JP2002282816A - Observation system for organic halide disposal equipment - Google Patents

Observation system for organic halide disposal equipment

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JP2002282816A
JP2002282816A JP2001381080A JP2001381080A JP2002282816A JP 2002282816 A JP2002282816 A JP 2002282816A JP 2001381080 A JP2001381080 A JP 2001381080A JP 2001381080 A JP2001381080 A JP 2001381080A JP 2002282816 A JP2002282816 A JP 2002282816A
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潔 龍原
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千幸人 塚原
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an observation system for a PCB disposal equipment which observes an environment of a harmful substance disposal equipment which can perfectly dispose a PCB pollution equipment of a transformer or the like. SOLUTION: The observation system of this invention has a pretreatment means 1006 to pretreat a PCB preservation vessel 1003, a core separation means 1007 to separate a core 1001a treated by the pretreatment means 1006 into a coil 1001b and an iron core 1001c, a coil separation means 1008 to separate the coil 1001b into a copper wire and paper and wood, a wash means 1011 to wash the iron core, a vessel 1003 and a copper wire 1001d, a harmful substance decomposition disposal means 1013 to decompose a wash liquid waste 1012 and a harmful substance 1002, a drainage monitoring means 1100 to measure a PCB concentration in a drainage 133 drained from the harmful substance decomposition disposal means 1013, an exhaust gas monitoring means 1200 to measure the PCB concentration in the pretreatment means 1006 to take apart the PCB disposed substance and the PCB concentration of an exhaust gas 131 exhausted from the harmful substance decomposition disposal means 1013, an adherend concentration monitoring means 1300 to measure a PCB adherend concentration of parts of a vessel or the like washed at the wash means 1011.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば変圧器等の
PCB等の有機ハロゲン化物汚染機器の完全処理を図る
ことができる有害物質処理設備の環境を監視する有機ハ
ロゲン化物処理設備監視システムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic halide processing equipment monitoring system for monitoring the environment of a toxic substance processing equipment capable of completely processing organic halide contaminated equipment such as a PCB such as a transformer.

【0002】[0002]

【背景技術】近年では、PCB(Polychlorinated biph
enyl, ポリ塩化ビフェニル:ビフェニルの塩素化異性体
の総称)が強い毒性を有することから、その製造および
輸入が禁止されている。このPCBは、1954年頃か
ら国内で製造開始されたものの、カネミ油症事件をきっ
かけに生体・環境への悪影響が明らかになり、1972
年に行政指導により製造中止、回収の指示(保管の義
務)が出された経緯がある。
BACKGROUND ART In recent years, PCB (Polychlorinated biph
enyl, polychlorinated biphenyl: a general term for chlorinated isomers of biphenyl), whose production and import are prohibited because of its high toxicity. Although the production of this PCB began in Japan around 1954, the Kanemi Yusho incident triggered a negative impact on living organisms and the environment.
There was a history of production discontinuation and collection instructions (duty of storage) issued by administrative guidance in 2013.

【0003】PCBは、ビフェニル骨格に塩素が1〜1
0個置換したものであり、置換塩素の数や位置によって
理論的に209種類の異性体が存在し、現在、市販のP
CB製品において約100種類以上の異性体が確認され
ている。また、この異性体間の物理・化学的性質や生体
内安定性および環境動体が多様であるため、PCBの化
学分析や環境汚染の様式を複雑にしているのが現状であ
る。さらに、PCBは、残留性有機汚染物質のひとつで
あって、環境中で分解されにくく、脂溶性で生物濃縮率
が高く、さらに半揮発性で大気経由の移動が可能である
という性質を持つ。また、水や生物など環境中に広く残
留することが報告されている。この結果、PCBは体内
で極めて安定であるので、体内に蓄積され慢性中毒(皮
膚障害、肝臓障害等)を引き起し、また発癌性、生殖・
発生毒性が認められている。
[0003] PCBs contain 1 to 1 chlorine in the biphenyl skeleton.
0 is substituted, and there are theoretically 209 kinds of isomers depending on the number and position of substituted chlorine.
About 100 or more isomers have been identified in CB products. In addition, the physical and chemical properties between the isomers, the in vivo stability, and the environmental dynamics are diverse, and at present, the chemical analysis of PCBs and the manner of environmental pollution are complicated. Furthermore, PCB is one of the persistent organic pollutants, and is hardly decomposed in the environment, is fat-soluble, has a high bioconcentration rate, is semi-volatile, and has the property of being able to move through the atmosphere. In addition, it is reported that it widely remains in the environment such as water and living things. As a result, PCBs are extremely stable in the body, so they accumulate in the body and cause chronic poisoning (skin damage, liver damage, etc.), and are carcinogenic, reproductive,
Developmental toxicity has been observed.

【0004】PCBは、従来からトランスやコンデンサ
などの絶縁油として広く使用されてきた経緯があるの
で、PCBを処理する必要があり、本出願人は先に、P
CBを無害化処理する水熱酸化分解装置を提案した(特
開平11−253796号公報、特開2000−126
588号公報他参照)。この水熱酸化分解装置の概要の
一例を図11に示す。
Since PCBs have been widely used as insulating oils for transformers and capacitors, it is necessary to treat the PCBs.
A hydrothermal oxidative decomposition apparatus for detoxifying CB has been proposed (JP-A-11-253796, JP-A-2000-126).
588, etc.). FIG. 11 shows an example of the outline of this hydrothermal oxidative decomposition apparatus.

【0005】図11に示すように、水熱酸化分解装置1
20は、サイクロンセパレータ121を併設した筒形状
の一次反応器122と、PCB、H2OおよびNaOH
の処理液123を加圧する加圧ポンプ124と、当該混
合液を予熱する予熱器125と、配管を巻いた構成の二
次反応器126と、冷却器127および減圧弁128と
を備えてなるものである。また、減圧弁127の下流に
は、気液分離器129、活性炭槽130が配置されてお
り、排ガス(CO2 )131は煙突132から外部へ排
出され、排水(H2 O,NaCl)133は別途、必要
に応じて排水処理される。排ガス(CONi)131
は、例えば水酸化カリウムスクラバーで吸収除去する場
合もある。
[0005] As shown in FIG.
Reference numeral 20 denotes a cylindrical primary reactor 122 provided with a cyclone separator 121, PCB, H 2 O, and NaOH.
Comprising a pressurizing pump 124 for pressurizing the processing liquid 123, a preheater 125 for preheating the mixed liquid, a secondary reactor 126 having a pipe wound configuration, a cooler 127 and a pressure reducing valve 128. It is. Downstream of the pressure reducing valve 127, a gas-liquid separator 129 and an activated carbon tank 130 are arranged. Exhaust gas (CO 2 ) 131 is discharged from a chimney 132 to the outside, and waste water (H 2 O, NaCl) 133 is discharged. Separately, wastewater treatment is performed as needed. Exhaust gas (CONi) 131
May be absorbed and removed by, for example, a potassium hydroxide scrubber.

【0006】また、処理液123となるPCBの配管1
34には、H2OおよびNaOHがそれぞれ導入され
る。また、酸素の配管135は、一次反応器125に対
して直結している。
[0006] Further, the piping 1 of the PCB to be the processing liquid 123
In 34, H 2 O and NaOH are respectively introduced. The oxygen pipe 135 is directly connected to the primary reactor 125.

【0007】上記装置において、加圧ポンプ124によ
る加圧により一次反応器122内は、26MPaまで昇
圧される。また、予熱器125は、PCB、H2Oおよ
びNaOHの混合処理液123を300℃程度に予熱す
る。また、一次反応器122内には酸素が噴出してお
り、内部の反応熱により380℃〜400℃まで昇温す
る。サイクロンセパレータ121は、一次反応器122
内で析出したNa2CO3の結晶粒子の大きなものを分離
し、Na2CO3の微粒子を二次反応器126に送る。こ
のサイクロンセパレータ121の作用により、二次反応
器126の閉塞が防止される。この段階までに、PCB
は、脱塩素反応および酸化分解反応を起こし、NaC
l、CO2およびH2Oに分解されている。つぎに、冷却
器127では、二次反応器126からの流体を100℃
程度に冷却すると共に後段の減圧弁128にて大気圧ま
で減圧する。そして、気液分離器129によりCO2
よび水蒸気と処理水とが分離され、CO2は、活性炭槽
130を通過して環境中に排出、或いは水酸化カリウム
スクラバーで吸収除去する。また、上記サイクロンサパ
レータ121は必要に応じて設けるようにしてもよい。
In the above apparatus, the pressure inside the primary reactor 122 is increased to 26 MPa by pressurization by the pressurizing pump 124. Further, the preheater 125 preheats the mixed solution 123 of PCB, H 2 O and NaOH to about 300 ° C. Further, oxygen is jetted into the primary reactor 122, and the temperature rises to 380 ° C to 400 ° C due to internal reaction heat. The cyclone separator 121 is connected to the primary reactor 122
The large Na 2 CO 3 crystal particles precipitated inside are separated, and the Na 2 CO 3 fine particles are sent to the secondary reactor 126. The action of the cyclone separator 121 prevents the secondary reactor 126 from being blocked. By this stage, the PCB
Causes a dechlorination reaction and an oxidative decomposition reaction,
1, CO 2 and H 2 O. Next, in the cooler 127, the fluid from the secondary reactor 126 is cooled to 100 ° C.
At the same time, the pressure is reduced to atmospheric pressure by the pressure reducing valve 128 at the subsequent stage. Then, CO 2 and water vapor are separated from the treated water by the gas-liquid separator 129, and the CO 2 is discharged into the environment through the activated carbon tank 130 or absorbed and removed by a potassium hydroxide scrubber. The cyclone separator 121 may be provided as needed.

【0008】このような処理装置を用いてPCB含有容
器(例えばトランスやコンデンサ)等を処理すること
で、完全無害化がなされているが、さらにその施設内か
ら排出する排水の監視及び施設内の環境の監視が共に重
要である。
By treating PCB-containing containers (for example, transformers and condensers) and the like using such a processing apparatus, the detoxification is achieved. Further, monitoring of wastewater discharged from the facility and monitoring of the facility. Environmental monitoring is both important.

【0009】本発明は上述した問題に鑑み、例えば変圧
器等のPCB等の有機ハロゲン化物汚染機器の完全処理
を図ることができる有害物質処理設備の環境を監視する
有機ハロゲン化物処理設備監視システムを提供すること
を課題とする。
In view of the above-mentioned problems, the present invention provides an organic halide processing equipment monitoring system for monitoring the environment of a toxic substance processing equipment capable of completely processing organic halide contaminated equipment such as a PCB such as a transformer. The task is to provide.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】前述した課題を解決する
第1の発明は、有機ハロゲン化物処理設備の環境を監視
する有機ハロゲン化物処理設備監視システムであって、
有機ハロゲン化物処理物を解体する解体設備内外の有機
ハロゲン化物濃度を計測する排気ガスモニタリング手段
と、有機ハロゲン化物処理設備から排出する排水中の有
機ハロゲン化物濃度を計測する排水モニタリング手段と
を備えてなることを特徴とする有機ハロゲン化物処理設
備監視システムにある。
Means for Solving the Problems A first invention for solving the above-mentioned problems is an organic halide processing equipment monitoring system for monitoring the environment of an organic halide processing equipment,
Exhaust gas monitoring means for measuring the concentration of organic halide inside and outside the dismantling facility for dismantling the organic halide treatment product, and wastewater monitoring means for measuring the concentration of organic halide in wastewater discharged from the organic halide treatment facility The monitoring system for organic halide processing equipment is characterized in that:

【0011】第2の発明は、有機ハロゲン化物が付着又
は含有又は保存されている被処理物を無害化する有機ハ
ロゲン化物処理設備の環境を監視する有機ハロゲン化物
処理設備監視システムであって、被処理物から有害物質
を抜出す抜出し手段と、被処理物を解体する解体手段と
のいずれか一方又は両方を有する前処理手段と、前処理
手段において処理された被処理物を構成する構成材から
紙・木・樹脂等の有機物と金属等の無機物とに分離する
分離手段と、前処理手段で分離した有害物質を分解処理
する有害物質分解処理手段と、上記抜出し手段、上記解
体手段、上記分離手段又は有害物質分解処理手段から排
出される排気ガス若しくは処理設備の屋外大気中の有機
ハロゲン化物濃度を計測する排気ガスモニタリング手段
と、上記有害物質分解処理手段から排出される排水中又
は処理設備近辺の河川若しくは海水の有機ハロゲン化物
濃度を計測する排水モニタリング手段とを、具備してな
ることを特徴とする有機ハロゲン化物処理設備監視シス
テムにある。
A second invention is an organic halide processing equipment monitoring system for monitoring the environment of an organic halide processing equipment for detoxifying an object to be processed on which an organic halide is adhered, contained or stored. Extraction means for extracting harmful substances from the processed material, pretreatment means having one or both of dismantling means for dismantling the object, and components constituting the object processed in the preprocessing means Separation means for separating organic matter such as paper, wood, resin, etc. and inorganic matter such as metal, harmful substance decomposition treatment means for decomposing harmful substances separated by pretreatment means, extraction means, disassembly means, separation Exhaust gas monitoring means for measuring the concentration of organic halides in the exhaust gas discharged from the means or harmful substance decomposition treatment means or in the outdoor atmosphere of the treatment equipment; A water discharge monitoring means for measuring the river or organic halide concentration in seawater effluent during or processing near facilities is discharged from the solution treatment unit, in an organic halide processing facility monitoring system characterized by being provided.

【0012】第3の発明は、第2の発明において、上記
前処理手段の抜出し手段で分離された金属製の容器又は
上記分離手段で分離した金属等の無機物を洗浄液で洗浄
する洗浄手段と、上記洗浄手段から排出される排気ガス
中の有機ハロゲン化物濃度を計測する排気ガスモニタリ
ング手段とを、具備してなることを特徴とする有機ハロ
ゲン化物処理設備監視システムにある。
In a third aspect, in the second aspect, a cleaning means for cleaning an inorganic substance such as a metal container separated by the extraction means of the pretreatment means or a metal separated by the separation means with a cleaning liquid, Exhaust gas monitoring means for measuring the concentration of organic halide in the exhaust gas discharged from the cleaning means.

【0013】第4の発明は、第1の発明において、上記
前処理手段の抜出し手段で分離された金属製の容器又は
上記分離手段で分離した金属等の無機物を洗浄液で洗浄
する洗浄手段と、上記洗浄手段で洗浄された部材の有機
ハロゲン化物付着濃度を計測する付着濃度モニタリング
手段とを具備してなることを特徴とする有機ハロゲン化
物処理設備監視システムにある。
According to a fourth aspect of the present invention, in the first aspect, a cleaning means for cleaning a metal container separated by the extraction means of the pretreatment means or an inorganic substance such as the metal separated by the separation means with a cleaning liquid, An organic halide processing equipment monitoring system characterized by comprising an adhesion concentration monitoring means for measuring an organic halide adhesion concentration of the member cleaned by the cleaning means.

【0014】第5の発明は、第1の発明において、上記
分離手段が構成材を分割破砕する破砕手段であることを
特徴とする有機ハロゲン化物処理設備監視システムにあ
る。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the organic halide processing equipment monitoring system according to the first aspect, wherein the separating means is a crushing means for dividing and crushing the constituent material.

【0015】第6の発明は、第1又3の発明において、
上記前処理手段が隔離されており、負圧状態となってい
ることを特徴とする有機ハロゲン化物処理設備監視シス
テムにある。
According to a sixth aspect, in the first or third aspect,
An organic halide processing equipment monitoring system is characterized in that the pretreatment means is isolated and in a negative pressure state.

【0016】第7の発明は、第2又4の発明において、
上記有害物質分解処理手段が水熱酸化分解処理する水熱
酸化分解処理手段又は超臨界水酸化処理する超臨界水酸
化処理手段であることを特徴とする有機ハロゲン化物処
理設備監視システムにある。
According to a seventh aspect, in the second or fourth aspect,
The organic halide processing equipment monitoring system is characterized in that the harmful substance decomposition treatment means is a hydrothermal oxidation treatment means for hydrothermal oxidation decomposition treatment or a supercritical water oxidation treatment means for supercritical water oxidation treatment.

【0017】第8の発明は、第1の発明において、上記
排気ガスモニタリング手段がレーザイオン化飛行時間型
質量分析装置であることを特徴とする有機ハロゲン化物
処理設備監視システムにある。
According to an eighth aspect of the present invention, there is provided the organic halide processing equipment monitoring system according to the first aspect, wherein the exhaust gas monitoring means is a laser ionization time-of-flight mass spectrometer.

【0018】第9の発明は、第8の発明において、上記
排気ガスモニタリング手段が採取試料を真空チャンバー
内へ連続的に導入する試料導入手段と、導入された試料
にレーザを照射し、レーザイオン化させるレーザ照射手
段と、レーザイオン化した分子を収束させる収束部と、
該収束された分子を選択濃縮するイオントラップと、一
定周期で放出されたイオンを検出するイオン検出器を備
えた飛行時間型質量分析装置とを具備してなることを特
徴とする有機ハロゲン化物処理設備監視システムにあ
る。
According to a ninth aspect, in the eighth aspect, the exhaust gas monitoring means continuously introduces the collected sample into the vacuum chamber, and irradiates the introduced sample with a laser to perform laser ionization. Laser irradiation means for causing a laser ionized molecule to converge,
An organic halide processing apparatus comprising: an ion trap for selectively concentrating the converged molecules; and a time-of-flight mass spectrometer having an ion detector for detecting ions emitted at a constant period. In the equipment monitoring system.

【0019】第10の発明は、第1の発明において、上
記排水モニタリング手段が固相抽出−ガスクロマトグラ
フ装置であることを特徴とする有機ハロゲン化物処理設
備監視システムにある。
According to a tenth aspect, in the first aspect, the waste water monitoring means is a solid phase extraction-gas chromatograph apparatus, wherein the monitoring system is for an organic halide processing equipment.

【0020】第11の発明は、第1の発明において、上
記排水モニタリング手段が採取試料を導入し、固相吸着
材で有機ハロゲン化物を保持する固相・吸着手段と、該
固相・吸着手段から溶出液により溶出された有機ハロゲ
ン化物の定性及び定量分析を行う検出手段とを備えてな
ることを特徴とする有機ハロゲン化物処理設備監視シス
テムにある。
According to an eleventh aspect, in the first aspect, the wastewater monitoring means introduces a collected sample, and holds the organic halide with a solid-phase adsorbent; And a detection means for performing a qualitative and quantitative analysis of the organic halide eluted from the organic halide by the eluate.

【0021】第12の発明は、第11の発明において、
上記固相吸着材がシリカゲル又はアルミナからなり、固
相吸着カラム内に充填されてなることを特徴とする有機
ハロゲン化物処理設備監視システムにある。
According to a twelfth aspect, in the eleventh aspect,
The above-mentioned solid-phase adsorbent is made of silica gel or alumina, and is packed in a solid-phase adsorption column.

【0022】第13の発明は、第11おいて、上記固相
吸着材に保持された有機ハロゲン化物を溶出する溶出液
が無極性溶剤、アルコール類、トルエン、ジクロロメタ
ン、又はアセトニトリルのいずれか一であることを特徴
とする有機ハロゲン化物処理設備監視システムにある。
In a thirteenth aspect, in the eleventh aspect, the eluate for eluting the organic halide held by the solid-phase adsorbent is a nonpolar solvent, alcohol, toluene, dichloromethane, or acetonitrile. An organic halide processing equipment monitoring system is characterized in that:

【0023】第14の発明は、第11の発明において、
上記検出手段がガスクロマトグラフ−質量分析計又はガ
スクロマトグラフ−電子捕獲型検出器分析計のいずれか
であることを特徴とする有機ハロゲン化物処理設備監視
システムにある。
According to a fourteenth aspect, in the eleventh aspect,
The detection means is any one of a gas chromatograph-mass spectrometer and a gas chromatograph-electron capture detector spectrometer.

【0024】第15の発明は、第1の発明において、上
記排気ガスモニタリング手段及び排水モニタリング手段
が、紫外光、可視光又は赤外光の吸収若しくは蛍光等の
発光現象を用いて、ガス・溶液中の有機ハロゲン化物濃
度測定を行うことを特徴とする有機ハロゲン化物処理設
備監視システムにある。
In a fifteenth aspect based on the first aspect, the exhaust gas monitoring means and the waste water monitoring means use a gas / solution solution based on absorption of ultraviolet light, visible light or infrared light, or luminescence such as fluorescence. An organic halide processing equipment monitoring system for measuring the concentration of an organic halide in the apparatus.

【0025】第16の発明は、第1の発明において、上
記排気ガスモニタリング手段及び排水モニタリング手段
が、光源にレーザ光を用いて、ガス・溶液中の有機ハロ
ゲン化物濃度測定を行うことを特徴とする有機ハロゲン
化物処理設備監視システムにある。
A sixteenth invention is characterized in that, in the first invention, the exhaust gas monitoring means and the waste water monitoring means measure the concentration of an organic halide in a gas or a solution using a laser beam as a light source. In the monitoring system for organic halide processing equipment.

【0026】第17の発明は、第16の発明において、
上記レーザに位相変調を加えて位相を検波することを特
徴とする有機ハロゲン化物処理設備監視システムにあ
る。
According to a seventeenth aspect, in the sixteenth aspect,
An organic halide processing equipment monitoring system is characterized in that a phase is detected by applying phase modulation to the laser.

【0027】第18の発明は、第1の発明において、上
記付着濃度モニタリング手段が、容器表面を拭取部材で
拭取り、該拭取部材から有機ハロゲン化物を抽出して有
機ハロゲン化物濃度を測定することを特徴とする有機ハ
ロゲン化物処理設備監視システムにある。
In an eighteenth aspect based on the first aspect, the adhesion concentration monitoring means wipes the surface of the container with a wiping member, extracts the organic halide from the wiping member, and measures the organic halide concentration. An organic halide processing equipment monitoring system is provided.

【0028】第19の発明は、第1の発明において、上
記付着濃度モニタリング手段が、容器又は部材の一部を
採取し、該採取部材から有機ハロゲン化物を抽出して有
機ハロゲン化物濃度を測定することを特徴とする有機ハ
ロゲン化物処理設備監視システムにある。
In a nineteenth aspect based on the first aspect, the adhesion concentration monitoring means samples a part of the container or the member, extracts the organic halide from the sampled member, and measures the organic halide concentration. An organic halide processing equipment monitoring system is characterized in that:

【0029】第20の発明は、第1の発明において、上
記付着濃度モニタリング手段が、洗浄液を希釈し有機ハ
ロゲン化物濃度を測定することを特徴とする有機ハロゲ
ン化物処理設備監視システムにある。
A twentieth aspect of the present invention is the organic halide processing equipment monitoring system according to the first aspect, wherein the adhesion concentration monitoring means dilutes a cleaning liquid and measures an organic halide concentration.

【0030】第21の発明は、第1の発明において、上
記被処理物が有機ハロゲン化物を含有するトランス、コ
ンデンサ及び蛍光灯の安定器並びに有機ハロゲン化物汚
染物であることを特徴とする有機ハロゲン化物処理設備
監視システムにある。
According to a twenty-first aspect, in the first aspect, the object to be processed is a transformer, a condenser, a stabilizer for a fluorescent lamp, and an organic halide contaminant containing the organic halide. It is in the compound processing equipment monitoring system.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】本発明による有機ハロゲン化物処
理設備監視システムの実施の形態を以下に説明するが、
本発明はこれらの実施の形態に限定されるものではな
い。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of an organic halide processing equipment monitoring system according to the present invention will be described below.
The present invention is not limited to these embodiments.

【0032】次に、本発明の装置を用いた有機ハロゲン
化物処理設備監視システムについて説明する。 図1に
示すように、本実施の形態にかかるシステムは、有害物
質である有機ハロゲン化物(例えばPCB)が付着又は
含有又は保存されている被処理物を無害化する有害物質
処理システムであって、被処理物1001である有害物質(
例えばPCB)1002 を保存する容器1003から有害物質10
02を抜き出す抜出し手段1004と、被処理物1001を構成す
る構成材1001a,b,…を解体する解体手段1005のいず
れか一方又は両方を有する前処理手段1006と、前処理手
段1006において処理された被処理物を構成する構成材で
あるコア1001aをコイル1001bと鉄心1001cとに分離す
るコア分離手段1007と、分離されたコイル1001bを銅線
1001dと紙・木1001eとに分離するコイル分離手段1008
と、上記コア分離手段1008で分離された鉄心1001cと解
体手段1005で分離された金属製の容器 (容器本体及び蓋
等)1003 とコイル分離手段1008で分離された銅線1001d
とを洗浄液1010で洗浄する洗浄手段1011と、洗浄後の洗
浄廃液1012及び前処理手段で分離した有害物質1002のい
ずれか一方又は両方を分解処理する有害物質分解処理手
段1013と、PCB処理設備である有害物質分解処理手段
1013から排出する排水133 中のPCB濃度を計測する排
水モニタリング手段1100と、PCB処理物を解体する前
処理手段1006内のPCB濃度及び有害物質分解処理手段
1013から排出する排ガス131等のPCB濃度を計測す
る排気ガスモニタリング手段1200と、洗浄手段1011にお
いて洗浄された容器等の部材のPCB付着濃度を計測す
る付着濃度モニタリング手段1300とを備えてなるもので
ある。
Next, an organic halide processing equipment monitoring system using the apparatus of the present invention will be described. As shown in FIG. 1, the system according to the present embodiment is a harmful substance processing system for detoxifying an object to which a harmful organic halide (eg, PCB) is attached, contained, or stored. The harmful substances that are the object to be treated 1001 (
For example, from the container 1003 that stores
02, a pretreatment means 1006 having one or both of dismantling means 1005 for disassembling components 1001a, b,... Constituting the object 1001, and a pretreatment means 1006. A core separating means 1007 for separating a core 1001a, which is a constituent material of the workpiece, into a coil 1001b and an iron core 1001c;
Coil separating means 1008 for separating 1001d from paper and wood 1001e
And a core 1001c separated by the core separating means 1008, a metal container (container body and lid, etc.) 1003 separated by the disassembling means 1005, and a copper wire 1001d separated by the coil separating means 1008.
Cleaning means 1011 for cleaning the same with a cleaning liquid 1010, harmful substance decomposition processing means 1013 for decomposing one or both of the cleaning waste liquid 1012 after cleaning and the harmful substance 1002 separated by the pretreatment means, and PCB treatment equipment. Some harmful substance decomposition treatment means
Wastewater monitoring means 1100 for measuring PCB concentration in wastewater 133 discharged from 1013, and PCB concentration and harmful substance decomposition treatment means in pretreatment means 1006 for dismantling PCB processing
It comprises exhaust gas monitoring means 1200 for measuring the PCB concentration of the exhaust gas 131 and the like discharged from 1013, and adhesion concentration monitoring means 1300 for measuring the PCB adhesion concentration of a member such as a container cleaned in the cleaning means 1011. is there.

【0033】また、上記有害物質が液体等の場合には、
有害物質分解処理手段1013に直接投入することで無害化
処理がなされ、その保管した容器は構成材の無害化処理
により、処理することができる。
When the harmful substance is a liquid or the like,
Detoxification processing is performed by directly charging the harmful substance decomposition processing means 1013, and the stored container can be processed by detoxification processing of the constituent materials.

【0034】ここで、処理後の排水及び排気ガスについ
ては、排水モニタリング手段1100、排気ガスモニタリン
グ手段1200又は付着濃度モニタリング手段1300を用い
て、PCBの排出基準以下であることを確認するように
している。さらに、設備内にとどまらず、設備外の環境
中及び設備近傍の河川、海水、湖沼水等中のPCB濃度
を排水モニタリング手段1100と排気ガスモニタリング手
段1200とを用いて監視するようにしてもよい。
Here, the waste water and exhaust gas after the treatment are checked using the waste water monitoring means 1100, the exhaust gas monitoring means 1200 or the adhesion concentration monitoring means 1300 so as to confirm that they are equal to or less than the emission standard of PCB. I have. Furthermore, the PCB concentration in the environment outside the facility and in rivers, seawater, lake water, and the like near the facility may be monitored using the wastewater monitoring means 1100 and the exhaust gas monitoring means 1200. .

【0035】上記有害物質処理手段1013としては、図1
1に示した水熱酸化分解処理する水熱酸化分解処理手段
の他に、例えば超臨界水酸化処理する超臨界水酸化処理
手段又はバッチ式の水熱酸化分解手段としてもよい。
As the harmful substance processing means 1013, FIG.
In addition to the hydrothermal oxidative decomposition treatment means for performing the hydrothermal oxidative decomposition treatment shown in FIG. 1, for example, a supercritical oxidative treatment means for performing supercritical oxidative treatment or a batch type hydrothermal oxidative decomposition means may be used.

【0036】本発明で被処理物としては、例えば絶縁油
としてPCBを用いてなるトランスやコンデンサ、有害
物質である塗料等を保存している保存容器を例示するこ
とができるが、これらに限定されるものではない。
Examples of the object to be treated in the present invention include, for example, transformers and capacitors using PCB as an insulating oil, and storage containers storing paints that are harmful substances, but are not limited thereto. Not something.

【0037】また、蛍光灯用の安定器においても従来は
PCBが用いられていたので無害化処理する必要があ
り、この場合には、容量が小さいので前処理することな
く、分離手段1009に直接投入することで無害化処理する
ことができる。
In the ballast for fluorescent lamps, PCBs have been used in the past, so that it is necessary to perform detoxification processing. In this case, the capacity is small, and the pretreatment is not performed. Detoxification treatment can be performed by charging.

【0038】<排水モニタリング手段>上記排水モニタ
リング手段1100としては、例えば図2〜4に示すよう
な、固相抽出ガスクロマトグラフ装置を挙げることがで
きる。
<Drainage Monitoring Means> Examples of the wastewater monitoring means 1100 include a solid phase extraction gas chromatograph as shown in FIGS.

【0039】図2に示すように、本実施の形態にかかる
排水モニタリング手段1100は、水溶液中の有機ハロゲン
化物の濃度を検出する検出装置であって、採取試料11
を導入し、固相吸着材で有機ハロゲン化物(PCB)を
保持する固相・吸着手段12と、該固相・吸着手段12
からの溶出液16を1〜5μl導入し、溶出された有機
ハロゲン化物の定性及び定量分析を行う検出手段14と
を備えてなるものである。上記検出手段14への溶出液
の導入は、手動で行う以外に、図1に示すように、例え
ばオートサンプラー13を介して自動的に導入するよう
にしてもよい。
As shown in FIG. 2, the drainage monitoring means 1100 according to the present embodiment is a detection device for detecting the concentration of an organic halide in an aqueous solution,
And a solid-phase / adsorption means 12 for holding an organic halide (PCB) with a solid-phase adsorbent;
And a detecting means 14 for introducing 1 to 5 μl of an eluate 16 from the extract and performing qualitative and quantitative analysis of the eluted organic halide. The introduction of the eluate into the detection means 14 may be carried out automatically, for example, via an autosampler 13, as shown in FIG.

【0040】また、この検出手段14により検出された
PCB濃度は、監視司令室へ送ると共に、例えば所定の
モニタ装置(例えばPCB濃度表示手段)15により光
通信等により外部へ公表するようにしてもよい。
The PCB density detected by the detection means 14 is sent to the monitoring command room, and is also disclosed to the outside by a predetermined monitor device (for example, PCB density display means) 15 by optical communication or the like. Good.

【0041】上記固相・吸着手段12は、図3(A)に
示すように、抽出カラム21内に固相吸着材22が挿入
されてなるものであり、上記固相吸着材はシリカゲル又
はアルミナから構成されている。
As shown in FIG. 3A, the solid-phase / adsorbing means 12 has a solid-phase adsorbent 22 inserted into an extraction column 21. The solid-phase adsorbent is made of silica gel or alumina. It is composed of

【0042】上記固相吸着材22としたシリカゲル又は
アルミナを選定したのは、有機ハロゲン化物を効率的に
吸着・分離するのが適しているからである。
The reason why silica gel or alumina is selected as the solid-phase adsorbent 22 is that it is suitable to efficiently adsorb and separate an organic halide.

【0043】上記固相吸着材に保持された有機ハロゲン
化物を溶出する溶出液16は目的の有機ハロゲン化物の
みを溶出する溶剤であれば特に限定されるものではない
が、例えば有機ハロゲン化物としてPCBの場合には、
無極性溶剤(例えばn−ヘキサン)、アルコール類(例
えばメチルアルコール、エチルアルコール等)、トルエ
ン、ジクロロメタン、又はアセトニトリルを挙げること
ができる。特に、検出器との関係からn−ヘキサンを用
いるのが好ましい。
The eluate 16 for eluting the organic halide held by the solid phase adsorbent is not particularly limited as long as it is a solvent that elutes only the target organic halide. In Case of,
Examples include nonpolar solvents (eg, n-hexane), alcohols (eg, methyl alcohol, ethyl alcohol, etc.), toluene, dichloromethane, and acetonitrile. Particularly, it is preferable to use n-hexane from the relation with the detector.

【0044】また、排水の監視は所定時間毎に行う必要
があるので、定期的に採取試料を導入する試料導入手段
を設け、自動的なサンプリングが可能となる。
Further, since it is necessary to monitor the drainage at predetermined time intervals, a sample introducing means for periodically introducing a collected sample is provided, and automatic sampling becomes possible.

【0045】また、分析精度を向上させるために、必要
に応じて1度に数検体を同時に行うような場合には、上
記カラム21を複数本用意して、同時に有機ハロゲン化
物を固相・吸着するようにしてもよい。
In order to improve the analysis accuracy, if several samples are to be simultaneously performed at the same time as required, a plurality of the columns 21 are prepared, and the organic halides are solid-phase and adsorbed simultaneously. You may make it.

【0046】以下に、固相・吸着手段12の抽出工程を
図3(A)〜(D)を参照して説明する。 コンディショニング工程 再現性のよい結果を得るために、試料を供給する前に、
固相吸着材22にコンディショニング液31を供給し
て、なじませる(図3(A)参照)。 保持工程 次に、採取試料32をカラム21内に導入する(図3
(B)参照)。ここで、試料中には目的物であるPCB
33と、不純物X(不要なマトリックス)及び不純物Y
(その他のマトリックス中の成分)とが含まれていると
する。 洗浄工程 次に、固相吸着材22に保持された不純物Xを洗浄液
(例えばメチルアルーコール)で洗い流す(図3(C)
参照)。 溶出工程 次に、固相吸着材22に保持された目的物であるPCB
33を溶出液(n−ヘキサン)35で溶出させる。この
溶出の際に、不純物Yは固相吸着材22中に残りPCB
33との分離がなされる(図3(D)参照)。なお、本
実施の形態では、有機ハロゲン化物として、PCBを例
にして説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
なく、工場や焼却炉からの排水又は河川等の水中の例え
ばダイオキシン類等の計測にも適用することができる。
Hereinafter, the extraction step of the solid-phase / adsorption means 12 will be described with reference to FIGS. Conditioning process To obtain reproducible results,
The conditioning liquid 31 is supplied to the solid-phase adsorbent material 22 to allow it to conform (see FIG. 3A). Holding Step Next, the sample 32 is introduced into the column 21 (FIG. 3).
(B)). Here, in the sample, the target PCB
33, impurity X (unnecessary matrix) and impurity Y
(Other components in the matrix). Cleaning Step Next, the impurities X retained on the solid-phase adsorbent 22 are washed away with a cleaning liquid (for example, methyl alcohol) (FIG. 3C).
reference). Elution Step Next, the target substance PCB held by the solid-phase adsorbent 22
33 is eluted with an eluate (n-hexane) 35. At the time of this elution, the impurity Y remains in the solid
33 is separated (see FIG. 3D). In the present embodiment, the PCB has been described as an example of the organic halide. However, the present invention is not limited to this. For example, dioxins in wastewater from factories or incinerators or in water such as rivers. Etc. can also be applied.

【0047】図4に上記有機ハロゲン化物の検出装置を
用いた固相抽出の工程図を示す。 先ず、固相吸着材22にn−ヘキサンを20mL供給
し、固相乾燥(真空引き)を5分行う(S101)。 次いで、メチルアルコールを20mL、超純水を20
mLを流した後、試料(0.1〜1L)を導入し、PCB
を捕集し、固相抽出する(S102)。この際、試料に
はメチルアルコールを1%添加した。このメチルアルコ
ールの添加はPCBを分散させる機能を有している。 その後、洗浄液(メチルアルコール)を5mLを流し
(通液速度:0.3cc/s)洗浄する(S103)。 その後、固相吸着材22を乾燥(真空引き)を5分間
行う(S104)。 その後、n−ヘキサンを用い、通液速度を0.3cc/
sとしてPCBを溶出させ(S105)、5mLに定容
する(S106)。 次いで、ガスクロマトグラフ−質量分析計(GC−M
S)又はガスクロマトグラフ−電子捕獲型検出器分析計
(GC−ECD)のいずれかで1〜5μlを分析し(S
107)、PCB濃度を測定する(S108)。 上記PCBを溶出したカラムはn−ヘキサントアセト
ンの混合液(1:1)で逆洗し、再生処理したのち、再
度PCBの測定に供することができる。
FIG. 4 shows a process chart of solid-phase extraction using the above-mentioned organic halide detector. First, 20 mL of n-hexane is supplied to the solid phase adsorbent 22, and solid phase drying (evacuating) is performed for 5 minutes (S101). Next, 20 mL of methyl alcohol and 20 mL of ultrapure water were added.
After flowing mL, a sample (0.1 to 1 L) was introduced, and PCB
Is collected and subjected to solid-phase extraction (S102). At this time, 1% of methyl alcohol was added to the sample. This addition of methyl alcohol has the function of dispersing the PCB. After that, 5 mL of a cleaning liquid (methyl alcohol) is flowed (flow rate: 0.3 cc / s) to perform cleaning (S103). Thereafter, the solid-phase adsorbent 22 is dried (evacuated) for 5 minutes (S104). Then, using n-hexane, the flow rate was 0.3 cc /
As s, PCB is eluted (S105), and the volume is adjusted to 5 mL (S106). Then, a gas chromatograph-mass spectrometer (GC-M
Analyze 1-5 μl with either S) or a gas chromatograph-electron capture detector analyzer (GC-ECD) (S
107), and measure the PCB concentration (S108). The column from which the PCB has been eluted can be backwashed with a mixed solution of n-hexanetoacetone (1: 1), regenerated, and then subjected to PCB measurement again.

【0048】この時の分析時間は約2時間弱であった。
比較のため、従来による公定法(計測時間:2日)と比
較すると、以下のようであった。なお、検出器はガスク
ロマトグラフ−電子捕獲型検出器分析計(GC−EC
D)を用いた。
The analysis time at this time was less than about 2 hours.
For comparison, a comparison with the conventional official method (measurement time: 2 days) was as follows. The detector was a gas chromatograph-electron capture detector analyzer (GC-EC
D) was used.

【0049】環境排出基準値は3ppb(0.003mg
/L)以下であることが要求されているが、本発明の装
置によれば、定量下限値が0.5ppb〜0.1ppbで
あり、迅速分析でしかも簡易な装置によって、十分に対
応することができた。
The environmental emission standard value is 3 ppb (0.003 mg).
/ L) is required, but according to the apparatus of the present invention, the lower limit of quantification is 0.5 ppb to 0.1 ppb, and it can be adequately dealt with by a rapid analysis and a simple apparatus. Was completed.

【0050】よって、本計測装置を用いて、所定時間毎
に分析して、排水の排出基準を満たしているかを常に監
視することができ、非常事態があった場合等に、PCB
濃度が排出基準を超える場合には、タンクを切替て、再
度排水中のPCBを処理すべく、PCB処理装置1013へ
送るようにして、外部環境汚染を防止することができ
る。
Therefore, the present measuring device can be used to analyze at predetermined time intervals to constantly monitor whether or not the wastewater discharge standards are satisfied.
If the concentration exceeds the discharge standard, the tank is switched and sent to the PCB processing device 1013 to treat the PCB in the wastewater again, thereby preventing external environmental pollution.

【0051】<排ガスモニタリング手段>次に、本発明
にかかる排気ガスをモニタリングする場合には、例えば
レーザイオン化飛行時間型質量分析装置を挙げることが
できる。
<Exhaust Gas Monitoring Means> Next, when monitoring the exhaust gas according to the present invention, for example, a laser ionization time-of-flight mass spectrometer can be used.

【0052】図5に上記排気ガスモニタリング手段の具
体的な装置を示す。図5に示すように、レーザイオン化
飛行時間型質量分析装置50は、採取試料を真空チャン
バー内へ連続的に導入する試料導入手段であるキャピラ
リカラム54と、導入された試料である洩れだし分子線
53にレーザ光55を照射し、レーザイオン化させるレ
ーザ照射手段56と、レーザイオン化した分子を収束さ
せる収束部と、該収束された分子を選択濃縮するイオン
トラップ57と、一定周期で放出され、リフレクトロン
58で反射されたイオンを検出するイオン検出器59を
備えた飛行時間型質量分析装置60とを具備してなるも
のである。
FIG. 5 shows a specific device of the exhaust gas monitoring means. As shown in FIG. 5, a laser ionization time-of-flight mass spectrometer 50 includes a capillary column 54 which is a sample introduction means for continuously introducing a collected sample into a vacuum chamber, and a leaked molecular beam which is an introduced sample. A laser irradiating means 56 for irradiating the laser 53 with a laser beam 55 to be laser-ionized, a converging section for converging the laser-ionized molecules, an ion trap 57 for selectively concentrating the converged molecules; And a time-of-flight mass spectrometer 60 provided with an ion detector 59 for detecting ions reflected by the Ron 58.

【0053】そして、この検出器59により検出された
信号強度の比較から測定対象のPCB濃度を求めること
ができる。
Then, from the comparison of the signal intensities detected by the detector 59, the concentration of the PCB to be measured can be obtained.

【0054】図6に上記レーザイオン化飛行時間型質量
分析装置を用いた、計測システムを示す。図6に示すよ
うに、PCB濃度計測システム62は、PCB排出ライ
ンから分枝したガスサンプリングライン63が真空チャ
ンバ52と接続されており、該ライン61より真空チャ
ンバ52内に洩れだし分子線として試料が導入され、レ
ーザ照射装置56からのレーザ光55によりイオン化さ
れ飛行時間型質量分析装置60によりイオンが検出され
る。なお、図中、符号63は真空チャンバ52内を真空
にする真空排気装置、64はこれらの装置を制御するコ
ントローラである。 この計測システムを用いることに
より、PCB濃度を検出感度が0.01mg/Nm3 、検
出時間が1分以内の高感度迅速分析が可能となり、リア
ルタイム分析が可能とる。
FIG. 6 shows a measurement system using the above laser ionization time-of-flight mass spectrometer. As shown in FIG. 6, in the PCB concentration measurement system 62, a gas sampling line 63 branched from a PCB discharge line is connected to a vacuum chamber 52, and leaks into the vacuum chamber 52 from the line 61, and a sample is formed as a molecular beam. Is introduced, ionized by a laser beam 55 from a laser irradiation device 56, and ions are detected by a time-of-flight mass spectrometer 60. In the drawing, reference numeral 63 denotes a vacuum exhaust device for evacuating the vacuum chamber 52, and 64 denotes a controller for controlling these devices. By using this measurement system, detection sensitivity of PCB concentration is 0.01 mg / Nm 3, the detection time enables highly sensitive rapid analysis within one minute, taking possible real-time analysis.

【0055】図7(a)及び(b)にPCBを検出した
イオン検出器からのシグナルの 一例を示す。ここで、
横軸は飛行時間(秒)であり、縦軸はイオン信号強度
(V)である。なお、4塩素のPCBについては図7
(a)の拡大図として図7(b)に示した。
FIGS. 7A and 7B show an example of a signal from the ion detector that has detected PCB. here,
The horizontal axis is the flight time (second), and the vertical axis is the ion signal intensity (V). Fig. 7 shows the PCB for 4-chlorine.
FIG. 7B is an enlarged view of FIG.

【0056】ここで、作業環境基準値は、前処理手段10
06内での作業環境許容濃度は0.1mg/m3 以下である
ことが要求されているが、本発明のシステムによれば、
検出下限値が0.01mg/m3 (10ppb)であり、
迅速分析でしかも簡易な装置によって、十分に対応する
ことができた。
Here, the working environment reference value is determined by the pre-processing means 10.
It is required that the working environment allowable concentration within 06 is 0.1 mg / m 3 or less, but according to the system of the present invention,
The detection lower limit is 0.01 mg / m 3 (10 ppb),
The quick analysis and simple equipment were sufficient to respond.

【0057】また、有害物質処理手段1013である水熱酸
化分解装置から排出される排ガス131についてもモニ
タリングをすることで、水熱酸化分解が良好に行われて
いるかを監視することができる。
Also, by monitoring the exhaust gas 131 discharged from the hydrothermal oxidative decomposition device as the harmful substance treatment means 1013, it is possible to monitor whether the hydrothermal oxidative decomposition is performed well.

【0058】また、各種処理設備からの排ガスは集中し
て活性炭槽を経由した後に外部へ排出されるが、その際
のPCB濃度の監視をすることもできる。
Exhaust gas from various treatment facilities is concentrated and discharged to the outside after passing through the activated carbon tank. At this time, the PCB concentration can be monitored.

【0059】上記計測装置を用い、例えばPCB分解処
理設備内のガスを迅速且つ的確に測定することができ、
この測定結果を基に、処理工程の監視をすることができ
る。
By using the above-mentioned measuring device, for example, the gas in the PCB decomposition treatment equipment can be measured quickly and accurately.
Based on the measurement results, the processing steps can be monitored.

【0060】計測されたPCB濃度は、監視司令室へ送
ると共に、例えばモニタ装置(図示せず)等により外部
へ公表するようにしてもよい。
The measured PCB concentration may be sent to a monitoring command room, and may be disclosed to the outside by, for example, a monitor device (not shown).

【0061】上記排水モニタリング手段及び排ガスモニ
タリング手段は別々の装置を用いて監視しているが、本
発明ではこれに特定されるものではなく、例えば紫外
光、可視光又は赤外光の吸収若しくは蛍光等の発光現象
を用いて、ガス・溶液中のPCB濃度を行うようにして
もよい。
Although the wastewater monitoring means and the exhaust gas monitoring means are monitored using separate devices, they are not specified in the present invention, but may be, for example, absorption of ultraviolet light, visible light or infrared light or fluorescence. The PCB concentration in the gas / solution may be determined by using a light emission phenomenon such as the above.

【0062】測定は紫外領域は300nm以下とくには
200〜300nm、可視領域は400〜760nm近
傍、赤外領域は900cm-1以下とするのが好ましい。
また、PCBの定量に用いる場合には、赤外領域では1
457cm-1に吸収があるので、好ましい。
In the measurement, it is preferable that the ultraviolet region is 300 nm or less, particularly 200 to 300 nm, the visible region is around 400 to 760 nm, and the infrared region is 900 cm -1 or less.
When used for quantification of PCBs, 1 in the infrared region.
This is preferable because there is absorption at 457 cm -1 .

【0063】この際、PCB類であることを確実とする
ために、複数の波長の測定を同時に行い、総合的に判断
するようにしてもよい。例えば、赤外領域で2波長、紫
外領域で2波長、又は赤外領域と紫外領域との併用等で
ある。
At this time, a plurality of wavelengths may be measured at the same time to make a comprehensive judgment in order to ensure that they are PCBs. For example, two wavelengths in the infrared region, two wavelengths in the ultraviolet region, or a combination of the infrared region and the ultraviolet region.

【0064】また光源としてレーザを用い、所定の光路
長さに設定して排ガス又は排水中のPCB濃度を測定す
るようにしてもよい。
Alternatively, a laser may be used as a light source, and a predetermined optical path length may be set to measure the PCB concentration in exhaust gas or wastewater.

【0065】また、図8に示すようにレーザを用いた位
相変調測定装置により高感度にPCBを検出するように
してもよい。図8に示すように、排水管又は排ガス管7
1にレーザ光72を照射するレーザ光源73と、光源を
制御して所望の波長のレーザ光72を出射させるレーザ
駆動装置74と、レーザ光の発振波長に変調を付与する
変調信号を発生させる発振機75と、透過したレーザ光
を受光する検出器76と、発振機75の出力信号の周波
数成分のn(n≧2、nは整数)倍周期の信号を発生す
る周波数逓倍部77と、周波数逓倍部の出力信号と検出
器76の出力信号に基づいて検出信号を発生する位相敏
感検出器(ロックインアンプ:PSD)78とを具備す
るものである。このレーザを用いた位相変調測定法によ
れば、発振レーザに変調を加え、そのレーザ光の受光の
際に周波数逓倍された変調信号により同期検波を行い、
その出力として高次微分吸収信号を得ることで、被測定
物(ガス又は排水)中のPCB濃度を高精度で且つ連続
的に測定することができる。
Further, as shown in FIG. 8, a PCB may be detected with high sensitivity by a phase modulation measuring device using a laser. As shown in FIG.
1, a laser light source 73 that irradiates the laser light 72, a laser driving device 74 that controls the light source to emit the laser light 72 of a desired wavelength, and an oscillation that generates a modulation signal that modulates the oscillation wavelength of the laser light. A detector 75 for receiving the transmitted laser light; a frequency multiplier 77 for generating a signal having a cycle of n (n ≧ 2, n is an integer) times the frequency component of the output signal of the oscillator 75; A phase sensitive detector (lock-in amplifier: PSD) 78 that generates a detection signal based on the output signal of the multiplier and the output signal of the detector 76 is provided. According to the phase modulation measurement method using this laser, a modulation is applied to an oscillation laser, and synchronous detection is performed by a frequency-multiplied modulation signal when receiving the laser light.
By obtaining a high-order differential absorption signal as the output, the PCB concentration in the measured object (gas or drainage) can be measured with high accuracy and continuously.

【0066】また、排ガスを例えば固相吸着することで
濃縮して、ガスクロマトグラフ−電子捕獲型検出器分析
計(GC−ECD)でPCB濃度を測定するようにして
もよい。
Further, the exhaust gas may be concentrated by, for example, solid phase adsorption, and the PCB concentration may be measured by a gas chromatograph-electron capture detector analyzer (GC-ECD).

【0067】また、排ガス中のPCBを溶媒(n−ヘキ
サン等)で吸収させ、その後液液抽出することで濃縮分
離して、ガスクロマトグラフ−電子捕獲型検出器分析計
(GC−ECD)でPCB濃度を測定するようにしても
よい。
Further, the PCB in the exhaust gas is absorbed by a solvent (such as n-hexane), then concentrated and separated by liquid-liquid extraction, and the PCB is analyzed by a gas chromatograph-electron capture detector analyzer (GC-ECD). The concentration may be measured.

【0068】さらに、排ガス又は排水の通路に固相吸収
材を介装させ、該固相吸収材にPCBを吸着させ、その
後紫外線照射による吸光光度(UV法)によりPCB濃
度を計測するようにしてもよい。
Further, a solid phase absorbing material is interposed in a passage of exhaust gas or waste water, PCB is adsorbed on the solid phase absorbing material, and then the concentration of PCB is measured by the absorbance (UV method) by ultraviolet irradiation. Is also good.

【0069】<付着濃度モニタリング手段>次に、本発
明にかかる洗浄後のPCB付着濃度をモニタリングする
場合について説明する。
<Adhesion Concentration Monitoring Means> Next, a case of monitoring the PCB adhesion concentration after washing according to the present invention will be described.

【0070】上記付着濃度モニタリング手段としては、
洗浄手段1011での処理後の容器表面を所定面積(500
cm2 (約25cm四方))につき拭取部材(例えば脱
脂綿)で拭取り、該拭取部材からn−ヘキサンを用いて
PCBを抽出し、その後ガスクロマトグラフ法によりP
CB濃度を測定するようにしている。
As the adhesion concentration monitoring means,
The surface of the container after the treatment by the washing means 1011 is formed in a predetermined area (500
cm 2 (approximately 25 cm square)) with a wiping member (for example, absorbent cotton), and PCB was extracted from the wiping member with n-hexane.
The CB concentration is measured.

【0071】また、上記ガスクロマトグラフ法の代わり
に、上述したガスクロマトグラフ−電子捕獲型検出器分
析計(GC−ECD)を用いることもできる。
Further, instead of the above-described gas chromatograph method, the above-mentioned gas chromatograph-electron capture detector analyzer (GC-ECD) can be used.

【0072】また、容器のように拭取面積が大きくない
ような場合には、約1cm3 以下の直方体50gからn
−ヘキサンを用いてPCBを抽出し、その後ガスクロマ
トグラフ法によりPCB濃度を測定するようにしてい
る。また、上記ガスクロマトグラフ法の代わりに、上述
したガスクロマトグラフ−電子捕獲型検出器分析計(G
C−ECD)を用いることもできる。
In the case where the wiping area is not large like a container, a rectangular parallelepiped 50 g of about 1 cm 3 or less can be used.
-Extraction of PCB using hexane, and then measurement of PCB concentration by gas chromatography. Further, instead of the gas chromatograph method, the above-described gas chromatograph-electron capture detector analyzer (G
C-ECD) can also be used.

【0073】また、洗浄液を所定濃度に希釈し、ガスク
ロマトグラフ−電子捕獲型検出器分析計(GC−EC
D)等によりPCB濃度を測定することもできる。
Further, the cleaning solution is diluted to a predetermined concentration, and the diluted solution is subjected to gas chromatography / electron capture detector analyzer (GC-EC).
The PCB concentration can also be measured by D) or the like.

【0074】よって、本計測装置を用いて、所定時間毎
に分析して、排水の排出基準を満たしているかを常に監
視することができ、非常事態があった場合に、PCB濃
度が排出基準を超える場合には、タンクを切替て、再度
排水中のPCBを処理すべく、PCB処理装置1013へ送
るようにして、外部環境汚染を防止することができる
Therefore, by using the present measuring device, it is possible to analyze at predetermined time intervals and to constantly monitor whether or not the wastewater discharge standard is satisfied. In the event of an emergency, the PCB concentration is adjusted to the discharge standard. If it exceeds, the tank is switched and sent to the PCB processing apparatus 1013 to treat the PCB in the drainage again, thereby preventing external environmental pollution.

【0075】[0075]

【実施例】以下、本発明の好適な一実施例について説明
するが、本発明はこの実施例に限定されるものではな
い。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A preferred embodiment of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to this embodiment.

【0076】図9にPCB含有トランスの処理の実施例
にかかるシステム平面図を示す。図9に示すように、本
実施例にかかる有害物質処理システムは、PCBが付含
有されているトランスを無害化する有害物質処理システ
ムであって、前処理してコアと容器とを分離する第1処
理手段301と、コアを切断してコイルと鉄心とに分離
する第2処理手段302と、コイルを破砕し、紙・木の
有機物と銅線の無機物とに分離する第4処理手段304
と、容器、蓋及び分離した銅線を洗浄する第5処理手段
305と、紙・木の有機物を微粉砕してスラリー95と
する第6処理手段306とからなり、必要に応じて(例
えばPCBが高濃度の場合)、真空乾燥する第7処理手
段307が第1処理手段301と第2処理手段302と
の間に介装されている。
FIG. 9 is a plan view of a system according to an embodiment of the processing of the PCB-containing transformer. As shown in FIG. 9, the harmful substance processing system according to the present embodiment is a harmful substance processing system for detoxifying a transformer containing a PCB, and includes a pretreatment for separating a core and a container by pretreatment. A first processing means 301; a second processing means 302 for cutting the core to separate it into a coil and an iron core; and a fourth processing means 304 for crushing the coil and separating it into paper / wood organic matter and copper wire inorganic matter.
And a fifth processing means 305 for cleaning the container, the lid and the separated copper wire, and a sixth processing means 306 for finely pulverizing organic matter of paper and wood to obtain a slurry 95. Is high concentration), a seventh processing means 307 for vacuum drying is interposed between the first processing means 301 and the second processing means 302.

【0077】本実施例においては、トランスのPCB含
有量が低い場合には、第1の処理手段301を隔離して
環境基準を高い(クラス3)管理としており、安全性に
配慮している。また、第2処理手段302〜第7処理手
段307は管理区域の基準をクラス3についで高いクラ
ス2としており、建屋内はクラス1の環境大気となるよ
うに安全管理レベルを設定している。なお、このクラス
分けは必要に応じてさらに細かに設定してもよい。
In the present embodiment, when the PCB content of the transformer is low, the first processing means 301 is isolated and the environmental standard is set to a high (class 3) management, and safety is considered. Further, the second processing means 302 to the seventh processing means 307 set the standard of the management area to Class 2 which is the highest after Class 3, and set the safety management level so that the inside of the building becomes Class 1 environmental atmosphere. The classification may be set more finely as needed.

【0078】この第1処理手段301ではPCBの外部
への漏れを防止するために、グローブボックス内で処理
がなされ、該グローブボックス内を負圧としている。上
記第1処理手段301では、トランスを輸送した蓋を
開放する工程と、トランス蓋を開放する工程と、洗
浄用の蓋をセットする工程と、PCBを液抜きする工
程と、粗洗浄する工程と、コア解体・引抜きする工
程とからなっている。
In the first processing means 301, processing is performed in the glove box in order to prevent leakage of the PCB to the outside, and the inside of the glove box is set to a negative pressure. In the first processing means 301, a step of opening a lid that has transported a transformer, a step of opening a transformer lid, a step of setting a lid for cleaning, a step of draining PCB, and a step of rough cleaning And a process of disassembling and extracting the core.

【0079】上記分離された容器30a、蓋30b、銅
線90及び鉄心等の金属類は仕上洗浄の第5の手段30
5内において洗浄され、有価物質は再利用に供される。
ここで、PCB付着付着濃度モニタリング手段として、
洗浄後の容器を検査する洗浄後容器検査手段308が設
けられている。
The separated containers 30a, lids 30b, copper wires 90, and irons and other metals are used to finish the fifth cleaning means 30.
Washed in 5 and the valuable material is recycled.
Here, as the PCB adhesion concentration monitoring means,
A post-wash container inspection means 308 for inspecting the washed container is provided.

【0080】また、洗浄後の洗浄排液及び前処理手段で
分離したPCB及びスラリー95は有害物質分解処理手
段1013である水熱酸化分解装置120で分解処理してい
る。また、処理において発生するPCB汚染物(例えば
切粉、切削油、拭取布、作業衣等)も同様に上記水熱酸
化分解装置120で分解処理している。また、設備内の
換気は活性炭槽等の浄化処理装置を通過させて外部は排
気している。
Further, the washing wastewater after washing and the PCB and the slurry 95 separated by the pretreatment means are decomposed by a hydrothermal oxidative decomposer 120 which is a harmful substance decomposition treatment means 1013. In addition, PCB contaminants (for example, chips, cutting oil, wiping cloth, work clothes, and the like) generated in the processing are similarly decomposed by the hydrothermal decomposition apparatus 120. In addition, the ventilation in the equipment is passed through a purification treatment device such as an activated carbon tank and exhausted to the outside.

【0081】該水熱酸化分解装置120からの排気ガス
131は2段階の活性炭槽130A及び130Bを通過
した後、排気ガスモニタリング手段309A〜Cで監視
され、外部へ排出される。
After passing through the two-stage activated carbon tanks 130A and 130B, the exhaust gas 131 from the hydrothermal oxidative decomposition device 120 is monitored by exhaust gas monitoring means 309A to 309C and discharged to the outside.

【0082】また、第1の処理手段301はPCBを液
抜きするので、排気ライン351には活性炭吸着装置3
51が介装されており、この排ガスラインにおいても第
1〜第3の排ガスモニタリング手段309A〜309C
によりPCB濃度が監視されている。
Since the first processing means 301 drains the PCB, the exhaust line 351 is connected to the activated carbon adsorbing device 3.
51 are interposed, and also in this exhaust gas line, first to third exhaust gas monitoring means 309A to 309C are provided.
Monitor the PCB concentration.

【0083】そして、第1のモニタリング手段309A
で規定値を超えるような場合には、換気を十分にすると
共に、活性炭吸着装置に異常がないか否かを確認するよ
うにしている。
Then, the first monitoring means 309A
If the value exceeds the specified value in, the ventilation is sufficient and it is checked whether there is any abnormality in the activated carbon adsorption device.

【0084】また、第7の処理手段307である真空乾
燥工程においても、PCB濃度が高いので排気ライン3
50には活性炭吸着装置が介装されており、この排気ガ
スについても同様に監視がなされている。また、第2及
び第3の排ガスモニタリング手段309B、309Cは
排ガスが確実に処理されていることを監視している。
Also, in the vacuum drying step as the seventh processing means 307, since the PCB concentration is high, the exhaust line 3
50 is provided with an activated carbon adsorption device, and the exhaust gas is monitored in the same manner. Further, the second and third exhaust gas monitoring means 309B and 309C monitor that the exhaust gas is surely processed.

【0085】さらに、管理区域314内を監視するよう
に管理区域内作業環境検査手段として第4の排ガスモニ
タリング手段309Dが設けられている。
Further, a fourth exhaust gas monitoring means 309D is provided as a working environment inspection means in the control area so as to monitor the inside of the control area 314.

【0086】また、第1の手段301の部屋内での容器
処理室の作業環境を監視する第5の排ガスモニタリング
手段309Dが設けられている。これにより、PCB容
器の開封作業中にPCBの異常な漏れがあった場合にも
迅速に監視することができる。
Further, a fifth exhaust gas monitoring means 309D for monitoring the working environment of the container processing chamber in the room of the first means 301 is provided. Thereby, even when there is an abnormal leakage of the PCB during the opening operation of the PCB container, it is possible to quickly monitor the leakage.

【0087】また、第1の手段301へ搬送する前に複
数のPCB含有容器を貯蔵しておく受入倉庫320内の
環境を監視する第6の排ガスモニタリング手段309F
が設けられている。これにより、受入たPCB容器に微
細な破損等が生じた場合に、PCBの漏れがあった場合
にも迅速に監視することができる。
The sixth exhaust gas monitoring means 309F for monitoring the environment in the receiving warehouse 320 for storing a plurality of PCB-containing containers before transporting to the first means 301.
Is provided. Thus, when the received PCB container is slightly damaged or the like, and when there is a leakage of the PCB, it is possible to quickly monitor the leakage.

【0088】さらに、上記管理区域外の外部環境を監視
する第7の排ガスモニタリング手段309Gが設けられ
ている。これにより、管理区域内のみならず、管理区域
外の周辺の環境状況も監視することができる。
Further, a seventh exhaust gas monitoring means 309G for monitoring the external environment outside the management area is provided. Thus, it is possible to monitor not only the inside of the management area, but also the surrounding environment outside the management area.

【0089】また、この排ガス監視の信頼性を向上させ
るために、排ガスを濃縮して固相抽出し、これをガスク
ロマトグラフ−電子捕獲型検出器分析計(GC−EC
D)により濃度を公定法に準じて計測することもでき
る。
Further, in order to improve the reliability of the exhaust gas monitoring, the exhaust gas is concentrated and subjected to solid-phase extraction, which is then subjected to gas chromatography-electron capture detector analysis (GC-EC).
According to D), the concentration can be measured according to the official method.

【0090】一方、排水113は処理水タンク140で
一時的に保管して、排水検査手段である排水モニタリン
グ手段310Aで排水排水基準を満たしている場合に、
バッファタンク141へ移動され、その後排水処理され
る。
On the other hand, the wastewater 113 is temporarily stored in the treated water tank 140, and when the wastewater monitoring means 310A as the wastewater inspection means meets the wastewater drainage standard,
It is moved to the buffer tank 141 and then drained.

【0091】さらに、上記管理区域外の外部環境の河川
・海水等を監視する河川・海水モニタリング手段310
Bが設けられている。これにより、管理区域内のみなら
ず、管理区域外の周辺の環境状況も監視することができ
る。
Further, a river / seawater monitoring means 310 for monitoring a river / seawater in an external environment outside the above-mentioned management area.
B is provided. Thus, it is possible to monitor not only the inside of the management area, but also the surrounding environment outside the management area.

【0092】図10は上述した処理システムのフローの
一例である。図10に示すように、まず、トランス30
を受け入れた後、トランス30の蓋明けを行う(S10
01)。なお、コンデンサは内圧がかかっているので、
PCB液が外部へ吹き出さないように行う必要がある。
次に、PCBの液抜きを行う(S1002)。PCBを
抜き取ったトランス30は、付着PCBレベルを低減す
るために粗洗浄される(S1003)。つぎに、蓋30
bを取り外した状態のトランス容器30aを真空加熱炉
内81に入れ、真空下で加熱を行う(S1004)。続
いて、上記真空加熱を終了したトランス30を解体する
(S1005)。また、コアを切断し鉄心とコイルにす
る(S1006)。コイルを銅線と紙・木とに分別する
(S1007)。紙・木をスラリー化する(S100
8)。続いて、S1005の解体工程において発生した
金属および碍子と、ステップS1006のコア切断工程
において分別した鉄心と、ステップS1007で分離し
た銅片を超音波洗浄槽にて洗浄する(S1009)。な
お、鉄心は積層されているので分解した後(S101
1)に、仕上洗浄することが望ましい。つぎに、PCB
処理設備120にて、ステップS1002にて油抜きし
た絶縁油、洗浄廃液、及びS1008にて生成したスラ
リーを水熱酸化分解する(S1010)。
FIG. 10 shows an example of the flow of the processing system described above. As shown in FIG.
Is received, the transformer 30 is opened (S10).
01). Since the internal pressure is applied to the capacitor,
It is necessary to prevent the PCB liquid from blowing out.
Next, the PCB is drained (S1002). The transformer 30 from which the PCB has been extracted is roughly cleaned to reduce the level of the attached PCB (S1003). Next, the lid 30
The transformer container 30a from which b has been removed is placed in a vacuum heating furnace 81, and heated under vacuum (S1004). Subsequently, the transformer 30 having completed the vacuum heating is disassembled (S1005). In addition, the core is cut into an iron core and a coil (S1006). The coil is separated into copper wire and paper / wood (S1007). Slurry paper and wood (S100
8). Subsequently, the metal and insulator generated in the disassembly step of S1005, the iron core separated in the core cutting step of step S1006, and the copper piece separated in step S1007 are washed in an ultrasonic cleaning tank (S1009). Since the iron core is laminated, it is disassembled (S101).
In 1), it is desirable to perform finish cleaning. Next, PCB
In the processing facility 120, the insulating oil drained in step S1002, the cleaning waste liquid, and the slurry generated in step S1008 are hydrothermally oxidatively decomposed (S1010).

【0093】上記仕上洗浄した後の鉄,銅等の有価金属
はリサイクルに供し、碍子は廃棄処分に供している。
The valuable metals such as iron, copper and the like after the above-mentioned finish cleaning are provided for recycling, and the insulators are provided for disposal.

【0094】上記容器検査手段309では、容器の表面
をふきとり又は部材採取による化学分析検査し、所定値
以下となるようにしている。所定値を超えた場合には、
再度仕上洗浄処理305を行うようにしている。
In the container inspection means 309, the surface of the container is subjected to a chemical analysis inspection by wiping or collecting a member, and the surface is set to a predetermined value or less. If the specified value is exceeded,
The finish cleaning process 305 is performed again.

【0095】本実施例においては、排水131のPCB
濃度管理値を0.003mg/L以下と基準を定めて監視
している。
In the present embodiment, the PCB
The concentration control value is monitored by setting a standard of 0.003 mg / L or less.

【0096】上記監視装置によりPCB処理設備内のP
CB量を監視している。ここで、本実施例では建屋31
3内を環境大気の基準となるように、環境中のPCB濃
度を0.5μg/m3 N以下の区域としている。この管理
レベルをクラス1としている。
[0096] By the above monitoring device, P
The amount of CB is monitored. Here, in the present embodiment, the building 31
In order to make the inside of 3 an environmental air standard, the PCB concentration in the environment is set to an area of 0.5 μg / m 3 N or less. This management level is class 1.

【0097】また、また、第1の管理区域314内は環
境中のPCB濃度を0.1mg/m3N以下の区域として
いる。この管理レベルをクラス2として、この区域で作
業する場合は保護用具を着用の上作業をするようにして
いる。さらに、第2の管理区域315内は環境中のPC
B濃度を0.1mg/m3 N以下になりうる区域としてい
る。この管理レベルをクラス3として、この区域には作
業員の立ち入りを禁止し、隔離した処理をするように例
えばグローブボックスを使用して作業をするようにして
いる。上記第1の管理区域314及び第2の管理区域3
15内負圧状態とし、汚染が外部に広がらないようにし
ている。
Further, the inside of the first control area 314 is an area where the PCB concentration in the environment is 0.1 mg / m 3 N or less. This management level is set to class 2. When working in this area, wear protective gear and work. Furthermore, the PC in the environment is located in the second management area 315.
It is an area where the B concentration can be 0.1 mg / m 3 N or less. This management level is set to class 3 and workers are prohibited from entering this area, and work is performed using, for example, a glove box so as to perform isolated processing. The first management area 314 and the second management area 3
A negative pressure state of 15 is set to prevent contamination from spreading to the outside.

【0098】本実施例によれば、PCB含量が低いトラ
ンスを完全無害化処理する際に、PCB濃度の監視をし
つつ行うことにより、常に作業環境が良好な状態を維持
しつつ行うことができる。
According to the present embodiment, when the transformer having a low PCB content is completely detoxified, the transformer is monitored while monitoring the PCB concentration, so that the working environment can always be maintained in a good state. .

【0099】[0099]

【発明の効果】以上の説明したように、本発明の第1の
発明によれば、PCB処理設備の環境を監視するPCB
処理設備監視システムであって、PCB処理物を解体す
る解体設備内外のPCB濃度を計測する排気ガスモニタ
リング手段と、PCB処理設備から排出する排水中のP
CB濃度を計測する排水モニタリング手段とを備えてな
るので、PCB濃度の監視をしつつPCB処理を行うこ
とができる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, a PCB for monitoring the environment of a PCB processing facility is provided.
An exhaust gas monitoring means for measuring a PCB concentration inside and outside a dismantling facility for disassembling a PCB processed material, and a P in wastewater discharged from the PCB processing facility.
Since the apparatus is provided with the wastewater monitoring means for measuring the CB concentration, it is possible to perform the PCB treatment while monitoring the PCB concentration.

【0100】第2の発明は、PCBが付着又は含有又は
保存されている被処理物を無害化するPCB処理設備の
環境を監視するPCB処理設備監視システムであって、
被処理物から有害物質を抜き出す抜出し手段と、被処理
物を解体する解体手段とのいずれか一方又は両方を有す
る前処理手段と、前処理手段において処理された被処理
物を構成する構成材から紙・木・樹脂等の有機物と金属
等の無機物とに分離する分離手段と、前処理手段で分離
した有害物質を分解処理する有害物質分解処理手段と、
上記抜出し手段、上記解体手段、上記分離手段又は有害
物質分解処理手段から排出される排気ガス中のPCB濃
度を計測する排気ガスモニタリング手段と、上記有害物
質分解処理手段から排出される排水中のPCB濃度を計
測する排水モニタリング手段とを、具備してなるので、
PCBを含有したトランス等の処理が一体に連続してで
きると共に、処理に際してPCB濃度の監視をしつつ行
うことができ、作業環境の安全を図りつつ処理ができ
る。
The second invention is a PCB processing equipment monitoring system for monitoring the environment of a PCB processing equipment for detoxifying an object to be processed on which PCB is attached, contained or stored,
Extraction means for extracting harmful substances from the processing object, pretreatment means having one or both of dismantling means for dismantling the processing object, and components constituting the processing object processed in the preprocessing means Separation means for separating organic matter such as paper, wood, resin and the like and inorganic matter such as metal, and harmful substance decomposition treatment means for decomposing harmful substances separated by pretreatment means,
Exhaust gas monitoring means for measuring the concentration of PCB in exhaust gas discharged from the extraction means, disassembly means, separation means or harmful substance decomposition treatment means, and PCB in wastewater discharged from the harmful substance decomposition treatment means Wastewater monitoring means for measuring the concentration,
The processing of a transformer or the like containing PCB can be integrally and continuously performed, and the processing can be performed while monitoring the PCB concentration, so that the processing can be performed while ensuring the safety of the working environment.

【0101】第3の発明は、第2の発明において、上記
前処理手段の抜出し手段で分離された金属製の容器又は
上記分離手段で分離した金属等の無機物を洗浄液で洗浄
する洗浄手段と、上記洗浄手段から排出される排気ガス
中のPCB濃度を計測する排気ガスモニタリング手段と
を、具備してなるので、PCB汚染処理物を洗浄する際
に、作業環境の安全を図りつつ処理ができる。
In a third aspect, in the second aspect, there is provided a washing means for washing an inorganic material such as a metal container separated by the extraction means of the pretreatment means or a metal separated by the separation means with a washing liquid. Since exhaust gas monitoring means for measuring the PCB concentration in the exhaust gas discharged from the cleaning means is provided, it is possible to carry out the treatment while cleaning the PCB contaminated material while ensuring the working environment.

【0102】第4の発明は、第1の発明において、上記
前処理手段の抜出し手段で分離された金属製の容器又は
上記分離手段で分離した金属等の無機物を洗浄液で洗浄
する洗浄手段と、上記洗浄手段で洗浄された部材のPC
B付着濃度を計測する付着濃度モニタリング手段とを具
備してなるので、リサイクル部材にPCBが付着してい
ないことを確認してからリサイクルに供することができ
る。
A fourth aspect of the present invention is the cleaning apparatus according to the first aspect, wherein the cleaning means is for cleaning an inorganic substance such as a metal container separated by the extraction means of the pretreatment means or the metal separated by the separation means with a cleaning liquid. PC of the member cleaned by the above-mentioned cleaning means
Since it is provided with an adhesion concentration monitoring means for measuring the B adhesion concentration, it is possible to recycle after confirming that PCB is not attached to the recycled member.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1の実施の形態にかかる容器処理システムの
概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram of a container processing system according to a first embodiment.

【図2】排水モニタリングシステムの概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram of a drainage monitoring system.

【図3】排水モニタリングシステムの工程図である。FIG. 3 is a process diagram of a drainage monitoring system.

【図4】排水モニタリングシステムのフロー図である。FIG. 4 is a flowchart of a drainage monitoring system.

【図5】排ガスモニタリングシステムの概略図である。FIG. 5 is a schematic diagram of an exhaust gas monitoring system.

【図6】PCB濃度計測システムの概略図である。FIG. 6 is a schematic diagram of a PCB concentration measurement system.

【図7】PCBを検出したイオン検出器からの測定チャ
ートの一例である。
FIG. 7 is an example of a measurement chart from an ion detector that has detected PCB.

【図8】レーザ位相変調測定装置の概略図である。FIG. 8 is a schematic diagram of a laser phase modulation measurement device.

【図9】実施例にかかる容器処理システム概略図であ
る。
FIG. 9 is a schematic diagram of a container processing system according to an example.

【図10】排水モニタリングシステムのフロー図であ
る。
FIG. 10 is a flowchart of a drainage monitoring system.

【図11】水熱酸化分解装置の概要図である。FIG. 11 is a schematic diagram of a hydrothermal oxidative decomposition device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1001 被処理物 1002 有害物質( 例えばPCB) 1003 容器 1004 分離手段 1005 解体手段 1006 前処理手段 1007 有機物 1008 無機物 1009 分離手段 1010 洗浄液 1011 洗浄手段 1012 洗浄廃液 1013 有害物質分解処理手段 1014 スラリー 1015 スラリー化手段 1100 排水モニタリング手段 1200 排気ガスモニタリング手段 1300 付着濃度モニタリング手段 11 採取試料 12 固相・吸着手段 13 オートサンプラー 14 検出手段 15 モニタ装置 16 溶出液 50 レーザイオン化飛行時間型質量分析装置 55 レーザ光 56 レーザ照射手段 57 イオントラップ 58 リフレクトロン 59 イオン検出器 60 飛行時間型質量分析装置 1001 Object to be treated 1002 Hazardous substances (for example, PCB) 1003 Container 1004 Separation means 1005 Disassembly means 1006 Pretreatment means 1007 Organic matter 1008 Inorganic matter 1009 Separation means 1010 Cleaning liquid 1011 Cleaning means 1012 Cleaning waste liquid 1013 Hazardous substance decomposition treatment means 1014 Slurry 1015 Slurry means 1100 Wastewater monitoring means 1200 Exhaust gas monitoring means 1300 Adhesion concentration monitoring means 11 Sampling sample 12 Solid phase / adsorption means 13 Autosampler 14 Detection means 15 Monitoring device 16 Eluent 50 Laser ionization time-of-flight mass spectrometer 55 Laser light 56 Laser irradiation Means 57 Ion trap 58 Reflectron 59 Ion detector 60 Time-of-flight mass spectrometer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C02F 1/00 G01N 21/27 Z G01N 1/10 21/33 1/22 21/35 Z 21/27 21/39 21/33 27/62 K 21/35 V 21/39 27/64 B 27/62 30/00 A 30/72 A 27/64 30/74 E 30/00 F 30/72 30/88 C 30/74 33/00 D B09B 3/00 304Z 30/88 ZABZ 33/00 5/00 Z (72)発明者 塚原 千幸人 長崎県長崎市深堀町五丁目717番1号 三 菱重工業株式会社長崎研究所内 (72)発明者 出口 祥啓 長崎県長崎市深堀町五丁目717番1号 三 菱重工業株式会社長崎研究所内 Fターム(参考) 2E191 BA12 BA13 BB00 BD11 2G052 AA00 AB11 AB22 AC21 AD02 AD06 AD33 AD34 AD46 BA22 EA01 ED03 ED11 GA11 GA24 GA27 JA13 2G059 AA01 BB01 BB04 DD12 EE01 GG01 GG09 HH01 HH02 HH03 HH06 KK01 4D004 AA22 AB06 AC05 BA05 CA02 CA04 CA12 CA22 CA39 CA40 DA01 DA10 4D017 AA01 BA04 CA05 CB01 DA03 EB03 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C02F 1/00 G01N 21/27 Z G01N 1/10 21/33 1/22 21/35 Z 21/27 21 / 39 21/33 27/62 K 21/35 V 21/39 27/64 B 27/62 30/00 A 30/72 A 27/64 30/74 E 30/00 F 30/72 30/88 C 30 / 74 33/00 D B09B 3/00 304Z 30/88 ZABZ 33/00 5 / 00Z (72) Inventor Chiyuki Tsukahara 5-717-1 Fukahori-cho, Nagasaki-shi, Nagasaki Sanishi Heavy Industries, Ltd. (72) Inventor Yoshihiro Deguchi 5-717-1, Fukabori-cho, Nagasaki-shi, Nagasaki F-term in Nagasaki Research Laboratory, Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. ED03 ED11 GA11 GA24 GA27 JA13 2G059 AA01 BB01 BB04 DD12 EE01 GG01 GG09 HH01 HH02 HH03 HH06 KK01 4D00 4 AA22 AB06 AC05 BA05 CA02 CA04 CA12 CA22 CA39 CA40 DA01 DA10 4D017 AA01 BA04 CA05 CB01 DA03 EB03

Claims (21)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機ハロゲン化物処理設備の環境を監視
する有機ハロゲン化物処理設備監視システムであって、 有機ハロゲン化物処理物を解体する解体設備内外の有機
ハロゲン化物濃度を計測する排気ガスモニタリング手段
と、 有機ハロゲン化物処理設備から排出する排水中の有機ハ
ロゲン化物濃度を計測する排水モニタリング手段とを備
えてなることを特徴とする有機ハロゲン化物処理設備監
視システム。
1. An organic halide processing equipment monitoring system for monitoring the environment of an organic halide processing equipment, comprising: an exhaust gas monitoring means for measuring an organic halide concentration inside and outside the dismantling facility for disassembling the organic halide processing product. A wastewater monitoring means for measuring the concentration of organic halide in wastewater discharged from the organic halide treatment equipment, the system for monitoring organic halide treatment equipment.
【請求項2】 有機ハロゲン化物が付着又は含有又は保
存されている被処理物を無害化する有機ハロゲン化物処
理設備の環境を監視する有機ハロゲン化物処理設備監視
システムであって、 被処理物から有害物質を抜出す抜出し手段と、被処理物
を解体する解体手段とのいずれか一方又は両方を有する
前処理手段と、 前処理手段において処理された被処理物を構成する構成
材から紙・木・樹脂等の有機物と金属等の無機物とに分
離する分離手段と、 前処理手段で分離した有害物質を分解処理する有害物質
分解処理手段と、 上記抜出し手段、上記解体手段、上記分離手段又は有害
物質分解処理手段から排出される排気ガス若しくは処理
設備の屋外大気中の有機ハロゲン化物濃度を計測する排
気ガスモニタリング手段と、 上記有害物質分解処理手段から排出される排水中又は処
理設備近辺の河川若しくは海水の有機ハロゲン化物濃度
を計測する排水モニタリング手段とを、 具備してなることを特徴とする有機ハロゲン化物処理設
備監視システム。
2. An organic halide treatment equipment monitoring system for monitoring the environment of an organic halide treatment equipment for detoxifying an object to be treated on which an organic halide is attached, contained or stored, wherein the object is harmful. A pre-processing means having one or both of an extracting means for extracting a substance, and a disassembling means for disassembling an object to be processed; and paper / tree / wood from constituent materials constituting the object processed in the pre-processing means. Separation means for separating organic matter such as resin and inorganic matter such as metal; harmful substance decomposition treatment means for decomposing harmful substances separated by pretreatment means; extraction means, disassembly means, separation means or harmful substances An exhaust gas monitoring means for measuring an exhaust gas discharged from the decomposition processing means or an organic halide concentration in an outdoor atmosphere of the processing equipment; Organic halides processing facility monitoring system and drainage monitoring means, characterized by being provided for measuring the river or organic halide concentration in seawater near or during treatment facility effluent discharged from.
【請求項3】 請求項2において、 上記前処理手段の抜出し手段で分離された金属製の容器
又は上記分離手段で分離した金属等の無機物を洗浄液で
洗浄する洗浄手段と、 上記洗浄手段から排出される排気ガス中の有機ハロゲン
化物濃度を計測する排気ガスモニタリング手段とを、 具備してなることを特徴とする有機ハロゲン化物処理設
備監視システム。
3. The cleaning means according to claim 2, wherein the metal container separated by the extraction means of the pretreatment means or the inorganic substance such as the metal separated by the separation means is washed with a cleaning liquid; Exhaust gas monitoring means for measuring the concentration of organic halide in the exhaust gas to be processed.
【請求項4】 請求項1において、 上記前処理手段の抜出し手段で分離された金属製の容器
又は上記分離手段で分離した金属等の無機物を洗浄液で
洗浄する洗浄手段と、 上記洗浄手段で洗浄された部材の有機ハロゲン化物付着
濃度を計測する付着濃度モニタリング手段とを具備して
なることを特徴とする有機ハロゲン化物処理設備監視シ
ステム。
4. The cleaning means according to claim 1, wherein said cleaning means is for cleaning an inorganic material such as a metal container separated by said extraction means of said pretreatment means or metal separated by said separation means with a cleaning liquid; And an adhesion concentration monitoring means for measuring an adhesion concentration of the organic halide on the selected member.
【請求項5】 請求項1において、 上記分離手段が構成材を分割破砕する破砕手段であるこ
とを特徴とする有機ハロゲン化物処理設備監視システ
ム。
5. The organic halide processing equipment monitoring system according to claim 1, wherein the separation means is a crushing means for dividing and crushing a constituent material.
【請求項6】 請求項1又3において、 上記前処理手段が隔離されており、負圧状態となってい
ることを特徴とする有機ハロゲン化物処理設備監視シス
テム。
6. An organic halide processing equipment monitoring system according to claim 1, wherein said pretreatment means is isolated and in a negative pressure state.
【請求項7】 請求項2又4において、 上記有害物質分解処理手段が水熱酸化分解処理する水熱
酸化分解処理手段又は超臨界水酸化処理する超臨界水酸
化処理手段であることを特徴とする有機ハロゲン化物処
理設備監視システム。
7. The harmful substance decomposition treatment means according to claim 2, wherein the harmful substance decomposition treatment means is a hydrothermal oxidative decomposition treatment means for performing a hydrothermal oxidative decomposition treatment or a supercritical water oxidation treatment means for performing a supercritical water oxidation treatment. Organic halide processing equipment monitoring system.
【請求項8】 請求項1において、 上記排気ガスモニタリング手段がレーザイオン化飛行時
間型質量分析装置であることを特徴とする有機ハロゲン
化物処理設備監視システム。
8. The system according to claim 1, wherein said exhaust gas monitoring means is a laser ionization time-of-flight mass spectrometer.
【請求項9】 請求項8において、 上記排気ガスモニタリング手段が採取試料を真空チャン
バー内へ連続的に導入する試料導入手段と、導入された
試料にレーザを照射し、レーザイオン化させるレーザ照
射手段と、レーザイオン化した分子を収束させる収束部
と、該収束された分子を選択濃縮するイオントラップ
と、一定周期で放出されたイオンを検出するイオン検出
器を備えた飛行時間型質量分析装置とを具備してなるこ
とを特徴とする有機ハロゲン化物処理設備監視システ
ム。
9. The sample introducing means according to claim 8, wherein said exhaust gas monitoring means continuously introduces the collected sample into the vacuum chamber, and a laser irradiating means for irradiating the introduced sample with a laser and ionizing the laser. A converging section for converging laser-ionized molecules, an ion trap for selectively concentrating the converged molecules, and a time-of-flight mass spectrometer provided with an ion detector for detecting ions emitted at a constant period. An organic halide processing equipment monitoring system, characterized in that:
【請求項10】 請求項1において、 上記排水モニタリング手段が固相抽出−ガスクロマトグ
ラフ装置であることを特徴とする有機ハロゲン化物処理
設備監視システム。
10. An organic halide processing equipment monitoring system according to claim 1, wherein said wastewater monitoring means is a solid phase extraction-gas chromatograph.
【請求項11】 請求項1において、 上記排水モニタリング手段が採取試料を導入し、固相吸
着材で有機ハロゲン化物を保持する固相・吸着手段と、
該固相・吸着手段から溶出液により溶出された有機ハロ
ゲン化物の定性及び定量分析を行う検出手段とを備えて
なることを特徴とする有機ハロゲン化物処理設備監視シ
ステム。
11. The solid-phase / adsorption means according to claim 1, wherein said wastewater monitoring means introduces a collected sample, and holds an organic halide with a solid-phase adsorbent.
An organic halide processing equipment monitoring system, comprising: a detection means for performing qualitative and quantitative analysis of the organic halide eluted by the eluate from the solid phase / adsorption means.
【請求項12】 請求項11において、 上記固相吸着材がシリカゲル又はアルミナからなり、固
相吸着カラム内に充填されてなることを特徴とする有機
ハロゲン化物処理設備監視システム。
12. The organic halide processing equipment monitoring system according to claim 11, wherein the solid phase adsorbent is made of silica gel or alumina and is packed in a solid phase adsorption column.
【請求項13】 請求項11おいて、 上記固相吸着材に保持された有機ハロゲン化物を溶出す
る溶出液が無極性溶剤、アルコール類、トルエン、ジク
ロロメタン、又はアセトニトリルのいずれか一であるこ
とを特徴とする有機ハロゲン化物処理設備監視システ
ム。
13. The method according to claim 11, wherein the eluate for eluting the organic halide held by the solid-phase adsorbent is any one of a nonpolar solvent, alcohols, toluene, dichloromethane, and acetonitrile. Characteristic organic halide processing equipment monitoring system.
【請求項14】 請求項11において、 上記検出手段がガスクロマトグラフ−質量分析計又はガ
スクロマトグラフ−電子捕獲型検出器分析計のいずれか
であることを特徴とする有機ハロゲン化物処理設備監視
システム。
14. An organic halide processing equipment monitoring system according to claim 11, wherein said detecting means is one of a gas chromatograph-mass spectrometer and a gas chromatograph-electron capture detector spectrometer.
【請求項15】 請求項1において、 上記排気ガスモニタリング手段及び排水モニタリング手
段が、紫外光、可視光又は赤外光の吸収若しくは蛍光等
の発光現象を用いて、ガス・溶液中の有機ハロゲン化物
濃度測定を行うことを特徴とする有機ハロゲン化物処理
設備監視システム。
15. The organic halide in a gas or a solution according to claim 1, wherein the exhaust gas monitoring means and the waste water monitoring means use an emission phenomenon such as absorption of ultraviolet light, visible light or infrared light, or fluorescence. An organic halide processing equipment monitoring system characterized by performing a concentration measurement.
【請求項16】 請求項1において、 上記排気ガスモニタリング手段及び排水モニタリング手
段が、光源にレーザ光を用いて、ガス・溶液中の有機ハ
ロゲン化物濃度測定を行うことを特徴とする有機ハロゲ
ン化物処理設備監視システム。
16. The organic halide processing apparatus according to claim 1, wherein the exhaust gas monitoring means and the waste water monitoring means measure the concentration of the organic halide in the gas / solution using a laser beam as a light source. Equipment monitoring system.
【請求項17】 請求項16において、 上記レーザに位相変調を加えて位相を検波することを特
徴とする有機ハロゲン化物処理設備監視システム。
17. The system according to claim 16, wherein the laser is subjected to phase modulation to detect a phase.
【請求項18】 請求項1において、 上記付着濃度モニタリング手段が、容器表面を拭取部材
で拭取り、該拭取部材から有機ハロゲン化物を抽出して
有機ハロゲン化物濃度を測定することを特徴とする有機
ハロゲン化物処理設備監視システム。
18. The method according to claim 1, wherein the adhesion concentration monitoring means wipes the surface of the container with a wiping member, extracts the organic halide from the wiping member, and measures the concentration of the organic halide. Organic halide processing equipment monitoring system.
【請求項19】 請求項1において、 上記付着濃度モニタリング手段が、容器又は部材の一部
を採取し、該採取部材から有機ハロゲン化物を抽出して
有機ハロゲン化物濃度を測定することを特徴とする有機
ハロゲン化物処理設備監視システム。
19. The method according to claim 1, wherein the adhesion concentration monitoring means collects a part of the container or the member, extracts the organic halide from the collected member, and measures the organic halide concentration. Organic halide processing equipment monitoring system.
【請求項20】 請求項1において、 上記付着濃度モニタリング手段が、洗浄液を希釈し有機
ハロゲン化物濃度を測定することを特徴とする有機ハロ
ゲン化物処理設備監視システム。
20. An organic halide processing equipment monitoring system according to claim 1, wherein said adhesion concentration monitoring means dilutes a cleaning solution and measures an organic halide concentration.
【請求項21】 請求項1において、 上記被処理物が有機ハロゲン化物を含有するトランス、
コンデンサ及び蛍光灯の安定器並びに有機ハロゲン化物
汚染物であることを特徴とする有機ハロゲン化物処理設
備監視システム。
21. The transformer according to claim 1, wherein the object to be treated contains an organic halide.
An organic halide processing equipment monitoring system, characterized in that it is a condenser, a fluorescent light ballast, and an organic halide contaminant.
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