部に比
べ、疎水化する。疎水性化合物としては低分子化合物、
ワックス、オリゴマー、ポリマーいずれも使用できる。
(A) Microcapsules encapsulating hydrophobic particles and a hydrophobic compound (hydrophobic particles) The hydrophobic particles of the present invention are those provided as a particulate aqueous dispersion in an image forming layer. . The image forming layer contains a hydrophobic compound that is melted or softened by heat, and at least partially fuses the hydrophobic particles by heat generation by laser irradiation, thereby rendering the image forming layer more hydrophobic than the non-irradiated portion. Low molecular weight compounds as hydrophobic compounds,
Any of wax, oligomer and polymer can be used.

【0011】これらの疎水性粒子は、例えば疎水性化合
物を分散剤が入った水溶液中に加え、ペイントシェイカ
ーやダイノミル等のミリング装置により細かく粉砕して
得る方法や、非水溶性の溶剤に溶解し、これを分散剤が
入った水溶液と混合乳化し、さらに有機溶剤を飛ばしな
がら微粒子状に固化させる溶剤蒸発法、さらに重合性モ
ノマーを乳化重合のように重合時に粒子化する方法によ
っても得ることができるが、これらに限定されない。
These hydrophobic particles can be obtained, for example, by adding a hydrophobic compound to an aqueous solution containing a dispersing agent and finely pulverizing the mixture with a milling machine such as a paint shaker or a dyno mill, or by dissolving in a water-insoluble solvent. It can also be obtained by mixing and emulsifying this with an aqueous solution containing a dispersant, further evaporating the organic solvent, solidifying it into fine particles while evaporating it, and further evaporating the polymerizable monomer into particles during polymerization, such as emulsion polymerization. Can, but is not limited to.

【0012】疎水性ポリマーを使用する場合には、粒子
化可能な公知の熱可塑性ポリマー、熱硬化性ポリマーが
使用できる。ポリマーの分子量は3000〜100万の
ものが好ましい。本発明に好適な熱可塑性微粒子ポリマ
ーとしては、1992年1月のResearchDisclosure N
o.33303、特開平9−123387号公報、同9−
131850号公報、同9−171249号公報、同9
−171250号公報およびEP931647号公報な
どに記載の熱可塑性微粒子ポリマーを好適なものとして
挙げることができる。具体例としては、エチレン、スチ
レン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビ
ニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾールなど
のモノマーのホモポリマーまたはコポリマーあるいはそ
れらの混合物を挙げることができる。
When a hydrophobic polymer is used, a known thermoplastic polymer or thermosetting polymer that can be made into particles can be used. The molecular weight of the polymer is preferably 3000 to 1,000,000. The thermoplastic fine particle polymer suitable for the present invention includes Research Disclosure N of January 1992.
o.33303, JP-A-9-12387, and 9-
131850, 9-171249, 9
Suitable examples include thermoplastic fine particle polymers described in JP-A-171250 and EP931647. Specific examples include homopolymers or copolymers of monomers such as ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinyl carbazole, and mixtures thereof. Can be.

【0013】本発明に好適な熱硬化性ポリマーとして
は、フェノール骨格を有する樹脂、尿素系樹脂(例え
ば、尿素又はメトキシメチル化尿素など尿素誘導体をホ
ルムアルデヒドなどのアルデヒド類により樹脂化したも
の)、メラミン系樹脂(例えば、メラミン又はその誘導
体をホルムアルデヒドなどのアルデヒド類により樹脂化
したもの)、アルキド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、
ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等を挙げることができ
る。
Examples of the thermosetting polymer suitable for the present invention include resins having a phenol skeleton, urea-based resins (for example, urea derivatives such as urea or methoxymethylated urea resinified with aldehydes such as formaldehyde), melamine. Resin (for example, melamine or a derivative thereof resinified with an aldehyde such as formaldehyde), an alkyd resin, an unsaturated polyester resin,
Examples thereof include a polyurethane resin and an epoxy resin.

【0014】好適なフェノール骨格を有する樹脂として
は、例えば、フェノール、クレゾールなどをホルムアル
デヒドなどのアルデヒド類により樹脂化したフェノール
樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、N−(p−ヒドロキシ
フェニル)メタクリルアミドなどのフェノール骨格を有
するメタクリルアミド又はアクリルアミド樹脂、及びp
−ヒドロキシフェニルメタクリレートなどのフェノール
骨格を有するメタクリレート又はアクリレート樹脂を挙
げることができる。上記、疎水性ポリマーにおいては、
さらに分子内に重合性基を有するポリマーが好ましく、
特に、側鎖にビニル基、(メタ)アクリロイル基、スチ
リル基、1−プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニ
ル基、ビニレン基、アリル基等を有するものが好まし
い。
Suitable resins having a phenol skeleton include, for example, phenol resins obtained by resinifying phenol, cresol and the like with aldehydes such as formaldehyde, hydroxystyrene resins, and phenol skeletons such as N- (p-hydroxyphenyl) methacrylamide. A methacrylamide or acrylamide resin having
A methacrylate or acrylate resin having a phenol skeleton such as -hydroxyphenyl methacrylate; In the above-mentioned hydrophobic polymer,
Further, a polymer having a polymerizable group in the molecule is preferable,
Particularly, those having a vinyl group, a (meth) acryloyl group, a styryl group, a 1-propenyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, a vinylene group, an allyl group, or the like in a side chain are preferable.

【0015】(疎水性化合物を内包するマイクロカプセ
ル)疎水性化合物をマイクロカプセル化する方法として
は、公知の方法が適用できる。例えばマイクロカプセル
の製造方法としては、米国特許2800457号、同2800458号
に見られるコアセルベーションを利用した方法、英国特
許990443号、米国特許3287154号、特公昭38-19574号、
同42-446号、同42-711号にみられる界面重合法による方
法、米国特許3418250号、同3660304号に見られるポリマ
ーの析出による方法、米国特許3796669号に見られるイ
ソシアネートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許
3914511号に見られるイソシアネート壁材料を用いる方
法、米国特許4001140号、同4087376号、同4089802号に
見られる尿素−ホルムアルデヒド系あるいは尿素ホルム
アルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方
法、米国特許4025445号に見られるメラミン−ホルムア
ルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる
方法、特公昭36−9163号、同51−9079号に見られるモノ
マー重合による in situ法、英国特許930422号、米国
特許3111407号に見られるスプレードライング法、英国
特許952807号、同967074号に見られる電解分散冷却法な
どがあるが、これらに限定されるものではない。
(Microcapsules encapsulating a hydrophobic compound) As a method of microencapsulating a hydrophobic compound, a known method can be applied. For example, as a method for producing microcapsules, U.S. Patent No. 2,800,457, a method using coacervation found in No. 2,800,458, British Patent No. 990443, U.S. Patent No. 3,287,154, Japanese Patent Publication No. 38-19574,
Nos. 42-446 and 42-711, a method by an interfacial polymerization method found in U.S. Pat.No. 3,418,250, a method by polymer precipitation found in U.S. Pat.No. 3,660,304, and using an isocyanate polyol wall material found in U.S. Pat. Method, US Patent
No. 3914511, a method using an isocyanate wall material, U.S. Pat. Melamine-formaldehyde resin, a method using a wall material such as hydroxycellulose, Japanese Patent Publication Nos. 36-9163, 51-9079, in situ method by monomer polymerization, British Patent No. 930422, and US Patent No. 3111407. Examples include, but are not limited to, the spray drying method and the electrolytic dispersion cooling method found in British Patent Nos. 952807 and 967074.

【0016】本発明に用いられる好ましいマイクロカプ
セル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性
質を有するものである。このような観点から、マイクロ
カプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれら
の混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレ
タンが好ましい。
The preferred microcapsule wall used in the present invention has three-dimensional crosslinks and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane.

【0017】本発明のマイクロカプセルは、その合成時
に、内包物が溶解し、かつ壁材が膨潤する溶剤を分散媒
中に添加することができる。この溶剤によって、内包さ
れた化合物のマイクロカプセル外への拡散が促進され
る。このような溶剤としては、マイクロカプセル分散
媒、マイクロカプセル壁の材質、壁厚および内包物に依
存するが、多くの市販されている溶剤から容易に選択す
ることができる。例えば架橋ポリウレア、ポリウレタン
壁からなる水分散性マイクロカプセルの場合、アルコー
ル類、エーテル類、アセタール類、エステル類、ケトン
類、多価アルコール類、アミド類、アミン類、脂肪酸類
等が好ましい。
In the microcapsule of the present invention, at the time of its synthesis, a solvent capable of dissolving the inclusions and swelling the wall material can be added to the dispersion medium. This solvent promotes diffusion of the encapsulated compound out of the microcapsules. Such a solvent depends on the microcapsule dispersion medium, the material, wall thickness, and inclusions of the microcapsule wall, but can be easily selected from many commercially available solvents. For example, in the case of a water-dispersible microcapsule comprising a crosslinked polyurea or polyurethane wall, alcohols, ethers, acetals, esters, ketones, polyhydric alcohols, amides, amines, fatty acids and the like are preferable.

【0018】具体的化合物としては、メタノール、エタ
ノール、第3ブタノール、n−プロパノール、テトラヒ
ドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、メチルエチルケ
トン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールジエチルエーテル、エチレングリコール
モノメチルエーテル、γ−ブチルラクトン、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドな
どがあるが、これらに限られない。またこれらの溶剤を
2種以上用いても良い。マイクロカプセル分散液には溶
解しないが、前記溶剤を混合すれば溶解する溶剤も用い
ることができる。添加量は、素材の組み合わせにより決
まるものであるが、適性値より少ない場合は、画像形成
が不十分となり、多い場合は分散液の安定性が劣化す
る。通常、塗布液の5〜95重量%が有効であり好まし
い範囲は、10〜90重量%、より好ましい範囲は15
〜85重量%である。
Specific compounds include methanol, ethanol, tertiary butanol, n-propanol, tetrahydrofuran, methyl lactate, ethyl lactate, methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, γ-butyl lactone. , N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, etc., but are not limited thereto. Two or more of these solvents may be used. Solvents that do not dissolve in the microcapsule dispersion but can be dissolved by mixing the above solvents can also be used. The amount of addition is determined by the combination of materials. If the amount is less than the appropriate value, image formation becomes insufficient, and if the amount is too large, the stability of the dispersion is deteriorated. Usually, 5 to 95% by weight of the coating solution is effective, and a preferable range is 10 to 90% by weight, and a more preferable range is 15% by weight.
~ 85% by weight.

【0019】上記の疎水性化合物を含有する微粒子及び
マイクロカプセルの平均粒径は、0.01〜3.0μm
が好ましいが、その中でも0.05〜2.0μmがさら
に好ましく、0.08〜1.0μmが特に好ましい。こ
の範囲内で良好な解像度および経時安定性が得られる。
これらの微粒子又はマイクロカプセルの添加量は、画像
形成層固形分の50重量%以上が好ましく、60重量%
以上がさらに好ましい。この範囲内で、良好な機上現像
性と同時に、良好な感度および耐刷性が得られる。
The average particle diameter of the fine particles and the microcapsules containing the hydrophobic compound is 0.01 to 3.0 μm.
However, among them, 0.05 to 2.0 μm is more preferable, and 0.08 to 1.0 μm is particularly preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.
The addition amount of these fine particles or microcapsules is preferably 50% by weight or more of the solid content of the image forming layer, more preferably 60% by weight.
The above is more preferred. Within this range, good sensitivity and printing durability can be obtained simultaneously with good on-press developability.

【0020】(B)ボレート系化合物及びトリアジン系
化合物より選択される重合開始剤(以下、適宜、特定重
合開始剤と称する) 本発明の特定重合開始剤として好適なボレート系化合物
としては、下記一般式(I)で表される化合物が挙げら
れる。
(B) A polymerization initiator selected from a borate-based compound and a triazine-based compound (hereinafter, appropriately referred to as a specific polymerization initiator) The borate-based compounds suitable as the specific polymerization initiator of the present invention include: The compound represented by the formula (I) is exemplified.

【0021】[0021]

【化1】 Embedded image

【0022】式中、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ
独立に有機基を表す。但し、R1、R2.R3およびR4
うちの少なくとも1つは、アルキル基である。Zn+
n価のカチオンを表し、nは1〜6の整数を表す。
In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent an organic group. However, R 1 , R 2 . At least one of R 3 and R 4 is an alkyl group. Zn + represents an n-valent cation, and n represents an integer of 1 to 6.

【0023】以下、一般式(I)について祥しく説明す
る。R1、R2、R3およびR4の例としては、アルキル
基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ア
ルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基および置
換アルキニル基、ヘテロ環基が挙げられる。但し、
l、R2、RSおよびR4のうちの少なくとも1つは置換
または非置換のアルキル基である。
The general formula (I) will be described below. Examples of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 include an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an alkynyl group and a substituted alkynyl group, and a heterocyclic group. . However,
At least one of R 1 , R 2 , R S and R 4 is a substituted or unsubstituted alkyl group.

【0024】アルキル基としては炭素原子数が1から2
0までの直鎖状、分岐状または環状のアルキル基を挙げ
ることができ、その具体例としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデ
シル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、
オクタデシル碁、エイコシル基、イソプロピル基、イソ
ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル
基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシ
ル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、
シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニ
ル基等を挙げることができる。これらの中では、炭素原
子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12ま
での分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの環状
のアルキル基がより好ましい。
The alkyl group has 1 to 2 carbon atoms.
0, straight-chain, branched or cyclic alkyl groups, specific examples of which include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl,
Heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group,
Octadecyl go, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group,
Examples thereof include a cyclohexyl group, a cyclopentyl group, and a 2-norbornyl group. Among these, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, and a cyclic alkyl group having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

【0025】置換アルキル基は置換基とアルキレン基と
の結合により構成され、置換基としては、水素を除く一
価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハ
ロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキ
シル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ
基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ
基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ
基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−
アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキ
シ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリー
ルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモ
イルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ
基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ア
シルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミ
ノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N’
−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキルウレイ
ド基、N’−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリ
ールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリールウレ
イド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイ
ド基、N’−アルキル−N−アルキルウレイド基、N’
−アルキル−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジ
アルキル−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジア
ルキル−N−アリールウレイド基、N’−アリール−N
−アルキルウレイド基、N’−アリール−N−アリール
ウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アルキルウ
レイド基、N’,N’−ジアリール−N−アリールウレ
イド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アルキ
ルウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−
アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、
アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−
アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−ア
リーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、
カルボキシル基及びその共役塩基基(以下、カルボキシ
ラートと称す)、アルコキシカルボニル基、
The substituted alkyl group is constituted by a bond between a substituent and an alkylene group. As the substituent, a monovalent nonmetallic atomic group other than hydrogen is used, and a preferable example is a halogen atom (-F,- Br, -Cl, -I), hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino Group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-
Arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-ary Rucarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N ′
An alkylureido group, an N ′, N′-dialkylureido group, an N′-arylureido group, an N ′, N′-diarylureido group, an N′-alkyl-N′-arylureido group, an N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N-alkylureido group, N ′
-Alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N
-Alkylureido group, N'-aryl-N-arylureido group, N ', N'-diaryl-N-alkylureido group, N', N'-diaryl-N-arylureido group, N'-alkyl-N '-Aryl-N-alkylureido groups, N'-alkyl-N'-aryl-N-
Arylureido group, alkoxycarbonylamino group,
Aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-
Alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group,
Carboxyl group and its conjugate base group (hereinafter, referred to as carboxylate), alkoxycarbonyl group,

【0026】アリーロキシカルボニル基、カルバモイル
基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキル
カルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N
−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリ
ールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリー
ルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールス
ルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基
基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニ
ル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル
基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアル
キルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイ
ル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−ア
ルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモ
イル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジア
ルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル
基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキ
ル−N−アリールスルファモイル基、N−アシルスルフ
ァモイル基及びその共役塩基基、N−−アルキルスルホ
ニルスルファモイル基(−SO2NHSO2(alkyl))
及びその共役塩基基、N−アリールスルホニルスルファ
モイル基(−SO2NHSO2(alkyl))及びその共役
塩基基、N−アルキルスルホニルカルバモイル基(−C
ONHSO2(alkyl))及びその共役塩基基、N−アリ
ールスルホニルカルバモイル基(−CONHSO2(alk
yl))及びその共役塩基基、アルコキシシリル基(−S
i(O alkyl)3)、アリーロキシシリル基(−Si
(O alkyl)3)、ヒドロキシシリル基(−Si(O
H)3)及びその共役塩基基、ホスホノ基(−PO
32)及びその共役塩基基(以下、ホスホナト基と称
す)、ジアルキルホスホノ基(−PO3(alkyl)2)、
ジアリールホスホノ基(−PO3(aryl)) 2)、アルキ
ルアリールホスホノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、
モノアルキルホスホノ基(−PO3H(alkyl))及びそ
の共役塩基基(以後、アルキルホスホナト基と称す)、
モノアリールホスホノ基(−PO3H(aryl))及びそ
の共役塩基基(以後、アリールホスホナト基と称す)、
ホスホノオキシ基(−OPO 32)及びその共役塩基基
(以後、ホスホナトオキシ基と称す)、ジアルキルホス
ホノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホ
スホノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリ
ールホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)(ary
l))、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPO3
(aryl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスホ
ナトオキシ基と称す)、モノアリールホスホノオキシ基
(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、
アリールホスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニト
ロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げ
られる。
Aryloxycarbonyl group, carbamoyl
Group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkyl
Carbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N
-Diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-ali
Carbamoyl group, alkylsulfinyl group, aryl
Rusulfinyl group, alkylsulfonyl group, aryls
Ruphonyl group, sulfo group (-SOThreeH) and its conjugate base
Group (hereinafter, referred to as sulfonato group), alkoxysulfoni
Group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl
Group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dial
Killsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoy
Group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-A
Alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamo
Yl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dia
Rukylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl
Group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl
Ru-N-arylsulfamoyl group, N-acylsulfur
Amoyl group and its conjugate base group, N-alkylsulfo
Nylsulfamoyl group (—SOTwoNHSOTwo(Alkyl))
And its conjugated base group, N-arylsulfonylsulfur
Moyl group (-SOTwoNHSOTwo(Alkyl)) and its conjugate
Base group, N-alkylsulfonylcarbamoyl group (-C
ONHSOTwo(Alkyl)) and its conjugate base group, N-ali
Sulfonylcarbamoyl group (-CONHSOTwo(Alk
yl)) and its conjugate base group, alkoxysilyl group (—S
i (O alkyl)Three), Aryloxysilyl group (-Si
(O alkyl)Three), A hydroxysilyl group (—Si (O
H)Three) And its conjugate base group, phosphono group (—PO
ThreeHTwo) And its conjugated base group (hereinafter referred to as phosphonate group)
), A dialkylphosphono group (-POThree(Alkyl)Two),
Diarylphosphono group (-POThree(Aryl)) Two), Archi
Ruarylphosphono group (-POThree(Alkyl) (aryl)),
Monoalkylphosphono group (-POThreeH (alkyl)) and its
Conjugate base group (hereinafter, referred to as alkylphosphonate group),
Monoarylphosphono group (-POThreeH (aryl)) and its
Conjugate base group (hereinafter, referred to as arylphosphonate group),
Phosphonooxy group (-OPO ThreeHTwo) And its conjugated base group
(Hereinafter referred to as phosphonatoxy group), dialkyl phos
Honoxy group (-OPOThree(Alkyl)Two), Diarylho
Suphonoxy group (-OPOThree(Aryl)Two), Alkyl ants
Olephosphonooxy group (-OPOThree(Alkyl) (ary
l)), a monoalkylphosphonooxy group (—OPOThreeH
(Aryl)) and its conjugated base group (hereinafter
Natoxy group), monoarylphosphonooxy group
(-OPOThreeH (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter, referred to as
Arylphosphonatooxy group), cyano group, nitro
Group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group
Can be

【0027】これらの置換基における、アルキル基の具
体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェ
ノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロ
キシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオ
フェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノ
フェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフ
ェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカ
ルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル
基、N−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェ
ニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、
ホスホナトフェニル基などを挙げることができる。ま
た、アルケニル基の例としては、ビニル基、1−プロペ
ニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ−
1−エテニル基等が挙げられ、アルキニル基の例として
は、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、
トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基等が
挙げられる。
In these substituents, specific examples of the alkyl group include the aforementioned alkyl groups, and specific examples of the aryl group include phenyl, biphenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, mesityl and the like. , Cumenyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, Phenylthiophenyl group, methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylca Ba carbamoylphenyl group, a phenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophenyl group,
Examples include a phosphonatophenyl group. Examples of the alkenyl group include vinyl, 1-propenyl, 1-butenyl, cinnamyl, 2-chloro-
Examples thereof include a 1-ethenyl group, and examples of the alkynyl group include an ethynyl group, a 1-propynyl group, a 1-butynyl group,
Examples include a trimethylsilylethynyl group and a phenylethynyl group.

【0028】上述のアシル基(R4CO−)としては、
4が水素原子及び上記のアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、アルキニル基を挙げることができる。
As the above acyl group (R 4 CO—),
R 4 includes a hydrogen atom and the above-mentioned alkyl, aryl, alkenyl and alkynyl groups.

【0029】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては前述の炭素数1から20までのアルキル基上
の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基とし
たものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1か
ら12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐
状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレ
ン基を挙げることができる。
On the other hand, the alkylene group in the substituted alkyl group may be a divalent organic residue obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. And preferably a linear alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkylene group having 3 to 12 carbon atoms and a cyclic alkylene group having 5 to 10 carbon atoms.

【0030】好ましい置換アルキル基の具体例として
は、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチ
ル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メト
キシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノ
キシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル
基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、
ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバ
モイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキ
シエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベン
ゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オ
キソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカル
ボニルエチル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルブチル基、エトキシカルボニルメチル基、
ブトキシカルボニルメチル基、
Specific examples of preferred substituted alkyl groups include chloromethyl, bromomethyl, 2-chloroethyl, trifluoromethyl, methoxymethyl, methoxyethoxyethyl, allyloxymethyl, phenoxymethyl, methylthiomethyl. Group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group,
Benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxy Carbonylethyl group, methoxycarbonylmethyl group, methoxycarbonylbutyl group, ethoxycarbonylmethyl group,
Butoxycarbonylmethyl group,

【0031】アリルオキシカルボニルメチル基、ベンジ
ルオキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルフェ
ニルメチル基、トリクロロメチルカルボニルメチル基、
アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカ
ルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチル
カルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイ
ルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエ
チル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモ
イルメチル基、スルホプロピル基、スルホブチル基、ス
ルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチ
ルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルフ
ァモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロピ
ル基、N−メチル−N−(ホスホノフェニル)スルファ
モイルオクチル基、ホスホノブチル基、ホスホナトヘキ
シル基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホ
ノプロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホ
ナトブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホス
ホナトヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホ
ナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−
メチルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル
基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、
1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチル
アリル基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピ
ニル基、2−ブチニル基、3−ブテニル基及び以下に示
す基等を挙げることができる。
Allyloxycarbonylmethyl, benzyloxycarbonylmethyl, methoxycarbonylphenylmethyl, trichloromethylcarbonylmethyl,
Allyloxycarbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- ( Sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfopropyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl Group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group , Le phosphono hexyl group, tolyl phosphate Hona preparative hexyl, phosphono propyl group, phosphate Hona preparative oxy butyl group, benzyl group, phenethyl group, alpha-
Methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group,
Examples thereof include a 1-propenylmethyl group, a 2-butenyl group, a 2-methylallyl group, a 2-methylpropenylmethyl group, a 2-propynyl group, a 2-butynyl group, a 3-butenyl group, and the following groups.

【0032】[0032]

【化2】 Embedded image

【0033】アリール基としては1個から3個のベンゼ
ン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和
環が縮合環を形成したものをあげることができ、具体例
としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フ
ェナントリル基、、インデニル基、アセナブテニル基、
フルオレニル基等を挙げることができ、これらのなかで
は、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
Examples of the aryl group include a group in which one to three benzene rings form a condensed ring, and a group in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group, indenyl group, acenabutenyl group,
Examples thereof include a fluorenyl group and the like, and among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.

【0034】置換アリール基は、置換基がアリール基に
結合したものであり、前述のアリール基の環形成炭素原
子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を
有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては
前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置
換アルキル基における置換基として示したものを挙げる
ことができる。
The substituted aryl group is a group in which a substituent is bonded to an aryl group, and those having a monovalent nonmetallic atomic group other than hydrogen as a substituent on a ring-forming carbon atom of the aforementioned aryl group are used. Can be Preferred examples of the substituent include the aforementioned alkyl group, substituted alkyl group, and those described above as the substituent for the substituted alkyl group.

【0035】これらの置換アリール基の好ましい具体例
としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシ
チル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニ
ル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、
トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル
基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル
基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、
メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、フェニ
ルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチル
アミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオ
キシフェニル基、ヘンゾイルオキシフェニル基、N−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェ
ニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフ
ェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カ
ルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシ
カルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−
メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカ
ルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カル
バモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニ
ル)カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スル
ホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エ
チルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルス
ルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフ
ェニル基、N−メチル−N−(ホスホノフェニル)スル
ファモイルフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナ
トフェニル基、ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニ
ルホスホノフェニル基、メチルホスホノフェニル基、メ
チルホスホナトフェニル基、トリルホスホノフェニル
基、トリルホスホナトフェニル基、アリル基、1−プロ
ペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリルフ
ェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロ
ピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチ
ニルフェニル基等を挙げることができる。
Preferred specific examples of these substituted aryl groups are biphenyl, tolyl, xylyl, mesityl, cumenyl, chlorophenyl, bromophenyl, fluorophenyl, chloromethylphenyl,
Trifluoromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group,
Methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, henzoyloxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyl Oxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group,
Allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-
Methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfa Moylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, Phosphonophenyl, phosphonatophenyl, diethylphosphonophenyl, diphenylphosphonophenyl, methylphosphonophenyl, methylphosphonatophenyl, tolylphosphonophenyl, tolylphosphonatophenyl, allyl, 1 -Propenylmethyl group, 2 Butenyl, 2-methyl-allyl phenyl group, 2-methyl propenyl phenyl group, 2-propynyl phenyl group, 2-butynyl phenyl group, and a 3-butynylphenyl group.

【0036】アルケニル基としては、前記導入可能な置
換基において説明したアルケニル基と同様のものを挙げ
ることができる。置換アルケニル基は、置換基がアルケ
ニル基の水素原子と置き換わり結合したものであり、こ
の置換基としては、上述の置換アルキル基における置換
基が用いられ、一方、アルケニル基は上述のアルケニル
基を用いることができる。好ましい置換アルケニル基の
例としては、下記構造で示すもの等を挙げることができ
る。
Examples of the alkenyl group include the same alkenyl groups as those described above for the substituent that can be introduced. A substituted alkenyl group is a substituent in which a substituent replaces and bonds to a hydrogen atom of an alkenyl group.As the substituent, the substituent in the above-mentioned substituted alkyl group is used, while the alkenyl group uses the above-mentioned alkenyl group be able to. Preferred examples of the substituted alkenyl group include those represented by the following structures.

【0037】[0037]

【化3】 Embedded image

【0038】アルキニル基としては、前記導入可能な置
換基において説明したアルキニル基と同様のものを挙げ
ることができる。置換アルキニル基は、置換基がアルキ
ニル基の水素原子と置き換わり、結合したものであり、
この置換基としては、上述の置換アルキル基における置
換基が用いられ、一方、アルキニル基は上述のアルキニ
ル基を用いることができる。
Examples of the alkynyl group include the same alkynyl groups as described for the substituent that can be introduced. A substituted alkynyl group is a substituent in which a hydrogen atom of an alkynyl group is replaced and bonded,
As the substituent, the substituent in the above-mentioned substituted alkyl group is used, while the alkynyl group can be the above-mentioned alkynyl group.

【0039】ヘテロ環基とは、ヘテロ環上の水素を1つ
除した一価の基及びこの一価の基からさらに水素を1つ
除し、上述の置換アルキル基における置換基が結合して
できた一価の基(置換ヘテロ環基)である。好ましいヘ
テロ環の例としては、下記構造で示すものが挙げられ
る。
The heterocyclic group is a monovalent group obtained by removing one hydrogen on the heterocyclic ring, and further removing one hydrogen from the monovalent group, and the substituent in the above-mentioned substituted alkyl group is bonded. The resulting monovalent group (substituted heterocyclic group). Preferred examples of the hetero ring include those represented by the following structures.

【0040】[0040]

【化4】 Embedded image

【0041】[0041]

【化5】 Embedded image

【0042】[0042]

【化6】 Embedded image

【0043】次に、R1とR2、R2とR3が互いに結合し
て環を形成する場合の例を示す。R 1とR2、R2とR3
互いに結合して形成する脂肪族環としては、5員環、6
員環、7員環及び8員環の脂肪族環を挙げることがで
き、より好ましくは、5員環、6員環の脂肪族環を挙げ
ることができる。これらはさらに、これらを構成する炭
素原子上に置換基を有していても良く、置換基の例とし
ては、前述の置換アルキル基上の置換基を挙げることが
できる。また、環構成炭素の一部が、ヘテロ原子(例え
ば、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等)で置換されてい
ても良い。またさらに、この脂肪族環の一部が芳香族環
の一部を形成していても良い。
Next, R1And RTwo, RTwoAnd RThreeAre connected to each other
An example in which a ring is formed by the following method is shown. R 1And RTwo, RTwoAnd RThreeBut
As the aliphatic ring formed by bonding to each other, a 5-membered ring, 6
And 7-membered and 8-membered aliphatic rings.
And more preferably a 5- or 6-membered aliphatic ring.
Can be These are furthermore the charcoal that makes them up
May have a substituent on the elemental atom,
The substituent on the above-mentioned substituted alkyl group may be mentioned
it can. In addition, part of the ring-constituting carbon is a hetero atom (eg,
For example, oxygen, sulfur, nitrogen, etc.)
May be. Further, a part of the aliphatic ring is an aromatic ring.
May be partially formed.

【0044】また、n価のカチオンであるZn+の例と
しては、アルカリ金属イオン、第4級アンモニウム、ピ
リジニウム、キノリニウム、ジアゾニウム、モノホリニ
ウム、テトラゾリウム、アクリジニウム、ホスホニウ
ム、スルホニウム、オキソスルホニウム、硫黄、酸素、
炭素ハロゲニウム、Cu、Ag、Hg、Pd、Fe、C
o、Sn、Mo、Cr、Ni、AS、Scなどが挙げら
れ、より好ましくは第4扱アンモニウムである。
Examples of the n + cation Zn + include alkali metal ions, quaternary ammonium, pyridinium, quinolinium, diazonium, monophorinium, tetrazolium, acridinium, phosphonium, sulfonium, oxosulfonium, sulfur, oxygen,
Carbon halogenium, Cu, Ag, Hg, Pd, Fe, C
o, Sn, Mo, Cr, Ni, AS, Sc, and the like; and more preferably, quaternary ammonium.

【0045】また、特開平8−34808号公報、特開平8−1
00012号公報および特開平8−100011号公報に記載されて
いるように、前述したボレート系アニオンに対し、上記
のカチオン性基を分子内に有するポリメチン、インドリ
ン、シアニン、キサンテン、オキサジン、アリールメタ
ン、トリアリールメタン、ピリリウム系染料やスタアリ
ウム系等の赤外線吸収染料をカウンターカチオンとして
用いた赤外吸収をもつボレート系ラジカル発生剤を使用
することができる。これら赤外線吸収染料は予めカウン
ターカチオンとして導入しても用いられるが、別のカウ
ンターカチオンを有するボレートを、塗布液中または感
材中で、赤外線吸収染料と接触させ、塩交換により、赤
外線吸収染料をカウンターカチオンとしても良い。
In addition, JP-A-8-34808 and JP-A-8-1808
As described in Japanese Patent Application Laid-Open No. H08-100011 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-100011, polymethine, indoline, cyanine, xanthene, oxazine, arylmethane having the above-mentioned cationic group in the molecule with respect to the aforementioned borate-based anion, A borate radical generator having infrared absorption using an infrared absorbing dye such as a triarylmethane, pyrylium dye or stearium dye as a counter cation can be used. These infrared absorbing dyes are used even if introduced as a counter cation in advance, but a borate having another counter cation is brought into contact with the infrared absorbing dye in a coating solution or a light-sensitive material, and the infrared absorbing dye is converted by salt exchange. It may be a counter cation.

【0046】以下に一般式(I)で表される化合物の好
ましい具体例〔(I−1)〜(I−101)]を示す
が、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、
下記化合物中、(I−38)で表される例示化合物は、
化合物(I−34)、テトラメチルアンモニウメチル−
トリス(トリメチルシリルメチル)−ボレートおよびテ
トラメチルアンモニウムジメチルビス(トリメチルシリ
ルメチル)ボレートおよびテトラメチルアンモニウムジ
メチルビス(トリメチルシリルメチル)ボレートの3:
10:1の混合物である。
Preferred specific examples of the compound represented by formula (I) [(I-1) to (I-101)] are shown below, but the present invention is not limited thereto. In addition,
In the following compounds, the exemplary compound represented by (I-38) is
Compound (I-34), tetramethylammonium methyl-
Tris (trimethylsilylmethyl) -borate and tetramethylammoniumdimethylbis (trimethylsilylmethyl) borate and tetramethylammoniumdimethylbis (trimethylsilylmethyl) borate:
It is a 10: 1 mixture.

【0047】[0047]

【表1】 [Table 1]

【0048】[0048]

【表2】 [Table 2]

【0049】[0049]

【表3】 [Table 3]

【0050】[0050]

【表4】 [Table 4]

【0051】[0051]

【表5】 [Table 5]

【0052】[0052]

【表6】 [Table 6]

【0053】[0053]

【表7】 [Table 7]

【0054】[0054]

【化7】 表4、表5の中の*1〜*4の化学式Embedded image Chemical formulas of * 1 to * 4 in Tables 4 and 5

【0055】上記のボレート系化合物のうち、m−位に
フッ素置換されたフェニル基を少なくとも1つ含む化合
物がより好ましい。
Among the above borate compounds, compounds containing at least one phenyl group substituted by fluorine at the m-position are more preferred.

【0056】また、本発明の特定重合開始剤として好適
なトリアジン系化合物は一般式(II)で表される化合物
である。
The triazine compound suitable as the specific polymerization initiator of the present invention is a compound represented by the general formula (II).

【0057】[0057]

【化8】 Embedded image

【0058】式(II)中、X2はハロゲン原子を表す。
2は−CX2、−NH2、−NHR32−NR32または−
OR32を表す。ここでR32はアルキル基、置換アルキル
基、アリール基または置換アリール基を表す。R31は−
CX2、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置
換アリール基または置換アルケニル基を表す。
In the formula (II), X 2 represents a halogen atom.
Y 2 is -CX 2 , -NH 2 , -NHR 32 -NR 32 or-
Representing the OR 32. Here, R 32 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group. R 31 is-
CX 2 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group or a substituted alkenyl group.

【0059】一般式(II)で表されるようなトリアジン
系化合物具体例としては、たとえば、若林ら著、Bull.
Chem. Soc. Japan,42、2924(1969)記載の
化合物、たとえば、2−フェニル4,6−ビス(トリク
ロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−クロルフェ
ニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリ
アジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロ
ルメチル)−S−トリアジン、2−(p−メトキシフェ
ニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリ
アジン、2−(2’,4’−ジクロルフェニル)−4,
6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2,
4,6−トリス(トリクロルメチル)−S−トリアジ
ン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロルメチル)−
S−トリアジン、2−n−ノニル−4,6−ビス(トリ
クロルメチル)−S−トリアジン、2−(α,α,β−
トリクロルエチル)−4,6−ビス(トリクロルメチ
ル)−S−トリアジン等が挙げられる。
Specific examples of the triazine-based compound represented by the general formula (II) include, for example, Bull.
Chem. Soc. Japan, 42, 2924 (1969), for example, 2-phenyl 4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis ( Trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S -Triazine, 2- (2 ', 4'-dichlorophenyl) -4,
6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2,
4,6-tris (trichloromethyl) -S-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl)-
S-triazine, 2-n-nonyl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (α, α, β-
Trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine and the like.

【0060】その他、英国特許1,388,492号明
細書記載の化合物、たとえば、2−スチリル−4,6−
ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p
−メチルスチリル)−4,6−ビス(トリクロルメチ
ル)−S−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)
−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジ
ン、2−(p−メトキシスチリル)−4−アミノ−6−
トリクロルメチル−S−トリアジン等、特開昭53−1
33428号記載の化合物、たとえば、2−(4−メト
キシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロル
メチル−S−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト
−1−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−
トリアジン、2−〔4−(2−エトキシエチル)−ナフ
ト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S
−トリアジン、2−(4,7−ジメトキシ−ナフト−1
−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリ
アジン)、2−(アセナフト−5−イル)−4,6−ビ
ス−トリクロルメチル−S−トリアジン等、独国特許
3,337,024号明細書記載の化合物、たとえば、
下記例示化合物(T−1)〜(T−8)等を挙げること
ができる。
Other compounds described in British Patent 1,388,492, for example, 2-styryl-4,6-
Bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p
-Methylstyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methoxystyryl)
-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4-amino-6
JP-A-53-1 such as trichloromethyl-S-triazine
No. 33428, for example, 2- (4-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- (4-ethoxy-naphth-1-yl) -4 , 6-Bis-trichloromethyl-S-
Triazine, 2- [4- (2-ethoxyethyl) -naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S
-Triazine, 2- (4,7-dimethoxy-naphtho-1
-Yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine), 2- (acenaphth-5-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine and the like, German Patent 3,337,024. Compounds described in the above specification, for example,
The following exemplified compounds (T-1) to (T-8) can be exemplified.

【0061】[0061]

【化9】 Embedded image

【0062】[0062]

【化10】 Embedded image

【0063】また、F. C. Schaefer等によるJ. Org. Ch
em. 29、1527(1964)記載の化合物、たとえば2−メチ
ル−4,6−ビス(トリブロムメチル)−S−トリアジ
ン、2,4,6−トリス(トリブロムメチル)−S−ト
リアジン、2,4,6−トリス(ジブロムメチル)−S
−トリアジン、2−アミノ−4−メチル−6−トリブロ
ムメチル−S−トリアジン、2−メトキシ−4−メチル
−6−トリクロルメチル−S−トリアジン等を挙げるこ
とができる。さらに特開昭62−58241号記載の化
合物、たとえば、例示化合物(T−9)〜(T−14)
等を挙げることができる。
Further, J. Org. Ch. By FC Schaefer et al.
em. 29, 1527 (1964), for example, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -S-triazine, , 4,6-Tris (dibromomethyl) -S
-Triazine, 2-amino-4-methyl-6-tribromomethyl-S-triazine, 2-methoxy-4-methyl-6-trichloromethyl-S-triazine and the like. Further, compounds described in JP-A-62-58241, for example, exemplified compounds (T-9) to (T-14)
And the like.

【0064】[0064]

【化11】 Embedded image

【0065】さらに、特開平5−281728号記載の
化合物、例えば例示化合物(T−15)〜(T−22)
等を挙げることができる。
Further, compounds described in JP-A-5-281728, for example, exemplified compounds (T-15) to (T-22)
And the like.

【0066】[0066]

【化12】 Embedded image

【0067】(C)光熱変換剤 本発明の画像形成層には、感度を向上させるため、赤外
線を吸収して発熱する光熱変換剤を含有する。かかる光
熱変換剤としては、700〜1200nmの少なくとも
一部に吸収帯を有する光吸収物質であればよく、種々の
顔料、染料および金属微粒子を用いることができる。
(C) Photothermal Conversion Agent The image forming layer of the present invention contains a photothermal conversion agent that absorbs infrared rays and generates heat to improve sensitivity. Such a light-to-heat conversion agent may be any light-absorbing substance having an absorption band in at least a part of 700 to 1200 nm, and various pigments, dyes and metal fine particles can be used.

【0068】顔料としては、市販の顔料およびカラーイ
ンデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本
顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技
術」(CMC出版、1984年刊)に記載されている赤
外吸収性の顔料が利用できる。
Examples of pigments include commercially available pigments and color index (CI) handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). And "printing ink technology" (CMC Publishing, 1984) can be used.

【0069】これら顔料は、添加される層に対する分散
性を向上させるため、必要に応じて公知の表面処理を施
して用いることができる。表面処理の方法には、親水性
樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、界面活性剤を
付着させる方法、反応性物質(例えば、シリカゾル、ア
ルミナゾル、シランカップリング剤やエポキシ化合物、
イソシアナート化合物等)を顔料表面に結合させる方法
等が考えられる。親水性の層に添加する顔料は、水溶性
の樹脂と分散しやすく、かつ親水性を損わないように、
親水性樹脂やシリカゾルで表面がコートされたものが望
ましい。顔料の粒径は0.01μm〜1μmの範囲にあ
ることが好ましく、0.01μm〜0.5μmの範囲に
あることが更に好ましい。顔料を分散する方法として
は、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散
技術が使用できる。特に好ましい顔料としては、カーボ
ンブラックを挙げることができる。
These pigments can be used after being subjected to a known surface treatment, if necessary, in order to improve the dispersibility in the layer to which the pigment is added. Surface treatment methods include a method of surface-coating a hydrophilic resin or a lipophilic resin, a method of attaching a surfactant, and a reactive substance (for example, silica sol, alumina sol, a silane coupling agent or an epoxy compound,
A method of bonding an isocyanate compound) to the surface of the pigment. Pigment to be added to the hydrophilic layer is easy to disperse with the water-soluble resin, and so as not to impair the hydrophilicity,
It is desirable that the surface is coated with a hydrophilic resin or silica sol. The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 1 μm, and more preferably in the range of 0.01 μm to 0.5 μm. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Particularly preferred pigments include carbon black.

【0070】染料としては、市販の染料および文献(例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊、「化学工業」1986年5月号P.45〜51の
「近赤外吸収色素」、「90年代機能性色素の開発と市
場動向」第2章2.3項(1990)シーエムシー)も
しくは特許に記載されている公知の染料が利用できる。
具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロン
アゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、
カルボニウム染料、キノンイミン染料、ポリメチン染
料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体のような金属チオレート錯
体等の染料が挙げられる。
Examples of the dye include commercially available dyes and literatures (eg, “Dye Handbook” edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, 1975, “Chemical Industry”, May 1986, “Near-Infrared Absorbing Dye”, May 1986, pp. 45-51). , "Development and Market Trend of Functional Dyes in the 90's", Chapter 2, Section 2.3 (1990), CM) or patents can be used.
Specifically, azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes,
Dyes such as carbonium dyes, quinone imine dyes, polymethine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes such as nickel thiolate complexes.

【0071】さらに、例えば、特開昭58−12524
6号、特開昭59−84356号、特開昭60−787
87号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−
173696号、特開昭58−181690号、特開昭
58−194595号等に記載されているメチン染料、
特開昭58−112793号、特開昭58−22479
3号、特開昭59−48187号、特開昭59−739
96号、特開昭60−52940号、特開昭60−63
744号等に記載されているナフトキノン染料、 特開
昭58−112792号等に記載されているスクワリリ
ウム染料、英国特許434,875号記載のシアニン染
料や米国特許第4,756,993号記載の染料、米国
特許第4,973,572号記載のシアニン染料、特開
平10−268512号記載の染料、特開平11−23
5883号記載のフタロシアニン化合物を挙げることが
できる。
Further, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 58-12524
No. 6, JP-A-59-84356, JP-A-60-787
No. 87, etc .;
173696, JP-A-58-181690, methine dyes described in JP-A-58-194595, and the like;
JP-A-58-112793, JP-A-58-22479
No. 3, JP-A-59-48187, JP-A-59-739
No. 96, JP-A-60-52940, JP-A-60-63
744, etc .; squarylium dyes described in JP-A-58-112792; cyanine dyes described in British Patent 434,875; and dyes described in U.S. Pat. No. 4,756,993. And cyanine dyes described in U.S. Pat. No. 4,973,572, dyes described in JP-A-10-268512, JP-A-11-23.
No. 5,883, phthalocyanine compounds.

【0072】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開
昭58−181051号、同58−220143号、同
59−41363号、同59−84248号、同59−
84249号、同59−146063号、同59−14
6061号に記載されているピリリウム系化合物、特開
昭59−216146号記載のシアニン染料、米国特許
第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリ
リウム塩等や特公平5−13514号、同5−1970
2号公報に開示されているピリリウム化合物、エポリン
社製エポライトIII−178、エポライトIII−130、
エポライトIII−125等も好ましく用いられる。これ
らの中で、感熱層の親水性樹脂中等の親水性マトリック
ス中に添加するのに好ましい染料は水溶性染料で、以下
に具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
Further, US Pat.
No. 938 is also preferably used, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in U.S. Pat. No. 3,881,924;
No. 42645, JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, JP-A-59-84248, and JP-A-59-84248.
No. 84249, No. 59-146063, No. 59-14
No. 6061, pyranium compounds described in JP-A-59-216146, cyanine dyes described in US Pat. No. 4,283,475, pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. 5-70
No. 2, a pyrylium compound, Eporin III-178, Epolite III-130, manufactured by Eporin Co., Ltd.
Epolite III-125 and the like are also preferably used. Among these, a preferred dye to be added to a hydrophilic matrix such as a hydrophilic resin of the heat-sensitive layer is a water-soluble dye, and specific examples are shown below. However, the present invention is not limited to these.

【0073】[0073]

【化13】 Embedded image

【0074】[0074]

【化14】 Embedded image

【0075】さらに光熱変換剤は、疎水性ポリマー粒子
内またはマイクロカプセルに内包させる方が、粒子間の
融着や内包物質の放出がより進み、強固な皮膜が形成で
きる点から好ましい。前記の光熱変換物質であってもよ
いが、親油性の染料がより好ましい。具体例として、以
下の染料を挙げることができる。
Further, it is preferable to incorporate the photothermal conversion agent in hydrophobic polymer particles or in microcapsules, since the fusion between the particles and the release of the inclusion substance are further promoted and a strong film can be formed. The light-to-heat conversion substance may be used, but a lipophilic dye is more preferable. Specific examples include the following dyes.

【0076】[0076]

【化15】 Embedded image

【0077】[0077]

【化16】 Embedded image

【0078】[0078]

【化17】 Embedded image

【0079】上記の有機系の光熱変換剤は、感熱層中に
30重量%まで添加することができる。好ましくは5〜
25重量%であり、特に好ましくは7〜20重量%であ
る。この範囲内で、良好な感度が得られる。
The above-mentioned organic photothermal conversion agent can be added to the heat-sensitive layer up to 30% by weight. Preferably 5
The content is 25% by weight, particularly preferably 7 to 20% by weight. Within this range, good sensitivity is obtained.

【0080】本発明の感熱層等には、光熱変換剤として
金属微粒子を用いることもできる。金属微粒子の多く
は、光熱変換性であって、かつ自己発熱性でもある。好
ましい金属微粒子として、Si、Al、Ti、V、C
r、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、
Mo、Ag、Au、Pt、Pd、Rh、In、Sn、
W、Te、Pb、Ge、Re、Sbの単体または合金も
しくはそれらの酸化物、硫化物の微粒子が挙げられる。
これらの金属微粒子を構成する金属の中でも好ましい金
属は、光照射によって熱融着し易い融点がおよそ100
0℃以下で赤外、可視または紫外線領域に吸収をもつ金
属、たとえばRe、Sb、Te、Au、Ag、Cu、G
e、PbおよびSnである。また、とくに好ましいの
は、融点も比較的低く、熱線に対する吸光度も比較的高
い金属の微粒子、例えばAg、Au、Cu、Sb、Ge
およびPbで、とくに好ましい元素はAg、Auおよび
Cuである。
In the heat-sensitive layer of the present invention, fine metal particles can be used as a light-to-heat conversion agent. Many of the metal fine particles are light-heat converting and also self-heating. Preferred metal fine particles include Si, Al, Ti, V, and C.
r, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr,
Mo, Ag, Au, Pt, Pd, Rh, In, Sn,
A simple substance or an alloy of W, Te, Pb, Ge, Re, and Sb, or fine particles of oxides and sulfides thereof are exemplified.
Among the metals constituting these metal fine particles, preferred metals have a melting point of about 100, which is easily fused by light irradiation.
Metals having an absorption in the infrared, visible or ultraviolet region below 0 ° C., such as Re, Sb, Te, Au, Ag, Cu, G
e, Pb and Sn. Particularly preferred are metal fine particles having a relatively low melting point and a relatively high absorbance to heat rays, for example, Ag, Au, Cu, Sb, Ge.
And Pb, particularly preferred elements are Ag, Au and Cu.

【0081】また、例えばRe、Sb、Te、Au、A
g、Cu、Ge、Pb、Sn等の低融点金属の微粒子と
Ti、Cr、Fe、Co、Ni、W、Ge等の自己発熱
性金属の微粒子を混合使用する等、2種以上の光熱変換
物質で構成されていてもよい。また、Ag、Pt、Pd
等微小片としたときに光吸収がとくに大きい金属種の微
小片と他の金属微小片を組み合わせて用いることは好ま
しい。
Further, for example, Re, Sb, Te, Au, A
g, Cu, Ge, Pb, Sn or other low-melting metal particles and self-heating metal particles such as Ti, Cr, Fe, Co, Ni, W, Ge, etc. It may be composed of a substance. Ag, Pt, Pd
It is preferable to use a combination of a metal-type micro-piece and a metal-type micro-piece having particularly large light absorption when made into the same micro-piece.

【0082】以上に述べた金属単体および合金の微粒子
は、表面を親水性化処理することによって、本発明の効
果がより発揮される。表面親水性化の手段は、親水性で
かつ粒子への吸着性を有する化合物、例えば界面活性剤
で表面処理したり、粒子の構成物質と反応する親水性基
を持つ物質で表面処理したり、保護コロイド性の親水性
高分子皮膜を設ける等の方法を用いることができる。特
に好ましいのは、表面シリケート処理であり、例えば鉄
微粒子の場合は、70℃のケイ酸ナトリウム(3%)水
溶液に30秒浸漬する方法によって表面を十分に親水性
化することができる。他の金属微粒子も同様の方法で表
面シリケート処理を行うことができる。
The effects of the present invention can be further exerted by subjecting the surfaces of the above-described fine particles of a simple metal and an alloy to hydrophilic treatment. Means of surface hydrophilicity is a compound that is hydrophilic and has an adsorptivity to particles, such as a surface treatment with a surfactant, or a surface treatment with a substance having a hydrophilic group that reacts with the constituent substances of the particles, A method such as providing a protective colloid hydrophilic polymer film can be used. Particularly preferred is a surface silicate treatment. For example, in the case of fine iron particles, the surface can be made sufficiently hydrophilic by a method of immersing in an aqueous solution of sodium silicate (3%) at 70 ° C. for 30 seconds. Other metal fine particles can be subjected to a surface silicate treatment in the same manner.

【0083】これらの粒子の粒径は、好ましくは10μ
m以下、より好ましくは0.003〜5μm、特に好ま
しくは0.01〜3μmである。この範囲内で、良好な
感度と解像力が得られ、好ましい。
The size of these particles is preferably 10 μm.
m, more preferably 0.003 to 5 μm, particularly preferably 0.01 to 3 μm. Within this range, good sensitivity and resolving power can be obtained, which is preferable.

【0084】本発明において、これらの金属微粒子を光
熱変換剤として用いる場合、その添加量は、好ましくは
画像形成層固形分の10重量%以上であり、より好まし
くは20重量%以上、特に好ましくは30重量%以上で
用いられる。この範囲内で高い感度が得られ、好まし
い。
In the present invention, when these metal fine particles are used as a light-to-heat converting agent, the amount added is preferably at least 10% by weight, more preferably at least 20% by weight, particularly preferably at least 20% by weight of the solid content of the image forming layer. Used at 30% by weight or more. High sensitivity is obtained within this range, which is preferable.

【0085】(D)ラジカル重合性基を有する化合物 本発明で使用されるラジカル重合性基を有する化合物
は、疎水性粒子およびマイクロカプセルに内包、または
疎水性粒子およぴマイクロカプセル外に添加することで
画像形成層に含有させることができる。本発明で使用さ
れるラジカル重合性基を有する化合物は、少なくとも1
個のエチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合性
化合物であり、末端エチレン性不飽和二重結合を少なく
とも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれ
る。この様な化合物群は当該産業分野において広く知ら
れるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無
く用いる事ができる。これらは、例えばモノマー、プレ
ポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、
または重合体や共重合体などの化学的形態をもつ。それ
らは単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いて
も良い。重合体や共重合体を用いる場合には、(メタ)
アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不
飽和二重結合を重合時に導入してもよいし、重合後に高
分子反応を利用して導入してもよい。
(D) Compound Having a Radical Polymerizable Group The compound having a radical polymerizable group used in the present invention is encapsulated in hydrophobic particles and microcapsules, or added outside the hydrophobic particles and microcapsules. By doing so, it can be contained in the image forming layer. The compound having a radical polymerizable group used in the present invention has at least one compound.
Is a radical polymerizable compound having two ethylenically unsaturated double bonds, and is selected from compounds having at least one, and preferably two or more, terminal ethylenically unsaturated double bonds. Such compounds are widely known in the industrial field, and they can be used in the invention without any particular limitation. These include, for example, monomers, prepolymers, ie, dimers, trimers and oligomers,
Or, it has a chemical form such as a polymer or a copolymer. They may be used alone or as a mixture of two or more. When a polymer or copolymer is used, (meth)
An ethylenically unsaturated double bond such as an acryloyl group, a vinyl group or an allyl group may be introduced at the time of polymerization, or may be introduced after polymerization by utilizing a polymer reaction.

【0086】モノマーおよびその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げら
れ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコ
ール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多
価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒド
ロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換
基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官
能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付
加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱
水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナ
ート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和
カルボン酸エステルまたはアミド類と、単官能もしくは
多官能のアルコール類、アミン類およびチオール類との
付加反応物、さらに、ハロゲン基やトシルオキシ基等の
脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたは
アミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、ア
ミン類およびチオール類との置換反応物も好適である。
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わり
に、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物
群を使用する事も可能である。
Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. Preferably, esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric alcohol compounds and amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyamine compounds are used. Further, an unsaturated carboxylic acid ester having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group, an addition reaction product of an amide with a monofunctional or polyfunctional isocyanate, an epoxy, a monofunctional or A dehydration-condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, and further, halogen A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving group such as a group or a tosyloxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable.
As another example, it is also possible to use a group of compounds in which the above unsaturated carboxylic acid is replaced with unsaturated phosphonic acid, styrene or the like.

【0087】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物の具体
例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テ
トラメチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシ
プロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シ
クロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレン
グリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエ
リスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、
ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタ
アクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ
(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリ
エステルアクリレートオリゴマー等がある。
Specific examples of the radical polymerizable compound which is an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylates such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and 1,3-butane. Diol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, , 4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, penta Risuri toll triacrylate,
Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate,
Examples include sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, and polyester acrylate oligomer.

【0088】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキ
シ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。
Examples of the methacrylate include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and 1,3-butanediol. Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3- Methacryloxy-2-hi Rokishipuropokishi) phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

【0089】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。
Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate,
There are 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, sorbitol tetritaconate and the like.

【0090】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
The crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Sorbitol tetradicrotonate and the like.

【0091】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。
Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.

【0092】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。
Examples of the maleic acid ester include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

【0093】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭46−27926号、特公昭51−47334号、
特開昭57−196231号記載の脂肪族アルコール系
エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−
5241号、特開平2−226149号記載の芳香族系
骨格を有するもの、特開平1−165613号記載のア
ミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。
Examples of other esters include, for example, JP-B-46-27926, JP-B-51-47334,
Aliphatic alcohol esters described in JP-A-57-196231, JP-A-59-5240 and JP-A-59-196231
No. 5,241, those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also suitably used.

【0094】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。
Specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyamine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples include diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide, and the like.

【0095】その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭54−21726号記載のシクロへキシ
レン構造を有すものを挙げることができる。また、イソ
シアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレ
タン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体
例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中
に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基
を有するポリイソシアネート化合物に、下記式(I)で
示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた
1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニル
ウレタン化合物等が挙げられる。
Examples of other preferred amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726. Further, urethane-based addition-polymerizable compounds produced by an addition reaction between an isocyanate and a hydroxyl group are also suitable. Specific examples of such compounds include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a hydroxyl group-containing vinyl monomer represented by the following formula (I) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups: And the like.

【0096】一般式(I) CH2=C(R01)COOCH2CH(R02)OH (ただし、R01およびR02は、HまたはCH3を示
す。)
Formula (I) CH 2 CC (R 01 ) COOCH 2 CH (R 02 ) OH (where R 01 and R 02 represent H or CH 3 )

【0097】また、特開昭51−37193号、特公平
2−32293号、特公平2−16765号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−
49860号、特公昭56−17654号、特公昭62
−39417号、特公昭62−39418号記載のエチ
レンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適
である。さらに、特開昭63−277653号、特開昭
63−260909号、特開平1−105238号に記
載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有す
るラジカル重合性化合物類を用いても良い。
Also, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, and
No. 49860, No. 56-17654, No. 62
Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-A-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable. Further, radical polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277563, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 may be used.

【0098】その他の例としては、特開昭48−641
83号、特公昭49−43191号、特公昭52−30
490号の各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートを挙げることができる。また、
特公昭46−43946号、特公平1−40337号、
特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合
物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開
昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌 vol.20、No.7、300〜308ページ
(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーと
して紹介されているものも使用することができる。
Another example is disclosed in JP-A-48-641.
No. 83, JP-B-49-43191, JP-B-52-30
Examples thereof include polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in JP-A-490-490. Also,
JP-B-46-43946, JP-B-1-40337,
Specific unsaturated compounds described in JP-B-1-40336,
Vinyl phosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 can also be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Further, the Journal of the Adhesion Society of Japan, vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984) as photocurable monomers and oligomers can also be used.

【0099】〔その他の添加物〕 (親水性樹脂)本発明の画像形成層は、機上現像性や画
像形成層自体の引っ掻き強度といった膜性向上の目的
で、親水性樹脂を含有させることができる。親水性樹脂
としては、例えばヒドロキシ基、カルボキシル基、リン
酸基、スルホン酸基、アミド基などの親水性基を有する
ものが好ましい。
[Other Additives] (Hydrophilic Resin) The image forming layer of the present invention may contain a hydrophilic resin for the purpose of improving film properties such as on-press developability and scratch strength of the image forming layer itself. it can. As the hydrophilic resin, those having a hydrophilic group such as a hydroxy group, a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, and an amide group are preferable.

【0100】親水性樹脂の具体例として、アラビアゴ
ム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、ソヤガム、ヒド
ロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、カルボ
キシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロ
ースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−
マレイン酸コポリマー、スチレン−マレイン酸コポリマ
ー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタク
リル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリ
レートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエ
チルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒ
ドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマーおよび
コポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポ
リマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレ
ートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチ
ルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリ
エチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー
類、ポリビニルアルコール類、ならびに加水分解度が少
なくとも60重量%、好ましくは少なくとも80重量%
の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリ
マーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマ
ーおよびコポリマー、N−メチロールアクリルアミドの
ホモポリマーおよびコポリマー、2−アクリルアミド−
2−メチル−1−プロパンスルホン酸のホモポリマーお
よびコポリマー、2−メタクロイルオキシエチルホスホ
ン酸のホモポリマーおよびコポリマー、ポリアリルアミ
ン、ポリエチレンイミン等を挙げることができる。
Specific examples of the hydrophilic resin include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, soya gum, hydroxypropylcellulose, methylcellulose, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate
Maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and their salts, polymethacrylic acids and their salts, hydroxyethyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxyethyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxypropyl methacrylate homopolymers Polymers and copolymers, hydroxypropyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl acrylate homopolymers and copolymers, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, and at least a hydrolysis degree 60% by weight, preferably at least 80% by weight
Of polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers, methacrylamide homopolymers and copolymers, N-methylol acrylamide homopolymers and copolymers, 2-acrylamide-
Examples thereof include homopolymers and copolymers of 2-methyl-1-propanesulfonic acid, homopolymers and copolymers of 2-methacryloyloxyethylphosphonic acid, polyallylamine, and polyethyleneimine.

【0101】親水性樹脂の感熱層への添加量は、感熱層
の固形分の5〜70%が好ましく、5〜40%がさらに
好ましい。この範囲内で、良好な機上現像性と皮膜強度
が得られ、好ましい。
The amount of the hydrophilic resin added to the heat-sensitive layer is preferably from 5 to 70%, more preferably from 5 to 40% of the solid content of the heat-sensitive layer. Within this range, good on-press developability and film strength are obtained, which is preferable.

【0102】また、本発明の感熱層には、画像形成後、
画像部と非画像部の区別をつきやすくするため、可視光
域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用す
ることができる。具体的には、オイルイエロー#10
1、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、
オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブル
ー#603、オイルブラックBY、オイルブラックB
S、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工
業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバ
イオレット(CI42555)、メチルバイオレット
(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミン
B(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI
42000)、メチレンブルー(CI52015)等、
および特開昭62−293247号に記載されている染
料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔
料、アゾ系顔料、酸化チタン等の顔料も好適に用いるこ
とができる。添加量は、感熱層塗布液全固形分に対し
0.01〜10重量%が好ましい。
Further, after the image formation, the heat-sensitive layer of the present invention
In order to make it easy to distinguish between the image area and the non-image area, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for the image. Specifically, Oil Yellow # 10
1, oil yellow # 103, oil pink # 312,
Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black B
S, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI
42000), methylene blue (CI52015) and the like.
And dyes described in JP-A-62-293247. Further, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, and titanium oxide can also be suitably used. The addition amount is preferably 0.01 to 10% by weight based on the total solid content of the heat-sensitive layer coating solution.

【0103】さらに、本発明の感熱層には、必要に応
じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を加えるこ
とができる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン
酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、
フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリ
クレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オ
レイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。
Furthermore, a plasticizer can be added to the heat-sensitive layer of the present invention, if necessary, to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate,
Dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, and the like are used.

【0104】本発明の感熱層は、必要な上記各成分を溶
剤に溶解または分散して塗布液を調製し、塗布される。
ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、
シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、
エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−
メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピ
ルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エ
チル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロ
リドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチ
ルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、
これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独
または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好
ましくは1〜50重量%である。
The heat-sensitive layer of the present invention is applied by preparing a coating solution by dissolving or dispersing the above-mentioned necessary components in a solvent.
As the solvent used here, ethylene dichloride,
Cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol,
Ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-
Methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyl lactone, toluene, water and the like,
It is not limited to this. These solvents are used alone or as a mixture. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by weight.

【0105】また塗布、乾燥後に得られる支持体上の感
熱層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般
的に0.5〜5.0g/m2が好ましい。塗布する方法
としては、種々の方法を用いることができる。例えば、
バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン
塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗
布、ロール塗布等を挙げられる。
The coating amount (solid content) of the heat-sensitive layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but is generally preferably 0.5 to 5.0 g / m 2 . Various methods can be used as a method of applying. For example,
Examples include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

【0106】本発明にかかわる感熱層塗布液には、塗布
性を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−
170950号に記載されているようなフッ素系界面活
性剤を添加することができる。好ましい添加量は、感熱
層全固形分の0.01〜1重量%、さらに好ましくは
0.05〜0.5重量%である。
The coating solution for the heat-sensitive layer according to the present invention may contain a surfactant for improving the coating property, for example, a surfactant described in JP-A-62-1987.
A fluorinated surfactant as described in JP 170950 can be added. The preferred addition amount is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight of the total solids of the heat-sensitive layer.

【0107】本発明の平版印刷用原板は、保存時の親油
性物質による汚染や取り扱い時の手指の接触による汚染
(指紋跡)から親水性の画像形成層表面を保護するた
め、画像形成層上に親水性オーバーコート層を設けるこ
とができる。
The lithographic printing plate precursor of the present invention is provided on the image forming layer in order to protect the surface of the hydrophilic image forming layer from contamination by lipophilic substances during storage and from contamination (fingerprint) due to contact with fingers during handling. May be provided with a hydrophilic overcoat layer.

【0108】本発明に使用される親水性オーバーコート
層は印刷機上で容易に除去できるものであり、水溶性樹
脂、または水溶性樹脂を部分的に架橋した水膨潤性樹脂
から選ばれた樹脂を含有する。
The hydrophilic overcoat layer used in the present invention can be easily removed on a printing press, and is selected from a water-soluble resin or a water-swellable resin obtained by partially crosslinking a water-soluble resin. It contains.

【0109】かかる水溶性樹脂は、水溶性の天然高分子
および合成高分子から選ばれ、水溶性樹脂単独もしくは
架橋剤とともに用いて塗布乾燥された時にフィルム形成
できるものである。本発明に好ましく用いられる水溶性
樹脂の具体例としては、天然高分子では、アラビアガ
ム、水溶性大豆多糖類、繊維素誘導体(例えば、カルボ
キシメチルセルローズ、カルボキシエチルセルローズ、
メチルセルローズ等)、その変性体、ホワイトデキスト
リン、プルラン、酵素分解エーテル化デキストリン等、
合成高分子では、ポリビニルアルコール(ポリ酢酸ビニ
ルの加水分解率65%以上のもの)、ポリアクリル酸、
そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリアクリル酸
共重合体、そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリ
メタクリル酸、そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、
ビニルアルコール/アクリル酸共重合体およびそのアル
カリ金属塩もしくはアミン塩、ポリアクリルアミド、そ
の共重合体、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリ
ビニルピロリドン、その共重合体、ポリビニルメチルエ
ーテル、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合
体、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチル−1−プロ
パンスルホン酸、そのアルカリ金属塩もしくはアミン
塩、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチル−1−プロ
パンスルホン酸共重合体、そのアルカリ金属塩もしくは
アミン塩、等を挙げることができる。また、目的に応じ
て、これらの樹脂を二種以上混合して用いることもでき
る。しかし、本発明はこれらの例に限定されるものでは
ない。
Such a water-soluble resin is selected from a water-soluble natural polymer and a synthetic polymer, and can be used to form a film when applied and dried using the water-soluble resin alone or together with a crosslinking agent. Specific examples of the water-soluble resin preferably used in the present invention include, as natural polymers, gum arabic, water-soluble soybean polysaccharide, and cellulose derivatives (eg, carboxymethyl cellulose, carboxyethyl cellulose,
Methylcellulose), denatured forms thereof, white dextrin, pullulan, enzymatically degraded etherified dextrin, etc.
For synthetic polymers, polyvinyl alcohol (having a hydrolysis rate of polyvinyl acetate of 65% or more), polyacrylic acid,
Its alkali metal salt or amine salt, polyacrylic acid copolymer, its alkali metal salt or amine salt, polymethacrylic acid, its alkali metal salt or amine salt,
Vinyl alcohol / acrylic acid copolymer and its alkali metal salt or amine salt, polyacrylamide, its copolymer, polyhydroxyethyl acrylate, polyvinyl pyrrolidone, its copolymer, polyvinyl methyl ether, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer Polymer, poly-2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid, alkali metal salt or amine salt thereof, poly-2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid copolymer, alkali metal salt thereof Alternatively, amine salts and the like can be mentioned. Further, according to the purpose, two or more of these resins can be used in combination. However, the invention is not limited to these examples.

【0110】水溶性樹脂の少なくとも1種以上を部分架
橋し、親水層上にオーバーコート層を形成する場合、架
橋は、水溶性樹脂の有する反応性官能基を用いて架橋反
応することにより行われる。架橋反応は、共有結合性の
架橋であっても、イオン結合性の架橋であってもよい。
When at least one or more water-soluble resins are partially cross-linked to form an overcoat layer on the hydrophilic layer, the cross-linking is carried out by a cross-linking reaction using a reactive functional group of the water-soluble resin. . The cross-linking reaction may be covalent cross-linking or ionic cross-linking.

【0111】架橋により、オーバーコート層表面の粘着
性が低下して平版印刷用原板の取り扱い性がよくなる
が、架橋が進み過ぎるとオーバーコート層が親油性に変
化して、印刷機上におけるオーバーコート層の除去が困
難になるので、適度な部分架橋が好ましい。好ましい部
分架橋の程度は、25℃の水中に印刷用原板を浸したと
きに、30秒〜10分間では親水性オーバーコート層が
溶出せず残存しているが、10分以上では溶出が認めら
れる程度である。
Crosslinking decreases the tackiness of the surface of the overcoat layer and improves the handleability of the lithographic printing plate. However, if crosslinking proceeds too much, the overcoat layer changes to lipophilic, causing overcoating on a printing press. Moderate partial cross-linking is preferred because it makes removal of the layer difficult. The preferable degree of partial cross-linking is as follows: when the printing plate is immersed in water at 25 ° C., the hydrophilic overcoat layer remains without eluting in 30 seconds to 10 minutes, but elution is observed in 10 minutes or more. It is about.

【0112】架橋反応に用いられる化合物(架橋剤)と
しては、架橋性を有する公知の多官能性化合物が挙げら
れ、ポリエポキシ化合物、ポリアミン化合物、ポリイソ
シアナート化合物、ポリアルコキシシリル化合物、チタ
ネート化合物、アルデヒド化合物、多価金属塩化合物、
ヒドラジン等が挙げられる。
Examples of the compound (crosslinking agent) used in the crosslinking reaction include known polyfunctional compounds having crosslinking properties, such as polyepoxy compounds, polyamine compounds, polyisocyanate compounds, polyalkoxysilyl compounds, titanate compounds, and the like. Aldehyde compounds, polyvalent metal salt compounds,
Hydrazine and the like.

【0113】架橋剤は単独または2種以上を混合して使
用することが可能である。架橋剤のうち特に好ましい架
橋剤は、水溶性の架橋剤であるが、非水溶性のものは分
散剤によって水に分散して使用することができる。
The crosslinking agents can be used alone or as a mixture of two or more. Among the crosslinking agents, a particularly preferred crosslinking agent is a water-soluble crosslinking agent, but a water-insoluble one can be used by dispersing it in water with a dispersant.

【0114】特に好ましい水溶性樹脂と架橋剤の組み合
わせとしては、カルボン酸含有水溶性樹脂/多価金属化
合物、カルボン酸含有水溶性樹脂/水溶性エポキシ樹
脂、水酸基含有樹脂/ジアルデヒド類を挙げられる。
Particularly preferred combinations of the water-soluble resin and the crosslinking agent include carboxylic acid-containing water-soluble resin / polyvalent metal compound, carboxylic acid-containing water-soluble resin / water-soluble epoxy resin, and hydroxyl group-containing resin / dialdehydes. .

【0115】架橋剤の好適な添加量は、水溶性樹脂の2
〜10重量%である。この範囲内で印刷機上でのオーバ
ーコート層の除去性を損なうことなく、良好な耐水性が
得られる。
The preferable addition amount of the crosslinking agent is 2
-10% by weight. Within this range, good water resistance can be obtained without impairing the removability of the overcoat layer on a printing press.

【0116】その他、オーバーコート層には塗布の均一
性を確保する目的で、水溶液塗布の場合には主に非イオ
ン系界面活性剤を添加することができる。この様な非イ
オン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステ
アレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタント
リオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
ドデシルエーテル等を挙げることが出来る。上記非イオ
ン界面活性剤のオーバーコート層の全固形物中に占める
割合は、0.05〜5重量%が好ましく、より好ましく
は1〜3重量%である。
In addition, a nonionic surfactant can be mainly added to the overcoat layer in the case of aqueous solution application for the purpose of ensuring uniformity of application. Specific examples of such a nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyoxyethylene dodecyl ether, and the like. . The proportion of the nonionic surfactant in the total solid content of the overcoat layer is preferably 0.05 to 5% by weight, and more preferably 1 to 3% by weight.

【0117】本発明のオーバーコート層の厚みは、水溶
性樹脂が架橋されていない場合は、0.1μmから4.
0μmが好ましく、更に好ましい範囲は0.1μmから
1.0μmであり、水溶性樹脂が部分架橋されている場
合は、0.1〜0.5μmが好ましく、0.1〜0.3
μmがより好ましい。この範囲内で、印刷機上でのオー
バーコート層の除去性を損なうことなく、親油性物質に
よる親水層の汚染を防止できる。
When the water-soluble resin is not crosslinked, the thickness of the overcoat layer of the present invention is from 0.1 μm to 3.
0 μm is preferred, and a more preferred range is from 0.1 μm to 1.0 μm. When the water-soluble resin is partially crosslinked, the range is preferably 0.1 to 0.5 μm, and 0.1 to 0.3 μm.
μm is more preferred. Within this range, contamination of the hydrophilic layer by the lipophilic substance can be prevented without impairing the removability of the overcoat layer on the printing press.

【0118】本発明の平版印刷版用原板において前記感
熱層を塗布可能な支持体としては、寸度的に安定な板状
物であり、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネー
トされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅
等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロー
ス、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸
セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタール等)、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸
着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられ
る。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルムま
たはアルミニウム板が挙げられる。
In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the support on which the heat-sensitive layer can be applied is a dimensionally stable plate-like material such as paper, plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.). ) Laminated paper, metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, Polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic film on which the above-mentioned metal is laminated or vapor-deposited. Preferred supports include a polyester film or an aluminum plate.

【0119】該アルミニウム板は、純アルミニウム板お
よびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合
金板であり、さらにはアルミニウムまたはアルミニウム
合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているもの
である。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ
素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、
ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素
の含有量は高々10重量%以下である。しかし、本発明
に適用されるアルミニウム板は、従来より公知の素材の
アルミニウム板をも適宜に利用することができる。
The aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element. Further, a plastic is laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. The foreign elements contained in aluminum alloys include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc,
There are bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. However, as the aluminum plate applied to the present invention, an aluminum plate of a conventionally known material can be appropriately used.

【0120】本発明で用いられる上記の基板の厚みは
0.05mm〜0.6mm、好ましくは0.1mm〜
0.4mm、特に好ましくは0.15mm〜0.3mm
である。
The substrate used in the present invention has a thickness of 0.05 mm to 0.6 mm, preferably 0.1 mm to 0.6 mm.
0.4 mm, particularly preferably 0.15 mm to 0.3 mm
It is.

【0121】アルミニウム板を使用するに先立ち、表面
の粗面化、陽極酸化等の表面処理をすることが好まし
い。表面処理により、親水性の向上および感熱層との接
着性の確保が容易になる。
Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as surface roughening and anodic oxidation. The surface treatment makes it easy to improve hydrophilicity and ensure adhesion to the heat-sensitive layer.

【0122】アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々
の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する
方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および化
学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械
的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラス
ト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることがで
きる。化学的方法としては、特開昭54−31187号
公報に記載されているような鉱酸のアルミニウム塩の飽
和水溶液に浸漬する方法が適している。また、電気化学
的な粗面化法としては塩酸または硝酸等の酸を含む電解
液中で交流または直流により行う方法がある。また、特
開昭54−63902号に開示されているように混合酸
を用いた電解粗面化方法も利用することができる。
The surface roughening treatment of the aluminum plate surface is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of chemically roughening the surface. It is carried out by a method of selective dissolution. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. As a chemical method, a method of immersing in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in JP-A-54-31187 is suitable. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Also, an electrolytic surface roughening method using a mixed acid as disclosed in JP-A-54-63902 can be used.

【0123】上記の如き方法による粗面化は、アルミニ
ウム板の表面の中心線平均粗さ(Ra)が0.2〜1.
0μmとなるような範囲で施されることが好ましい。粗
面化されたアルミニウム板は必要に応じて水酸化カリウ
ムや水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッ
チング処理がされ、さらに中和処理された後、所望によ
り耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。ア
ルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質として
は、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可
能で、一般的には硫酸、塩酸、蓚酸、クロム酸もしくは
それらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電
解質の種類によって適宜決められる。陽極酸化の処理条
件は、用いる電解質により種々変わるので一概に特定し
得ないが、一般的には電解質の濃度が1〜80重量%溶
液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電
圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば
適当である。形成される酸化皮膜量は、1.0〜5.0
g/m2、特に1.5〜4.0g/m2であることが好ま
しい。
The surface roughening by the above-mentioned method is carried out when the center line average roughness (Ra) of the surface of the aluminum plate is 0.2-1.
It is preferable that the coating be performed within a range of 0 μm. The roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide or sodium hydroxide as necessary, and further neutralized, and then, if necessary, anodized to enhance abrasion resistance. Processing is performed. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte. Anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte to be used and cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. The amount of the formed oxide film is 1.0 to 5.0.
g / m 2, it is particularly preferably 1.5 to 4.0 g / m 2.

【0124】本発明で用いられる支持体としては、上記
のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板その
ままでも良いが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、
断熱性等の一層の改良のため、必要に応じて、特願20
00−65219号や特願2000−143387号に
記載される陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理、マ
イクロポアの封孔処理、および親水性化合物を含有する
水溶液に浸漬する表面親水化処理等を適宜選択して行う
ことができる。上記親水化処理のための好適な親水性化
合物としては、ポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を
もつ化合物、糖類化合物、クエン酸、アルカリ金属珪酸
塩、フッ化ジルコニウムカリウム、リン酸塩/無機フッ
素化合物等を挙げることができる。
As the support used in the present invention, a substrate having the above-mentioned surface treatment and having an anodized film may be used as it is.
For further improvement of heat insulation, etc., if necessary,
A process for enlarging micropores of an anodized film, a process for sealing micropores, and a process for hydrophilizing a surface immersed in an aqueous solution containing a hydrophilic compound, which are described in JP-A-00-65219 and Japanese Patent Application No. 2000-14387, are appropriately performed. You can choose to do it. Suitable hydrophilic compounds for the above-mentioned hydrophilic treatment include polyvinylphosphonic acid, compounds having a sulfonic acid group, saccharide compounds, citric acid, alkali metal silicates, potassium zirconium fluoride, phosphates / inorganic fluorine compounds, and the like. Can be mentioned.

【0125】本発明の支持体としてポリエステルフィル
ム等表面の親水性が不十分な支持体を用いる場合は、親
水層を塗布して表面を親水性にすることが望ましい。親
水層としては、特願2000−10810号に記載の、
ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタ
ン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バ
ナジウム、アンチモンおよび遷移金属から選択される少
なくとも一つの元素の酸化物または水酸化物のコロイド
を含有する塗布液を塗布してなる親水層が好ましい。中
でも、珪素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有す
る塗布液を塗布してなる親水層が好ましい。
When a support having insufficient surface hydrophilicity such as a polyester film is used as the support of the present invention, it is desirable to apply a hydrophilic layer to make the surface hydrophilic. As the hydrophilic layer, described in Japanese Patent Application No. 2000-10810,
Applying a coating liquid containing a colloid of an oxide or hydroxide of at least one element selected from beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony and transition metals. The hydrophilic layer formed is preferred. Among them, a hydrophilic layer formed by applying a coating solution containing a colloid of silicon oxide or hydroxide is preferred.

【0126】本発明においては、感熱層を塗布する前
に、必要に応じて、特願2000−143387号に記
載の、例えばホウ酸亜鉛等の水溶性金属塩のような無機
下塗層、または例えばカルボキシメチルセルロース、デ
キストリン、ポリアクリル酸等を含有する有機下塗層を
設けることができる。また、この下塗層には、前記光熱
変換剤を含有させてもよい。
In the present invention, before coating the heat-sensitive layer, if necessary, an inorganic undercoat layer such as a water-soluble metal salt such as zinc borate described in Japanese Patent Application No. 2000-143388, or For example, an organic undercoat layer containing carboxymethyl cellulose, dextrin, polyacrylic acid, or the like can be provided. The undercoat layer may contain the photothermal conversion agent.

【0127】本発明の平版印刷版用原板は熱により画像
形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直接画
像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン放電
灯等の高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光等が用
いられるが、波長700〜1200nmの赤外線を放射
する半導体レーザ、YAGレーザ等の固体高出力赤外線
レーザによる露光が好適である。
The lithographic printing plate precursor of the present invention forms an image by heat. Specifically, direct image-like recording with a thermal recording head or the like, scanning exposure with an infrared laser, high illuminance flash exposure such as a xenon discharge lamp, infrared lamp exposure, or the like is used. Semiconductors that emit infrared light with a wavelength of 700 to 1200 nm are used. Exposure with a solid-state high-output infrared laser such as a laser or a YAG laser is preferable.

【0128】画像露光された本発明の平版印刷版用原板
は、それ以上の処理なしに印刷機に装着し、インキと湿
し水を用いて通常の手順で印刷することができる。
The lithographic printing plate precursor of the present invention, which has been image-exposed, can be mounted on a printing press without any further treatment, and can be printed by an ordinary procedure using ink and fountain solution.

【0129】また、画像露光された本発明の平版印刷版
用原板は、湿し水を用いない簡易な平版印刷の方式とし
て、例えば、特公昭49−26844号公報、特公昭4
9−27124号公報、特公昭49−27125号公
報、特開昭53−36307号公報、特開昭53−36
308号公報、特公昭61−52867号公報、特開昭
58−2114844号公報、特開昭53−27803
号公報、特開昭53−29807号公報、特開昭54−
146110号公報、特開昭57−212274号公
報、特開昭58−37069号公報、特開昭54−10
6305号公報等に記載のエマルジョンインクを用いた
平版印刷も可能である。
The lithographic printing plate precursor of the present invention, which has been subjected to image exposure, can be prepared by a simple lithographic printing method using no dampening solution, for example, as described in JP-B-49-26844 and JP-B-Showa 4
9-27124, JP-B-49-27125, JP-A-53-36307, and JP-A-53-36.
No. 308, JP-B-61-52867, JP-A-58-2114844, JP-A-53-27803.
JP, JP-A-53-29807, JP-A-54-29807
146110, JP-A-57-212274, JP-A-58-37069, JP-A-54-10
Lithographic printing using the emulsion ink described in JP-A-6305 is also possible.

【0130】また、これらの平版印刷版用原板は、特許
第2938398号に記載されているように、印刷機シ
リンダー上に取りつけた後に、印刷機に搭載されたレー
ザーにより露光し、その後に機上現像することも可能で
ある。また、これらの平版印刷版用原板は、水または適
当な水溶液を現像液とする現像をした後、印刷に用いる
こともできる。
As described in Japanese Patent No. 2938398, these lithographic printing plate precursors are mounted on a cylinder of a printing press, then exposed by a laser mounted on the printing press, and thereafter exposed on a press. It is also possible to develop. These lithographic printing plate precursors can be used for printing after development using water or an appropriate aqueous solution as a developing solution.

【0131】[0131]

【実施例】以下に本発明を実施例によって更に具体的に
説明するが、勿論本発明の範囲は、これらによって限定
されるものではない。 〈ラジカル重合性基含有ポリマ−P−1の合成〉 (モノマーM−1合成)ヒドロキシエチルメタクリレー
ト:260.3gとテトラヒドロフラン1000ml溶
液に3−クロロプロピオン酸クロライド253.9gを
滴下し、反応させた。この液に水を加え、炭酸カリウム
で中和後、酢酸エチルで抽出し、抽出液から蒸留精製を
行った。(収率92%)
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which, of course, are not intended to limit the scope of the present invention. <Synthesis of Radical Polymerizable Group-Containing Polymer P-1> (Synthesis of Monomer M-1) To a solution of hydroxyethyl methacrylate: 260.3 g and 1,000 ml of tetrahydrofuran, 253.9 g of 3-chloropropionic acid chloride was dropped and reacted. Water was added to this solution, neutralized with potassium carbonate, extracted with ethyl acetate, and distilled and purified from the extract. (Yield 92%)

【0132】(ラジカル重合性基含有ポリマ−P−1の
合成)上記合成モノマ−M−1:68g、メタクリル
酸:7.9g、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル:140ml、開始剤V−65:0.5gの混合溶液
を、窒素雰囲気下、撹拌しながら70℃に昇温し、4時
間反応させた。冷却後、この液にプロピレングリコール
モノメチルエーテル500mlを追加し、トリエチルア
ミン:81gを加え挽挿しながら1時間反応させた。さ
らにこの液に濃塩酸1.0mlと水100mlを滴下し
ながら加えた。沈殿物を濾過、精製することでアクリロ
イル基含有ポリマ−P−1を得た。
(Synthesis of Polymer P-1 Containing Radical Polymerizable Group) The above-mentioned synthetic monomer M-1: 68 g, methacrylic acid: 7.9 g, propylene glycol monomethyl ether: 140 ml, initiator V-65: 0.5 g Was heated to 70 ° C. while stirring under a nitrogen atmosphere, and reacted for 4 hours. After cooling, 500 ml of propylene glycol monomethyl ether was added to this solution, and 81 g of triethylamine was added and reacted for 1 hour while grinding and cutting. Further, 1.0 ml of concentrated hydrochloric acid and 100 ml of water were added dropwise to this solution. The precipitate was filtered and purified to obtain an acryloyl group-containing polymer P-1.

【0133】(疎水性粒子分散液(1)の合成例)油相
成分として上記のポリマーP−1:1.7g、赤外線吸
収剤(本明細書記載のIR−24):0.31g、ラジ
カル発生剤(本明細書記載のI−69):0.3gおよ
びアニオン界面活性剤パイオニンA−41C(竹本油脂
製)0.1gをメチルエチルケトン6gおよび酢酸エチ
ル12gに溶解した後、水相成分のポリビニルアルコー
ル(クラレ(株)製PVA205)0.7%水溶液48
gに混合し、ホモジナイザーで15000rpmで10
分間乳化分散させた。その後400℃で3時間撹拌しな
がら、メチルエチルケトンおよび酢酸エチルを蒸発させ
た。得られた微粒子分散液の固形分濃度は5.53重量
%であった。また平均粒径は0.30μmであった。
(Synthesis Example of Hydrophobic Particle Dispersion (1)) As the oil phase component, 1.7 g of the polymer P-1 described above, 0.31 g of an infrared absorber (IR-24 described in this specification), and a radical Generator (I-69 described in this specification): 0.3 g and 0.1 g of anionic surfactant Pionin A-41C (manufactured by Takemoto Yushi) are dissolved in 6 g of methyl ethyl ketone and 12 g of ethyl acetate, and then the aqueous phase component polyvinyl is dissolved. Alcohol (Kuraray Co., Ltd. PVA205) 0.7% aqueous solution 48
g at 10 g at 15000 rpm with a homogenizer.
It was emulsified and dispersed for minutes. Thereafter, while stirring at 400 ° C. for 3 hours, methyl ethyl ketone and ethyl acetate were evaporated. The solid content concentration of the obtained fine particle dispersion was 5.53% by weight. The average particle size was 0.30 μm.

【0134】(疎水性粒子分散液(2)の合成例)前記
疎水性粒子分散液(1)の合成例中のラジカル発生剤を
I−69からT−1に変更した以外は、同様の処方によ
り、疎水性粒子分散液(2)を得た。得られた微粒子分
散液の固形分濃度は5.5重量%であった。また平均粒
径は0.34μmであつた。
(Synthesis Example of Hydrophobic Particle Dispersion (2)) The same formulation as in the synthesis example of Hydrophobic Particle Dispersion (1) except that the radical generator was changed from I-69 to T-1. Thereby, a hydrophobic particle dispersion liquid (2) was obtained. The solid content concentration of the obtained fine particle dispersion was 5.5% by weight. The average particle size was 0.34 μm.

【0135】(疎水性粒子分散夜(3)の合成例)前記
疎水性粒子分散液(1)の合成例中のラジカル発生剤を
I−69からT−15に変更した以外は同様の処方によ
り、疎水性粒子分散液(3)を得た。得られた微粒子分
散液の固形分濃度は5.49重量%であった。また平均
粒径は0.32μmであった。
(Synthesis Example of Hydrophobic Particle Dispersion Night (3)) The same formulation was used except that the radical generator in the synthesis example of the hydrophobic particle dispersion liquid (1) was changed from I-69 to T-15. Thus, a hydrophobic particle dispersion (3) was obtained. The solid content concentration of the obtained fine particle dispersion was 5.49% by weight. The average particle size was 0.32 μm.

【0136】(疎水性粒子分散液(4)の合成例)油相
成分としてアリルメタクリレート/メタクリル酸(共重
合比70/30、重量平均分子量:15,000)1.
2g、赤外線吸収染料(本明細書記載のIR−24):
0.31g、トリス(メタクリロイルオキシエチル)イ
ソシアヌレート:0.5g、ラジカル発生剤(本明細書
記載のI−69)0.3gおよびアニオン界面活性剤パ
イオニンA−41C(竹本油脂製)0.1g、メチルエ
チルケトン6g、酢酸エチル12gに溶解した後、水相
成分のホリビニルアルコール(クラレ(株)製PVA2
05)0.7%水溶液48gに混合し、ホモジナイザー
で15000rpmで10分間乳化分散させた。その後
40℃で3時間撹拌しながら、メチルエチルケトンおよ
び酢酸エチルを蒸発させた。得られた微粒子分散液の固
形分濃度は5.47%であった。また平均粒径は0.3
5μmであった。
(Synthesis Example of Hydrophobic Particle Dispersion (4)) Allyl methacrylate / methacrylic acid (copolymerization ratio 70/30, weight average molecular weight: 15,000) as an oil phase component
2 g, infrared absorbing dye (IR-24 as described herein):
0.31 g, tris (methacryloyloxyethyl) isocyanurate: 0.5 g, radical generator (I-69 described in this specification) 0.3 g, and anionic surfactant Pionin A-41C (manufactured by Takemoto Yushi) 0.1 g , 6 g of methyl ethyl ketone and 12 g of ethyl acetate, and then an aqueous phase component of polyvinyl alcohol (PVA2 manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
05) The mixture was mixed with 48 g of a 0.7% aqueous solution, and emulsified and dispersed with a homogenizer at 15000 rpm for 10 minutes. Thereafter, while stirring at 40 ° C. for 3 hours, methyl ethyl ketone and ethyl acetate were evaporated. The solid content concentration of the obtained fine particle dispersion was 5.47%. The average particle size is 0.3
It was 5 μm.

【0137】(疎水性粒子分散液(5)の合成例)油相
成分として上記のポリマーP−1:2g、赤外線吸収剤
(本明細書記載のIR−24):0.31g、およびア
ニオン界面活性剤パイオニンA−41C(竹本油脂製)
0.1gをメチルエチルケトン6gおよび酢酸エチル1
2gに溶解した後、水相成分のポリビニルアルコール
(クラレ(株)製:PVA205)0.7%水溶液48
gに混合し、ホモジナイザーで15000rpmで10
分間乳化分散させた。その後40℃で3時間撹拌しなが
ら、メチルエチルケトンおよび酢酸エチルを蒸発させ
た。得られた微粒子分散液の固形分濃度は5.42重量
%であった。また平均粒径は0.30μmであった。
(Synthesis Example of Hydrophobic Particle Dispersion (5)) As the oil phase component, 2 g of the polymer P-1 described above, 0.31 g of an infrared absorbent (IR-24 described in the present specification): 0.31 g, and an anionic interface Activator Pionin A-41C (manufactured by Takemoto Yushi)
0.1 g of methyl ethyl ketone 6 g and ethyl acetate 1
After dissolving in 2 g, a 0.7% aqueous solution 48 of an aqueous phase component of polyvinyl alcohol (PVA205 manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
g at 10 g at 15000 rpm with a homogenizer.
It was emulsified and dispersed for minutes. Thereafter, while stirring at 40 ° C. for 3 hours, methyl ethyl ketone and ethyl acetate were evaporated. The solid content concentration of the obtained fine particle dispersion was 5.42% by weight. The average particle size was 0.30 μm.

【0138】(疎水性粒子分散液(6)の合成例)メチ
ルメタクリレート100g、水237g、界面活性剤X
L−102F(ライオン(株)製4.7%水溶液)10g
を三口フラスコに入れ、窒素を注入しながら、80℃に
昇温した。その後、約30分攪拌後、K228を1g
添加し、80℃で6時間乳化重合を行い、粒径約0.1
μm、固形分濃度30%のポリメチルメタクリレート粒
子分散液を得た。
(Synthesis Example of Hydrophobic Particle Dispersion (6)) 100 g of methyl methacrylate, 237 g of water, surfactant X
L-102F (4.7% aqueous solution manufactured by Lion Corporation) 10 g
Was put into a three-necked flask, and the temperature was raised to 80 ° C. while injecting nitrogen. Then, after stirring for about 30 minutes, 1 g of K 2 S 2 O 8 was added.
And emulsion polymerization was carried out at 80 ° C. for 6 hours.
A polymethyl methacrylate particle dispersion having a μm of 30% solids concentration was obtained.

【0139】(マイクロカプセル分散液(1)の合成
例)油相成分としてトリメチロールプロパンとキシリレ
ンジイソシアナートとの付加体の50%酢酸エチル溶液
(武田薬品工業製タケネートD−110N、マクロカプ
セル壁材):24g、ペンタエリスリトールテトラアク
リレート(日本化薬製KAYARAD A−TMM
T):17.5g、赤外線吸収色素(本明細書記載のI
R−24):5g、ラジカル発生剤(本明細書記載のI
−69):5g、パイオニンA41C:0.1gをメチ
ルエチルケトン30g、酢酸エチル60gに溶解した。
水相成分としてPVA205の4%水溶液120gを調
製した。油相成分及び水相成分をホモジナイザーを用い
て10000rpmで10分間乳化した。その後、蒸留
水を200g添加し、室温で30分さらに40℃で3時
間撹拌した。得られたマイクロカプセル液の固形分濃度
は12.0重量%であり、平均粒径は0.35μmであ
った。
(Synthesis Example of Microcapsule Dispersion (1)) A 50% ethyl acetate solution of an adduct of trimethylolpropane and xylylenediisocyanate as an oil phase component (Takenate D-110N manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd., macrocapsule wall) Material): 24 g, pentaerythritol tetraacrylate (KAYARAD A-TMM manufactured by Nippon Kayaku)
T): 17.5 g, infrared absorbing dye (I described in this specification)
R-24): 5 g, radical generator (I described in this specification)
-69): 5 g and pionin A41C: 0.1 g were dissolved in 30 g of methyl ethyl ketone and 60 g of ethyl acetate.
As the aqueous phase component, 120 g of a 4% aqueous solution of PVA205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were emulsified at 10,000 rpm for 10 minutes using a homogenizer. Thereafter, 200 g of distilled water was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and further at 40 ° C. for 3 hours. The solid content concentration of the obtained microcapsule solution was 12.0% by weight, and the average particle size was 0.35 μm.

【0140】(マイクロカプセル分散液(2)の合成
例)油相成分としてトリメチロールプロパンとキシリレ
ンジイソシアナートとの付加体の50%酢酸エチル溶液
(武田薬品工業製タケネートD−110N、マクロカプ
セル壁材):24g、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート(日本化薬製KAYARAD DPHA):
17.5g、赤外線吸収色素(本明細書記載のIR−2
4)5g、ラジカル発生剤(本明細書記載のT−15)
5g、パィオニンA41C:0.1gをメチルエチルケ
トン30g、酢酸エチル60gに溶解した。水相成分と
してPVA205の4%水溶液120gを調製した。油
相成分及び水相成分をホモジナイザーを用いて1000
0rpmで10分間乳化した。その後水を200g添加
し、室温で30分さらに40℃で3時間撹拌した。得ら
れたマイクロカプセル液の固形分濃度は12.3重量%
であり、平均粒径は0.33μmであった。
(Synthesis Example of Microcapsule Dispersion (2)) A 50% ethyl acetate solution of an adduct of trimethylolpropane and xylylene diisocyanate as an oil phase component (Takeda Pharmaceutical Industries Takenate D-110N, macrocapsule wall) Material): 24 g, dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA manufactured by Nippon Kayaku):
17.5 g of an infrared absorbing dye (IR-2 described in this specification)
4) 5 g, radical generator (T-15 described in this specification)
5 g and pionin A41C: 0.1 g were dissolved in 30 g of methyl ethyl ketone and 60 g of ethyl acetate. As the aqueous phase component, 120 g of a 4% aqueous solution of PVA205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were separated using a homogenizer to 1000
The mixture was emulsified at 0 rpm for 10 minutes. Thereafter, 200 g of water was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and further at 40 ° C. for 3 hours. The solid concentration of the obtained microcapsule liquid is 12.3% by weight.
And the average particle size was 0.33 μm.

【0141】(マイクロカプセル分散液(3)の合成
例)油相成分としてトリメチロールプロパンとキシリレ
ンジイソシアナートとの付加体の50%酢酸エチル溶液
(武田薬品工業製タケネートD−110N、マクロカプ
セル壁材):24g、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート(日本化薬製KAYARAD DPHA)2
2.5g、赤外線吸収色素(本明細書記載のIR−2
4)5g、パイオニンA41C、0.1gをメチルエチ
ルケトン30g、酢酸エチル60gに溶解した。水相成
分としてPVA205の4%水溶液120gを調製し
た。油相成分及び水相成分をホモジナイザーを用いて1
0000rpmで10分間乳化した。その後水を200
g添加し、室温で30分さらに40℃で3時間撹拌し
た。得られたマイクロカプセル液の固形分濃度は12.
4重量%であり、平均粒径は0.30μmであった。
(Synthesis Example of Microcapsule Dispersion Liquid (3)) A 50% ethyl acetate solution of an adduct of trimethylolpropane and xylylene diisocyanate as an oil phase component (Takenate D-110N manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd., macrocapsule wall) Material): 24 g, dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA manufactured by Nippon Kayaku) 2
2.5 g of an infrared absorbing dye (IR-2 described in this specification)
4) 5 g, pionin A41C and 0.1 g were dissolved in 30 g of methyl ethyl ketone and 60 g of ethyl acetate. As the aqueous phase component, 120 g of a 4% aqueous solution of PVA205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component are separated using a homogenizer.
The mixture was emulsified at 0000 rpm for 10 minutes. Then add 200 water
g was added and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and at 40 ° C. for 3 hours. 11. The solid content concentration of the obtained microcapsule liquid is 12.
4% by weight, and the average particle size was 0.30 μm.

【0142】(マイクロカプセル分散液(4)の合成
例)油相成分としてトリメチロールプロパンとキシリレ
ンジイソシアナートとの付加体の50%酢酸エチル溶液
(武田薬品工業製タケネートD−110N、マクロカプ
セル壁材):24g、ペンタエリスリトールテトラアク
リレート(日本化薬製、A−TMMT)17.5g、ラ
ジカル発生剤(本明細書記載のI−59)10g、パイ
オニンA41C、0.1gをメチルエチルケトン30
g、酢酸エチル60gに溶解した。水相成分としてPV
A205の4%水溶液120gを調製した。油相成分及
び水相成分をホモジナイザーを用いて10000rpm
で10分間乳化した。その後水を200g添加し、室温
で30分さらに40℃で3時間撹拌した。得られたマイ
クロカプセル液の固形分濃度は12.3重量%であり、
平均粒径は0.34μmであった。
(Synthesis Example of Microcapsule Dispersion (4)) A 50% ethyl acetate solution of an adduct of trimethylolpropane and xylylene diisocyanate as an oil phase component (Takenate D-110N manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd., macrocapsule wall) Material): 24 g, 17.5 g of pentaerythritol tetraacrylate (A-TMMT, manufactured by Nippon Kayaku), 10 g of radical generator (I-59 described in this specification), 0.1 g of pionin A41C, and 0.1 g of methyl ethyl ketone 30
g, 60 g of ethyl acetate. PV as water phase component
120 g of a 4% aqueous solution of A205 was prepared. The oil phase component and the water phase component were separated using a homogenizer at 10,000 rpm.
For 10 minutes. Thereafter, 200 g of water was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and further at 40 ° C. for 3 hours. The solid content concentration of the obtained microcapsule liquid was 12.3% by weight,
The average particle size was 0.34 μm.

【0143】(支持体の製造例)99.5%以上のアル
ミニウムと、Fe 0.30%、Si 0.10%、Ti
0.02%、Cu 0.013%を含むJIS A105
0合金の溶湯を清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処
理には、溶湯中の水素などの不要なガスを除去するため
に脱ガス処理し、セラミックチューブフィルタ処理をお
こなった。鋳造法はDC鋳造法で行った。凝固した板厚
500mmの鋳塊を表面から10mm面削し、金属間化
合物が粗大化してしまわないように550℃で10時間
均質化処理を行った。 次いで、400℃で熱間圧延
し、連続焼鈍炉中で500℃60秒中間焼鈍した後、冷
間圧延を行って、板圧0.30mmのアルミニウム圧延
板とした。圧延ロールの粗さを制御することにより、冷
間圧延後の中心線平均表面粗さRaを0.2μmに制御
した。その後、平面性を向上させるためにテンションレ
ベラーにかけた。
(Production Example of Support) 99.5% or more of aluminum, 0.30% of Fe, 0.10% of Si,
JIS A105 containing 0.02% and 0.013% Cu
The molten alloy of alloy No. 0 was subjected to a cleaning treatment and cast. In the cleaning treatment, a degassing treatment was performed to remove unnecessary gas such as hydrogen in the molten metal, and a ceramic tube filter treatment was performed. The casting was performed by DC casting. The solidified ingot having a thickness of 500 mm was chamfered from the surface by 10 mm, and homogenized at 550 ° C. for 10 hours to prevent the intermetallic compound from becoming coarse. Next, after hot rolling at 400 ° C. and intermediate annealing in a continuous annealing furnace at 500 ° C. for 60 seconds, cold rolling was performed to obtain a rolled aluminum sheet having a sheet pressure of 0.30 mm. The center line average surface roughness Ra after cold rolling was controlled to 0.2 μm by controlling the roughness of the rolling roll. Then, it was subjected to a tension leveler to improve the flatness.

【0144】次に平版印刷版支持体とするための表面処
理を行った。まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去
するため10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒
間脱脂処理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間
中和、スマット除去処理を行った。
Next, a surface treatment for forming a lithographic printing plate support was performed. First, in order to remove the rolling oil on the surface of the aluminum plate, a degreasing treatment was performed with a 10% aqueous sodium aluminate solution at 50 ° C. for 30 seconds, and a 30% sulfuric acid aqueous solution was neutralized at 50 ° C. for 30 seconds, and a smut removal treatment was performed.

【0145】次いで支持体と画像形成層の密着性を良好
にし、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表
面を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。1
%の硝酸と0.5%の硝酸アルミを含有する水溶液を4
5℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間
接給電セルにより電流密度20A/dm2、デューティ
ー比1:1の交番波形でアノード側電気量240C/d
2を与えることで電解砂目立てを行った。その後10
%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間エッチング
処理を行い、30%%硫酸水溶液で50℃30秒間中
和、スマット除去処理を行った。
Then, in order to improve the adhesion between the support and the image forming layer and to provide water retention to the non-image area, a so-called graining treatment was performed to roughen the surface of the support. 1
Aqueous solution containing 4% nitric acid and 0.5% aluminum nitrate
While maintaining the temperature at 5 ° C. and flowing the aluminum web into the aqueous solution, the anode-side electric quantity 240 C / d with an alternating waveform having a current density of 20 A / dm 2 and a duty ratio of 1: 1 by the indirect power supply cell.
Electrolytic graining was performed by giving m 2 . Then 10
Etching was performed with a 50% aqueous solution of sodium aluminate at 50 ° C. for 30 seconds, and neutralization and smut removal were performed with a 30% aqueous solution of sulfuric acid at 50 ° C. for 30 seconds.

【0146】さらに耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上
させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形
成させた。電解質として硫酸20%水溶液を35℃で用
い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電
セルにより14A/dm2の直流で電解処理を行うこと
で2.5g/m2の陽極酸化皮膜を作成した。この後印
刷版非画像部としての親水性を確保するため、シリケー
ト処理を行った。処理は3号珪酸ソーダ1.5%水溶液
を70℃に保ちアルミウェブの接触時間が15秒となる
よう通搬し、さらに水洗した。Siの付着量は10mg
/m2であった。以上のように作製した支持体(1)の
中心線表面粗さRaは0.25μmであった。
In order to further improve abrasion resistance, chemical resistance and water retention, an oxide film was formed on the support by anodic oxidation. An anodic oxide film of 2.5 g / m 2 is obtained by performing an electrolytic treatment with a direct current of 14 A / dm 2 by an indirect power supply cell while carrying an aluminum web through the electrolyte using a 20% aqueous solution of sulfuric acid at 35 ° C. as an electrolyte. It was created. Thereafter, a silicate treatment was performed to ensure hydrophilicity as a non-image portion of the printing plate. For the treatment, a 1.5% aqueous solution of sodium silicate No. 3 was maintained at 70 ° C., passed through the aluminum web so that the contact time was 15 seconds, and further washed with water. The amount of Si attached is 10mg
/ M 2 . The center line surface roughness Ra of the support (1) produced as described above was 0.25 μm.

【0147】〔実施例1〜4〕上記製造例で得た支持体
上に、合成例の疎水性粒子分散液(1)〜(4)それぞ
れ、バー塗布し、オーブンで50℃、120秒の条件で
乾燥し、画像形成層の乾燥塗布量0.8g/m2の平版
印刷版用原版を作製した。
[Examples 1 to 4] The hydrophobic particle dispersions (1) to (4) of the synthesis examples were respectively coated with a bar on the support obtained in the above production example, and were heated in an oven at 50 ° C for 120 seconds. The resultant was dried under the conditions to prepare a lithographic printing plate precursor having a dry coating amount of the image forming layer of 0.8 g / m 2 .

【0148】〔実施例5〕実施例1で使用した支持体と
同じ支持体上に、下記画像形成層塗布液(1)を調液
し、バー塗布し、オーブンで50℃、120秒の条件で
乾燥し、画像形成層の乾燥塗布量0.8g/m2の平版
印刷版用原版を作製した。
Example 5 The following image forming layer coating solution (1) was prepared on the same support as that used in Example 1, applied with a bar, and heated in an oven at 50 ° C. for 120 seconds. To prepare a lithographic printing plate precursor having a dry coating amount of the image forming layer of 0.8 g / m 2 .

【0149】 [画像形成層塗布液(1)] 疎水性粒子分散液(1) 20g A−600(新中村化学工業(株)製アクリレートモノマー) 0.2g 蒸留水 4.0g[Image Forming Layer Coating Solution (1)] Hydrophobic Particle Dispersion (1) 20 g A-600 (Acrylate monomer manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.2 g Distilled water 4.0 g

【0150】〔実施例6〕実施例1で使用した支持体と
同じ支持体上に、下記画像形成層塗布液(2)を調液
し、バー塗布し、オーブンで50℃、120秒の条件で
乾燥し、画像形成層の乾燥塗布量0.8g/m2の平版
印刷版用原版を作製した。
Example 6 The following image forming layer coating solution (2) was prepared on the same support as that used in Example 1, applied with a bar, and heated in an oven at 50 ° C. for 120 seconds. To prepare a lithographic printing plate precursor having a dry coating amount of the image forming layer of 0.8 g / m 2 .

【0151】 [画像形成層塗布液(2)] 疎水性粒子分散液(5) 20g ラジカル開始剤(本明細書記載のI−87) 0.15g 蒸留水 3.11g[Image forming layer coating liquid (2)] Hydrophobic particle dispersion liquid (5) 20 g Radical initiator (I-87 described in this specification) 0.15 g Distilled water 3.11 g

【0152】〔実施例7〕実施例1で使用した支持体と
同じ支持体上に、下記画像形成層塗布液(3)を調液
し、バー塗布し、オーブンで50℃120秒の条件で乾
燥し、画像形成層の乾燥塗布量0.8g/m2の平版印
刷版用原版を作製した。
Example 7 On the same support as used in Example 1, the following image forming layer coating solution (3) was prepared, coated with a bar, and placed in an oven at 50 ° C. for 120 seconds. After drying, a lithographic printing plate precursor having a dry coating amount of the image forming layer of 0.8 g / m 2 was prepared.

【0153】 [画像形成層塗布液(3)] 疎水性粒子分散液(6) 1.67g ポリアクリル酸(重量平均分子量25000)4%水溶液 2.5g ラジカル開始剤(本明細書記載のI−87) 0.15g A−600(新中村化学工業(株)製アクリレートモノマー) 0.15g 光熱変換剤(本明細書記載のIR−10) 0.10g 蒸留水 14.2g[Image Forming Layer Coating Solution (3)] Hydrophobic Particle Dispersion (6) 1.67 g Polyacrylic acid (weight average molecular weight 25000) 4% aqueous solution 2.5 g Radical initiator (I- described in the present specification) 87) 0.15 g A-600 (acrylate monomer manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.15 g Photothermal conversion agent (IR-10 described in this specification) 0.10 g Distilled water 14.2 g

【0154】〔実施例8〕実施例1で使用した支持体と
同じ支持体上に、下記画像形成層塗布液(4)を調液
し、バー塗布し、オーブンで50℃、120秒の条件で
乾燥し、画像形成層の乾燥塗布量0.8g/m2の平版
印刷版用原版を作製した。
Example 8 On the same support as used in Example 1, the following image forming layer coating solution (4) was prepared, coated with a bar, and heated in an oven at 50 ° C. for 120 seconds. To prepare a lithographic printing plate precursor having a dry coating amount of the image forming layer of 0.8 g / m 2 .

【0155】 [画像形成層塗布液(4)] マイクロカプセル分散液(1) 5.0g プロピレングリコールモノメチルエーテル 1.1g 蒸留水 5.26g[Image Forming Layer Coating Solution (4)] Microcapsule Dispersion Solution (1) 5.0 g Propylene glycol monomethyl ether 1.1 g Distilled water 5.26 g

【0156】〔実施例9〕突施例8の画像形成層塗布液
(4)のマイクロカプセル分散夜(1)をマイクロカプ
セル分散液(2)に変更した以外は、同処方で画像形成
層塗布液(5)を調液し、同じ塗布条件で塗布を行い、
画像形成層の乾燥塗布量0.8g/m2の平版印刷版用
原版を作製した。
Example 9 Application of the image forming layer was carried out in the same manner as in Example 8, except that the microcapsule dispersion night (1) of the coating solution (4) of the image forming layer was changed to the microcapsule dispersion (2). Liquid (5) was prepared, and coated under the same coating conditions.
A lithographic printing plate precursor having a dry coating amount of the image forming layer of 0.8 g / m 2 was prepared.

【0157】〔実施例10〕実施例1で使用した支持体
上に、下記画像形成層塗布液(6)を調液し、バー塗布
し、オーブンで50℃、120秒の条件で乾燥し、画像
形成層の乾燥塗布量0.8g/m2の平版印刷版用原版
を作製した。
Example 10 The following image forming layer coating solution (6) was prepared on the support used in Example 1, applied to a bar, and dried in an oven at 50 ° C. for 120 seconds. A lithographic printing plate precursor having a dry coating amount of the image forming layer of 0.8 g / m 2 was prepared.

【0158】 [画像形成層塗布液(6)] マイクロカプセル分散液(3) 10g ラジカル開始剤(本明細書記載のI−87) 0.20g プロピレングリコールモノメチルエーテル 2.8g 蒸留水 14g[Image forming layer coating liquid (6)] Microcapsule dispersion liquid (3) 10 g Radical initiator (I-87 described in this specification) 0.20 g Propylene glycol monomethyl ether 2.8 g Distilled water 14 g

【0159】〔実施例11〕実施例1で使用した支持体
上に、下記画像形成層塗布液(7)を調液し、バー塗布
し、オーブンで50℃、120秒の条件で乾燥し、画像
形成層の乾燥塗布量0.8g/m2の平版印刷版用原版
を作製した。
Example 11 The following image forming layer coating solution (7) was prepared on the support used in Example 1, applied with a bar, and dried in an oven at 50 ° C. for 120 seconds. A lithographic printing plate precursor having a dry coating amount of the image forming layer of 0.8 g / m 2 was prepared.

【0160】 [画像形成層塗布液(7)] マイクロカプセル分散液(1) 10g プロピレングリコールモノメチルエーテル 1.1g 蒸留水 5.26g[Image Forming Layer Coating Solution (7)] Microcapsule Dispersion Solution (1) 10 g Propylene glycol monomethyl ether 1.1 g Distilled water 5.26 g

【0161】〔比較例1〕実施例1で使用した支持体と
同じ文持体上に、疎水性微粒子分散液(5)をバー塗布
し、オーブンで50℃、120秒の条件で乾燥し、画像
形成層の乾燥塗布量0.8g/m2の平版印刷版用原版
を作製した。
[Comparative Example 1] A hydrophobic fine particle dispersion (5) was coated on the same support as the support used in Example 1 with a bar and dried in an oven at 50 ° C for 120 seconds. A lithographic printing plate precursor having a dry coating amount of the image forming layer of 0.8 g / m 2 was prepared.

【0162】〔比較例2〕実施例1で使用した支持体上
に、下記画像形成層塗布液(8)を調液し、バー塗布
し、オーブンで50℃120秒の条件で乾燥し、画像形
成層の乾燥塗布量0.8g/m2の平版印刷版用原版を
作製した。
[Comparative Example 2] The following image forming layer coating solution (8) was prepared on the support used in Example 1, coated with a bar, and dried in an oven at 50 ° C for 120 seconds. A lithographic printing plate precursor having a dry coating amount of the forming layer of 0.8 g / m 2 was prepared.

【0163】 [画像形成層塗布液(8)] マイクロカプセル分散液(3) 10g プロピレングリコールモノメチルエーテル 2.2g 蒸留水 10.3g[Image Forming Layer Coating Solution (8)] Microcapsule Dispersion Solution (3) 10 g Propylene glycol monomethyl ether 2.2 g Distilled water 10.3 g

【0164】〔比較例3〕実施例1で使用した支持体上
に、下記画像形成層塗布液(9)を調液し、バー塗布
し、オーブンで50℃120秒の条件で乾燥し、画像形
成層の乾燥塗布量0.8g/m2の平版印刷版用原版を
作製した。
Comparative Example 3 The following image forming layer coating solution (9) was prepared on the support used in Example 1, applied with a bar, and dried in an oven at 50 ° C. for 120 seconds. A lithographic printing plate precursor having a dry coating amount of the forming layer of 0.8 g / m 2 was prepared.

【0165】 [画像形成層塗布液(9)] 疎水性粒子分散液(6) 16.7g ポリアクリル酸(重量平均分子量25000)4%水溶液 25.0g 光熱変換剤(本明細書記載のIR−10) 1.0g 蒸留水 17.8g[Image Forming Layer Coating Solution (9)] Hydrophobic Particle Dispersion Solution (6) 16.7 g Polyacrylic acid (weight average molecular weight 25000) 4% aqueous solution 25.0 g Light-to-heat converting agent (IR- 10) 1.0 g distilled water 17.8 g

【0166】〔比較例4〕実施例1で使用した支持体上
に、下記画像形成層塗布液(10)を調液し、バー塗布
し、オーブンで50℃120秒の条件で乾燥し、画像形
成層の乾燥塗布量0.8g/m2の平版印刷版用原版を
作製した。
[Comparative Example 4] The following image forming layer coating solution (10) was prepared on the support used in Example 1, coated with a bar, dried in an oven at 50 ° C for 120 seconds, and dried. A lithographic printing plate precursor having a dry coating amount of the forming layer of 0.8 g / m 2 was prepared.

【0167】 [画像形成層塗布液(10)] 疎水性粒子分散夜(6) 3.34g ポリアクリル酸(重量平均分子量25000)4%水溶液 5g 光熱変換剤(本明細書記載のIR−10) 0.2g A−600(新中村化学工業(株)製アクリレートモノマー) 0.3g 蒸留水 23.1g[Image Forming Layer Coating Solution (10)] Hydrophobic Particle Dispersion Night (6) 3.34 g Polyacrylic acid (weight average molecular weight 25000) 4% aqueous solution 5 g Photothermal conversion agent (IR-10 described in this specification) 0.2 g A-600 (acrylate monomer manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.3 g distilled water 23.1 g

【0168】このようにして得られた機上現像可能な平
版印刷版用原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザー
を搭載したクレオ社製トレンドセッター3244VFS
にて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、版面
エネルギー100mj/cm 2、解像度2400dpi
の条件で露光した後、処理することなく、ハイデルベル
グ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取付け、湿し水
を供給した後、インキを供給し、さらに紙を供給し、印
刷を行った。いずれの印刷原版も機上現像することがで
き、印刷可能だった。各原版で得られた印刷可能枚数
(耐刷枚数;耐刷性指標)を評価した。上記画像形成層
含有組成物および耐刷性の評価結果を表8に示す。
The thus obtained on-press developable flat plate
Water-cooled 40W infrared semiconductor laser
Equipped with the Creo Trendsetter 3244VFS
, Output 9W, outer drum rotation speed 210rpm, plate surface
Energy 100mj / cm Two, Resolution 2400 dpi
After exposure under the conditions of
Attached to the cylinder of the SOR-M printing machine
After supplying ink, supply ink, supply paper, and print
Printing was done. Both printing masters can be developed on-press.
I was able to print. Number of printable sheets obtained with each master
(Number of printing plates; printing durability index) was evaluated. The above image forming layer
Table 8 shows the composition and the printing durability evaluation results.

【0169】[0169]

【表8】 [Table 8]

【0170】表8の結果から明らかなように、本発明の
実施例1〜10の各平版印刷版用原版は機上現像性が良
く耐刷性が優れ、それぞれ満足すべき結果を得たが、比
較例1〜4の各平版印刷版用原版は耐刷性において不満
足な結果であった。
As is clear from the results shown in Table 8, the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 10 of the present invention had good on-press developability and excellent printing durability, and satisfactory results were obtained. The lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 1 to 4 were unsatisfactory in terms of printing durability.

【0171】[0171]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の平版印刷
版用原版は、デジタル信号に基づいた走査露光により画
像を形成できる。露光により、画像形成層こ含まれる疎
水性粒子が少なくとも部分的に融着したり、あるいはマ
イクロカプセル内から疎水性物質が放出さえることで画
像形成層が疎水化される。同時に、重合開始剤から発生
したラジカルによりラジカル重合性基を有する化合物が
架橋することにより、画像部に強固な皮膜を形成する。
このことにより機上現像性を損なわずに、画像部の皮膜
強度が向上する。このことにより、良好な機上現像性を
保持し、感度および耐刷性の優れた極めて高い実用性を
有する平版印刷版用原版を得るという効果を奏する。
As described above, the lithographic printing plate precursor according to the present invention can form an image by scanning exposure based on a digital signal. By the exposure, the hydrophobic particles contained in the image forming layer are at least partially fused, or the hydrophobic substance is released from the inside of the microcapsule, thereby rendering the image forming layer hydrophobic. At the same time, a compound having a radical polymerizable group is crosslinked by radicals generated from the polymerization initiator, thereby forming a strong film on the image area.
This improves the film strength of the image area without impairing the on-press developability. This has the effect of maintaining a good on-press developability and obtaining a lithographic printing plate precursor having extremely high practicality with excellent sensitivity and printing durability.

フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA01 AA12 AB03 AC08 AD01 BC13 BC42 BH02 CA28 CA39 CA48 CC11 DA10 FA10 2H096 AA06 BA05 BA20 EA04 EA23 2H114 AA04 AA22 AA24 BA01 DA47 DA48 DA49 DA52 EA03 Continued on front page F term (reference) 2H025 AA01 AA12 AB03 AC08 AD01 BC13 BC42 BH02 CA28 CA39 CA48 CC11 DA10 FA10 2H096 AA06 BA05 BA20 EA04 EA23 2H114 AA04 AA22 AA24 BA01 DA47 DA48 DA49 DA52 EA03

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 親水性支持体上に、(A)疎水性粒子お
よび疎水性化合物を内包するマイクロカプセルから選ば
れた少なくとも一つの成分、(B)ボレート系化合物お
よびトリアジン系化合物より選択される重合開始剤、
(C)光熱変換剤および(D)ラジカル重合性基を有す
る化合物を含有する画像形成層を有することを特徴とす
る平版印刷版用原版。
1. A hydrophilic support, wherein (A) at least one component selected from hydrophobic particles and a microcapsule containing a hydrophobic compound, and (B) a borate-based compound and a triazine-based compound. Polymerization initiator,
A lithographic printing plate precursor comprising: an image forming layer containing (C) a photothermal conversion agent and (D) a compound having a radical polymerizable group.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006068963A (en) * 2004-08-31 2006-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd Polymerizable composition, hydrophilic film using this composition and original lithographic printing plate
JP2006088384A (en) * 2004-09-21 2006-04-06 Fuji Photo Film Co Ltd Lithographic printing form original plate
JP2006264300A (en) * 2005-02-28 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd Lithographic printing form original plate and lithographic printing method using the same
JP2007007905A (en) * 2005-06-28 2007-01-18 Fujifilm Holdings Corp Original lithographic printing plate and lithographic printing method using this original plate
JP2007515307A (en) * 2003-07-17 2007-06-14 コダック ポリクロウム グラフィクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Apparatus and method for processing imaging materials
US7429445B1 (en) 2007-03-07 2008-09-30 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements and methods of use
JP2011148315A (en) * 2004-08-24 2011-08-04 Fujifilm Corp Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP2011213124A (en) * 2003-09-24 2011-10-27 Fujifilm Corp Lithographic printing method

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007515307A (en) * 2003-07-17 2007-06-14 コダック ポリクロウム グラフィクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Apparatus and method for processing imaging materials
JP2011213124A (en) * 2003-09-24 2011-10-27 Fujifilm Corp Lithographic printing method
JP2011148315A (en) * 2004-08-24 2011-08-04 Fujifilm Corp Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP2006068963A (en) * 2004-08-31 2006-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd Polymerizable composition, hydrophilic film using this composition and original lithographic printing plate
JP2006088384A (en) * 2004-09-21 2006-04-06 Fuji Photo Film Co Ltd Lithographic printing form original plate
JP2006264300A (en) * 2005-02-28 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd Lithographic printing form original plate and lithographic printing method using the same
JP2007007905A (en) * 2005-06-28 2007-01-18 Fujifilm Holdings Corp Original lithographic printing plate and lithographic printing method using this original plate
US7429445B1 (en) 2007-03-07 2008-09-30 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements and methods of use

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