JP2002284855A - Thermosetting resin composition, epoxy resin molding material using the same, and semiconductor device - Google Patents

Thermosetting resin composition, epoxy resin molding material using the same, and semiconductor device

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JP2002284855A
JP2002284855A JP2001086347A JP2001086347A JP2002284855A JP 2002284855 A JP2002284855 A JP 2002284855A JP 2001086347 A JP2001086347 A JP 2001086347A JP 2001086347 A JP2001086347 A JP 2001086347A JP 2002284855 A JP2002284855 A JP 2002284855A
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JP
Japan
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compound
molecule
epoxy resin
molding material
resin molding
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Yoshiyuki Go
義幸 郷
Akiko Okubo
明子 大久保
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermosetting resin composition and an epoxy resin molding material excellent in hardenability, flowability, and preservability, and highly reliable in moisture resistance, and a semiconductor device using the same. SOLUTION: The thermosetting resin composition mandatorily contains (A) a compound having two or more epoxy groups in a molecule, (B) a compound having two or more phenolic hydroxyl groups in a molecule, and (C) a phosphonium compound of a specified structure; the epoxy resin molding material contains said thermosetting resin composition; and the semiconductor device is sealed in said epoxy resin molding material as hardened.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、硬化性と保存性が
良好で、電気・電子材料分野に有用な熱硬化性樹脂組成
物、及び、これを用いたエポキシ樹脂成形材料、並びに
その硬化物にて封止された半導体装置に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thermosetting resin composition having good curability and preservability and useful in the field of electric and electronic materials, an epoxy resin molding material using the same, and a cured product thereof. The present invention relates to a semiconductor device sealed by the above.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気・電子材料、特に、IC封止材料
は、近年、生産効率の向上を目的とした速硬化性と、物
流・保管時のハンドリング性向上のための保存性の向上
とが、求められるようになってきている。
2. Description of the Related Art In recent years, electric and electronic materials, particularly IC encapsulating materials, have been required to have a rapid curing property for the purpose of improving production efficiency and a storage property for improving handling properties during distribution and storage. , Is being asked.

【0003】従来、電子電気分野向けエポキシ樹脂に
は、硬化触媒として、アミン類、イミダゾール系化合
物、ジアザビシクロウンデセンなどの含窒素複素環式化
合物、第四級アンモニウム、ホスホニウム化合物などの
種々の化合物が使用されている。
Heretofore, epoxy resins for the field of electronics have been used as curing catalysts in various forms such as amines, imidazole compounds, nitrogen-containing heterocyclic compounds such as diazabicycloundecene, quaternary ammonium and phosphonium compounds. The compound has been used.

【0004】これら一般に使用される硬化触媒は、比較
的低温より硬化促進作用を示す場合が多い。このこと
は、樹脂組成物の製造および保存時の粘度上昇や、流動
性の低下、硬化性のばらつきなど、製品としての品質を
低下させる原因となっている。
[0004] These commonly used curing catalysts often exhibit a curing acceleration effect at relatively low temperatures. This causes a decrease in quality as a product, such as an increase in viscosity during production and storage of the resin composition, a decrease in fluidity, and a variation in curability.

【0005】この問題を解決すべく、近年では、低温で
の粘度、流動性の経時変化を抑え、賦形、成形時の加熱
によってのみ、硬化反応を起こすような、いわゆる潜伏
性硬化促進剤の研究が盛んになされている。その手段と
して、硬化促進剤の活性点をイオン対により保護するこ
とで、潜伏性を発現する研究がなされており、特開平8
−41290号公報では、種々の有機酸とホスホニウム
イオンとの塩構造を有する潜伏性硬化促進剤が提示され
ている。しかし、このホスホニウム塩は、イオン対が比
較的容易に外部環境の影響を受けるため、近年の低分子
エポキシ樹脂やフェノールアラルキル樹脂のような比較
的粘度の低い硬化剤を用いる半導体封止材料では、流動
性や保存性が低下する問題が生じている。
In order to solve this problem, in recent years, a so-called latent curing accelerator which suppresses a change with time in viscosity and fluidity at a low temperature and causes a curing reaction only by heating during shaping and molding has been developed. Research is being actively pursued. As a means for protecting the active site of the curing accelerator with an ion pair, studies have been made to develop latentness.
In JP-A-41290, a latent curing accelerator having a salt structure of various organic acids and phosphonium ions is proposed. However, since this phosphonium salt is relatively easily affected by the external environment of the ion pair, a semiconductor encapsulating material using a relatively low-viscosity curing agent such as a recent low-molecular epoxy resin or a phenol aralkyl resin has a problem. There is a problem that the fluidity and the preservability deteriorate.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、硬化性、流
動性、保存性が良好で、電気・電子材料分野に有用な熱
硬化性樹脂組成物、及び、これを用いたエポキシ樹脂成
形材料、並びにその硬化物にて封止された半導体装置を
提供することことにある。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention relates to a thermosetting resin composition having good curability, fluidity and preservability, which is useful in the field of electric and electronic materials, and an epoxy resin molding material using the same. And a semiconductor device sealed with a cured product thereof.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、1分子内
にエポキシ基を2個以上有する化合物、1分子内にフェ
ノール性水酸基を2個以上有する化合物と共に、特定構
造のホスホニウム化合物を用いることにより、優れた硬
化性、流動性、保存性を並立する樹脂組成物、及びエポ
キシ樹脂成形材料が得られることを見いだし、本発明を
完成するに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors use a phosphonium compound having a specific structure together with a compound having two or more epoxy groups in one molecule and a compound having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule. As a result, it has been found that a resin composition and an epoxy resin molding material having excellent curability, fluidity, and preservability are obtained at the same time, and the present invention has been completed.

【0008】すなわち、本発明は、1分子内にエポキシ
基を2個以上有する化合物(A)、1分子内にフェノー
ル性水酸基を2個以上有する化合物(B)、及び、一般
式(1)で表されるホスホニウム化合物(C)を必須成
分とすることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物である。
That is, the present invention provides a compound (A) having two or more epoxy groups in one molecule, a compound (B) having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, and a compound represented by the general formula (1): A thermosetting resin composition comprising the represented phosphonium compound (C) as an essential component.

【0009】[0009]

【化3】 (ただし、R1、R2、R3およびR4は、芳香環もしくは
複素環を有する1価の有機基または1価の脂肪族基であ
り、互いに同一であっても異なっていてもよい。R5
水素原子または炭素数1〜6で構成される1価の炭化水
素基を、Xは炭素数1〜6で構成される2価の炭化水素
基を表す。mは1〜3の整数を、nは3〜7の整数を表
す。)
Embedded image (However, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are a monovalent organic group or a monovalent aliphatic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring, and may be the same or different. R 5 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, X represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and m is an integer of 1 to 3 And n represents an integer of 3 to 7.)

【0010】本発明は、また、1分子内にエポキシ基を
2個以上有する化合物(A)、1分子内にフェノール性
水酸基を2個以上有する化合物(B)、一般式(1)で
表されるホスホニウム化合物(C)、及び無機充填材
(D)を必須成分とすることを特徴とするエポキシ樹脂
成形材料、並びにそれらの硬化物にて封止された半導体
装置である。
The present invention also provides a compound (A) having two or more epoxy groups in one molecule, a compound (B) having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, and a compound represented by the general formula (1). An epoxy resin molding material comprising a phosphonium compound (C) and an inorganic filler (D) as essential components, and a semiconductor device sealed with a cured product thereof.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明に用いる1分子内にエポキ
シ基を2個以上有する化合物(A)は、1分子内にエポ
キシ基を2個以上有する化合物であれば、何ら制限はな
く、例えば、ビフェニル型エポキシ樹脂、ノボラック型
エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂など、ビフェ
ノールなどのフェノール類やフェノール樹脂、ナフトー
ル類などの水酸基にエピクロロヒドリンを反応させて製
造するエポキシ樹脂、エポキシ化合物などが挙げられ
る。その他に、脂環式エポキシ樹脂のように、オレフィ
ンを過酸を用いて酸化させエポキシ化したエポキシ樹脂
や、ハイドロキノン等のジヒドロキシベンゼン類をエピ
クロロヒドリンでエポキシ化した化合物が挙げられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The compound (A) having two or more epoxy groups in one molecule used in the present invention is not limited as long as it is a compound having two or more epoxy groups in one molecule. Epoxy resins, epoxy compounds, etc. produced by reacting epichlorohydrin with hydroxyl groups such as biphenols, phenolic resins such as biphenol, phenolic resins, naphthols, etc., biphenyl type epoxy resin, novolak type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, etc. It is. Other examples include an epoxy resin such as an alicyclic epoxy resin, which is obtained by oxidizing an olefin with a peracid and epoxidized, and a compound obtained by epoxidizing a dihydroxybenzene such as hydroquinone with epichlorohydrin.

【0012】また、本発明に用いる1分子内にフェノー
ル性水酸基を2個以上有する化合物(B)は、1分子内
にエポキシ基を2個以上有する化合物(A)の硬化剤と
して作用するものである。具体的には、フェノールノボ
ラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、アルキル変性
ノボラック樹脂(シクロアルケンの二重結合をフリーデ
ルクラフツ型の反応でフェノール類と反応、共縮合した
樹脂を含む)、フェノールアラルキル樹脂、ナフトール
類とフェノール類をカルボニル基含有化合物と共縮合し
た樹脂などが例示されるが、1分子内で芳香族性の環に
結合する水素原子が、フェノール性水酸基で2個以上置
換された化合物であればよい。
The compound (B) having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule used in the present invention acts as a curing agent for the compound (A) having two or more epoxy groups in one molecule. is there. Specifically, a phenol novolak resin, a cresol novolak resin, an alkyl-modified novolak resin (including a resin in which a double bond of a cycloalkene is reacted with a phenol by a Friedel-Crafts type reaction and cocondensed), a phenol aralkyl resin, a naphthol Such as a resin obtained by co-condensing phenols and phenols with a carbonyl group-containing compound, and a compound in which two or more hydrogen atoms bonded to an aromatic ring in one molecule are substituted with a phenolic hydroxyl group. I just need.

【0013】本発明に用いるホスホニウム化合物(C)
は、硬化促進剤として機能し、一般式(1)で表され
る、ホスホニウムカチオンと環状フェノール誘導体がプ
ロトンを1個放出してなるアニオンとのイオン対からな
る塩である。
The phosphonium compound (C) used in the present invention
Is a salt that functions as a curing accelerator and is represented by the general formula (1) and is formed of an ion pair of a phosphonium cation and an anion obtained by releasing one proton from a cyclic phenol derivative.

【0014】このような構造を形成するホスホニウムカ
チオンとしては、置換又は無置換のアリール基やアルキ
ル基を置換基に有するテトラ置換ホスホニウムイオン
が、熱や、加水分解に対して安定であり好ましく、具体
的には、テトラフェニルホスホニウム、テトラトリルホ
スホニウムなどのテトラアリール置換ホスホニウム、メ
チルトリフェニルホスニウム、エチルトリフェニルホス
ホニウムなどのトリアリールホスフィンとアルキルハラ
イドから合成されたホスホニウムハライドに起源をもつ
トリアリールモノアルキルホスホニウム、テトラブチル
ホスホニウム、テトラオクチルホスホニウムなどのテト
ラアルキル置換ホスホニウムなどが例示される。
As the phosphonium cation forming such a structure, a tetra-substituted phosphonium ion having a substituted or unsubstituted aryl group or alkyl group as a substituent is preferable since it is stable against heat and hydrolysis, and Specifically, triarylmonoalkyl originated from phosphonium halides synthesized from tetraaryl-substituted phosphoniums such as tetraphenylphosphonium and tetratolylphosphonium, triarylphosphines such as methyltriphenylphosphonium and ethyltriphenylphosphonium and alkyl halides Examples thereof include tetraalkyl-substituted phosphonium such as phosphonium, tetrabutylphosphonium, and tetraoctylphosphonium.

【0015】分子内のプロトンを1個放出し、ホスホニ
ウム化合物(C)のアニオン部を構成する環状フェノー
ル誘導体としては、一般式(2)で表される、p−アル
キル置換フェノールとホルムアルデヒドとを高温、高ア
ルカリ濃度の過酷な条件下で反応させることで得られ
る、一般的なカリックス[n]アレーン類(n=4〜
8)、また、置換あるいは非置換のカテコール、レゾル
シノール、ピロガロール類をフェノール源に用い、同様
に高温、高アルカリ条件下でアルデヒド類と反応させて
得られる、多官能型の環状フェノール類が代表的な例と
して挙げられる。
As a cyclic phenol derivative which releases one proton in the molecule and forms the anion part of the phosphonium compound (C), a p-alkyl-substituted phenol represented by the general formula (2) and formaldehyde are used at a high temperature. General calix [n] arenes obtained by reacting under severe conditions of high alkali concentration (n = 4 to
8) Also, a polyfunctional cyclic phenol obtained by using a substituted or unsubstituted catechol, resorcinol, or pyrogallol as a phenol source and similarly reacting with an aldehyde under high temperature and high alkali conditions is typical. An example is given.

【0016】[0016]

【化4】 (Yは炭素数1〜6で構成される2価の炭化水素基を、
6は水素原子または炭素数1〜6で構成される1価の
炭化水素基を表す。pは1〜3の整数を、qは4〜8の
整数を表す。)
Embedded image (Y represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms,
R 6 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. p represents an integer of 1 to 3, and q represents an integer of 4 to 8. )

【0017】ホスホニウム化合物の安定性や樹脂系の硬
化性、流動性、保存性、硬化物物性のバランスの観点か
ら、特に好ましい組み合わせの例としては、テトラフェ
ニルホスホニウム、エチルトリフェニルホスホニウム、
ベンジルトリフェニルホスホニウム、テトラブチルホス
ホニウム等のホスホニウムカチオンと、カリックス
[n]アレーン類(n=4〜8)、4-t-ブチルカリッ
クス[n]アレーン類(n=4〜8)、C-メチルカリ
ックス[4]レゾルシンアレーン、C-メチルカリック
ス[4]ピロガロールアレーンがフェノール性水酸基の
プロトンを1個放出してなるアニオンとの組み合わせが
あげられる。
From the viewpoint of the stability of the phosphonium compound and the balance of the curability, fluidity, preservability and physical properties of the cured resin, examples of particularly preferred combinations include tetraphenylphosphonium, ethyltriphenylphosphonium,
Phosphonium cations such as benzyltriphenylphosphonium and tetrabutylphosphonium, calix [n] arenes (n = 4-8), 4-t-butylcalix [n] arenes (n = 4-8), C-methyl Examples include combinations of calix [4] resorcinol arene and C-methyl calix [4] pyrogallol arene with anions that release one proton of a phenolic hydroxyl group.

【0018】ホスホニウム化合物(C)は、環状フェノ
ール誘導体と、最終的に脱ハロゲン化水素を助ける塩
基、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのア
ルカリ金属水酸化物を、アルコール、テトラヒドロフラ
ン、N,N−ジメチルホルムアミドなどの溶媒に溶解
し、続いて適当な溶媒に溶解した前記テトラ置換ホスホ
ニウムのハライドを添加し反応させて、最終的には再結
晶や再沈殿などの操作により固形分として取り出す方法
で合成可能である。
The phosphonium compound (C) is prepared by converting a cyclic phenol derivative and a base which ultimately assists dehydrohalogenation, for example, an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide, to an alcohol, tetrahydrofuran, N, N -Dissolved in a solvent such as dimethylformamide, followed by adding and reacting the halide of the tetra-substituted phosphonium dissolved in an appropriate solvent, and finally taking out as a solid by an operation such as recrystallization or reprecipitation. Can be synthesized.

【0019】本発明に用いるホスホニウム化合物(C)
は、ホスホニウムカチオンと環状フェノール型アニオン
のイオン分子間相互作用が一般的なホスホニウムフェノ
キシド塩より強く、成形温度以下の温度では容易に活性
を発現しないが、一方、実際の賦形の段階においては高
い活性を発現し、いわゆる潜伏性が付与される。
The phosphonium compound (C) used in the present invention
Is that the interaction between the ionic molecule of the phosphonium cation and the cyclic phenol-type anion is stronger than that of a general phosphonium phenoxide salt, and does not easily exhibit activity at a temperature lower than the molding temperature, but is high in the actual shaping stage. Expresses activity and imparts so-called latency.

【0020】本発明に用いるホスホニウム化合物(C)
の配合量は、1分子内にエポキシ基を2個以上有する化
合物(A)と、硬化剤として機能する、1分子内にフェ
ノール性水酸基を2個以上有する化合物(B)の合計重
量を100重量部とした場合、0.2〜10重量部程度
が硬化性、保存性、他特性のバランスがよく好適であ
る。
The phosphonium compound (C) used in the present invention
Is 100% by weight of the total weight of the compound (A) having two or more epoxy groups in one molecule and the compound (B) having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, which functions as a curing agent. When the amount is about 0.2 to about 10 parts by weight, the curability, the storability, and other characteristics are well balanced and suitable.

【0021】また、1分子内にエポキシ基を2個以上有
する化合物(A)と、1分子内にフェノール性水酸基を
2個以上有する化合物(B)の配合比率は、1分子内に
エポキシ基を2個以上有する化合物(A)のエポキシ基
1モルに対し、1分子内にフェノール性水酸基を2個以
上有する化合物(B)のフェノール性水酸基と分子化合
物(C)に含まれるフェノール性水酸基との合算にて
0.5〜2モル、好ましくは、0.8〜1.2程度のモ
ル比で用いると、硬化性、耐熱性、電気特性等が、より
良好となる。
The compounding ratio of the compound (A) having two or more epoxy groups in one molecule to the compound (B) having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule is as follows. The phenolic hydroxyl group of the compound (B) having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule and the phenolic hydroxyl group contained in the molecular compound (C) per 1 mol of the epoxy group of the compound (A) having two or more compounds. When used in a molar ratio of about 0.5 to 2 mol, preferably about 0.8 to 1.2 in total, the curability, heat resistance, electric characteristics, and the like are further improved.

【0022】本発明に用いる無機充填材(D)として
は、特に制限はなく、一般に封止材料に用いられている
ものを使用することができる。例えば、溶融破砕シリカ
粉末、溶融球状シリカ粉末、結晶シリカ粉末、2次凝集
シリカ粉末、アルミナ、チタンホワイト、水酸化アルミ
ニウム、タルク、クレー、ガラス繊維等が挙げられ、特
に、溶融球状シリカ粉末が好ましい。これらの形状は、
限りなく真球状であることが好ましく、又、粒子の大き
さの異なるものを混合することにより、充填量を多くす
ることができる。
The inorganic filler (D) used in the present invention is not particularly limited, and those generally used as a sealing material can be used. For example, fused crushed silica powder, fused spherical silica powder, crystalline silica powder, secondary agglomerated silica powder, alumina, titanium white, aluminum hydroxide, talc, clay, glass fiber, etc., are particularly preferred, and fused spherical silica powder is particularly preferred. . These shapes are
It is preferable that the particles have an infinitely spherical shape, and the amount of the particles can be increased by mixing particles having different particle sizes.

【0023】この無機充填材の配合量としては、1分子
内にエポキシ基を2個以上有する化合物(A)と、1分
子内にフェノール性水酸基を2個以上有する化合物
(B)の合計量100重量部あたり、200〜2400
重量部が好ましい。200重量部未満だと、無機充填材
による補強効果が充分に発現しないおそれがあり、24
00重量部を越えると、樹脂組成物の流動性が低下し成
形時に充填不良等が生じるおそれがある。特に、無機充
填材の配合量が、前記成分(A)と(B)の合計量10
0重量部あたり、250〜1400重量部であれば、成
形材料の硬化物の吸湿率が低くなり、半導体装置を封止
した硬化物の半田クラックの発生を防止することができ
る。更に半導体装置の封止成形における溶融時の成形材
料の粘度が低くなるため、半導体装置内部の金線変形を
引き起こすおそれがなく、より好ましい。又、無機充填
材は、予め充分混合しておくことが好ましい。
The compounding amount of the inorganic filler is 100 (total) of the compound (A) having two or more epoxy groups in one molecule and the compound (B) having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule. 200 to 2400 per part by weight
Parts by weight are preferred. If the amount is less than 200 parts by weight, the reinforcing effect of the inorganic filler may not be sufficiently exerted.
If the amount is more than 00 parts by weight, the fluidity of the resin composition may be reduced, and poor filling may occur during molding. In particular, the compounding amount of the inorganic filler is 10% in total of the components (A) and (B).
If the amount is 250 to 1400 parts by weight per 0 parts by weight, the moisture absorption of the cured product of the molding material is reduced, and the occurrence of solder cracks in the cured product sealing the semiconductor device can be prevented. Further, since the viscosity of the molding material at the time of melting in the encapsulation molding of the semiconductor device is reduced, there is no possibility of causing a gold wire deformation inside the semiconductor device, which is more preferable. It is preferable that the inorganic filler is sufficiently mixed in advance.

【0024】本発明のエポキシ樹脂組成物およびエポキ
シ樹脂成形材料は、それぞれの必須成分である前記成分
(A)〜(C)及び成分(A)〜(D)の他に、必要に
応じてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等
のカップリング剤、カーボンブラック等の着色剤、臭素
化エポキシ樹脂、酸化アンチモン、リン化合物等の難燃
剤、シリコーンオイル、シリコーンゴム等の低応力成
分、天然ワックス、合成ワックス、高級脂肪もしくはそ
の金属塩類、パラフィン等の離型剤、酸化防止剤等の各
種添加剤を配合することができ、また、本発明において
硬化促進剤として機能するホスホニウム化合物(C)の
特性を損なわない範囲で、トリフェニルホスフィン、
1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)―7−ウンデセ
ン、2−メチルイミダゾール等の他の公知の触媒と併用
しても何ら問題はない。
The epoxy resin composition and the epoxy resin molding material of the present invention may further comprise, if necessary, γ in addition to the essential components (A) to (C) and components (A) to (D). Coupling agents such as glycidoxypropyltrimethoxysilane, coloring agents such as carbon black, brominated epoxy resins, antimony oxide, flame retardants such as phosphorus compounds, low-stress components such as silicone oil and silicone rubber, natural waxes, Various additives such as synthetic waxes, higher fats or metal salts thereof, release agents such as paraffin, antioxidants and the like can be blended, and properties of the phosphonium compound (C) which functions as a curing accelerator in the present invention. To the extent that triphenylphosphine is not impaired,
There is no problem when used in combination with other known catalysts such as 1,8-diazabicyclo (5,4,0) -7-undecene and 2-methylimidazole.

【0025】本発明のエポキシ樹脂組成物およびエポキ
シ樹脂成形材料は、それぞれの必須成分、及びその他の
添加剤等をミキサーを用いて、常温で混合し、ロール、
押出機等の混練機で混練し、冷却後粉砕して得られる。
The epoxy resin composition and the epoxy resin molding material of the present invention are prepared by mixing respective essential components and other additives at room temperature with a mixer,
It is obtained by kneading with a kneading machine such as an extruder, cooling and pulverizing.

【0026】本発明のエポキシ樹脂成形材料を用いて、
半導体等の電子部品を封止し、半導体装置を製造するに
は、トランスファーモールド、コンプレッションモール
ド、インジェクションモールド等の成形方法で硬化成形
することができる。
Using the epoxy resin molding material of the present invention,
In order to manufacture a semiconductor device by encapsulating an electronic component such as a semiconductor, curing and molding can be performed by a molding method such as transfer molding, compression molding, and injection molding.

【0027】本発明のエポキシ樹脂成形材料の硬化物で
封止された半導体装置は、本発明の技術的範囲に含ま
れ、優れた耐湿性を示す。
The semiconductor device sealed with the cured product of the epoxy resin molding material of the present invention is included in the technical scope of the present invention and exhibits excellent moisture resistance.

【0028】[0028]

【実施例】以下に、本発明の実施例を示すが、本発明
は、これにより何ら制限を受けるものではない。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited by these examples.

【0029】[化合物(C)の合成] (合成例1)冷却装置および撹拌装置付きの300mL
の3つ口フラスコに、カリックス[4]アレーン10.
6g(0.025mol)、メタノール30mLおよび
N,N−ジメチルホルムアミド10mLを仕込み、60
℃で撹拌溶解し、さらに攪拌しながら水酸化ナトリウム
1.0g(0.025mol)を予め、10mLのメタノ
ールで溶解した溶液を添加した。次いで、予めテトラフ
ェニルホスホニウムブロマイド10.5g(0.025
mol)を40mLのメタノールに溶解した溶液を加え
た。しばらく攪拌を継続した後、フラスコ内の溶液に1
00mLの純水を撹拌しながら滴下し、淡黄色沈殿を得
た。沈殿を濾過し、純水およびアセトンで洗浄した後、
乾燥し、淡黄色粉末15.8gを得た。この化合物をC
1とする。C1を、NMR、マススペクトル、元素分析
で分析した結果、化学式(3)で表される目的の化合物
であるであることが確認された。合成の収率は83%で
あった。
[Synthesis of Compound (C)] (Synthesis Example 1) 300 mL with a cooling device and a stirring device
9. Calix [4] arene in a three-necked flask
6 g (0.025 mol), methanol 30 mL and N, N-dimethylformamide 10 mL were charged, and 60
The mixture was dissolved by stirring at ℃, and a solution in which 1.0 g (0.025 mol) of sodium hydroxide was previously dissolved in 10 mL of methanol was added while stirring. Then, 10.5 g of tetraphenylphosphonium bromide (0.025
mol) was dissolved in 40 mL of methanol. After stirring for a while, add 1 ml to the solution in the flask.
00 mL of pure water was added dropwise with stirring to obtain a pale yellow precipitate. After filtering the precipitate and washing with pure water and acetone,
Drying yielded 15.8 g of a pale yellow powder. This compound is
Let it be 1. As a result of analyzing C1 by NMR, mass spectrum, and elemental analysis, it was confirmed that C1 was the target compound represented by the chemical formula (3). The yield of the synthesis was 83%.

【0030】(合成例2)合成例1の出発原料であるカ
リックス[4]アレーンをC-メチルカリックス[4]
レゾルシンアレーン13.6g(0.025mol)に
変えた他は、基本的な操作はすべて合成例1と同様に行
い、淡黄色粉末18.8gを得た。この化合物をC2と
する。NMR、マススペクトル、元素分析で分析した結
果、化学式(4)で表される目的の化合物であることが
確認された。合成の収率は85%であった。
(Synthesis Example 2) Calix [4] arene, which is a starting material of Synthesis Example 1, was replaced with C-methyl calix [4].
All the basic operations were performed in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the amount was changed to 13.6 g (0.025 mol) of resorcin arene, and 18.8 g of a pale yellow powder was obtained. This compound is designated as C2. As a result of analysis by NMR, mass spectrum, and elemental analysis, it was confirmed that the target compound was represented by the chemical formula (4). The yield of the synthesis was 85%.

【0031】(合成例3)合成例1の出発原料であるカ
リックス[4]アレーンをC-メチルカリックス[4]
ピロガロールアレーン15.2g(0.025mol)
に変えた他は、基本的な操作はすべて合成例1と同様に
行い、淡赤色粉末21.3gを得た。この化合物をC3
とする。NMR、マススペクトル、元素分析で分析した
結果、化学式(5)で表される目的の化合物であること
が確認された。合成の収率は90%であった。
(Synthesis Example 3) Calix [4] arene, which is a starting material of Synthesis Example 1, was replaced with C-methyl calix [4].
Pyrogallol arene 15.2 g (0.025 mol)
All the basic operations were carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 except for changing to, to obtain 21.3 g of pale red powder. This compound is converted to C3
And As a result of analysis by NMR, mass spectrum, and elemental analysis, it was confirmed that the target compound was represented by the chemical formula (5). The yield of the synthesis was 90%.

【0032】(合成例4)合成例1の出発原料であるテ
トラフェニルホスホニウムブロマイドをエチルトリフェ
ニルホスホニウムブロマイド9.3g(0.025mo
l)に、カリックス[4]アレーンをカリックス[6]
アレーン15.9g(0.025mol)に変えた他
は、基本的な操作はすべて合成例1と同様に行い、淡黄
色粉末20.4gを得た。この化合物をC4とする。
NMR、マススペクトル、元素分析で分析した結果、化
学式(6)で表される目的の化合物であることが確認さ
れた。合成の収率は88%であった。
(Synthesis Example 4) Tetraphenylphosphonium bromide, which is a starting material of Synthesis Example 1, was replaced with 9.3 g (0.025 mol) of ethyltriphenylphosphonium bromide.
1) In calix [4] arene, calix [6]
Except for changing the arene to 15.9 g (0.025 mol), all basic operations were performed in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain 20.4 g of a pale yellow powder. This compound is designated as C4.
As a result of analysis by NMR, mass spectrum, and elemental analysis, it was confirmed that the target compound was represented by the chemical formula (6). The yield of the synthesis was 88%.

【0033】(合成例5)合成例1の出発原料であるテ
トラフェニルホスホニウムブロマイドをベンジルトリフ
ェニルホスホニウムクロライド9.7g(0.025m
ol)に、カリックス[4]アレーンを4-t-ブチルカ
リックス[8]アレーン32.4g(0.025mo
l)に変えた他は、基本的な操作はすべて合成例1と同
様に行い、淡黄色粉末34.6gを得た。この化合物を
C5とする。 NMR、マススペクトル、元素分析で分
析した結果、化学式(7)で表される目的の化合物であ
ることが確認された。合成の収率は86%であった。
(Synthesis Example 5) 9.7 g of benzyltriphenylphosphonium chloride (0.025 m
ol) was added to calix [4] arene in 32.4 g of 4-t-butylcalix [8] arene (0.025mo).
Except for changing to l), all the basic operations were carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain 34.6 g of a pale yellow powder. This compound is designated as C5. As a result of analysis by NMR, mass spectrum, and elemental analysis, it was confirmed that the target compound was represented by the chemical formula (7). The yield of the synthesis was 86%.

【0034】[0034]

【化5】 Embedded image

【0035】[0035]

【化6】 Embedded image

【0036】[0036]

【化7】 Embedded image

【0037】[0037]

【化8】 Embedded image

【0038】[0038]

【化9】 Embedded image

【0039】[熱硬化性樹脂組成物の評価]上記で合成し
た化合物(C)を、1分子内にエポキシ基を2個以上有
する化合物(A)と、1分子内にフェノール性水酸基を
2個以上有する化合物(B)に加えて混合し、さらに1
00℃で5分間、熱板上で溶融混練した後、冷却粉砕し
て、組成物のサンプルを調製し、評価を行った。評価方
法は、下記の通りである。
[Evaluation of Thermosetting Resin Composition] The compound (C) synthesized above was compounded with a compound (A) having two or more epoxy groups in one molecule and a compound (A) having two phenolic hydroxyl groups in one molecule. In addition to compound (B) having the above and mixing,
After melt-kneading at 00 ° C. for 5 minutes on a hot plate, the mixture was pulverized by cooling to prepare a sample of the composition, which was evaluated. The evaluation method is as follows.

【0040】(1)硬化トルク(硬化性評価) 前記のサンプル調製方法により作製した樹脂組成物を用
いて、キュラストメーター(オリエンテック社製、JS
RキュラストメーターPS型)により、175℃で、4
5秒後のトルクを求めた。キュラストメーターにおける
トルクは、硬化性のパラメータであり、値の大きい方
が、硬化性が高いことを示す。
(1) Curing Torque (Evaluation of Curability) Using a resin composition prepared by the above sample preparation method, a curast meter (JS, manufactured by Orientec Co., Ltd.)
R Curastometer PS) at 175 ° C
The torque after 5 seconds was determined. Torque in a curast meter is a parameter of curability, and a larger value indicates higher curability.

【0041】(2)硬化発熱量残存率(保存性評価) 前記のサンプル調製方法により作製した樹脂組成物を用
いて、調製直後の初期硬化発熱量、および40℃で3日
間保存処理後の硬化発熱量を測定し、初期硬化発熱量
(mJ/mg)に対する保存処理後の硬化発熱量(mJ
/mg)の百分率を算出した。尚、硬化発熱量の測定
は、昇温速度10℃/minの条件で、示差熱分析によ
り測定した。この値が大きいほど、硬化発熱量の経時変
化が小さく保存性が良好であることを示す。
(2) Residual rate of heat generation after curing (evaluation of storage stability) Using the resin composition prepared by the above-mentioned sample preparation method, initial heat generation after curing immediately after preparation, and curing after storage treatment at 40 ° C. for 3 days. The calorific value was measured, and the curing calorific value after storage treatment (mJ / mg) relative to the initial curing calorific value (mJ / mg)
/ Mg) was calculated. In addition, the measurement of the calorific value of the curing was performed by differential thermal analysis under the condition of a heating rate of 10 ° C./min. The larger the value, the smaller the change over time in the amount of heat generated by curing, and the better the storage stability.

【0042】(実施例1〜8、および比較例1〜6)表
1〜2に示した配合により、前記の方法で、組成物のサ
ンプルを調製し評価した。比較例1〜6では、実施例に
おける化合物(C)にかえて、公知の硬化促進剤である
トリフェニルホスフィン、1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]−7−ウンデセン、2−メチルイミダゾ
ール、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレ
ートを用いた。得られた各組成物の評価結果を表1〜2
に示す。
(Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6) Samples of the compositions were prepared and evaluated according to the above-mentioned methods by the formulations shown in Tables 1 and 2. In Comparative Examples 1 to 6, triphenylphosphine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, and 2-methylimidazole, which are known curing accelerators, are used in place of the compound (C) in Examples. And tetraphenylphosphonium tetraphenylborate. Tables 1 and 2 show the evaluation results of the obtained compositions.
Shown in

【0043】[0043]

【表1】 [Table 1]

【0044】[0044]

【表2】 [Table 2]

【0045】本発明の熱硬化性樹脂組成物である実施例
1〜8では、硬化性、保存性ともに良好であるのに対
し、比較例1〜6では保存性が悪く、硬化性も実施例1
〜8と比較して劣る結果を示した。
In Examples 1 to 8, which are the thermosetting resin compositions of the present invention, both the curability and the preservability were good, whereas in Comparative Examples 1 to 6, the preservability was poor and the curability was low. 1
-8 showed inferior results.

【0046】 [エポキシ樹脂成形材料の評価] (実施例9) ビフェニル型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ製YX-4000H) 52重量部 フェノールアラルキル樹脂(三井化学製XL225-LL) 48重量部 化合物C1 3.0重量部 溶融球状シリカ(電気化学工業製 平均粒径15μm) 500重量部 カーボンブラック(三菱化学製 平均粒径18μm) 2重量部 臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(日本化薬製、エヒ゜クロン152S) 2重量部 カルナバワックス 2重量部 を混合し、熱ロールを用いて、95℃で8分間混練して
冷却後粉砕し、エポキシ樹脂成形材料を得た。得られた
エポキシ樹脂成形材料を、以下の方法で評価した。結果
を表3に示す。
[Evaluation of Epoxy Resin Molding Material] (Example 9) Biphenyl-type epoxy resin (YX-4000H made by Yuka Shell Epoxy) 52 parts by weight Phenol aralkyl resin (XL225-LL made by Mitsui Chemicals) 48 parts by weight Compound C1 3.0 Parts by weight Fused spherical silica (average particle size 15 μm, manufactured by Denki Kagaku Kogyo) 500 parts by weight Carbon black (average particle size 18 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical) 2 parts by weight 2 parts by weight of carnauba wax were mixed, kneaded at 95 ° C. for 8 minutes using a hot roll, cooled and pulverized to obtain an epoxy resin molding material. The obtained epoxy resin molding material was evaluated by the following method. Table 3 shows the results.

【0047】評価方法 (1)スパイラルフローは、EMMI−I−66に準じ
たスパイラルフロー測定用の金型を用い、金型温度17
5℃、注入圧力6.8MPa、硬化時間2分で測定し
た。スパイラルフローは、流動性のパラメータであり、
数値が大きい方が流動性が良好である。
Evaluation Method (1) Spiral flow was measured using a mold for measuring spiral flow according to EMMI-I-66.
The measurement was performed at 5 ° C., an injection pressure of 6.8 MPa, and a curing time of 2 minutes. Spiral flow is a parameter of liquidity,
The larger the value, the better the fluidity.

【0048】(2)硬化トルクは、キュラストメーター
(オリエンテック(株)製、JSRキュラストメーター
IV PS型)を用い、175℃、45秒後のトルクを測
定した。この値の大きい方が硬化性は良好である。
(2) Curing torque was measured using a curameter (JSR Curameter manufactured by Orientec Co., Ltd.)
(IV PS type), and the torque was measured at 175 ° C. for 45 seconds. The larger the value, the better the curability.

【0049】(3)フロー残存率は、調製直後と30℃
で1週間保存した後のスパイラルフロー値を測定し、調
製直後のスパイラルフロー値に対する保存後の値の百分
率で示した。
(3) The residual flow rate was 30 ° C. immediately after preparation.
The spiral flow value after storage for one week was measured and expressed as a percentage of the value after storage relative to the spiral flow value immediately after preparation.

【0050】(4)耐湿信頼性は、トランスファー成形
法により、金型温度175℃、注入圧力6.8MPa、
硬化時間2分で16pDIPを成形し、この成形物を1
75℃で8時間後硬化した後、125℃、相対湿度10
0%の水蒸気中で、20Vの電圧を16pDIPに印加
し、断線不良を調べた。15個のパッケージのうちの、
8個以上に不良が出るまでの時間を、不良時間とした。
単位は時間。なお、測定時間は、最長で500時間と
し、その時点で不良パッケージ数が8個未満であったも
のは、不良時間を500時間以上と示した。不良時間が
長いほど、耐湿信頼性に優れる。
(4) Moisture resistance reliability was determined by transfer molding using a mold temperature of 175 ° C., an injection pressure of 6.8 MPa,
A 16pDIP was molded with a curing time of 2 minutes, and
After curing at 75 ° C for 8 hours, 125 ° C, relative humidity of 10
In 0% water vapor, a voltage of 20 V was applied to 16 pDIP, and a disconnection defect was examined. Of the 15 packages,
The time until a defect appeared in eight or more pieces was defined as a defect time.
The unit is time. Note that the measurement time was 500 hours at the maximum, and when the number of defective packages was less than 8 at that time, the defective time was indicated as 500 hours or more. The longer the failure time, the better the moisture resistance reliability.

【0051】(実施例10〜12、比較例7〜10)実
施例10〜12および比較例7〜10について、表3〜
4の配合に従い、実施例9と同様にして、エポキシ樹脂
成形材料を調製し評価した。結果を表3〜4に示す。
Examples 10 to 12 and Comparative Examples 7 to 10 Tables 3 to 10 for Examples 10 to 12 and Comparative Examples 7 to 10
According to the composition of No. 4, an epoxy resin molding material was prepared and evaluated in the same manner as in Example 9. The results are shown in Tables 3 and 4.

【0052】[0052]

【表3】 [Table 3]

【0053】[0053]

【表4】 [Table 4]

【0054】実施例9〜12の本発明のエポキシ樹脂成
形材料は、硬化性、流動性、保存性がきわめて良好であ
り、さらに、このエポキシ樹脂成形材料の硬化物で封止
された半導体装置は、耐湿信頼性が良好であることがわ
かる。比較例7〜10では、いずれも硬化性、流動性、
保存性、耐湿信頼性を同時に満たすことができなかっ
た。
The epoxy resin molding materials of the present invention of Examples 9 to 12 have extremely good curability, fluidity, and preservability. Further, the semiconductor device sealed with the cured product of this epoxy resin molding material is It can be seen that the moisture resistance reliability is good. In Comparative Examples 7 to 10, curability, fluidity,
Storage stability and humidity resistance reliability could not be satisfied at the same time.

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明の熱硬化性樹脂組成物及びエポキ
シ樹脂成形材料は、優れた硬化性、保存性を有し、この
エポキシ樹脂成形材料の硬化物で封止された半導体装置
は、耐湿信頼性に優れ有用である。
The thermosetting resin composition and the epoxy resin molding material of the present invention have excellent curability and storage properties, and the semiconductor device sealed with the cured product of the epoxy resin molding material has a high moisture resistance. Excellent reliability and useful.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 1分子内にエポキシ基を2個以上有する
化合物(A)、1分子内にフェノール性水酸基を2個以
上有する化合物(B)、及び、一般式(1)で表される
ホスホニウム化合物(C)を必須成分とすることを特徴
とする熱硬化性樹脂組成物。 【化1】 (ただし、R1、R2、R3およびR4は、芳香環もしくは
複素環を有する1価の有機基または1価の脂肪族基であ
り、互いに同一であっても異なっていてもよい。R5
水素原子または炭素数1〜6で構成される1価の炭化水
素基を、Xは炭素数1〜6で構成される2価の炭化水素
基を表す。mは1〜3の整数を、nは3〜7の整数を表
す。)
1. A compound (A) having two or more epoxy groups in one molecule, a compound (B) having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, and phosphonium represented by the general formula (1) A thermosetting resin composition comprising the compound (C) as an essential component. Embedded image (However, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are a monovalent organic group or a monovalent aliphatic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring, and may be the same or different. R 5 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, X represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and m is an integer of 1 to 3 And n represents an integer of 3 to 7.)
【請求項2】 1分子内にエポキシ基を2個以上有する
化合物(A)、1分子内にフェノール性水酸基を2個以
上有する化合物(B)、一般式(1)で表されるホスホ
ニウム化合物(C)、及び無機充填材(D)を必須成分
とすることを特徴とするエポキシ樹脂成形材料。 【化2】 (ただし、R1、R2、R3およびR4は、芳香環もしくは
複素環を有する1価の有機基または1価の脂肪族基であ
り、互いに同一であっても異なっていてもよい。R5
水素原子または炭素数1〜6で構成される1価の炭化水
素基を、Xは炭素数1〜6で構成される2価の炭化水素
基を表す。mは1〜3の整数を、nは3〜7の整数を表
す。)
2. A compound having two or more epoxy groups in one molecule (A), a compound having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule (B), a phosphonium compound represented by the general formula (1): An epoxy resin molding material characterized by comprising C) and an inorganic filler (D) as essential components. Embedded image (However, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are a monovalent organic group or a monovalent aliphatic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring, and may be the same or different. R 5 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, X represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and m is an integer of 1 to 3 And n represents an integer of 3 to 7.)
【請求項3】 請求項2記載のエポキシ樹脂成形材料の
硬化物にて封止された半導体装置。
3. A semiconductor device sealed with a cured product of the epoxy resin molding material according to claim 2.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG131750A1 (en) * 2002-09-18 2007-05-28 Sumitomo Bakelite Co Thermosetting resin composition, epoxy resin molding material and semiconductor device

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