JP2002280694A - Printed wiring board and its manufacturing method - Google Patents

Printed wiring board and its manufacturing method

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JP2002280694A
JP2002280694A JP2001082207A JP2001082207A JP2002280694A JP 2002280694 A JP2002280694 A JP 2002280694A JP 2001082207 A JP2001082207 A JP 2001082207A JP 2001082207 A JP2001082207 A JP 2001082207A JP 2002280694 A JP2002280694 A JP 2002280694A
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Japan
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insulating resin
resin layer
layer
wiring board
printed wiring
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Application number
JP2001082207A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichi Noguchi
浩一 野口
Tsutomu Zama
努 座間
Kenshirou Fukusato
健志郎 福里
Akiko Hirano
亜希子 平野
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Lincstech Circuit Co Ltd
Original Assignee
Hitachi AIC Inc
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Publication date
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a defective connection in a pad part, decrease manufacturing cost, and thin a printed wiring board. SOLUTION: An internal layer circuit 3 and a so-called dummy land 4 which does not constitute a circuit with the internal layer circuit 3 are formed on a base 2. A first insulating resin layer 5 not containing glass fibers is laminated on the base 2, and a resin sheet 6 not having a plating catalyst action is formed on the first insulating resin layer 5. Boring is performed with carbon gas laser beams, and a non-through connection hole 10 is formed by a electroless copper plating process. A pad 15 is formed in the non-penetration connection hole 10.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ボンディングによ
って電子部品を電気的に接続するパッド部を有するプリ
ント配線板およびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printed wiring board having pads for electrically connecting electronic components by bonding, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6および図7は従来のプリント配線板
の製造方法を説明するための断面図である。図6(a)
において、21は基材であって、この基材21上に内層
回路22が形成され、この内層回路22上には、ガラス
繊維を含まない第1の絶縁樹脂層23が基材21に積層
形成されており、この第1の絶縁樹脂層23上にはラン
ド部24が形成されている。
2. Description of the Related Art FIGS. 6 and 7 are cross-sectional views for explaining a conventional method of manufacturing a printed wiring board. FIG. 6 (a)
In the figure, 21 is a substrate, on which an inner layer circuit 22 is formed, and on this inner layer circuit 22, a first insulating resin layer 23 containing no glass fiber is formed on the substrate 21 by lamination. Land portions 24 are formed on the first insulating resin layer 23.

【0003】同図(b)に示すように、第1の絶縁樹脂
層23上には第2の絶縁樹脂層25が積層形成され、こ
の第2の絶縁樹脂層25にはリング状に形成された端子
部26が設けられている。この端子部26の上方から炭
酸ガスレーザ光27を第2の絶縁樹脂層25に照射する
ことにより、同図(c)に示すように、ランド部24に
到達する非貫通穴28が形成される。
As shown in FIG. 1B, a second insulating resin layer 25 is formed on the first insulating resin layer 23, and is formed in a ring shape on the second insulating resin layer 25. Terminal portion 26 is provided. By irradiating the second insulating resin layer 25 with the carbon dioxide laser beam 27 from above the terminal portion 26, a non-through hole 28 reaching the land portion 24 is formed as shown in FIG.

【0004】図7(a)に示すように、端子部26を電
極とし、電解銅めっき処理を行うことにより、端子部2
6上に銅が析出されるとともに、添加剤を用いて穴内成
長を促進することにより、非貫通穴28内にも銅を充填
して、パッド部30を形成しプリント配線板31を形成
する。同図(b)に示すように、パッド部30上にワイ
ヤリード16を超音波熱圧着法によるワイヤボンディン
グ処理で固着することにより、パッド部30とワイヤリ
ード16とを電気的に接続する。
[0004] As shown in FIG. 7 (a), the terminal portion 26 is used as an electrode, and the terminal portion 2 is formed by electrolytic copper plating.
By depositing copper on the surface 6 and promoting the growth in the hole by using an additive, the non-through hole 28 is also filled with copper to form the pad portion 30 and the printed wiring board 31. As shown in FIG. 2B, the wire portion 16 is fixed to the pad portion 30 by a wire bonding process using an ultrasonic thermocompression bonding method, so that the pad portion 30 and the wire lead 16 are electrically connected.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のプリン
ト配線板31におけるワイヤボンディング処理では、加
熱されたプレート上で、超音波と圧力を加えながらワイ
ヤリード16をパッド部30に電気的に接続している。
この場合、パッド部30の下方には、強度的に弱いガラ
ス繊維を含まない第1の絶縁樹脂層23のみが設けられ
ているだけであるから、この第1の絶縁樹脂層23が相
対的に薄い層であると変形するおそれがあり、パッド部
30が陥没したりして、ワイヤリード16とパッド部3
0との間に接続不良が発生するという問題があった。ま
た、上述した従来のプリント配線板の製造方法において
は、電解めっき処理の電極として端子部26を設ける必
要があるので、製造工程が増加するため製造コストが増
大する。また、端子部26上にもめっき膜が形成される
ため、第2の絶縁樹脂層25の表面から突出するパッド
部30の突出高さtが大きくなり、プリント配線板31
の薄型化ができないという問題もあった。
In the above-described wire bonding process for the conventional printed wiring board 31, the wire leads 16 are electrically connected to the pad portions 30 while applying ultrasonic waves and pressure on the heated plate. ing.
In this case, only the first insulating resin layer 23 that does not include glass fiber that is weak in strength is provided below the pad portion 30, so that the first insulating resin layer 23 is relatively If the layer is thin, it may be deformed, and the pad portion 30 may be depressed, and the wire lead 16 and the pad portion 3
There is a problem that a connection failure occurs between 0 and 0. Further, in the above-described conventional method for manufacturing a printed wiring board, since it is necessary to provide the terminal portion 26 as an electrode for electrolytic plating, the number of manufacturing steps is increased, so that the manufacturing cost is increased. Further, since the plating film is also formed on the terminal portions 26, the protruding height t of the pad portions 30 protruding from the surface of the second insulating resin layer 25 increases, and the printed wiring board 31
There was also a problem that it was not possible to reduce the thickness.

【0006】本発明は上記した従来の問題に鑑みなされ
たものであり、第1の目的はパッド部における接続不良
を防止することにある。また、第2の目的は製造コスト
の低減を図ることにある。また、第3の目的はプリント
配線板の薄型化を図ることにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and a first object is to prevent a connection failure in a pad portion. A second object is to reduce manufacturing costs. A third object is to reduce the thickness of the printed wiring board.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、請求項1に係る発明は、内層回路上に形成した第1
の絶縁層と、この第1の絶縁層上に積層形成した第2の
絶縁層と、この第2の絶縁層に形成したボンディング用
のパッド部とを備えたプリント配線板において、前記第
1の絶縁層をガラス繊維が含まれない樹脂層とし、前記
パッド部に対応して前記第1の絶縁層に、穴内に金属が
充填された回路を構成しない層間接続穴を設けたもので
ある。したがって、層間接続穴内の金属がパッド部の補
強土台として機能する。
In order to achieve this object, the invention according to claim 1 is directed to a first embodiment formed on an inner layer circuit.
A printed wiring board comprising: an insulating layer; a second insulating layer laminated on the first insulating layer; and a bonding pad formed on the second insulating layer. The insulating layer is a resin layer containing no glass fiber, and the first insulating layer is provided with an interlayer connection hole that does not constitute a circuit in which metal is filled in the hole, corresponding to the pad portion. Therefore, the metal in the interlayer connection hole functions as a reinforcing base for the pad portion.

【0008】また、請求項2に係る発明は、基材上に内
層回路および回路を構成しないランド部を形成する工程
と、基材上にガラス繊維を含まない絶縁樹脂層を形成す
る工程と、この絶縁樹脂層の表面にめっき触媒作用をも
たない非触媒層を形成する工程と、レーザによって前記
非触媒層および前記絶縁樹脂層に前記ランド部に達する
貫通穴を形成する工程と、無電解めっき処理によって前
記貫通穴内に導電部材を充填する工程とを含む。したが
って、無電解めっき処理を行うと、非触媒層にはめっき
が析出することなく、貫通穴内の内層回路上にめっきが
析出する。
The invention according to claim 2 includes a step of forming an inner layer circuit and a land portion which does not constitute a circuit on the base material, a step of forming an insulating resin layer containing no glass fiber on the base material, Forming a non-catalytic layer having no plating catalytic action on the surface of the insulating resin layer, forming a through hole reaching the land in the non-catalytic layer and the insulating resin layer by laser, Filling a conductive member in the through hole by plating. Therefore, when the electroless plating process is performed, plating is deposited on the inner layer circuit in the through hole without plating being deposited on the non-catalytic layer.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図に
基づいて説明する。図1は本発明に係るプリント配線板
の前工程の製造方法を説明するための断面図、図2は同
じく中工程の製造方法を説明するための断面図、図3は
同じく後工程の製造方法を説明するための断面図であ
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining a method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention in a pre-process, FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining a manufacturing method in a middle process, and FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining the method.

【0010】図1(a)において、2は基材であって、
この基材2上に内層回路3と、この内層回路3と接続さ
れていないランド部、いわゆるダミーのランド部4とを
形成する。ここで、ダミーのランド部とは、回路を構成
しない回路基板上の独立したランド部を意味する。この
内層回路3上とダミーのランド部4上に、ガラス繊維を
含まない第1の絶縁樹脂層5を基材2に積層形成し、こ
の第1の絶縁樹脂層5上に、めっき触媒作用をもたない
非触媒層としての樹脂シート6を形成する。樹脂シート
6の上方から炭酸ガスレーザ光7を照射することによ
り、同図(b)に示すように、樹脂シート6と第1の絶
縁樹脂層5にランド部4に到達する非貫通穴8を形成す
る。
In FIG. 1A, reference numeral 2 denotes a substrate,
On the base material 2, an inner layer circuit 3 and a land portion not connected to the inner layer circuit 3, that is, a so-called dummy land portion 4 are formed. Here, the dummy land portion means an independent land portion on a circuit board which does not constitute a circuit. A first insulating resin layer 5 containing no glass fiber is formed on the substrate 2 on the inner layer circuit 3 and on the dummy land portions 4, and a plating catalytic action is formed on the first insulating resin layer 5. A resin sheet 6 is formed as a non-catalytic layer having no surface. By irradiating the carbon dioxide laser beam 7 from above the resin sheet 6, a non-through hole 8 reaching the land 4 is formed in the resin sheet 6 and the first insulating resin layer 5 as shown in FIG. I do.

【0011】同図(c)に示すように、無電解銅めっき
処理を行うと、触媒作用をもつ金属によって形成された
ランド部4上には銅が析出するので、このランド部4上
に析出された銅が非貫通穴8内で成長することにより、
非貫通穴8内に銅が充填されて層間接続穴としての非貫
通接続穴10が形成される。このとき、第1の絶縁樹脂
層5の表面にめっき触媒作用をもたない樹脂シート6が
設けられていることにより、この樹脂シート6上には銅
が析出されない。
As shown in FIG. 1C, when the electroless copper plating is performed, copper is deposited on the land 4 formed of a metal having a catalytic action. The grown copper grows in the non-through hole 8,
The non-through hole 8 is filled with copper to form a non-through connection hole 10 as an interlayer connection hole. At this time, since the resin sheet 6 having no plating catalytic action is provided on the surface of the first insulating resin layer 5, no copper is deposited on the resin sheet 6.

【0012】図2(a)において、樹脂シート6上に第
2の絶縁樹脂層11を形成し、この第2の絶縁樹脂層1
1上にめっき触媒作用をもたない樹脂シート12を形成
する。樹脂シート12の上方から炭酸ガスレーザ光13
を照射することにより、同図(b)に示すように、樹脂
シート12と第2の絶縁樹脂層11に非貫通接続穴10
に到達する断面が逆台形状の非貫通穴14を形成する。
In FIG. 2A, a second insulating resin layer 11 is formed on a resin sheet 6 and the second insulating resin layer 1 is formed.
A resin sheet 12 having no plating catalytic action is formed on 1. Carbon dioxide laser light 13 from above resin sheet 12
As shown in FIG. 2B, the non-penetrating connection holes 10 are formed in the resin sheet 12 and the second insulating resin layer 11 as shown in FIG.
Is formed in the inverted trapezoidal non-through hole 14.

【0013】図3(a)に示すように、無電解銅めっき
処理を行うと、触媒作用をもつ銅によって形成された非
貫通接続穴10上には銅が析出するので、この非貫通接
続穴10上に析出された銅が非貫通穴14内で成長す
る。したがって、非貫通穴14内に銅が充填されて断面
が逆台形状のパッド部15が形成され、プリント配線板
1が形成される。このとき、第2の絶縁樹脂層11の表
面にめっき触媒作用をもたない樹脂シート12が設けら
れていることにより、この樹脂シート12上には銅が析
出されない。
As shown in FIG. 3A, when the electroless copper plating treatment is performed, copper deposits on the non-through connection hole 10 formed of copper having a catalytic action. Copper deposited on 10 grows in non-through holes 14. Accordingly, the non-through hole 14 is filled with copper to form a pad portion 15 having a reverse trapezoidal cross section, and the printed wiring board 1 is formed. At this time, since the resin sheet 12 having no plating catalytic action is provided on the surface of the second insulating resin layer 11, no copper is deposited on the resin sheet 12.

【0014】同図(b)に示すように、パッド部15上
にワイヤリード16を超音波熱圧着法によるワイヤボン
ディング処理で固着することにより、パッド部15とワ
イヤリード16とを電気的に接続する。このとき、パッ
ド部15の下端に銅が充填された非貫通接続穴10が対
接し、この非貫通接続穴10がランド部4上に立設して
いることにより、パッド部13に熱や圧力が加わって
も、非貫通接続穴13が補強土台として機能するので、
パッド部15が陥没したり変形したりするようなことを
防止できる。したがって、パッド部15とワイヤリード
16との電気的な接続不良を防止できる。
As shown in FIG. 1B, a wire lead 16 is fixed on the pad portion 15 by a wire bonding process using an ultrasonic thermocompression bonding method, so that the pad portion 15 and the wire lead 16 are electrically connected. I do. At this time, the non-penetrating connection hole 10 filled with copper is in contact with the lower end of the pad part 15, and the non-penetrating connection hole 10 is erected on the land part 4. Is added, the non-through connection hole 13 functions as a reinforcing base,
It is possible to prevent the pad section 15 from being depressed or deformed. Therefore, poor electrical connection between the pad portion 15 and the wire lead 16 can be prevented.

【0015】また、パッド部15を形成するのに、第2
の絶縁樹脂層11の表面にめっき触媒作用をもたない樹
脂シート12を形成し、無電解銅めっき処理によって、
非貫通接続穴10上に銅を析出するようにしたことによ
り、従来のように電解めっき処理に必要な電極用の端子
26を形成する必要がなくなる。したがって、製造工程
の一部を省略することができるから、製造時間を短縮で
きるだけでなく、製造コストの低減を図ることもでき
る。
In order to form the pad portion 15, the second
A resin sheet 12 having no plating catalyst action is formed on the surface of the insulating resin layer 11 of FIG.
By depositing copper on the non-penetrating connection hole 10, it is not necessary to form the terminal 26 for the electrode required for the electrolytic plating process as in the related art. Therefore, since a part of the manufacturing process can be omitted, not only the manufacturing time can be shortened, but also the manufacturing cost can be reduced.

【0016】また、パッド部15の断面を逆台形状に形
成したことにより、ワイヤリード16をボンディングす
る表面の面積が拡がるため、パッド部15に対するワイ
ヤリード16の位置ずれを防止できるので、パッド部1
5とワイヤリード16との電気的な接続不良を防止でき
る。さらに、樹脂シート6,12上に銅が析出されない
ことにより、非貫通接続穴10の高さとパッド部15の
高さが大きくならないので、プリント配線板1の薄型化
を図ることもできる。
Since the cross-section of the pad portion 15 is formed in an inverted trapezoidal shape, the area of the surface to which the wire lead 16 is bonded is increased, and the displacement of the wire lead 16 with respect to the pad portion 15 can be prevented. 1
Insufficient electrical connection between the wire leads 5 and the wire leads 16 can be prevented. Further, since no copper is deposited on the resin sheets 6 and 12, the height of the non-through connection hole 10 and the height of the pad portion 15 do not increase, so that the printed wiring board 1 can be made thinner.

【0017】図4および図5は本発明の第2の実施の形
態を示し、図4は前工程の製造方法を説明するための断
面図、図5は後工程の製造方法を説明するための断面図
である。この第2の実施の形態が上述した第1の実施の
形態と異なる点は、非触媒層としてプリプレグ17を用
いた点と、このプリプレグ17を介して第2の絶縁樹脂
層18を積層プレス法によって第1の絶縁樹脂層5に積
層形成した点にある。
FIGS. 4 and 5 show a second embodiment of the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining a manufacturing method in a pre-process, and FIG. 5 is a sectional view for explaining a manufacturing method in a post-process. It is sectional drawing. The second embodiment is different from the above-described first embodiment in that a prepreg 17 is used as a non-catalyst layer, and a second insulating resin layer 18 is laminated via the prepreg 17 by a lamination press method. In that the first insulating resin layer 5 is laminated.

【0018】すなわち、図4(a)に示すように、第1
の絶縁樹脂層5上に、めっき触媒作用をもたないプリプ
レグ17を形成し、炭酸ガスレーザ光7によって、同図
(b)に示すように、プリプレグ17と第1の絶縁樹脂
層5に非貫通穴8を形成する。同図(c)に示すよう
に、無電解銅めっき処理を行うと、非貫通穴8内に銅が
充填されて非貫通接続穴10が形成され、樹脂シート6
上には銅が析出されない。
That is, as shown in FIG.
A prepreg 17 having no plating catalytic action is formed on the insulating resin layer 5 of FIG. 1, and the carbon dioxide laser beam 7 does not penetrate the prepreg 17 and the first insulating resin layer 5 as shown in FIG. A hole 8 is formed. As shown in FIG. 3C, when the electroless copper plating process is performed, the non-through holes 8 are filled with copper to form the non-through connection holes 10 and the resin sheet 6 is formed.
No copper is deposited on top.

【0019】図5(a)において、18は第2の絶縁樹
脂層であって、断面が逆台形状に形成されたパッド部1
9がこの第2の絶縁樹脂層18を貫通するように設けら
れている。この第2の絶縁樹脂層18を、パッド部19
が非貫通接続穴10に対接するようにして、プリプレグ
17を介して第1の絶縁樹脂層5に積層プレス法によっ
て積層形成することにより、プリント配線板20を形成
する。同図(b)に示すように、パッド部19上にワイ
ヤリード16を超音波熱圧着法によるワイヤボンディン
グ処理で固着することにより、パッド部19とワイヤリ
ード16とを電気的に接続する。
In FIG. 5A, reference numeral 18 denotes a second insulating resin layer, which is a pad portion 1 having an inverted trapezoidal cross section.
9 is provided so as to penetrate the second insulating resin layer 18. This second insulating resin layer 18 is
The printed wiring board 20 is formed by laminating the first insulating resin layer 5 via the prepreg 17 by a lamination press method so that the printed wiring board 10 is in contact with the non-through connection hole 10. As shown in FIG. 2B, the wire portion 16 is fixed on the pad portion 19 by wire bonding using an ultrasonic thermocompression bonding method, so that the pad portion 19 and the wire lead 16 are electrically connected.

【0020】この第2の実施の形態においては、非接触
層であるプリプレグ17を利用して第2の絶縁樹脂層1
8を第1の絶縁樹脂層5に積層形成したことにより、製
造工程がより簡略できるので、製造コストの低減を図る
ことができる。
In the second embodiment, the second insulating resin layer 1 is formed using a prepreg 17 which is a non-contact layer.
By forming the layer 8 on the first insulating resin layer 5, the manufacturing process can be further simplified, and the manufacturing cost can be reduced.

【0021】なお、非触媒層として樹脂シート6,12
やプリプレグ17の例を示したが、めっきレジスト等で
もよく、要はめっき触媒作用をもたず、レーザ光によっ
て穿孔される層状部材であればよい。また、層間接続穴
として非貫通接続穴10を用いたが、貫通接続穴でもよ
く、要は穴内に金属が充填されていればよい。
The resin sheets 6 and 12 serve as non-catalytic layers.
Although the example of the prepreg 17 has been described, a plating resist or the like may be used. In other words, a layered member that does not have a plating catalytic action and is perforated by a laser beam may be used. In addition, although the non-penetrating connection hole 10 is used as the interlayer connection hole, a through connection hole may be used. In short, it is only necessary that the hole be filled with metal.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1に係る発
明によれば、パッド部における電気的な接続不良を防止
できる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, it is possible to prevent poor electrical connection in the pad portion.

【0023】また、請求項2に係る発明によれば、製造
時間を短縮できるだけでなく、製造コストの低減を図る
こともできる。また、プリント配線板の薄型化を図るこ
とができる。
According to the second aspect of the present invention, not only the manufacturing time can be shortened, but also the manufacturing cost can be reduced. Further, the thickness of the printed wiring board can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係るプリント配線板の製造方法の前
工程を説明するための断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining a pre-process of a method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.

【図2】 本発明に係るプリント配線板の製造方法の中
工程を説明するための断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining a middle step of the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.

【図3】 本発明に係るプリント配線板の製造方法の後
工程を説明するための断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining a post-process of the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.

【図4】 本発明の第2の実施の形態における製造方法
の前工程を説明するための断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining a pre-process of a manufacturing method according to a second embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の第2の実施の形態における製造方法
の後工程を説明するための断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining a post-process of the manufacturing method according to the second embodiment of the present invention.

【図6】 従来のプリント配線板の製造方法の前工程を
説明するための断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view for describing a pre-process of a conventional method for manufacturing a printed wiring board.

【図7】 従来のプリント配線板の製造方法の後工程を
説明するための断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view for explaining a post-process of a conventional method for manufacturing a printed wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,20…プリント配線板、2…基材、3…内層回路、
4…ランド部、5…ガラス繊維を含まない第1の絶縁樹
脂層、6,12…めっき触媒作用をもたない樹脂シー
ト、7…炭酸ガスレーザ光、8…非貫通穴、10…、非
貫通接続穴、12,18…第2の絶縁樹脂層、15,1
9…パッド部、16…ワイヤリード、17…プリプレ
グ。
1, 20: printed wiring board, 2: base material, 3: inner layer circuit,
Reference numeral 4 denotes a land portion, 5 denotes a first insulating resin layer containing no glass fiber, 6, 12 denotes a resin sheet having no plating catalytic action, 7 denotes a carbon dioxide laser beam, 8 denotes a non-through hole, 10 denotes a non-through hole. Connection holes, 12, 18, second insulating resin layer, 15, 1
9: pad portion, 16: wire lead, 17: prepreg.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福里 健志郎 栃木県芳賀郡二宮町大字久下田1065番地 日立エーアイシー株式会社芳賀工場内 (72)発明者 平野 亜希子 栃木県芳賀郡二宮町大字久下田1065番地 日立エーアイシー株式会社芳賀工場内 Fターム(参考) 5E317 AA01 BB01 BB12 CC32 CD32 GG11 GG20 5E343 AA02 AA12 AA13 BB01 BB24 DD33 GG11 GG13 5E346 AA12 AA15 AA43 BB16 CC08 CC32 DD02 DD23 EE01 EE07 EE09 FF01 FF04 FF07 FF13 GG15 GG17 GG28 HH07 HH24 HH32  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Kenshiro Fukusato 1065 Kusoda, Ninomiya-cho, Haga-gun, Tochigi Prefecture Inside the Haga Plant of Hitachi AIC Co., Ltd. F-term (reference) at the Hitachi AIC Co., Ltd. Haga factory HH24 HH32

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 内層回路上に形成した第1の絶縁層と、
この第1の絶縁層上に積層形成した第2の絶縁層と、こ
の第2の絶縁層に形成したボンディング用のパッド部と
を備えたプリント配線板において、前記第1の絶縁層を
ガラス繊維が含まれない樹脂層とし、前記パッド部に対
応して前記第1の絶縁層に、穴内に金属が充填された回
路を構成しない層間接続穴を設けたことを特徴とするプ
リント配線板。
A first insulating layer formed on the inner layer circuit;
In a printed wiring board having a second insulating layer laminated on the first insulating layer and a bonding pad formed on the second insulating layer, the first insulating layer may be made of glass fiber. Wherein the first insulating layer is provided with an interlayer connection hole which does not constitute a circuit in which a metal is filled in the hole, corresponding to the pad portion.
【請求項2】 基材上に内層回路および回路を構成しな
いランド部を形成する工程と、基材上にガラス繊維を含
まない絶縁樹脂層を形成する工程と、この絶縁樹脂層の
表面にめっき触媒作用をもたない非触媒層を形成する工
程と、レーザによって前記非触媒層および前記絶縁樹脂
層に前記ランド部に達する貫通穴を形成する工程と、無
電解めっき処理によって前記貫通穴内に導電部材を充填
する工程とを含むことを特徴とするプリント配線板の製
造方法。
2. A step of forming an inner layer circuit and a land portion that does not constitute a circuit on a substrate, a step of forming an insulating resin layer containing no glass fiber on the substrate, and plating the surface of the insulating resin layer. A step of forming a non-catalytic layer having no catalytic action, a step of forming a through hole reaching the land portion in the non-catalytic layer and the insulating resin layer by laser, and a conductive hole in the through hole by electroless plating. Filling a member.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006120999A (en) * 2004-10-25 2006-05-11 Kyocera Corp Multi-layer wiring board
CN114258193A (en) * 2020-09-23 2022-03-29 庆鼎精密电子(淮安)有限公司 Manufacturing method of circuit board connecting structure and circuit board connecting structure

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