JP2002298340A

JP2002298340A - 転写装置及び転写方法

Info

Publication number: JP2002298340A
Application number: JP2001095025A
Authority: JP
Inventors: Katsuyuki Naito; 勝之内藤
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 2001-03-29
Filing date: 2001-03-29
Publication date: 2002-10-11

Abstract

(57)【要約】【課題】円形原盤と基板間に均一に圧力を印加するこ
とができる転写装置及び転写方法を提供すること。【解決手段】微小パターンをロールプレスにより基板
１３に転写する転写装置であって、微細情報パターンを
有する円形原盤１２を、原盤１２の中心が列間でずれる
ように複数列で張り付けたドラム１１を有することを特
徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、転写装置及び転写
方法に係わり、特にナノメートルレベルの精度で微細構
造や磁気情報の転写を可能とする転写装置及び転写方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】光の回折限界を越えて、微細なリソグラ
フィーを実現するいわゆる超解像を利用する方法として
近接場光を利用する方法が知られている。これには、微
小な開口を有するプローブを用いる方法（特開平７−１
０６２２９）や、よりスループットを上げるためにマス
クをレジストに極めて近距離に置く方法（特開平８−１
７９４９３）や密着させる方法がある。これに対して、
光や電子線によるリソグラフィーではなくナノインプリ
ンティングと呼ばれる方法が新しいナノ加工技術として
提案されている。これはナノレベルで凹凸のある原盤を
基板上のレジストなどに押しつけて加工する方法であ
る。

【０００３】一方、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）
は、ドライブの内部に記録媒体であるディスクが固定さ
れて、このディスクに対してデータの記録再生を実行す
るための磁気記録装置である。ＨＤＤは、ディスク上に
予め記録されたサーボ情報により、磁気ヘッドをディス
ク上の目標位置（目標トラック）に位置決めする制御を
行う。一般にサーボ情報は、ディスク上の円周方向に所
定の間隔を持って配置されるサーボ領域（サーボセク
タ）に記録される。また、サーボ領域は、ディスク上の
全トラックに対して半径方向に設けられている。

【０００４】このようなＨＤＤを製造する製造工程にお
いて、通常ではドライブ本体の筐体の内部にディスクと
ヘッドとが組み込まれた後に、サーボライタと称するサ
ーボ書き込み装置によりディスク上にサーボ情報が記録
される。ここでディスクはスピンドル機構に固定的に取
り付けられる。またヘッドはボイスコイルモータにより
駆動するヘッドアクチュエータに実装される。

【０００５】従来のサーボライタを使用してサーボ情報
を書き込む方法は、ヘッドを移動制御して、ディスク上
に設定される全トラックの各サーボ領域にサーボ情報を
順次記録するため、製造工程の中でも長時間を要する工
程の一つである。従って、サーボ情報の書き込み工程に
要する時間を短縮化することは、HDDの製造工程の効率
を向上させるために有効である。

【０００６】これを解決するための方法として、サーボ
情報を予め記録した原盤を用意し、この原盤を使用し
て、ドライブに組込むための基板にサーボ情報をコピー
する磁気転写方式を利用した方法が提案されている（例
えば特開平7−78337号公報を参照）。この磁気転写方式
では、原盤と基板とを密着させて、外部からバイアス磁
界を加えることにより、原盤の磁化情報を基板に転写す
る方法である。

【０００７】上記の原盤を用いてナノインプリンティン
グにより基板を加工する方法の欠点は、原盤と基板間に
均一な圧力をかけることが困難であり、そのため転写さ
れたパターンが不均一であったり、一部に応力に集中す
ることにより原盤や基板が破壊されたり傷が付きやすい
ことである。また転写後の原盤と基板の剥離が困難であ
り、剥離時にしばしば原盤や基板が破壊されたり傷が付
きやすいという欠点があった。

【０００８】これに対して、ローラープルスを用いる方
法が（H. Tan et al., J. Vac. Sci. Technol. B 16
(6), 3926(1998)）に開示されており、剥離が容易であ
る利点を有する。しかしながらこの方法では、ＨＤＤに
必要な円形パターンの転写においては圧力が均一に印加
することは困難である。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】前述したように、従来
のローラープレスによるナノインプリンティングでは、
原盤と基板間に均一な圧力をかけることが困難であり、
そのため転写されたパターンが不均一であったり、一部
に応力が集中することにより原盤や基板が破壊されたり
傷が付きやすい。

【００１０】本発明は上記実情に鑑みてなされたもので
あり、原盤と基板に均一に圧力を印加することができる
転写装置及び転写方法を提供するものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】（構成）前述した課題を
解決するために本発明は、微小パターンを有する原盤の
当該パターンをロールプレスにより被転写体に転写する
転写装置であって、側面に前記原盤が複数枚搭載され中
心軸周りに回転するドラムを備え、複数枚の前記原盤
は、前記ドラムの回転方向に沿って一列に当該ドラムを
取り囲んで搭載されるとともに、前記ドラムの中心軸に
平行な方向に複数列配列して搭載され、隣り合う列間で
再近接する２つの前記原盤の中心が前記ドラムの回転方
向に沿ってずれて配列されることを特徴とする転写装置
を提供する。

【００１２】かかる本発明の転写装置において、以下の
構成を備えることが好ましい。

【００１３】（１）前記原盤はｎ列前記ドラムに搭載さ
れ、同じ列内で隣り合う前記原盤の中心距離をｄとし
て、隣り合う列間で再近接する２つの前記原盤の中心が
前記ドラムの回転方向に沿って略ｄ／ｎずれて配列され
ること。

【００１４】（２）前記ドラムと前記被転写体間の相対
位置を検出して、その相対位置を調整するサーボ手段を
有すること。

【００１５】（３）前記被転写体に磁場を印加する手段
を備えること。

【００１６】（４）前記ドラムの前記中心軸に垂直な断
面形状が扇型であること。

【００１７】（５）前記原盤は円形であること。

【００１８】（６）前記ドラムの直径が円形の前記原盤
の直径以上であること。

【００１９】また本発明は、微小パターンを有する原盤
の当該パターンをロールプレスにより被転写体に転写す
る転写方法であって、側面に前記原盤が複数枚搭載され
中心軸周りに回転するドラムを用い、複数枚の前記原盤
は、前記ドラムの回転方向に沿って一列に当該ドラムを
取り囲んで保持するとともに、前記ドラムの中心軸に平
行な方向に複数列配列させ、かつ隣り合う列間で再近接
する２つの前記原盤の中心が前記ドラムの回転方向に沿
ってずれて配列させて保持し、前記ドラムを回転させな
がら前記被転写体に前記原盤の微小パターンを転写する
ことを特徴とする転写方法を提供するかかる本発明の転
写方法において、以下の構成を備えることが好ましい。

【００２０】（１）前記原盤をｎ列前記ドラムに保持
し、同じ列内で隣り合う前記原盤の中心距離をｄとし
て、隣り合う列間で再近接する２つの前記原盤の中心が
前記ドラムの回転方向に沿って略ｄ／ｎずれて配列させ
ることが好ましい。

【００２１】（２）ドラムと前記被転写体間の相対位置
を検出して、その相対位置を調整する工程を有するこ
と。

【００２２】（２）前記被転写体に磁場を印加する行程
を備えること。

【００２３】（３）前記被転写体から基板を切り抜く行
程を備えること。

【００２４】（作用）図７に示すように円形原盤を張り
付けた通常のローラプレス１１１によるインプリンティ
ング装置（転写装置）では、円形原盤１１２と被転写体
としての基板１１３間の接触面積が変化するため、原盤
に係る圧力が変化し、円形原盤の微小パターンを均一に
基板に転写することが困難である。

【００２５】一方、本発明の転写装置では、例えば、図
１で示すように微細情報パターンを有する円形原盤１２
を、原盤の中心が列間でずれるように複数列で張り付け
たドラムを有する。このようにすることにより、原盤と
基板との接触面積の変動を少なくすることができ、原盤
に係る圧力の変化が小さく、円形原盤の微小パターンを
均一に基板に転写することが可能となる。

【００２６】上記円形原盤は湾曲したローラプレスに張
り付けるため、屈曲性があるとともに、変形しない微小
パターン構造を有することが必要である。このためには
Ｎｉ、Ｗ等で作製されたフィルム状の原盤であることが
最も好ましい。

【００２７】上記基板としてはガラス板、金属板、プラ
スティック板などを用いることができる。基板上にレジ
スト膜や磁性体膜等が形成されている。

【００２８】本発明の転写装置では、例えば、列内の隣
合う円形原盤の中心距離をｄとして、ｎ列では隣接する
列で円形原盤の中心が略ｄ／ｎずれていることを特徴と
してもよい。このようにすることにより、図２で示すよ
うに原盤と基板との接触面積の変動を最も少なくするこ
とができ、原盤に係る圧力の変化が小さく、円形原盤の
微小パターンをさらに均一に基板に転写することが可能
となる。

【００２９】本発明の転写装置では、ドラムと基板の相
対位置を検出して、その相対位置を制御するサーボ手段
を有することを特徴としてもよい。これにより、ナノ構
造のパターンを正確に転写することが可能となる。ドラ
ムと基板の相対位置を検出する手段としては、静電容量
センサー、レーザー位置センサーなどが好ましい。

【００３０】本発明の転写装置では磁場を印加する手段
を有することを特徴としてもよい。磁気情報の転写の場
合には、その目的とするところはサーボ信号の基板（Ｈ
DDディスク）への転写である。ＨＤＤに使用されるディ
スクは、近年の高紀録密度化に伴って、表面粗さが例え
は20nm以下（グライドの高さ）の鏡面加工が要求されて
いる。一般に、高記録密度化の実現には、ヘッドとディ
スク表面間の間隔（スペーシング）の低減化が必要であ
る。このため、ディスクの表面は高度の鏡面性が要求さ
れている。したがって、転写時や剥離時に基板に傷がつ
くことは極力さける必要がある。そのため磁気転写にお
いては原盤は、特開平11-273070に示されるように平坦
化された方が好ましい。

【００３１】直流磁場もしくは交流磁場の印加により磁
気転写が可能となる。印加磁場の方向は転写する磁気信
号がトラックの長手方向か垂直方向かによって異なる。

【００３２】本発明の転写装置ではドラムが扇型である
ことを特徴としてもよい。すなわち扇型であれば、円形
原盤を張り付けた基板を扇形ドラムへの張り付けがより
容易になる。

【００３３】本発明の転写装置では、ドラムの直径が円
形原盤の直径以上であることを特徴としてもよい。円形
原盤の直径以上であれば、原盤の歪みが大きなくドラム
に設置することができる。しかしながらドラムの直径が
大きすぎると、必要な原盤の枚数が大きなる。好ましく
はドラムの直径が円形原盤の直径の１．５〜３倍であ
る。

【００３４】さらに本発明の転写装置では、円盤状に切
り抜く手段を有することを特徴としてもよい。切り抜く
手段としては金型による打ち抜き、レーザーによる切り
抜きなどがよい。切り抜く手段を有することにより、大
量に円盤を複製できるだけでなく、転写時に中心の合わ
せなどの必要がなくなる。

【００３５】本発明の転写方法は、例えば、情報に相当
するパターンを有する円形原盤を原盤の中心が列間でず
れるように複数列でドラムに保持する原盤保持行程と、
ドラムを回転させながら基板上にパターンを転写する行
程を具備することを特徴とする。

【００３６】このようにすることにより、原盤と基板と
の接触面積の変動を少なくすることができ、原盤に係る
圧力の変化が小さく、円形原盤の微小パターンを均一に
基板に転写することが可能となる。

【００３７】本発明の転写方法は、ドラムと基板の相対
位置を検出して、その相対位置を制御する工程を有する
ことを特徴としてもよい。これにより、ナノ構造のパタ
ーンを正確に転写することが可能となる本発明の転写方法はさらに、磁場を印加する工程を備え
ることを特徴としてもよい。これにより磁気転写を効率
良く行うことが可能となる。

【００３８】本発明の転写方法はさらに、切り抜く工程
を備えることを特徴としてもよい。切り抜く工程を有す
ることにより、大量に円盤を複製できるだけでなく、転
写時に中心の合わせなどの必要がなくなる。

【００３９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面を参照しつつ詳細に説明する。

【００４０】（第１の実施形態）図３は、本実施形態に
おける転写装置４０全体の構成図である。

【００４１】４１は直径４．５インチ、長さ１２インチ
のドラムで２．５インチ径のニッケル製円形原盤４２を
固定するための真空穴が開いている。ニッケル製円形原
盤４２にはピーク幅１００ｎｍ、底辺幅１１０ｎｍ、高
さ１００ｎｍの台形の凸部がスパイラル状に作製されて
いる。隣合う凸部と凸部の間隔は２００ｎｍである。４
３は基板を転送するためのローラー群、４４は対向のド
ラム、４５はドラムの位置を測定するための振動容量セ
ンサー、４６は基板の位置を確認するための光センサ
ー、４７は切り抜き用のレーザーである（図示せず）。
ドラムと基板の相対位置はセンサー４５、４６により検
出され、サーボ装置（図示せず）により制御されてい
る。

【００４２】ニッケル製円形原盤４２は３列でドラムに
張り付けられ、１列は各４枚、中心間距離は３．５イン
チである。列間の距離は３．５インチであり、隣接する
列で円形原盤の中心は１．１７インチずれている。

【００４３】ここで、膜厚２００ｎｍのポリメチルメタ
クリレート膜を塗布した厚さ０．７ｍｍのガラス基板４
８を、ロールを通してドラムに挟み込み、０．２ｃｍ／
ｓの速度で転写した。

【００４４】次に、切り抜き用のレーザー４７で円盤状
に転写部を切り抜き２．５インチ直径の転写円盤を得
た。

【００４５】ＡＦＭ（アトミックフォースマイクロ
スコープ）で測定したところ、ニッケル原盤４２の凹凸
パターンに対応した凹凸が転写パターンのずれ幅で約３
ｎｍ以下に収まっており、転写円盤上に均一に形成され
ていることがわかった。

【００４６】（比較例１）ニッケル製円形原盤４２は３
列でドラムに張り付けられ、１列は各４枚、中心間距離
は３．５インチである。列間の距離は３．５インチであ
り、隣接する列で円形原盤の中心がほぼずれていないこ
と以外は第１の実施形態と同様にして転写を行った。

【００４７】ＡＦＭ（アトミックフォースマイクロ
スコープ）で測定したところ、転写円盤４８上では原盤
と基板との接触面積が大きいところと、小さいところで
は転写パターン幅が約１０ｎｍ異なっており、不均一に
形成されていることがわかった。

【００４８】（第２の実施形態）まず、磁気転写につい
て、図４を参照しながら簡単に説明する。一方向に磁化
され平坦化された磁気転写原盤５１内にパターニングさ
れた強磁性材料によって発生する記録磁界により、パタ
ーン形状に対応した磁化パターンがガラス基板５２上の
磁性層５３に記録される。すなわち、原盤５１には、ト
ラッキング用サーボ信号、アドレス情報信号、再生クロ
ック信号等に対応するパターニングされた垂直磁化の強
磁性材料が形成され、前もって一方向の残留磁化５４を
与えておく。また、基板５２上の垂直磁性層５３にも一
方向の初期残留磁化５６を与えておく。励磁磁界５５を
磁化残留５４とは同方向に、また残留磁化５６とは反対
方向に印加し、５４に接した部分の磁化５６が反転し５
７になるように励起磁界５５の強さを調整する。これに
より原盤の磁気情報が基板に転写されプリフォーマット
記録される。

【００４９】図４では垂直方向の磁化を示したが、長手
方向の磁気転写を図５に示した。一方向に磁化され平坦
化された磁気転写原盤６１内にパターニングされた強磁
性材料によって発生する記録磁界により、パターン形状
に対応した磁化パターンがガラス基板６２上の磁性層６
３に記録される。すなわち、原盤６１には、トラッキン
グ用サーボ信号、アドレス情報信号、再生クロック信号
等に対応するパターニングされた長手磁化の強磁性材料
が形成され、前もって一方向の残留磁化６４を与えてお
く。また、基板６２上の長手磁性層６３にも一方向の初
期残留磁化６５を与えておく。励磁磁界６６を磁化残留
６４とは同方向に、また残留磁化６５とは反対方向に印
加し、６１に接しない部分の残留磁化６５が反転し６７
になるように励起磁界６６の強さを調整する。これによ
り原盤６１の磁気情報が基板６２上の磁性層６３に転写
されプリフォーマット記録される。

【００５０】以下に、本発明の本実施形態における磁気
転写について、図６および図７を参照しながら説明す
る。図６は本実施形態における磁気原盤７１の構成を示
す概略断面図である。

【００５１】７２はアルミニウム基板、７３は垂直磁化
強磁性材料、７４は酸化シリコン層、７５はアモルファ
スカーボン膜である。強磁性体のパターンは平均して２
００ｎｍ四方である。原盤７１は例えば、特開平11-273
070で開示された工程を経て形成される。強磁性体の材
料としては、Ni−Fe、Fe−Al−Si等の結晶材料、Co−Zr
−Nb等のCo系のアモルファス材料、Fe−Ta−N等のFe系
微結晶材料、Fe、Co、Fe−Co、Co-Cr、Co-Ni、Baフェラ
イト等が好ましい。磁性薄膜の形成方法としては、真空
蒸着法、イオンビームスパッタ法あるいは対向ターゲッ
トスパッタ法がある。

【００５２】図７は本実施形態における転写装置８０の
構成を示す概略図である。８１は直径４．５インチ、長
さ１２インチのドラムで２．５インチ径の円形原盤７１
を固定するための真空穴が開いている。８２はライン状
の磁気ヘッドでドラム内部にある。８３は基板を転送す
るためのローラー群、８４は対向のドラム、８５はドラ
ムの位置を測定するための振動容量センサー、８６は基
板の位置を確認するための光センサー、８７は切り抜き
用のレーザーである。ドラムと基板の相対位置はセンサ
ー８５、８６により検出され、サーボ装置（図示せず）
により制御されている。

【００５３】原盤７１は３列でドラムに張り付けられ、
１列は各４枚、中心間距離は３．５インチである。列間
の距離は３．５インチであり、隣接する列で円形原盤の
中心は１．１７インチずれている。

【００５４】ここで、垂直磁性膜を作製した厚さ０．７
ｍｍのガラス基板８８を、ロールを通してドラムに挟み
込み、磁気ヘッド８２で垂直磁界を与えながら０．２ｃ
ｍ／ｓの速度で転写した。次に、切り抜き用のレーザー
８７で円盤状に転写部を切り抜き２．５インチ直径の転
写円盤８８を得た。

【００５５】ＭＦＭ（マグネチックフォースマイク
ロスコープ）で測定したところ、原盤の磁気パターンに
対応した磁気パターンがふれ幅２０ｎｍ以下で転写円盤
上の磁性体層に均一に形成されていることがわかった。

【００５６】（比較例２）原盤７２は３列でドラムに張
り付けられ、１列は各４枚、中心間距離は３．５インチ
である。列間の距離は３．５インチであり、隣接する列
で円形原盤の中心がほぼずれていないこと以外は実施形
態２と同様にして転写を行った。

【００５７】ＭＦＭ（マグネチックフォースマイク
ロスコープ）で測定したところ、転写円盤上では原盤と
基板との接触面積が大きいところと、小さいところでは
転写パターン幅が約４０ｎｍ異なっており、不均一に転
写されていることがわかった。

【００５８】その他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で
種々変形して実施することが可能である。

【００５９】ＡＦＭ（アトミックフォースマイクロ
スコープ）で測定したところ、ニッケル原盤４２の凹凸
パターンに対応した凹凸が転写パターンのずれ幅で約３
ｎｍ以下に収まっており、転写円盤上に均一に形成され
ていることがわかった。

【００６０】なお、本発明は上記実施形態に限定される
ものではない。例えば、ＬＳＩ、光デバイス、磁気ヘッ
ドの製造など、ナノ加工が必要な場合に、安価で高精度
の製造を可能とするものである。

【００６１】その他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で
種々変形して実施することが可能である。

【００６２】

【発明の効果】本発明によれば、原盤と被転写体間に均
一に圧力を印加することができ、均一なパターン転写が
可能な転写装置及び転写方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の転写装置の一例を示す槻略図。

【図２】本発明の転写装置の他の例を示す槻略図。

【図３】本発明の第１の実施形態における転写装置の
構成を示す概略図。

【図４】本発明の第２の実施形態における垂直方向へ
の磁気転写の原理を示す概略図。

【図５】本発明の第２の実施形態における長手方向へ
の磁気転写の原理を示す概略図。

【図６】本発明の第２の実施形態における原盤の概略
断面図。

【図７】本発明の第２の実施形態における転写装置の
構成を示す概略図。

【図８】通常のロールプレスによる転写装置を示す槻
略図。

【符号の説明】

１１…ローラプレス１２…円形原盤１３…基板１４…転写パターン４０…第１の実施形態の転写装置４１…ドラム４２…ニッケル製円形原盤４３…ローラー群４４…対向ドラム４５…振動容量センサー４６…光センサー４７…切り抜き用レ−ザー５１…磁気転写原盤５２…ガラス基板５３…磁性層５４…残留磁化５５…励起磁界５６…初期残留磁化５７…転写された磁化６１…磁気転写原盤６２…ガラス基板６３…磁性層６４…残留磁化６５…初期残留磁化６６…励起磁界６７…転写された磁化７１…磁気転写原盤７２…アルミニウム基板７３…垂直磁化強磁性体７４…酸化シリコン層７５…アモルファスカーボン膜８０…第２の実施形態の転写装置８１…ドラム８２…磁気ヘッド８３…ローラー群８４…対向ドラム８５…振動容量センサー８６…光センサー８７…切り抜き用レ−ザー

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】微小パターンを有する原盤の当該パター
ンをロールプレスにより被転写体に転写する転写装置で
あって、側面に前記原盤が複数枚搭載され中心軸周りに
回転するドラムを備え、複数枚の前記原盤は、前記ドラ
ムの回転方向に沿って一列に当該ドラムを取り囲んで搭
載されるとともに、前記ドラムの中心軸に平行な方向に
複数列配列して搭載され、隣り合う列間で再近接する２
つの前記原盤の中心が前記ドラムの回転方向に沿ってず
れて配列されることを特徴とする転写装置。
【請求項２】前記原盤はｎ列前記ドラムに搭載され、
同じ列内で隣り合う前記原盤の中心距離をｄとして、隣
り合う列間で再近接する２つの前記原盤の中心が前記ド
ラムの回転方向に沿って略ｄ／ｎずれて配列されること
を特徴とする請求項１記載の転写装置。
【請求項３】前記ドラムと前記被転写体の相対位置を
検出して、その相対位置を調整するサーボ手段を有する
ことを特徴とする請求項１又は２記載の転写装置。
【請求項４】前記被転写体に磁場を印加する手段を備
えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載
の転写装置。
【請求項５】前記ドラムの前記中心軸に垂直な断面形
状が扇型であることを特徴とする請求項１乃至４のいず
れかに記載の転写装置。
【請求項６】前記原盤は円形であることを特徴とする
請求項１乃至５のいずれかに記載の転写装置。
【請求項７】前記ドラムの直径が円形の前記原盤の直
径以上であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれ
かに記載の転写装置。
【請求項８】微小パターンを有する原盤の当該パター
ンをロールプレスにより被転写体に転写する転写方法で
あって、側面に前記原盤が複数枚搭載され中心軸周りに
回転するドラムを用い、複数枚の前記原盤は、前記ドラ
ムの回転方向に沿って一列に当該ドラムを取り囲んで保
持するとともに、前記ドラムの中心軸に平行な方向に複
数列配列させ、かつ隣り合う列間で再近接する２つの前
記原盤の中心が前記ドラムの回転方向に沿ってずれて配
列させて保持し、前記ドラムを回転させながら前記被転
写体に前記原盤の微小パターンを転写することを特徴と
する転写方法。
【請求項９】前記原盤をｎ列前記ドラムに保持し、同
じ列内で隣り合う前記原盤の中心距離をｄとして、隣り
合う列間で再近接する２つの前記原盤の中心が前記ドラ
ムの回転方向に沿って略ｄ／ｎずれて配列させることを
特徴とする請求項８記載の転写方法。