JP2002287124A - Substrate for liquid crystal device, liquid crystal device, electronic appliance and method for manufacturing substrate for liquid crystal device - Google Patents

Substrate for liquid crystal device, liquid crystal device, electronic appliance and method for manufacturing substrate for liquid crystal device

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JP2002287124A
JP2002287124A JP2001091420A JP2001091420A JP2002287124A JP 2002287124 A JP2002287124 A JP 2002287124A JP 2001091420 A JP2001091420 A JP 2001091420A JP 2001091420 A JP2001091420 A JP 2001091420A JP 2002287124 A JP2002287124 A JP 2002287124A
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Japan
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liquid crystal
crystal device
substrate
photovoltaic cell
transparent conductive
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JP2001091420A
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Shinya Momose
信也 百瀬
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Seiko Epson Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate for a liquid crystal device prolonging operable time with a battery by utilizing external light. SOLUTION: The substrate for the liquid crystal device 10 is constructed by forming a photocell 20 on a projecting and recessing face 15 of a substrate 14, by forming a color filter 27 on the photo-electric cell 20 and by forming a transparent conductive film 28 on the color filter 27. The transparent conductive film 28 is optionally formed as pixel electrodes corresponding to respective pixels in a liquid crystal display and having active elements electrically connected thereto and the photocell is optionally formed corresponding to respective pixel electrodes.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光電池を備える液
晶装置用基板およびそれを用いた液晶装置ならびに液晶
装置用基板の製造方法に関する。
The present invention relates to a substrate for a liquid crystal device having a photovoltaic cell, a liquid crystal device using the same, and a method of manufacturing a substrate for a liquid crystal device.

【0002】[0002]

【背景技術および発明が解決しようとする課題】近年、
携帯電話、ノートパソコン、モバイルコンピュータ、モ
バイル型情報端末、ビデオカメラ、デジタルカメラとい
った携帯型の電子機器が非常に一般化してきている。こ
のような携帯型の電子機器は、少なくとも携帯時にはバ
ッテリー駆動となるため、充電することなく駆動できる
時間の長さが重要なポイントとなっている。
BACKGROUND OF THE INVENTION In recent years,
Portable electronic devices such as mobile phones, notebook computers, mobile computers, mobile information terminals, video cameras, and digital cameras have become very popular. Since such a portable electronic device is driven by a battery at least when it is carried, the length of time that can be driven without charging is an important point.

【0003】そこで、携帯型の電子機器には、バッテリ
ー駆動による駆動時間を長くするために、消費電力を抑
えるための様々な技術が盛り込まれている。表示装置と
して液晶装置を用いる点もそのひとつである。液晶装置
は、他の表示装置に比べると消費電力が小さい点を特徴
としているが、それにも拘わらず、携帯型の電子機器に
おける電力消費の大きな割合を占めている。したがっ
て、液晶装置における更なる低消費電力化が試みられて
いる。しかしながら、技術開発の各時点においては、液
晶装置の消費電力自体の低減には技術的に達成可能な限
界が存在する。
[0003] Therefore, various technologies for suppressing power consumption are incorporated in portable electronic devices in order to extend the driving time by battery driving. One of them is to use a liquid crystal device as a display device. Liquid crystal devices are characterized in that they consume less power than other display devices, but nevertheless account for a large proportion of power consumption in portable electronic devices. Therefore, further reduction in power consumption of the liquid crystal device has been attempted. However, at each point of technological development, there is a technically achievable limit in reducing the power consumption of the liquid crystal device itself.

【0004】一方、携帯型の電子機器は屋外などで使用
される頻度が高いため、屋内に据え置かれる電子機器に
比べて、液晶装置が強い光を受ける可能性が高い。
On the other hand, since portable electronic devices are frequently used outdoors and the like, the liquid crystal device is more likely to receive intense light than electronic devices installed indoors.

【0005】本発明は、上記のような点に鑑みてなされ
たものであって、その目的は、外部からの光を利用する
ことによってバッテリーによる動作可能時間を長くする
ことのできる液晶装置に使用される液晶装置用基板、液
晶装置、電子機器および液晶装置用基板の製造方法を提
供することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and has as its object to use a liquid crystal device which can extend the operable time by a battery by utilizing external light. To provide a liquid crystal device substrate, a liquid crystal device, an electronic device, and a method of manufacturing a liquid crystal device substrate.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】(1) 本発明に係る液
晶装置用基板は、凹凸面をもつ基板と、前記凹凸面上に
配置された光電池と、前記光電池上に配置された透明導
電膜と、を有することを特徴としている。
(1) A substrate for a liquid crystal device according to the present invention comprises a substrate having an uneven surface, a photovoltaic cell arranged on the irregular surface, and a transparent conductive film arranged on the photocell. And having the following.

【0007】本発明によれば、液晶装置用基板が光電池
を備えているため、この液晶装置用基板は外部からの光
を受けた光電池により発電することができる。したがっ
て、この液晶装置用基板を用いた液晶装置においては、
表示を行うために電力を消費するとともに、光電池から
の電力によってバッテリーなどを充電することができ、
バッテリーなどによる駆動時間を延ばすことができる。
According to the present invention, since the substrate for a liquid crystal device is provided with a photovoltaic cell, the substrate for a liquid crystal device can generate power from the photovoltaic cell that receives light from the outside. Therefore, in a liquid crystal device using this liquid crystal device substrate,
In addition to consuming power to perform the display, the battery etc. can be charged with the power from the photocell,
The operating time by a battery or the like can be extended.

【0008】また、光電池は基板の凹凸面上に形成され
ているため、平面上に形成される場合に比し、光電池の
受光部の面積が増大し、発電量を増加させることができ
る。 (2) なお、前記透明導電膜は液晶表示における各画
素に対応する画素電極として配置され、前記光電池は各
々の前記画素電極に対応して配置されていてもよい。
Further, since the photovoltaic cell is formed on the uneven surface of the substrate, the area of the light receiving portion of the photovoltaic cell is increased as compared with the case where the photocell is formed on a flat surface, and the amount of power generation can be increased. (2) The transparent conductive film may be disposed as a pixel electrode corresponding to each pixel in a liquid crystal display, and the photovoltaic cell may be disposed corresponding to each of the pixel electrodes.

【0009】(3) さらに、この画素電極に電気的に
接続される能動素子をさらに備えていてもよい。
(3) An active element electrically connected to the pixel electrode may be further provided.

【0010】(4) そして、前記光電池と前記透明導
電膜との間にカラーフィルタをさらに備えていてもよ
い。
(4) A color filter may be further provided between the photovoltaic cell and the transparent conductive film.

【0011】(5) また、前記光電池は光反射性を有
していてもよい。
(5) The photovoltaic cell may have light reflectivity.

【0012】(6) 本発明に係る液晶装置は、一対の
液晶装置用基板間に液晶を挟持してなる液晶装置であっ
て、前記いずれかの液晶装置用基板を、前記一対の液晶
装置用基板の一方として用いたことを特徴としている。
(6) A liquid crystal device according to the present invention is a liquid crystal device in which a liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates for a liquid crystal device. It is characterized in that it is used as one of the substrates.

【0013】本発明によれば、液晶装置用基板が光電池
を備えているため、表示を行うために電力を消費すると
ともに、光電池からの電力によってバッテリーなどを充
電することができ、バッテリーなどによる液晶装置の駆
動時間を延ばすことができる。しかも、光電池は基板の
凹凸面上に形成されているため、平面上に形成される場
合に比し、光電池の受光部の面積が増大し、発電量が増
加するため、駆動時間の増加がさらに大きい。
According to the present invention, since the liquid crystal device substrate is provided with a photovoltaic cell, power can be consumed for display, and a battery or the like can be charged by the power from the photovoltaic cell. The driving time of the device can be extended. In addition, since the photovoltaic cell is formed on the uneven surface of the substrate, the area of the light receiving portion of the photovoltaic cell increases and the amount of power generation increases as compared with the case where the photovoltaic cell is formed on a flat surface. large.

【0014】(7) 本発明に係る電子機器は、前記液
晶装置を表示部として備えることを特徴としている。
(7) An electronic apparatus according to the present invention includes the liquid crystal device as a display unit.

【0015】本発明によれば、液晶装置用基板が光電池
を備えているため、表示を行うために電力を消費すると
ともに、光電池からの電力によってバッテリーなどを充
電することができ、バッテリーなどによる電子機器の駆
動時間を延ばすことができる。しかも、光電池は基板の
凹凸面上に形成されているため、平面上に形成される場
合に比し、光電池の受光部の面積が増大し、発電量が増
加するため、駆動時間の増加がさらに大きい。
According to the present invention, since the substrate for the liquid crystal device is provided with a photovoltaic cell, it consumes power for display and can charge a battery or the like with the power from the photovoltaic cell. The driving time of the device can be extended. In addition, since the photovoltaic cell is formed on the uneven surface of the substrate, the area of the light receiving portion of the photovoltaic cell increases and the amount of power generation increases as compared with the case where the photovoltaic cell is formed on a flat surface. large.

【0016】(8) 本発明に係る液晶装置用基板の製
造方法は、液晶表示パネルに用いられる液晶装置用基板
の製造方法であって、薬液処理によって凹凸面を備える
基板を形成する工程と、前記凹凸面上に光電池を形成す
る工程と、前記光電池上に透明導電膜を形成する工程
と、を有することを特徴としている。
(8) A method for manufacturing a substrate for a liquid crystal device according to the present invention is a method for manufacturing a substrate for a liquid crystal device used for a liquid crystal display panel, comprising the steps of forming a substrate having an uneven surface by chemical treatment. A step of forming a photovoltaic cell on the uneven surface; and a step of forming a transparent conductive film on the photovoltaic cell.

【0017】本発明によれば、薬液処理によって基板に
凹凸面が形成されるため、凹凸のピッチや深さを容易に
制御して液晶装置用基板を製造することができる。
According to the present invention, since the uneven surface is formed on the substrate by the chemical treatment, the pitch and depth of the unevenness can be easily controlled to manufacture the substrate for the liquid crystal device.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施形態に
ついて、図面を参照しながら、さらに具体的に説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below more specifically with reference to the drawings.

【0019】1. <第1実施形態> 1.1 液晶装置および液晶装置用基板 図1は本実施形態の液晶装置としての液晶パネル40を
示す模式的な分解断面図である。液晶パネル40は、液
晶装置用基板10と液晶装置用基板35との間に液晶3
3が封入されて構成されたSTN形のパッシブマトリッ
クス液晶パネル40である。液晶装置用基板35は、液
晶装置用基板10とは対向しない非対向領域36を備
え、非対向領域36には液晶パネル40を駆動するIC
が搭載され、接続用端子が設けられている。液晶装置用
基板10は、その内面側に光電池20の層と、液晶を制
御する一方の電極である透明導電膜28の層とを備えて
いる。液晶装置用基板35の外側には偏光板6が配置さ
れており、偏光板6と液晶装置用基板35との間には、
STN液晶に付随する着色を補正するための位相差板8
が配置されている。
1. <First Embodiment> 1.1 Liquid Crystal Device and Liquid Crystal Device Substrate FIG. 1 is a schematic exploded sectional view showing a liquid crystal panel 40 as a liquid crystal device of the present embodiment. The liquid crystal panel 40 holds the liquid crystal 3 between the liquid crystal device substrate 10 and the liquid crystal device substrate 35.
Reference numeral 3 denotes an STN-type passive matrix liquid crystal panel 40 in which the liquid crystal panel 3 is enclosed. The liquid crystal device substrate 35 includes a non-facing region 36 that does not face the liquid crystal device substrate 10, and an IC that drives the liquid crystal panel 40 is provided in the non-facing region 36.
Are mounted, and connection terminals are provided. The liquid crystal device substrate 10 includes a layer of a photovoltaic cell 20 and a layer of a transparent conductive film 28 that is one electrode for controlling liquid crystal on the inner surface side. The polarizing plate 6 is arranged outside the liquid crystal device substrate 35, and between the polarizing plate 6 and the liquid crystal device substrate 35,
Phase difference plate 8 for correcting coloring accompanying the STN liquid crystal
Is arranged.

【0020】図2は、液晶装置用基板10をさらに詳細
に示す模式的な部分断面図である。この図に示すよう
に、液晶装置用基板10は、凹凸面15を持つ基板14
と、基板14の凹凸面15上に形成された光電池20
と、光電池20上に形成された平坦化膜26と、平坦化
膜26上に形成されたカラーフィルタ27と、カラーフ
ィルタ27上に形成された透明導電膜28とを備えてい
る。なお、平坦化膜26とカラーフィルタ27のいずれ
か一方は設けなくともよい。カラーフィルタ27を設け
ない場合には平坦化膜26上に透明導電膜28が形成さ
れる。
FIG. 2 is a schematic partial sectional view showing the liquid crystal device substrate 10 in more detail. As shown in this figure, a liquid crystal device substrate 10 is a substrate 14 having an uneven surface 15.
And a photovoltaic cell 20 formed on the uneven surface 15 of the substrate 14
And a flattening film 26 formed on the photovoltaic cell 20, a color filter 27 formed on the flattening film 26, and a transparent conductive film 28 formed on the color filter 27. Note that one of the flattening film 26 and the color filter 27 may not be provided. When the color filter 27 is not provided, a transparent conductive film 28 is formed on the flattening film 26.

【0021】基板14は、透明なガラスまたは合成樹
脂、不透明なシリコンまたはセラミックスなどでもよ
い。なお、基板14としてシリコンを用いる場合は、基
板14と裏面電極21との間に例えば酸化シリコン膜な
どで形成された絶縁層を設けることが好ましい。
The substrate 14 may be made of transparent glass or synthetic resin, opaque silicon or ceramic. When silicon is used as the substrate 14, it is preferable to provide an insulating layer formed of, for example, a silicon oxide film between the substrate 14 and the back electrode 21.

【0022】光電池20は、pn接合型の光電池として
形成されており、基板14上に形成された裏面電極21
と、p型アモルファスシリコン層22と、n型アモルフ
ァスシリコン層23と、表面電極24とを備えている。
The photovoltaic cell 20 is formed as a pn junction type photovoltaic cell, and has a back electrode 21 formed on the substrate 14.
, A p-type amorphous silicon layer 22, an n-type amorphous silicon layer 23, and a surface electrode 24.

【0023】なお、光電池20の主要な吸収波長帯は可
視光領域の外側にあり、可視光に対しては高い反射率を
持つことが好ましい。これによって、外部から入力した
可視光を光電池20が十分反射するため、この液晶装置
用基板10を用いた液晶パネル40は、十分な明るさの
反射型表示を行うことができる。
The main absorption wavelength band of the photovoltaic cell 20 is outside the visible light region, and it is preferable that the photovoltaic cell 20 has a high reflectance for visible light. As a result, the visible light input from the outside is sufficiently reflected by the photovoltaic cell 20, so that the liquid crystal panel 40 using the liquid crystal device substrate 10 can perform reflective display with sufficient brightness.

【0024】透明導電膜28は、短冊状に多数並行して
設けられている。透明導電膜28は、例えばITO(In
dium Tin Oxide)膜で形成されている。なお、図2にお
いて透明導電膜28は、数本しか描かれていないが、実
際にはマトリクス表示の分解能に対応して多数設けられ
ている。また、透明導電膜28を覆ってポリイミドで形
成された配向膜が設けられているが、図示を省略してい
る。
A large number of transparent conductive films 28 are provided in parallel in a strip shape. The transparent conductive film 28 is made of, for example, ITO (In
dium Tin Oxide) film. Although only a few transparent conductive films 28 are shown in FIG. 2, many transparent conductive films 28 are actually provided corresponding to the resolution of matrix display. Although an alignment film made of polyimide is provided to cover the transparent conductive film 28, it is not shown.

【0025】また、本実施形態の液晶パネル40は、ノ
ーマリホワイト表示として用いられることが好ましい。
これによって、液晶33を透過して光電池20に到達す
る光量が、ノーマリブラックの場合に比べて多くなるた
め、光電池20による発電量が大きくなる。
The liquid crystal panel 40 of the present embodiment is preferably used for normally white display.
As a result, the amount of light that passes through the liquid crystal 33 and reaches the photovoltaic cell 20 is greater than that in the case of normally black, so that the amount of power generated by the photovoltaic cell 20 increases.

【0026】本実施形態の液晶装置用基板10は、光電
池20を備えているため、外部からの光を受けた光電池
により発電することができる。したがって、この液晶装
置用基板10を用いた液晶パネル40においては、表示
を行うために電力を消費するとともに、光電池20から
の電力によってバッテリーなどを充電することができ、
バッテリーなどによる駆動時間を延ばすことができる。
Since the liquid crystal device substrate 10 of the present embodiment includes the photovoltaic cells 20, the photovoltaic cells that receive external light can generate power. Therefore, in the liquid crystal panel 40 using the liquid crystal device substrate 10, power can be consumed for performing display, and a battery or the like can be charged with the power from the photovoltaic cell 20.
The operating time by a battery or the like can be extended.

【0027】また、光電池20は基板14の凹凸面15
上に形成されているため、平面上に形成される場合に比
し、光電池20の受光部の面積が増大し、発電量を増加
させることができる。
The photovoltaic cell 20 is provided on the uneven surface 15 of the substrate 14.
Since it is formed on the upper surface, the area of the light receiving portion of the photovoltaic cell 20 is increased as compared with the case where it is formed on a plane, and the amount of power generation can be increased.

【0028】1.2 液晶装置用基板の製造方法 次に、液晶装置用基板10の製造方法について説明す
る。
1.2 Method for Manufacturing Liquid Crystal Device Substrate Next, a method for manufacturing the liquid crystal device substrate 10 will be described.

【0029】まず、薬液処理によって、図3に模式的な
部分断面図として示したように、凹凸面15を表示用の
領域に備える基板14を形成する。具体的には、基板1
4の一面における表示用の領域を、微小な部分ごとに除
去速度が異なる薬液によってエッチング処理する。この
薬液としては、フッ化水素酸をベースとし、処理する基
板の材料に応じて例えば硝酸、硫酸、塩酸、過酸化水
素、水素ニフッ化アンモニウム、フッ化アンモニウム、
硫酸アンモニウム、塩酸アンモニウムのいずれか、ある
いは複数を適切な割合で組み合わせたものを添加したも
のが用いられる。なお、基板14としては例えば、ソー
ダライムガラス、ホウ珪酸ガラス、バリウムホウ珪酸ガ
ラス、バリウムアルミノ珪酸ガラス、アルミノ珪酸ガラ
スのいずれかを用いることができる。このように、フッ
化水素酸水溶液に、上述した補助薬品を適宜添加するこ
とで、上述したガラス材料からなる基板14に対して、
微小な部分ごとにエッチング速度が異なるエッチング液
となるため、薬液の調合と処理温度および処理時間によ
り凹凸面15を備える基板14を形成することができ
る。
First, as shown in a schematic partial cross-sectional view of FIG. 3, a substrate 14 having an uneven surface 15 in a display area is formed by a chemical solution treatment. Specifically, the substrate 1
The display region on one surface of the substrate 4 is etched with a chemical solution having a different removal rate for each minute portion. This chemical is based on hydrofluoric acid, and depending on the material of the substrate to be treated, for example, nitric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, hydrogen peroxide, ammonium hydrogen difluoride, ammonium fluoride,
Any of ammonium sulfate and ammonium hydrochloride, or a combination of a plurality of them in an appropriate ratio is used. In addition, as the substrate 14, for example, any of soda lime glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, barium aluminosilicate glass, and aluminosilicate glass can be used. As described above, by appropriately adding the above-described auxiliary chemicals to the hydrofluoric acid aqueous solution, the substrate 14 made of the above-described glass material can be used.
Since the etching rate is different for each minute portion, the substrate 14 having the uneven surface 15 can be formed depending on the preparation of the chemical solution, the processing temperature, and the processing time.

【0030】次に、基板14に形成された凹凸面15上
に光電池20を形成して図4に模式的な部分断面図とし
て示した状態とする。すなわち、まず、アルミニウムの
スパッタリングなどによって裏面電極21を基板14の
凹凸面15上に形成する。次いで、プラズマCVDなど
によってアモルファスシリコン層を裏面電極21上に形
成して、イオン注入などによってp型不純物をドーピン
グしてp型アモルファスシリコン層22とした後、プラ
ズマCVDなどによってアモルファスシリコン層をp型
アモルファスシリコン層22上に積層して、新たに積層
したアモルファスシリコン層にイオン注入などによって
n型不純物をドーピングしてn型アモルファスシリコン
層23とする。そして、導電性と光透過性を有する物質
(例えばITO)を例えばスパッタリングしパターニン
グすることによって、表面電極24をn型アモルファス
シリコン層23上に形成する。なお表面電極24には、
導電性と光透過性を有する物質を用いる代わりに光を透
過させることができる厚さに形成した導電性を有する物
質(例えばAl薄膜)を用いてもよい。
Next, a photovoltaic cell 20 is formed on the uneven surface 15 formed on the substrate 14 so as to be in a state shown in a schematic partial sectional view in FIG. That is, first, the back electrode 21 is formed on the uneven surface 15 of the substrate 14 by sputtering of aluminum or the like. Next, an amorphous silicon layer is formed on the back surface electrode 21 by plasma CVD or the like, and a p-type impurity is doped by ion implantation or the like to form a p-type amorphous silicon layer 22, and the amorphous silicon layer is formed by plasma CVD or the like. The n-type amorphous silicon layer 23 is formed by doping n-type impurities on the amorphous silicon layer 22 by ion implantation or the like into the newly laminated amorphous silicon layer. Then, a surface electrode 24 is formed on the n-type amorphous silicon layer 23 by, for example, sputtering and patterning a substance (for example, ITO) having conductivity and light transmittance. The surface electrode 24 has
Instead of using a substance having conductivity and light transmittance, a substance having conductivity (for example, an Al thin film) formed to have a thickness capable of transmitting light may be used.

【0031】次いで、光電池20上に酸化シリコンを積
層して平坦化膜26を形成し、さらに、その表面上にカ
ラーフィルタ27を形成して、図5に模式的な部分断面
図として示した状態とする。
Next, silicon oxide is laminated on the photovoltaic cell 20 to form a flattening film 26, and further, a color filter 27 is formed on the surface thereof, as shown in a schematic partial cross-sectional view in FIG. And

【0032】そして、透明導電膜28を例えばITOで
形成する。例えば、透明導電膜28は、膜厚30〜20
0nmまでITOをスパッタリングし、次に王水系のエ
ッチング液または臭化水素酸によるウエットエッチング
にてパターニングして形成される。なお、エッチングは
メタン系のエッチングガスを用いたドライエッチングと
してもよい。
Then, the transparent conductive film 28 is formed of, for example, ITO. For example, the transparent conductive film 28 has a thickness of 30 to 20.
It is formed by sputtering ITO to 0 nm and then patterning by wet etching with an aqua regia-based etchant or hydrobromic acid. Note that the etching may be dry etching using a methane-based etching gas.

【0033】上述のような工程を含んで本実施形態の液
晶装置用基板10が、図2に模式的な部分断面図として
示したように形成される。
The substrate 10 for a liquid crystal device of the present embodiment including the steps described above is formed as shown in a schematic partial cross-sectional view in FIG.

【0034】本実施形態の製造方法によれば、薬液処理
によって基板に凹凸面が形成されるため、凹凸のピッチ
や深さを容易に制御して液晶装置用基板10を製造する
ことができる。
According to the manufacturing method of the present embodiment, since the uneven surface is formed on the substrate by the chemical solution treatment, the pitch and depth of the unevenness can be easily controlled to manufacture the liquid crystal device substrate 10.

【0035】2. <第2実施形態> 第2実施形態は、光電池の裏面電極に多数の微細な開口
が設けられ、半透過反射型の液晶装置として形成されて
いる点が第1実施形態と異なる。以下においては、第1
実施形態と相違する点を中心に説明する。それ以外の点
については、第1実施形態と同様であるので説明を省略
する。また、図面において対応する部分には同一の符号
を付す。
2. Second Embodiment The second embodiment is different from the first embodiment in that a large number of fine openings are provided in the back electrode of the photovoltaic cell, and the liquid crystal device is formed as a transflective liquid crystal device. In the following, the first
The description will focus on the differences from the embodiment. The other points are the same as in the first embodiment, and a description thereof will be omitted. Corresponding parts in the drawings are denoted by the same reference numerals.

【0036】図6は第2実施形態の液晶装置としての液
晶パネル46を示す模式的な分解断面図である。この図
に示すように、本実施形態の液晶パネル46は半透過反
射型として形成されているため、液晶装置用基板50の
裏面側にも偏光板54が配置されている。また、偏光板
54の背面側には光源58からの光を液晶パネル50の
表示領域に向けて導く導光板60が配置されている。
FIG. 6 is a schematic exploded sectional view showing a liquid crystal panel 46 as a liquid crystal device according to the second embodiment. As shown in this figure, since the liquid crystal panel 46 of the present embodiment is formed as a transflective type, a polarizing plate 54 is also arranged on the back side of the liquid crystal device substrate 50. A light guide plate 60 that guides light from the light source 58 toward the display area of the liquid crystal panel 50 is disposed on the back side of the polarizing plate 54.

【0037】図7は、液晶装置用基板50をさらに詳細
に示す部分断面図である。本実施形態の液晶装置用基板
50は、基板14として透明な材料例えばガラスまたは
合成樹脂が用いられており、光電池51の裏面電極52
が多数の微細な開口53を備えている。したがって、導
光板60からの光が、これらの開口を介して光電池を透
過して液晶に到達できる。その結果、本実施形態の液晶
パネル46は、透過型の表示も可能となり、半透過反射
型となる。なお、これらの開口53は透明な材料例えば
酸化シリコンによって埋められていてもよい。
FIG. 7 is a partial sectional view showing the liquid crystal device substrate 50 in further detail. The substrate 50 for a liquid crystal device of the present embodiment uses a transparent material, for example, glass or synthetic resin, as the substrate 14.
Have many fine openings 53. Accordingly, light from the light guide plate 60 can pass through the photocell through these openings and reach the liquid crystal. As a result, the liquid crystal panel 46 of the present embodiment can also perform transmissive display, and becomes a transflective type. Note that these openings 53 may be filled with a transparent material, for example, silicon oxide.

【0038】さらに、光電池51の裏面電極52に設け
られた多数の開口53は、上層のp型アモルファスシリ
コン層22、n型アモルファスシリコン層23、および
表面電極24を貫通するように形成し、背面側からの光
の透過量がさらに増すようにしてもよい。このような開
口53の形成は、例えばレーザ光を利用した異方性エッ
チングによって行うことができる。また、開口53は各
画素に対応する位置に設けられていることが望ましい。
これにより背面側からの光を効率よく画像表示に利用す
ることができる。
Further, a large number of openings 53 provided in the back electrode 52 of the photovoltaic cell 51 are formed so as to penetrate the upper p-type amorphous silicon layer 22, the n-type amorphous silicon layer 23, and the front electrode 24. The amount of light transmitted from the side may be further increased. Such an opening 53 can be formed by, for example, anisotropic etching using laser light. Further, it is desirable that the opening 53 be provided at a position corresponding to each pixel.
Thus, light from the back side can be efficiently used for image display.

【0039】本実施形態の液晶装置用基板50において
も、第1実施形態の場合と同様に光電池51を備えてい
るため、外部からの光を受けた光電池51により発電す
ることができる。したがって、この液晶装置用基板50
を用いた液晶パネル46においては、表示を行うために
電力を消費するとともに、光電池51からの電力によっ
てバッテリーなどを充電することができ、バッテリーな
どによる駆動時間を延ばすことができる。なお、本実施
形態の液晶装置用基板50においては、背面に配置され
た導光板からの光を用いて表示する透過モードにおいて
も、導光板60からの光によって光電池51が発生する
電力によってバッテリーなどを充電することができる。
Since the liquid crystal device substrate 50 of the present embodiment also includes the photovoltaic cell 51 as in the case of the first embodiment, power can be generated by the photocell 51 that receives light from the outside. Therefore, the liquid crystal device substrate 50
In the liquid crystal panel 46 using, power is consumed for performing display, and a battery or the like can be charged with the power from the photovoltaic cell 51, so that the driving time by the battery or the like can be extended. In the liquid crystal device substrate 50 of the present embodiment, even in a transmission mode in which display is performed using light from the light guide plate disposed on the rear surface, a battery or the like is generated by the power generated by the photovoltaic cell 51 by the light from the light guide plate 60. Can be charged.

【0040】また、光電池51は基板14の凹凸面15
上に形成されているため、平面上に形成される場合に比
し、光電池51の受光部の面積が増大し、発電量を増加
させることができる。
The photovoltaic cell 51 is provided on the uneven surface 15 of the substrate 14.
Since it is formed on the upper surface, the area of the light receiving portion of the photovoltaic cell 51 is increased as compared with the case where it is formed on a plane, and the amount of power generation can be increased.

【0041】さらに、本実施形態によれば、光電池51
を表示領域内に備える半透過反射型の液晶装置を形成す
ることができる。
Further, according to the present embodiment, the photovoltaic cell 51
Can be formed in the display area.

【0042】3. <第3実施形態> 第3実施形態は、透明導電膜が各画素に対応する画素電
極として形成され、能動素子が画素電極ごとに設けられ
ている点が第1実施形態と異なる。以下においては、第
1実施形態と相違する点を中心に説明する。それ以外の
点については、第1実施形態と同様であるので説明を省
略する。また、図面において対応する部分には同一の符
号を付す。
3. Third Embodiment The third embodiment is different from the first embodiment in that a transparent conductive film is formed as a pixel electrode corresponding to each pixel, and an active element is provided for each pixel electrode. In the following, the points that are different from the first embodiment will be mainly described. The other points are the same as in the first embodiment, and a description thereof will be omitted. Corresponding parts in the drawings are denoted by the same reference numerals.

【0043】図8は、第3実施形態の液晶装置用基板7
0を示す模式的な部分断面図である。本実施形態の液晶
装置用基板70においては、透明導電膜が各画素に対応
する画素電極72として形成されている。各画素電極7
2には、画素電極72ごとに設けられた能動素子74例
えばTFT(Thin Film Transistor)またはTFD(Th
in Film Diode)が接続されている。
FIG. 8 shows a substrate 7 for a liquid crystal device according to the third embodiment.
FIG. 4 is a schematic partial cross-sectional view showing a line 0; In the liquid crystal device substrate 70 of the present embodiment, a transparent conductive film is formed as a pixel electrode 72 corresponding to each pixel. Each pixel electrode 7
2 includes an active element 74 provided for each pixel electrode 72, for example, a TFT (Thin Film Transistor) or a TFD (Th
in Film Diode) is connected.

【0044】本実施形態の液晶装置用基板70も対向す
る液晶装置用基板との間に液晶を挾持して、液晶装置と
しての液晶パネルを形成することができる。なお、形成
される液晶パネルは、画素電極72ごとにスイッチング
素子を用いるタイプの液晶パネル、すなわちアクティブ
マトリクス型の液晶パネルとなる。また、アクティブマ
トリクス型の液晶パネルでは、液晶としてTN型のもの
が用いられることが多い。TN型の液晶を用いて液晶パ
ネルを形成した場合は、第1および第2実施形態とは異
なり、位相差板が不要となる。
A liquid crystal panel as a liquid crystal device can be formed by sandwiching liquid crystal between the liquid crystal device substrate 70 of the present embodiment and the opposing liquid crystal device substrate. Note that the formed liquid crystal panel is a liquid crystal panel using a switching element for each pixel electrode 72, that is, an active matrix liquid crystal panel. In an active matrix type liquid crystal panel, a TN type liquid crystal is often used as a liquid crystal. When the liquid crystal panel is formed by using the TN type liquid crystal, a phase difference plate is not required unlike the first and second embodiments.

【0045】本実施形態の液晶装置用基板70において
も、第1実施形態の場合と同様に光電池20を備えてい
るため、外部からの光を受けた光電池により発電するこ
とができる。したがって、この液晶装置用基板70を用
いた液晶パネルにおいては、表示を行うために電力を消
費するとともに、光電池20からの電力によってバッテ
リーなどを充電することができ、バッテリーなどによる
駆動時間を延ばすことができる。
Since the liquid crystal device substrate 70 of the present embodiment also includes the photovoltaic cell 20 as in the case of the first embodiment, power can be generated by the photocell that receives external light. Therefore, in the liquid crystal panel using the liquid crystal device substrate 70, power can be consumed for performing display, and a battery or the like can be charged by the power from the photovoltaic cell 20, and the driving time by the battery or the like can be extended. Can be.

【0046】また、光電池20は基板14の凹凸面15
上に形成されているため、平面上に形成される場合に比
し、光電池20の受光部の面積が増大し、発電量を増加
させることができる。
The photovoltaic cell 20 is provided on the uneven surface 15 of the substrate 14.
Since it is formed on the upper surface, the area of the light receiving portion of the photovoltaic cell 20 is increased as compared with the case where it is formed on a plane, and the amount of power generation can be increased.

【0047】さらに、本実施形態によれば、光電池21
を表示領域内に備えるアクティブマトリクス型の液晶装
置を形成することができる。
Further, according to the present embodiment, the photovoltaic cell 21
Can be formed in the display area.

【0048】4. <第4実施形態> 第4実施形態は、光電池が各画素電極に対応して独立し
た個々のセルとして形成されている点が第3実施形態と
異なる。以下においては、第3実施形態と相違する点を
中心に説明する。それ以外の点については、第3実施形
態と同様であるので説明を省略する。また、図面におい
て対応する部分には同一の符号を付す。図9は、第4実
施形態の液晶装置用基板80を示す模式的な部分断面図
である。この図に示すように、本実施形態の液晶装置用
基板80においては、光電池82が各画素電極72に対
応して独立した個々のセルとして形成されている。各光
電池82の間は例えば酸化シリコン層84によって絶縁
されており、これら酸化シリコン層84は平坦化膜26
に連続している。本実施形態の液晶装置用基板80の製
造においては、光電池82を構成する各層を積層した後
に、例えばレーザを用いた異方性エッチングによって光
電池を分離した後、エッチングされた領域に酸化シリコ
ンを充填して形成される。
4. <Fourth Embodiment> A fourth embodiment is different from the third embodiment in that a photovoltaic cell is formed as an independent individual cell corresponding to each pixel electrode. The following description focuses on the differences from the third embodiment. The other points are the same as in the third embodiment, and the description is omitted. Corresponding parts in the drawings are denoted by the same reference numerals. FIG. 9 is a schematic partial cross-sectional view showing a liquid crystal device substrate 80 of the fourth embodiment. As shown in this figure, in the liquid crystal device substrate 80 of the present embodiment, the photovoltaic cells 82 are formed as independent cells corresponding to the respective pixel electrodes 72. Each of the photovoltaic cells 82 is insulated by, for example, a silicon oxide layer 84.
It is continuous. In the manufacture of the liquid crystal device substrate 80 of the present embodiment, after stacking the layers constituting the photovoltaic cell 82, separating the photovoltaic cell by, for example, anisotropic etching using a laser, filling the etched region with silicon oxide. Formed.

【0049】本実施形態の液晶装置用基板80も対向す
る液晶装置用基板との間に液晶を挾持して、液晶装置と
しての液晶パネルを形成することができる。
A liquid crystal panel as a liquid crystal device can be formed by sandwiching liquid crystal between the liquid crystal device substrate 80 of the present embodiment and the opposing liquid crystal device substrate.

【0050】本実施形態の液晶装置用基板80において
も、第1実施形態の場合と同様に光電池82を備えてい
るため、外部からの光を受けた光電池82により発電す
ることができる。したがって、この液晶装置用基板80
を用いた液晶パネルにおいては、表示を行うために電力
を消費するとともに、光電池82からの電力によってバ
ッテリーなどを充電することができ、バッテリーなどに
よる駆動時間を延ばすことができる。
Since the liquid crystal device substrate 80 of the present embodiment also includes the photovoltaic cells 82 as in the case of the first embodiment, power can be generated by the photocells 82 that have received external light. Therefore, this liquid crystal device substrate 80
In the liquid crystal panel using, power is consumed for performing display, and a battery or the like can be charged with the power from the photovoltaic cell 82, so that the driving time by the battery or the like can be extended.

【0051】また、光電池82は基板14の凹凸面15
上に形成されているため、平面上に形成される場合に比
し、光電池82の受光部の面積が増大し、発電量を増加
させることができる。
The photovoltaic cell 82 is provided on the uneven surface 15 of the substrate 14.
Since it is formed on the upper surface, the area of the light receiving portion of the photovoltaic cell 82 is increased as compared with the case where it is formed on a plane, and the amount of power generation can be increased.

【0052】さらに、本実施形態によれば、光電池82
を表示領域内に備えるアクティブマトリクス型の液晶装
置を形成することができる。
Further, according to the present embodiment, the photovoltaic cell 82
Can be formed in the display area.

【0053】5. <第5実施形態> 第5実施形態は、表示領域全面にわたる透明導電膜を備
える液晶装置基板に光電池が形成され、しかもその透明
電極が光電池の表面電極を兼用するように形成されてい
る点が第3実施形態と異なる。以下においては、第3実
施形態と相違する点を中心に説明する。それ以外の点に
ついては、第3実施形態と同様であるので説明を省略す
る。また、図面において対応する部分には同一の符号を
付す。
5. Fifth Embodiment A fifth embodiment is characterized in that a photovoltaic cell is formed on a liquid crystal device substrate provided with a transparent conductive film over the entire display region, and that the transparent electrode is formed so as to also serve as a surface electrode of the photovoltaic cell. Different from the third embodiment. The following description focuses on the differences from the third embodiment. The other points are the same as in the third embodiment, and the description is omitted. Corresponding parts in the drawings are denoted by the same reference numerals.

【0054】図10は、第5実施形態の液晶装置用基板
86を示す模式的な部分断面図である。この図に示すよ
うに、本実施形態の液晶装置用基板86においては、光
電池88の表面電極を兼用する透明導電膜87が表示領
域の全面にわたって形成されている。本実施形態の液晶
装置用基板88は、光電池の一部を構成するn型アモル
ファスシリコン層23を積層した後に、例えば、さらに
ITOをスパッタリングすることによって透明導電膜8
7を積層して形成される。
FIG. 10 is a schematic partial sectional view showing a liquid crystal device substrate 86 of the fifth embodiment. As shown in this figure, in a liquid crystal device substrate 86 of the present embodiment, a transparent conductive film 87 also serving as a surface electrode of a photovoltaic cell 88 is formed over the entire display region. After the n-type amorphous silicon layer 23 constituting a part of the photovoltaic cell is laminated, the transparent conductive film 8 is formed by, for example, further sputtering ITO.
7 are laminated.

【0055】本実施形態の液晶装置用基板86も対向す
る液晶装置用基板との間に液晶を挾持して、液晶装置と
しての液晶パネルを形成することができる。なお、本実
施形態においては、対向する液晶装置用基板として、そ
れぞれ能動素子に接続された画素電極となる透明導電膜
を備えた液晶装置用基板が用いられる。例えば、図8に
示した液晶装置用基板70において、光電池20を構成
する各層を取り除き、その上部の各層を基板14上に直
接形成したものを用いることができる。また、その液晶
装置用基板には必要に応じてカラーフィルタも設けられ
る。なお本実施形態の場合、能動素子が形成されている
基板はガラスなどといった光透過性を有する物質からな
るものである。
A liquid crystal panel as a liquid crystal device can be formed by sandwiching liquid crystal between the liquid crystal device substrate 86 of the present embodiment and the opposing liquid crystal device substrate. In the present embodiment, a liquid crystal device substrate provided with a transparent conductive film serving as a pixel electrode connected to each active element is used as the opposing liquid crystal device substrate. For example, in the liquid crystal device substrate 70 shown in FIG. 8, each of the layers constituting the photovoltaic cell 20 may be removed, and the respective upper layers may be formed directly on the substrate 14. A color filter is also provided on the liquid crystal device substrate as needed. In the case of the present embodiment, the substrate on which the active elements are formed is made of a light-transmitting substance such as glass.

【0056】本実施形態の液晶装置用基板86において
も、第1実施形態の場合と同様に光電池88を備えてい
るため、外部からの光を受けた光電池88により発電す
ることができる。したがって、この液晶装置用基板86
を用いた液晶パネルにおいては、表示を行うために電力
を消費するとともに、光電池88からの電力によってバ
ッテリーなどを充電することができ、バッテリーなどに
よる駆動時間を延ばすことができる。
Since the liquid crystal device substrate 86 of this embodiment also includes the photovoltaic cells 88 as in the case of the first embodiment, power can be generated by the photovoltaic cells 88 that receive external light. Therefore, this liquid crystal device substrate 86
In the liquid crystal panel using, power is consumed for displaying, and a battery or the like can be charged with the power from the photovoltaic cell 88, so that the driving time by the battery or the like can be extended.

【0057】また、光電池88は基板14の凹凸面15
上に形成されているため、平面上に形成される場合に比
し、光電池88の受光部の面積が増大し、発電量を増加
させることができる。
The photovoltaic cell 88 is provided on the uneven surface 15 of the substrate 14.
Since it is formed on the upper surface, the area of the light receiving portion of the photovoltaic cell 88 is increased as compared with the case where it is formed on a plane, and the amount of power generation can be increased.

【0058】さらに、液晶装置用基板86においては、
液晶を制御する電極としての透明導電膜87が光電池8
8の表面電極を兼ねているため、構造が簡単になるとと
もに製造に要する時間も短縮することができる。
Further, in the liquid crystal device substrate 86,
The transparent conductive film 87 as an electrode for controlling the liquid crystal is
Since the surface electrode also serves as the surface electrode 8, the structure can be simplified and the time required for manufacturing can be shortened.

【0059】6. <液晶パネルを用いた電子機器> 図11(A)、(B)、および(C)は、第1実施形態
の液晶装置としての液晶パネル40を表示部として用い
た電子機器の例を示す外観図である。なお、液晶パネル
としては第1実施形態のものに限らず他の実施形態の液
晶パネルを用いることができる。図11(A)は、携帯
電話機88であり、その前面上方に液晶パネル40を備
えている。図11(B)は、腕時計92であり、本体の
前面中央に液晶パネル40を用いた表示部が設けられて
いる。図11(C)は、携帯情報機器96であり、液晶
パネル40からなる表示部と入力部98とを備えてい
る。これらの電子機器は、液晶パネル40の他に、図示
しないが、表示情報出力源、表示情報処理回路、クロッ
ク発生回路などの様々な回路や、それらの回路に電力を
供給する電源回路などからなる表示信号生成部を含んで
構成される。表示部には、例えば携帯情報機器96の場
合にあっては入力部98から入力された情報等に基づき
表示信号生成部によって生成された表示信号が供給され
ることによって表示画像が形成される。
6. <Electronic Device Using Liquid Crystal Panel> FIGS. 11A, 11B, and 11C illustrate an example of an electronic device using a liquid crystal panel 40 as a liquid crystal device of the first embodiment as a display unit. FIG. Note that the liquid crystal panel is not limited to the liquid crystal panel of the first embodiment, and a liquid crystal panel of another embodiment can be used. FIG. 11A shows a mobile phone 88 having a liquid crystal panel 40 above the front surface thereof. FIG. 11B shows a wristwatch 92, in which a display unit using a liquid crystal panel 40 is provided at the center of the front of the main body. FIG. 11C illustrates a portable information device 96 including a display unit including the liquid crystal panel 40 and an input unit 98. These electronic devices include various circuits such as a display information output source, a display information processing circuit, and a clock generation circuit, and a power supply circuit that supplies power to those circuits, although not shown, in addition to the liquid crystal panel 40. It is configured to include a display signal generation unit. For example, in the case of the portable information device 96, a display signal generated by the display signal generation unit based on information input from the input unit 98 is supplied to the display unit to form a display image.

【0060】なお、本実施形態の液晶パネル40が組み
込まれる電子機器としては、上述した機器に限らず、ノ
ート型パソコン、電子手帳、ページャ、電卓、POS端
末、ICカード、ミニディスクプレーヤなど様々な電子
機器が考えられる。
The electronic devices in which the liquid crystal panel 40 of the present embodiment is incorporated are not limited to the above-described devices, but may be any of various types such as a notebook computer, an electronic organizer, a pager, a calculator, a POS terminal, an IC card, and a mini disk player. Electronic devices are conceivable.

【0061】7. <変形例> 7.1 前述した各実施形態においては、pn接合型の
光電池を表示領域内に備える液晶装置用基板およびそれ
を用いた液晶装置を示した。しかしながら、光電池とし
ては、ショットキーバリア太陽電池、ヘテロ接合体用電
池、ヘテロフェイス接合太陽電池、pin型太陽電池、
あるいは電界効果型太陽電池であってもよい。
7. <Modifications> 7.1 In each of the above-described embodiments, the liquid crystal device substrate including the pn junction type photovoltaic cell in the display area and the liquid crystal device using the same have been described. However, photovoltaic cells include Schottky barrier solar cells, heterojunction cells, heteroface junction solar cells, pin type solar cells,
Alternatively, it may be a field effect solar cell.

【0062】7.2 前述した各実施形態においては、
液晶パネルの光学特性としてSTN型およびTN型のも
のを示した。本発明に使用できる液晶パネルはこれらに
限らす、ゲストホスト型、相転移型、強誘電型など、種
々の他の光学特性タイプの液晶パネルを用いることがで
きる。
7.2 In each of the embodiments described above,
The liquid crystal panel has the optical characteristics of the STN type and the TN type. The liquid crystal panel that can be used in the present invention is not limited to these, and liquid crystal panels of various other optical characteristics such as a guest host type, a phase transition type, and a ferroelectric type can be used.

【0063】7.3 本発明は前述した各実施形態に限
定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内、また
は、特許請求の範囲の均等範囲内で、各種の変形実施が
可能である。
7.3 The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made within the scope of the present invention or within the equivalent scope of the claims. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1実施形態の液晶パネルを示す模式的な分解
断面図である。
FIG. 1 is a schematic exploded sectional view showing a liquid crystal panel according to a first embodiment.

【図2】液晶装置用基板を詳細に示す模式的な部分断面
図である。
FIG. 2 is a schematic partial sectional view showing a liquid crystal device substrate in detail.

【図3】液晶装置用基板の製造工程を説明する模式的な
部分断面図である。
FIG. 3 is a schematic partial sectional view illustrating a manufacturing process of the liquid crystal device substrate.

【図4】液晶装置用基板の製造工程を説明する模式的な
部分断面図である。
FIG. 4 is a schematic partial cross-sectional view illustrating a manufacturing process of a liquid crystal device substrate.

【図5】液晶装置用基板の製造工程を説明する模式的な
部分断面図である。
FIG. 5 is a schematic partial sectional view illustrating a manufacturing process of the liquid crystal device substrate.

【図6】第2実施形態の液晶パネルを示す模式的な分解
断面図である。
FIG. 6 is a schematic exploded sectional view showing a liquid crystal panel according to a second embodiment.

【図7】液晶装置用基板を詳細に示す模式的な部分断面
図である。
FIG. 7 is a schematic partial cross-sectional view showing a liquid crystal device substrate in detail.

【図8】第3実施形態の液晶装置用基板を示す模式的な
部分断面図である。
FIG. 8 is a schematic partial cross-sectional view illustrating a liquid crystal device substrate according to a third embodiment.

【図9】第4実施形態の液晶装置用基板を示す模式的な
部分断面図である。
FIG. 9 is a schematic partial sectional view showing a liquid crystal device substrate according to a fourth embodiment.

【図10】第5実施形態の液晶装置用基板を示す模式的
な部分断面図である。
FIG. 10 is a schematic partial cross-sectional view showing a liquid crystal device substrate according to a fifth embodiment.

【図11】第1実施形態の液晶パネルを用いた電子機器
を示す外観図であり、(A)は携帯電話機であり、
(B)は腕時計であり、(C)は携帯情報機器である。
11A and 11B are external views illustrating an electronic device using the liquid crystal panel according to the first embodiment, in which FIG. 11A is a mobile phone,
(B) is a wristwatch, and (C) is a portable information device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10、50、70、80、86 液晶装置用基板 14 基板 15 凹凸面 20、51、82、88 光電池 40、46 液晶パネル 72 画素電極 74 能動素子 90、92、96 電子機器 10, 50, 70, 80, 86 Substrate for liquid crystal device 14 Substrate 15 Uneven surface 20, 51, 82, 88 Photovoltaic cell 40, 46 Liquid crystal panel 72 Pixel electrode 74 Active element 90, 92, 96 Electronic equipment

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 凹凸面をもつ基板と、 前記凹凸面上に配置された光電池と、 前記光電池上に配置された透明導電膜と、 を有する液晶装置用基板。1. A substrate for a liquid crystal device, comprising: a substrate having an uneven surface; a photovoltaic cell arranged on the irregular surface; and a transparent conductive film arranged on the photocell. 【請求項2】 請求項1において、 前記透明導電膜は液晶表示における各画素に対応する画
素電極として配置され、 前記光電池は各々の前記画素電極に対応して配置されて
いることを特徴とする液晶装置用基板。
2. The liquid crystal display according to claim 1, wherein the transparent conductive film is disposed as a pixel electrode corresponding to each pixel in a liquid crystal display, and the photovoltaic cell is disposed corresponding to each of the pixel electrodes. Substrate for liquid crystal device.
【請求項3】 請求項2において、 前記画素電極に電気的に接続される能動素子をさらに備
えることを特徴とする液晶装置用基板。
3. The liquid crystal device substrate according to claim 2, further comprising an active element electrically connected to the pixel electrode.
【請求項4】 請求項1ないし請求項3のいずれかにお
いて、 前記光電池と前記透明導電膜との間にカラーフィルタを
さらに備えることを特徴とする液晶装置用基板。
4. The substrate for a liquid crystal device according to claim 1, further comprising a color filter between the photovoltaic cell and the transparent conductive film.
【請求項5】 請求項1ないし請求項4のいずれかにお
いて、 前記光電池は光反射性を有することを特徴とする液晶装
置用基板。
5. The liquid crystal device substrate according to claim 1, wherein the photovoltaic cell has light reflectivity.
【請求項6】 一対の液晶装置用基板間に液晶を挟持し
てなる液晶装置であって、 請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の液晶装置用
基板を、前記一対の液晶装置用基板の一方として用いた
ことを特徴とする液晶装置。
6. A liquid crystal device having a liquid crystal sandwiched between a pair of liquid crystal device substrates, wherein the liquid crystal device substrate according to claim 1 is used for said pair of liquid crystal device substrates. A liquid crystal device used as one of substrates.
【請求項7】 請求項6に記載された液晶装置を表示部
として備えることを特徴とする電子機器。
7. An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 6 as a display unit.
【請求項8】 液晶表示パネルに用いられる液晶装置用
基板の製造方法であって、 薬液処理によって凹凸面を備える基板を形成する工程
と、 前記凹凸面上に光電池を形成する工程と、 前記光電池上に透明導電膜を形成する工程と、 を有することを特徴とする液晶装置用基板の製造方法。
8. A method for manufacturing a substrate for a liquid crystal device used for a liquid crystal display panel, comprising: a step of forming a substrate having an uneven surface by a chemical treatment; a step of forming a photovoltaic cell on the uneven surface; Forming a transparent conductive film thereon. A method for manufacturing a substrate for a liquid crystal device, comprising:
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Cited By (2)

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