JP2002298448A - 原盤作製装置及び方法、並びにディスク作製装置及び方法 - Google Patents

原盤作製装置及び方法、並びにディスク作製装置及び方法

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JP2002298448A
JP2002298448A JP2001099767A JP2001099767A JP2002298448A JP 2002298448 A JP2002298448 A JP 2002298448A JP 2001099767 A JP2001099767 A JP 2001099767A JP 2001099767 A JP2001099767 A JP 2001099767A JP 2002298448 A JP2002298448 A JP 2002298448A
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Yasuyuki Hieda
泰之 稗田
Katsuyuki Naito
勝之 内藤
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Toshiba Corp
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Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 スピンドルモーターの軸ブレの幅に制限を受
けずに、1MTPIのトラック密度を可能にすること。 【解決手段】ディスク61の表面に、複数のサブトラッ
クパターンが互いに平行に配列してなる記録トラック帯
パターンをディスク61の中心軸周りにスパイラル状に
作製するディスク作製装置であって、ディスク61を保
持するディスク保持手段62と、ディスク61を中心軸
周りに回転させるディスク回転手段63と、複数の前記
サブトラックパターンをそれぞれ描画する複数のプロー
ブを一列に配列してなるヘッド64と、ヘッド64をそ
の長手方向がディスク61の動径方向に沿うように保持
可能なヘッド保持手段65と、ヘッド64をヘッド保持
手段65により保持した状態でヘッド64をディスク6
1の動径方向に移動するヘッド移動手段66とを具備す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、原盤作製装置及び
方法、並びにディスク作製装置及び方法に係わり、特に
Tbits/inch2の高密度記録が可能な原盤作製
装置及び方法、並びにディスク作製装置及び方法に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】パソコンなど情報機器の飛躍的な機能向
上により、ユーザーの扱う情報は著しく増大してきてい
る。このような状況により、従来より飛躍的に記録密度
の高い情報記録再生装置に対する期待は高まるばかりで
ある。
【0003】記録密度を高めるためには、記録マークを
小さくするとともに、記録トラックの間隔を小さくしな
くてはならない。現在、狭トラック化に対しては、書き
込みヘッドの微細化により進められている。しかし、記
録密度が1Tbits/inch2レベルになってくる
と、書き込みヘッドの微細化だけでは狭トラック化は実
現できなくなってくる。
【0004】1Tbits/inch2の記録密度で
は、トラック間隔とマーク間隔を等しいとした場合、ト
ラック密度は1MTPI、つまりトラックの間隔は25
nmという高いトラック密度が必要となる。このような
高いトラック密度になると、HDDやDVDなどのディ
スク状記録媒体の場合には、ディスクを駆動するスピン
ドルモーターの軸ブレの大きさが問題になってくる。光
ディスクの原盤記録などに使われるエアスピンドルモー
ターでは、非同期の軸ブレは10nm以下と非常に小さ
いが、それでも1MTPIという高いトラック密度では
軸ブレの大きさはトラック間隔と同程度となってしま
う。
【0005】狭トラック化を実現する方法の一つとし
て、あらかじめトラッキング用のサーボパターンを物理
的な凹凸パターンとして、ディスクに作りこんでおく方
法が提案されている(特開平6−111502)。この
方法では、もともと真円度の高いトラックが形成されて
いるため、従来のHDDに比較するとトラック密度の向
上を可能とするものの、やはりサーボパターンの描画の
際にはスピンドルモーターを用いるために、軸ブレによ
るトラックの干渉は免れない。
【0006】以上のように、スピンドルモーターを用い
た従来の情報記録再生装置では、1MTPI程度の高い
トラック密度のトラックを書こうとすると、軸ブレによ
り隣り合うトラックが重なってしまう場所ができてしま
うという問題がある。これにより、従来の技術により作
製された記録トラックでは、記録密度がTbits/i
nch2レベルになると、記録の書き込みや読み出しの
際に正しくトラッキングすることが不可能となる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、Tb
its/inch2の記録密度を実現するためには、高
いトラック密度を可能にする技術が必要となるが、従来
の方法では、スピンドルモーターの軸ブレのためにトラ
ック密度の向上には限界がある。
【0008】本発明は上記実情に鑑みてなされたもので
あり、通常のスピンドルモーターを用いても、トラック
の高密度化を可能にする原盤作製装置及び方法、並びに
ディスク作製装置及び方法を提供することを目的とす
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】(構成)上記課題を解決
するために本発明の第1は、ディスク原盤の表面に、複
数のサブトラックパターンが互いに平行に配列してなる
記録トラック帯パターンを前記ディスク原盤の中心軸周
りにスパイラル状に作製する原盤作製装置であって、前
記ディスク原盤を保持する原盤保持手段と、前記ディス
ク原盤を中心軸周りに回転させる原盤回転手段と、複数
の前記サブトラックパターンをそれぞれ描画する複数の
プローブを所定の間隔に配列してなるヘッドと、前記デ
ィスク原盤の動径方向に対して前記所定の間隔に前記複
数のプローブが配列するように前記ヘッドを保持可能な
ヘッド保持手段と、前記ヘッドをヘッド保持手段により
保持した状態で当該ヘッドを前記ディスク原盤の動径方
向に移動するヘッド移動手段とを具備することを特徴と
する原盤作製装置を提供する。
【0010】また本発明の第2は、情報を記録するディ
スクの表面に、複数のサブトラックパターンが互いに平
行に配列してなる記録トラック帯パターンを前記ディス
クの中心軸周りにスパイラル状に作製するディスク作製
装置であって、前記ディスクを保持するディスク保持手
段と、前記ディスクを中心軸周りに回転させるディスク
回転手段と、複数の前記サブトラックパターンをそれぞ
れ描画する複数のプローブを所定の間隔に配列してなる
ヘッドと、前記ディスクの動径方向に対して前記所定の
間隔に前記複数のプローブが配列するように前記ヘッド
を保持可能なヘッド保持手段と、前記ヘッドをヘッド保
持手段により保持した状態で当該ヘッドを前記ディスク
の動径方向に移動するヘッド移動手段とを具備すること
を特徴とするディスク作製装置を提供する。
【0011】また本発明の第3は、ディスク原盤の表面
に、複数のサブトラックパターンが互いに平行に配列し
てなる記録トラック帯パターンを前記ディスク原盤の中
心軸周りにスパイラル状に作製する原盤作製方法であっ
て、前記ディスク原盤を保持し、複数のプローブを所定
の間隔に配列してなるヘッドを前記ディスク原盤の動径
方向に対して前記所定の間隔に前記複数のプローブが配
列するように保持し、前記ディスク原盤を中心軸周りに
回転させ、前記ヘッドを保持した状態で当該ヘッドを前
記ディスク原盤の動径方向に移動しながら、前記複数の
プローブにより前記複数のサブトラックパターンをそれ
ぞれ描画することを特徴とする原盤作製方法を提供す
る。
【0012】また本発明の第4は、情報を記録するディ
スクの表面に、複数のサブトラックパターンが互いに平
行に配列してなる記録トラック帯パターンを前記ディス
クの中心軸周りにスパイラル状に作製するディスク作製
方法であって、前記ディスクを保持し、複数のプローブ
を所定の間隔に配列してなるヘッドを前記ディスクの動
径方向に対して前記所定の間隔に前記複数のプローブが
配列するように保持し、前記ディスクを中心軸周りに回
転させ、前記ヘッドを保持した状態で当該ヘッドを前記
ディスクの動径方向に移動しながら、前記複数のプロー
ブにより前記複数のサブトラックパターンをそれぞれ描
画することを特徴とするディスク作製方法を提供する。
【0013】上記した本発明の第1乃至第4のいずれに
おいても、以下の構成を備えることが望ましい。
【0014】(1)前記複数のプローブのそれぞれは近
接場光を発生するプローブであること。
【0015】(2)前記複数のプローブのそれぞれは電
子を放出するプローブであること。
【0016】なお、上記したようにディスク原盤を作製
した後に、当該ディスク原盤表面をレジストに直接押し
付けることで転写してレジストパターンを作製し、この
レジストパターンを用いて情報記録用のディスクの表面
を加工してディスクを作製することが可能である。ディ
スク原盤をレジストに転写する方法としては、ナノイン
プリント(S.Y.Chou et al. App
l.Phys.Lett.67,3114(199
5))といった方法が挙げられる。
【0017】(作用)まず第一に、複数のプローブを固
定したヘッドを用いて複数のトラックを一括して作成す
ることを特徴とする。複数の固定されたプローブを用い
ることによりトラック間隔はプローブを配置する間隔に
よって規定されることになり、それぞれのトラック同士
は平行に保たれる。従って、複数のプローブにより複数
のトラックを一括作成する方法は、トラック作成の際に
ディスクを駆動するスピンドルモーターの軸ブレによる
トラックの重なりは原理的に起こらなくすることができ
る。
【0018】第二に、本発明のトラック作成方法では、
作成するトラックの形を、HDDなどで使われているよう
な同心円状ではなく、光ディスクで使われているような
スパイラル形状とする。同心円状のトラックを形成しよ
うとした場合には、トラックの1周分書き始めと1周分
描き終わりの位置を各トラックで合わせなければならな
い。しかしこれに関しても、スピンドルモーターの軸ブ
レ幅以上に精密にトラックの継ぎ目を合わせることは困
難である。従って、Tbits/inch2レベルの記
録密度になった場合には同心円状のトラックを形成する
ことは実際上不可能である。スパイラル形状のトラック
にした場合には、トラックの継ぎ目を合せることが必要
ではなくなるのでこのような問題も回避することができ
る。
【0019】第三に、ヘッドをスパイラル状にディスク
状記録媒体もしくは記録媒体用原盤に相対移動させなが
ら複数のお互いに平行なスパイラル形状のトラックを作
成する際に、半径方向のスパイラルの間隔を調整する点
である。スパイラル形状のトラックにおいて半径方向に
隣接するトラック帯(複数のサブトラックを有する。)
を考えた場合、内側のトラック帯の最も外側のサブトラ
ックと外側のトラック帯の最も内側のサブトラックとの
間の間隔は、ディスク状記録媒体もしくは記録媒体用原
盤を回転駆動するスピンドルモーターの非同期軸ぶれの
大きさより大きくなるように設定される。かかる設定条
件の下でヘッドをディスクの半径方向に移動させながら
トラックを作成することを特徴とする。これは、複数の
トラックからなるスパイラル同士が重ならないようにす
るためである。このようにすると、内側のトラック帯の
最も外側のサブトラックと外側のトラック帯の最も内側
のサブトラックとの間の間隔は、スピンドルモーターの
軸ブレにより制限されることになるが、本発明ではスパ
イラル形状のトラック内部では複数の非常に高密度に並
んだサブトラックが形成されるために、スパイラルの間
隔を広げても平均的なトラック密度を実質的に下げるこ
とにはならない。
【0020】スパイラルの形状を以上のようにすること
により、Tbits/inch2という高い記録密度で
あるにもかかわらず、一般に使用されているスピンドル
モーターを用いてもトラックが重なることなく、記録ト
ラックを形成することができる。図1は、本発明で作成
されるトラックの形状の模式図を示す。1a、1b、1
cはそれぞれ内側のトラック帯のサブトラックである。
一方、2a、2b、2cはそれぞれ外側のトラック帯の
サブトラックである。Wtはサブトラック1a、1b、
1c、2a、2b、2cのうち互いに隣接するものの間
のトラック間隔を示し、Wsは外側のトラック帯の中心
と内側のトラック帯の中心との間の間隔を示す。
【0021】本発明によれば、複数の固定されたプロー
ブにより一括してサブトラックが形成されるため、スピ
ンドルモーターの軸フレの最大幅ΔWの値が大きい場合
でも、内側のトラック帯の最も外側のサブトラック1c
と外側のトラック帯の最も内側のサブトラック2aとの
間の間隔を十分大きく設定することにより、隣接するト
ラック間の干渉をなくしてトラック密度を高めることが
できる。具体的には描画する際に、ヘッドを動径方向に
一定速度で移動させ、ディスクが一回転する間に移動す
る距離、つまりWsが、Ws>Wt×(サブトラックの
本数−1)+ΔWなる関係式を満たすように速度を調整
すればよい。
【0022】本発明では、記録トラックを形成する記録
媒体は、磁気媒体、光記録媒体等であり、光ディスク用
の原盤に対しても適用可能であるがそれらに限られるも
のではない。磁気記録媒体を用いた場合には、トラック
描画用プローブはHDDの書き込みヘッドなどを用いる
ことができる。光ディスク原盤加工などには、ディスク
基板上に塗布されたレジスト膜に対して、近接場光プロ
ーブからなるトラック描画用プローブとしてのヘッドを
用いることができる。また、レジストとして電子線レジ
ストを用いれば、微小な電子エミッタ−からなるトラッ
ク描画用プローブを用いることも可能である。
【0023】磁気記録媒体を用いた場合、Tbits/
inch2レベルの記録密度では、記録マークが熱的に
不安定になり、記録を保持できなくなるが、それを防ぐ
ために、一つ一つの記録ビットをパターニングして磁気
的に分離してしまい安定化させる方法、いわゆるパター
ンドメディアが提案されている。Tbits/inch
2の記録密度のパターンドメディアでは、ナノメーター
スケールのパターンを作製するコストを下げることが重
要となるが、その手段としてナノメータースケールの凹
凸原盤をレジストに押し付けパターン形成するナノイン
プリントと呼ばれる方法が提案されている。ナノインプ
リント用の原盤を本発明による方法により作製すること
も可能である。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面を参照しつつ詳細に説明する。
【0025】(第1の実施形態)本実施形態では光ディ
スクのL/G(ランド/グルーブ)形成を行った例につ
いて述べる。
【0026】図2に本実施形態で用いたヘッドの構造を
示す。本ヘッドは複数の近接場光プローブからなるヘッ
ドである。近接場光プローブの作成方法は次のとおりで
ある。即ち、Si基板(100面)11を異方性エッチ
ングすることによりSi基板11の表面11bに微小開
口部11cを形成し、Si基板11の表面(開口裏面)
11a側から透過防止膜としてアルミニウム膜12を形
成した。アルミニウム膜12を形成した後でも微小開口
部11cが残存するように、形成するアルミニウム膜の
膜厚を調整する。次に、微小開口部11cに光を集光す
るためにテーパー状のくぼみ部分にボールレンズ13を
設置した。なお、ここで用いた近接場光プローブアレイ
の作成に関しては、興梠らによって開示されている方法
(特開平11―110793)を利用した。微小開口部11cの
大きさはそれぞれ20nm×20nmとした。プローブは1
00個一列に、ディスクの動径方向に対する間隔が40
nmとなるように斜めに配列して形成した。
【0027】図6は、本発明のディスク作製装置の構成
を示す図である。図6において、61はディスク、62
はディスクを保持するディスク保持手段、63はディス
ク61を中心軸周りに回転させるディスク回転手段、6
4は上記の如く作製したヘッド、64aは上記の如く作
成した近接場プローブ、65はディスクの動径方向に対
して上記プローブが40nmの一定間隔に配列するよう
にヘッド64を保持可能なヘッド保持手段、66はヘッ
ド64をヘッド保持手段65により保持した状態でヘッ
ド64をディスク61の動径方向に移動するヘッド移動
手段である。
【0028】トラックを形成するディスク61としては
光リソグラフィー用ネガティブレジストをスピンコート
したガラスディスクを用いた。本実施形態では、ヘッド
64はスライダ(ディスク保持手段62)に取り付け浮
上走行させた。浮上量は20nmとした。露光は、光源
としてアルゴンイオンレーザーを用いた。ヘッド64の
プローブアレイ全体に均一に当たるようにした。ヘッド
はエアスライダにより半径方向に5mm/minで均一
のスピードで移動させた。なお、ディスクの回転速度は
1000rpmとした。このような条件では、サブトラ
ック領域の幅が40nm×99個=3960nmとな
り、またトラック帯の間隔Wsは、5mm/min÷1
000rpm=5000nmとなり、内側のトラック帯
の最も外側のサブトラックと外側のトラック帯の最も内
側のサブトラックとの間の間隔は、スピンドルモーター
の軸ぶれより十分大きな値となっている。
【0029】以上にようにして露光されたレジストを現
像し、反応性イオンエッチングによりガラス基板にパタ
ーンを転写し、レジストを除去した。この時のガラス表
面を原子間力顕微鏡(AFM)で観察した際の観察像を
図3に示す。ちょうど、スパイラルの隙間の部分の像を
得ることができた。幅20nmのランドが30nm間隔
で100列並んだL/G/構造が、スパイラル間の隙間
500nmで作成されていることが確認された。
【0030】(第2の実施形態)本実施形態では磁性体
からなるパターンドメディアを作成するためのナノイン
プリント原盤の作成を行った例について述べる。
【0031】図4には本実施形態で用いたヘッドの構造
を示す。微小な電子放出用電極からなるプローブであ
る。このプローブの作製方法は以下の通りである。Si
基板(100面)21を異方性エッチングすることによ
り微小開口部24を形成した後、Si基板21の開口裏
面側から酸化膜22を200nm形成し、その後電子放
出用電極としてチタン膜23をテーパー状のくぼみ部分
に蒸着した。その後、微小開口部24側から反応性イオ
ンエッチングを行い、チタン電極23の先端を露呈させ
た。微小開口部24の大きさはそれぞれ20nm×20nm
とした。プローブは100個一列に、ディスクの動径方
向に対する間隔が40nmとなるように斜めに配列して
形成した。
【0032】本実施形態の原盤作製装置としては図6と
同様の装置が用いられる。ここで電子線レジストとして
アモルファスSiをディスク表面に形成した。ヘッドを
スライダに固定し、ディスクに接触させ、ディスクを1
000rpmで回転させた。浮上量は20nmとした。
ヘッドはエアスライダにより半径方向に5mm/min
の均一のスピードで移動させながら、チタン電極23と
アモルファスシリコンに対して−10V,パルス幅10
nsecのパルス電圧を印加し、アモルファスシリコン
膜を局所的に陽極酸化した。
【0033】次に、フッ酸溶液により酸化された部分を
除去した。図5は、以上のように作成したナノインプリ
ント原盤の記録トラックのAFM像を示す図である。こ
のように作成した原盤を、磁気記録媒体上にレジストを
塗布したディスクに高圧で押しつけてレジストパターン
を作成した後、イオンミリングしたところ、直径20n
mの磁性体ドットからなる記録トラックが形成された。
【0034】(第3の実施形態)本実施形態では、垂直
磁気媒体に対して直接パターニングすることによりパタ
ーンドメディアを作成した例について述べる。ヘッドは
第2の実施形態で示したものと同じものを用いた。ディ
スクとしては、ガラス基板上に磁気媒体材料を製膜した
上に電子線用ネガティブレジストをスピンコートしたも
のを用いた。
【0035】本実施形態では、ヘッドは第2の実施形態
と同様に浮上走行させ、浮上量は20nmとした。ヘッ
ドはエアスライダにより半径方向に5mm/minの均
一のスピードで移動させた。ディスクは第2の実施形態
と同様に回転させた。回転速度は1000rpmとし
た。チタン電極23から電子をフィールドエミッション
させてレジストを露光させた。チタン電極23にはー1
00V、パルス幅10nsecのパルス電圧を印加し
た。露光後レジストを現像し、イオンミリングにより磁
気媒体材料にパターンを転写した。この試料をAFMで
観察したところ、直径20nmの磁性体ドットが形成さ
れているのが確認された。
【0036】なお本発明は上記実施形態に限定されるこ
とはない。例えば、先端が先鋭な複数のプローブからな
るヘッドを構成し、レジストを塗布したガラスディスク
に直接物理的に接触させることでレジストに溝を形成す
るような方法であっても良い。
【0037】その他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で
種々変形して実施することが可能である。
【0038】
【発明の効果】本発明によれば、スピンドルモーターの
軸ブレによるトラックの重なりをなくし、Tbits/
inch2の記録密度を達成するのに必要な高いトラッ
ク密度を達成することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明により作成される記録トラックの特徴
を説明する概略図。
【図2】 本発明の第1の実施形態において使用された
ヘッドの断面図。
【図3】 本発明の第1の実施形態において作成された
L/G構造のAFM像を示す図。
【図4】 本発明の第2の実施形態において使用された
ヘッドの断面図。
【図5】 本発明の第1の実施形態において作成された
磁性体ドット列のAFM像を示す図。
【図6】 本発明の第1の実施形態に係るディスク作製
装置の構造を示す概略図。
【符号の説明】
11…Si基板(100面) 11a…Si基板11の表面(開口裏面) 11b…Si基板11の表面 11c…微小開口部 12…アルミニウム膜 13…ボールレンズ 21…Si基板(100面) 22…酸化膜 23…チタン膜 24…微小開口部 61…ディスク 62…ディスク保持手段 63…ディスク回転手段 64…ヘッド 65…ヘッド保持手段 66…ヘッド移動手段
フロントページの続き Fターム(参考) 5D090 AA01 BB01 BB16 FF11 FF22 GG11 KK13 KK14 KK17 5D119 AA22 BA01 BB09 CA06 CA09 CA12 DA01 EB12 EC44 JA42 5D121 AA02 BB01 BB38 BB40 JJ09 JJ10

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ディスク原盤の表面に、複数のサブトラ
    ックパターンが互いに平行に配列してなる記録トラック
    帯パターンを前記ディスク原盤の中心軸周りにスパイラ
    ル状に作製する原盤作製装置であって、前記ディスク原
    盤を保持する原盤保持手段と、前記ディスク原盤を中心
    軸周りに回転させる原盤回転手段と、複数の前記サブト
    ラックパターンをそれぞれ描画する複数のプローブを所
    定の間隔に配列してなるヘッドと、前記ディスク原盤の
    動径方向に対して前記所定の間隔に前記複数のプローブ
    が配列するように前記ヘッドを保持可能なヘッド保持手
    段と、前記ヘッドをヘッド保持手段により保持した状態
    で当該ヘッドを前記ディスク原盤の動径方向に移動する
    ヘッド移動手段とを具備することを特徴とする原盤作製
    装置。
  2. 【請求項2】 前記複数のプローブのそれぞれは近接場
    光を発生するプローブであることを特徴とする請求項1
    記載の原盤作製装置。
  3. 【請求項3】 前記複数のプローブのそれぞれは電子を
    放出するプローブであることを特徴とする請求項1記載
    の原盤作製装置。
  4. 【請求項4】 情報を記録するディスクの表面に、複数
    のサブトラックパターンが互いに平行に配列してなる記
    録トラック帯パターンを前記ディスクの中心軸周りにス
    パイラル状に作製するディスク作製装置であって、前記
    ディスクを保持するディスク保持手段と、前記ディスク
    を中心軸周りに回転させるディスク回転手段と、複数の
    前記サブトラックパターンをそれぞれ描画する複数のプ
    ローブを所定の間隔に配列してなるヘッドと、前記ディ
    スクの動径方向に対して前記所定の間隔に前記複数のプ
    ローブが配列するように前記ヘッドを保持可能なヘッド
    保持手段と、前記ヘッドをヘッド保持手段により保持し
    た状態で当該ヘッドを前記ディスクの動径方向に移動す
    るヘッド移動手段とを具備することを特徴とするディス
    ク作製装置。
  5. 【請求項5】 前記複数のプローブのそれぞれは近接場
    光を発生するプローブであることを特徴とする請求項4
    記載のディスク作製装置。
  6. 【請求項6】 前記複数のプローブのそれぞれは電子を
    放出するプローブであることを特徴とする請求項4記載
    のディスク作製装置。
  7. 【請求項7】 ディスク原盤の表面に、複数のサブトラ
    ックパターンが互いに平行に配列してなる記録トラック
    帯パターンを前記ディスク原盤の中心軸周りにスパイラ
    ル状に作製する原盤作製方法であって、前記ディスク原
    盤を保持し、複数のプローブを所定の間隔に配列してな
    るヘッドを前記ディスク原盤の動径方向に対して前記所
    定の間隔に前記複数のプローブが配列するように保持
    し、前記ディスク原盤を中心軸周りに回転させ、前記ヘ
    ッドを保持した状態で当該ヘッドを前記ディスク原盤の
    動径方向に移動しながら、前記複数のプローブにより前
    記複数のサブトラックパターンをそれぞれ描画すること
    を特徴とする原盤作製方法。
  8. 【請求項8】 前記複数のプローブのそれぞれは近接場
    光を発生するプローブであることを特徴とする請求項7
    記載の原盤作製方法。
  9. 【請求項9】 前記複数のプローブのそれぞれは電子を
    放出するプローブであることを特徴とする請求項7記載
    の原盤作製方法。
  10. 【請求項10】 情報を記録するディスクの表面に、複
    数のサブトラックパターンが互いに平行に配列してなる
    記録トラック帯パターンを前記ディスクの中心軸周りに
    スパイラル状に作製するディスク作製方法であって、前
    記ディスクを保持し、複数のプローブを所定の間隔に配
    列してなるヘッドを前記ディスクの動径方向に対して前
    記所定の間隔に前記複数のプローブが配列するように保
    持し、前記ディスクを中心軸周りに回転させ、前記ヘッ
    ドを保持した状態で当該ヘッドを前記ディスクの動径方
    向に移動しながら、前記複数のプローブにより前記複数
    のサブトラックパターンをそれぞれ描画することを特徴
    とするディスク作製方法。
  11. 【請求項11】 前記複数のプローブのそれぞれは近接
    場光を発生するプローブであることを特徴とする請求項
    10記載のディスク作製方法。
  12. 【請求項12】 前記複数のプローブのそれぞれは電子
    を放出するプローブであることを特徴とする請求項10
    記載のディスク作製方法。
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